JP2003077160A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

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JP2003077160A
JP2003077160A JP2001266198A JP2001266198A JP2003077160A JP 2003077160 A JP2003077160 A JP 2003077160A JP 2001266198 A JP2001266198 A JP 2001266198A JP 2001266198 A JP2001266198 A JP 2001266198A JP 2003077160 A JP2003077160 A JP 2003077160A
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JP
Japan
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semiconductor laser
light
package
laser device
diffraction grating
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Pending
Application number
JP2001266198A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Ishida
裕之 石田
Makoto Ahei
誠 阿閉
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the change of optical characteristic of a semiconductor laser device by suppressing the positional deviation of members constituting the semiconductor laser device. SOLUTION: The semiconductor laser device is provided with a semiconductor laser element 1 irradiating a recording medium 5 by laser beams, a diffraction grating 6 for diffracting a turn-back light of the laser beams emitted from the semiconductor laser element 1 on the recording medium 5, a photodetector 10 for receiving the turn-back light diffracted by the diffraction grating 6, a package 11 for housing the semiconductor laser element 1 and the photodetector 10, and a sealing substrate 2 for sealing the package 11, and in this device, the above package 11 and the sealing substrate 2 are adhered through an adhesive 12, and at this adhered part, a recessed part or a projected part is formed on at least one adhered surface of the package 11 and the sealing substrate 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザー装
置に関するものであり、更に詳しくは、情報記録媒体へ
の情報の記録および再生を行うための光ピックアップ装
置の光源として好適な半導体レーザー装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser device, and more particularly to a semiconductor laser device suitable as a light source of an optical pickup device for recording and reproducing information on an information recording medium. Is.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、情報記録媒体への情報の記録およ
び再生を行うための光ピックアップ装置の光源として、
図12に示すような構造の半導体レーザー装置が用いら
れている。この半導体レーザー装置においては、パッケ
ージ11内に半導体レーザー素子1および受光素子10
が収納されており、このパッケージ11は、回折格子6
を備えた封止基板2と接着剤12を介して接着されるこ
とにより封止されている。なお、この回折格子6は、半
導体レーザー素子1から記録媒体5に至る光路中に配置
される。更に、記録媒体5に至る光路中に、コリメート
レンズ3および対物レンズ4が配置されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a light source of an optical pickup device for recording and reproducing information on an information recording medium,
A semiconductor laser device having a structure as shown in FIG. 12 is used. In this semiconductor laser device, a semiconductor laser element 1 and a light receiving element 10 are provided in a package 11.
The package 11 includes a diffraction grating 6
It is sealed by being bonded to the sealing substrate 2 provided with the adhesive agent 12 via the adhesive 12. The diffraction grating 6 is arranged in the optical path from the semiconductor laser element 1 to the recording medium 5. Further, a collimator lens 3 and an objective lens 4 are arranged in the optical path leading to the recording medium 5.

【0003】次に、図12を用いて、上記半導体レーザ
ー装置の動作について説明する。なお、本図において
は、簡単のため、−1次回折光7、0次回折光8および
+1次回折光9以外の回折光の図示を省略している。半
導体レーザー素子1から射出されたレーザー光が封止基
板2を透過し、コリメートレンズ3で発散光束から平行
光束に変換され、対物レンズ4により記録媒体5の表面
で反射する。そしてこの反射光が戻り光として対物レン
ズ4およびコリメートレンズ3を透過し、回折格子6で
回折され、−1次回折光7、0次回折光8および+1次
回折光9に分けられる。−1次回折光7および+1次回
折光9は、それぞれ、受光素子10により受光される。
Next, the operation of the semiconductor laser device will be described with reference to FIG. In the figure, for simplification, illustration of diffracted lights other than the −first-order diffracted light 7, the 0th-order diffracted light 8, and the + 1st-order diffracted light 9 is omitted. Laser light emitted from the semiconductor laser element 1 passes through the sealing substrate 2, is converted from a divergent light beam into a parallel light beam by the collimator lens 3, and is reflected by the surface of the recording medium 5 by the objective lens 4. Then, this reflected light passes through the objective lens 4 and the collimator lens 3 as return light, is diffracted by the diffraction grating 6, and is divided into −1st order diffracted light 7, 0th order diffracted light 8 and + 1st order diffracted light 9. The −1st order diffracted light 7 and the + 1st order diffracted light 9 are received by the light receiving element 10, respectively.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記半導体レーザー装
置においては、前述したように、半導体レーザー素子1
および受光素子10を収納したパッケージ11が、接着
剤12を介して封止基板2と接着されることによって封
止されている。これによって、半導体レーザー素子1お
よび受光素子10への結露などを防止することができ
る。
In the semiconductor laser device, as described above, the semiconductor laser element 1 is used.
The package 11 accommodating the light receiving element 10 is sealed by being bonded to the sealing substrate 2 via the adhesive 12. As a result, dew condensation on the semiconductor laser device 1 and the light receiving device 10 can be prevented.

【0005】しかしながら、従来の半導体レーザー装置
においては、パッケージと封止基板とを接着した後に振
動による応力がかかったり、熱膨張係数の差による歪み
応力がかかることにより、パッケージと封止基板との間
の接着強度が弱まり、少しの外圧によって封止基板の位
置ずれが生じやすかった。このような構成部材の位置ず
れは、半導体レーザー装置の光学特性を変化させるため
問題であった。
However, in the conventional semiconductor laser device, after the package and the sealing substrate are adhered to each other, a stress due to vibration is applied, or a strain stress due to a difference in thermal expansion coefficient is applied between the package and the sealing substrate. The adhesive strength between them was weakened, and the position of the sealing substrate was likely to be displaced by a small external pressure. Such positional deviation of the constituent members is a problem because it changes the optical characteristics of the semiconductor laser device.

【0006】そこで、本発明は、光学特性の安定した半
導体レーザー装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor laser device having stable optical characteristics.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の第1の半導体レーザー装置は、記録媒体に
レーザー光を照射する半導体レーザー素子と、前記半導
体レーザー素子から射出されたレーザー光の前記記録媒
体での戻り光を回折する回折格子と、前記回折格子によ
って回折された前記戻り光を受光する受光素子と、前記
半導体レーザー素子および前記受光素子を収容するパッ
ケージと、前記パッケージを封止する封止基板とを備え
た半導体レーザ装置であって、前記パッケージと前記封
止基板とが接着剤を介して接着されており、この接着部
において、前記パッケージおよび前記封止基板の少なく
とも一方の接着面に、凹部または凸部が形成されている
ことを特徴とする。
To achieve the above object, a first semiconductor laser device of the present invention comprises a semiconductor laser element for irradiating a recording medium with a laser beam, and a laser beam emitted from the semiconductor laser element. A diffraction grating that diffracts the return light from the recording medium, a light receiving element that receives the return light diffracted by the diffraction grating, a package that accommodates the semiconductor laser element and the light receiving element, and the package is sealed. A semiconductor laser device having a sealing substrate for stopping, wherein the package and the sealing substrate are adhered to each other via an adhesive, and at this adhesive portion, at least one of the package and the sealing substrate is provided. A concave portion or a convex portion is formed on the adhesive surface of.

【0008】このような構成にしたことにより、パッケ
ージと封止基板との接着有効面積を増大させるととも
に、接着剤の剥離方向の多面化によって外部応力および
熱膨張による封止基板の歪み応力によるストレスを拡散
させることができるため、パッケージと封止基板との間
の接着強度の低下を抑制し、この両者間の位置ずれを抑
制することができる。その結果、半導体レーザー装置の
光学特性変化を抑制することができる。
With such a structure, the effective bonding area between the package and the sealing substrate is increased, and the stress due to the external stress and the strain stress of the sealing substrate due to the thermal expansion due to the multifaceted adhesive peeling direction. Can be diffused, so that a reduction in the adhesive strength between the package and the sealing substrate can be suppressed, and a positional shift between the two can be suppressed. As a result, it is possible to suppress changes in the optical characteristics of the semiconductor laser device.

【0009】前記第1の半導体レーザー装置において
は、前記回折格子を前記封止基板表面に形成することが
できる。
In the first semiconductor laser device, the diffraction grating can be formed on the surface of the sealing substrate.

【0010】また、前記第1の半導体レーザー装置にお
いては、更に、前記記録媒体と前記封止基板との間に配
置された光透過基板を設け、前記回折格子を前記光透過
基板表面に形成してもよい。
In addition, in the first semiconductor laser device, a light transmitting substrate disposed between the recording medium and the sealing substrate is further provided, and the diffraction grating is formed on the surface of the light transmitting substrate. May be.

【0011】また、前記第1の半導体レーザー装置にお
いては、更に、前記記録媒体と前記回折格子との間に配
置され、前記半導体レーザー素子から射出されたレーザ
ー光の前記記録媒体での戻り光を分光する複合プリズム
を備えた構造とすることも可能である。
Further, in the first semiconductor laser device, the laser light emitted from the semiconductor laser element, which is arranged between the recording medium and the diffraction grating, is returned to the recording medium. It is also possible to adopt a structure having a compound prism for splitting light.

【0012】前記目的を達成するため、本発明の第2の
半導体レーザー装置は、記録媒体にレーザー光を照射す
る半導体レーザー素子と、前記半導体レーザー素子から
射出されたレーザー光の前記記録媒体での戻り光を分割
する複合プリズムと、前記複合プリズムによって分割さ
れた前記戻り光を回折する回折格子と、前記回折格子に
よって回折された前記戻り光を受光する受光素子と、前
記半導体レーザー素子および前記受光素子を収容するパ
ッケージとを備えた半導体レーザ装置であって、前記回
折格子が光透過基板表面に形成されており、前記光透過
基板と前記複合プリズムとが接着剤を介して接着され、
この接着部において、前記複合プリズムおよび前記光透
過基板の少なくとも一方の接着面に、凹部または凸部が
形成されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a second semiconductor laser device of the present invention comprises a semiconductor laser element for irradiating a recording medium with a laser beam, and a laser beam emitted from the semiconductor laser element in the recording medium. A composite prism for splitting the return light, a diffraction grating for diffracting the return light split by the composite prism, a light receiving element for receiving the return light diffracted by the diffraction grating, the semiconductor laser element and the light receiving A semiconductor laser device comprising a package containing an element, wherein the diffraction grating is formed on a surface of a light transmitting substrate, and the light transmitting substrate and the composite prism are bonded via an adhesive,
In this adhesive portion, a concave portion or a convex portion is formed on the adhesive surface of at least one of the composite prism and the light transmitting substrate.

【0013】このような構成にしたことにより、複合プ
リズムと光透過基板との接着有効面積を増大させるとと
もに、接着剤の剥離方向の多面化によって外部応力およ
び熱膨張による光透過基板の歪み応力によるストレスを
拡散させることができるため、複合プリズムと光透過基
板との間の接着強度の低下を抑制し、この両者間の位置
ずれを抑制することができる。その結果、半導体レーザ
ー装置の光学特性変化を抑制することができる。
With such a structure, the effective bonding area between the composite prism and the light transmitting substrate is increased, and the multi-faceted adhesive peeling direction causes external stress and strain stress of the light transmitting substrate due to thermal expansion. Since the stress can be diffused, it is possible to suppress the decrease in the adhesive strength between the composite prism and the light transmitting substrate, and to suppress the positional deviation between the two. As a result, it is possible to suppress changes in the optical characteristics of the semiconductor laser device.

【0014】前記第2の半導体レーザー装置において
は、前記パッケージが、前記光透過基板と接着剤を介し
て接着されることにより封止された構造とすることがで
きる。
The second semiconductor laser device may have a structure in which the package is sealed by being bonded to the light transmitting substrate via an adhesive.

【0015】この場合、前記パッケージと前記光透過基
板との接着部において、前記パッケージおよび前記光透
過基板の少なくとも一方の接着面に、凹部または凸部が
形成されていることが好ましい。半導体レーザー装置の
光学特性変化を更に抑制することができるからである。
In this case, it is preferable that a concave portion or a convex portion is formed on the bonding surface of at least one of the package and the light transmitting substrate in the bonding portion between the package and the light transmitting substrate. This is because changes in the optical characteristics of the semiconductor laser device can be further suppressed.

【0016】また、前記第2の半導体レーザー装置にお
いては、更に、前記パッケージを封止するための封止基
板を備えた構造とすることもできる。
Further, the second semiconductor laser device may further have a structure including a sealing substrate for sealing the package.

【0017】この場合、前記パッケージと前記封止基板
とが接着剤を介して接着されており、この接着部におい
て、前記パッケージおよび前記封止基板少なくとも一方
の接着面に、凹部または凸部が形成されていることが好
ましい。半導体レーザー装置の光学特性変化を更に抑制
することができるからである。
In this case, the package and the sealing substrate are adhered to each other via an adhesive, and a concave portion or a convex portion is formed on an adhesive surface of at least one of the package and the sealing substrate at the adhesive portion. Is preferably provided. This is because changes in the optical characteristics of the semiconductor laser device can be further suppressed.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を用いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1における半導体レーザー装置の構造を示す模式図であ
る。この半導体レーザー装置においては、パッケージ1
1内に半導体レーザー素子1および受光素子10が配置
されている。更に、このパッケージ11は、封止基板2
と接着剤12を介して接着されることにより封止されて
いる。
(First Embodiment) FIG. 1 is a schematic view showing the structure of a semiconductor laser device according to the first embodiment of the present invention. In this semiconductor laser device, the package 1
A semiconductor laser element 1 and a light receiving element 10 are arranged in the unit 1. Further, this package 11 is used for the sealing substrate 2
It is sealed by being bonded via the adhesive 12.

【0020】パッケージ11としては、例えば、ポリエ
チレンテレフタレート、エポキシ樹脂、ABS樹脂、ポ
リカーボネート、ポリブチレンテレフタレートなどを使
用することができる。封止基板2としては、例えば、ガ
ラス、並びに、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリ
レート、ポリスチレン、ポリオレフィンなどの樹脂を使
用することができる。また、接着剤12としては、例え
ば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂などを
使用することができる。
As the package 11, for example, polyethylene terephthalate, epoxy resin, ABS resin, polycarbonate, polybutylene terephthalate, etc. can be used. As the sealing substrate 2, for example, glass and resins such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, polystyrene, and polyolefin can be used. Moreover, as the adhesive 12, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a silicon resin, or the like can be used.

【0021】また、パッケージ11および封止基板2の
形状については、両者が接着することによって半導体レ
ーザー素子1および受光素子10が収容される空間が形
成され得る形状であれば、特に限定するものではない。
The shapes of the package 11 and the sealing substrate 2 are not particularly limited as long as they can be bonded to each other to form a space for accommodating the semiconductor laser element 1 and the light receiving element 10. Absent.

【0022】本実施形態においては、封止基板2のパッ
ケージ11との接着面に凹部が形成されている。凹部の
形状は、特に限定するものではなく、例えば、図1に示
すように断面が台形となる形状、図2に示すように断面
が矩形となる形状、断面がV字形となる形状などを採用
することができる。また、接着面に形成される凹部の数
についても特に限定するものでなく、例えば、図3に示
すように、複数の凹部を周期的に等間隔に形成すること
も可能である。
In this embodiment, a recess is formed on the surface of the sealing substrate 2 that is bonded to the package 11. The shape of the recess is not particularly limited, and for example, a shape having a trapezoidal cross section as shown in FIG. 1, a shape having a rectangular cross section as shown in FIG. 2, a shape having a V-shaped cross section, etc. are adopted. can do. Further, the number of recesses formed on the adhesive surface is not particularly limited, and for example, as shown in FIG. 3, it is possible to form a plurality of recesses at regular intervals.

【0023】凹部のサイズについても、特に限定するも
のではない。凹部の幅は、例えば1〜200μm、好ま
しくは50〜100μmとし、凹部の深さは、例えば1
〜200μm、好ましくは10〜100μmとすること
ができる。
The size of the recess is also not particularly limited. The width of the recess is, for example, 1 to 200 μm, preferably 50 to 100 μm, and the depth of the recess is, for example, 1
The thickness can be set to ˜200 μm, preferably 10 to 100 μm.

【0024】封止基板2の凹部の形成方法については、
特に限定するものではないが、例えば、ガラスを用いる
場合は、所望の形状のダイシングブレードを用いたダイ
シングにより実施することができる。また、樹脂を用い
る場合は、所望の形状のパターンを備えた金型を用いた
成形により実施することができる。
Regarding the method of forming the concave portion of the sealing substrate 2,
Although not particularly limited, for example, when glass is used, it can be performed by dicing using a dicing blade having a desired shape. When a resin is used, it can be formed by molding using a mold provided with a pattern having a desired shape.

【0025】また、封止基板2の表面には回折格子6が
形成されている。この回折格子6は、例えば、封止樹脂
2表面に形成された周期的な凹凸により構成することが
できる。この回折格子6は、半導体レーザー素子1から
出射されるレーザー光の光路中に配置される。
A diffraction grating 6 is formed on the surface of the sealing substrate 2. The diffraction grating 6 can be formed by, for example, periodic unevenness formed on the surface of the sealing resin 2. The diffraction grating 6 is arranged in the optical path of the laser light emitted from the semiconductor laser element 1.

【0026】更に、このパッケージ11と封止基板2と
による封止体に加えて、半導体レーザー素子1から出射
されたレーザー光の光路中に、コリメートレンズ3およ
び対物レンズ4が配置されて、半導体レーザー装置が構
成されている。
Further, in addition to the sealing body formed by the package 11 and the sealing substrate 2, the collimating lens 3 and the objective lens 4 are arranged in the optical path of the laser beam emitted from the semiconductor laser element 1, and the semiconductor is provided. A laser device is configured.

【0027】次に、上記半導体レーザー装置の動作につ
いて、図1を用いて説明する。半導体レーザー素子1か
ら射出されたレーザー光が封止基板2を透過し、コリメ
ートレンズ3で発散光束から平行光束に変換され、対物
レンズ4により記録媒体5の表面で反射する。そしてこ
の反射光が戻り光として、対物レンズ4およびコリメー
トレンズ3を透過し、回折格子6で回折され、−1次回
折光7、0次回折光8および+1次回折光9に分けられ
る。−1次回折光7および+1次回折光9は、それぞ
れ、受光素子10により受光される。なお、本図におい
ては、簡単のため、−1次回折光7、0次回折光8およ
び+1次回折光9以外の回折光の図示を省略している。
Next, the operation of the semiconductor laser device will be described with reference to FIG. Laser light emitted from the semiconductor laser element 1 passes through the sealing substrate 2, is converted from a divergent light beam into a parallel light beam by the collimator lens 3, and is reflected by the surface of the recording medium 5 by the objective lens 4. Then, this reflected light passes through the objective lens 4 and the collimator lens 3 as return light, is diffracted by the diffraction grating 6, and is divided into −1st order diffracted light 7, 0th order diffracted light 8 and + 1st order diffracted light 9. The −1st order diffracted light 7 and the + 1st order diffracted light 9 are received by the light receiving element 10, respectively. In the figure, for simplification, illustration of diffracted lights other than the −first-order diffracted light 7, the 0th-order diffracted light 8, and the + 1st-order diffracted light 9 is omitted.

【0028】なお、上記説明においては、封止基板2と
パッケージ11との接着部において、封止基板2表面に
凹部が形成された例を挙げたが、パッケージ11の表面
に凹部を設けてもよい。更には、図4に示すように、封
止基板2表面およびパッケージ11表面の両方に凹部を
設けてもよい。
In the above description, the concave portion is formed on the surface of the sealing substrate 2 at the bonding portion between the sealing substrate 2 and the package 11, but the concave portion may be formed on the surface of the package 11. Good. Furthermore, as shown in FIG. 4, recesses may be provided on both the surface of the sealing substrate 2 and the surface of the package 11.

【0029】また、封止基板2とパッケージ11との接
着部においては、前述したような凹部に代えて、凸部を
形成することもできる。この場合、凸部の数、形状およ
びサイズについては、特に限定するものではない。
Further, in the bonding portion between the sealing substrate 2 and the package 11, a convex portion can be formed instead of the above-mentioned concave portion. In this case, the number, shape and size of the convex portions are not particularly limited.

【0030】(実施形態2)図5は、本発明の実施形態
2における半導体レーザー装置の構造を示す模式図であ
る。この半導体レーザー装置においては、パッケージ1
1内に半導体レーザー素子1および受光素子10a、1
0bが配置されている。更に、このパッケージ11は、
封止基板2と接着剤12aを介して接着されることによ
り封止されている。
(Second Embodiment) FIG. 5 is a schematic diagram showing the structure of a semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention. In this semiconductor laser device, the package 1
1, a semiconductor laser element 1 and a light receiving element 10a, 1
0b is arranged. Furthermore, this package 11
It is sealed by being bonded to the sealing substrate 2 via the adhesive 12a.

【0031】なお、パッケージ11、封止基板2および
接着剤12aの材料としては、実施形態1と同様のもの
を使用することができる。また、パッケージ11および
封止基板2の形状については、両者が接着されることに
より半導体レーザー素子1および受光素子10が収容さ
れる空間が形成され得る形状であれば、特に限定するも
のではない。
As the materials of the package 11, the sealing substrate 2 and the adhesive 12a, the same materials as those in the first embodiment can be used. Moreover, the shapes of the package 11 and the sealing substrate 2 are not particularly limited as long as the spaces for accommodating the semiconductor laser element 1 and the light receiving element 10 can be formed by bonding them.

【0032】また、実施形態1と同様に、封止基板2と
パッケージ11との接着部において、封止基板2および
パッケージ11の少なくとも一方の表面に凹部または凸
部が形成されていてもよい。
Further, similar to the first embodiment, a concave portion or a convex portion may be formed on the surface of at least one of the sealing substrate 2 and the package 11 at the bonding portion between the sealing substrate 2 and the package 11.

【0033】また、図5に示した例においては、半導体
レーザー素子1と受光素子10aおよび10bを、それ
ぞれ個別にパッケージ11内に配置しているが、図6に
示すように、半導体レーザー素子1と受光素子10aお
よび10bを基板20にハイブリッドに集積し、この基
板20をパッケージ11内に配置することもできる。こ
の場合、面発光型の半導体レーザー素子を採用する場合
は、発光面を上部に向けてそのまま基板上にチップボン
ドすればよい。一方、端面出射型の半導体レーザー素子
を採用する場合は、基板20に半導体加工技術を用いて
略45°傾いた傾斜面を有する凹部を形成し、前記傾斜
面に金属または誘電体膜などを蒸着することにより反射
ミラー21を形成した後、前記凹部内に半導体レーザー
素子1を出射端面が前記反射ミラー21と対向するよう
に配置すればよい。
Further, in the example shown in FIG. 5, the semiconductor laser element 1 and the light receiving elements 10a and 10b are individually arranged in the package 11, but as shown in FIG. It is also possible to hybridize the light receiving elements 10a and 10b on the substrate 20 and arrange the substrate 20 in the package 11. In this case, when a surface-emitting type semiconductor laser device is adopted, chip-bonding may be performed on the substrate as it is with the light emitting surface facing upward. On the other hand, when the edge emitting semiconductor laser device is adopted, a recess having an inclined surface inclined by about 45 ° is formed on the substrate 20 by using a semiconductor processing technique, and a metal or a dielectric film is deposited on the inclined surface. After forming the reflection mirror 21 by doing so, the semiconductor laser element 1 may be arranged in the concave portion so that the emitting end face faces the reflection mirror 21.

【0034】封止基板2上には、好ましくは接着剤12
bを介して、光透過基板13が配置されている。光透過
基板13としては、例えば、ガラス、並びに、ポリカー
ボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、
硬質塩化ビニル、ポリオレフィンなどの樹脂を使用する
ことができる。また、接着剤12bとしては、接着剤1
2aと同様の材料を使用することができる。
An adhesive 12 is preferably formed on the sealing substrate 2.
The light transmitting substrate 13 is disposed via the b. Examples of the light transmitting substrate 13 include glass, polycarbonate, polymethylmethacrylate, polystyrene,
Resins such as hard vinyl chloride and polyolefin can be used. Further, as the adhesive 12b, the adhesive 1
Materials similar to 2a can be used.

【0035】光透過基板13には、表面に回折格子6が
形成され、裏面(封止基板2と対向する面)には回折格
子14が形成されている。この回折格子6および14
は、例えば、光透過基板13の表面(または裏面)に形
成された周期的な凹凸により構成することができる。こ
の回折格子6および14は、半導体レーザー素子1から
出射されるレーザー光の光路中に配置される。
A diffraction grating 6 is formed on the front surface of the light transmitting substrate 13, and a diffraction grating 14 is formed on the back surface (the surface facing the sealing substrate 2). This diffraction grating 6 and 14
Can be configured by, for example, periodic unevenness formed on the front surface (or the back surface) of the light transmitting substrate 13. The diffraction gratings 6 and 14 are arranged in the optical path of the laser light emitted from the semiconductor laser device 1.

【0036】また、光透過基板13の縁端部には、複合
プリズム18を支持するための台座部19が設けられて
いる。台座部19の高さは、複合プリズム18のウォラ
ストンプリズム16の厚さより大きく設定され、例え
ば、ウォラストンプリズム16の厚さより10μm以上
大きく設定される。
A pedestal portion 19 for supporting the composite prism 18 is provided at the edge of the light transmitting substrate 13. The height of the pedestal portion 19 is set larger than the thickness of the Wollaston prism 16 of the composite prism 18, for example, 10 μm or more larger than the thickness of the Wollaston prism 16.

【0037】光透過基板13の台座部19上に複合プリ
ズム18が配置されている。複合プリズム18は、偏光
ビームスプリッタ15、ウォラストンプリズム16およ
び反射体17が一体化された構造を有している。
The composite prism 18 is arranged on the pedestal portion 19 of the light transmitting substrate 13. The composite prism 18 has a structure in which the polarization beam splitter 15, the Wollaston prism 16, and the reflector 17 are integrated.

【0038】光透過基板13の台座部19と複合プリズ
ム18とは、接着剤12cを介して接着されている。ま
た、図7に示すように、光透過基板13の台座部19に
おける接着に加えて、光透過基板13の台座部19以外
の部分と複合プリズム18のウォラストンプリズム16
とが、接着剤12dを介して接着されていてもよい。な
お、接着剤12c、12dとしては、接着剤12aと同
様の材料を使用することができる。
The pedestal portion 19 of the light transmitting substrate 13 and the composite prism 18 are adhered to each other with an adhesive 12c. Further, as shown in FIG. 7, in addition to bonding the pedestal portion 19 of the light transmissive substrate 13, a portion other than the pedestal portion 19 of the light transmissive substrate 13 and the Wollaston prism 16 of the composite prism 18
And may be bonded via the adhesive 12d. The same material as the adhesive 12a can be used as the adhesives 12c and 12d.

【0039】複合プリズム18の光透過基板13の台座
部19との接着面には、凹部が形成されている。凹部の
形状、サイズおよび数については、特に限定するもので
はなく、例えば、実施形態1において封止基板2に形成
される凹部と同様とすることができる。また、この凹部
の形成方法については、特に限定するものではないが、
例えば、ガラスを用いる場合は、所望の形状のダイシン
グブレードを用いたダイシングにより実施することがで
きる。また、樹脂を用いる場合は、所望の形状のパター
ンを備えた金型を用いた成形により実施することができ
る。
A recess is formed on the surface of the compound prism 18 that is bonded to the pedestal 19 of the light transmitting substrate 13. The shape, size, and number of the recesses are not particularly limited, and may be the same as the recesses formed in the sealing substrate 2 in the first embodiment, for example. The method of forming the recess is not particularly limited,
For example, when glass is used, it can be performed by dicing using a dicing blade having a desired shape. When a resin is used, it can be formed by molding using a mold provided with a pattern having a desired shape.

【0040】更に、レーザー光の光路中にコリメートレ
ンズ3および対物レンズ4が配置されて、半導体レーザ
ー装置が構成されている。
Further, the collimator lens 3 and the objective lens 4 are arranged in the optical path of the laser beam to form a semiconductor laser device.

【0041】次に、上記半導体レーザー装置の動作につ
いて、図5を用いて説明する。
Next, the operation of the semiconductor laser device will be described with reference to FIG.

【0042】まず、半導体レーザー素子1から射出され
たレーザー光が封止基板2を透過した後、回折格子14
により図面の紙面に垂直な方向に回折され、光透過基板
を透過する。続いて、光透過基板を透過した光は、偏光
ビームスプリッタ15を透過した後、コリメートレンズ
3で発散光束から平行光束に変換され、対物レンズ4に
より記録媒体5上に集光される。この光は、記録媒体5
の表面で反射した後、戻り光として、対物レンズ4およ
びコリメートレンズ3を透過して、偏光ビームスプリッ
タ15に入射する。偏光ビームスプリッタ15に入射し
た戻り光は、光透過基板13の方向とウォラストンプリ
ズム16の方向とに分割される。
First, after the laser light emitted from the semiconductor laser device 1 passes through the sealing substrate 2, the diffraction grating 14
Is diffracted in a direction perpendicular to the paper surface of the drawing and transmitted through the light transmitting substrate. Subsequently, the light transmitted through the light transmission substrate is transmitted through the polarization beam splitter 15, is then converted from a divergent light beam into a parallel light beam by the collimator lens 3, and is condensed on the recording medium 5 by the objective lens 4. This light is recorded on the recording medium 5
After being reflected by the surface of, the light passes through the objective lens 4 and the collimator lens 3 as return light and enters the polarization beam splitter 15. The return light that has entered the polarization beam splitter 15 is split into the direction of the light transmission substrate 13 and the direction of the Wollaston prism 16.

【0043】分割された戻り光のうち、光透過基板13
の方向に分岐した光は、回折格子6で回折され、−1次
回折光7、0次回折光8および+1次回折光9となる。
そして、−1次回折光7および+1次回折光9は、光透
過基板13および封止基板2を透過し、それぞれ受光素
子10aによって受光される。一方、偏光ビームスプリ
ッタ15により分割された戻り光のうち、ウォラストン
プリズム16の方向に分岐した光は、反射体17で反射
した後、ウォラストンプリズム16においてP偏光とS
偏光とに分離された後、光透過基板13および封止基板
2を透過し、受光素子10bによって受光される。な
お、本図においては、簡単のため、−1次回折光7、0
次回折光8および+1次回折光9以外の回折光の図示を
省略している。
Of the split return light, the light transmitting substrate 13
The light branched in the direction of is diffracted by the diffraction grating 6 and becomes −1st order diffracted light 7, 0th order diffracted light 8 and + 1st order diffracted light 9.
Then, the −1st order diffracted light 7 and the + 1st order diffracted light 9 are transmitted through the light transmitting substrate 13 and the sealing substrate 2, and are respectively received by the light receiving element 10a. On the other hand, of the return light split by the polarization beam splitter 15, the light split in the direction of the Wollaston prism 16 is reflected by the reflector 17, and then is converted into P-polarized light and S-polarized light by the Wollaston prism 16.
After being separated into polarized light, the light is transmitted through the light transmitting substrate 13 and the sealing substrate 2 and is received by the light receiving element 10b. In the figure, for the sake of simplicity, the −1st order diffracted light 7, 0
Illustration of diffracted lights other than the diffracted light 8 and the diffracted light +1 is omitted.

【0044】なお、上記説明においては、光透過基板1
3と複合プリズム18との接着部において、複合プリズ
ム18表面に凹部が形成された例を挙げたが、図8に示
すように、光透過基板13表面に凹部を設けてもよい。
更には、図9に示すように、光透過基板13表面および
複合プリズム18表面の両方に凹部を設けてもよい。
In the above description, the light transmitting substrate 1
Although an example in which a concave portion is formed on the surface of the composite prism 18 at the bonding portion between the composite prism 3 and the complex prism 18 is shown, a concave portion may be provided on the surface of the light transmitting substrate 13 as shown in FIG.
Further, as shown in FIG. 9, recesses may be provided on both the surface of the light transmitting substrate 13 and the surface of the composite prism 18.

【0045】また、光透過基板13と複合プリズム18
との接着部においては、前述したような凹部に代えて、
凸部を形成することもできる。この場合、凸部の数、形
状およびサイズについては、特に限定するものではな
い。
Further, the light transmitting substrate 13 and the composite prism 18
In the bonded portion with, instead of the recessed portion as described above,
It is also possible to form a convex portion. In this case, the number, shape and size of the convex portions are not particularly limited.

【0046】また、上記説明においては、光透過基板1
3と複合プリズム18との接着部において、接着される
部材表面に凹部が形成された例を挙げた。しかしなが
ら、本発明はこれに限定されるものではなく、光透過基
板13と複合プリズム18との接着部およびパッケージ
11と封止基板2との接着部の少なくとも一方におい
て、接着される部材表面に凹部が形成されていればよ
い。例えば、図10に示すように、光透過基板13と複
合プリズム18との接着部においては部材表面を平滑面
とし、パッケージ11と封止基板2との接着部におい
て、パッケージ11表面および封止基板2表面の少なく
とも一方に凹部を形成することもできる。
Further, in the above description, the light transmitting substrate 1
An example was given in which a concave portion was formed on the surface of the member to be bonded at the bonding portion between 3 and the composite prism 18. However, the present invention is not limited to this, and at least one of the bonding portion between the light transmitting substrate 13 and the composite prism 18 and the bonding portion between the package 11 and the sealing substrate 2 has a concave portion on the surface of the bonded member. Should be formed. For example, as shown in FIG. 10, the member surface is a smooth surface at the bonding portion between the light transmitting substrate 13 and the composite prism 18, and the surface of the package 11 and the sealing substrate are at the bonding portion between the package 11 and the sealing substrate 2. It is also possible to form a recess on at least one of the two surfaces.

【0047】また、本実施形態においては、図11に示
すように、封止基板2をなくし、光透過基板13をパッ
ケージ11と接着することにより、パッケージ11を封
止することも可能である。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 11, it is possible to seal the package 11 by removing the sealing substrate 2 and adhering the light transmitting substrate 13 to the package 11.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上のように、本発明の第1の半導体レ
ーザー装置によれば、記録媒体にレーザー光を照射する
半導体レーザー素子と、前記半導体レーザー素子から射
出されたレーザー光の前記記録媒体での戻り光を回折す
る回折格子と、前記回折格子によって回折された前記戻
り光を受光する受光素子と、前記半導体レーザー素子お
よび前記受光素子を収容するパッケージと、前記パッケ
ージを封止する封止基板とを備えた半導体レーザ装置で
あって、前記パッケージと前記封止基板とが接着剤を介
して接着されており、この接着部において、前記パッケ
ージおよび前記封止基板の少なくとも一方の接着面に凹
部または凸部を形成することにより、パッケージと封止
基板との間の接着強度の低下を抑制し、この両者間の位
置ずれに起因する光学特性の変化を抑制することができ
る。
As described above, according to the first semiconductor laser device of the present invention, a semiconductor laser element for irradiating a recording medium with a laser beam, and the recording medium of the laser beam emitted from the semiconductor laser element. Diffraction grating for diffracting the return light at, a light receiving element for receiving the return light diffracted by the diffraction grating, a package for housing the semiconductor laser element and the light receiving element, and a sealing for sealing the package A semiconductor laser device comprising a substrate, wherein the package and the encapsulation substrate are adhered to each other via an adhesive, and at this adhering portion, the package and the encapsulation substrate are bonded to at least one of the adhering surfaces thereof. By forming the concave portion or the convex portion, it is possible to suppress the decrease in the adhesive strength between the package and the sealing substrate, which is caused by the positional deviation between the two. It is possible to suppress a change in academic performance.

【0049】また、本発明の第2の半導体レーザー装置
によれば、記録媒体にレーザー光を照射する半導体レー
ザー素子と、前記半導体レーザー素子から射出されたレ
ーザー光の前記記録媒体での戻り光を分割する複合プリ
ズムと、前記複合プリズムによって分割された前記戻り
光を回折する回折格子と、前記回折格子によって回折さ
れた前記戻り光を受光する受光素子と、前記半導体レー
ザー素子および前記受光素子を収容するパッケージとを
備えた半導体レーザ装置であって、前記回折格子を光透
過基板表面に形成し、前記光透過基板と前記複合プリズ
ムとを接着剤を介して接着し、この接着部において、前
記複合プリズムおよび前記光透過基板の少なくとも一方
の接着面に凹部または凸部を形成することにより、複合
プリズムと光透過基板との間の接着強度の低下を抑制
し、この両者間の位置ずれに起因する光学特性の変化を
抑制することができる。
Further, according to the second semiconductor laser device of the present invention, a semiconductor laser element for irradiating a recording medium with a laser beam and a return beam of the laser beam emitted from the semiconductor laser element on the recording medium are provided. A compound prism for splitting, a diffraction grating for diffracting the return light split by the compound prism, a light receiving element for receiving the return light diffracted by the diffraction grating, a semiconductor laser element and the light receiving element A semiconductor laser device including a package for forming the diffraction grating on the surface of a light transmitting substrate, and adhering the light transmitting substrate and the composite prism with an adhesive. By forming a concave portion or a convex portion on the bonding surface of at least one of the prism and the light transmitting substrate, the composite prism and the light transmitting Suppressing a decrease in bonding strength between the plate, it is possible to suppress a change in the optical properties due to the positional deviation between the two.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の一例を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a semiconductor laser device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第1の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic view showing another example of the semiconductor laser device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第1の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing another example of the semiconductor laser device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の第1の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing another example of the semiconductor laser device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の第2の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の一例を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第2の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic view showing another example of the semiconductor laser device according to the second embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の第2の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic view showing another example of the semiconductor laser device according to the second embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の第2の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing another example of the semiconductor laser device according to the second embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の第2の実施形態に係る半導体レーザ
ー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing another example of the semiconductor laser device according to the second embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の第2の実施形態に係る半導体レー
ザー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing another example of the semiconductor laser device according to the second embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の第2の実施形態に係る半導体レー
ザー装置の別の一例を示す模式図である。
FIG. 11 is a schematic view showing another example of the semiconductor laser device according to the second embodiment of the present invention.

【図12】 従来の半導体レーザー装置を示す模式図で
ある。
FIG. 12 is a schematic view showing a conventional semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体レーザー素子 2 封止基板 3 コリメートレンズ 4 対物レンズ 5 記録媒体 6、14 回折格子 7 −1次回折光 8 0次回折光 9 +1次回折光 10、10a、10b 受光素子 11 パッケージ 12、12a、12b、12c、12d 接着剤 13 光透過基板 15 偏光ビームスプリッタ 16 ウォラストンプリズム 17 反射体 18 複合プリズム 19 台座部 20 基板 21 反射ミラー 1 Semiconductor laser device 2 Sealing substrate 3 Collimating lens 4 Objective lens 5 recording media 6, 14 Diffraction grating 7 -1st order diffracted light 80th-order diffracted light 9 + 1st order diffracted light 10, 10a, 10b Light receiving element 11 packages 12, 12a, 12b, 12c, 12d adhesive 13 Light transmission substrate 15 Polarizing beam splitter 16 Wollaston Prism 17 Reflector 18 compound prism 19 pedestal 20 substrates 21 reflective mirror

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D119 AA36 FA05 FA28 FA30 JA10 JA13 5D789 AA36 FA05 FA28 FA30 JA10 JA13 5F073 AB25 BA04 EA29 FA02 FA29 5F089 AA02 AB01 CA21 GA10    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 5D119 AA36 FA05 FA28 FA30 JA10                       JA13                 5D789 AA36 FA05 FA28 FA30 JA10                       JA13                 5F073 AB25 BA04 EA29 FA02 FA29                 5F089 AA02 AB01 CA21 GA10

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記録媒体にレーザー光を照射する半導体
レーザー素子と、前記半導体レーザー素子から射出され
たレーザー光の前記記録媒体での戻り光を回折する回折
格子と、前記回折格子によって回折された前記戻り光を
受光する受光素子と、前記半導体レーザー素子および前
記受光素子を収容するパッケージと、前記パッケージを
封止する封止基板とを備えた半導体レーザ装置であっ
て、前記パッケージと前記封止基板とが接着剤を介して
接着されており、この接着部において、前記パッケージ
および前記封止基板の少なくとも一方の接着面に、凹部
または凸部が形成されていることを特徴とする半導体レ
ーザー装置。
1. A semiconductor laser element for irradiating a recording medium with a laser beam, a diffraction grating for diffracting a return beam of the laser beam emitted from the semiconductor laser element on the recording medium, and a diffraction grating diffracted by the diffraction grating. What is claimed is: 1. A semiconductor laser device comprising: a light receiving element that receives the return light; a package that houses the semiconductor laser element and the light receiving element; and a sealing substrate that seals the package. A semiconductor laser device, which is bonded to a substrate via an adhesive, and at this bonded portion, a concave portion or a convex portion is formed on the bonding surface of at least one of the package and the sealing substrate. .
【請求項2】 前記回折格子が、前記封止基板表面に形
成されている請求項1に記載の半導体レーザー装置。
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the diffraction grating is formed on the surface of the sealing substrate.
【請求項3】 更に、前記記録媒体と前記封止基板との
間に配置された光透過基板を備え、前記回折格子が前記
光透過基板表面に形成されている請求項1に記載の半導
体レーザー装置。
3. The semiconductor laser according to claim 1, further comprising a light transmitting substrate disposed between the recording medium and the sealing substrate, wherein the diffraction grating is formed on the surface of the light transmitting substrate. apparatus.
【請求項4】 更に、前記記録媒体と前記回折格子との
間に配置され、前記半導体レーザー素子から射出された
レーザー光の前記記録媒体での戻り光を分光する複合プ
リズムを備えている請求項1〜3のいずれかに記載の半
導体レーザー装置。
4. A composite prism disposed between the recording medium and the diffraction grating and configured to disperse the return light of the laser light emitted from the semiconductor laser element on the recording medium. The semiconductor laser device according to any one of 1 to 3.
【請求項5】 記録媒体にレーザー光を照射する半導体
レーザー素子と、前記半導体レーザー素子から射出され
たレーザー光の前記記録媒体での戻り光を分割する複合
プリズムと、前記複合プリズムによって分割された前記
戻り光を回折する回折格子と、前記回折格子によって回
折された前記戻り光を受光する受光素子と、前記半導体
レーザー素子および前記受光素子を収容するパッケージ
とを備えた半導体レーザ装置であって、前記回折格子が
光透過基板表面に形成されており、前記光透過基板と前
記複合プリズムとが接着剤を介して接着され、この接着
部において、前記複合プリズムおよび前記光透過基板の
少なくとも一方の接着面に、凹部または凸部が形成され
ていることを特徴とする半導体レーザー装置。
5. A semiconductor laser element for irradiating a recording medium with laser light, a composite prism for dividing return light of the laser light emitted from the semiconductor laser element on the recording medium, and a composite prism A semiconductor laser device comprising a diffraction grating that diffracts the return light, a light receiving element that receives the return light diffracted by the diffraction grating, and a package that accommodates the semiconductor laser element and the light receiving element, The diffraction grating is formed on the surface of the light-transmitting substrate, the light-transmitting substrate and the composite prism are adhered to each other via an adhesive, and at this bonding portion, at least one of the composite prism and the light-transmitting substrate is bonded. A semiconductor laser device having a concave portion or a convex portion formed on a surface thereof.
【請求項6】 前記パッケージが、前記光透過基板と接
着剤を介して接着されることにより封止されている請求
項5に記載の半導体レーザー装置。
6. The semiconductor laser device according to claim 5, wherein the package is sealed by being bonded to the light transmitting substrate via an adhesive.
【請求項7】 前記パッケージと前記光透過基板との接
着部において、前記パッケージおよび前記光透過基板の
少なくとも一方の接着面に、凹部または凸部が形成され
ている請求項6に記載の半導体レーザー装置。
7. The semiconductor laser according to claim 6, wherein a concave portion or a convex portion is formed on the bonding surface of at least one of the package and the light transmitting substrate at the bonding portion between the package and the light transmitting substrate. apparatus.
【請求項8】 更に、前記パッケージを封止するための
封止基板を備えている請求項5に記載の半導体レーザー
装置。
8. The semiconductor laser device according to claim 5, further comprising a sealing substrate for sealing the package.
【請求項9】 前記パッケージと前記封止基板とが接着
剤を介して接着されており、この接着部において、前記
パッケージおよび前記封止基板少なくとも一方の接着面
に、凹部または凸部が形成されている請求項8に記載の
半導体レーザー装置。
9. The package and the sealing substrate are adhered to each other via an adhesive, and a concave portion or a convex portion is formed on an adhesive surface of at least one of the package and the sealing substrate at the adhesive portion. The semiconductor laser device according to claim 8.
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