JP2003074744A - Vacuum valve - Google Patents

Vacuum valve

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JP2003074744A
JP2003074744A JP2001264319A JP2001264319A JP2003074744A JP 2003074744 A JP2003074744 A JP 2003074744A JP 2001264319 A JP2001264319 A JP 2001264319A JP 2001264319 A JP2001264319 A JP 2001264319A JP 2003074744 A JP2003074744 A JP 2003074744A
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JP
Japan
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valve
valve body
seal
valve element
vacuum
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JP2001264319A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Harunari
昭一 春成
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum valve structured to reduce dust produced from a vacuum seal and to suppress the scatter of dust, and its operating method. SOLUTION: This vacuum valve is provided with a first valve element 3 of plate shape controlled to move following opening/closing operation; a second valve element 4 disposed between the first valve element 3 and a valve seat 9 and driven interlocked with the first valve element 3; a first seal 5 provided on the second valve element 4 side face of the first valve element 3; a second seal 6 provided on the valve seat 9 side face of the second valve element 4; an adjusting means for adjusting the motion of the second valve element 4 to the first valve element 3 so that the first valve element 3 is released from the second valve element 4 in the state of maintaining the contact state of the valve seat 9 and second valve element 4 in a first stage when the first valve element 3 is operated to open and to release the second valve element 4 from the valve seat 9 in a following second stage; and a ventilating part 4b provided at the center part of the second valve element 4. It is preferable to provide the ventilating part 4b with a dust filter 4c.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造設備等
で使用される真空バルブに関する。詳しくは、ダストの
発生を抑制する構造を備えた真空バルブに係るものであ
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a vacuum valve used in a semiconductor manufacturing facility or the like. Specifically, the present invention relates to a vacuum valve having a structure that suppresses the generation of dust.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば半導体製造設備においては、真空
チャンバ内を真空に保持してウエハの表面処理やエッチ
ング等の処理を行う。真空チャンバ内は真空ポンプを用
いて排気され、真空バルブを閉めて真空を保持する。ウ
エハの処理を行うと、真空チャンバ内に不純物等がダス
トとして浮遊したり壁面に付着し、半導体製品の歩留ま
りを著しく低下させることになるので、所定サイクル
で、もしくはウエハダストをモニターし、あるダスト規
格で真空チャンバを大気に戻し、ダスト除去メンテナン
スを行う必要がある。
2. Description of the Related Art For example, in a semiconductor manufacturing facility, the inside of a vacuum chamber is kept in vacuum to perform a surface treatment, etching, etc. on a wafer. The inside of the vacuum chamber is evacuated using a vacuum pump, and the vacuum valve is closed to maintain the vacuum. When a wafer is processed, impurities and the like float in the vacuum chamber as dust or adhere to the wall surface, significantly lowering the yield of semiconductor products. It is necessary to return the vacuum chamber to the atmosphere and perform dust removal maintenance.

【0003】図3は特開平1−10822号公報に開示
された真空バルブの構造を示すものである。この従来例
において、箱形の弁箱11の側壁11aおよび11bに
はそれぞれ真空チャンバ10および真空ポンプ(図示せ
ず)に通ずる開口部12aおよび12bが設けられ、開
口部12aには弁座13が取り付けられている。弁座1
3に着座する弁箱11内の弁体14には端面にシール1
4aが設けられており、他端部には弁棒15の一端部が
取り付けられている。弁箱11には、弁箱11内に挿入
された筒状の第1の軸受支持体16が取り付けられ、そ
の第1の軸受支持体16の弁箱11内の一端部には第1
の球面軸受17が設けられ、その第1の球面軸受17が
弁棒15の中途部を軸支している。第1の球面軸受17
から弁箱11の外に出た弁棒15の端部には、第2の球
面軸受18を介して、弁棒駆動用シリンダ19が取り付
けられている。弁棒15の弁箱11内部の部分にはベロ
ーズ固定用板20が固定されており、このベローズ固定
用板20と弁箱11の壁面との間に、第1の球面軸受1
7の周囲を覆うように、可撓性のベローズ21が取り付
けられている。
FIG. 3 shows the structure of the vacuum valve disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10822/1989. In this conventional example, side walls 11a and 11b of a box-shaped valve box 11 are provided with openings 12a and 12b communicating with a vacuum chamber 10 and a vacuum pump (not shown), respectively, and a valve seat 13 is provided in the opening 12a. It is installed. Valve seat 1
A seal is provided on the end face of the valve body 14 in the valve box 11 seated on
4a is provided, and one end of the valve rod 15 is attached to the other end. A cylindrical first bearing support 16 inserted into the valve box 11 is attached to the valve box 11, and the first bearing support 16 has a first bearing support member 16 at one end in the valve box 11.
Spherical bearing 17 is provided, and the first spherical bearing 17 pivotally supports a middle portion of the valve rod 15. First spherical bearing 17
A valve rod driving cylinder 19 is attached to the end of the valve rod 15 protruding from the valve box 11 via a second spherical bearing 18. A bellows fixing plate 20 is fixed to a portion of the valve rod 15 inside the valve box 11, and a first spherical bearing 1 is provided between the bellows fixing plate 20 and the wall surface of the valve box 11.
A flexible bellows 21 is attached so as to cover the periphery of 7.

【0004】このような構造の従来の真空バルブにおい
て、弁を開く場合は、弁棒駆動用シリンダ19を後退さ
せると、弁棒15の他端が第2の球面軸受18を介して
図面のa方向に駆動され、第1の球面軸受17を支点と
して、弁棒15の先端がc方向に駆動され、弁体14の
端面のシール14aと弁座13との間が開放して、真空
チャンバ10内部と弁箱11内が開口部12aを介して
連通状態となる。反対に、弁を閉じる場合は、弁棒駆動
用シリンダ19を前進させると、弁棒15の他端が第2
の球面軸受18を介して図面のb方向に駆動され、第1
の球面軸受17を支点として、弁棒15の先端がd方向
に駆動され、弁体14の端面のシール14aと弁座13
との間が密着して、真空チャンバ10内部と弁箱11内
が閉止状態となる。
In the conventional vacuum valve having such a structure, when the valve is opened, the valve rod driving cylinder 19 is retracted, and the other end of the valve rod 15 is inserted through the second spherical bearing 18 to cause a Driven in the direction, the tip of the valve rod 15 is driven in the c direction with the first spherical bearing 17 as a fulcrum, the space between the seal 14a on the end face of the valve body 14 and the valve seat 13 is opened, and the vacuum chamber 10 The inside and the inside of the valve box 11 are in communication with each other through the opening 12a. On the contrary, when closing the valve, when the valve rod driving cylinder 19 is moved forward, the other end of the valve rod 15 moves to the second position.
Driven in the direction of b in the drawing through the spherical bearing 18 of
With the spherical bearing 17 as a fulcrum, the tip of the valve rod 15 is driven in the d direction, and the seal 14a and the valve seat 13 on the end face of the valve body 14 are driven.
And the inside of the vacuum chamber 10 and the inside of the valve box 11 are closed.

【0005】この従来例においては、弁体14の開閉時
において、ベローズ21が弁箱11内の雰囲気と、第1
の球面軸受17とを遮断しているので、第1の球面軸受
17の摩耗によって生じたダストは弁箱11内の雰囲気
に伝わらなくなり、したがって、真空チャンバ10内へ
のダストの侵入が防止されるというものである。
In this prior art example, when the valve body 14 is opened and closed, the bellows 21 is kept in contact with the atmosphere inside the valve box 11 and the first
Since it is isolated from the spherical bearing 17 of the first spherical bearing 17, the dust generated by the wear of the first spherical bearing 17 is not transmitted to the atmosphere in the valve box 11, so that the dust is prevented from entering the vacuum chamber 10. That is.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来例で
は、弁棒15と第1の球面軸受17との摩耗によるダス
トの発塵をベローズ21で防止している。しかし、真空
バルブの開閉により、シール14aが繰り返し圧縮され
て劣化し、また弁座13との摩擦により発塵しやすい。
そして真空バルブを開いた時の弁箱11内と真空チャン
バ10内の差圧によって、そのダストが飛散される。こ
のようなシール14aからのダストの発塵、飛散に対し
ては、従来例のベローズ21は何らの効き目がない。
As described above, in the conventional example, the bellows 21 prevents dust generation due to wear of the valve rod 15 and the first spherical bearing 17. However, when the vacuum valve is opened and closed, the seal 14a is repeatedly compressed and deteriorated, and dust is easily generated due to friction with the valve seat 13.
The dust is scattered due to the pressure difference between the inside of the valve box 11 and the inside of the vacuum chamber 10 when the vacuum valve is opened. The bellows 21 of the conventional example has no effect on such dust generation and scattering from the seal 14a.

【0007】そのような問題の対策としては、従来の構
造であれば、シール14aの材質を、摩耗、劣化しにく
い材質に改善するか、短期間でシール14aを交換する
しかなかった。しかし、それでは、材料コストがアップ
し、また保守、点検の工数が多くなる。
In order to solve such a problem, in the case of the conventional structure, the material of the seal 14a should be improved to a material which is less likely to be worn or deteriorated, or the seal 14a should be replaced in a short period of time. However, this increases the material cost and increases the man-hours for maintenance and inspection.

【0008】そこで本発明が解決しようとする課題は、
シールからの発塵を低減し、さらにダストの飛散を抑制
できる構造の真空バルブを提供することにある。
[0008] Therefore, the problem to be solved by the present invention is
It is intended to provide a vacuum valve having a structure capable of reducing dust generation from a seal and further suppressing dust scattering.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の真空バルブは、開閉操作に伴って移動制御
される板状の第1の弁体と、この第1の弁体と弁座との
間に配設され、第1の弁体と連動して駆動される第2の
弁体と、前記第1の弁体における前記第2の弁体との接
触部に取り付けられた第1のシールと、前記第2の弁体
における前記弁座との接触部に取り付けられた第2のシ
ールと、前記第1の弁体が開操作されたときに、第1段
階では前記弁座と第2の弁体との接触状態を保った状態
で第1の弁体が第2の弁体から開放するように、第1段
階に続く第2段階では前記第2の弁体が前記弁座から開
放するように、前記第1の弁体に対する第2の弁体の動
きを調整する調整手段と、前記第2の弁体における前記
第2のシールの内側に設けられた通気部とを備えたもの
である。
In order to solve the above-mentioned problems, a vacuum valve according to the present invention includes a plate-shaped first valve body whose movement is controlled in accordance with an opening / closing operation, and the first valve body and the valve. A second valve body which is arranged between the seat and a second valve body which is driven in conjunction with the first valve body, and which is attached to a contact portion of the first valve body with the second valve body. No. 1 seal, a second seal attached to a contact portion of the second valve body with the valve seat, and when the first valve body is operated to open, in the first stage, the valve seat So that the first valve body is released from the second valve body while maintaining the contact state between the first valve body and the second valve body in the second stage following the first stage. Adjusting means for adjusting the movement of the second valve body with respect to the first valve body so as to be released from the seat, and the inside of the second seal in the second valve body It is obtained by a provided ventilation unit.

【0010】本発明においては、真空バルブを開くと、
まず第1の弁体は第2の弁体から離れ、第2の弁体は閉
じた状態となる。これにより、第2の弁体の通気部から
弁座を介して真空チャンバ内に外気が導入される。この
通気部は、真空バルブ開放時の真空チャンバと外部との
差圧に基づく急激な圧力変化を緩和する。そのため、ダ
ストの巻き上げが抑制される。さらに真空バルブが開放
されると、第2の弁体も弁座から開放される。
In the present invention, when the vacuum valve is opened,
First, the first valve body separates from the second valve body, and the second valve body is closed. As a result, outside air is introduced into the vacuum chamber from the ventilation portion of the second valve body via the valve seat. The ventilation portion absorbs a sudden pressure change based on the pressure difference between the vacuum chamber and the outside when the vacuum valve is opened. Therefore, the dust is prevented from being rolled up. When the vacuum valve is further opened, the second valve body is also released from the valve seat.

【0011】好適には、通気部にダストフィルタを設け
ることで、第1のシール材からの発塵物、巻き上げられ
たダストがダストフィルタで捕捉される。
Preferably, by providing a dust filter in the ventilation section, the dust generated from the first sealing material and the dust that has been rolled up are captured by the dust filter.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。図1は本発明に係る真空バルブの実施形態
の構成を示すもので、図1(a)は正面図、(b)は背
面図、(c)は(a)のA−A’断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. 1A and 1B show a configuration of an embodiment of a vacuum valve according to the present invention. FIG. 1A is a front view, FIG. 1B is a rear view, and FIG. 1C is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. is there.

【0013】本実施形態において、真空バルブ1は、駆
動機構(図示せず)によってe,f方向に開閉操作され
る弁棒2と、この弁棒2の先端に連結された板状の第1
の弁体3と、第1の弁体3と弁座9との間に配設された
第2の弁体4とを備えている。弁棒2と第1の弁体3と
は、第1の弁体3に固定された2枚の取り付け部3cの
間に挿入した弁棒2の先端をピン2aで取り付けること
により、所定の回動の自由度を持って連結されている。
第1の弁体3および第2の弁体4には、それぞれ円形状
の溝3a,4aが形成されており、そこに第1のシール
5および第2のシール6が装着され、固定されている。
In the present embodiment, the vacuum valve 1 includes a valve rod 2 which is opened and closed in the e and f directions by a drive mechanism (not shown), and a plate-shaped first rod connected to the tip of the valve rod 2.
2 and a second valve body 4 arranged between the first valve body 3 and the valve seat 9. The valve rod 2 and the first valve body 3 are attached at a predetermined rotation by attaching the tip of the valve rod 2 inserted between the two attachment portions 3c fixed to the first valve body 3 with a pin 2a. It is connected with the freedom of movement.
The first valve body 3 and the second valve body 4 are respectively formed with circular grooves 3a and 4a, and the first seal 5 and the second seal 6 are attached and fixed therein. There is.

【0014】第1および第2のシール5および6の素材
としては、Viton社製のガスケット等、一般的に使
用される材質のものを用いることができる。
As the material for the first and second seals 5 and 6, a commonly used material such as a gasket manufactured by Viton can be used.

【0015】第1の弁体3には、第1のシール5の外側
の円周上に複数箇所、本例では3箇所のガイド孔3bが
設けられている。第2の弁体4には、ガイド軸7の基端
が固定されており、このガイド軸7は、第1の弁体3に
設けられたガイド孔3bに挿通されている。ガイド孔3
bの内径はガイド軸7の外径よりも十分に大きく、第1
の弁体3が第2の弁体4に対して移動しても、ガイド軸
7とガイド孔3bは接触しないようにしている。ガイド
軸7の先端にはストッパ7aが形成されており、このス
トッパ7aと第1の弁体3との間に、コイルバネ8が装
着されている。このコイルバネ8は、バルブ開放時には
非圧縮状態であり、第1の弁体3の第1のシール5と第
2の弁体4との間の間隔は全開放ストロークs0を有し
ている。
The first valve body 3 is provided with a plurality of guide holes 3b, in this example, three guide holes 3b on the outer circumference of the first seal 5. A base end of a guide shaft 7 is fixed to the second valve body 4, and the guide shaft 7 is inserted into a guide hole 3b provided in the first valve body 3. Guide hole 3
The inner diameter of b is sufficiently larger than the outer diameter of the guide shaft 7,
Even if the valve body 3 moves with respect to the second valve body 4, the guide shaft 7 and the guide hole 3b are prevented from coming into contact with each other. A stopper 7a is formed at the tip of the guide shaft 7, and a coil spring 8 is mounted between the stopper 7a and the first valve body 3. The coil spring 8 is in a non-compressed state when the valve is opened, and the gap between the first seal 5 of the first valve body 3 and the second valve body 4 has a full opening stroke s 0 .

【0016】第2の弁体4の中心部には通気部としての
孔4bが開けられている。この孔4bは、バルブ開時の
真空状態からの急激な圧力変化を緩和するものであり、
差圧の程度・発塵量・発塵源に合わせて個数・径・孔位
置を設定できる。この孔4bによる圧力変化緩和作用に
よりダストの巻き上げが抑制され、真空チャンバ内への
ダストの侵入抑制作用が改善されるが、さらにダストを
捕集するために、孔4bにダストフィルタ4cを装着し
ている。
A hole 4b as a ventilation portion is formed in the center of the second valve body 4. This hole 4b is for alleviating a sudden pressure change from the vacuum state when the valve is opened.
The number, diameter, and hole position can be set according to the degree of differential pressure, dust generation, and dust source. The effect of reducing the pressure change by the hole 4b suppresses the dust from being rolled up, and the effect of suppressing the intrusion of dust into the vacuum chamber is improved. However, in order to further collect the dust, the dust filter 4c is attached to the hole 4b. ing.

【0017】次に、この実施形態の動作を、図2を参照
して説明する。まず、弁棒2がeの方向に操作された図
2(a)のバルブ閉状態では、第1の弁体3及び第2の
弁体4は弁棒2の力で弁座9側に密着しており、第1お
よび第2のシール5および6の作用で、真空チャンバ1
0内はシール状態を保っている。このとき、コイルバネ
8は延びた状態にある。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIG. First, in the valve closed state of FIG. 2 (a) in which the valve rod 2 is operated in the direction e, the first valve body 3 and the second valve body 4 are brought into close contact with the valve seat 9 side by the force of the valve rod 2. And the action of the first and second seals 5 and 6 causes the vacuum chamber 1 to
The inside of 0 is kept in a sealed state. At this time, the coil spring 8 is in an extended state.

【0018】次に、図2(a)のバルブ閉状態から図2
(b)に示すようにfの方向に、弁棒2を所定の1次開
放ストロークs1だけ移動させる。この1次開放ストロ
ークs1は、図2(a)の状態から、第1の弁体3の第
1のシール5が第2の弁体4から離れるが、第2の弁体
4の第2のシール6はコイルバネ8の付勢力で弁座9側
に密着している状態へ移行する距離である。すなわち、
第2の弁体は、前述の全開放ストロークs0と1次開放
ストロークs1の差である圧縮ストロークs=s 0−s1
で弁座9に圧縮されていることになる。この状態で、孔
4bを通して弁箱側から真空チャンバ10ヘ気流が発生
するが、孔4bの通過抵抗により急激な圧力変化が緩和
される。そのため、弁体周辺のダストが巻き上げられに
くくなる。さらに、孔4bに装着されているダストフィ
ルタ4cを気流が通過することにより、第1のシール5
から発塵するダストやコイルバネ8からのダストあるい
は高圧側の弁箱(図示せず)からのダストを捕捉する。
Next, from the valve closed state of FIG. 2 (a) to FIG.
As shown in (b), the valve rod 2 is opened in a predetermined direction in the direction of f.
Release stroke s1Just move. This first open stro
Ark1From the state shown in FIG. 2 (a),
Although the seal 5 of 1 separates from the second valve body 4,
The second seal 6 of No. 4 is the valve seat 9 side by the urging force of the coil spring 8.
Is the distance to move to the state of being in close contact with. That is,
The second valve body has the above-mentioned full opening stroke s.0And primary opening
Stroke s1Difference of compression stroke s = s 0-S1
Therefore, the valve seat 9 is compressed. In this state, the hole
An air flow is generated from the valve box side to the vacuum chamber 10 through 4b.
However, the sudden pressure change is eased by the passage resistance of the hole 4b.
To be done. Therefore, dust around the valve body is not rolled up.
It gets harder. In addition, the dust filter installed in the hole 4b
As the air flow passes through the filter 4c, the first seal 5
From the dust generated from the coil spring 8 or
Captures dust from the high pressure side valve box (not shown).

【0019】真空チャンバ10内と弁箱側との差圧が小
さくなった状態で、弁棒2をさらに開くと、図2(c)
に示すように、コイルスプリング8の付勢力がなくな
り、第2の弁体4も第1の弁体3と共に移動し、第2の
シール6も弁座9を離れる。このとき、真空チャンバ1
0と弁箱との差圧が緩和ないし解消されているので、差
圧による第2のシール6からのダストの巻き上げが軽減
できる。
When the valve rod 2 is further opened with the pressure difference between the inside of the vacuum chamber 10 and the valve box side being reduced, FIG.
As shown in FIG. 5, the biasing force of the coil spring 8 disappears, the second valve body 4 also moves together with the first valve body 3, and the second seal 6 also leaves the valve seat 9. At this time, the vacuum chamber 1
Since the differential pressure between 0 and the valve box is alleviated or eliminated, the rolling up of dust from the second seal 6 due to the differential pressure can be reduced.

【0020】この図2に示すバルブ閉状態(a)からバ
ルブ開動作中状態(b)、さらにバルブ開状態(c)へ
弁棒2を操作するステップは、バルブ閉状態(a)から
バルブ開状態(c)に連続的に移行する途中でバルブ開
動作中状態(b)における真空チャンバ10と弁箱との
差圧が解消する時間が確保できるように、弁棒2を徐々
に連続的に移動させる方法と、弁棒2を一旦バルブ開動
作中状態(b)で停止させ、真空チャンバ10と弁箱と
の差圧が解消するタイミングでバルブ開状態(c)に移
行する方法を採ることができる。
The step of operating the valve rod 2 from the valve closed state (a) to the valve opening operation state (b) to the valve open state (c) shown in FIG. During the continuous transition to the state (c), the valve rod 2 is gradually and continuously so as to secure a time for eliminating the pressure difference between the vacuum chamber 10 and the valve box in the valve opening operation state (b). A method of moving the valve rod 2 and a method of temporarily stopping the valve rod 2 in the valve opening operation state (b) and shifting to the valve opening state (c) at the timing when the pressure difference between the vacuum chamber 10 and the valve box is eliminated. You can

【0021】なお、本実施形態において、バルブ開動作
中状態で第2の弁体4を弁座9側に付勢する付勢手段と
して、コイルバネ8を用いたが、それ以外の付勢手段、
たとえばつるまきバネや板バネなどの各種のバネ、ダシ
ュポットなどの緩衝機構、永久磁石の吸引ないし反発作
用を利用した磁気手段などを利用することができる。
In this embodiment, the coil spring 8 is used as the urging means for urging the second valve body 4 toward the valve seat 9 in the valve opening operation state, but other urging means,
For example, various springs such as a spiral spring and a leaf spring, a buffer mechanism such as a dashpot, and magnetic means utilizing the attraction or repulsion action of a permanent magnet can be used.

【0022】また、孔4bに装着するダストフィルタ4
cは、第1のシール5からの発塵物・バルブ開時の差圧
によるダスト巻き上げが高真空側に飛散するのを捕捉す
る機能を有するが、このダストフィルタ4cとしては、
フッ素樹脂等の繊維状のもの、ガスフィルタ等の多孔質
のセラミックや金属焼結体を用いることができる。な
お、ダストフィルタ4c自体が急激な圧力変化を緩和す
る通気抵抗を有している場合には、孔4bは小径孔にす
る必要はなく、ダストフィルタ4cを装着する大きさの
径でよい。
The dust filter 4 mounted in the hole 4b
c has a function of capturing dust particles from the first seal 5 and dust winding due to the differential pressure when the valve is open, scattered to the high vacuum side. As the dust filter 4c,
A fibrous material such as a fluororesin, a porous ceramic such as a gas filter, or a metal sintered body can be used. When the dust filter 4c itself has a ventilation resistance that absorbs a sudden pressure change, the hole 4b does not need to be a small diameter hole, and may have a diameter for mounting the dust filter 4c.

【0023】[0023]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば次の効
果を奏する。
As described above, the present invention has the following effects.

【0024】(1)請求項1に記載の発明によれば、第
1の弁体と弁座との間に、通気部を有する第2の弁体を
設けたことにより、真空バルブを開く過程でまず第1の
弁体が第2の弁体から離れるが、第2の弁体はまだ閉じ
た状態のままであるため、第2の弁体の通気部から弁座
を介して真空チャンバ内に外気が導入され、このとき通
気部により、真空バルブ開放時の差圧による急激な圧力
変化が緩和される。そのため、ダストの巻き上げが抑制
され、第1の弁体に取り付けられている第1のシールか
らの発塵を低減し、さらにダストの飛散を抑制できる。
(1) According to the invention described in claim 1, the process of opening the vacuum valve by providing the second valve body having the ventilation portion between the first valve body and the valve seat. First, the first valve body separates from the second valve body, but the second valve body is still in the closed state. Therefore, the inside of the vacuum chamber is passed from the ventilation portion of the second valve body through the valve seat. The outside air is introduced into the chamber, and at this time, the aeration portion reduces the sudden pressure change due to the differential pressure when the vacuum valve is opened. Therefore, it is possible to suppress the dust from being wound up, reduce the dust generated from the first seal attached to the first valve body, and further suppress the scattering of the dust.

【0025】(2)請求項2に記載の発明によれば、通
気部にダストフィルタを設けることで、第1のシールか
らの発塵物、巻き上げられたダストをダストフィルタで
捕捉することができるので、請求項1に記載の低発塵、
ダスト飛散抑制の効果と相まって、さらに真空チャンバ
内のダストの侵入を抑制することができる。これによ
り、第1のシールの材質として特殊な発塵対策を施した
ものを使用する必要がなくなり、シール材のコストアッ
プが解消されると共に、シール材の頻繁な交換が不要と
なり、工数削減を図ることができる。これにより、真空
チャンバ内で処理される半導体などの製品の不良発生が
さらに低減され、製品の品質が向上する。
(2) According to the second aspect of the present invention, by providing the dust filter in the ventilation portion, the dust generated from the first seal and the rolled-up dust can be captured by the dust filter. Therefore, the low dust generation according to claim 1,
In addition to the effect of suppressing dust scattering, it is possible to further suppress the intrusion of dust in the vacuum chamber. This eliminates the need to use a special dust-prevention material as the material of the first seal, which eliminates the cost increase of the seal material and eliminates the need for frequent replacement of the seal material, thus reducing the number of steps. Can be planned. This further reduces the occurrence of defects in products such as semiconductors processed in the vacuum chamber, and improves product quality.

【0026】(3)請求項3または4に記載の発明によ
れば、調整手段を、第2の弁体における第2のシールの
外側に基端部が固定されたガイド軸と、第1の弁体にお
ける第1のシールの外側に設けられてガイド軸が挿通自
在なガイド孔と、ガイド軸の先端部と第1の弁体との間
に設けられたバネとからなる構成とすることにより、第
2の弁体が第1の弁体に対して移動しても、ガイド軸と
ガイド孔とが接触することがないので、擦れによる発塵
がない。またシールの外側にガイド軸とガイド孔とバネ
が配置されているので、たとえ発塵があってもシール外
であり、発塵の抑制、阻止を行うことができる。
(3) According to the invention described in claim 3 or 4, the adjusting means includes a guide shaft having a base end fixed to the outside of the second seal of the second valve body, and the first adjusting means. By having a guide hole that is provided outside the first seal in the valve body and through which the guide shaft can be inserted, and a spring that is provided between the tip end portion of the guide shaft and the first valve body. Even if the second valve body moves with respect to the first valve body, the guide shaft and the guide hole do not come into contact with each other, so that dust is not generated due to rubbing. Further, since the guide shaft, the guide hole, and the spring are arranged outside the seal, even if dust is generated, it is outside the seal, and it is possible to suppress or prevent dust generation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明に係る真空バルブの実施形態の構成を
示すもので、図1(a)は正面図、(b)は背面図、
(c)は(a)のA−A’断面図である。
1A and 1B show a configuration of an embodiment of a vacuum valve according to the present invention, FIG. 1A is a front view, FIG.
(C) is an AA 'sectional view of (a).

【図2】 本発明の実施形態の真空バルブ開動作による
弁体の動作を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing the operation of the valve element according to the vacuum valve opening operation of the embodiment of the present invention.

【図3】 従来の真空バルブの構造を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view showing a structure of a conventional vacuum valve.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空バルブ 2 弁棒 2a ピン 3 第1の弁体 3a 溝 3b ガイド孔 3c 取り付け部 4 第2の弁体 4a 溝 4b 孔 4c ダストフィルタ 5 第1のシール 6 第2のシール 7 ガイド軸 7a ストッパ 8 コイルバネ 9 弁座 10 真空チャンバ 1 vacuum valve 2 valve rod 2a pin 3 First valve body 3a groove 3b guide hole 3c mounting part 4 Second valve body 4a groove 4b hole 4c dust filter 5 First seal 6 Second seal 7 Guide shaft 7a stopper 8 coil spring 9 seat 10 vacuum chamber

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 開閉操作に伴って移動制御される板状の
第1の弁体と、 この第1の弁体と弁座との間に配設され、第1の弁体と
連動して駆動される第2の弁体と、 前記第1の弁体における前記第2の弁体との接触部に取
り付けられた第1のシールと、 前記第2の弁体における前記弁座との接触部に取り付け
られた第2のシールと、 前記第1の弁体が開操作されたときに、第1段階では前
記弁座と第2の弁体との接触状態を保った状態で第1の
弁体が第2の弁体から開放するように、第1段階に続く
第2段階では前記第2の弁体が前記弁座から開放するよ
うに、前記第1の弁体に対する第2の弁体の動きを調整
する調整手段と、 前記第2の弁体における前記第2のシールの内側に設け
られた通気部とを備えた真空バルブ。
1. A plate-shaped first valve body, the movement of which is controlled in accordance with an opening / closing operation, and the first valve body, which is disposed between the first valve body and the valve seat, and is interlocked with the first valve body. A second valve element to be driven, a first seal attached to a contact portion of the first valve element with the second valve element, and a contact with the valve seat of the second valve element And a second seal attached to the first valve body, and when the first valve body is opened, the first stage maintains the contact state between the valve seat and the second valve body in the first stage. A second valve for the first valve body such that the valve body opens from the second valve body, and in a second stage following the first stage, the second valve body opens from the valve seat. A vacuum valve comprising: an adjusting unit that adjusts the movement of the body; and a ventilation portion provided inside the second seal of the second valve body.
【請求項2】 前記通気部にダストフィルタを設けた請
求項1記載の真空バルブ。
2. The vacuum valve according to claim 1, wherein a dust filter is provided in the ventilation part.
【請求項3】 前記調整手段は、 前記第2の弁体における前記第2のシールの外側に基端
部が固定されたガイド軸と、 前記第1の弁体における前記第1のシールの外側に設け
られて前記ガイド軸が挿通自在なガイド孔と、 前記ガイド軸の先端部と前記第1の弁体との間に設けら
れたバネとからなる、請求項1記載の真空バルブ。
3. The guide means includes a guide shaft having a base end fixed to an outer side of the second seal of the second valve body, and an outer side of the first seal of the first valve body. The vacuum valve according to claim 1, further comprising: a guide hole provided in the guide shaft, through which the guide shaft can be inserted, and a spring provided between a tip end portion of the guide shaft and the first valve body.
【請求項4】 前記調整手段は、 前記第2の弁体における前記第2のシールの外側に基端
部が固定されたガイド軸と、 前記第1の弁体における前記第1のシールの外側に設け
られて前記ガイド軸が挿通自在なガイド孔と、 前記ガイド軸の先端部と前記第1の弁体との間に設けら
れたバネとからなる、請求項2記載の真空バルブ。
4. The guide means includes a guide shaft having a base end fixed to an outer side of the second seal of the second valve body, and an outer side of the first seal of the first valve body. The vacuum valve according to claim 2, further comprising: a guide hole that is provided in the guide hole and through which the guide shaft can be inserted; and a spring that is provided between a tip end portion of the guide shaft and the first valve body.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005076845A (en) * 2003-09-03 2005-03-24 Tokyo Electron Ltd Gate valve
KR101791593B1 (en) * 2015-11-13 2017-10-30 동아대학교 산학협력단 Disk for Gate Valve And Gate Valve Having the Same

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