JP2003085742A - Method of manufacturing magnetic recording medium - Google Patents

Method of manufacturing magnetic recording medium

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JP2003085742A
JP2003085742A JP2001277511A JP2001277511A JP2003085742A JP 2003085742 A JP2003085742 A JP 2003085742A JP 2001277511 A JP2001277511 A JP 2001277511A JP 2001277511 A JP2001277511 A JP 2001277511A JP 2003085742 A JP2003085742 A JP 2003085742A
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lubricant
layer
magnetic
recording medium
magnetic recording
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Takashi Kano
貴志 加納
Tomoyuki Sekino
智之 関野
Seiichi Onodera
誠一 小野寺
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium having an excellent rust preventive effect an excellent reliability of durability, traveling stability, etc. SOLUTION: Formation of a lubricant layer is performed by a dry treatment in a vacuum chamber 502 in the method of manufacturing the magnetic recording medium comprising forming the lubricant layer across a magnetic layer on a nonmagnetic substrate 1. At this time, a vaporized lubricant L is sprayed together with a carrier gas to a protective film formed across the magnetic layer on the nonmagnetic substrate 1. The vaporization of the lubricant L is performed by applying ultrasonic vibrations to the lubricant L which is heated or is vaporized by heating. The lubricant layer is formed on a surface subjected to an amination treatment. The amination treatment is performed within the vacuum chamber 502 and the formation of the lubricant layer is performed in succession to the amination treatment without exposing the surface subjected to the amination treatment to the atmospheric air.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
方法に関し、特には最表面に潤滑剤層を有する磁気記録
媒体の製造方法の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly to an improvement in a method for manufacturing a magnetic recording medium having a lubricant layer on the outermost surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】オーディオテープ、ビデオテープ等のテ
ープ状の磁気記録媒体としては、非磁性支持体上に、酸
化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の粉末磁性材料を
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル樹
脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機結合剤中
に分散させた磁性塗料を塗布、乾燥することにより作製
される塗布型の磁気記録媒体が広く使用されている。こ
れに対して、高密度磁気記録への要求の高まりと共に、
Co−Ni系合金、Co−Cr系合金、Co−O等の金
属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段(真空蒸着法
やスパッタリング法、イオンプレーティング法等)によ
って、ポリエステルやポリアミド、ポリイミド等からな
る非磁性支持体上に直接被着した、いわゆる金属磁性薄
膜型の磁気記録媒体が提案され注目を集めている。
2. Description of the Related Art As a tape-shaped magnetic recording medium such as an audio tape or a video tape, a powder magnetic material such as an oxide magnetic powder or an alloy magnetic powder is placed on a non-magnetic support in a vinyl chloride-vinyl acetate system. A coating type magnetic recording medium prepared by coating and drying a magnetic coating material dispersed in an organic binder such as a coalescence, polyester resin, urethane resin or polyurethane resin is widely used. On the other hand, with the increasing demand for high-density magnetic recording,
A metal magnetic material such as a Co-Ni alloy, a Co-Cr alloy, or Co-O is coated with polyester, polyamide, polyimide, etc. by plating or vacuum thin film forming means (vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, etc.). A magnetic recording medium of a so-called metal magnetic thin film type, which is directly deposited on a non-magnetic support made of, has been proposed and has attracted attention.

【0003】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は抗磁
力や角形比等に優れ、短波長での電磁変換特性に優れる
ばかでなく、磁性層の厚みをきわめて薄くできるため、
記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さいこと、磁性
層中に非磁性材であるそのバインダー(結合剤)を混入
する必要が無いため磁性材料の充填密度を高めることが
出来ることなど、数々の利点を有している。また、この
種の磁気記録媒体の電磁変換特性を向上させ、より大き
な出力を得ることが出来るようにするために、該磁気記
録媒体の磁性層を形成する場合、磁性層を斜めに蒸着す
るいわゆる斜方蒸着が提案され既に実用化されている。
This metal magnetic thin film type magnetic recording medium is excellent not only in coercive force and squareness ratio but also in electromagnetic conversion characteristics at short wavelengths, and because the magnetic layer can be made extremely thin,
There are many things such as remarkably small thickness loss during recording demagnetization and reproduction, and increasing the packing density of the magnetic material because it is not necessary to mix the binder (binding agent) that is a non-magnetic material into the magnetic layer. Have the advantages of. Further, in order to improve the electromagnetic conversion characteristics of this kind of magnetic recording medium and to obtain a larger output, when forming the magnetic layer of the magnetic recording medium, the so-called oblique vapor deposition of the magnetic layer is called. Oblique vapor deposition has been proposed and already put to practical use.

【0004】このようなテープ状の磁気記録媒体には、
非磁性支持体、磁性層の他に、耐久性や走行性等の改善
を目的として、磁性層上に保護層が設けられたり、非磁
性支持体の磁性層が形成されている側とは反対側の面に
バック層が設けられるのが通常である。
Such a tape-shaped magnetic recording medium includes
In addition to the non-magnetic support and the magnetic layer, a protective layer is provided on the magnetic layer for the purpose of improving durability and running property, or the side opposite to the side of the non-magnetic support on which the magnetic layer is formed. A back layer is usually provided on the side surface.

【0005】保護層は、再生用の磁気ヘッドとの摺動か
ら磁性層を保護するためのものである。磁気記録媒体で
は、高密度化に対応してスペーシングロスを抑えるため
に、表面が一層平滑化される方向にある。しかし、磁性
層表面が平滑になると、ヘッドに対する接触面積が大き
くなるために、摩擦力が増大し、磁性層に生ずるせん断
応力が大きくなる。このような厳しい摺動条件から磁性
層を保護するために、上記保護層は重要である。
The protective layer protects the magnetic layer from sliding on the reproducing magnetic head. In magnetic recording media, the surface tends to be smoother in order to suppress spacing loss in response to higher density. However, when the surface of the magnetic layer becomes smooth, the contact area with the head increases, so that the frictional force increases and the shear stress generated in the magnetic layer increases. The protective layer is important for protecting the magnetic layer from such severe sliding conditions.

【0006】そして、バック層は、非磁性支持体表面の
電気抵抗を下げて帯電による走行不良を防止したり、非
磁性支持体の耐久性を上げたり、使用中の傷つき等の発
生を防いだり、また磁気記録媒体間の摩擦を小さくする
等の目的から設けられるものである。テープ状の磁気記
録媒体の走行性、耐久性を向上させるには、このバック
層の形成が必須となる。
The back layer lowers the electric resistance of the surface of the non-magnetic support to prevent running defects due to charging, enhances the durability of the non-magnetic support, and prevents scratches during use. It is also provided for the purpose of reducing friction between magnetic recording media. In order to improve the running property and durability of the tape-shaped magnetic recording medium, it is essential to form this back layer.

【0007】また、保護層上には、磁性層と磁気ヘッド
が摺動する際にその間に働く摩擦力から保護膜が一瞬に
して削れて、磁性層がダメージを受けてしまうことを防
止するため、摩擦係数低減の目的で潤滑剤層が設けられ
ている。一方、バック層側にも、テープパスによるガイ
ドとの摺動によるバック層の剥離や表面ダメージを避け
るため、摩擦係数の低減を目的とした潤滑剤が塗布され
たり、またはバック層中に内に内添された状態で設けら
れる。
In order to prevent the magnetic layer from being damaged by the frictional force acting between the magnetic layer and the magnetic head when the magnetic layer slides on the protective layer, the protective layer is instantaneously scraped off. A lubricant layer is provided for the purpose of reducing the friction coefficient. On the other hand, on the back layer side as well, in order to avoid peeling of the back layer and surface damage due to sliding with the guide due to the tape path, a lubricant for the purpose of reducing the friction coefficient is applied, or inside the back layer It is provided internally.

【0008】ところで、最近の記録容量の高密度化に伴
い、再生ヘッドとして磁気抵抗型(MR)ヘッドを用い
たシステムの導入が進んでおり、媒体のノイズを低減さ
せる試みが数多くなされている。その一つに表面性の平
滑化が挙げられる。すなわち、上述したような金属膜の
蒸着により磁性層を成膜する方法では、磁性層、保護層
を成膜した後でも、非磁性支持体の表面性がそのまま磁
気記録媒体の最表面に反映される。したがって、媒体ノ
イズの低減のためには、非磁性支持体表面の鏡面化が必
須である。
By the way, with the recent increase in recording density, a system using a magnetoresistive (MR) head as a reproducing head has been introduced, and many attempts have been made to reduce the noise of the medium. One of them is smoothing of surface properties. That is, in the method of forming a magnetic layer by vapor deposition of a metal film as described above, the surface property of the non-magnetic support is directly reflected on the outermost surface of the magnetic recording medium even after forming the magnetic layer and the protective layer. It Therefore, in order to reduce the medium noise, it is essential to make the surface of the non-magnetic support body a mirror surface.

【0009】ところが、この鏡面化により、磁気記録媒
体の最表面と再生ヘッドおよびガイドピン等との接触面
積が増大し、摩擦の上昇、しいては表面保護層の剥離な
どのダメージを招いていた。これは表面に存在する潤滑
剤層が、平滑な(鏡面化された)表面での摺動によって
表面に固着している事ができず、容易に剥がれ落ちてし
まうためである。この対策として、保護層の表面をアミ
ン化処理することにより、保護層と潤滑剤層間のバイン
ディング力を高める(特開平6−103560、特開2
000423357、特開2000−123349、特
開2000−123358)ことが提案されている。
However, due to this mirror surface, the contact area between the outermost surface of the magnetic recording medium and the reproducing head, the guide pin, etc. is increased, causing an increase in friction and eventually damage such as peeling of the surface protective layer. . This is because the lubricant layer existing on the surface cannot be fixed to the surface by sliding on a smooth (mirror-finished) surface and is easily peeled off. As a countermeasure against this, the surface of the protective layer is subjected to an amination treatment to enhance the binding force between the protective layer and the lubricant layer (JP-A-6-103560, JP-A-6-103560).
000423357, JP-A-2000-123349, and JP-A-2000-123358).

【0010】このような構成の磁気記録媒体を製造する
場合には、非磁性支持体上に磁性層を斜方蒸着し、さら
にこの上部に保護膜を形成した後、非磁性支持体の裏面
(磁性層形成面の反対側の面)にバックコート層を形成
する。そして、アミノ基を有する有機化合物を大気中に
おいて保護層表面に塗布してアミン化処理を行う。そし
て、アミン化処理が施された面上に、潤滑剤を有機溶媒
に溶解させた潤滑剤塗料を塗布し、次いで塗布膜中の有
機溶剤をドライヤーにて揮発除去し、これにより潤滑剤
層を形成している。
When manufacturing a magnetic recording medium having such a structure, a magnetic layer is obliquely vapor-deposited on a non-magnetic support, and a protective film is further formed on the magnetic layer, and then the back surface of the non-magnetic support ( A back coat layer is formed on the surface opposite to the surface on which the magnetic layer is formed. Then, an organic compound having an amino group is applied to the surface of the protective layer in the atmosphere to perform an amination treatment. Then, a lubricant coating in which a lubricant is dissolved in an organic solvent is applied on the amination-treated surface, and then the organic solvent in the coating film is volatilized and removed by a dryer, whereby the lubricant layer is formed. Is forming.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した磁
気記録媒体の製造方法には次のような課題があった。す
なわち、潤滑剤層の形成においては、有機溶媒中に溶解
させた潤滑剤塗料を用いて塗布成膜が行われるが、有機
溶剤を扱う工程においては静電気による着火の防止を目
的として処理雰囲気を高湿度に必要がある。このため、
潤滑剤塗料の塗布工程においては、その高湿な雰囲気に
さらされた成膜表面に吸着水が多く発生し、水と相溶性
のない有機溶媒を用いた塗布潤滑剤塗料を保護膜の表面
に均一に塗布することができず、潤滑剤層の不均一成膜
が起こっていた。
However, the above-described method of manufacturing a magnetic recording medium has the following problems. That is, in forming the lubricant layer, a coating film is formed by using a lubricant paint dissolved in an organic solvent, but in the process of handling the organic solvent, the process atmosphere is set high to prevent ignition due to static electricity. Need for humidity. For this reason,
In the coating process of lubricant paint, a large amount of adsorbed water is generated on the film-forming surface exposed to the high-humidity atmosphere, and the applied lubricant paint using an organic solvent that is not compatible with water is applied to the surface of the protective film. It could not be applied uniformly, resulting in non-uniform film formation of the lubricant layer.

【0012】これは、潤滑剤層の形成による耐久性向上
の効果を低減させる要因になっている。潤滑剤層の不均
一成膜の結果、SO2などの腐食性のガスが存在する
と、保護膜との間に生じる電位差によってイオン化しや
すくなった磁性層金属が溶解し、腐食が進行するため、
磁化劣化率を十分に低く抑えることができなかった。
This is a factor that reduces the effect of improving the durability due to the formation of the lubricant layer. If a corrosive gas such as SO 2 is present as a result of the non-uniform film formation of the lubricant layer, the magnetic layer metal that has been easily ionized due to the potential difference between the lubricant layer and the protective film dissolves and corrosion progresses.
The magnetization deterioration rate could not be suppressed to a sufficiently low level.

【0013】さらに、大気中での成膜では、雰囲気中に
浮遊している多数のゴミが潤滑剤層に付着し易く、ドロ
ップアウトやヘッド目詰まりの原因にもなっていた。し
かも、最終的な潤滑剤層の膜厚を厳密に制御することが
できず、結果的に発生する余剰潤滑剤が摩擦上昇やヘッ
ド汚れを招いていた。これは、磁気記録媒体を用いた記
録再生におけるヘッドの走行安定性を劣化させる要因に
なっている。
Further, in the film formation in the atmosphere, many dust particles floating in the atmosphere are apt to adhere to the lubricant layer, which causes dropout and head clogging. Moreover, the final film thickness of the lubricant layer cannot be strictly controlled, and the resulting surplus lubricant causes friction increase and head contamination. This is a factor that deteriorates the running stability of the head during recording and reproduction using a magnetic recording medium.

【0014】また、保護膜の表面をアミン化処理する場
合であっても、このアミン化処理はアミノ基を有する有
機化合物を大気中で塗布することによってなされるた
め、アミン化処理した表面に存在するアミン塩が大気に
さらされてしまう。したがって、アミン化処理による潤
滑剤層の密着性向上の効果を十分に引き出すことができ
ず、安定的した耐久性の磁気記録媒体を得ることが困難
であった。
Even when the surface of the protective film is subjected to an amination treatment, the amination treatment is carried out by coating an organic compound having an amino group in the atmosphere, and therefore the amination treatment is performed on the surface. Amine salts exposed to the atmosphere. Therefore, the effect of improving the adhesiveness of the lubricant layer by the amination treatment cannot be sufficiently obtained, and it is difficult to obtain a stable and durable magnetic recording medium.

【0015】以上のように、潤滑剤を塗布成膜する磁気
記録媒体の製造方法では、特にその信頼性において、M
Rヘッドの使用を前提とした高密度な磁気記録媒体を得
ることができなかったのである。
As described above, in the method of manufacturing a magnetic recording medium in which a lubricant is applied to form a film, M
It was not possible to obtain a high-density magnetic recording medium on the assumption that the R head was used.

【0016】そこで本発明は、均一性に優れた潤滑剤層
の形成が可能で、これにより防錆効果に優れ、かつ耐久
性、走行安定性などの信頼性に優れた磁気記録媒体の製
造方法を提供することを目的とする。
Therefore, according to the present invention, it is possible to form a lubricant layer having excellent uniformity, and thereby, a method for producing a magnetic recording medium having an excellent rust preventive effect and excellent reliability such as durability and running stability. The purpose is to provide.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0018】上記目的を達成するための本発明は、非磁
性支持体上に磁性層を介して保護膜を形成し、この保護
膜上に潤滑剤層を形成する磁気記録媒体の製造方法にお
いて、潤滑剤層の形成は、真空雰囲気中において行われ
ると共に、気化させた潤滑剤をキャリアガスとともに噴
霧することによって行われることを特徴としている。
The present invention for achieving the above object provides a method for producing a magnetic recording medium, which comprises forming a protective film on a non-magnetic support via a magnetic layer and forming a lubricant layer on the protective film. The formation of the lubricant layer is characterized by being performed in a vacuum atmosphere and by spraying a vaporized lubricant together with a carrier gas.

【0019】このような製造方法では、成膜表面におけ
る吸着水分の影響を受けることなく潤滑剤層が形成され
る。このため、均一な潤滑剤層を備えた磁気記録媒体が
得られる。
In such a manufacturing method, the lubricant layer is formed without being affected by the adsorbed moisture on the film-forming surface. Therefore, a magnetic recording medium having a uniform lubricant layer can be obtained.

【0020】また、アミン化処理された表面上に対して
潤滑剤層を形成することで、潤滑剤層を密着性良好に形
成することができる。この際特に、真空雰囲気内におい
てアミン化処理を行い、このアミン化処理に連続させて
潤滑剤層の形成を行うことで、さらにアミン化処理表面
に対する潤滑剤層の固着力を強めることができる。
Further, by forming the lubricant layer on the amination-treated surface, the lubricant layer can be formed with good adhesion. At this time, particularly, by performing the amination treatment in a vacuum atmosphere and forming the lubricant layer continuously with the amination treatment, the adhesion of the lubricant layer to the amination-treated surface can be further strengthened.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の磁気記録媒体の
製造方法によって形成する磁気記録媒体の概略構成図で
あり、以下この図を参照しつつ、本発明の実施の形態を
詳細に説明する。尚ここでは、テープ状の磁気記録媒体
を製造する場合を例に取り実施の形態を説明する。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a magnetic recording medium formed by a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention. The embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to this figure. explain. Here, the embodiment will be described taking the case of manufacturing a tape-shaped magnetic recording medium as an example.

【0022】先ず、非磁性支持体1を用意する。この非
磁性支持体1は、通常の蒸着テープに使用されるもので
あれば如何なるものであってもよい。一般的には、ポリ
エステル系が主に用いられているが、ポリエステルとし
ては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエ
チレンナフタレート(PEN)、ポリテトラメチレンテ
レフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキシレンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタリ
ンジカルボキシレート、ポリエチレン−p−オキシベン
ゾエートなどが挙げられる。特にポリエチレンテレフタ
レート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)が好ましい。また、これらのポリエステルはホモポ
リエステルであってもコポリエステルであってもよい。
First, the non-magnetic support 1 is prepared. The non-magnetic support 1 may be of any type as long as it is used for ordinary vapor deposition tapes. Generally, polyester type is mainly used, but as the polyester, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polytetramethylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexylene dimethylene terephthalate, Examples thereof include polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate and polyethylene-p-oxybenzoate. Especially polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PE
N) is preferred. Further, these polyesters may be homopolyesters or copolyesters.

【0023】また、非磁性支持体1の表面は、適度な粗
さを付与するために数nm〜数十nmのフィラーを分散
させて表面を荒らしてもよい。その方法はベース内に内
添した方法であっても表面に塗布した方法でもいずれで
もよい。また、フィラーを分散させる以外にも、表面に
粗さを付与する目的であればいかなる方法であってもよ
い。
Further, the surface of the non-magnetic support 1 may be roughened by dispersing a filler of several nm to several tens of nm in order to impart appropriate roughness. The method may be either internal addition in the base or coating on the surface. In addition to dispersing the filler, any method may be used for the purpose of imparting roughness to the surface.

【0024】次に、このような非磁性支持体1上に、磁
性層3を形成する。この磁性層3は金属磁性薄膜からな
り、非磁性支持体1に対して強磁性金属材料を直接被着
することにより、好ましくは100nm以下の膜厚で形
成される。この金属磁性材料としては、通常の蒸着テー
プに使用されるものであれば如何なるものであってもよ
い。例示すれば、Fe、Co、Niなどの強磁性金属、
Fe−Co、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−C
u、Co−Cu、Co−Au、Co−Pt、Mn−B
i、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−C
r、Fe−Co−Cr、Co−Ni−Cr、Fe−Co
−Ni−Cr等の強磁性合金が挙げられる。磁性層3
は、これらの単層膜であっても良く、また多層膜であっ
てもよい。さらには、非磁性支持体1とこの磁性層3と
の間、あるいは磁性層3が多層膜である場合にはこれら
の多層膜間に、各層間の付着力向上、並びに抗磁力の制
御等のための下地層や中間層を設けても良い。また、例
えば磁性層3の表面近傍が耐蝕性改善等のために酸化物
となっていてもよい。
Next, the magnetic layer 3 is formed on such a non-magnetic support 1. The magnetic layer 3 is composed of a metallic magnetic thin film, and is preferably formed to have a thickness of 100 nm or less by directly depositing a ferromagnetic metal material on the non-magnetic support 1. As the metallic magnetic material, any material can be used as long as it is used for a usual vapor deposition tape. For example, ferromagnetic metals such as Fe, Co and Ni,
Fe-Co, Co-Ni, Fe-Co-Ni, Fe-C
u, Co-Cu, Co-Au, Co-Pt, Mn-B
i, Mn-Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-C
r, Fe-Co-Cr, Co-Ni-Cr, Fe-Co
A ferromagnetic alloy such as -Ni-Cr may be used. Magnetic layer 3
May be a single layer film or a multilayer film of these. Further, between the non-magnetic support 1 and the magnetic layer 3 or between the multi-layered films when the magnetic layer 3 is a multi-layered film, it is possible to improve the adhesive force between the layers and control the coercive force. An underlayer or an intermediate layer may be provided for this purpose. Further, for example, the vicinity of the surface of the magnetic layer 3 may be an oxide in order to improve corrosion resistance.

【0025】このような磁性層3の形成の手段として
は、真空雰囲気下で強磁性材料を加熱蒸発させ非磁性支
持体上に沈着させる真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸
発を放電中で行うイオンプレーティング法、アルゴンを
主成分とする雰囲気中でグロー放電を越こし生じたアル
ゴンイオンでターゲット表面の原子をたたき出すスパッ
タ法等、いわゆるPVD(Physical vapor depositio
n)技術によればよい。
As means for forming such a magnetic layer 3, a vacuum evaporation method of heating and evaporating a ferromagnetic material in a vacuum atmosphere to deposit it on a non-magnetic support, or evaporation of a ferromagnetic metal material during discharge. The so-called PVD (Physical vapor depositio), such as an ion plating method to be performed, a sputtering method for knocking out atoms on the target surface with argon ions generated through a glow discharge in an atmosphere containing argon as a main component, etc.
n) According to technology.

【0026】次いで、磁性層3上に、保護膜5を形成す
る。この保護膜5は、通常の金属磁性薄膜用の保護膜と
して一般的に使用されるものであれば如何なるものであ
ってもよい。例示すれば、カーボン、CrO2、Al2
3、BN、Co酸化物、MgO、SiO2、Si34
SiN4、SiC、SiN4、SiO2、ZrO2、TiO
2、TiC等が挙げられる。尚、保護真5は、これらの
材料からなる単層膜であってもよいし多層膜であっても
よい。この保護膜5の形成は、例えgば上述したPVD
法や、CVD(chemical vapor deposition)法によって
行うこととする。
Next, the protective film 5 is formed on the magnetic layer 3. The protective film 5 may be any one that is generally used as a protective film for ordinary metal magnetic thin films. By way of example, carbon, CrO2, Al 2
0 3 , BN, Co oxide, MgO, SiO 2 , Si 3 O 4 ,
SiN 4 , SiC, SiN 4 , SiO 2 , ZrO 2 , TiO
2 , TiC and the like. The protective stem 5 may be a single layer film or a multilayer film made of these materials. The formation of the protective film 5 is performed by the PVD described above, for example.
Method or a CVD (chemical vapor deposition) method.

【0027】また、非磁性支持体1における磁性層3形
成面の反対側の面に、バック層7を形成する。このバッ
ク層7は、通常のバック層として一般に使用されるもの
であれば如何なるものであっても良く、例えば保護膜5
を形成する材料と同様の材料が単層膜または多層膜とし
て用いられ、保護膜と同様に用いることができ、さらに
塗布法によって成膜してもよい。
A back layer 7 is formed on the surface of the non-magnetic support 1 opposite to the surface on which the magnetic layer 3 is formed. The back layer 7 may be of any type as long as it is generally used as an ordinary back layer, for example, the protective film 5
A material similar to the material for forming is used as a single-layer film or a multilayer film, can be used in the same manner as the protective film, and may be formed by a coating method.

【0028】以上のようにして、保護膜5及びバック層
7を形成した後の、次の工程からが本発明に特徴的な工
程となる。
After the protective film 5 and the back layer 7 are formed as described above, the following steps are the steps characteristic of the present invention.

【0029】すなわち、保護膜5及びバック層7を形成
した後には、先ず保護膜5の表面のアミン化処理を行
う。このアミン化処理は、真空雰囲気中においてなさ
れ、例えば窒素原子を含むガスでのボンバード処理、ま
たは窒素原子を含むガスを原料ガスに用いたCVD法な
ど、いずれの方法でも良い。ボンバード処理を行う場合
には、保護膜5の表面に窒素が結合することでアミン化
処理がなされ、処理された保護膜5の表面がアミン化処
理表面5aとなる。また、CVD法によるアミン化処理
を行った場合には、保護膜5上に窒化膜層(アミン層)
が形成され、この窒化膜層の表面がアミンか処理表面5
aとなる。尚、CVD法によって形成する窒化膜層とし
ては、例えば窒化アルミニウム、窒化クロム、窒化シリ
コン、窒化チタン、さらには炭化窒素やコバルトの窒化
物、ニッケルの窒化物等、従来保護膜として用いられて
いた材料に窒素が含まれていれば、特に組成を特定する
ことなく用いることができる。このうち、特には、DL
C(diamond like carbon)からなる保護膜を得るため
の条件原料に対して窒素を混入して形成したものを窒化
膜層として好ましく用いることができる。
That is, after forming the protective film 5 and the back layer 7, first, the amination treatment of the surface of the protective film 5 is performed. This amination treatment is performed in a vacuum atmosphere, and any method such as a bombarding treatment with a gas containing a nitrogen atom or a CVD method using a gas containing a nitrogen atom as a raw material gas may be used. In the case of performing the bombarding process, nitrogen is bonded to the surface of the protective film 5 to perform the amination process, and the surface of the treated protective film 5 becomes the amination process surface 5a. Further, when the amination treatment is performed by the CVD method, a nitride film layer (amine layer) is formed on the protective film 5.
And the surface of this nitride film layer is amine or treated surface 5
a. Incidentally, as the nitride film layer formed by the CVD method, for example, aluminum nitride, chromium nitride, silicon nitride, titanium nitride, nitrides of nitrogen carbide or cobalt, nitrides of nickel, etc. have been conventionally used as protective films. If the material contains nitrogen, it can be used without particularly specifying the composition. Of these, DL
A material formed by mixing nitrogen with a raw material for obtaining a protective film made of C (diamond like carbon) can be preferably used as the nitride film layer.

【0030】そして、以上のようにして保護膜5の表面
に対してアミン化処理を施した後、アミン化処理表面5
aを大気に晒すことなく、すなわち真空雰囲気中でのア
ミン化処理に連続させてこのアミン化処理表面5a上
に、潤滑剤層9を形成する。
After the surface of the protective film 5 is subjected to the amination treatment as described above, the amination treatment surface 5
The lubricant layer 9 is formed on the amination-treated surface 5a without exposing a to the air, that is, after the amination treatment in a vacuum atmosphere.

【0031】この潤滑剤層9の形成は、気化させた潤滑
剤をキャリアガスと共に真空雰囲気中において処理表面
5aに噴霧することによって行われる。この際、気化さ
せた潤滑剤とキャリアガスとは、流量を制御した状態
で、真空雰囲気内に供給される。尚、キャリアガスとし
ては、N2、Arなどの不活性なガスを用いることとす
る。
The lubricant layer 9 is formed by spraying the vaporized lubricant with the carrier gas onto the treated surface 5a in a vacuum atmosphere. At this time, the vaporized lubricant and carrier gas are supplied into the vacuum atmosphere while controlling the flow rates. As the carrier gas, an inert gas such as N 2 or Ar is used.

【0032】また、潤滑剤の気化は、潤滑剤を加熱する
ことによって行うか、また加熱によって液化させた潤滑
剤を超音波振動を与えることによって行う。
The vaporization of the lubricant is carried out by heating the lubricant or by applying ultrasonic vibration to the lubricant liquefied by heating.

【0033】加熱によって潤滑剤を気化させる場合に
は、潤滑剤が十分に気化される温度以上で、かつ潤滑剤
が分解されることのない温度以下に潤滑剤を加熱するこ
ととし、100℃〜350℃の温度範囲が望ましい。こ
れにより、潤滑剤の噴霧によって形成された潤滑剤層1
1に、潤滑効果を発揮させることができるのである。
When the lubricant is vaporized by heating, the lubricant is heated to a temperature above the temperature at which the lubricant is sufficiently vaporized and below the temperature at which the lubricant is not decomposed, and the temperature is from 100 ° C. A temperature range of 350 ° C is desirable. Thereby, the lubricant layer 1 formed by spraying the lubricant
First, the lubricating effect can be exerted.

【0034】一方、加熱によって液化させた潤滑剤に超
音波を与えることによって潤滑剤を気化させる場合に
は、潤滑剤が液状となる温度範囲に潤滑剤を加熱するこ
ととする。
On the other hand, when the lubricant is vaporized by applying ultrasonic waves to the lubricant liquefied by heating, the lubricant is heated to a temperature range where the lubricant becomes liquid.

【0035】また、上述したいずれの方法で潤滑剤を気
化する場合であっても、真空雰囲気に気化された潤滑剤
が導入されるまでの間の経路となる導入管も加熱が必要
である。この導入管の加熱温度は、気化した潤滑剤が管
内に析出されることなく真空雰囲気内に供給される温度
以上で、かつ気化した潤滑剤が導入経路内で分解するこ
とのない温度以下であることとし、100℃〜350℃
の温度範囲が望ましい。
In addition, in any case where the lubricant is vaporized by any of the above-mentioned methods, it is necessary to heat the introducing pipe which serves as a path until the vaporized lubricant is introduced into the vacuum atmosphere. The heating temperature of the introduction pipe is equal to or higher than the temperature at which the vaporized lubricant is supplied into the vacuum atmosphere without being deposited in the pipe, and is equal to or lower than the temperature at which the vaporized lubricant is not decomposed in the introduction path. And 100 ℃ -350 ℃
Is desirable.

【0036】さらに、潤滑剤層11を形成する際の真空
雰囲気の圧力は、潤滑剤の沸点が分解点を超えることの
ない圧力以下であることとする。また、この際の真空雰
囲気の圧力は、単位面積当たりに所定の吸着量の潤滑剤
が吸着された潤滑剤層11を形成可能な圧力以上である
こととする。このため、潤滑剤層11を形成する際の真
空雰囲気の圧力は、10Pa〜10-5Paの範囲に設定
されることが望ましい。
Further, the pressure of the vacuum atmosphere at the time of forming the lubricant layer 11 is not more than the pressure at which the boiling point of the lubricant does not exceed the decomposition point. The pressure of the vacuum atmosphere at this time is equal to or higher than the pressure capable of forming the lubricant layer 11 in which a predetermined amount of the lubricant is adsorbed per unit area. Therefore, the pressure of the vacuum atmosphere when forming the lubricant layer 11 is preferably set in the range of 10 Pa to 10 −5 Pa.

【0037】潤滑剤層11を構成する潤滑剤は、テープ
状の磁気記録媒体の用途として一般に使用されているも
のであればいずれも使用可能である。例えば主骨格がア
ルキルアミン、アルキルエステル、フルオロカーボン
系、フルオロアルキル基を含有した炭化水素、リン酸エ
ステル類、亜リン酸エステル類等の潤滑剤が用いられ
る。
Any lubricant can be used as the lubricant constituting the lubricant layer 11 as long as it is generally used as a tape-shaped magnetic recording medium. For example, a lubricant having a main skeleton of alkylamine, alkyl ester, fluorocarbon type, hydrocarbon containing a fluoroalkyl group, phosphoric acid ester, phosphorous acid ester or the like is used.

【0038】その中でも特に、磁性層3が金属磁性薄膜
からなる場合に一般的に用いられているフッ素系潤滑剤
が好ましい。このような潤滑剤の具体例としては、パー
フルオロポリエーテルカルボン酸エステル等の合成品、
アウジモンド社製の商品名フォンブリンZ−03、Z−
15、Z−DEAL、Z−25、Z−D0L、Z−DI
AC、Z−DISOC、AM−2001、ダイキン工業
社製デムナムS−20、S−65、S−100、S−2
00、デュポン社製クライドックス240AC、クライ
ドックスGPLに代表されるフッ素系グリースなどの市
販品、パーフルオロポリエーテルにアルキル基を付与し
た構造のものが使用される。
Of these, fluorine-based lubricants generally used when the magnetic layer 3 is composed of a metal magnetic thin film are particularly preferable. Specific examples of such a lubricant include synthetic products such as perfluoropolyether carboxylic acid ester,
Product name Fomblin Z-03, Z- manufactured by Ausimond
15, Z-DEAL, Z-25, Z-D0L, Z-DI
AC, Z-DISOC, AM-2001, Demnum S-20, S-65, S-100, S-2 manufactured by Daikin Industries, Ltd.
00, commercially available products such as fluorine-based grease represented by CRYDOX 240AC manufactured by DuPont and CRYDOX GPL, and those having a structure in which an alkyl group is added to perfluoropolyether are used.

【0039】また、以上のような真空雰囲気中での成膜
によって形成される潤滑剤層11は、単位面積当たりの
潤滑剤量が0.1mg/m2〜100mg/m2の範囲で
形成されることが望ましい。その範囲を下まわる場合
は、表面に均一に潤滑剤を被覆させることができないた
め、使用中に大気暴露した際に潤滑剤が被覆していない
ところから大気中の水分が表面に吸着することにより錆
が発生する。また、この範囲を上回る場合は、表面に潤
滑剤が過剰な状態になるため、記録再生時において、記
録再生システムのガイドピンやドラム面に対して貼りつ
きを生じるばかりでなく、ヘッドとの摺動により表面に
吸着しきれない潤滑剤が剥離し、ヘッド付着物となって
耐久性を悪化させる要因として働く。そのため、潤滑剤
層11の単位面積当たりの潤滑剤量は、上記範囲が必須
であるが、0.5mg/mm2〜20mg/mm2であれ
ば、防錆効果・耐久性・走行性からなお良好である。
Further, a lubricant layer 11 formed by deposition in a vacuum atmosphere as described above, the lubricant amount per unit area is formed in the range of 0.1mg / m 2 ~100mg / m 2 Is desirable. If it falls below that range, it is not possible to coat the surface of the lubricant evenly, so when exposed to the atmosphere during use, moisture in the atmosphere may be adsorbed on the surface from where it was not covered by the lubricant. Rust occurs. Also, if the value exceeds this range, the surface will be in an excessive amount of lubricant, which will cause sticking to the guide pins of the recording / reproducing system and the drum surface during recording / reproducing as well as sliding with the head. Due to the movement, the lubricant that cannot be completely adsorbed on the surface peels off and becomes a head deposit, which acts as a factor that deteriorates the durability. Therefore, the quantity of lubricant per unit area of the lubricant layer 11 is the above-mentioned range is essential, if 0.5mg / mm 2 ~20mg / mm 2 , still from corrosion protection, durability and running properties It is good.

【0040】以上のようにして、非磁性支持体1の一主
面上に金属磁性薄膜よりなる磁性層3を介して保護膜5
が設けられ、さらに保護膜5のアミン化処理表面5a上
に潤滑剤層9が設けられると共に、非磁性支持体1の他
主面上にバック層7が設けられた磁気記録媒体10が得
られる。
As described above, the protective film 5 is formed on the one main surface of the non-magnetic support 1 with the magnetic layer 3 made of a metal magnetic thin film interposed therebetween.
And the lubricant layer 9 is further provided on the amination-treated surface 5a of the protective film 5, and the back layer 7 is provided on the other main surface of the non-magnetic support 1 to obtain a magnetic recording medium 10. .

【0041】そして、以上説明した製造方法によれば、
潤滑剤層9の形成が真空雰囲気中において行われるた
め、成膜表面における吸着水分の影響を受けることなく
潤滑剤層9を形成することができる。このため、均一な
潤滑剤層9を備え、防錆効果の高い磁気記録媒体10を
得ることが可能になる。
According to the manufacturing method described above,
Since the lubricant layer 9 is formed in a vacuum atmosphere, the lubricant layer 9 can be formed without being affected by the adsorbed moisture on the film formation surface. Therefore, it becomes possible to obtain the magnetic recording medium 10 having the uniform lubricant layer 9 and having a high rust preventive effect.

【0042】さらに、真空雰囲気中において潤滑剤層9
の形成を行うため、異物を付着させることなく潤滑剤層
9の形成を行うことができる。したがって、磁気記録媒
体10を用いた記録再生において、ヘッドの走行安定性
の向上を図ることができる。
Further, in the vacuum atmosphere, the lubricant layer 9
Therefore, the lubricant layer 9 can be formed without adhering foreign matter. Therefore, in recording / reproducing using the magnetic recording medium 10, the running stability of the head can be improved.

【0043】また、アミン化処理された表面5a上に対
して潤滑剤層9を形成することで、潤滑剤層9を密着性
良好に形成することができる。この際特に、真空雰囲気
内においてアミン化処理を行い、このアミン化処理に連
続させて潤滑剤層9の形成を行うことで、さらにアミン
化処理表面に対する潤滑剤層9の固着力を強めることが
できる。したがって、耐久性に優れた磁気記録媒体10
を得ることができる。
By forming the lubricant layer 9 on the amination-treated surface 5a, the lubricant layer 9 can be formed with good adhesion. At this time, in particular, by performing the amination treatment in a vacuum atmosphere and forming the lubricant layer 9 following the amination treatment, the adhesion of the lubricant layer 9 to the amination-treated surface can be further strengthened. it can. Therefore, the magnetic recording medium 10 having excellent durability
Can be obtained.

【0044】以上のことから、MRヘッドの使用を前提
とした高密度で信頼性の高い磁気記録媒体を実現するこ
とが可能になる。尚、この磁気記録媒体10が、MRヘ
ッドを有する記録再生システム用である場合、磁性層3
の残磁束密度、厚さ及び抗磁力の積であるエネルギー積
が75G・cm・Oe以上であり、磁気記録媒体10の
全厚が5μm以下であることが好ましい。
From the above, it is possible to realize a high-density and highly reliable magnetic recording medium on the assumption that an MR head is used. When the magnetic recording medium 10 is for a recording / reproducing system having an MR head, the magnetic layer 3
It is preferable that the energy product, which is the product of the residual magnetic flux density, the thickness, and the coercive force, is 75 G · cm · Oe or more, and the total thickness of the magnetic recording medium 10 is 5 μm or less.

【0045】また、以上のような効果に加えられる本発
明のさらなるメリットとして、潤滑剤の使用効率が挙げ
られる。すなわち、従来の塗布成膜においては、残液中
に溶けている潤滑剤の使用効率が悪く、全部を使いきる
ことは出来ないが、気化させて成膜する方法では、チャ
ンバーや導入管内に析出する分以外はすべて使い切るこ
とができる。
A further advantage of the present invention, which is added to the above effects, is the use efficiency of the lubricant. That is, in the conventional coating film formation, the use efficiency of the lubricant dissolved in the residual liquid is poor and it is not possible to completely use it, but in the method of vaporizing and forming the film, it is deposited in the chamber or the introduction pipe. Everything can be used up except for what you do.

【0046】尚、本発明にかかる磁気記録媒体の製造方
法は、上述した手順に限定されることはなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲での変更、例えば必要に応じて非
磁性支持体1上に下塗層を形成したり、防錆剤などの層
を形成することは何等差し支えない。
The method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention is not limited to the above-mentioned procedure, and may be modified within the scope of the present invention, for example, the non-magnetic support 1 as necessary. There is no problem in forming an undercoat layer or forming a layer of a rust preventive agent or the like on top.

【0047】[0047]

【実施例】次に、本発明の具体的な実施例および実施例
に対する比較例、さらにはこれらの評価結果を説明す
る。ここでは、アミン化処理方法および潤滑剤層の形成
条件をファクタとして各実施例および比較例の評価サン
プル(テープ状の磁気記録媒体)を作製し、それぞれの
評価サンプルについて、評価を行った。
EXAMPLES Next, specific examples of the present invention and comparative examples with respect to the examples, and the evaluation results thereof will be described. Here, evaluation samples (tape-shaped magnetic recording media) of the examples and comparative examples were produced with the amination treatment method and the lubricant layer forming conditions as factors, and the evaluation samples were evaluated.

【0048】以下、各実施例および比較例における評価
サンプルの製造に用いた各成膜装置の構成を説明した
後、評価サンプルの製造手順、評価方法および評価結果
の順に、図1および各図を参照しつつ説明を行う。
The structure of each film forming apparatus used to manufacture the evaluation sample in each of the examples and comparative examples will be described below, and then FIG. 1 and each drawing will be described in the order of the manufacturing procedure of the evaluation sample, the evaluation method and the evaluation result. The description will be given with reference to it.

【0049】<成膜装置>磁性層形成用の蒸着成膜装置 図2には、非磁性支持体1上に磁性層3を形成する際に
用いた蒸着成膜装置の構成図を示す。
< Deposition Device> Deposition Device for Deposition of Magnetic Layer FIG. 2 is a block diagram of the deposition film device used when the magnetic layer 3 is formed on the non-magnetic support 1.

【0050】この図に示すように、蒸着成膜装置は、頭
部と低部にそれぞれ設けられた排気口201から排気さ
れて内部が真空状態となされる真空室202内に、図中
の時計回り方向に定速回転する送りロール203と、図
中の時計回り方向に定速回転する巻取りロール204と
が設けられ、これら送りロール203から巻取りロール
204にテープ状の非磁性支持体1が順次走行するよう
になされている。これら送りロール203から巻取りロ
ール204側に非磁性支持体1が走行する中途部には、
各ロール203、204の径よりも大径となされた冷却
キャン206が設けられている。この冷却キャン206
は、非磁性支持体1を図中下方に引き出すように設けら
れ、図中の時計回り方向に定速回転する構成とされる。
尚、送りロール203、巻取りロール204および冷却
キャン206は、それぞれ非磁性支持体1の幅と略同じ
長さからなる円筒状をなすものであり、また、冷却キャ
ン206には、内部に図示しない冷却装置が設けられ、
非磁性支持体1の温度上昇による変形等を抑制し得るよ
うになされている。したがって、非磁性支持体1は、送
りロール203から順次送り出され、さらに冷却キャン
206の周面を通過し、巻取りロール204に巻取られ
ていくようになされている。尚、送りロール203と冷
却キャン206との間、および冷却キャン206と巻取
りロール204との問にはそれぞれガイドロール20
7、208が配設され、送りロール203から冷却キャ
ン206及び、冷却キャン206から券取りロール20
4にわたって走行する非磁性支持体1に所定のテンショ
ンをかけ、非磁性支持体1が円滑に走行するようになさ
れている。
As shown in this figure, in the vapor deposition film forming apparatus, a watch shown in a figure is provided in a vacuum chamber 202 which is evacuated from the exhaust ports 201 provided at the head and the lower part to make a vacuum inside. A feed roll 203 that rotates at a constant speed in the rotating direction and a take-up roll 204 that rotates at a constant speed in the clockwise direction in the figure are provided, and the tape-shaped non-magnetic support 1 is provided from the feed roll 203 to the take-up roll 204. Are designed to run sequentially. In the middle part where the non-magnetic support 1 travels from the feed roll 203 to the take-up roll 204 side,
A cooling can 206 having a diameter larger than that of each roll 203, 204 is provided. This cooling can 206
Is provided so as to pull out the non-magnetic support 1 downward in the figure, and is configured to rotate at a constant speed in the clockwise direction in the figure.
The feed roll 203, the take-up roll 204, and the cooling can 206 each have a cylindrical shape having a length substantially the same as the width of the non-magnetic support 1, and the cooling can 206 is internally illustrated. Not equipped with a cooling device,
The nonmagnetic support 1 can be prevented from being deformed due to a temperature rise. Therefore, the non-magnetic support 1 is sequentially fed from the feed roll 203, further passes through the peripheral surface of the cooling can 206, and is wound up by the winding roll 204. The guide roll 20 is provided between the feed roll 203 and the cooling can 206 and between the cooling can 206 and the take-up roll 204.
7, 208 are provided, the feeding roll 203 to the cooling can 206 and the cooling can 206 to the ticket collecting roll 20.
A predetermined tension is applied to the non-magnetic support 1 that travels over 4, so that the non-magnetic support 1 runs smoothly.

【0051】また、真空室202内には、冷却キャン2
06の下方にルツボ209が設けられ、このルツボ20
9内に金属磁性材料210が充填されている。このルヅ
ボ209は、冷却キャン206の長手方向の幅(図面奥
行き方向)と略同一の幅を有してなる。一方、真空室2
02の側壁部には、上記ルツボ209内に充填された金
属磁性材料210を加熱蒸発させるための電子銃211
が取り付けられる。この電子銃211は、当該電子銃2
11より放出される電子線Xがルツボ209内の金属磁
性材料210に照射されるような位置に配設される。そ
して、電子線Xの照射によって蒸発した金属磁性材料2
10が冷却キャン206の周面を定速走行する非磁性支
持体1上に磁性層3(図1参照)として被着形成される
ようになっている。
Further, in the vacuum chamber 202, the cooling can 2
The crucible 209 is provided below the 06.
A magnetic metal material 210 is filled in the inside 9. The crucible 209 has substantially the same width as the width of the cooling can 206 in the longitudinal direction (depth direction in the drawing). On the other hand, the vacuum chamber 2
An electron gun 211 for heating and evaporating the metallic magnetic material 210 filled in the crucible 209 is provided on the side wall of 02.
Is attached. This electron gun 211 is the electron gun 2
The electron beam X emitted from 11 is disposed at a position where the metallic magnetic material 210 in the crucible 209 is irradiated. Then, the metallic magnetic material 2 evaporated by the irradiation of the electron beam X
10 is deposited and formed as a magnetic layer 3 (see FIG. 1) on the non-magnetic support 1 that runs at a constant speed on the peripheral surface of the cooling can 206.

【0052】また、冷却キャン206とルツボ209と
の間であって冷却キャン206の近傍には、シャッタ2
12が配設されている。このシャッタ212は、冷却キ
ャン206の周面を定速走行する非磁性支持体1の所定
領域を覆う形で形成され、ルツボ209から蒸発した金
属磁性材料210が、非磁性支持体1に対して所定の角
度範囲で斜めに蒸着されるようになっている。さらに、
このような蒸着に際し、真空室202の側壁部を貫通し
て設けられる酸素ガス導入口214を介して非磁性支持
体1の表面に酸素ガスO2が供給され、磁気特性、耐久
性及び耐候性の向上が図られた磁性層3が形成されるよ
うに構成されている。
The shutter 2 is provided between the cooling can 206 and the crucible 209 and near the cooling can 206.
12 are provided. The shutter 212 is formed so as to cover a predetermined region of the non-magnetic support 1 that runs at a constant speed on the peripheral surface of the cooling can 206, and the metal magnetic material 210 evaporated from the crucible 209 with respect to the non-magnetic support 1. It is designed to be obliquely deposited within a predetermined angle range. further,
During such vapor deposition, oxygen gas O 2 is supplied to the surface of the non-magnetic support 1 through an oxygen gas inlet 214 that penetrates the sidewall of the vacuum chamber 202, and magnetic properties, durability and weather resistance are obtained. Of the magnetic layer 3 is formed.

【0053】保護膜形成用のCVD装置 図3には、非磁性支持体1上に磁性層3を介して保護膜
5(カーボン保護膜)を形成する際に用いたCVD装置
の構成図を示す。
CVD Device for Forming Protective Film FIG. 3 is a block diagram of a CVD device used for forming the protective film 5 (carbon protective film) on the non-magnetic support 1 via the magnetic layer 3. .

【0054】この図に示すように、CVD装置は、頭部
に設けられた真空排気系301によって内部が高真空状
態となされた真空室302内に、図中の反時計回り方向
に定速回転する送りロール303と、図中の反時計回り
方向に定速回転する巻取りロール304とが設けられ、
これら送りロール303から巻取りロール304に、磁
性層3が形成された非磁性支持体1が順次走行するよう
になされている。これら送りロール303から巻取りロ
ール304側に非磁性支持体1が走行する中途部には、
各ロール303,304の径よりも大径となされた対向
電極用キャン306が設けられている。この対向電極用
キャン306は、非磁性支持体1を図中下方に引き出す
ように設けられ、図中の時計回り方向に定速回転する構
成とされる。尚、送りロール303、巻取りロール30
4および対向電極用キャン306は、それぞれ非磁性支
持体1の幅と略同じ長さからなる円筒状をなすものであ
る。したがって、非磁性支持体1は、送りロール303
から順次送り出され、さらに対向電極用キャン306の
周面を通過し、巻取りロール304に巻き取られていく
ようになされている。なお、送りロール303と対向電
極用キャン306との間、および対向電極用キャン30
6と巻取りロール304との間にはそれぞれガイドロー
ル307,308が配設され、送りロール303から対
向電極用キャン306、および対向電極用キャン306
から巻取りロール304に亘って走行する非磁性支持体
1に所定のテンションをかけ、非磁性支持体1が円滑に
走行するようになされている。
As shown in this figure, the CVD apparatus rotates in a counterclockwise direction at a constant speed in a vacuum chamber 302 whose inside is made into a high vacuum state by an evacuation system 301 provided at the head. And a winding roll 304 that rotates at a constant speed in the counterclockwise direction in the drawing,
The non-magnetic support 1 having the magnetic layer 3 formed thereon is sequentially run from the feed roll 303 to the take-up roll 304. In the middle part where the non-magnetic support 1 travels from the feed roll 303 to the take-up roll 304 side,
A counter electrode can 306 having a diameter larger than that of each of the rolls 303 and 304 is provided. The counter electrode can 306 is provided so as to pull out the non-magnetic support 1 downward in the figure, and is configured to rotate at a constant speed in the clockwise direction in the figure. The feed roll 303 and the take-up roll 30
4 and the counter electrode can 306 each have a cylindrical shape having a length substantially the same as the width of the non-magnetic support 1. Therefore, the non-magnetic support 1 is provided with the feed roll 303.
It is configured to be sequentially sent out from the above, passes through the peripheral surface of the counter electrode can 306, and is wound up by the winding roll 304. In addition, between the feed roll 303 and the counter electrode can 306, and between the counter electrode can 30.
Guide rolls 307 and 308 are respectively arranged between the roll 6 and the take-up roll 304, and the feed roll 303 to the counter electrode can 306 and the counter electrode can 306.
A predetermined tension is applied to the non-magnetic support 1 traveling from the winding roll 304 to the non-magnetic support 1 so that the non-magnetic support 1 travels smoothly.

【0055】また、真空室302内には、対向電極用キ
ャン306の下方にホウケイ酸ガラス、プラスチック等
よりなる反応管309が設けられている。この反応管3
09は、一方の端部が真空室302の底部を貫通してお
り、この端部から成膜ガスが反応管309内に導入され
るようになっている。また、この反応管309内の中途
部には、金属メッシュ等よりなる電極310が取り付け
られている。この電極310は、外部に配設されたDC
電源311と接続されており、500〜2000Vの電
圧が印加されるようになっている。
In the vacuum chamber 302, a reaction tube 309 made of borosilicate glass, plastic or the like is provided below the counter electrode can 306. This reaction tube 3
09 has one end penetrating the bottom of the vacuum chamber 302, and the film forming gas is introduced into the reaction tube 309 from this end. In addition, an electrode 310 made of a metal mesh or the like is attached to the middle of the reaction tube 309. This electrode 310 is a DC
It is connected to a power supply 311 and a voltage of 500 to 2000 V is applied.

【0056】このような構成のCVD装置では、電極3
10に電圧が印加されることで、電極310と対向電極
用キャン306との間にグロー放電が生じる。そして、
反応管309内に導入された成膜ガスは、この生じたグ
ロー放電によって分解し、非磁性支持体1上に被着さ
れ、これによって保護膜5が形成される。
In the CVD apparatus having such a structure, the electrode 3
When a voltage is applied to 10, glow discharge occurs between the electrode 310 and the counter electrode can 306. And
The film-forming gas introduced into the reaction tube 309 is decomposed by the generated glow discharge and deposited on the non-magnetic support 1, whereby the protective film 5 is formed.

【0057】バック層形成用のスパッタ成膜装置 図4には、非磁性支持体1上にバック層7を形成する際
に用いたスパッタ成膜装置の構成図を示す。
Sputter Film Forming Apparatus for Forming Back Layer FIG. 4 shows a configuration diagram of a sputter film forming apparatus used for forming the back layer 7 on the non-magnetic support 1.

【0058】この図に示すスパッタ成膜装置は、マグネ
トロンスパッタ装置であり、バルブ401aを介して接
続された真空ポンプ401によって、例えば約10-4
a程度にまで減圧される真空室402を備えている。こ
の真空室402内には、上述したCVD装置と同様に、
送りロール403、巻取りロール404、対向電極用キ
ャン406、およびガイドロール407,408が設け
られており、非磁性支持体1が、送りロール403から
順次送り出され、さらに対向電極用キャン406の周面
を通過し、巻取りロール404に巻き取られて円滑に走
行するようになされている。尚、対向電極用キャン40
6には、内部に図示しない冷却装置が設けられ、非磁性
支持体1の温度上昇による変形等を抑制し得るようにな
されている。
The sputter film forming apparatus shown in this figure is a magnetron sputter apparatus, and the vacuum pump 401 connected via a valve 401a allows the sputtering film forming apparatus to reach, for example, about 10 -4 P.
A vacuum chamber 402 that is depressurized to about a is provided. In the vacuum chamber 402, like the above-described CVD device,
A feed roll 403, a take-up roll 404, a counter electrode can 406, and guide rolls 407 and 408 are provided. The non-magnetic support 1 is sequentially fed from the feed roll 403, and further the circumference of the counter electrode can 406 is provided. It passes through the surface, is wound up by the winding roll 404, and runs smoothly. Incidentally, the counter electrode can 40
A cooling device (not shown) is provided inside 6 so as to suppress deformation of the non-magnetic support 1 due to temperature rise.

【0059】また、真空室402内には、対向電極用キ
ャン406に対して、ターゲット407が対向配置され
ている。ターゲット407は、バック層7の材料となる
ものであり、例えばカーボンが用いられる。このターゲ
ット407は、カソード電極を構成するバッキングプレ
ート408に支持されている。そして、バッキングプレ
ート408の裏側には、磁場を形成するマグネット40
9が配設されている。そして、対向電極用キャン406
とターゲット408との間には、真空室402の側壁部
を貫通して設けられるガス導入管411の供給端が配置
されている。
Further, in the vacuum chamber 402, a target 407 is arranged opposite to the counter electrode can 406. The target 407 is a material of the back layer 7, and carbon, for example, is used. The target 407 is supported by a backing plate 408 that constitutes a cathode electrode. Then, on the back side of the backing plate 408, a magnet 40 that forms a magnetic field is formed.
9 are provided. Then, the counter electrode can 406
Between the target and the target 408, the supply end of the gas introduction pipe 411 provided to penetrate the side wall of the vacuum chamber 402 is arranged.

【0060】このスパッタ成膜装置では、真空ポンプ4
01によって真空室402内を例えば約10-4Pa程度
にまで減圧した後、バルブ403の角度を絞ることによ
り、排気速度を落とすとともに、ガス導入管411から
Arガスを導入して、真空室402内の真空度を例えば
約0.8Paにする。そして、対向電極用キャン406
をアノード、バッキングプレート408をカソードとし
て約3000Vの電圧を印加し、約1.4Aの電流が流
れる状態を保つようにする。そして、この電圧の印加に
より、Arガスがプラズマ化し、電離されたイオンがタ
ーゲット407に衝突することにより、ターゲット40
7の原子がはじき出される。このとき、バッキングプレ
ート408の裏側にはマグネット409が配設されてお
り、ターゲット407の近傍に磁場が形成されるので、
電離されたイオンはターゲヅト407の近傍に集中され
ることになる。そして、このターゲット407からはじ
き出された原子が、非磁性支持体1に付着して、パック
層7が形成される。
In this sputtering film forming apparatus, the vacuum pump 4
After decompressing the inside of the vacuum chamber 402 to about 10 −4 Pa by 01, the exhaust rate is reduced by narrowing the angle of the valve 403, and at the same time Ar gas is introduced from the gas introduction pipe 411, whereby the vacuum chamber 402 The degree of vacuum inside is set to about 0.8 Pa, for example. Then, the counter electrode can 406
Is applied as an anode and a backing plate 408 is used as a cathode, and a voltage of about 3000 V is applied to keep a current of about 1.4 A flowing. Then, by applying this voltage, Ar gas is turned into plasma, and the ionized ions collide with the target 407, so that the target 40
7 atoms are kicked out. At this time, since the magnet 409 is arranged on the back side of the backing plate 408 and a magnetic field is formed in the vicinity of the target 407,
The ionized ions are concentrated near the target 407. Then, the atoms ejected from the target 407 adhere to the nonmagnetic support 1 to form the pack layer 7.

【0061】潤滑剤層形成用の気化成膜装置 図5には、非磁性支持体1上に形成した保護膜5の表面
をアミン化処理し、さらに潤滑剤層9を形成する際に用
いた気化成膜装置の構成図を示す。
Vaporization Film Forming Device for Forming Lubricant Layer In FIG. 5, the surface of the protective film 5 formed on the non-magnetic support 1 was subjected to an amination treatment, and was used for forming a lubricant layer 9. The block diagram of a vaporization film-forming apparatus is shown.

【0062】この気化成膜装置は、図3を用いて説明し
たCVD成膜装置と同様に、バルブ501aを介して真
空ポンプ501が設けられた真空室502、この真空室
502内に設けられた送りロール503、巻取りロール
504、対向電極用キャン506、およびガイドロール
507,508が設けられている。
This vapor deposition film forming apparatus is, like the CVD film forming apparatus described with reference to FIG. 3, a vacuum chamber 502 provided with a vacuum pump 501 via a valve 501a, and is provided in this vacuum chamber 502. A feed roll 503, a winding roll 504, a counter electrode can 506, and guide rolls 507 and 508 are provided.

【0063】また、真空室502内には、ガイドロール
507から対向電極用キャン506までの間の非磁性支
持体1の走行経路を覆う状態で、放電管509が設けら
れている。この放電管509の側壁には、真空室502
の壁面を貫通させたガス導入管510が接続されてお
り、このガス導入管510から窒素ガス(N2)が供給
されるようになっている。またこの放電管509の内周
壁は、金属メッシュ等よりなる電極511が取り付けら
れている。この電極511は、外部に配設されたDC電
源512と接続され、電圧が印加されるようになってい
る。
In the vacuum chamber 502, a discharge tube 509 is provided so as to cover the traveling path of the non-magnetic support 1 between the guide roll 507 and the counter electrode can 506. A vacuum chamber 502 is provided on the side wall of the discharge tube 509.
A gas introduction pipe 510 penetrating the wall surface of is connected, and nitrogen gas (N 2 ) is supplied from the gas introduction pipe 510. An electrode 511 made of metal mesh or the like is attached to the inner peripheral wall of the discharge tube 509. The electrode 511 is connected to a DC power supply 512 arranged outside and a voltage is applied.

【0064】さらに、真空室502内には、対向電極用
キャン506側に一端側を開放させた状態で、ホウケイ
酸ガラス、プラスチック等よりなる反応管513が設け
られている。この反応管513は、他方の端部が真空室
502の側壁を貫通しており、この端部から成膜ガスが
反応管513内に導入されるようになっている。また、
この反応管513内の中途部には、金属メッシュ等より
なる電極514が取り付けられている。この電極514
は、外部に配設されたDC電源515と接続されており
電圧が印加されるようになっている。
Further, in the vacuum chamber 502, a reaction tube 513 made of borosilicate glass, plastic or the like is provided with one end side opened to the counter electrode can 506 side. The other end of the reaction tube 513 penetrates the side wall of the vacuum chamber 502, and the film forming gas is introduced into the reaction tube 513 from this end. Also,
An electrode 514 made of a metal mesh or the like is attached to the middle of the reaction tube 513. This electrode 514
Is connected to a DC power source 515 arranged outside and a voltage is applied.

【0065】またさらに、真空室502内における、非
磁性支持体1の走行方向の反応管513よりも下流側に
は、対向電極用キャン506側に対向させて潤滑剤を噴
霧するための噴霧器516が設けられている。この噴霧
器516には、ガス導入管517が接続され、このガス
導入管517の周囲には加熱ヒータ518が設けられて
いる。また、このガス導入管517は、真空室502の
底部を貫通して気化器519に接続され、この気化器5
19には液体供給管520とキャリアガス供給管521
とが接続されている。そして、ガス供給管517、液体
供給管520、キャリアガス供給管521には、それぞ
れマスフローコントローラ522,523,524が配
置され、それぞれの管内の流量が制御されるように構成
されている。
Furthermore, in the vacuum chamber 502, on the downstream side of the reaction tube 513 in the traveling direction of the non-magnetic support 1, a sprayer 516 for facing the counter electrode can 506 and spraying a lubricant is provided. Is provided. A gas introduction pipe 517 is connected to the atomizer 516, and a heater 518 is provided around the gas introduction pipe 517. The gas introducing pipe 517 penetrates the bottom of the vacuum chamber 502 and is connected to the vaporizer 519.
19 is a liquid supply pipe 520 and a carrier gas supply pipe 521.
And are connected. Then, mass flow controllers 522, 523, and 524 are arranged in the gas supply pipe 517, the liquid supply pipe 520, and the carrier gas supply pipe 521, respectively, and the flow rates in the respective pipes are controlled.

【0066】また、液体供給管520の端部は、貯留槽
525内における加熱によって液化された潤滑剤L中に
挿入され、貯留槽525内に供給されるガス圧によって
潤滑剤Lが気化器525に送り込まれるように構成され
ている。また、噴霧器516と対向電極用キャン506
との間には、噴霧器516からの噴霧を制御するシャッ
タ526が設けられている。
The end of the liquid supply pipe 520 is inserted into the lubricant L liquefied by heating in the storage tank 525, and the lubricant L is vaporized by the vaporizer 525 by the gas pressure supplied into the storage tank 525. Is configured to be sent to. In addition, the sprayer 516 and the counter electrode can 506.
A shutter 526 for controlling spraying from the sprayer 516 is provided between the and.

【0067】このような気化成膜装置では、電極511
に電圧が印加されることで放電管509内に供給された
窒素ガスがイオン化し、この窒素イオンによって非磁性
支持体1(保護膜7)の表面がボンバードされ、保護膜
7の表面がアミン化処理される。さらに、電極514に
電圧が印加されることで、電極514と対向電極用キャ
ン506との間にグロー放電が生じる。そして、反応管
513内に導入された成膜ガスが、このグロー放電によ
って分解し、非磁性支持体1上のアミン化処理表面5a
に被着される。このため、成膜ガスとして、窒素を含有
するガスさらには従来保護膜の成膜用として用いられて
いたガスを供給することで、アミン化処理表面5aに窒
化膜が形成され、最終的にはこの窒化膜表面がアミン化
処理表面5aとなる。
In such a vapor deposition film forming apparatus, the electrode 511 is used.
The nitrogen gas supplied into the discharge tube 509 is ionized by applying a voltage to the surface of the non-magnetic support 1 (protective film 7) is bombarded by the nitrogen ions, and the surface of the protective film 7 is aminated. It is processed. Further, when a voltage is applied to the electrode 514, glow discharge occurs between the electrode 514 and the counter electrode can 506. Then, the film-forming gas introduced into the reaction tube 513 is decomposed by this glow discharge, and the amination-treated surface 5a on the non-magnetic support 1 is decomposed.
Be attached to. Therefore, by supplying a gas containing nitrogen as a film forming gas or a gas conventionally used for forming a protective film, a nitride film is formed on the amination-treated surface 5a, and finally a film is formed. This nitride film surface becomes the amination-treated surface 5a.

【0068】尚、電極514には電圧を印加せず、電極
511のみに電圧を印加した場合には、ボンバーと処理
のみによるアミン化処理が行われる。一方、電極511
には電圧を印加せず、電極514のみに電圧を印加した
場合には、窒化膜の形成のみによるアミン化処理が行わ
れる。
When no voltage is applied to the electrode 514 and only the electrode 511 is applied, the amination treatment is performed only by the bomber and the treatment. On the other hand, the electrode 511
If no voltage is applied to the electrode 514 but only to the electrode 514, the amination treatment is performed only by forming the nitride film.

【0069】また、貯留槽525から液化された潤滑剤
Lを気化器519に供給することによって潤滑剤Lが気
化され、気化された潤滑剤Lはキャリアガス供給管52
1から供給されたキャリアガスと共にガス導入管517
から真空室502内に導入され、噴霧器516によって
非磁性支持体1(アミン化処理表面5a)に噴霧されて
潤滑剤層9が形成される。
Further, the lubricant L liquefied from the storage tank 525 is supplied to the vaporizer 519 to vaporize the lubricant L, and the vaporized lubricant L is supplied to the carrier gas supply pipe 52.
Gas introduction pipe 517 together with the carrier gas supplied from No. 1
Is introduced into the vacuum chamber 502 from the above and is sprayed onto the non-magnetic support 1 (amination-treated surface 5a) by the sprayer 516 to form the lubricant layer 9.

【0070】<磁気記録媒体の製造手順>次に、各実施
形態および比較例の評価サンプルである各磁気記録媒体
の製造手順を説明する。
<Manufacturing Procedure of Magnetic Recording Medium> Next, a manufacturing procedure of each magnetic recording medium which is an evaluation sample of each embodiment and comparative example will be described.

【0071】先ず、非磁性支持体1として、ポリエチレ
ンナフタレート(4.5μm厚、150mm幅)を用意
した。
First, as the non-magnetic support 1, polyethylene naphthalate (4.5 μm thick, 150 mm wide) was prepared.

【0072】そして、図2を用いて説明した蒸着成膜装
置を用い、非磁性支持基体1上に、Co単層膜からなる
強磁性金属薄膜を磁性層3として蒸着成膜した。磁性層
3の蒸着成膜の条件は、次の通りである。 インゴット:Co100wt% 電子線入射角:45°〜10° 導入ガス:酸素ガス 酸素導入量:2.8×10-63/sec 蒸着時真空度:2×10-2Pa 磁性層の膜厚:60nm
Then, a ferromagnetic metal thin film made of a Co single layer film was deposited as the magnetic layer 3 on the non-magnetic support substrate 1 by using the deposition film forming apparatus described with reference to FIG. The conditions for vapor deposition of the magnetic layer 3 are as follows. Ingot: Co 100 wt% Electron beam incident angle: 45 ° to 10 ° Introduced gas: Oxygen gas Oxygen introduced amount: 2.8 × 10 −6 m 3 / sec Vacuum degree during deposition: 2 × 10 −2 Pa Film thickness of magnetic layer : 60 nm

【0073】次いで、図3を用いて説明したCVD装置
を用いて、非磁性支持体1上に磁性層3を介してカーボ
ン(ダイヤモンド状カーボン)保護層5を形成した。C
VD成膜条件は以下の通りである。 反応ガス:トルエン 反応ガス圧:10Pa 導入電力:DCl.5kV カーボン保護層の膜厚:10nm
Next, the carbon (diamond-like carbon) protective layer 5 was formed on the non-magnetic support 1 via the magnetic layer 3 by using the CVD apparatus described with reference to FIG. C
The VD film forming conditions are as follows. Reaction gas: Toluene Reaction gas pressure: 10 Pa Electric power introduced: DCl. 5 kV carbon protective layer film thickness: 10 nm

【0074】その後、図4を用いて説明したスパッタ成
膜装置を用いて、磁性層3および保護膜5が形成された
非磁性支持体1の裏面側に、カーボンからなるバック層
7を形成した。スパッタ成膜条件は以下の通りである。 ターゲット:カーボン スパッタガス:Ar(アルゴン)
After that, the back layer 7 made of carbon was formed on the back surface side of the non-magnetic support 1 on which the magnetic layer 3 and the protective film 5 were formed, using the sputtering film forming apparatus described with reference to FIG. . The sputtering film formation conditions are as follows. Target: Carbon Sputter gas: Ar (Argon)

【0075】以上の後、図5を用いて説明した気化成膜
装置を用いて、保護膜5の表面にアミン化処理を施し、
さらにアミン化処理表面上に潤滑剤層9を形成した。潤
滑剤Lには、パーフルオロポリエーテル(登録商標名;
FONBLIN)Z−DOLを使用した。尚、アミン化
処理は、窒素ボンバード処理のみを行った場合と、窒素
ガスとエチレンガスとを反応ガスとしたCVD法によっ
て窒化膜を形成した場合との2通り行った。また、アミ
ン化処理も含む一連の気化成膜処理の処理条件は、下記
表1に示す。
After that, the surface of the protective film 5 is subjected to an amination treatment by using the vaporization film forming apparatus described with reference to FIG.
Further, a lubricant layer 9 was formed on the amination-treated surface. The lubricant L includes perfluoropolyether (registered trademark name;
FONBLIN) Z-DOL was used. The amination treatment was carried out in two ways, that is, only the nitrogen bombardment treatment was performed, and that the nitride film was formed by the CVD method using nitrogen gas and ethylene gas as reaction gases. Table 1 below shows the processing conditions of a series of vaporization film-forming processes including the amination process.

【0076】[0076]

【表1】 [Table 1]

【0077】以上のようにして、非磁性支持基体1上に
磁性層3、保護層5、バック層7および潤滑剤層9が形
成されたテープ原反を6.35mm幅に裁断し、これに
よってテープ状の磁気記録媒体10を作製した。各磁気
記録媒体10の全厚は、5μm以下となった。
As described above, the raw tape having the magnetic layer 3, the protective layer 5, the back layer 7 and the lubricant layer 9 formed on the non-magnetic supporting substrate 1 was cut into a width of 6.35 mm. A tape-shaped magnetic recording medium 10 was produced. The total thickness of each magnetic recording medium 10 was 5 μm or less.

【0078】<評価方法および評価結果>以上のように
して得られた実施例1〜10および比較例1〜9の磁気
記録媒体10(すなわち評価サンプル)について、潤滑
剤の被覆率、磁化劣化率、動摩擦係数、耐久性の測定を
行なった。
<Evaluation Method and Evaluation Results> With respect to the magnetic recording media 10 of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 9 (that is, evaluation samples) obtained as described above, the coverage of the lubricant and the magnetization deterioration rate. The dynamic friction coefficient and durability were measured.

【0079】潤滑剤の被覆率 SHIMADZU製のSPM(Scanning Probe Microsc
ope)9500−J2を用いた。コンタクトモードで探
針がサンプルから離れる瞬間に探針とサンプル表面との
間に働くメニスカス力を吸着力と定義し、測定環境中の
表面吸着水の影響を無視するためにグローブボックス内
で30分真空に引いた後、真空中で吸着力の面内マッピ
ングを行い、その値のばらつき(吸着力標準偏差)を被
覆率として表1に示した。このため、表1の被覆率が小
さいほど均一に吸着しているということになり、被覆率
が大きいほど均一性が低いことになる。
Lubricant coverage SPM (Scanning Probe Microsc) manufactured by SHIMADZU
ope) 9500-J2 was used. In the contact mode, the meniscus force acting between the tip and the sample surface at the moment when the tip leaves the sample is defined as the adsorption force, and it takes 30 minutes in the glove box to ignore the influence of surface adsorbed water in the measurement environment. After the vacuum was drawn, in-plane mapping of the adsorption force was performed in the vacuum, and the variation in the value (standard deviation of the adsorption force) is shown in Table 1 as the coverage. Therefore, the smaller the coverage rate in Table 1, the more uniformly adsorbed, and the larger the coverage rate, the lower the uniformity.

【0080】磁化劣化率 SO2ガス1ppm、50℃、80%RH雰囲気中に1
0時間保存し、その前後の磁化劣化率で評価した。この
値が5%以内が使用に耐え得るものとした。
Magnetization deterioration rate 1 ppm in SO 2 gas, 50 ° C., 80% RH atmosphere
It was stored for 0 hours and evaluated by the magnetization deterioration rate before and after that. If this value is within 5%, it can be used.

【0081】動摩擦係数 評価サンプルを直径2.0mmのSUS製のガイドに対
して抱き角90°で100回摺動させたときの、摺動1
回目の動摩擦係数と100回目の動摩擦係数とを測定し
た。
Dynamic friction coefficient Sliding 1 when the evaluation sample was slid 100 times at an included angle of 90 ° with respect to a SUS guide having a diameter of 2.0 mm.
The dynamic friction coefficient at the 100th time and the dynamic friction coefficient at the 100th time were measured.

【0082】耐久性 MRヘッドを搭載した市販のソニー製デジタルビデオ
(VX−1000)を改造したものをデッキとして用
い、出力をモニタリングしながら走行させてシャトル耐
久性を測定した。この際、室温中で評価サンプルのテー
プ全長を繰り返し(100pass)走行させ、初期の出力
をA、100pass走行中での最も低い出力をBとし、レ
ベルダウン値として−20×log(A/B)〔dB〕
として定義した。そして、レベルダウン値が0〜−2.
0〔dB〕である場合を耐久性が非常に高い(○)、レ
ベルダウン値が−2.1〜−3.9〔dB〕である場合
を耐久性がやや高い(△)、レベルダウン値が−4.0
〔dB〕以下である場合を耐久性が低い(×)として表
1に示した。
Durability A commercially available Sony digital video (VX-1000) equipped with an MR head was modified and used as a deck, and the shuttle durability was measured by running while monitoring the output. At this time, the entire tape length of the evaluation sample was repeatedly run (100 pass) at room temperature, the initial output was A, the lowest output during 100 pass running was B, and the level-down value was -20 x log (A / B). [DB]
Defined as The level down value is 0 to -2.
When the level is 0 [dB], the durability is extremely high (○), and when the level down value is −2.1 to −3.9 [dB], the durability is slightly high (Δ), the level down value. Is -4.0
Table 1 shows that the durability is low (x) when it is less than [dB].

【0083】以上の結果から明らかなように、実施例1
〜実施例10においては、真空雰囲気中でのアミン化処
理に連続して潤滑剤層9の形成が真空雰囲気中において
行われ、かつ潤滑剤量が0.1mg/m2〜100mg
/m2以下に保たれており、潤滑剤層9の被覆率のばら
つきが0.1以下と小さく、潤滑剤層9が均一に成膜さ
れていることが確認された。また、これにより、磁化劣
化率も5%以下の許容範囲内に抑えられており、動摩擦
係数も小さく、耐久性も良好であることが確認された。
As is clear from the above results, Example 1
-In Example 10 , the formation of the lubricant layer 9 was performed in a vacuum atmosphere following the amination treatment in a vacuum atmosphere, and the amount of lubricant was 0.1 mg / m < 2 > -100 mg.
/ M 2 or less, the variation in the coverage of the lubricant layer 9 was as small as 0.1 or less, and it was confirmed that the lubricant layer 9 was uniformly formed. It was also confirmed that the magnetization deterioration rate was suppressed to within the allowable range of 5% or less, the dynamic friction coefficient was small, and the durability was good.

【0084】一方、潤滑剤層9の真空成膜時に、キャリ
アガスとして酸素ガス(O2)を用いた比較例1におい
ては、成膜時に酸素と潤滑剤とが反応し、潤滑剤層9中
における潤滑剤の特性を維持することができなかった。
このため、防錆効果を得ることができずに磁化劣化率が
14%と高く、シャトル耐久性も低かった。
On the other hand, in Comparative Example 1 in which oxygen gas (O 2 ) was used as the carrier gas during the vacuum film formation of the lubricant layer 9, oxygen and the lubricant reacted during film formation, and Could not maintain the properties of the lubricant in.
For this reason, the rust prevention effect could not be obtained, the magnetization deterioration rate was as high as 14%, and the shuttle durability was also low.

【0085】また、潤滑剤層9の真空成膜の前処理とし
てアミン化処理を行わなかった比較例2においては、潤
滑剤9と下地との密着性が得られずに耐久性が低く、磁
化裂果率も8%と高かった。
Further, in Comparative Example 2 in which the amination treatment was not performed as the pretreatment for the vacuum film formation of the lubricant layer 9, the adhesiveness between the lubricant 9 and the base was not obtained, and the durability was low and the magnetization The fruit cracking rate was as high as 8%.

【0086】さらに、潤滑剤層9を真空雰囲気で形成す
る際の成膜雰囲気の圧力が15Paと高かった比較例3
においては、単位面積当たりの潤滑剤量が0.04mg
/m 2と少なく、十分な潤滑剤層9の形成を行うことが
できず、磁化劣化率、動摩擦係数共に高く、シャトル耐
久性も低かった。
Further, the lubricant layer 9 is formed in a vacuum atmosphere.
At that time, the pressure of the film forming atmosphere was as high as 15 Pa.Comparative Example 3
, The amount of lubricant per unit area is 0.04 mg
/ M 2And a sufficient amount of lubricant layer 9 can be formed.
Not possible, both the magnetization deterioration rate and the dynamic friction coefficient are high, and the shuttle resistance is high.
His longevity was low.

【0087】そして、潤滑剤層9を形成する際の潤滑剤
の加熱温度が90℃と低かった比較例4では、潤滑剤を
気化させることができず、潤滑剤層9を形成することが
できなかった。
In Comparative Example 4 in which the heating temperature of the lubricant when forming the lubricant layer 9 was as low as 90 ° C., the lubricant could not be vaporized and the lubricant layer 9 could be formed. There wasn't.

【0088】また、潤滑剤層9を形成する際の潤滑剤の
加熱温度が360℃と高かった比較例5では、加熱温度
が高すぎて潤滑剤の分解が発生し、潤滑剤層9中におけ
る潤滑剤の特性を維持することができず、これにより磁
化劣化率および動摩擦係数を抑えることができず、シャ
トル耐久性も十分ではなかった。
Further, in Comparative Example 5 in which the heating temperature of the lubricant when forming the lubricant layer 9 was as high as 360 ° C., the heating temperature was too high and decomposition of the lubricant occurred, so that the lubricant layer 9 The properties of the lubricant could not be maintained, the rate of magnetic deterioration and the coefficient of dynamic friction could not be suppressed, and the shuttle durability was not sufficient.

【0089】さらに、気化させた潤滑剤を成膜雰囲気中
に導入する際の経路となる配管の加熱温度が95℃と低
かった比較例6では、潤滑剤が配管内で析出してしま
い、潤滑剤層9を形成することができなかった。
Further, in Comparative Example 6 in which the heating temperature of the pipe, which serves as a path for introducing the vaporized lubricant into the film-forming atmosphere, was as low as 95 ° C., the lubricant was precipitated in the pipe, and The agent layer 9 could not be formed.

【0090】そして、配管加熱温度が360℃と高かっ
比較例7では、加熱温度が高すぎて潤滑剤の分解が発
生し、潤滑剤層9中における潤滑剤の特性を維持するこ
とができず、これにより磁化劣化率および動摩擦係数を
抑えることができず、シャトル耐久性も十分ではなかっ
た。
In Comparative Example 7 in which the pipe heating temperature was as high as 360 ° C., the heating temperature was too high and the lubricant decomposed, and the characteristics of the lubricant in the lubricant layer 9 could not be maintained. As a result, the magnetization deterioration rate and the dynamic friction coefficient could not be suppressed, and the shuttle durability was not sufficient.

【0091】また、潤滑剤層9を真空雰囲気で形成する
際の成膜雰囲気の圧力が5×10-6Paと低かった比較
例8においては、単位面積当たりの潤滑剤量が0.02
mg/m2と少なく十分な潤滑剤層9の形成を行うこと
ができず、磁化劣化率、動摩擦係数共に高くシャトル耐
久性も低かった。
[0091] The comparison pressure in the deposition atmosphere during the formation of the lubricant layer 9 in a vacuum atmosphere was as low as 5 × 10 -6 Pa
In Example 8 , the amount of lubricant per unit area is 0.02
Since the lubricant layer 9 was as small as mg / m 2 , the lubricant layer 9 could not be formed sufficiently, and the magnetization deterioration rate and the dynamic friction coefficient were both high, and the shuttle durability was also low.

【0092】さらに、潤滑剤層9を塗布によって形成し
比較例9においては、被覆率のばらつきが0.28と
大きく、これにより防錆効果を得ることができず、磁化
劣化率が22%と大きかった。また動摩擦係数も大きか
った。
Furthermore, in Comparative Example 9 in which the lubricant layer 9 was formed by coating, the variation in the coverage was as large as 0.28, which made it impossible to obtain the rust preventive effect and the magnetization deterioration rate was 22%. It was great. The dynamic friction coefficient was also large.

【0093】そして以上の結果から、潤滑剤層9の形成
条件のうち、潤滑剤の気化温度および、気化させた潤滑
剤を成膜雰囲気中に導入する際の経路となる配管温度、
さらには成膜雰囲気中の圧力(真空度)の好適な範囲
は、次のように設定される。
From the above results, among the forming conditions of the lubricant layer 9, the vaporization temperature of the lubricant and the pipe temperature which becomes a route when introducing the vaporized lubricant into the film forming atmosphere,
Furthermore, a suitable range of the pressure (vacuum degree) in the film forming atmosphere is set as follows.

【0094】すなわち、潤滑剤の気化温度の上限は、実
施例1と比較例5との比較から350℃が好ましい。さ
らに、潤滑剤の気化温度の下限は、実施例4と比較例4
との比較から100℃が好ましい。このように、潤滑剤
の気化温度を100℃〜350℃の範囲に設定すること
で、潤滑剤を分解することなく気化させて潤滑剤層を形
成することが可能になる。
That is, the upper limit of the vaporization temperature of the lubricant is preferably 350 ° C. from the comparison between Example 1 and Comparative Example 5. Furthermore, the lower limit of the vaporization temperature of the lubricant is set in Example 4 and Comparative Example 4
From the comparison with, 100 ° C. is preferable. In this way, by setting the vaporization temperature of the lubricant within the range of 100 ° C. to 350 ° C., it becomes possible to vaporize the lubricant without decomposing it and form the lubricant layer.

【0095】また、配管加熱温度の上限は、実施例3と
比較例7との比較から350℃が好ましい。さらに、配
管加熱温度の下限は、実施例7と比較例6の配管加熱温
度から、100℃が好ましい。このように、配管加熱温
度の気化温度を100℃〜350℃の範囲に設定するこ
とで、潤滑剤を配管中で分解することなくかつ配管中に
析出させることなく成膜雰囲気内に供給して潤滑剤層の
形成を行うことが可能になる。
From the comparison between Example 3 and Comparative Example 7, the upper limit of the pipe heating temperature is preferably 350 ° C. Furthermore, the lower limit of the pipe heating temperature is preferably 100 ° C. from the pipe heating temperatures of Example 7 and Comparative Example 6. Thus, by setting the vaporization temperature of the pipe heating temperature in the range of 100 ° C. to 350 ° C., the lubricant is supplied into the film forming atmosphere without decomposing in the pipe and precipitating in the pipe. It becomes possible to form a lubricant layer.

【0096】そして、潤滑剤層を形成する際の成膜雰囲
気の圧力の上限は、実施例8と比較例3との比較から、
10Paが好ましい。さらに、成膜雰囲気の圧力の下限
は、実施例10と比較例8との比較から10-5Paが好
ましい。このように成膜雰囲気の圧力を10Pa〜10
-5Paの範囲に設定することで、十分な量の潤滑剤を供
給した潤滑剤層の形成を行うことができると共に、被覆
率が0.1以下に均一化された潤滑剤層を得ることがで
きる。
From the comparison between Example 8 and Comparative Example 3, the upper limit of the pressure of the film forming atmosphere when the lubricant layer is formed is
10 Pa is preferable. Further, from the comparison between Example 10 and Comparative Example 8, the lower limit of the pressure of the film forming atmosphere is preferably 10 −5 Pa. In this way, the pressure of the film forming atmosphere is 10 Pa to 10 Pa.
By setting the pressure in the range of -5 Pa, it is possible to form a lubricant layer to which a sufficient amount of lubricant has been supplied, and to obtain a lubricant layer having a uniform coverage of 0.1 or less. You can

【0097】また、潤滑剤層の単位面積当たりの潤滑剤
量は、実施例4と実施例5とから0.1mg/m2〜1
00mg/m2が好ましい。尚、潤滑剤量のさらに好ま
しい範囲としては、シャトル耐久性の値から実施例9の
20mg/m2が上限となり、動摩擦係数の値から実施
例2の0.50mg/m2が下限となる。
The amount of lubricant per unit area of the lubricant layer was 0.1 mg / m 2 to 1 from Example 4 and Example 5.
00 mg / m 2 is preferred. As a more preferable range of the amount of lubricant, the upper limit is 20 mg / m 2 of Example 9 from the value of shuttle durability, and the lower limit is 0.50 mg / m 2 of Example 2 from the value of dynamic friction coefficient.

【0098】[0098]

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気記録媒
体の製造方法によれば、潤滑剤層の形成を真空雰囲気下
で行う構成としたことで、成膜表面における吸着水分の
影響を受けることなく均一で、かつ異物付着のない潤滑
剤層を得ることができる。これにより、高温・高湿下、
および腐食性雰囲気中での防錆効果に優れ、かつ走行安
定性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。また、
潤滑剤層の形成の前処理として同一雰囲気内においてア
ミン化処理を行うことで、潤滑剤の表面吸着量・吸着力
を確実に高めることが可能になり、繰り返し走行におけ
る潤滑剤層の剥離が起きないため、耐久性・信頼性に優
れた高密度磁気記録媒体を得ることができる。以上の結
果、MRヘッドの使用を前提とした高密度な磁気記録媒
体の実現が可能になる。
As described above, according to the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, since the lubricant layer is formed in a vacuum atmosphere, it is affected by the adsorbed moisture on the film-forming surface. It is possible to obtain a lubricant layer that is uniform and has no foreign matter attached. As a result, under high temperature and high humidity,
Further, it is possible to obtain a magnetic recording medium having an excellent rust preventive effect in a corrosive atmosphere and excellent running stability. Also,
By performing the amination treatment in the same atmosphere as the pretreatment for the formation of the lubricant layer, it is possible to reliably increase the surface adsorption amount / adsorption force of the lubricant, and the lubricant layer peels off during repeated running. Therefore, a high density magnetic recording medium having excellent durability and reliability can be obtained. As a result, it is possible to realize a high-density magnetic recording medium on the assumption that the MR head is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明により得られる磁気記録媒体の概略断面
図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a magnetic recording medium obtained by the present invention.

【図2】磁性層を形成する際に用いた蒸着装置を示す摸
式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a vapor deposition apparatus used when forming a magnetic layer.

【図3】保護膜を形成する際に用いたCVD装置を示す
摸式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a CVD apparatus used when forming a protective film.

【図4】バック層を形成する際に用いたスパッタ装置を
示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a sputtering apparatus used when forming a back layer.

【図5】潤滑剤層を形成する際に用いた気化成膜装置を
示す摸式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a vaporization film forming apparatus used when forming a lubricant layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…非磁性支持体、3…磁性層、5…保護膜、5a…ア
ミン化処理表面、9…潤滑剤層、10…磁気記録媒体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Nonmagnetic support, 3 ... Magnetic layer, 5 ... Protective film, 5a ... Amination-treated surface, 9 ... Lubricant layer, 10 ... Magnetic recording medium

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野寺 誠一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D006 AA01 AA05 AA06 EA03 FA01 FA02 FA05 5D112 AA07 AA22 BC06 FA02 FA04 FA09 FB08 FB12    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Seiichi Onodera             6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni             -Inside the corporation F term (reference) 5D006 AA01 AA05 AA06 EA03 FA01                       FA02 FA05                 5D112 AA07 AA22 BC06 FA02 FA04                       FA09 FB08 FB12

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性支持体上に磁性層を介して保護膜
を形成し、この保護膜上に潤滑剤層を形成する磁気記録
媒体の製造方法において、 前記潤滑剤層の形成は、真空雰囲気中において気化させ
た潤滑剤をキャリアガスとともに噴霧することによって
行われることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein a protective film is formed on a non-magnetic support via a magnetic layer, and a lubricant layer is formed on the protective film. A method of manufacturing a magnetic recording medium, which is performed by spraying a lubricant vaporized in an atmosphere together with a carrier gas.
【請求項2】 請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法
において、 前記潤滑剤は、加熱によって液化させた潤滑剤に超音波
振動を与えるか、または加熱によって気化されることを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the lubricant imparts ultrasonic vibration to the lubricant liquefied by heating or is vaporized by heating. Recording medium manufacturing method.
【請求項3】 請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法
において、 前記潤滑剤層は、単位面積当たりの潤滑剤量が0.1m
g/m2〜100mg/m2の範囲で形成されることを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the lubricant layer has an amount of lubricant of 0.1 m per unit area.
method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that it is formed in a range of g / m 2 ~100mg / m 2 .
【請求項4】 請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法
において、 前記潤滑剤層は、アミン化処理された表面上に形成され
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
4. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the lubricant layer is formed on an amination-treated surface.
【請求項5】 請求項4記載の磁気記録媒体の製造方法
において、 前記アミン化処理は、真空雰囲気内で行われ前記潤滑剤
層の形成は、前記アミン化処理された表面を大気に晒す
ことなく、当該アミン化処理に連続して行われることを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
5. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 4, wherein the amination treatment is performed in a vacuum atmosphere and the lubricant layer is formed by exposing the amination-treated surface to the atmosphere. A method for producing a magnetic recording medium, characterized in that the amination treatment is continuously performed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7224544B2 (en) 2003-11-10 2007-05-29 Sony Corporation Method and device for recording data and erasing servo data

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