JP2003062431A - チッ素酸化物吸着浄化剤およびそれを用いたチッ素酸化物浄化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 結露が生じる程度の高湿度下においても、チ
ッ素酸化物の吸着能が低下しない吸着剤を提供するとと
もに、吸着したチッ素酸化物と還元剤とを低温、たとえ
ば１００℃以下の温度で反応させ、チッ素酸化物を浄化
する。 【解決手段】 少なくとも１種のチッ素酸化物吸着剤１
と酸化還元能を有する触媒粒子２と固体高分子電解質３
とからなるチッ素酸化物吸着浄化剤により、チッ素酸化
物を硝酸イオンに変換して吸蔵し、該チッ素酸化物吸着
浄化剤に還元性ガスを流入して吸着されたチッ素酸化物
を触媒反応により還元浄化する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、小型発電装置など
に使用される内燃機関などから大気中に排出されたチッ
素酸化物を吸着し浄化するチッ素酸化物吸着浄化剤、お
よび、それを用いた浄化方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、自動車から放出されるチッ素酸化
物は、三元触媒などにより還元浄化され大気放出されて
いる。一方、マイクロガスタービンなどの小型発電装置
やディーゼルエンジン自動車などから放出されるチッ素
酸化物は排気ガス中に酸素を多量に含むため、触媒によ
る完全な還元浄化が困難であり、微量の希薄チッ素酸化
物が大気中に放出される場合がある。とくに、地下駐車
場や道路トンネルなどの閉鎖空間内ではチッ素酸化物の
滞留が起こりやすくなるため、希薄なチッ素酸化物を除
去するための方法が求められている。その方法の１つと
して、吸着剤を用いてチッ素酸化物を捕捉し、そののち
種々の方法によりチッ素酸化物を分解除去する方法が実
用化されている。

【０００３】たとえば、特開平５−２５３４４４号公報
では、回転吸着式脱硝装置により希薄チッ素酸化物を除
去する方法が開示されている。この方法では、チッ素酸
化物を回転式の吸着体に一旦吸着し、そののち吸着した
チッ素酸化物をアンモニアを用いて還元して浄化する。
この公報では、チッ素酸化物吸着剤として、アナターゼ
型チタニアを保持したセラミックペーパー担体にルテニ
ウムのハロゲン化物が担持されたものを使用している。

【０００４】また、特開２００１−１２０９５１号公報
においては、チッ素酸化物ガスにオゾンを混合し、それ
を水素イオンで終端されたゼオライトに吸着させること
によりチッ素酸化物を除去する方法が開示されている。
この方法によれば、オゾンによって大気中のチッ素酸化
物の主成分である一酸化チッ素が二酸化チッ素または五
酸化二チッ素に酸化されることにより、水素終端ゼオラ
イトへの効率よい吸着が可能となる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】特開平５−２５３４４
４号公報に記載のチッ素酸化物の吸着体においては、水
分が吸着妨害物質になるため、吸着剤の前段に処理ガス
を除湿するための装置が必要であり、この除湿器が消費
するエネルギーが大きいために、チッ素酸化物の吸着に
多大なエネルギーを必要としていた。

【０００６】また、特開２００１−１２０９５１号公報
に記載のチッ素酸化物の吸着体においては、処理ガスを
除湿する必要はないものの、吸着体に結露が生じるほど
高湿度条件下の場合には吸着効率が極端に低下するとの
問題点があった。

【０００７】本発明はこれらの問題点を鑑みてなされた
ものであり、結露が生じる程度の高湿度下においても、
チッ素酸化物の吸着能が低下しない吸着剤を提供すると
ともに、吸着したチッ素酸化物と還元剤とを低温、たと
えば１００℃以下の温度で反応させ、チッ素酸化物を浄
化することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は前記問題点を鑑
みてチッ素酸化物吸着剤の構成について検討を行なった
結果なされたものである。

【０００９】本発明の第１の吸着浄化剤は、少なくとも
１種のチッ素酸化物吸着剤、酸化還元能を有する触媒粒
子および固体高分子電解質からなるチッ素酸化物吸着浄
化剤に関する。

【００１０】本発明の第２の吸着浄化剤は、第１の吸着
浄化剤において、チッ素酸化物吸着剤が炭素、ケイ素、
アルミニウムからなる群より選ばれた少なくとも１種の
元素を含むチッ素酸化物吸着浄化剤に関する。

【００１１】本発明の第３の吸着浄化剤は、第２の吸着
浄化剤において、チッ素酸化物吸着剤が活性炭、ゼオラ
イト、シリカゲルからなる群より選ばれた少なくとも１
種であるチッ素酸化物吸着浄化剤に関する。

【００１２】本発明の第４の吸着浄化剤は、第１の吸着
浄化剤において、チッ素酸化物吸着剤の表面部分に触媒
粒子が担持されており、固体高分子電解質と触媒粒子と
が接触しているチッ素酸化物吸着浄化剤に関する。

【００１３】本発明の第５の吸着浄化剤は、第４の吸着
浄化剤において、触媒粒子が白金、ルテニウム、パラジ
ウム、ロジウムからなる群より選ばれた少なくとも１種
の元素を含むチッ素酸化物吸着浄化剤に関する。

【００１４】本発明の第６の吸着浄化剤は、第４の吸着
浄化剤において、固体高分子電解質がプロトン伝導性で
あるチッ素酸化物吸着浄化剤に関する。

【００１５】本発明の第７の吸着浄化剤は、第４の吸着
浄化剤において、固体高分子電解質が多孔性であるチッ
素酸化物吸着浄化剤に関する。

【００１６】本発明の第１の浄化方法は、第１、２、
３、４、５、６または７のチッ素酸化物吸着浄化剤にお
いて、チッ素酸化物を硝酸イオンに変換して吸蔵する吸
蔵工程、および、チッ素酸化物吸着浄化剤に還元性ガス
を流入して吸着されたチッ素酸化物を触媒反応により還
元浄化する還元浄化工程からなるチッ素酸化物の浄化方
法に関する。

【００１７】本発明の第２の浄化方法は、第１の浄化方
法において、還元性ガスが水素であるチッ素酸化物の浄
化方法に関する。

【００１８】

【発明の実施の形態】図１は、本発明のチッ素酸化物吸
着浄化剤の構造の一例を示す模式図である。図１におい
て、１はチッ素酸化物吸着剤、２は酸化還元能を有する
触媒粒子、３は固体高分子電解質である。図１では、チ
ッ素酸化物吸着剤１の表面に触媒粒子２が担持されてお
り、固体高分子電解質３は触媒粒子２と物理的かつ電気
的に接触している。

【００１９】図２は、図１のチッ素酸化物吸着浄化剤に
よるチッ素酸化物の吸蔵工程を説明するための図であ
る。空気中に含まれるチッ素酸化物のうち主成分である
一酸化チッ素（ＮＯ）は、触媒粒子２上に接触して吸着
されるとともに近傍の酸素（Ｏ ₂）により酸化されて二
酸化チッ素となる。この二酸化チッ素は、近傍の水（Ｈ
₂Ｏ）と反応し硝酸（ＨＮＯ₃）となる。この硝酸形態に
なったチッ素酸化物は電荷分離しやすいため、チッ素酸
化物吸着剤１の電荷保持サイトと静電相互作用を起こ
し、吸着される。

【００２０】図３は、図１のチッ素酸化物吸着浄化剤に
より吸着されたチッ素酸化物の還元浄化工程を説明する
ための図である。チッ素酸化物を吸着したチッ素酸化物
吸着剤１に還元剤（ここでは、水素（Ｈ₂））を導入す
ると、平衡変化によりチッ素酸化物吸着剤１からチッ素
酸化物（硝酸（ＨＮＯ₃））が放出される。この放出さ
れたチッ素酸化物と還元剤が触媒粒子２表面で反応し、
チッ素（Ｎ₂）、酸素（Ｏ₂）、水（Ｈ₂Ｏ）に分解す
る。

【００２１】これらは通常の触媒によるチッ素酸化物の
浄化反応であるが、固体高分子電解質３が存在すると、
固体高分子電解質３と触媒粒子２との界面近傍に接触し
た水素（Ｈ₂）は、電子（ｅ^-）とプロトン（Ｈ⁺）に解
離し、プロトンは固体高分子電解質３内部を、電子は触
媒粒子２内部を通過することが可能となる。その結果、
水素解離部近傍にチッ素酸化物が存在しない場合にも、
別の部位に存在するチッ素酸化物（硝酸（ＨＮＯ₃））
の近傍に反応活性が大きいプロトンと電子が移動して、
チッ素酸化物が還元されることになる。これは、従来の
触媒反応によるチッ素酸化物の浄化に加えて、局部的な
電気化学反応による浄化反応が行なわれており、それ故
に、通常の触媒浄化反応よりもより低温でより高効率な
チッ素酸化物の浄化を行なうことが可能となる。

【００２２】ここでは、触媒粒子２が電子伝導性である
場合について示したが、触媒粒子２が低電子伝導性の場
合には、チッ素酸化物吸着剤１が電子伝導性であればよ
い。

【００２３】チッ素酸化物吸着剤としては、分子構造内
に正電荷を有する部位を保持し、表面積の大きい粒状物
質が用いられる。このようなチッ素酸化物吸着剤として
は、具体的には、ゼオライトまたは各種イオン交換ゼオ
ライト、活性炭などのカーボン材、アルミナ、チタニ
ア、シリカゲルなどがあげられる。各種イオン交換ゼオ
ライトとしては、たとえば、基本骨格構造がＸ型、Ｙ
型、Ｌ型、モルデナイト型、フェリエライト型、ＺＳＭ
５型であり、Ｎａ、Ｋなどのアルカリ金属イオン、Ｓ
ｒ、Ｂａなどのアルカリ土類金属イオン、Ｃｕ、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ａｇなどの金属イオン、Ｌａ、Ｃｅなどの希土類
イオンを含むものがあげられる。これらのチッ素酸化物
吸着剤のなかでも、ゼオライト、活性炭が、チッ素酸化
物吸着能が高い点から好ましい。

【００２４】チッ素酸化物吸着剤の平均２次粒子径は、
０．１〜１００μｍであることが好ましく、０．１〜２
０μｍであることがより好ましい。平均粒子径が０．１
μｍ未満では粒子の均一分散が困難となる傾向があり、
１００μｍをこえると、ゼオライト重量あたりのチッ素
酸化物吸着量が低下する傾向がある。

【００２５】酸化還元能を有する触媒粒子としては、具
体的には元素周期表第８族の元素であればよく、なかで
も白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒ
ｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、オス
ミウム（Ｏｓ）などの貴金属元素が適度な酸化活性を有
する点で好ましく、とくにＰｔ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｒｈが経
済性および吸着能の観点からも好ましい。

【００２６】触媒粒子の平均粒子径は、１〜５００ｎｍ
であることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがよ
り好ましい。平均粒子径が１ｎｍ未満では触媒粒子を構
造する原子の数が小さくなるために、材料的に不安定に
なる傾向があり、５００ｎｍをこえると触媒重量あたり
の触媒表面積が小さくなるため、反応活性が低下する傾
向がある。

【００２７】触媒粒子の含有量は、チッ素酸化物吸着剤
１００重量部に対して０．１〜６０重量部であることが
好ましい。触媒粒子の含有量が０．１重量部未満では、
供給されるチッ素酸化物を充分に酸化しうる触媒反応を
誘起することができない傾向があり、６０重量部をこえ
ると経済性がわるくなる傾向がある。

【００２８】固体高分子電解質としては、分子鎖中にス
ルホン酸基などの負電荷を保持する置換基を含む高分子
を用いることができる。この固体高分子電解質中に水が
含まれることにより、水分子が解離してプロトンが生成
し、イオン伝導性物質すなわち電解質となる。また耐久
性の観点から、分子主鎖または側鎖にフッ素原子や塩素
原子などのハロゲン原子を含む高分子がさらに好まし
い。さらにこの固体高分子電解質は、微視的には電解質
能を有するとともに、巨視的には多孔性であることが望
ましい。多孔性であることにより、吸着剤内部までチッ
素酸化物と還元剤が到達することが可能になるため、吸
着剤の利用効率が向上する。

【００２９】固体高分子電解質の含有量は、触媒粒子を
担持したチッ素酸化物吸着剤１００重量部に対して、５
〜１００重量部とすることが好ましい。固体高分子電解
質の含有量が５重量部未満では、固体高分子電解質の導
入効果が発現しない傾向があり、１００重量部をこえる
と、チッ素酸化物吸着剤や触媒粒子の表面を電解質が被
覆しすぎるため、性能が低下する傾向がある。

【００３０】チッ素吸着浄化剤は、ハニカム状基材など
に塗着させて使用することができる。このとき、基材の
壁厚は４〜２０ミルであることが好ましい。壁厚が４ミ
ル未満ではハニカムの機械的強度が低下し、実用上不具
合が生じる傾向があり、２０ミルをこえるとハニカム重
量あたりに塗着することができるチッ素酸化物吸着浄化
剤の量が少なくなる傾向がある。

【００３１】チッ素酸化物を還元する物質としては、水
素原子を含む物質であればよく、たとえばメタン、エタ
ン、プロパンなどの炭化水素物質や、メタノール、エタ
ノールなどのアルコールが好ましい。また、水素ガスを
直接供給するのも好ましい。

【００３２】

【実施例】以下に実施例を示して本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。

【００３３】＜チッ素酸化物吸着剤への貴金属の担持＞ 製造例１ チッ素酸化物吸着剤として平均二次粒子径が８μｍのＨ
終端ゼオライト（東ソー（株）製のＨＳＺ−３６０ＨＵ
Ａ）を用い、このゼオライトをジニトロアンミン白金硝
酸水溶液中に分散させ、５０℃に加熱して４時間撹拌し
た。そののち分散溶液を１５０℃で３時間、３００℃で
２時間、大気中で加熱して、ゼオライト上に白金化合物
を担持させ、さらに水素／チッ素気流中５００℃で２時
間加熱して還元処理を行ない、白金を表面部分に担持し
たゼオライトを得た。

【００３４】製造例２〜４ 同様の方法で、ジニトロアンミンパラジウム硝酸水溶
液、硝酸ルテニウム水溶液、硝酸ロジウム水溶液を用い
て、パラジウム、ルテニウム、ロジウムを表面部分に担
持したゼオライトを得た。

【００３５】製造例５ チッ素酸化物吸着剤として平均二次粒子径が１０μｍの
カーボンブラック粒子を用い、このカーボンブラック粒
子をジニトロアンミン白金硝酸水溶液中に分散させ、５
０℃に加熱して４時間撹拌した。そののち分散溶液を１
５０℃で３時間、３００℃で２時間、大気中で加熱し
て、カーボンブラック粒子上に白金化合物を担持させ、
さらに水素／チッ素気流中５００℃で２時間加熱して還
元処理を行ない、白金を表面部分に担持したカーボンブ
ラック粒子を得た。

【００３６】製造例６〜８ 同様の方法で、ジニトロアンミンパラジウム硝酸水溶
液、硝酸ルテニウム水溶液、硝酸ロジウム水溶液を用い
て、パラジウム、ルテニウム、ロジウムを表面部分に担
持したカーボンブラック粒子を得た。

【００３７】製造例９ チッ素酸化物吸着剤として平均二次粒子径が１０μｍの
シリカゲル粒子を用い、シリカゲル粒子をジニトロアン
ミン白金硝酸水溶液中に分散させ、５０℃に加熱して４
時間撹拌した。そののち分散溶液を１５０℃で３時間、
３００℃で２時間、大気中で加熱して、シリカゲル粒子
に白金化合物を担持させ、さらに水素／チッ素気流中５
００℃で２時間加熱して還元処理を行ない、白金を表面
部分に担持したシリカゲル粒子を得た。

【００３８】製造例１０〜１２ 同様の方法で、ジニトロアンミンパラジウム硝酸水溶
液、硝酸ルテニウム水溶液、硝酸ロジウム水溶液を用い
て、パラジウム、ルテニウム、ロジウムを表面部分に担
持したシリカゲル粒子を得た。

【００３９】＜スラリー作製と基材への塗着＞ 実施例１〜１２ 製造例１〜１２で得た貴金属を担持した各チッ素吸着剤
２重量部に、ポリパーフルオロスルホン酸（デュポン
（株）製のナフィオン１１５）をエタノールに溶解した
もの（樹脂濃度１０重量％）を各１１重量部混合し、さ
らにエタノールを１０重量部添加してスラリーを作製し
た。このスラリーを材質がコージェライトであるハニカ
ム状基材（日本碍子（株）製：セル数４００セル／平方
インチ、壁厚６ミル）の内壁に塗着したのち、減圧下で
８０℃に加熱してアルコールを除去し、ハニカム状内壁
に塗着したチッ素酸化物吸着浄化剤を得た。

【００４０】比較例１〜１２ 製造例１〜１２で得た貴金属を担持した各チッ素酸化物
吸着剤９重量部に、ポリテトラフルオロエチレン微粒子
分散水溶液（ダイキン（株）製のＤ−１）を各１５重量
部混合し、さらに水を１００重量部添加してスラリーを
作製した。このスラリーを材質がコージェライトである
ハニカム状基材（日本碍子（株）製：セル数４００セル
／平方インチ、壁厚６ミル）の内壁に塗着したのち、大
気圧下３４０℃で加熱して水分を除去し、ハニカム状内
壁に塗着したチッ素酸化物吸着浄化剤を得た。

【００４１】＜吸着浄化性能の評価＞実施例１〜１２お
よび比較例１〜１２で得た吸着性能評価用の各サンプル
を用い、一酸化チッ素の吸着浄化性能評価試験を行なっ
た。試験条件は下記の通りであり、吸着と浄化を以下の
条件で交互に行なった。

【００４２】（吸着条件） 一酸化チッ素濃度：１０ｐｐｍ（空気キャリア）、空間
速度：５６００／時間、試験温度：２０℃、評価ガス中
の水分割合：１．３９％（体積比、２０℃における湿度
６０％相当）、流通時間：６０分間

【００４３】（脱着条件） 水素濃度：０．１％（チッ素キャリア）、空間速度：５
６００／時間、試験温度：６０℃、評価ガス中の水分割
合：４．１９％（体積比、６０℃における湿度２１％相
当）、流通時間１５分間

【００４４】図４に、実施例１で作製した白金を担持し
たゼオライトに所定量の固体高分子電解質が含まれたハ
ニカムに関し、前記の評価を繰り返して実施した場合の
入口のチッ素酸化物（ＮＯ_x）濃度（ａ）および水素
（Ｈ₂）濃度（ｂ）と出口のチッ素酸化物（ＮＯ_x）濃度
（ｃ）の時間変化を示す。最初の吸着条件下において
は、吸着時間６０分間中で最後の５分間に若干出口でチ
ッ素酸化物が検出されたほかは、出口部でチッ素酸化物
は検出されなかかった。吸着時間経過後、１５分間脱着
条件にて水素含有ガスを流通させ、そののち再度吸着条
件にてチッ素酸化物を吸着させたところ、同様に、吸着
時間６０分間中で最後の５分間に若干出口でチッ素酸化
物が検出されたほかは、出口部でチッ素酸化物は検出さ
れなかかった。以上より、脱着条件下においては、吸着
されたチッ素酸化物はチッ素酸化物以外の物質に変化し
て脱離していると判断される。すなわち実施例１の吸着
浄化剤によってチッ素酸化物の吸着浄化が実現された。

【００４５】同様の方法で、実施例２〜１２で得た吸着
浄化剤を塗着したハニカムについて評価を行なったとこ
ろ、図４と同様の結果が得られた。すなわち、実施例２
〜１２によってチッ素酸化物の吸着浄化が実現された。

【００４６】図５に、比較例１で得た固体高分子電解質
を含まない白金を担持したゼオライトを所定量の固体高
分子電解質が含まれたハニカムに関し、前記評価を繰り
返して実施した場合の入口のチッ素酸化物（ＮＯ_x）濃
度および水素（Ｈ₂）濃度と出口のチッ素酸化物（Ｎ
Ｏ_x）濃度の時間変化を示す。最初の吸着条件下におい
ては、実施例１の場合とは異なり、吸着開始直後から出
口のチッ素酸化物濃度が徐々に入口濃度に接近していく
ことがわかる。６０分の吸着時間経過後、１５分間脱着
条件にて水素含有ガスを流通させ、そののち再度吸着条
件にてチッ素酸化物を吸着させたところ、出口部のチッ
素酸化物濃度は入口部とほぼ同一であることから、比較
例１で得たハニカムでは吸着されたチッ素酸化物は浄化
脱着しないと判断される。

【００４７】同様の方法で、比較例２〜１２で得たハニ
カムについて評価を行なったところ、図５と同様の結果
が得られた。すなわち、比較例２〜１２により得られた
ハニカムでは、チッ素酸化物の吸着浄化は実現されない
ことがわかった。

【００４８】

【発明の効果】本発明の第１の吸着浄化剤によれば、チ
ッ素酸化物吸着剤、酸化還元能を有する触媒粒子および
固体高分子電解質からなることにより、大気中のチッ素
酸化物を吸着するとともに、別途還元剤を導入して当該
吸着剤に吸着されたチッ素酸化物を還元浄化することが
でき、チッ素酸化物が含まれない清浄な空気を得ること
ができる。

【００４９】本発明の第２の吸着浄化剤によれば、第１
の吸着浄化剤において、チッ素酸化物吸着剤が、その構
成元素として炭素、ケイ素、アルミニウムからなる群よ
り選ばれた少なくとも１種の元素を含むことにより、吸
着剤の比表面積が大きくなり、チッ素酸化物の吸着能を
高めることができる。

【００５０】本発明の第３の吸着浄化剤によれば、第２
の吸着浄化剤において、チッ素酸化物吸着剤が、チッ素
酸化物吸着浄化剤が、活性炭、ゼオライト、シリカゲ
ル、アルミナからなる群より選ばれた少なくとも１種を
含むことにより、吸着剤の比表面積が大きくなり、チッ
素酸化物を多量に吸着することが可能となる。

【００５１】本発明の第４の吸着浄化剤によれば、第１
の吸着浄化剤において、チッ素酸化物吸着剤の表面部分
に触媒粒子が担持されており、固体高分子電解質と触媒
粒子とが接触していることにより、還元性ガス流通時に
触媒粒子表面に生成したプロトンが固体高分子電解質内
部を移動し、吸着剤より放出された未反応のチッ素酸化
物と触媒上の別の部位で反応する。その結果、従来より
もチッ素酸化物の還元反応の反応確率が向上することに
なり、従来よりも低温条件下でチッ素酸化物の還元を行
なうことができる。

【００５２】本発明の第５の吸着浄化剤によれば、第４
の吸着浄化剤において、触媒粒子が、白金、ルテニウ
ム、パラジウム、ロジウムからなる群より選ばれた少な
くとも１種の元素を含むことにより、大気中のチッ素酸
化物の空気酸化や吸着されたチッ素酸化物の還元反応を
より可逆的に連続的に行なうことができる。

【００５３】本発明の第６の吸着浄化剤によれば、第４
の吸着浄化剤において、固体高分子電解質が、プロトン
伝導性であることにより、還元性ガスとして有効な水素
を伝導させることができ、水素を還元性ガスとした場合
のチッ素酸化物還元反応を従来よりも低温条件下で行な
うことができる。

【００５４】本発明の第７の吸着浄化剤によれば、第４
の吸着浄化剤において、固体高分子電解質が多孔性であ
ることにより、基材表面に塗着されたチッ素吸着浄化剤
層内部にまで吸着ガス（チッ素酸化物）や還元性ガスが
浸透可能となり、吸着剤利用率を高めることが可能とな
る。

【００５５】本発明の第１の浄化方法によれば、第１、
２、３、４、５、６または７記載のチッ素酸化物吸着浄
化剤により、チッ素酸化物を硝酸イオンに変換して吸蔵
する吸蔵工程、および、チッ素酸化物吸着浄化剤に還元
性ガスを流入して吸着されたチッ素酸化物を触媒反応に
より還元浄化する還元浄化工程からなるので、チッ素酸
化物の還元浄化が実現されるとともに、同時に吸着浄化
剤の再生利用を行なうことが可能となる。

【００５６】本発明の第２の浄化方法によれば、第１の
浄化方法において、還元性ガスが水素であることによ
り、高反応性の還元性ガスを直接利用してチッ素酸化物
還元反応をより低温条件下で行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のチッ素酸化物吸着浄化剤の構造の一
例を示す模式図である。

【図２】 図１のチッ素酸化物吸着浄化剤によるチッ素
酸化物の吸蔵工程を説明するための図である。

【図３】 図１のチッ素酸化物吸着浄化剤により吸着さ
れたチッ素酸化物の還元浄化工程を説明するための図で
ある。

【図４】 実施例１で作製したチッ素吸着浄化剤の吸着
浄化性能を示す図である。

【図５】 比較例１で作製したチッ素吸着浄化剤の吸着
浄化性能を示す図である。

【符号の説明】

１ チッ素酸化物吸着剤、２ 触媒粒子、３ 固体高分
子電解質。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ０１Ｎ 3/10 Ｂ０１Ｄ 53/36 １０２Ｚ 3/28 ３０１ 53/34 １２９Ａ (72)発明者 中宗 浩昭 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 佐藤 稔 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 藤田 洋司 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 光田 憲朗 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 3G091 AA05 AB06 BA14 CA19 FB02 FC07 GB05W GB06W GB07W GB09Y GB17Y HA18 4D002 AA12 AB01 BA04 BA05 BA06 DA41 DA45 DA46 EA01 4D048 AA06 AB01 AB02 AC01 BA05X BA06X BA11X BA30X BA31X BA32X BA33X BB02 EA04 4G069 AA03 AA08 BA02B BA07B BA08B BA13B BA22A BA22B BC70B BC71B BC72B BC75B CA02 CA07 CA08 CA13 DA06 EA19 FA02 FA03 FB14 FB23 FB44 ZA01B

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも１種のチッ素酸化物吸着剤、
   酸化還元能を有する触媒粒子および固体高分子電解質か
   らなるチッ素酸化物吸着浄化剤。
2. 【請求項２】 チッ素酸化物吸着剤が炭素、ケイ素、ア
   ルミニウムからなる群より選ばれた少なくとも１種の元
   素を含む請求項１記載のチッ素酸化物吸着浄化剤。
3. 【請求項３】 チッ素酸化物吸着剤が活性炭、ゼオライ
   ト、シリカゲルからなる群より選ばれた少なくとも１種
   である請求項２記載のチッ素酸化物吸着浄化剤。
4. 【請求項４】 チッ素酸化物吸着剤の表面部分に触媒粒
   子が担持されており、固体高分子電解質と触媒粒子とが
   接触している請求項１記載のチッ素酸化物吸着浄化剤。
5. 【請求項５】 触媒粒子が白金、ルテニウム、パラジウ
   ム、ロジウムからなる群より選ばれた少なくとも１種の
   元素を含む請求項４記載のチッ素酸化物吸着浄化剤。
6. 【請求項６】 固体高分子電解質がプロトン伝導性であ
   る請求項４記載のチッ素酸化物吸着浄化剤。
7. 【請求項７】 固体高分子電解質が多孔性である請求項
   ４記載のチッ素酸化物吸着浄化剤。
8. 【請求項８】 請求項１、２、３、４、５、６または７
   記載のチッ素酸化物吸着浄化剤において、チッ素酸化物
   を硝酸イオンに変換して吸蔵する吸蔵工程、および、チ
   ッ素酸化物吸着浄化剤に還元性ガスを流入して吸着され
   たチッ素酸化物を触媒反応により還元浄化する還元浄化
   工程からなるチッ素酸化物の浄化方法。
9. 【請求項９】 還元性ガスが水素である請求項８記載の
   チッ素酸化物の浄化方法。