JPH103650A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPH103650A
JPH103650A JP8154415A JP15441596A JPH103650A JP H103650 A JPH103650 A JP H103650A JP 8154415 A JP8154415 A JP 8154415A JP 15441596 A JP15441596 A JP 15441596A JP H103650 A JPH103650 A JP H103650A
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JP
Japan
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recording medium
magnetic recording
protective film
magnetic
fluorine
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JP8154415A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Kawana
隆宏 川名
Takao Mori
敬郎 森
Ryoichi Hiratsuka
亮一 平塚
Seiichi Onodera
誠一 小野寺
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH103650A publication Critical patent/JPH103650A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the weatherability and reliability of a magnetic recording medium and to enable the long-term preservation of the magnetic recording medium by reforming the surface of a protective film by the plasma of silicon and fluorine and forming silicon-fluorine on the surface. SOLUTION: The magnetic recording medium 10 is formed with a magnetic layer 2 by a physical vapor growth PVD technique for evaporating ferromagnetic metallic materials, such as Fe and Co, by heating under vacuum to directly deposit this materials on one surface of a base film 1. The surface thereof is provided with the protective film 3 consisting of a gaseous mixture composed of gaseous siloxane and gaseous hydrogen carbonate as a raw material. Next, the surface thereof is subjected to the reforming of the surface of the protective film 3 by the plasma obtd. by converting silicon and fluorine to plasma to form a reformed part 4. The opposite surface of the base film 1 is provided with a back coating layer. The siliconfluorine are formed on the surface of the protective film obtd. by reforming the surface of the protective film consisting essentially of carbon with the silicon and fluorine in such a manner, by which the weatherability and reliability of the magnetic recording medium are improved and the utilization to the magnetic recording medium requiring long-term preservation is made possible.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁性層上にカーボ
ン保護膜を形成してなる磁気記録媒体及びその製法に係
わる。
The present invention relates to a magnetic recording medium having a carbon protective film formed on a magnetic layer and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より磁気記録媒体として、非磁性支
持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末などの粉
末磁性材料を、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布し、こ
れを乾燥することにより作製される塗布型の磁気記録媒
体が広く使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, a powder magnetic material such as an oxide magnetic powder or an alloy magnetic powder has been coated on a non-magnetic support by a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a polyester resin, a urethane resin, or a polyurethane. 2. Description of the Related Art A coating type magnetic recording medium produced by applying a magnetic paint dispersed in an organic binder such as a resin and drying the same is widely used.

【0003】これに対して、高密度磁気記録への要求の
高まりと共に、Co−Ni合金、Co−Cr合金、Co
−O等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段
(真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティン
グ法等)によってポリエステルフィルムやポリアミド、
ポリイミドフィルムなどの非磁性支持体上に直接被着し
た、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案され
注目を集めている。
On the other hand, with the growing demand for high-density magnetic recording, Co-Ni alloys, Co-Cr alloys,
-O or the like, a metal magnetic material is subjected to plating or vacuum thin film forming means (vacuum vapor deposition method, sputtering method, ion plating method, etc.) to form a polyester film or polyamide,
A so-called metal magnetic thin film type magnetic recording medium directly attached on a non-magnetic support such as a polyimide film has been proposed and attracted attention.

【0004】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は抗磁
力や角形比に優れ、磁性層の厚みを極めて薄くできるた
め、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さく短波長
での電磁変換特性に優れるばかりでなく、磁性層中に非
磁性剤であるそのバインダーを混入する必要がないため
磁性材料の充填密度を高めることができることなど、数
々の利点を有している。即ち、金属磁性薄膜型の磁気記
録媒体は、磁気特性的な優位さ故に高密度磁気記録の主
流になると考えられる。
The magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type is excellent in coercive force and squareness, and has a very small thickness of the magnetic layer. In addition to this, there are many advantages such as the fact that there is no need to mix the binder, which is a nonmagnetic agent, into the magnetic layer, so that the packing density of the magnetic material can be increased. That is, the magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type is considered to be the mainstream of high-density magnetic recording due to its superior magnetic properties.

【0005】さらに、この種の磁気記録媒体の電磁変換
特性を向上させ、より大きな出力を得ることができるよ
うにするために、磁気記録媒体の磁性層を形成する際
に、磁性層を斜めに蒸着する、いわゆる斜方蒸着が提案
され実用化されている。
[0005] Further, in order to improve the electromagnetic conversion characteristics of this type of magnetic recording medium and to obtain a larger output, when forming the magnetic layer of the magnetic recording medium, the magnetic layer is inclined. The so-called oblique vapor deposition for vapor deposition has been proposed and put to practical use.

【0006】今後、さらなる高密度化の流れからスペー
シングロス損失をすくなくするため、記録媒体は平滑化
される傾向にある。記録媒体の平滑化に伴い磁気ヘッド
と記録媒体との間の摩擦力は増大し、記録媒体に生じる
せん断応力は大きくなる。このような摺動耐久性の要求
が厳しくなる状況の下で、この耐久性を向上させる目的
で磁性層表面に保護膜層を形成する技術の検討がなされ
てきた。
[0006] In the future, recording media tend to be smoothed in order to reduce spacing loss from the trend of higher density. With the smoothing of the recording medium, the frictional force between the magnetic head and the recording medium increases, and the shear stress generated on the recording medium increases. Under the situation where the demand for the sliding durability becomes strict, a technique for forming a protective film layer on the surface of the magnetic layer has been studied for the purpose of improving the durability.

【0007】このような保護膜としては、カーボン膜、
石英(SiO2 )膜、ジルコニア(ZrO2 )膜等が検
討され、ハードディスクにおいては実用化され生産され
ているものもある。特に最近はカーボン膜においても、
より硬質の膜である、いわゆるダイヤモンドライクカー
ボン(DLC)膜等の膜形成の検討も行われており、今
後、主流になると思われる保護膜である。このDLC膜
の形成方法には、スパッタリング法やCVD法が用いら
れている。
As such a protective film, a carbon film,
Quartz (SiO 2 ) films, zirconia (ZrO 2 ) films and the like have been studied, and some hard disks have been put to practical use and produced. Especially recently in carbon films,
The formation of a film such as a so-called diamond-like carbon (DLC) film, which is a harder film, has also been studied, and is a protective film that is expected to become mainstream in the future. As a method for forming the DLC film, a sputtering method or a CVD method is used.

【0008】スパッタリング法とは、まず電場や磁場を
利用してアルゴンガス等の不活性ガスの電離即ちプラズ
マ化を行う。さらに、電離されたアルゴンイオンを加速
することにより、その運動エネルギーによりターゲット
の原子をはじき出す。そして、そのはじき出された原子
が対向する基板上に堆積し、目的とする薄膜を形成する
物理的プロセスである。このプロセスによって形成した
DLC膜は、その形成速度が一般に遅いため、やや生産
性に劣る形成手段である。
In the sputtering method, first, an inert gas such as an argon gas is ionized, that is, turned into a plasma using an electric field or a magnetic field. Further, by accelerating the ionized argon ions, the atoms of the target are repelled by their kinetic energy. Then, the ejected atoms are deposited on the opposing substrate to form a target thin film. The DLC film formed by this process is a forming means slightly inferior in productivity because its formation speed is generally slow.

【0009】それに対し、CVD法は、電場や磁場を用
いて発生させたプラズマのエネルギーを利用して原料と
なる基体の分解、合成などの化学反応をさせて膜を形成
する化学的プロセスである。
On the other hand, the CVD method is a chemical process of forming a film by making a chemical reaction such as decomposition and synthesis of a base material as a raw material by using energy of plasma generated by using an electric or magnetic field. .

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法により形成されたカーボン膜により、摺動耐久性
は著しく向上する一方で、耐環境性、特に防食性に問題
が残されていた。高温多湿環境下やSO2 ガスなどの腐
食性雰囲気環境下においては、磁性層の酸化や硫化など
が進むことにより、その磁気特性が減少し、最悪の場合
には磁気記録媒体としての特性を消失してしまうことと
なる。従って、カーボン保護膜には耐摺動特性だけでな
く、耐環境性も求められている。
However, while the sliding durability is remarkably improved by the carbon film formed by these methods, a problem remains in the environmental resistance, particularly the corrosion resistance. In a high-temperature and high-humidity environment or in a corrosive atmosphere such as SO 2 gas, the magnetic properties of the magnetic layer decrease due to oxidation and sulfidation, and in the worst case, the properties as a magnetic recording medium are lost. Will be done. Therefore, the carbon protective film is required to have not only sliding resistance but also environmental resistance.

【0011】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、磁性層上に形成するカーボン保護膜の耐環境性
を向上させることにより、長期の保存に好適な磁気記録
媒体を提供するものである。
In order to solve the above problems, the present invention provides a magnetic recording medium suitable for long-term storage by improving the environmental resistance of a carbon protective film formed on a magnetic layer. is there.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録媒体
の磁性層上に形成した炭素を主成分とする保護膜の表面
をシリコン及びフッ素で改質した構成とする。
According to the present invention, a surface of a protective film containing carbon as a main component formed on a magnetic layer of a magnetic recording medium is modified with silicon and fluorine.

【0013】上述の本発明の構成によれば、保護膜の表
面がシリコン及びフッ素で改質されていることにより、
保護膜が防食性を有し、高温多湿環境下やSO2 ガスな
どの腐食性雰囲気環境下に対する保護膜の耐環境性を向
上させることができる。
According to the configuration of the present invention described above, since the surface of the protective film is modified with silicon and fluorine,
The protective film has anticorrosion properties, and can improve the environmental resistance of the protective film in a high-temperature and high-humidity environment or a corrosive atmosphere such as SO 2 gas.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の非磁性支持体の一面に磁
性層を有し磁性層の上に炭素を主成分とする保護膜が形
成されている磁気記録媒体において、保護膜の表面がシ
リコン及びフッ素で改質されてなる構成とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In a magnetic recording medium according to the present invention in which a magnetic layer is provided on one surface of a non-magnetic support and a protective film containing carbon as a main component is formed on the magnetic layer, It is configured to be modified with silicon and fluorine.

【0015】また本発明は、上記磁気記録媒体におい
て、保護膜の原料に炭素及びシリコンを含む構成とす
る。
Further, according to the present invention, in the above magnetic recording medium, carbon and silicon are contained in a material of the protective film.

【0016】また本発明は、上記磁気記録媒体におい
て、保護膜の原料として、炭化水素系の原料にシロキサ
ン系原料を混合したものを用いて、これにフッ素化合物
のプラズマガスで改質を行う構成とする。
Further, according to the present invention, in the above magnetic recording medium, as a material for the protective film, a mixture of a hydrocarbon-based material and a siloxane-based material is used, and the mixture is reformed with a fluorine compound plasma gas. And

【0017】また本発明は、上記磁気記録媒体におい
て、シロキサン原料がヘキサメチルジシロキサン、オク
タメチルシクロテトラシロキサンである構成とする。
Further, according to the present invention, in the above magnetic recording medium, the siloxane raw material is hexamethyldisiloxane or octamethylcyclotetrasiloxane.

【0018】また本発明は、上記磁気記録媒体におい
て、フッ素化合物がCF4 ,CHF3,SF6 ,N
3 ,BF3 ,C2 4 の内の少なくとも1種以上であ
る構成とする。
The present invention also provides the magnetic recording medium, wherein the fluorine compound is CF 4 , CHF 3 , SF 6 , N
The structure is at least one of F 3 , BF 3 , and C 2 F 4 .

【0019】以下、図面を参照して本発明の磁気記録媒
体及びその製法の実施例を説明する。図1に示す磁気記
録媒体10は、非磁性支持体としてのベースフィルム1
の一方の面に磁性層2が形成され、この磁性層2上に保
護膜3が形成されて磁性層2を保護し、ベースフィルム
1の磁性層2が形成された側と反対の側には、バックコ
ート層5が形成されてなる。そして、保護膜3の表面
が、シリコン及びフッ素により改質されて改質部4が形
成されてなる。
Hereinafter, embodiments of a magnetic recording medium of the present invention and a method of manufacturing the same will be described with reference to the drawings. The magnetic recording medium 10 shown in FIG. 1 has a base film 1 as a non-magnetic support.
A magnetic layer 2 is formed on one surface of the base film 1, and a protective film 3 is formed on the magnetic layer 2 to protect the magnetic layer 2. On the side of the base film 1 opposite to the side on which the magnetic layer 2 is formed, And the back coat layer 5 is formed. Then, the surface of the protective film 3 is modified by silicon and fluorine to form the modified portion 4.

【0020】上記ベースフィルム1上には、強磁性金属
材料を直接被着することにより金属磁性薄膜が磁性層2
として形成されているが、この金属磁性材料としては、
通常の蒸着テープに使用されているものであれば如何な
るものであっても良い。例示すれば、Fe,Co,Ni
等の強磁性金属、Fe−Co,Co−O,Fe−Co−
Ni,Fe−Cu,Co−Cu,Co−Au,Co−P
t,Mn−Bi,Mn−Al,Fe−Cr,Co−C
r,Ni−Cr,Fe−Co−Cr,Co−Ni−C
r,Fe−Co−Ni−Cr等の強磁性合金が挙げられ
る。これらの単層膜であってもよいし、多層膜であって
もよい。さらには、非磁性支持体と金属磁性薄膜間、あ
るいは多層膜の場合には、各層間の付着力向上、並びに
抗磁力の制御などのため、下地層又は中間層を設けても
よい。
A ferromagnetic metal material is directly applied on the base film 1 to form a metal magnetic thin film on the magnetic layer 2.
The metal magnetic material is formed as
Any material may be used as long as it is used for a normal evaporation tape. For example, Fe, Co, Ni
Ferromagnetic metals such as Fe-Co, Co-O, Fe-Co-
Ni, Fe-Cu, Co-Cu, Co-Au, Co-P
t, Mn-Bi, Mn-Al, Fe-Cr, Co-C
r, Ni-Cr, Fe-Co-Cr, Co-Ni-C
r, a ferromagnetic alloy such as Fe-Co-Ni-Cr. These may be a single-layer film or a multilayer film. Further, an underlayer or an intermediate layer may be provided between the nonmagnetic support and the metal magnetic thin film, or in the case of a multilayer film, to improve the adhesion between the layers and to control the coercive force.

【0021】磁性層2を構成する金属磁性薄膜の形成手
段としては、真空下で強磁性材料を加熱蒸発させ、非磁
性支持体上に沈着させる真空蒸着法や、強磁性金属材料
の蒸発を放電中で行うイオンプレーティング法、アルゴ
ンを主成分とする雰囲気中でグロー放電を起こし生じた
アルゴンイオンによりターゲット表面の原子をたたき出
すスパッタ法等、いわゆるPVD(物理的気相成長)技
術によればよい。
The means for forming the metal magnetic thin film constituting the magnetic layer 2 includes a vacuum evaporation method in which a ferromagnetic material is heated and evaporated under vacuum and deposited on a non-magnetic support, or a method in which the evaporation of the ferromagnetic metal material is performed by discharging. A so-called PVD (Physical Vapor Deposition) technique, such as an ion plating method performed in an atmosphere, a sputtering method in which glow discharge is caused in an atmosphere containing argon as a main component, and an atom on a target surface is beaten by argon ions generated. .

【0022】保護膜3は炭素を主成分とし、前述のよう
にスパッタリング法やCVD法により磁性層2上に形成
される。
The protective film 3 contains carbon as a main component, and is formed on the magnetic layer 2 by the sputtering method or the CVD method as described above.

【0023】保護膜3表面の改質は、シリコン及びフッ
素によってなされる。さらに好ましくは、あらかじめ保
護膜3の原料に炭素とシリコンを含ませておいて、これ
にフッ素を含有するガスにより表面改質を行うとよい。
この場合の保護膜3の原料としては、例えば、ヘキサメ
チルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン等のシロキサン系のガスや、炭化水素ガスとシロキサ
ン系のガスとを混合したものを用いることができる。
The surface of the protective film 3 is modified by silicon and fluorine. More preferably, carbon and silicon are contained in the raw material of the protective film 3 in advance, and the surface is modified by using a gas containing fluorine.
In this case, as a material of the protective film 3, for example, a siloxane-based gas such as hexamethyldisiloxane or octamethylcyclotetrasiloxane, or a mixture of a hydrocarbon gas and a siloxane-based gas can be used.

【0024】フッ素を含有するガスとしては、CF4
CHF3 ,SF6 ,NF3 ,BF3,C2 4 等を用い
ることができる。そして、フッ素を含有するガスを、例
えばプラズマ化して、このプラズマにより保護膜3表面
の改質を行うことができる。
Examples of the fluorine-containing gas include CF 4 ,
CHF 3 , SF 6 , NF 3 , BF 3 , C 2 F 4 and the like can be used. Then, the fluorine-containing gas is converted into, for example, plasma, and the surface of the protective film 3 can be modified by the plasma.

【0025】次に、図1の構成の磁気記録媒体10を実
際に作製して、各種特性の測定を行った。
Next, the magnetic recording medium 10 having the structure shown in FIG. 1 was actually manufactured, and various characteristics were measured.

【0026】(実施例1)まず、ベースフィルム1とし
て、10mmの厚さのPETフィルムを用意した。次
に、このベースフィルム1に、斜め蒸着によりCo100
の組成の磁性層2を、厚さ200nmの単層に形成し
た。このときの斜め蒸着の条件は次のようにした。 導入ガス:酸素ガス 真空度 :2×10-2Pa 入射角 :45〜90°
Example 1 First, a PET film having a thickness of 10 mm was prepared as the base film 1. Next, the base film 1 is coated with Co 100 by oblique evaporation.
Was formed into a single layer having a thickness of 200 nm. The oblique deposition conditions at this time were as follows. Introduced gas: oxygen gas Degree of vacuum: 2 × 10 -2 Pa Incident angle: 45 to 90 °

【0027】次に、図2に示すプラズマ処理装置21を
用いて、保護膜3の形成及びそのプラズマ処理を行っ
た。このプラズマ処理装置21は、処理槽全体を真空に
する真空排気系20を有し、内部には処理を行うフィル
ム11を巻装する巻き出しロール13及び巻き取りロー
ル14、移動中のフィルム11を支持する回転支持体1
2、処理を行う際にフィルム11を支持するドラム状の
対向電極19、CVD法により保護膜3の形成を行う反
応管15、形成された保護膜3にプラズマによる表面処
理を行うプラズマ表面処理室22を有する。反応管15
内部には電極16が組み込まれ、この電極16には直流
電源17により+500V〜2000Vの電位が印加さ
れている。また、ガス導入口18から反応管15内に炭
化水素を主成分とした原料ガスが導入される。プラズマ
表面処理室22内部には電極23が組み込まれ、プラズ
マ表面処理室22内にガス導入管24より反応ガスが供
給される。
Next, using the plasma processing apparatus 21 shown in FIG. 2, formation of the protective film 3 and its plasma processing were performed. The plasma processing apparatus 21 has a vacuum evacuation system 20 for evacuating the entire processing tank, and includes therein an unwinding roll 13 and a winding roll 14 for winding a film 11 to be processed, and a moving film 11. Rotary support 1 to support
2. A drum-shaped counter electrode 19 for supporting the film 11 when performing the process, a reaction tube 15 for forming the protective film 3 by the CVD method, and a plasma surface treatment chamber for performing a surface treatment on the formed protective film 3 with plasma. 22. Reaction tube 15
An electrode 16 is incorporated therein, and a potential of +500 V to 2000 V is applied to the electrode 16 by a DC power supply 17. A raw material gas containing hydrocarbon as a main component is introduced into the reaction tube 15 from the gas inlet 18. An electrode 23 is incorporated in the plasma surface treatment chamber 22, and a reaction gas is supplied into the plasma surface treatment chamber 22 from a gas introduction pipe 24.

【0028】このプラズマ処理装置21において、次の
ように表面処理を行う。まず、巻き出しロール13に巻
装されたフィルム11が回転支持体12を経て対向電極
19に供給される。フィルム11は、ドラム状の対向電
極19に沿って移送され反応管15において保護膜3の
形成がなされる。保護膜3を形成したフィルム11は、
次にプラズマ表面処理室22に供給され、ここでガス導
入管24より供給されたフッ素を含むガスが、電極23
によりプラズマ化され、このプラズマによりフィルム1
1の保護膜3に対して表面処理が行われる。表面処理が
行われたフィルム11は、回転支持体12を経て巻き取
りロール14に巻回される。
In this plasma processing apparatus 21, surface treatment is performed as follows. First, the film 11 wound around the unwinding roll 13 is supplied to the counter electrode 19 via the rotating support 12. The film 11 is transferred along the counter electrode 19 in the form of a drum, and the protective film 3 is formed in the reaction tube 15. The film 11 on which the protective film 3 is formed is
Next, the gas containing fluorine supplied to the plasma surface treatment chamber 22 is supplied from the gas introduction pipe 24 to the electrode 23.
Is turned into plasma, and the film 1
The surface treatment is performed on one protective film 3. The film 11 having been subjected to the surface treatment is wound around a take-up roll 14 via a rotary support 12.

【0029】このプラズマ処理装置21により、次の各
条件で磁性層2上への保護膜3の形成及び保護膜3の表
面処理を行った。 1)保護膜の形成 原料ガス :ヘキサメチルジシロキサン 反応圧力 :10Pa 導入電力 :DC2.0kV 保護膜厚さ :8nm 2)保護膜の表面処理 表面処理ガス:CF4 ガス圧力 :1Pa 導入電力 :DC2.0kV 処理時間 :1秒 このようにして、図1の構成の磁気記録媒体10を形成
した。
The formation of the protective film 3 on the magnetic layer 2 and the surface treatment of the protective film 3 were performed by the plasma processing apparatus 21 under the following conditions. 1) Formation of protective film Source gas: hexamethyldisiloxane Reaction pressure: 10 Pa Introduced power: DC 2.0 kV Protective film thickness: 8 nm 2) Surface treatment of protective film Surface treatment gas: CF 4 gas pressure: 1 Pa Introduced power: DC2 0.0 kV Processing time: 1 second In this way, the magnetic recording medium 10 having the configuration shown in FIG. 1 was formed.

【0030】(実施例2)保護膜3の表面処理の際の表
面処理ガスをNF3 とする以外は、実施例1と同様にし
て図1の構成の磁気記録媒体10を形成した。
Example 2 A magnetic recording medium 10 having the structure shown in FIG. 1 was formed in the same manner as in Example 1 except that NF 3 was used as a surface treatment gas when the surface treatment of the protective film 3 was performed.

【0031】(実施例3)保護膜3の形成に使用する原
料ガスを、エチレンとヘキサメチレンジシロキサンとを
1:1で混合したガスとする以外は、実施例1と同様に
して図1の構成の磁気記録媒体10を形成した。
(Example 3) In the same manner as in Example 1 except that the source gas used for forming the protective film 3 is a gas obtained by mixing ethylene and hexamethylenedisiloxane at a ratio of 1: 1. A magnetic recording medium 10 having the above configuration was formed.

【0032】(比較例1)保護膜3を形成する原料ガス
をエチレンとし、保護膜3に表面処理を行わない以外
は、実施例1と同様にして図1の構成の磁気記録媒体1
0を形成した。
Comparative Example 1 A magnetic recording medium 1 having the structure shown in FIG. 1 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the raw material gas for forming the protective film 3 was ethylene, and the surface treatment was not performed on the protective film 3.
0 was formed.

【0033】(比較例2)保護膜3を形成する原料ガス
をエチレンとする以外は、実施例1と同様にして図1の
構成の磁気記録媒体10を形成した。
Comparative Example 2 A magnetic recording medium 10 having the structure shown in FIG. 1 was formed in the same manner as in Example 1 except that the source gas for forming the protective film 3 was ethylene.

【0034】(比較例3)保護膜3を形成する原料ガス
をヘキサメチレンジシロキサンとする以外は、比較例1
と同様にして図1の構成の磁気記録媒体10を形成し
た。
Comparative Example 3 Comparative Example 1 was repeated except that the material gas for forming the protective film 3 was hexamethylenedisiloxane.
1 to form a magnetic recording medium 10 having the configuration shown in FIG.

【0035】これら磁気記録媒体の各試料に対して、耐
環境試験を行った。温度30℃・相対湿度90%に維持
された恒温槽内を、更に0.5ppm濃度のSO2 ガス
雰囲気環境に設定し、この恒温槽内に各試料を1日間保
存し、保存前後の飽和磁化Msの変化を測定した。尚、
飽和磁化量はVSM(試料振動型磁束計)を用いて測定
した。
An environmental resistance test was performed on each sample of these magnetic recording media. The inside of the thermostat maintained at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 90% was further set to a 0.5 ppm concentration SO 2 gas atmosphere environment. Each sample was stored in the thermostat for one day, and the saturation magnetization before and after the storage was measured. The change in Ms was measured. still,
The saturation magnetization was measured using a VSM (sample vibration type magnetometer).

【0036】測定値から次の数1により飽和磁化の変化
量ΔMsを求めた。
From the measured values, the variation ΔMs of the saturation magnetization was determined by the following equation (1).

【0037】[0037]

【数1】ΔMs={Ms′(保存後)−Ms(保存
前)}/Ms(保存前)
ΔMs = {Ms ′ (after storage) −Ms (before storage)} / Ms (before storage)

【0038】実施例及び比較例の各試料の測定結果から
求めたΔMsを表1に示す。
Table 1 shows ΔMs obtained from the measurement results of the samples of the example and the comparative example.

【0039】[0039]

【表1】 [Table 1]

【0040】表1より、各実施例は比較例にくらべて、
飽和磁化の劣化が極めて少なくなり、大幅に保存特性が
改善されていることがわかる。このように、上述の実施
例から、保護膜にシリコン及びフッ素による改質を行う
ことにより保存特性の良好な磁気記録媒体を構成できる
ことがわかる。また、この効果は従来より使用されてい
る炭化水素系のガス、例えばエチレン、メタン、トルエ
ン、ベンゼン等を原料ガスに用いても同様に得ることが
できる。
As shown in Table 1, each example is different from the comparative example in that
It can be seen that the deterioration of the saturation magnetization is extremely small and the storage characteristics are greatly improved. As described above, it can be understood from the above-described examples that a magnetic recording medium having good storage characteristics can be formed by modifying the protective film with silicon and fluorine. This effect can be similarly obtained by using a conventionally used hydrocarbon-based gas, for example, ethylene, methane, toluene, benzene or the like as a raw material gas.

【0041】本発明の磁気記録媒体は、上述の実施例の
他、例えば必要に応じて非磁性支持体の裏面にバックコ
ート層を形成したり、非磁性支持体と磁性層との間に下
塗層を形成したり、潤滑剤の層を形成することもでき
る。これらの場合、バックコート層に含まれる非磁性顔
料、樹脂結合剤、潤滑剤に用いる材料には従来公知のも
のを用いることができる。
In the magnetic recording medium of the present invention, in addition to the above-described embodiments, for example, a back coat layer may be formed on the back surface of the non-magnetic support, if necessary, or a lower layer may be provided between the non-magnetic support and the magnetic layer. It is also possible to form a coating layer or a lubricant layer. In these cases, conventionally known materials can be used for the nonmagnetic pigment, resin binder, and lubricant contained in the back coat layer.

【0042】本発明の磁気記録媒体は、上述の例に限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で
その他様々な構成が取り得る。
The magnetic recording medium of the present invention is not limited to the above-described example, but may take various other configurations without departing from the gist of the present invention.

【0043】[0043]

【発明の効果】上述の本発明によれば、炭素を主成分と
する保護膜の表面にシリコン及びフッ素により改質され
てなることにより、保護膜表面にシリコン−フッ素が形
成され、磁気記録媒体の耐候性が向上する。
According to the present invention described above, silicon-fluorine is formed on the surface of the protective film by modifying the surface of the protective film containing carbon as a main component with silicon and fluorine. Has improved weather resistance.

【0044】従って本発明により、磁気記録媒体の信頼
性が向上し、長期保存の必要性のあるデータストリーマ
ーやビデオライブラリ等の特別な用途にも好適な磁気記
録媒体を構成することができる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to improve the reliability of a magnetic recording medium, and to configure a magnetic recording medium suitable for special uses such as a data streamer and a video library that need to be stored for a long time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の一実施例の概略構成図
(断面図)である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of an embodiment of a magnetic recording medium according to the present invention.

【図2】本発明の磁気記録媒体の製造に用いるプラズマ
処理装置の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a plasma processing apparatus used for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.

【符号の説明】 1 ベースフィルム、2 磁性層、3 保護膜、4 改
質部、10 磁気記録媒体、11 フィルム、12 回
転支持体、13 巻き出しロール、14 巻き取りロー
ル、15 反応管、16 電極、17 直流電源、18
ガス導入口、19 対向電極、20 真空排気系、2
1 プラズマ処理装置、22 プラズマ表面処理室、2
3 電極、24 ガス導入管
[Description of Signs] 1 base film, 2 magnetic layer, 3 protective film, 4 modified section, 10 magnetic recording medium, 11 film, 12 rotating support, 13 unwind roll, 14 take-up roll, 15 reaction tube, 16 Electrode, 17 DC power supply, 18
Gas inlet, 19 Counter electrode, 20 Vacuum exhaust system, 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma treatment apparatus, 22 Plasma surface treatment chamber, 2
3 electrodes, 24 gas inlet tubes

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野寺 誠一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Seiichi Onodera 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性支持体の一面に磁性層を有し磁性
層の上に炭素を主成分とする保護膜が形成されている磁
気記録媒体において、 上記保護膜は、その表面がシリコン及びフッ素で改質さ
れてなることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium having a magnetic layer on one surface of a nonmagnetic support and a protective film containing carbon as a main component formed on the magnetic layer, wherein the protective film has a surface made of silicon and A magnetic recording medium characterized by being modified with fluorine.
【請求項2】 上記保護膜の原料に炭素及びシリコンを
含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the material of the protective film contains carbon and silicon.
【請求項3】 上記保護膜の原料として、炭化水素系の
原料にシロキサン系原料を混合したものを用いて、これ
にフッ素化合物のプラズマガスで改質を行うことを特徴
とする請求項2に記載の磁気記録媒体。
3. The method according to claim 2, wherein a material obtained by mixing a siloxane-based material with a hydrocarbon-based material is used as the material of the protective film, and the material is reformed with a plasma gas of a fluorine compound. The magnetic recording medium according to the above.
【請求項4】 上記シロキサン原料がヘキサメチルジシ
ロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンである
ことを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体。
4. The magnetic recording medium according to claim 3, wherein the siloxane raw material is hexamethyldisiloxane or octamethylcyclotetrasiloxane.
【請求項5】 上記フッ素化合物がCF4 ,CHF3
SF6 ,NF3 ,BF3,C2 4 の内の少なくとも1
種以上であることを特徴とする請求項3に記載の磁気記
録媒体。
5. The method according to claim 1, wherein the fluorine compound is CF 4 , CHF 3 ,
At least one of SF 6 , NF 3 , BF 3 , C 2 F 4
4. The magnetic recording medium according to claim 3, wherein the number is at least one.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010282707A (en) * 2009-06-08 2010-12-16 Showa Denko HD Singapore Pte Ltd Magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and magnetic recording and reproducing device

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010282707A (en) * 2009-06-08 2010-12-16 Showa Denko HD Singapore Pte Ltd Magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and magnetic recording and reproducing device

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