JP2003064332A - Circuit-connecting adhesive and circuit-connected structural material by using the same - Google Patents

Circuit-connecting adhesive and circuit-connected structural material by using the same

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JP2003064332A
JP2003064332A JP2001261675A JP2001261675A JP2003064332A JP 2003064332 A JP2003064332 A JP 2003064332A JP 2001261675 A JP2001261675 A JP 2001261675A JP 2001261675 A JP2001261675 A JP 2001261675A JP 2003064332 A JP2003064332 A JP 2003064332A
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Japan
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circuit
adhesive
compound
bis
connection
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JP2001261675A
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Japanese (ja)
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Masami Yusa
正己 湯佐
Michiyuki Nomura
理行 野村
Tomoko Sudo
朋子 須藤
Yutaka Ono
裕 小野
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit-connecting adhesive excellent in low temperature rapid curing property, and also having a good preserving property and stable connection resistance, and a circuit-connected structural material by using the same. SOLUTION: This circuit-connecting adhesive being positioned between substrates having opposing electrodes, and connecting the electrodes electrically by pressurizing the substrates having opposing electrodes in pressurizing direction contains a radically polymerizable material and at least electric conductive particles surface-treated with a compound having at least 1 epoxy group.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回路接続用接着剤
およびそれを用いた回路接続構造体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an adhesive for circuit connection and a circuit connection structure using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体や液晶ディスプレイなどの
分野で電子部品を固定したり、回路接続を行うために各
種の接着材料が使用されている。これらの用途では、ま
すます高密度化、高精細化がすすみ、接着剤にも高い接
着力や信頼性が求められている。特に、回路接続材料と
しては、液晶ディスプレイとTCP又はFPCとTCP
との接続、FPCとプリント配線板との接続には接着剤
中に導電粒子を分散させた異方導電性接着剤が使用され
ている。また、最近では、半導体シリコンチップを基板
に実装する場合でも、従来のワイヤーボンドではなく、
半導体シリコンチップをフェイスダウンで基板に直接実
装するいわゆるフリップチップ実装が行われており、こ
こでも異方導電性接着剤の適用が開始されている(特開
昭59−120436号、特開昭60−191228
号、特開平1−251787号、特開平7−90237
号公報)。
2. Description of the Related Art In recent years, various adhesive materials have been used in the fields of semiconductors and liquid crystal displays for fixing electronic components and for making circuit connections. In these applications, higher densities and higher definition are progressing, and adhesives are required to have high adhesive strength and reliability. In particular, as the circuit connecting material, liquid crystal display and TCP or FPC and TCP
An anisotropic conductive adhesive in which conductive particles are dispersed in an adhesive is used for the connection with the FPC and the connection between the FPC and the printed wiring board. In addition, recently, even when mounting a semiconductor silicon chip on a substrate, instead of the conventional wire bond,
So-called flip-chip mounting in which a semiconductor silicon chip is directly mounted face down on a substrate is performed, and application of an anisotropic conductive adhesive is also started here (JP-A-59-120436, JP-A-60). -191228
JP-A-1-251787, JP-A-7-90237.
Issue).

【0003】また、近年、精密電子機器の分野では、回
路の高密度化が進んでおり、電極幅および電極間隔が極
めて狭くなっている。このため、従来のエポキシ樹脂系
を用いた回路接続用接着剤の接続条件では、配線の脱
落、剥離、位置ずれが生じるなどの問題点があった。ま
た、生産効率向上のために10秒以下で接続できるよう
な接続時間の短縮化が強く求められてきており、低温速
硬化性が必要不可欠となっている。そのため、特開平1
0−273636号公報にはラジカル重合性物質を使用
した回路接続用材料が開示されている。
Further, in recent years, in the field of precision electronic equipment, the circuit density has been increasing, and the electrode width and the electrode interval have become extremely narrow. Therefore, under the conventional connection conditions of the circuit connecting adhesive using the epoxy resin, there is a problem that the wiring is dropped, peeled, or displaced. Further, in order to improve the production efficiency, there is a strong demand for shortening the connection time so that the connection can be made in 10 seconds or less, and low temperature fast curing property is indispensable. Therefore, JP-A-1
0-273636 discloses a circuit connecting material using a radically polymerizable substance.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ラジカ
ル重合性化合物と導電粒子を含む接着剤を空気中に放置
すると接続した場合の接続抵抗が上昇するという問題が
ある。本発明は、低温速硬化性に優れ、かつ保存安定性
も良好で接続抵抗が安定した回路接続用接着剤およびそ
れを用いた回路接続構造体を提供することにある。
However, if the adhesive containing the radically polymerizable compound and the conductive particles is left in the air, there is a problem that the connection resistance when connecting is increased. An object of the present invention is to provide an adhesive for circuit connection, which has excellent low-temperature rapid curing property, good storage stability, and stable connection resistance, and a circuit connection structure using the same.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、相対向する回
路電極を有する基板間に介在させ、相対向する回路電極
を有する基板を加圧して加圧方向の電極間を電気的に接
続する回路接続用接着剤であって、前記接着剤にはラジ
カル重合性化合物および少なくとも1個のエポキシ基を
有する化合物で表面処理をした導電粒子を含むことを特
徴とする回路接続用接着剤であり、光または加熱により
ラジカルを発生する化合物、またはりん酸エステル化合
物を含む回路接続用接着剤である。また、本発明のもう
ひとつの形態は、回路接続用接着剤を相対向する回路電
極を有する基板間に介在させ、相対向する回路電極を有
する基板を加圧して加圧方向の電極間を電気的に接続し
た接続構造体であって、回路接続用接着剤がラジカル重
合性物質と少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物
で表面処理した導電粒子を含む接着剤である回路接続構
造体である。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a substrate having circuit electrodes facing each other is interposed, and a substrate having circuit electrodes facing each other is pressed to electrically connect the electrodes in the pressing direction. An adhesive for circuit connection, wherein the adhesive contains conductive particles surface-treated with a radically polymerizable compound and a compound having at least one epoxy group, It is an adhesive for circuit connection containing a compound that generates a radical by light or heating, or a phosphoric acid ester compound. Another aspect of the present invention is that an adhesive for circuit connection is interposed between substrates having circuit electrodes facing each other and pressure is applied to the substrate having circuit electrodes facing each other to electrically connect the electrodes in the pressing direction. And the circuit connection adhesive is a circuit connection structure in which the circuit connection adhesive is an adhesive containing radically polymerizable substances and conductive particles surface-treated with a compound having at least one epoxy group.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明で使用する導電粒子は、電
気的接続を得ることができる導電性を有していればとく
に制限はないが、Au、Ag、Ni、Cu、Co、はんだな
どの金属粒子やカーボンなどがある。また、非導電性の
ガラス、セラミックス、プラスチックなどを前記金属の
導電物質で被覆したものも使用できる。このとき、被覆
する金属層の厚さは十分な導電性を得るためには100
Å以上が好ましい。Co,Zn,Cu、Ni等の遷移金属
の上に貴金属類の層を設ける場合では、貴金属類層の欠
損や導電粒子の混合分散時に生じる貴金属類層の欠損等
により生じる酸化還元作用で遊離ラジカルが発生しポッ
トライフ低下引き起こすため、導電粒子を表面処理す
る。導電粒子は、回路接続用接着剤成分に対して、0.
1〜30体積%の範囲で使用し、好ましくは0.1〜2
0体積%の範囲で使用することができる。導電粒子の表
面を処理する化合物としては少なくとも1個のエポキシ
基を有する化合物が好ましい。少なくとも1個のエポキ
シ基を有する化合物としては、液体でも固体でもよく、
固体の場合は有機溶剤や水等に溶解させて使用する。ま
た、液体の化合物においても、有機溶剤等に溶解させて
使用することが好ましい。有機溶剤としては、少なくと
も1個のエポキシ基を有する化合物と反応性がなく少な
くとも1個のエポキシ基を有する化合物が溶解すれば特
に制限はないが、メタノール、エタノール、イソプロパ
ール、メチルエチルケトン、酢酸エチル、トルエンなど
が表面処理後の導電粒子を乾燥する点で好ましい。処理
液中に含まれる少なくとも1個のエポキシ基を有する化
合物の濃度としては、0.05〜20重量%が好まし
い。0.05重量%未満であると表面処理が有効に行わ
れず、20重量%を超えると導電粒子表面に被覆される
少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物の量が多く
なり、接続抵抗が高くなってしまう。処理をする場合の
温度、時間等の処理条件は特に制限はないが、おおむね
処理温度が室温(25℃)〜100℃、処理時間が10
秒〜1時間の範囲であると好ましい。また、処理した導
電粒子はろ過後、乾燥して使用する。乾燥条件は使用す
る有機溶媒により適宜選択されるが、室温(25℃)〜
150℃で行う。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The conductive particles used in the present invention are not particularly limited as long as they have conductivity capable of obtaining an electrical connection, but Au, Ag, Ni, Cu, Co, solder, etc. There are metal particles and carbon. Further, non-conductive glass, ceramics, plastic, etc. coated with a conductive material of the above metal can also be used. At this time, the thickness of the metal layer to be coated is 100 to obtain sufficient conductivity.
Å or more is preferable. When a layer of a noble metal is provided on a transition metal such as Co, Zn, Cu, or Ni, free radicals are generated by a redox action caused by a defect of the noble metal layer or a defect of the noble metal layer generated during mixed dispersion of conductive particles. Occurs and causes a decrease in pot life, so the conductive particles are surface-treated. The conductive particles are added to the adhesive component for circuit connection in an amount of 0.
Used in the range of 1 to 30% by volume, preferably 0.1 to 2
It can be used in the range of 0% by volume. As the compound for treating the surface of the conductive particles, a compound having at least one epoxy group is preferable. The compound having at least one epoxy group may be liquid or solid,
If it is a solid, dissolve it in an organic solvent or water before use. Further, it is preferable to use a liquid compound after dissolving it in an organic solvent or the like. The organic solvent is not particularly limited as long as it is not reactive with the compound having at least one epoxy group and can dissolve the compound having at least one epoxy group, but is not limited to methanol, ethanol, isopropar, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, Toluene or the like is preferable in terms of drying the conductive particles after the surface treatment. The concentration of the compound having at least one epoxy group contained in the treatment liquid is preferably 0.05 to 20% by weight. If it is less than 0.05% by weight, the surface treatment is not effectively carried out, and if it exceeds 20% by weight, the amount of the compound having at least one epoxy group coated on the surface of the conductive particles is increased and the connection resistance is increased. Will end up. The treatment conditions such as temperature and time for treatment are not particularly limited, but the treatment temperature is generally room temperature (25 ° C) to 100 ° C, and the treatment time is 10
It is preferably in the range of seconds to 1 hour. The treated conductive particles are filtered and then dried before use. The drying conditions are appropriately selected depending on the organic solvent used, but may range from room temperature (25 ° C) to
Perform at 150 ° C.

【0007】本発明で表面処理に使用する少なくとも1
個のエポキシ基を有する化合物としては、フェニグリシ
ジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、γ―
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ―グリシ
ドキシプロピルトリエトキシシラン、γ―グリシドキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ―グリシドキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、β-(3,4エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、
ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エ
ポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリ
シジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ
樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エ
ポキシ樹脂等があり、これらのエポキシ樹脂は、ハロゲ
ン化されていてもよく、水素添加されていてもよい。こ
れらのエポキシ化合物は、2種以上を併用してもよい。
At least one used in the present invention for surface treatment
Examples of the compound having one epoxy group include phenylglycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4epoxycyclohexyl) ethyltri Methoxysilane, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin,
There are bisphenol F novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, and the like. May be halogenated or hydrogenated. Two or more of these epoxy compounds may be used in combination.

【0008】本発明で使用するラジカル重合性化合物
は、ラジカルにより重合する官能基を有する化合物で、
(メタ)アクリレート樹脂、マレイミド樹脂、シトラコ
ンイミド樹脂、ナジイミド樹脂などがあり、2種類以上
を混合して使用してもよい。またラジカル重合性化合物
は、モノマー、オリゴマーいずれの状態でも使用するこ
とができ、モノマーとオリゴマーを混合して用いてもよ
い。(メタ)アクリレート樹脂としては、(メタ)アク
リレートをラジカル重合させることで得られるもので、
(メタ)アクリレートとしてはメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メ
タ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチレング
リコールテトラ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4
−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,
2−ビス[4−(アクリロキシエトキシ)フェニル]プロ
パン、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、トリ
シクロデカニル(メタ)アクリレート、トリス(アクリ
ロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタン(メタ)ア
クリテート、イソシアヌール酸エチレンオキシド変性ジ
アクリレートなどが有り、単独または2種類以上を混合
して用いても良い。また、必要によっては、ハイドロキ
ノン、メチルエーテルハイドロキノン等のラジカル重合
禁止剤を硬化性が損なわれない範囲で使用しても良い。
The radically polymerizable compound used in the present invention is a compound having a functional group which is polymerized by radicals,
There are (meth) acrylate resins, maleimide resins, citracone imide resins, nadiimide resins and the like, and two or more kinds may be mixed and used. The radical polymerizable compound can be used in any state of monomer and oligomer, and the monomer and oligomer may be mixed and used. The (meth) acrylate resin is obtained by radically polymerizing (meth) acrylate,
As (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate,
Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylene glycol tetra (meth) acrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2- Screw [4
-(Acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,
2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, urethane (meth) acrylate, isocyanuric acid There are ethylene oxide-modified diacrylates and the like, which may be used alone or in combination of two or more kinds. Further, if necessary, a radical polymerization inhibitor such as hydroquinone or methyl ether hydroquinone may be used within a range that does not impair the curability.

【0009】さらに、ラジカル重合性化合物としてリン
酸エステル化合物を使用した場合、金属等無機物に対す
る接着力を向上することができる。リン酸エステル化合
物の使用量は、0.1〜10重量部であり、好ましくは
0.5〜5重量部である。リン酸エステル化合物は、無
水リン酸と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
の反応生成物として得られる。具体的には、モノ(2−
メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、
ジ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフ
ェート等が挙げられ、単独でも混合して使用しても良
い。
Furthermore, when a phosphoric acid ester compound is used as the radically polymerizable compound, the adhesive force to an inorganic substance such as a metal can be improved. The amount of the phosphoric acid ester compound used is 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight. The phosphoric acid ester compound is obtained as a reaction product of phosphoric anhydride and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Specifically, mono (2-
Methacryloyloxyethyl) acid phosphate,
Examples thereof include di (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, which may be used alone or in combination.

【0010】マレイミド樹脂としては、分子中にマレイ
ミド基を少なくとも1個有しているもので、例えば、フ
ェニルマレイミド、1−メチル−2,4−ビスマレイミ
ドベンゼン、N,N'−m−フェニレンビスマレイミド、N,
N'−p−フェニレンビスマレイミド、N,N'−4,4−ビ
フェニレンビスマレイミド、N,N'−4,4−(3,3−
ジメチルビフェニレン)ビスマレイミド、N,N'−4,4
−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミ
ド、N,N'−4,4−(3,3−ジエチルジフェニルメタ
ン)ビスマレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルメタン
ビスマレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルプロパンビ
スマレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルエーテルビス
マレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルスルホンビスマ
レイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノ
キシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s-ブチ
ル−3,4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)
プロパン、1,1−ビス(4−(4−マレイミドフェノ
キシ)フェニル)デカン、4,4'−シクロヘキシリデ
ン−ビス(1−(4−マレイミドフェノキシ)フェノキ
シ)−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス(4
−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサフル
オロプロパンなどが有り、単独でも2種類以上を混合し
て使用しても良い。
The maleimide resin has at least one maleimide group in the molecule, and examples thereof include phenylmaleimide, 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, and N, N'-m-phenylenebis. Maleimide, N,
N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'-4,4-biphenylene bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3-
Dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4
-(3,3-Dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N'- 4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylether bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylsulfone bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-3,4- (4-maleimidophenoxy) phenyl)
Propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis (1- (4-maleimidophenoxy) phenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2 -Bis (4
There are-(4-maleimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane and the like, which may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0011】シトラコンイミド樹脂としては、分子中に
シトラコンイミド基を少なくとも1個有しているシトラ
コンイミド化合物を重合させたもので、シトラコンイミ
ド化合物としては、例えば、フェニルシトラコンイミ
ド、1−メチル−2,4−ビスシトラコンイミドベンゼ
ン、N,N'−m−フェニレンビスシトラコンイミド、N,N'
−p−フェニレンビスシトラコンイミド、N,N'−4,4
−ビフェニレンビスシトラコンイミド、N,N'−4,4−
(3,3−ジメチルビフェニレン)ビスシトラコンイミ
ド、N,N'−4,4−(3,3−ジメチルジフェニルメタ
ン)ビスシトラコンイミド、N,N'−4,4−(3,3−
ジエチルジフェニルメタン)ビスシトラコンイミド、N,
N'−4,4−ジフェニルメタンビスシトラコンイミド、
N,N'−4,4−ジフェニルプロパンビスシトラコンイミ
ド、N,N'−4,4−ジフェニルエーテルビスシトラコン
イミド、N,N'−4,4−ジフェニルスルホンビスシトラ
コンイミド、2,2−ビス(4−(4−シトラコンイミ
ドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3
−s-ブチル−3,4−(4−シトラコンイミドフェノキ
シ)フェニル)プロパン、1,1−ビス(4−(4−シ
トラコンイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,
4'−シクロヘキシリデン−ビス(1−(4−シトラコ
ンイミドフェノキシ)フェノキシ)−2−シクロヘキシ
ルベンゼン、2,2−ビス(4−(4−シトラコンイミ
ドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパンなど
が有り、単独でも2種類以上を混合して使用しても良
い。
The citraconimide resin is obtained by polymerizing a citraconimide compound having at least one citraconimide group in the molecule. Examples of the citraconimide compound include phenyl citraconimide and 1-methyl-2. , 4-biscitraconimide benzene, N, N'-m-phenylene biscitraconimide, N, N '
-P-phenylene bis citraconimide, N, N'-4,4
-Biphenylene biscitraconimide, N, N'-4,4-
(3,3-Dimethylbiphenylene) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-
Diethyldiphenylmethane) biscitraconimide, N,
N'-4,4-diphenylmethanebiscitraconimide,
N, N'-4,4-diphenylpropanebiscitraconimide, N, N'-4,4-diphenyletherbiscitraconimide, N, N'-4,4-diphenylsulfonebiscitraconimide, 2,2-bis ( 4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3
-S-butyl-3,4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl) decane, 4,
4'-cyclohexylidene-bis (1- (4-citraconimidophenoxy) phenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, etc., You may use individually or in mixture of 2 or more types.

【0012】ナジイミド樹脂としては、分子中にナジイ
ミド基を少なくとも1個有しているナジイミド化合物を
重合したもので、ナジイミド化合物としては、例えば、
フェニルナジイミド、1−メチル−2,4−ビスナジイ
ミドベンゼン、N,N'−m−フェニレンビスナジイミド、
N,N'−p−フェニレンビスナジイミド、N,N'−4,4−
ビフェニレンビスナジイミド、N,N'−4,4−(3,3
−ジメチルビフェニレン)ビスナジイミド、N,N'−4,
4−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスナジイ
ミド、N,N'−4,4−(3,3−ジエチルジフェニルメ
タン)ビスナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルメタ
ンビスナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルプロパン
ビスナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルエーテルビ
スナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルスルホンビス
ナジイミド、2,2−ビス(4−(4−ナジイミドフェ
ノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s−
ブチル−3,4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−(4−ナジイミドフ
ェノキシ)フェニル)デカン、4,4'−シクロヘキシ
リデン−ビス(1−(4−ナジイミドフェノキシ)フェ
ノキシ)−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス
(4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサ
フルオロプロパンなどが有り、単独でも2種類以上を混
合して使用しても良い。
The nadimide resin is obtained by polymerizing a nadimide compound having at least one nadimide group in the molecule. Examples of the nadimide compound include:
Phenylnadiimide, 1-methyl-2,4-bisnadiimidebenzene, N, N'-m-phenylenebisnadiimide,
N, N'-p-phenylenebisnadiimide, N, N'-4,4-
Biphenylene bis nadiimide, N, N'-4,4- (3,3
-Dimethylbiphenylene) bisnadiimide, N, N'-4,
4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) bisnadiimide, N, N'-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) bisnadiimide, N, N'-4,4-diphenylmethanebisnadiimide, N, N'-4 , 4-diphenylpropane bisnadimide, N, N'-4,4-diphenyl ether bisnadimide, N, N'-4,4-diphenylsulfone bisnadimide, 2,2-bis (4- (4-nadimide phenoxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-
Butyl-3,4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl) decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis (1- ( 4-nadiimidophenoxy) phenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, and the like, which may be used alone or in combination of two or more. Is also good.

【0013】上記ラジカル重合性化合物を使用した場合
には、重合開始剤を使用する。重合開始剤としては、熱
または光によってラジカルを発生する化合物であれば特
に制限はなく、過酸化物、アゾ化合物などがあり、目的
とする接続温度、接続時間、保存安定性等を考慮し適宜
選択されるが、高反応性と保存安定性の点から、半減期
10時間の温度が、40℃以上かつ、半減期1分の温度
が180℃以下の有機過酸化物が好ましく、半減期10
時間の温度が、50℃以上かつ、半減期1分の温度が1
70℃以下の有機過酸化物が特に好ましい。接続時間を
10秒とした場合、十分な反応率を得るための重合開始
剤の配合量は、1〜20重量%が好ましく、2〜15重
量%が特に好ましい。本発明で使用される有機過酸化物
の具体的な化合物としては、ジアシルパーオキサイド、
パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パー
オキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロ
パーオキサイド、シリルパーオキサイドなどから選定で
きるが、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイ
ド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイド
は、開始剤中の塩素イオンや有機酸が5000ppm以
下であり、加熱分解後に発生する有機酸が少なく、回路
部材の接続端子の腐食を抑えることができるため特に好
ましい。
When the above radically polymerizable compound is used, a polymerization initiator is used. The polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates a radical by heat or light, and may be a peroxide, an azo compound, or the like, and may be appropriately selected in consideration of the desired connection temperature, connection time, storage stability, and the like. From the viewpoint of high reactivity and storage stability, an organic peroxide having a half-life of 10 hours at a temperature of 40 ° C. or higher and a half-life of 1 minute at 180 ° C. or lower is selected, and a half-life of 10 hours is preferred.
The temperature of time is 50 ° C or more and the temperature of 1 minute half-life is 1
An organic peroxide having a temperature of 70 ° C. or lower is particularly preferable. When the connection time is 10 seconds, the compounding amount of the polymerization initiator for obtaining a sufficient reaction rate is preferably 1 to 20% by weight, and particularly preferably 2 to 15% by weight. Specific compounds of the organic peroxide used in the present invention include diacyl peroxide,
It can be selected from peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, silylperoxide, etc., but peroxyester, dialkylperoxide, hydroperoxide, silylperoxide are among the initiators. The amount of chlorine ions and organic acid is less than 5000 ppm, the organic acid generated after thermal decomposition is small, and corrosion of the connection terminal of the circuit member can be suppressed, which is particularly preferable.

【0014】ジアシルパーオキサイド類としては、イソ
ブチルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパ
ーオキサイド、3、5、5−トリメチルヘキサノイルパ
ーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイ
ルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スク
シニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエ
ン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。
Examples of diacyl peroxides include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide and succinic. Examples thereof include peroxide, benzoylperoxytoluene, and benzoylperoxide.

【0015】パーオキシジカーボネート類としては、ジ
−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロ
ピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t-ブチルシ
クロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エ
トキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2−エ
チルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシ
ブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3
−メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げ
られる。
Examples of peroxydicarbonates include di-n-propylperoxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate and di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate. Carbonate, di (2-ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3)
-Methoxybutyl peroxy) dicarbonate and the like.

【0016】パーオキシエステル類としては、クミルパ
ーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメ
チルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘ
キシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエー
ト、t-へキシルパーオキシネオデカノエート、t-ブチル
パーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチル
ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、2,5
−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパー
オキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエ
チルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t-へキシ
ルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t-ブチルパ
ーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパー
オキシイソブチレート、1,1−ビス(t-ブチルパーオ
キシ)シクロヘキサン、t-へキシルパーオキシイソプロ
ピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシ−3,5,
5−トリメチルヘキサノネート、t-ブチルパーオキシラ
ウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオ
イルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルパーオキシイソプ
ロピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキシルモノカーボネート、t-へキシルパーオキシ
ベンゾエート、t-ブチルパーオキシアセテート等を挙げ
ることができる。
Peroxyesters include cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxynoedecanoate. , T-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanonate, 2,5
-Dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanonate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanonate , T-butylperoxy-2-ethylhexanonate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butyl Peroxy-3,5
5-trimethylhexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoylperoxy) hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy 2-Ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate and the like can be mentioned.

【0017】パーオキシケタール類では、1,1−ビス
(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキ
シ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオ
キシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,
1−(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2
−ビス(t-ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。
Among the peroxyketals, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (T-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,
1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2
-Bis (t-butylperoxy) decane and the like.

【0018】ジアルキルパーオキサイド類では、α,
α’−ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベン
ゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチル
クミルパーオキサイド等が挙げられる。
In the dialkyl peroxides, α,
α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-
2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide and the like can be mentioned.

【0019】ハイドロパーオキサイド類では、ジイソプ
ロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド等が挙げられる。
Examples of hydroperoxides include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

【0020】シリルパーオキサイド類としては、t-ブチ
ルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t-ブチル)
ジメチルシリルパーオキサイド、t-ブチルトリビニルシ
リルパーオキサイド、ビス(t-ブチル)ジビニルシリル
パーオキサイド、トリス(t-ブチル)ビニルシリルパー
オキサイド、t-ブチルトリアリルシリルパーオキサイ
ド、ビス(t-ブチル)ジアリルシリルパーオキサイド、
トリス(t-ブチル)アリルシリルパーオキサイド等が挙
げられる。
Examples of silyl peroxides include t-butyltrimethylsilyl peroxide and bis (t-butyl).
Dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t-butyl) divinylsilyl peroxide, tris (t-butyl) vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) ) Diallyl silyl peroxide,
Examples thereof include tris (t-butyl) allylsilyl peroxide.

【0021】また、回路部材の接続端子の腐食を抑える
ために、硬化剤中に含有される塩素イオンや有機酸は5
000ppm以下であることが好ましく、さらに、加熱
分解後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。
また、作製した回路接続材料の安定性が向上することか
ら室温(25℃)、常圧下で24時間の開放放置後に2
0重量%以上の重量保持率を有することが好ましい。こ
れらは適宜混合して用いることができる。これらの遊離
ラジカル発生剤は単独または混合して使用することがで
き、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いても良い。ま
た、これらの遊離ラジカル発生剤をポリウレタン系、ポ
リエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカプセ
ル化したものは、可使時間が延長されるために好まし
い。
Further, in order to suppress the corrosion of the connection terminals of the circuit members, the chlorine ion and the organic acid contained in the curing agent should be 5%.
The amount is preferably 000 ppm or less, and more preferably the amount of organic acid generated after thermal decomposition is small.
In addition, since the stability of the produced circuit connecting material is improved, it will be 2
It is preferable to have a weight retention of 0% by weight or more. These can be appropriately mixed and used. These free radical generators can be used alone or as a mixture, and may be used as a mixture with a decomposition accelerator, an inhibitor and the like. Microcapsules obtained by coating these free radical generators with polyurethane-based or polyester-based polymer substances are preferable because the pot life is extended.

【0022】ラジカル重合性化合物以外に熱硬化性樹脂
としてエポキシ樹脂を配合することもできる。エポキシ
樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビス
フェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポ
キシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノ
ボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック
型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエス
テル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹
脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型
エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂等があり、これ
らのエポキシ樹脂は、ハロゲン化されていてもよく、水
素添加されていてもよい。これらのエポキシ樹脂は、2
種以上を併用してもよい。
In addition to the radically polymerizable compound, an epoxy resin can be blended as a thermosetting resin. As the epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, bisphenol F novolac type epoxy resin, fat There are cyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, aliphatic chain type epoxy resin and the like, and these epoxy resins are halogenated. Well, it may be hydrogenated. These epoxy resins are 2
You may use together 1 or more types.

【0023】また、前記エポキシ樹脂の硬化剤として
は、アミン類、フェノール類、酸無水物類、イミダゾー
ル類、ジシアンジアミド等通常のエポキシ樹脂の硬化剤
として使用されているものが挙げられる。さらには、硬
化促進剤として通常使用されている3級アミン類、有機
リン系化合物を適宜使用しても良い。また、エポキシ樹
脂を反応させる方法として、前記硬化剤を使用する以外
に、スルホニウム塩、ヨードニウム塩等使用して、カチ
オン重合させても良い。
Examples of the curing agent for the epoxy resin include amines, phenols, acid anhydrides, imidazoles, dicyandiamide and the like used as a curing agent for ordinary epoxy resins. Furthermore, tertiary amines and organic phosphorus compounds that are usually used as a curing accelerator may be used as appropriate. As a method of reacting the epoxy resin, cation polymerization may be performed using a sulfonium salt, an iodonium salt, or the like, instead of using the curing agent.

【0024】本発明の回路接続用接着剤には、フィルム
形成性、接着性、硬化時の応力緩和性を付与するため、
ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、キシレン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂等高分子成分が使用される。これら高分子
成分は、分子量が10000〜10,000,000のも
のが好ましい。また、これら樹脂は、ラジカル重合性の
官能基で変成されていても良く、この場合耐熱性が向上
する。さらに、ラジカル重合性の官能基やエポキシ基,
カルボキシル基などで変成されていても良く、この場合
耐熱性が向上する。高分子成分の配合量は、2〜80重
量%であり、5〜70重量%が好ましく、10〜60重
量%が特に好ましい。2重量%未満では、応力緩和や接
着力が十分でなく、80重量%を超えると流動性が低下
する。本発明の回路接続用接着剤には、適宜充填剤、軟
化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃剤、カップリ
ング剤を添加しても良い。また、本発明の回路接続用接
着剤を硬化物としたときのTg(ガラス転移温度)が異
なる2種類以上の層からなる多層構成としても良い。本
発明の回路接続用接着剤を使用して接着する基板として
は、電気的接続を必要とする電極が形成されているもの
であれば特に制限はないが、液晶ディスプレイに用いら
れているITO等で電極が形成されているガラスまたは
プラスチック基板、プリント配線板、セラミック配線
板、フレキシブル配線板、半導体シリコンチップなどが
有り、必要に応じて組み合わせて使用される。接続する
場合の条件としては特に制限はないが、接続温度90〜
250℃、接続時間1秒〜10分間であり、使用する用
途、接着剤、基板によって適宜選択され、必要に応じ
て、後硬化を行っても良い。また、接続時は加熱加圧に
より行われるが、必要に応じて熱以外のエネルギーたと
えば光、超音波、電磁波等を使用しても良い。
The circuit connecting adhesive of the present invention is provided with film forming properties, adhesive properties, and stress relaxation properties upon curing.
Polymer components such as polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, xylene resin, phenoxy resin, polyurethane resin and urea resin are used. These polymer components preferably have a molecular weight of 10,000 to 10,000,000. Further, these resins may be modified with a radically polymerizable functional group, in which case the heat resistance is improved. Furthermore, radically polymerizable functional groups and epoxy groups,
It may be modified with a carboxyl group or the like, in which case the heat resistance is improved. The blending amount of the polymer component is 2 to 80% by weight, preferably 5 to 70% by weight, and particularly preferably 10 to 60% by weight. If it is less than 2% by weight, stress relaxation and adhesive force are not sufficient, and if it exceeds 80% by weight, fluidity is lowered. A filler, a softening agent, an accelerator, an antiaging agent, a coloring agent, a flame retardant, and a coupling agent may be added to the adhesive for circuit connection of the present invention as appropriate. Further, it may be a multi-layered structure composed of two or more layers having different Tg (glass transition temperatures) when the circuit connecting adhesive of the present invention is a cured product. The substrate to be adhered using the adhesive for circuit connection of the present invention is not particularly limited as long as it has electrodes that require electrical connection, but ITO or the like used in liquid crystal displays. There are glass or plastic substrates on which electrodes are formed, printed wiring boards, ceramic wiring boards, flexible wiring boards, semiconductor silicon chips, etc., and they are used in combination as necessary. The conditions for connecting are not particularly limited, but the connection temperature is 90 to
The temperature is 250 ° C., the connection time is 1 second to 10 minutes, and it is appropriately selected depending on the intended use, the adhesive, and the substrate, and post-curing may be performed if necessary. The connection is performed by heating and pressurizing, but energy other than heat, such as light, ultrasonic waves, electromagnetic waves, etc., may be used if necessary.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明に範囲はこの実施例に限定されるものでは
ない。 (表面処理粒子Aの作製)γ―グリシドキシプロピルメ
チルジメトキシシランの1重量%メタノール溶液に、ポ
リスチレンを核とする粒子の表面に、厚み0.2μmの
ニッケル層を設け、このニッケル層の外側に、厚み0.
04μmの金層を設けた平均粒径4μmの導電粒子をい
れ、25℃で10分間攪拌した。導電粒子をろ別後、5
0℃で15分間乾燥し、表面処理粒子Aを得た。 (表面処理粒子Bの作製)ビスフェノールA型エポキシ
樹脂の3重量%メタノール溶液に、ポリスチレンを核と
する粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を設
け、このニッケル層の外側に、厚み0.04μmの金層
を設けた平均粒径5μmの導電粒子をいれ、50℃で5
分間攪拌した。導電粒子をろ別後、80℃で5分間乾燥
し、表面処理粒子Bを得た。これら導電粒子A、Bを用
いて、以下に示す配合でそれぞれ配合し、簡易塗工機
(テスター産業株式会社製)を用いて、厚み50μmの
片面を表面処理したPET(ポリエチレンテレフテレー
ト)フィルムに塗布し、70℃、10分間の熱風乾燥に
より回路接続用接着剤を作製した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples. (Preparation of Surface Treated Particles A) A 1% by weight methanol solution of γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane was provided with a nickel layer having a thickness of 0.2 μm on the surface of the particles having polystyrene as the nucleus, and the outside of this nickel layer. And thickness 0.
Conductive particles having an average particle size of 4 μm and provided with a gold layer of 04 μm were added and stirred at 25 ° C. for 10 minutes. After filtering conductive particles, 5
It was dried at 0 ° C. for 15 minutes to obtain surface-treated particles A. (Preparation of surface-treated particles B) A 3 wt% methanol solution of a bisphenol A type epoxy resin is provided with a nickel layer having a thickness of 0.2 μm on the surface of particles having polystyrene as a nucleus, and a nickel layer having a thickness of 0 is formed outside the nickel layer. Add conductive particles with an average particle size of 5 μm with a gold layer of 0.04 μm, and add at 50 ° C. for 5
Stir for minutes. After separating the conductive particles by filtration, the particles were dried at 80 ° C. for 5 minutes to obtain surface-treated particles B. A PET (polyethylene terephthalate) film in which the conductive particles A and B were respectively blended in the following formulation, and one surface of which had a thickness of 50 μm was surface-treated using a simple coating machine (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) Then, the adhesive for circuit connection was prepared by drying with hot air at 70 ° C. for 10 minutes.

【0026】(実施例1)フェノキシ樹脂(PKHC、
ユニオンカーバイド株式会社製商品名、平均分子量4
5,000) 50g、ラジカル重合性化合物としてジ
シクロヘキシルメタアクリレート 48g、りん酸エス
テル化合物としてりん酸エステルアクリレート 2g、
2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノ
イルパーオキシ)ヘキサン 3gをメチルエチルケトン
を溶媒として溶解配合し、さらに表面処理粒子Aを3体
積%配合分散した。厚さ50μmの片面を表面処理した
ポリエチレンテレフタレートフィルムに簡易塗工機を用
いて塗布し、70℃、10分間乾燥させ、厚み30μm
の回路接続用接着剤を得た。
(Example 1) Phenoxy resin (PKHC,
Union Carbide Co., Ltd. trade name, average molecular weight 4
5,000) 50 g, dicyclohexyl methacrylate as a radically polymerizable compound 48 g, phosphoric acid ester acrylate 2 g as a phosphoric acid ester compound,
3 g of 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane was dissolved and mixed with methyl ethyl ketone as a solvent, and further 3% by volume of the surface-treated particles A was mixed and dispersed. A polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm, which has been surface-treated on one side, is applied using a simple coater, dried at 70 ° C. for 10 minutes, and has a thickness of 30 μm.
An adhesive for circuit connection was obtained.

【0027】(実施例2)フェノキシ樹脂(PKHC、
ユニオンカーバイド株式会社製商品名、平均分子量4
5,000) 50g、イソシアヌール酸エチレンオキ
シド変性ジアクリレート 46g、りん酸エステルアク
リレート 4g、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2
−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン 3gをメ
チルエチルケトンを溶媒として溶解配合し、さらに表面
処理粒子Bを3体積%配合分散した。厚さ50μmの片
面を表面処理したポリエチレンテレフタレートフィルム
に簡易塗工機を用いて塗布し、70℃、10分間乾燥さ
せ、厚み30μmの回路接続用接着剤を得た。
(Example 2) Phenoxy resin (PKHC,
Union Carbide Co., Ltd. trade name, average molecular weight 4
5,000) 50 g, isocyanuric acid ethylene oxide modified diacrylate 46 g, phosphate ester acrylate 4 g, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2
3 g of -ethylhexanoylperoxy) hexane was dissolved and compounded using methyl ethyl ketone as a solvent, and 3% by volume of surface-treated particles B was compounded and dispersed. A polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm, one surface of which was surface-treated, was applied using a simple coating machine and dried at 70 ° C. for 10 minutes to obtain a circuit connecting adhesive having a thickness of 30 μm.

【0028】(実施例3)フェノキシ樹脂(PKHC、
ユニオンカーバイド株式会社製商品名、平均分子量4
5,000) 25g、ポリウレタン樹脂 25g、ジ
シクロヘキシルメタアクリレート 48g、りん酸エス
テルアクリレート 2g、2,5−ジメチル−2,5−
ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン
3gをメチルエチルケトンを溶媒として溶解配合し、さ
らに表面処理粒子Bを3体積%配合分散した。厚さ50
μmの片面を表面処理したポリエチレンテレフタレート
フィルムに簡易塗工機を用いて塗布し、70℃、10分
間乾燥させ、厚み30μmの回路接続用接着剤を得た。
(Example 3) Phenoxy resin (PKHC,
Union Carbide Co., Ltd. trade name, average molecular weight 4
5,000) 25 g, polyurethane resin 25 g, dicyclohexyl methacrylate 48 g, phosphoric acid ester acrylate 2 g, 2,5-dimethyl-2,5-
Bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane
3 g was dissolved and compounded with methyl ethyl ketone as a solvent, and further 3% by volume of surface-treated particles B were compounded and dispersed. Thickness 50
It was applied to a polyethylene terephthalate film having a surface treated on one side having a thickness of μm by using a simple coater and dried at 70 ° C. for 10 minutes to obtain an adhesive for circuit connection having a thickness of 30 μm.

【0029】(比較例)実施例1の表面処理粒子Aを未
処理粒子を用いて回路接続用接着剤を作製した。
Comparative Example An adhesive for circuit connection was prepared by using untreated particles as the surface-treated particles A of Example 1.

【0030】(回路接続構造体の作製)上記回路接続材
料を、1.5mm幅にスリットし、電極としてITOが
形成されたガラス基板上に、80℃、5秒、1MPaの
条件で、仮接続した。PET支持基材を剥離し、これに
電極幅50μm、スペース50μmのTCPの電極を位
置合わせし、150℃、20秒、4MPaの条件で本接
続した。
(Production of Circuit Connection Structure) The circuit connection material was slit into a width of 1.5 mm and temporarily connected on a glass substrate on which ITO was formed as an electrode at 80 ° C. for 5 seconds and 1 MPa. did. The PET supporting substrate was peeled off, and a TCP electrode having an electrode width of 50 μm and a space of 50 μm was aligned with this, and main connection was performed under the conditions of 150 ° C., 20 seconds and 4 MPa.

【0031】(特性評価方法) 接続抵抗:株式会社アドバンテスト製マルチメータTR
6848を用いて、隣接回路間の抵抗を1mAの定電流
で測定した。接続抵抗は、接続した後の初期と30℃、
60%RH、100時間放置後の値を測定した。それら
の結果を表1に示した。
(Characteristic evaluation method) Connection resistance: Multimeter TR manufactured by Advantest Corporation
The resistance between adjacent circuits was measured using the 6848 at a constant current of 1 mA. The connection resistance is 30 ° C at the initial stage after connection.
The value after standing for 60 hours at 60% RH was measured. The results are shown in Table 1.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】本発明の実施例1〜3では、接続抵抗が放
置後も低く良好であるが、表面処理粒子を使用していな
い比較例は放置後接続抵抗が大きく上昇しいている。ま
た、回路接続用接着剤を製造後、25℃に30日間放置
してから実施例と同様に回路接続構造体を作製した結
果、エポキシ基を有する化合物で表面処理した導電粒子
を含む回路接続用接着剤は、実施例1から3の配合で、
接続抵抗(初期)が2.1〜3.8Ωであり良好な保存
安定性を示した。しかし、比較例のエポキシ基を有する
化合物で表面処理してない導電粒子を用いた接続構造体
の接続抵抗は、20〜200Ωであり、保存安定性に劣
る。
In Examples 1 to 3 of the present invention, the connection resistance was low after standing and was good, but in Comparative Examples in which surface-treated particles were not used, the connection resistance after standing was significantly increased. In addition, after the adhesive for circuit connection was produced, it was left at 25 ° C. for 30 days and then a circuit connection structure was produced in the same manner as in the example. As a result, a circuit connection containing conductive particles surface-treated with a compound having an epoxy group The adhesive has the composition of Examples 1 to 3,
The connection resistance (initial) was 2.1 to 3.8Ω, which showed good storage stability. However, the connection resistance of the connection structure using the conductive particles not surface-treated with the compound having an epoxy group of the comparative example is 20 to 200Ω, and the storage stability is poor.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明によれば、回路接続用接着剤を作
製したあと放置しても保存安定性(ポットライフ)のよ
い回路接続用接着剤を得ることができ、また、熱硬化性
の回路接続用接着剤の接続温度170℃に対し、より低
温の150℃で接続でき、接着剤の保存後の接続抵抗の
ばらつきが少なく良好な接続構造体を得ることができ
る。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a circuit connecting adhesive having good storage stability (pot life) can be obtained even if it is left standing after the circuit connecting adhesive is prepared. With respect to the connection temperature of 170 ° C. of the adhesive for circuit connection, it is possible to connect at a lower temperature of 150 ° C., and it is possible to obtain a good connection structure with little variation in connection resistance after storage of the adhesive.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 1/14 H05K 1/14 J // C09C 1/00 C09C 1/00 1/56 1/56 3/00 3/00 (72)発明者 小野 裕 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Fターム(参考) 4J037 AA02 AA04 CB09 CB11 CB12 CB13 CB16 CB18 CB19 CB22 CC16 CC17 CC23 CC30 EE02 EE12 EE33 EE35 EE43 EE47 FF11 4J040 DD071 EB081 EB111 ED001 EE061 EF001 EG001 EH031 HD24 JA03 JB10 KA07 KA12 KA13 KA32 LA09 NA20 5E344 CD06 EE21 5F044 LL09 RR17 5G301 DA02 DA03 DA05 DA10 DA18 DA29 DA42 DA51 DA57 DD03Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 1/14 H05K 1/14 J // C09C 1/00 C09C 1/00 1/56 1/56 3/00 3 / 00 (72) Inventor Hiroshi Ono 48 Wada, Tsukuba City, Ibaraki Prefecture F-term in Hitachi Chemical Co., Ltd. Research Laboratory 4J037 AA02 AA04 CB09 CB11 CB12 CB13 CB16 CB18 CB19 CB22 CC16 CC17 CC23 CC30 EE02 EE12 EE33 EE35 EE43 EE47 FF 4J040 DD071 EB081 EB111 ED001 EE061 EF001 EG001 EH031 HD24 JA03 JB10 KA07 KA12 KA13 KA32 LA09 NA20 5E344 CD06 EE21 5F044 LL09 RR17 5G301 DA02 DA03 DA05 DA10 DA18 DA29 DA42 DA51 DA57 DD03

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 相対向する回路電極を有する基板間に介
在させ、相対向する回路電極を有する基板を加圧して加
圧方向の電極間を電気的に接続する回路接続用接着剤で
あって、前記接着剤にはラジカル重合性化合物および少
なくとも1個のエポキシ基を有する化合物で表面処理を
した導電粒子を含むことを特徴とする回路接続用接着
剤。
1. An adhesive for circuit connection, which is interposed between substrates having circuit electrodes facing each other and pressurizes the substrates having circuit electrodes facing each other to electrically connect the electrodes in the pressing direction. The adhesive for circuit connection is characterized in that the adhesive contains a radically polymerizable compound and conductive particles surface-treated with a compound having at least one epoxy group.
【請求項2】 光または加熱によりラジカルを発生する
化合物を含む請求項1に記載の回路接続用接着剤。
2. The adhesive for circuit connection according to claim 1, which contains a compound that generates radicals by light or heating.
【請求項3】 さらにりん酸エステル化合物を含む請求
項1または請求項2に記載の回路接続用接着剤。
3. The adhesive for circuit connection according to claim 1, further comprising a phosphoric acid ester compound.
【請求項4】 回路接続用接着剤を相対向する回路電極
を有する基板間に介在させ、相対向する回路電極を有す
る基板を加圧して加圧方向の電極間を電気的に接続した
接続構造体であって、前記回路接続用接着剤が請求項1
ないし請求項3のいずれかに記載の回路接続用接着剤で
ある回路接続構造体。
4. A connection structure in which an adhesive for circuit connection is interposed between substrates having circuit electrodes facing each other, and the substrates having circuit electrodes facing each other are pressed to electrically connect the electrodes in the pressing direction. A body, wherein the circuit connecting adhesive is the body.
A circuit connection structure which is the adhesive for circuit connection according to any one of claims 1 to 3.
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