JP2003060126A - Manufacturing method for semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の小型
化技術に関し、特に、一括モールドにより形成された半
導体装置のモジュール化に適用して有効な技術に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for miniaturizing a semiconductor device, and more particularly to a technique effectively applied to modularization of a semiconductor device formed by collective molding.
【0002】[0002]
【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、パ
ーソナルコンピュータやワークステーションなどには、
いわゆるマザーボードが備えられている。このマザーボ
ードは、コンピュータの基本的な部品を実装したプリン
ト配線基板であり、マイクロコンピュータ、主記憶装置
として用いられる半導体メモリ、基本入出力システム
(BIOS:Basic Input/Output
System)を記憶するROM(Read Only
Memory)などの半導体メモリ、ならびに拡張ス
ロットなどの様々な電子部品が実装されている。2. Description of the Related Art According to a study by the present inventor, personal computers, workstations, etc.
A so-called motherboard is provided. This motherboard is a printed wiring board on which the basic components of a computer are mounted, and includes a microcomputer, a semiconductor memory used as a main memory, and a basic input / output system (BIOS).
ROM (Read Only) that stores the system
A semiconductor memory such as a memory) and various electronic components such as an expansion slot are mounted.
【0003】また、主記憶装置の半導体メモリとして
は、たとえば、DRAM(Dynamic Rando
m Access Memory)などが用いられてい
る。As a semiconductor memory of the main memory device, for example, a DRAM (Dynamic Random) is used.
m Access Memory) and the like are used.
【0004】この主記憶装置の半導体メモリは、メモリ
の大容量化に対応するために複数個が搭載される場合が
一般的であり、小型化、多ピン化などの要求に応えるた
めに、CSP(Chip Size Package)
や、LGA(Land Grid Array)などの
小型パッケージが使用されつつある。In general, a plurality of semiconductor memories of this main memory device are mounted in order to cope with an increase in the capacity of the memory, and in order to meet the demands for downsizing, a large number of pins, etc., a CSP is used. (Chip Size Package)
In addition, small packages such as LGA (Land Grid Array) are being used.
【0005】なお、この種のメモリについて詳しく述べ
てある例としては、1996年9月10日、日経BP社
発行、日経バイト(編)、「最新パソコン技術体系’9
7」P79〜P82があり、この文献には、パーソナル
コンピュータなどに用いられるメモリシステムの構成な
どが記載されている。As an example in which this type of memory has been described in detail, September 10, 1996, published by Nikkei BP, Nikkei Byte (ed.), "Latest PC Technology System '9"
7 ”P79 to P82, and this document describes the configuration of a memory system used in a personal computer or the like.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な半導体メモリなどの複数の半導体装置における実装技
術では、次のような問題点があることが本発明者により
見い出された。However, the present inventor has found that the mounting technique for a plurality of semiconductor devices such as the semiconductor memory as described above has the following problems.
【0007】すなわち、複数個の半導体メモリをマザー
ボードに実装する際には、個々のメモリにおいて、ある
一定のクリアランスを確保しなければならず、メモリの
実装数が多くなるにしたがい、マザーボードの実装面積
も大きくなってしまい、該マザーボードそれ自体の小型
化が困難になるとともに製造コストも上がってしまうと
いう問題がある。That is, when mounting a plurality of semiconductor memories on a motherboard, a certain clearance must be secured in each memory, and the mounting area of the motherboard increases as the number of mounted memories increases. However, there is a problem in that it becomes difficult to reduce the size of the motherboard itself and the manufacturing cost increases.
【0008】また、CSPやLGAなどのパッケージに
おいては、該パッケージ裏面(実装面側)に外部端子が
設けられているので配線パターンの引き回しが困難とな
り、マザーボードが多層化配線となってしまい、コスト
アップを招いてしまうという問題がある。Further, in a package such as CSP or LGA, since external terminals are provided on the back surface (mounting surface side) of the package, it becomes difficult to route the wiring pattern, and the mother board becomes a multilayer wiring, resulting in cost reduction. There is a problem that it invites up.
【0009】本発明の目的は、一括モールド方式により
半導体チップをモジュール化し、実装面積、ならびに製
造コストを大幅に小さくすることのできる半導体装置の
製造方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can modularize semiconductor chips by a collective molding method and can significantly reduce the mounting area and the manufacturing cost.
【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.
【0012】すなわち、本発明の半導体装置の製造方法
は、複数のデバイス領域を有し、共通信号が入力される
ボンディング共通電極と、該ボンディング共通電極をそ
れぞれ共通に接続する共通配線パターンと、共通信号以
外の独立信号が入力されるボンディング電極とが形成さ
れたプリント配線基板を準備する工程と、デバイス領域
に半導体チップを搭載する工程と、該半導体チップの表
面電極とこれに対応するプリント配線基板のボンディン
グ共通電極、ならびにボンディング電極とを接続部材に
よって接続する工程と、プリント配線基板における複数
のデバイス領域をモールド樹脂によって一括に覆い、半
導体チップを樹脂封止するとともに一括封止部を形成す
る工程と、ダイシングラインに沿って任意のデバイス領
域毎にプリント配線基板および一括封止部を分割して個
片化し、個々の封止部を形成する工程とを有するもので
ある。That is, the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention has a common bonding common electrode having a plurality of device regions to which a common signal is input, a common wiring pattern for commonly connecting the bonding common electrodes, and a common wiring pattern. A step of preparing a printed wiring board having a bonding electrode to which an independent signal other than a signal is formed, a step of mounting a semiconductor chip in a device region, a surface electrode of the semiconductor chip and a printed wiring board corresponding thereto Step of connecting the bonding common electrode and the bonding electrode with a connecting member, and a step of collectively covering a plurality of device regions on the printed wiring board with a molding resin to seal the semiconductor chip with a resin and form a collective sealing portion. And the print layout for each device area along the dicing line. Singulation by dividing the substrate and the block molding portion, and a step of forming individual sealed portion.
【0013】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
複数のデバイス領域を有し、アドレス信号が入力される
ボンディング共通電極と、該ボンディング共通電極をそ
れぞれ共通に接続する共通配線パターンと、アドレス信
号以外の独立信号が入力されるボンディング電極とが形
成されたプリント配線基板を準備する工程と、デバイス
領域に半導体チップを搭載する工程と、半導体チップの
表面電極とこれに対応するプリント配線基板のボンディ
ング電極、ならびにボンディング共通電極とを接続部材
によって接続する工程と、プリント配線基板における複
数のデバイス領域をモールド樹脂によって一括に覆い、
半導体チップを樹脂封止するとともに一括封止部を形成
する工程と、ダイシングラインに沿って任意のデバイス
領域毎にプリント配線基板および一括封止部を分割して
個片化し、個々の封止部を形成する工程とを有するもの
である。A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is
A bonding common electrode having a plurality of device regions to which an address signal is input, a common wiring pattern for commonly connecting the bonding common electrodes, and a bonding electrode to which an independent signal other than the address signal is input are formed. A step of preparing a printed wiring board, a step of mounting a semiconductor chip in a device region, and a step of connecting a surface electrode of the semiconductor chip and a bonding electrode of a printed wiring board corresponding to the surface electrode and a bonding common electrode by a connecting member. And cover a plurality of device areas on the printed wiring board with molding resin at once.
The process of resin-sealing the semiconductor chip and forming the collective sealing part, and dividing the printed wiring board and the collective sealing part into individual device areas along the dicing line into individual pieces, And a step of forming.
【0014】さらに、本発明の半導体装置の製造方法
は、複数のデバイス領域を有し、デバイス領域内に形成
されたアドレス信号が入力されるボンディング共通電
極、ならびにアドレス信号以外の独立信号が入力される
ボンディング電極とがデバイス領域内にそれぞれ形成さ
れ、ボンディング共通電極をそれぞれ共通に接続する共
通配線パターンがダイシングラインの周辺部に形成され
たプリント配線基板を準備する工程と、デバイス領域に
半導体チップを搭載する工程と、該半導体チップの表面
電極とこれに対応するプリント配線基板のボンディング
電極、ならびにボンディング共通電極とを接続部材によ
って接続する工程と、プリント配線基板における複数の
デバイス領域をモールド樹脂によって一括に覆い、半導
体チップを樹脂封止するとともに一括封止部を形成する
工程と、ダイシングラインに沿って任意のデバイス領域
毎にプリント配線基板および一括封止部を分割して個片
化し、個々の封止部を形成する工程とを有するものであ
る。Further, the semiconductor device manufacturing method of the present invention has a plurality of device regions, a bonding common electrode formed in the device regions to which an address signal is input, and an independent signal other than the address signal are input. And a bonding electrode is formed in the device region, and a common wiring pattern for commonly connecting the bonding common electrodes is prepared in the peripheral portion of the dicing line. The step of mounting, the step of connecting the surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding bonding electrode of the printed wiring board, and the bonding common electrode by a connecting member, and a plurality of device regions in the printed wiring board are collectively formed by molding resin. And seal the semiconductor chip with resin. And a step of forming a collective sealing portion, and a step of dividing the printed wiring board and the collective sealing portion into individual pieces along the dicing line for individual device regions to form individual sealing portions. It is a thing.
【0015】以上のことにより、複数のデバイス領域が
連なるように個片化し、モジュール構成の半導体装置を
形成した場合、共通信号が入力されるボンディング共通
電極がプリント配線基板上で接続されているので、半導
体装置を実装するマザーボードなどの配線密度を小さく
することができるとともに、一括モールド方式によって
該半導体装置それ自体を小型化することができる。As described above, when a semiconductor device having a module structure is formed by dividing a plurality of device regions into a series, a bonding common electrode to which a common signal is input is connected on the printed wiring board. The wiring density of a motherboard on which the semiconductor device is mounted can be reduced, and the semiconductor device itself can be miniaturized by the collective molding method.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【0017】図1は、本発明の一実施の形態による半導
体装置の外観斜視図、図2は、図1の半導体装置に用い
られるプリント配線基板の説明図、図3は、図1の半導
体装置の製造において用いられる多数個取り基板の説明
図、図4は、図3の多数個取り基板における外周配線パ
ターンの配線説明図、図5〜図9は、図1の半導体装置
の製造工程の説明図、図10は、図1の半導体装置にお
ける製造工程のフローチャート、図11は、本発明の一
実施の形態によるデバイス領域の切り出し例を示す説明
図である。FIG. 1 is an external perspective view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view of a printed wiring board used in the semiconductor device of FIG. 1, and FIG. 3 is a semiconductor device of FIG. FIG. 4 is an explanatory view of a multi-cavity substrate used in the manufacture of FIG. 4, FIG. 4 is a wiring explanatory diagram of an outer peripheral wiring pattern in the multi-cavity substrate of FIG. 3, and FIGS. 10 and 10 are flowcharts of manufacturing steps in the semiconductor device of FIG. 1, and FIG. 11 is an explanatory diagram showing an example of cutting out a device region according to one embodiment of the present invention.
【0018】本実施の形態において、半導体装置1は、
パーソナルコンピュータなどのマザーボードに実装され
るDRAMなどの半導体メモリである。半導体装置1
は、表面実装形パッケージの1つであるBGA(Bal
l Grid Array)からなり、MAP方式によ
って形成されている。In the present embodiment, the semiconductor device 1 is
It is a semiconductor memory such as a DRAM mounted on a motherboard of a personal computer or the like. Semiconductor device 1
Is a BGA (Bal) which is one of surface mount type packages.
l Grid Array) and is formed by the MAP method.
【0019】半導体装置1は、図1、図2に示すよう
に、たとえば、ガラスエポキシ樹脂などからなるプリン
ト配線基板2が設けられている。ここで、図2は、パッ
ケージを形成していない半導体装置1を示した説明図で
ある。さらに、プリント配線基板2はプリント基板以外
でもよく、たとえば、ポリイミドなどのテープ基板を用
いて構成するようにしてよい。As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor device 1 is provided with a printed wiring board 2 made of, for example, glass epoxy resin. Here, FIG. 2 is an explanatory view showing the semiconductor device 1 in which a package is not formed. Further, the printed wiring board 2 may be other than the printed board, and may be configured by using a tape substrate such as polyimide.
【0020】このプリント配線基板2の主面には、2つ
の半導体チップ3が絶縁樹脂などの接着材を介して搭載
されている。よって、半導体装置1は、2つの半導体チ
ップ3が設けられたメモリモジュール構成となってい
る。Two semiconductor chips 3 are mounted on the main surface of the printed wiring board 2 via an adhesive such as an insulating resin. Therefore, the semiconductor device 1 has a memory module configuration in which the two semiconductor chips 3 are provided.
【0021】プリント配線基板2の裏面には、2つの半
導体チップ3に対応するアレイ状に並べられた接続用電
極、および配線パターンがそれぞれ形成されている。プ
リント配線基板2の主面(半導体チップ3の搭載面)に
おいて、半導体チップ3の周辺部近傍には、複数のボン
ディング電極2aがそれぞれ形成されており、これらボ
ンディング電極2aの外周部近傍には、複数の外周配線
パターン(共通配線パターン)2bがそれぞれ形成され
ている。On the back surface of the printed wiring board 2, connection electrodes arranged in an array corresponding to the two semiconductor chips 3 and wiring patterns are formed. On the main surface of the printed wiring board 2 (mounting surface of the semiconductor chip 3), a plurality of bonding electrodes 2a are formed in the vicinity of the peripheral portion of the semiconductor chip 3, and in the vicinity of the outer peripheral portion of these bonding electrodes 2a, A plurality of outer peripheral wiring patterns (common wiring patterns) 2b are formed respectively.
【0022】ボンディング電極2aと接続用電極とは、
プリント配線基板2の両面に形成された配線パターン2
c、ならびにスルーホール2dなどによってそれぞれ電
気的に接続されている。The bonding electrode 2a and the connecting electrode are
Wiring pattern 2 formed on both sides of printed wiring board 2
c, and through holes 2d, etc., for electrical connection.
【0023】また、外周配線パターン2bは、プリント
配線基板2の長辺方向と短辺方向とに、それぞれ配線さ
れている。これら外周配線パターン2bには、たとえ
ば、ボンディング電極2aのうち、アドレス信号(共通
信号)などの共通した信号が入力されるボンディング電
極(ボンディング共通電極)2e1 〜2e12がそれぞれ
接続されている。The outer peripheral wiring pattern 2b is wired in the long side direction and the short side direction of the printed wiring board 2, respectively. These outer peripheral wiring patterns 2b, for example, of the bonding electrodes 2a, bonding electrodes (bonding common electrode) 2e 1 ~2e 12 common signals such as address signals (common signal) is input are connected.
【0024】さらに、異なる信号の外周配線パターン2
bが交差する部位には、図2の点線で示すように一方の
配線パターンを下層に配置し、電気的に短絡することが
ないようになっている。Further, the outer peripheral wiring pattern 2 of different signals
At a portion where b intersects, one wiring pattern is arranged in a lower layer as shown by a dotted line in FIG. 2 so that it is not electrically short-circuited.
【0025】よって、一方の半導体チップ3に対応する
ボンディング電極2e1 と他方の半導体チップ3に対応
するボンディング電極2e1 とは、外周配線パターン2
bを介して共通接続されていることになる。Therefore, the bonding electrode 2e 1 corresponding to one semiconductor chip 3 and the bonding electrode 2e 1 corresponding to the other semiconductor chip 3 are the outer peripheral wiring pattern 2
This means that they are commonly connected via b.
【0026】プリント配線基板2裏面の接続用電極に
は、球形のはんだからなるはんだバンプ4がそれぞれ形
成されている。半導体チップ3の主面には、該半導体チ
ップ3の外周部近傍に複数の電極(表面電極)3aがそ
れぞれ形成されている。これら電極3aは、ボンディン
グワイヤ(接続部材)5を介して所定のボンディング電
極2aがそれぞれ接続されている。Solder bumps 4 made of spherical solder are formed on the connecting electrodes on the back surface of the printed wiring board 2. On the main surface of the semiconductor chip 3, a plurality of electrodes (surface electrodes) 3a are formed near the outer peripheral portion of the semiconductor chip 3, respectively. Predetermined bonding electrodes 2a are connected to these electrodes 3a via bonding wires (connection members) 5, respectively.
【0027】そして、これら半導体チップ3、プリント
配線基板2のボンディング電極2aの周辺、ならびにボ
ンディングワイヤ5が、封止樹脂6よって封止されてパ
ッケージが形成されている。The semiconductor chip 3, the periphery of the bonding electrode 2a of the printed wiring board 2 and the bonding wire 5 are sealed with a sealing resin 6 to form a package.
【0028】さらに、半導体装置1を、マザーボードな
どの電子部品などを実装するプリント実装基板に実装す
る際には、該プリント実装基板に形成されたランドなど
の電極に、はんだバンプ4を重合させて搭載し、リフロ
ーを行うことにより電気的に接続する。Further, when the semiconductor device 1 is mounted on a printed circuit board on which electronic parts such as a mother board are mounted, the solder bumps 4 are superposed on electrodes such as lands formed on the printed circuit board. It is mounted and electrically connected by performing reflow.
【0029】次に、本実施の形態における半導体装置1
の製造工程について、図1、図2、および図3の多数個
取り基板7の説明図、図4の多数個取り基板7における
外周配線パターン2bの接続説明図、図5〜図9の製造
工程の説明図、図10のフローチャートを用いて説明す
る。Next, the semiconductor device 1 according to the present embodiment
1, 2, and 3 are explanatory views of the multi-cavity substrate 7, connection explanatory diagrams of the outer peripheral wiring pattern 2b in the multi-cavity substrate 7 of FIG. 4, and the manufacturing steps of FIGS. Will be described with reference to the explanatory diagram of FIG.
【0030】また、図5〜図9は一部を省略した図面で
あり、これら図5〜図9においては外周配線パターン2
b、配線パターン2c、ならびにスルーホール2dなど
を図示していない。5 to 9 are drawings in which a part is omitted. In these FIGS. 5 to 9, the outer peripheral wiring pattern 2 is shown.
b, the wiring pattern 2c, the through hole 2d, etc. are not shown.
【0031】まず、多数個取り基板7、および該多数個
取り基板7に搭載される半導体チップ3を準備する(ス
テップS101)。この多数個取り基板7には、図3に
示すように、複数のマトリクス配置されたデバイス領域
7aと、これらデバイス領域7aを隔てるダイシングラ
イン7bとが形成されており、該複数のデバイス領域7
aを一括に覆う状態で樹脂モールドされる一括モールド
が施される。First, the multi-cavity substrate 7 and the semiconductor chip 3 mounted on the multi-cavity substrate 7 are prepared (step S101). As shown in FIG. 3, a plurality of device regions 7a arranged in a matrix and dicing lines 7b separating the device regions 7a are formed on the multi-piece substrate 7, and the plurality of device regions 7 are formed.
A batch molding is performed in which a resin is molded so as to collectively cover a.
【0032】また、半導体装置1は、この一括モールド
によって形成された一括モールド部8における2つのデ
バイス領域が連なるようにダイシングして個片化したも
のである。ダイシングライン7bは、あるデバイス領域
7a部分、ならびに多数個取り基板7とデバイス領域7
a部分とを切り離す領域である。Further, the semiconductor device 1 is obtained by dicing so that the two device regions in the collective molding portion 8 formed by this collective molding are continuous. The dicing line 7b includes a part of the device area 7a, the multi-piece substrate 7 and the device area 7.
This is a region that is separated from the portion a.
【0033】さらに、デバイス領域7aの周辺部近傍に
は、前述した外周配線パターン2b(図2)が形成され
ている。Further, the peripheral wiring pattern 2b (FIG. 2) described above is formed near the peripheral portion of the device region 7a.
【0034】ここで、外周配線パターン2bの接続構成
について、図4を用いて説明する。この図4において
は、図3の多数個取り基板7の丸印で示した4つのデバ
イス領域7a1 〜7a4 に形成された外周配線パターン
2bの接続構成のみを示しており、ボンディング電極2
a、スルーホール2d、ならびに外部電極への配線2f
などは図示していない。Here, the connection structure of the outer peripheral wiring pattern 2b will be described with reference to FIG. In this FIG. 4 shows only the connection structure of four device areas 7a 1 formed in ~7A 4 perimeter wiring pattern 2b shown by circles of multi-chip substrate 7 in FIG. 3, the bonding electrodes 2
a, through hole 2d, and wiring 2f to the external electrode
Are not shown.
【0035】外周配線パターン2bは、多数個取り基板
7の長辺方向、および短辺方向にそれぞれ12本ずつ形
成された外周配線パターン2b1 〜2b12から構成され
ている。これら外周配線パターン2b1 〜2b12によっ
て、デバイス領域7a1 〜7a4 に設けられたボンディ
ング電極2e1 〜2e12が、それぞれ共通に接続されて
いる。The outer peripheral wiring pattern 2b is configured many long side direction of the chip substrate 7, and the short side direction is formed by 12, respectively the outer peripheral wiring pattern 2b 1 ~2b 12. These outer peripheral wiring pattern 2b 1 ~2b 12, bonding electrodes 2e 1 ~2e 12 provided in the device region 7a 1 ~7a 4 are respectively connected in common.
【0036】たとえば、デバイス領域7a1 〜7a4 に
設けられたボンディング電極2e1は、多数個取り基板
7の長辺方向、および短辺方向の外周配線パターン2b
1 によって、すべて共通に接続されている。同様に、デ
バイス領域7a1 〜7a4 におけるボンディング電極2
e12は、外周配線パターン2b12を介してすべて共通に
接続される。For example, the bonding electrodes 2e 1 provided in the device regions 7a 1 to 7a 4 are the outer peripheral wiring patterns 2b in the long side direction and the short side direction of the multi-piece substrate 7.
All are commonly connected by 1 . Similarly, the bonding in the device region 7a 1 ~7a 4 electrodes 2
e 12 are all commonly connected via the outer peripheral wiring pattern 2b 12 .
【0037】このように、多数個取り基板7に形成され
ているボンディング電極2e1 〜2e12は外周配線パタ
ーン2b1 〜2b12によって、それぞれ共通に接続され
てた構成となっている。As described above, the bonding electrodes 2e 1 to 2e 12 formed on the multi-piece substrate 7 are connected in common by the outer peripheral wiring patterns 2b 1 to 2b 12 .
【0038】また、デバイス領域7aには、前述したボ
ンディング電極2a、外周配線パターン2b、配線パタ
ーン2c、スルーホール2d、外部電極への配線2f、
および接続用電極などがそれぞれ成形されており、ダイ
シングして個片化された後、前述したプリント配線基板
2(図2)となる。In the device area 7a, the above-mentioned bonding electrode 2a, outer peripheral wiring pattern 2b, wiring pattern 2c, through hole 2d, wiring 2f to the external electrode,
Also, the connection electrodes and the like are respectively formed, and after dicing and dividing into individual pieces, the printed wiring board 2 (FIG. 2) described above is obtained.
【0039】その後、多数個取り基板7の半導体チップ
搭載面に接着材をそれぞれ塗布し、図5に示すように、
半導体チップ3をそれぞれ搭載して接着固定する(ステ
ップS102)。Thereafter, an adhesive material is applied to each semiconductor chip mounting surface of the multi-piece substrate 7 and, as shown in FIG.
The semiconductor chips 3 are mounted and bonded and fixed (step S102).
【0040】そして、図6に示すように半導体チップ3
の電極3aと多数個取り基板7に形成されたボンディン
グ電極2aとをボンディングワイヤ5によってそれぞれ
接合し、電気的に接続する(ステップS103)。Then, as shown in FIG. 6, the semiconductor chip 3
The electrode 3a and the bonding electrode 2a formed on the multi-piece substrate 7 are joined by the bonding wires 5 and electrically connected (step S103).
【0041】このワイヤボンディング後、図7に示すよ
うに、トランスファーモールド用のモールド金型を用い
て一括モールドを行い(ステップS104)、半導体チ
ップ3とボンディングワイヤ5とを封止樹脂6によって
封止し、モールド樹脂を硬化させて、一括モールド部
(一括封止部)8を形成する。なお、モールド樹脂とし
ては、たとえば、エポキシ系の熱硬化性樹脂などを用い
る。After this wire bonding, as shown in FIG. 7, the semiconductor chip 3 and the bonding wire 5 are sealed with a sealing resin 6 by performing a batch molding using a transfer molding mold (step S104). Then, the mold resin is cured to form the collective mold section (collective sealing section) 8. As the mold resin, for example, an epoxy thermosetting resin or the like is used.
【0042】その後、図8に示すように、多数個取り基
板7の裏面に形成されている接続用電極に、はんだバン
プ4をそれぞれ形成する(ステップS105)。Thereafter, as shown in FIG. 8, the solder bumps 4 are formed on the connection electrodes formed on the back surface of the multi-piece substrate 7 (step S105).
【0043】はんだバンプ4は、たとえば、多数個取り
基板7の半導体チップ搭載面を下方に向け、複数のはん
だバンプ4を真空吸着保持したボール搭載用治具をその
上方に配置し、多数個取り基板7の上方から各デバイス
領域7a上の接続用電極に搭載して形成する。For the solder bumps 4, for example, a semiconductor chip mounting surface of the multi-cavity substrate 7 faces downward, and a ball mounting jig holding a plurality of solder bumps 4 by vacuum suction is arranged above the solder bumps 4, and a multi-cavity soldering is performed. It is formed by mounting on the connection electrodes on each device region 7a from above the substrate 7.
【0044】そして、一括モールド部8が形成された
後、図9に示すように、ダイシング用の切断刃であるブ
レードBを用いたダイシングによって該一括モールド部
8を分割して個片化する(ステップS106)。After the collective mold portion 8 is formed, as shown in FIG. 9, the collective mold portion 8 is divided into individual pieces by dicing using a blade B which is a cutting blade for dicing ( Step S106).
【0045】この場合、ダイシングは、顧客の要求に応
じてパッケージの切り出しを行う。このパッケージは、
デバイス領域7aが1つの単一デバイス、2つのデバイ
ス領域7aが連なった2連モジュール、4つのデバイス
領域7aが正方形状に連なった4連モジュール、または
4つのバイス領域7aが長方形状に連なった4連モジュ
ールなどの様々な形状にすることができる。In this case, the dicing cuts the package according to the customer's request. This package is
The device area 7a is a single device, the double module in which the two device areas 7a are connected, the four module in which the four device areas 7a are connected in a square shape, or the four vice areas 7a are connected in a rectangular shape 4 It can have various shapes such as a continuous module.
【0046】これら切り出し例を、図11の切り出し例
A〜切り出し例Eに(図11の左側から右側にかけて)
示す。切り出し例Aは、単一デバイスの場合であり、個
々のデバイス領域7aを切り出し、1つの単一デバイス
を形成する。また、切り出し例Bは、2つのデバイス領
域7aが連なった2連モジュールの場合であり、多数個
取り基板7の長辺方向に、2つのデバイス領域7aが連
なった状態でダイシングして形成する。These cutout examples are shown as cutout example A to cutout example E in FIG. 11 (from the left side to the right side in FIG. 11).
Show. The cutout example A is a case of a single device, and individual device regions 7a are cut out to form one single device. Further, the cutout example B is a case of a double module in which two device regions 7a are connected, and is formed by dicing in the long side direction of the multi-piece substrate 7 in a state where the two device regions 7a are connected.
【0047】切り出し例Cは、4つのデバイス領域7a
が正方形状に連なった4連モジュールの場合であり、多
数個取り基板7における長辺方向と短辺方向に2つのデ
バイス領域7aがそれぞれ連なった状態でダイシングを
行う。The cutout example C has four device areas 7a.
Is a case of a quadruple module connected in a square shape, and dicing is performed in a state where two device regions 7a are connected in the long side direction and the short side direction of the multi-piece substrate 7 respectively.
【0048】切り出し例Dは、4つのバイス領域7aが
長方形状に連なった4連モジュールの場合であり、多数
個取り基板7における短辺方向の4つのデバイス領域7
aがそれぞれ連なった状態でダイシングする。The cut-out example D is a case of a quadruple module in which four vice regions 7a are connected in a rectangular shape, and four device regions 7 in the short side direction of the multi-piece substrate 7 are formed.
The dicing is performed in the state where a is continuous.
【0049】切り出し例Eは、前述と同様に4つのデバ
イス領域7aが長方形状に連なった4連モジュールの場
合であり、多数個取り基板7における長辺方向の4つの
バイス領域7aがそれぞれ連なった状態でダイシングす
る。The cut-out example E is a case of a quad module in which four device regions 7a are connected in a rectangular shape as described above, and four vice regions 7a in the long side direction of the multi-piece substrate 7 are connected. Dicing in the state.
【0050】ここで、半導体装置1(図1)は、2つの
デバイス領域7aが連なった2連モジュールであるの
で、切り出し例Bによるダイシングが行われる。このと
き、パッケージの反り対策として、図12に示すよう
に、連なったデバイス領域7a間の封止樹脂6をハーフ
カットし、溝Mを形成するようにしてもよい。Here, since the semiconductor device 1 (FIG. 1) is a double module in which two device regions 7a are continuous, dicing according to the cutout example B is performed. At this time, as a measure against the warp of the package, as shown in FIG. 12, the sealing resin 6 between the continuous device regions 7a may be half-cut to form the groove M.
【0051】そして、ステップS106の処理におい
て、ダイシングが終了することによってパッケージが形
成され、図1に示す半導体装置1が完成する(ステップ
S107)。Then, in the process of step S106, the package is formed by finishing the dicing, and the semiconductor device 1 shown in FIG. 1 is completed (step S107).
【0052】また、一括モールド部8を形成した状態で
ストックし、顧客などの要求に応じて任意のモジュール
にダイシングすることにより、製品出荷までの時間を大
幅に短縮することが可能となる。Further, by stocking the collective molding portion 8 in a state where it is formed and dicing it into an arbitrary module according to a customer's request, it is possible to greatly shorten the time until product shipment.
【0053】それにより、本実施の形態においては、要
求に応じた形状に一括モールド部8をダイシングするだ
けで、メモリモジュールなどの半導体装置1を形成する
ことができるので、該半導体装置1の小型化を可能とす
ることができる。As a result, in the present embodiment, the semiconductor device 1 such as a memory module can be formed only by dicing the collective molding portion 8 into a shape according to the request, so that the size of the semiconductor device 1 can be reduced. Can be made possible.
【0054】また、半導体装置1にアドレス信号などの
共通信号が入力されるボンディング電極2e1 〜2e12
が形成されるので、該半導体装置1を実装するマザーボ
ードなどのプリント配線基板の小型化が可能となり、パ
ーソナルコンピュータなどの電子装置の低コスト化、な
らびに小型化を実現することができる。Also, the bonding electrodes 2e 1 to 2e 12 to which a common signal such as an address signal is input to the semiconductor device 1.
As a result, the printed wiring board such as a mother board on which the semiconductor device 1 is mounted can be miniaturized, and the electronic device such as a personal computer can be reduced in cost and miniaturized.
【0055】さらに、一括モールド方式により半導体装
置1を形成することによって、モジュール構成の半導体
装置を低コストで製造することができる。Further, by forming the semiconductor device 1 by the collective molding method, a semiconductor device having a module structure can be manufactured at low cost.
【0056】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible without departing from the scope of the invention. It goes without saying that it can be changed.
【0057】たとえば、前記実施の形態では、プリント
配線基板の接続用電極としてはんだバンプが形成され、
半導体チップの電極とプリント配線基板のボンディング
電極とがボンディングワイヤを介して接続された構成と
したが、図13に示すように、接続用電極としてはんだ
バンプなどの代わりにランドLを設けた構成の半導体装
置1a、あるいは図14に示すように、ボンディングワ
イヤの代わりに、金バンプなどの金属バンプKBなどを
介して半導体チップの電極とプリント配線基板のボンデ
ィング電極と接続する構成の半導体装置1bなどであっ
てもよい。For example, in the above embodiment, solder bumps are formed as connecting electrodes of the printed wiring board,
Although the electrodes of the semiconductor chip and the bonding electrodes of the printed wiring board are connected via bonding wires, as shown in FIG. 13, lands L are provided as connecting electrodes instead of solder bumps or the like. A semiconductor device 1a or a semiconductor device 1b configured to connect electrodes of a semiconductor chip and bonding electrodes of a printed wiring board via metal bumps KB such as gold bumps instead of bonding wires as shown in FIG. It may be.
【0058】さらに、前記実施の形態における半導体装
置を、たとえば、2つ(またはそれ以上)の半導体チッ
プを積層したスタックド構造とすることにより、より一
層の高密度化を実現することができる。Further, the semiconductor device according to the above-described embodiment has a stacked structure in which, for example, two (or more) semiconductor chips are stacked, so that higher density can be realized.
【0059】[0059]
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.
【0060】(1)共通信号が入力されるボンディング
共通電極がプリント配線基板の共通配線パターンにより
接続されているので、半導体装置を実装するマザーボー
ドなどの配線数を少なくすることができる。(1) Since the bonding common electrodes to which the common signal is input are connected by the common wiring pattern of the printed wiring board, it is possible to reduce the number of wirings such as a mother board on which the semiconductor device is mounted.
【0061】(2)一括モールド方式によって半導体装
置を形成することにより、モジュール構成の半導体装置
それ自体を小型化することができるとともに、製造コス
トを小さくすることができる。(2) By forming the semiconductor device by the collective molding method, the semiconductor device itself having a module structure can be downsized and the manufacturing cost can be reduced.
【図1】本発明の一実施の形態による半導体装置の外観
斜視図である。FIG. 1 is an external perspective view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の半導体装置に用いられるプリント配線基
板の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a printed wiring board used in the semiconductor device of FIG.
【図3】図1の半導体装置の製造において用いられる多
数個取り基板の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a multi-cavity substrate used in manufacturing the semiconductor device of FIG.
【図4】図3の多数個取り基板における外周配線パター
ンの配線説明図である。4 is a wiring explanatory diagram of an outer peripheral wiring pattern in the multi-cavity substrate of FIG. 3;
【図5】図1の半導体装置における製造工程の説明図で
ある。FIG. 5 is an explanatory diagram of a manufacturing process in the semiconductor device of FIG.
【図6】図5に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。FIG. 6 is an explanatory diagram of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 5;
【図7】図6に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。FIG. 7 is an explanatory diagram of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 6;
【図8】図7に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。FIG. 8 is an explanatory diagram of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 7;
【図9】図8に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。FIG. 9 is an explanatory diagram of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 8;
【図10】図1の半導体装置における製造工程のフロー
チャートである。10 is a flowchart of a manufacturing process in the semiconductor device of FIG.
【図11】本発明の一実施の形態によるデバイス領域の
切り出し例を示す説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram showing an example of cutting out a device area according to an embodiment of the present invention.
【図12】本発明の他の実施の形態による半導体装置の
断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
【図13】本発明の他の実施の形態による半導体装置の
一例を示す断面図である。FIG. 13 is a sectional view showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
【図14】本発明の他の実施の形態による半導体装置の
他の例を示す断面図である。FIG. 14 is a sectional view showing another example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
1〜1b 半導体装置
2 プリント配線基板
2a ボンディング電極
2b 外周配線パターン(共通配線パターン)
2b1 〜2b12 外周配線パターン(共通配線パター
ン)
2c 配線パターン
2d スルーホール
2e1 〜2e12 ボンディング電極(ボンディング共通
電極)
2f 配線
3 半導体チップ
3a 電極(表面電極)
4 はんだバンプ
5 ボンディングワイヤ(接続部材)
6 封止樹脂
7 多数個取り基板
7a デバイス領域
7a1 〜7a4 デバイス領域
7b ダイシングライン
8 一括モールド部1~1b semiconductor device 2 printed circuit board 2a bonding electrodes 2b periphery wiring pattern (common wiring pattern) 2b 1 ~2b 12 outer peripheral wiring pattern (common wiring pattern) 2c wiring pattern 2d through hole 2e 1 ~2e 12 bonding electrodes (bonding common Electrode) 2f Wiring 3 Semiconductor chip 3a Electrode (front surface electrode) 4 Solder bump 5 Bonding wire (connecting member) 6 Sealing resin 7 Multi-cavity substrate 7a Device regions 7a 1 to 7a 4 Device region 7b Dicing line 8 Batch molding part
Claims (3)
って、 複数のデバイス領域を有し、共通信号が入力されるボン
ディング共通電極と、前記ボンディング共通電極をそれ
ぞれ共通に接続する共通配線パターンと、前記共通信号
以外の独立信号が入力されるボンディング電極とが形成
されたプリント配線基板を準備する工程と、 前記デバイス領域に半導体チップを搭載する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記プリ
ント配線基板のボンディング共通電極、ならびにボンデ
ィング電極とを接続部材によって接続する工程と、 前記プリント配線基板における複数のデバイス領域をモ
ールド樹脂によって一括に覆い、前記半導体チップを樹
脂封止するとともに一括封止部を形成する工程と、 ダイシングラインに沿って任意の前記デバイス領域毎に
前記プリント配線基板および前記一括封止部を分割して
個片化し、個々の封止部を形成する工程とを有すること
を特徴とする半導体装置の製造方法。1. A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising: a bonding common electrode having a plurality of device regions, to which a common signal is input; and a common wiring for commonly connecting the bonding common electrode. A step of preparing a printed wiring board on which a pattern and a bonding electrode to which an independent signal other than the common signal is input are formed; a step of mounting a semiconductor chip in the device region; and a surface electrode of the semiconductor chip and this Corresponding to the step of connecting the bonding common electrode of the printed wiring board and the bonding electrode with a connecting member, and collectively covering a plurality of device regions on the printed wiring board with a mold resin to seal the semiconductor chip with a resin. Together with the process of forming a collective sealing part, it is optional along the dicing line The method of manufacturing a semiconductor device, characterized in that by dividing the printed circuit board and the block molding portion for each of the device region singulated, and a step of forming individual sealed portion.
って、 複数のデバイス領域を有し、アドレス信号が入力される
ボンディング共通電極と、前記ボンディング共通電極を
それぞれ共通に接続する共通配線パターンと、前記アド
レス信号以外の独立信号が入力されるボンディング電極
とが形成されたプリント配線基板を準備する工程と、 前記デバイス領域に半導体チップを搭載する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記プリ
ント配線基板のボンディング電極、ならびにボンディン
グ共通電極とを接続部材によって接続する工程と、 前記プリント配線基板における複数のデバイス領域をモ
ールド樹脂によって一括に覆い、前記半導体チップを樹
脂封止するとともに一括封止部を形成する工程と、 ダイシングラインに沿って任意の前記デバイス領域毎に
前記プリント配線基板および前記一括封止部を分割して
個片化し、個々の封止部を形成する工程とを有すること
を特徴とする半導体装置の製造方法。2. A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising a bonding common electrode having a plurality of device regions, to which an address signal is input, and a common wiring for commonly connecting the bonding common electrode. A step of preparing a printed wiring board on which a pattern and a bonding electrode to which an independent signal other than the address signal is input are formed; a step of mounting a semiconductor chip in the device region; A step of connecting the bonding electrodes of the printed wiring board and the bonding common electrodes corresponding to the above with a connecting member, and collectively covering a plurality of device regions on the printed wiring board with a mold resin to seal the semiconductor chip with a resin. Together with the process of forming the collective sealing part and the dicing line. Said printed wiring board and said to divide the block molding unit singulation method of manufacturing a semiconductor device characterized by a step of forming individual sealed portion each any of the device region Te.
って、 複数のデバイス領域を有し、アドレス信号が入力される
ボンディング共通電極、ならびに前記アドレス信号以外
の独立信号が入力されるボンディング電極とが前記デバ
イス領域内にそれぞれ形成され、前記ボンディング共通
電極をそれぞれ共通に接続する共通配線パターンがダイ
シングラインの周辺部に形成されたプリント配線基板を
準備する工程と、 前記デバイス領域に半導体チップを搭載する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記プリ
ント配線基板のボンディング電極、ならびにボンディン
グ共通電極とを接続部材によって接続する工程と、 前記プリント配線基板における複数のデバイス領域をモ
ールド樹脂によって一括に覆い、前記半導体チップを樹
脂封止するとともに一括封止部を形成する工程と、 前記ダイシングラインに沿って任意の前記デバイス領域
毎に前記プリント配線基板および前記一括封止部を分割
して個片化し、個々の封止部を形成する工程とを有する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。3. A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising: a bonding common electrode having a plurality of device regions, to which an address signal is input, and bonding to which an independent signal other than the address signal is input. A step of preparing a printed wiring board in which electrodes and electrodes are respectively formed in the device region, and a common wiring pattern for commonly connecting the bonding common electrodes is formed in the peripheral portion of the dicing line; and a semiconductor chip in the device region. Mounting a surface electrode of the semiconductor chip and a bonding electrode corresponding to the surface electrode of the semiconductor chip, and a bonding common electrode by a connecting member, and molding a plurality of device regions in the printed wiring board. Cover with the resin all at once A step of forming an encapsulation part together with an oil encapsulation, and dividing the printed wiring board and the encapsulation part into individual pieces along the dicing line into individual device areas, and individually encapsulating the parts. And a step of forming a portion.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007273698A (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Sanyo Electric Co Ltd | Circuit device and manufacturing method therefor |
CN100452382C (en) * | 2005-10-12 | 2009-01-14 | 日本电气株式会社 | Wiring board, semiconductor device, and method of manufacturing the same |
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2001
- 2001-08-17 JP JP2001247611A patent/JP2003060126A/en active Pending
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