JP2003059670A - Light-emitting element - Google Patents

Light-emitting element

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JP2003059670A
JP2003059670A JP2002163996A JP2002163996A JP2003059670A JP 2003059670 A JP2003059670 A JP 2003059670A JP 2002163996 A JP2002163996 A JP 2002163996A JP 2002163996 A JP2002163996 A JP 2002163996A JP 2003059670 A JP2003059670 A JP 2003059670A
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JP
Japan
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light emitting
layer
light
derivatives
electron
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Pending
Application number
JP2002163996A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Tominaga
剛 富永
Akira Makiyama
暁 槇山
Toru Kohama
亨 小濱
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting element that is superior in thermal stability and has high utilization efficiency of electrical energy, and is superior in color purity. SOLUTION: In the light-emitting element having a structure in which at least a positive electrode, a luminous layer, an electron carrier layer, and a negative electrode are laminated in order, the electron carrier layer has an ionization potential 0.1 eV or more larger than the ionization potential of the luminous layer, and the material that mainly constitutes the luminous layer and the electron carrier layer is made of an organic compound having sublimation performance, and further, the organic compound that mainly constitutes the electron carrier layer has a molecular weight of 400 or more and a glass transition temperature of 90 deg.C or more.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気エネルギーを
光に変換できる素子であって、表示素子、フラットパネ
ルディスプレイ、バックライト、照明、インテリア、標
識、看板、電子写真機、光信号発生器などの分野に利用
可能な発光素子に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device capable of converting electric energy into light, such as a display device, a flat panel display, a backlight, a lighting, an interior, a sign, a signboard, an electrophotographic machine and an optical signal generator. The present invention relates to a light emitting device that can be used in the field of.

【0002】[0002]

【従来の技術】陰極から注入された電子と陽極から注入
された正孔が両極に挟まれた有機蛍光体内で再結合する
際に発光するという有機積層薄膜発光素子の研究が近年
活発に行われている。この素子は、薄型、低駆動電圧下
での高輝度発光、蛍光材料を選ぶことによる多色発光が
特徴であり注目を集めている。
2. Description of the Related Art In recent years, active research has been carried out on organic laminated thin-film light emitting devices in which electrons injected from a cathode and holes injected from an anode emit light when recombined in an organic phosphor sandwiched between both electrodes. ing. This element has attracted attention because it is thin, has high-luminance light emission under a low driving voltage, and has multicolor light emission by selecting a fluorescent material.

【0003】この研究は、コダック社のC.W.Tan
gらが有機積層薄膜素子が高輝度に発光することを示し
て以来(Appl.Phys.Lett.51(12)
21,p.913,1987)、多くの研究機関が検討
を行っている。コダック社の研究グループが提示した有
機積層薄膜発光素子の代表的な構成は、ITOガラス基
板上に正孔輸送性のジアミン化合物、発光層である8−
ヒドロキシキノリンアルミニウム、そして陰極としてM
g:Agを順次設けたものであり、10V程度の駆動電
圧で1000cd/m2の緑色発光が可能であった。
This work was carried out by Kodak Corp. W. Tan
Since g. et al. showed that an organic laminated thin film device emits light with high brightness (Appl. Phys. Lett. 51 (12)
21, p. 913, 1987), many research institutes are investigating. A typical structure of an organic laminated thin film light emitting device presented by a research group of Kodak Company is a hole transporting diamine compound and a light emitting layer on an ITO glass substrate.
Hydroxyquinoline aluminum and M as cathode
g: Ag was sequentially provided, and a green emission of 1000 cd / m 2 was possible with a driving voltage of about 10V.

【0004】この有機積層薄膜発光素子の構成について
は、上記の陽極/正孔輸送層/発光層/陰極の他に、電
子輸送層を適宜設けたものが知られている。正孔輸送層
とは陽極より注入された正孔を発光層に輸送する機能を
有し、一方の電子輸送層は陰極より注入された電子を発
光層に輸送する。これらの層を発光層と両極の間に挿入
することにより、発光効率、耐久性が向上することが知
られている。これらを用いた素子構成の例として、陽極
/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極、陽極/発光
層/電子輸送層/陰極などが挙げられる。
As a constitution of this organic laminated thin film light emitting device, there is known one in which an electron transporting layer is appropriately provided in addition to the above anode / hole transporting layer / light emitting layer / cathode. The hole transport layer has a function of transporting holes injected from the anode to the light emitting layer, and one electron transport layer transports electrons injected from the cathode to the light emitting layer. It is known that by inserting these layers between the light emitting layer and both electrodes, luminous efficiency and durability are improved. Examples of device configurations using these include anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode, anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode, and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし従来、電子輸送
材料は数少ない既存材料を用いても、発光材料と相互作
用を起こす、もしくは電子輸送材料自体の発光が混在す
る等の理由で所望の発光色が得られなかったり、高効率
発光が得られるものの耐久性が短い等の問題があった。
例えば、特定のフェナントロリン誘導体は高効率発光を
示すものの、長時間の通電により結晶化し、薄膜が白濁
化する問題がある。また、発光効率および耐久性に比較
的良い特性を示すものとして、キノリノール金属錯体や
ベンゾキノリノール金属錯体があるが、これらはこの材
料自身に高い青緑〜黄色での発光能力があるために、電
子輸送材料として用いた際に、これらの材料自身の発光
が混在して色純度が悪化する恐れがある。さらに、ジキ
ノリン誘導体やトリキノリン誘導体を用いた例がある
が、耐久性は比較的良い特性を示すものの、イオン化ポ
テンシャル値の記載がないため、発光効率の向上に有効
かは定かではなく、また黄〜赤色発光のような長波長側
の発光における電子輸送材料として機能するかも不明で
ある。また、発光層と電子輸送層を構成する材料のイオ
ン化ポテンシャル差を規定したものとして、特開平2−
195683号公報、特開2000−306676号公
報などがあるが、これらに用いられている電子輸送材料
は安定なアモルファス膜を与えるか不明であり、低い発
光輝度しか得られておらず、さらに耐久性についても一
切記載がなく、長時間の通電に対して安定に発光しない
恐れがある。
However, conventionally, even if a few existing materials are used as the electron transport material, the desired emission color is generated because of the interaction with the light emitting material or the emission of the electron transport material itself being mixed. Was not obtained, and high efficiency light emission was obtained, but the durability was short.
For example, although a specific phenanthroline derivative emits light with high efficiency, there is a problem in that a thin film becomes white turbid due to crystallization due to long-time current application. In addition, there are quinolinol metal complexes and benzoquinolinol metal complexes that exhibit relatively good characteristics in light emission efficiency and durability. When used as a transport material, the light emission of these materials may be mixed and the color purity may deteriorate. Further, there are examples using a diquinoline derivative or a triquinoline derivative, but although it shows relatively good durability, it is not clear whether it is effective in improving the luminous efficiency because there is no description of the ionization potential value. It is also unknown whether it functions as an electron transport material in long-wavelength side light emission such as red light emission. In addition, JP-A-2-
Although there are 195683 and JP-A 2000-306676, it is unclear whether the electron-transporting material used for these gives a stable amorphous film, and only low emission brightness is obtained, and further durability is obtained. Is not described at all, and it may not emit light stably for a long time.

【0006】本発明は、かかる従来技術の問題を解決
し、熱的安定性に優れ、発光効率が高く、高輝度で色純
度に優れた発光素子を提供することを目的とするもので
ある。
An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and to provide a light emitting device which is excellent in thermal stability, high in luminous efficiency, high in luminance and excellent in color purity.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも陽
極、発光層、電子輸送層、陰極が順に積層された構造を
有する発光素子において、発光層および電子輸送層を主
に構成する材料が昇華性を有する有機化合物からなり、
発光層と電子輸送層のイオン化ポテンシャルの差が0.
1eV以上あり、電子輸送層を主に構成する材料の分子
量が400以上、ガラス転移温度が90℃以上の有機化
合物であることを特徴とする発光素子である。
According to the present invention, in a light emitting device having a structure in which at least an anode, a light emitting layer, an electron transporting layer and a cathode are laminated in this order, the material mainly constituting the light emitting layer and the electron transporting layer is sublimated. Consisting of organic compounds having properties,
The difference in ionization potential between the light emitting layer and the electron transporting layer is 0.
It is a light emitting device characterized by being 1 eV or more, an organic compound having a molecular weight of 400 or more and a glass transition temperature of 90 ° C. or more of a material mainly constituting an electron transport layer.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明において陽極は、光を取り
出すために透明であれば酸化錫、酸化インジウム、酸化
錫インジウム(ITO)などの導電性金属酸化物、ある
いは金、銀、クロムなどの金属、ヨウ化銅、硫化銅など
の無機導電性物質、ポリチオフェン、ポリピロール、ポ
リアニリンなどの導電性ポリマなど特に限定されるもの
でないが、ITOガラスやネサガラスを用いることが特
に望ましい。透明電極の抵抗は素子の発光に十分な電流
が供給できればよいので限定されないが、素子の消費電
力の観点からは低抵抗であることが望ましい。例えば3
00Ω/□以下のITO基板であれば素子電極として機
能するが、現在では10Ω/□程度の基板の供給も可能
になっていることから、低抵抗品を使用することが特に
望ましい。ITOの厚みは抵抗値に合わせて任意に選ぶ
事ができるが、通常100〜300nmの間で用いられ
ることが多い。また、ガラス基板はソーダライムガラ
ス、無アルカリガラスなどが用いられ、また厚みも機械
的強度を保つのに十分な厚みがあればよいので、0.5
mm以上あれば十分である。ガラスの材質については、
ガラスからの溶出イオンが少ない方がよいので無アルカ
リガラスの方が好ましいが、SiO2などのバリアコー
トを施したソーダライムガラスも市販されているのでこ
れを使用できる。さらに、陽極が安定に機能するのであ
れば、基板はガラスである必要はなく、例えばプラスチ
ック基板上に陽極を形成しても良い。ITO膜形成方法
は、電子線ビーム法、スパッタリング法、化学反応法な
ど特に制限を受けるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the anode is a conductive metal oxide such as tin oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), or a conductive metal oxide such as gold, silver or chromium if it is transparent for extracting light. Inorganic conductive substances such as metals, copper iodide and copper sulfide, and conductive polymers such as polythiophene, polypyrrole and polyaniline are not particularly limited, but ITO glass or Nesa glass is particularly preferable. The resistance of the transparent electrode is not limited as long as it can supply a sufficient current for light emission of the device, but is preferably low resistance from the viewpoint of power consumption of the device. Eg 3
Although an ITO substrate having a resistance of 00 Ω / □ or less functions as an element electrode, it is now possible to supply a substrate having a resistance of about 10 Ω / □, so it is particularly desirable to use a low resistance product. The thickness of ITO can be arbitrarily selected according to the resistance value, but it is usually used in the range of 100 to 300 nm. Further, soda lime glass, non-alkali glass or the like is used for the glass substrate, and the thickness thereof is sufficient if it is sufficient to maintain mechanical strength.
It is sufficient if it is mm or more. For the glass material,
Alkali-free glass is preferable because it is preferable that the amount of ions eluted from the glass is small, but soda lime glass coated with a barrier coat such as SiO 2 is also available on the market. Furthermore, if the anode functions stably, the substrate does not have to be glass, and the anode may be formed on a plastic substrate, for example. The ITO film forming method is not particularly limited, such as an electron beam method, a sputtering method and a chemical reaction method.

【0009】陰極は、電子を本有機物層に効率良く注入
できる物質であれば特に限定されないが、一般に白金、
金、銀、銅、鉄、錫、亜鉛、アルミニウム、インジウ
ム、クロム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシ
ウム、マグネシウム、セシウム、ストロンチウムなどが
あげられる。電子注入効率をあげて素子特性を向上させ
るためにはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウム、セシウム、ストロンチウムまたはこ
れら低仕事関数金属を含む合金が有効である。しかし、
これらの低仕事関数金属は、一般に大気中で不安定であ
ることが多く、例えば、有機層に微量のリチウムやセシ
ウム、マグネシウム(真空蒸着の膜厚計表示で1nm以
下)をドーピングして安定性の高い電極を使用する方法
が好ましい例として挙げることができるが、フッ化リチ
ウムのような無機塩の使用も可能であることから特にこ
れらに限定されるものではない。更に電極保護のために
白金、金、銀、銅、鉄、錫、アルミニウム、インジウム
などの金属、またはこれら金属を用いた合金、そしてシ
リカ、チタニア、窒化ケイ素などの無機物、ポリビニル
アルコール、塩化ビニル、炭化水素系高分子などを積層
することが好ましい例として挙げられる。これらの電極
の作製法も抵抗加熱、電子線ビーム、スパッタリング、
イオンプレーティング、コーティングなど導通を取るこ
とができれば特に制限されない。
The cathode is not particularly limited as long as it is a substance capable of efficiently injecting electrons into the organic material layer, but in general, platinum,
Examples thereof include gold, silver, copper, iron, tin, zinc, aluminum, indium, chromium, lithium, sodium, potassium, calcium, magnesium, cesium and strontium. In order to improve the electron injection efficiency and improve the device characteristics, lithium, sodium, potassium, calcium, magnesium, cesium, strontium or an alloy containing these low work function metals is effective. But,
Generally, these low work function metals are often unstable in the atmosphere. For example, the organic layer is doped with a small amount of lithium, cesium, or magnesium (1 nm or less in a vacuum vapor deposition film thickness meter display) to be stable. Although a method using an electrode having a high temperature can be mentioned as a preferable example, it is not particularly limited to these because an inorganic salt such as lithium fluoride can be used. Further, for protecting electrodes, metals such as platinum, gold, silver, copper, iron, tin, aluminum and indium, or alloys using these metals, and silica, titania, inorganic substances such as silicon nitride, polyvinyl alcohol, vinyl chloride, A preferred example is stacking of hydrocarbon-based polymers. These electrodes are also manufactured by resistance heating, electron beam, sputtering,
There is no particular limitation as long as conduction such as ion plating and coating can be achieved.

【0010】発光層とは実際に発光物質が形成される層
であり、発光材料は1種類の有機化合物のみから構成さ
れてもよいし、2種以上の有機化合物からなる混合層で
もよいが、発光効率、色純度および耐久性の向上の点か
らは2種以上の有機化合物から構成される方が好まし
い。2種以上の有機化合物からなる組み合わせとしてホ
スト材料とドーパント材料の組み合わせを挙げることが
できる。この場合、ホスト材料は発光層の薄膜形成能お
よび電荷輸送能を主に担い、一方のドーパント材料は発
光能を主に担い、その発光機構にはエネルギー移動型と
キャリヤトラップ型が提唱されている。エネルギー移動
型では、両極より注入された電荷がホスト層内で再結合
して、ホスト材料が励起され、励起ホスト材料からドー
パント材料にエネルギー移動が起こり、最終的にドーパ
ント材料からの発光を得るものである。一方のキャリヤ
トラップ型ではホスト層中を移動してきたキャリヤが直
接ドーパント材料上で再結合し、励起されたドーパント
が発光するものである。いずれにせよ発光能を担うドー
パント材料に溶液状態で高色純度、高蛍光量子収率のも
のを用いることにより、高色純度、高効率の発光を得る
ことができる。さらに、ドーパント材料の添加により膜
形成の母体をなすホスト層の膜質が結晶性低減の方向に
働く場合があり、この場合には耐久性も向上する。
The light emitting layer is a layer in which a light emitting substance is actually formed, and the light emitting material may be composed of only one kind of organic compound, or may be a mixed layer composed of two or more kinds of organic compounds. From the viewpoint of improving luminous efficiency, color purity, and durability, it is preferable to be composed of two or more kinds of organic compounds. As a combination of two or more kinds of organic compounds, a combination of a host material and a dopant material can be mentioned. In this case, the host material is mainly responsible for the thin film forming ability and the charge transporting ability of the light emitting layer, while the dopant material is mainly responsible for the light emitting ability, and the energy transfer type and the carrier trap type are proposed for the light emitting mechanism. . In the energy transfer type, charges injected from both electrodes are recombined in the host layer to excite the host material, energy is transferred from the excited host material to the dopant material, and finally light emission from the dopant material is obtained. Is. On the other hand, in the carrier trap type, carriers that have moved in the host layer are recombined directly on the dopant material, and the excited dopant emits light. In any case, by using a dopant material having a high color purity and a high fluorescence quantum yield in a solution state as a dopant material having a light emitting ability, it is possible to obtain light emission with high color purity and high efficiency. Furthermore, the addition of the dopant material may cause the film quality of the host layer, which is the base material of the film formation, to tend to reduce the crystallinity, and in this case, the durability is also improved.

【0011】このようなホスト材料とドーパント材料の
組み合わせを用いる場合、ドーパント材料はホスト材料
の全体に含まれていても、部分的に含まれていても、い
ずれであってもよい。さらに、ドーパント材料は積層さ
れていても、分散されていても、いずれであってもよ
い。また、ドーピング量は、多すぎると濃度消光現象が
起きるため、ホスト物質に対して10重量%以下で用い
ることが好ましく、更に好ましくは2重量%以下であ
る。
When such a combination of the host material and the dopant material is used, the dopant material may be contained in the entire host material, partially contained, or any of them. Further, the dopant material may be laminated, dispersed or any. Further, if the doping amount is too large, the concentration quenching phenomenon occurs, so it is preferable to use 10% by weight or less, and more preferably 2% by weight or less with respect to the host substance.

【0012】さらに、耐久性向上の観点から発光能は担
わずに、膜質変化あるいは過剰なキャリヤをトラップす
る目的でドーパント材料を添加する場合もある。この場
合のドーピング条件についても上記と同様である。
Further, from the viewpoint of improving the durability, a dopant material may be added for the purpose of trapping the change of the film quality or the excessive carriers without bearing the light emitting ability. The doping conditions in this case are the same as above.

【0013】単独で発光層を形成する場合の有機化合物
あるいはホストおよびドーパント材料の組み合わせにお
けるホスト材料としては具体的に以下のものを挙げるこ
とができる。アントラセンやピレン、ペリレンなどの縮
合環誘導体、ピラジン、ナフチリジン、キノキサリン、
ピロロピリジン、ピリミジン、チオフェン、チオキサン
テンなどの複素環誘導体、トリス(8−キノリノラト)
アルミニウム錯体、などのキノリノール金属錯体、ベン
ゾキノリノール金属錯体、ビピリジン金属錯体、ローダ
ミン金属錯体、アゾメチン金属錯体、ジスチリルベンゼ
ン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、スチルベ
ン誘導体、アルダジン誘導体、クマリン誘導体、フタル
イミド誘導体、ナフタルイミド誘導体、ペリノン誘導
体、ピロロピロール誘導体、シクロペンタジエン誘導
体、イミダゾール誘導体やオキサゾール誘導体、チアゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール
誘導体、トリアゾール誘導体などのアゾール誘導体およ
びその金属錯体、ベンズオキサゾール、ベンズイミダゾ
ール、ベンゾチアゾールなどのベンズアゾール誘導体お
よびその金属錯体、トリフェニルアミン誘導体やカルバ
ゾール誘導体などのアミン誘導体、メロシアニン誘導
体、ポルフィリン誘導体、、トリス(2−フェニルピリ
ジン)イリジウム錯体などのりん光材料、ポリマー系で
は、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレ
ン誘導体、そして、ポリチオフェン誘導体などが使用で
きる。
Specific examples of the organic compound or the host material in the combination of the host and the dopant material when the light emitting layer is formed alone include the following. Fused ring derivatives such as anthracene, pyrene, and perylene, pyrazine, naphthyridine, quinoxaline,
Heterocyclic derivatives such as pyrrolopyridine, pyrimidine, thiophene and thioxanthene, tris (8-quinolinolato)
Aluminum complex, quinolinol metal complex such as benzoquinolinol metal complex, bipyridine metal complex, rhodamine metal complex, azomethine metal complex, distyrylbenzene derivative, tetraphenylbutadiene derivative, stilbene derivative, aldazine derivative, coumarin derivative, phthalimide derivative, naphthalimide Derivatives, perinone derivatives, pyrrolopyrrole derivatives, cyclopentadiene derivatives, imidazole derivatives and oxazole derivatives, thiazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives and other azole derivatives and their metal complexes, benzoxazole, benzimidazole, benzothiazole, etc. Benzazole derivatives and their metal complexes, triphenylamine derivatives and carbazole derivatives Emissions derivatives, phosphorescent materials such as merocyanine derivative, a porphyrin derivative ,, tris (2-phenylpyridine) iridium complex, a polymeric, polyphenylene vinylene derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polythiophene derivatives may be used.

【0014】ドーパント材料としては、従来から知られ
ている、アントラセン、ペリレンなどの縮合多環芳香族
炭化水素、7−ジメチルアミノ−4−メチルクマリンを
始めとするクマリン誘導体、ビス(ジイソプロピルフェ
ニル)ペリレンテトラカルボン酸イミドなどのナフタル
イミド誘導体、ペリノン誘導体、アセチルアセトンやベ
ンゾイルアセトンとフェナントロリンなどを配位子とす
るEu錯体などの希土類錯体、ジシアノメチレンピラン
誘導体、ジシアノメチレンチオピラン誘導体、マグネシ
ウムフタロシアニン、アルミニウムクロロフタロシアニ
ンなどの金属フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導
体、ローダミン誘導体、デアザフラビン誘導体、クマリ
ン誘導体、オキサジン化合物、チオキサンテン誘導体、
シアニン色素誘導体、フルオレセイン誘導体、アクリジ
ン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピロール誘導
体、キナゾリン誘導体、ピロロピリジン誘導体、スクア
リリウム誘導体、ビオラントロン誘導体、フェナジン誘
導体、アクリドン誘導体、ジアザフラビン誘導体、ピロ
メテン誘導体およびその金属錯体、フェノキサジン誘導
体、フェノキサゾン誘導体、チアジアゾロピレン誘導
体、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム錯体、
トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム錯体、トリ
ス{2−(2−チオフェニル)ピリジル}イリジウム錯
体、トリス{2−(2−ベンゾチオフェニル)ピリジ
ル}イリジウム錯体、トリス(2−フェニルベンゾチア
ゾール)イリジウム錯体、トリス(2−フェニルベンゾ
オキサゾール)イリジウム錯体、トリスベンゾキノリン
イリジウム錯体、ビス(2−フェニルピリジル)(アセ
チルアセトナート)イリジウム錯体、ビス{2−(2−
チオフェニル)ピリジル}イリジウム錯体、ビス{2−
(2−ベンゾチオフェニル)ピリジル}(アセチルアセ
トナート)イリジウム錯体、ビス(2−フェニルベンゾ
チアゾール)(アセチルアセトナート)イリジウム錯
体、ビス(2−フェニルベンゾオキサゾール)(アセチ
ルアセトナート)イリジウム錯体、ビスベンゾキノリン
(アセチルアセトナート)イリジウム錯体、白金ポルフ
ィリン錯体などのりん光材料が知られているが、これら
は単独で用いてもよいし、複数の誘導体を混合して用い
も良い。
As the dopant material, conventionally known condensed polycyclic aromatic hydrocarbons such as anthracene and perylene, coumarin derivatives such as 7-dimethylamino-4-methylcoumarin, and bis (diisopropylphenyl) perylene. Naphthalimide derivatives such as tetracarboxylic acid imides, perinone derivatives, rare earth complexes such as acetylacetone and Eu complexes having benzoylacetone and phenanthroline as ligands, dicyanomethylenepyran derivatives, dicyanomethylenethiopyran derivatives, magnesium phthalocyanine, aluminum chlorophthalocyanine Metal phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, rhodamine derivatives, deazaflavin derivatives, coumarin derivatives, oxazine compounds, thioxanthene derivatives, etc.
Cyanine dye derivative, fluorescein derivative, acridine derivative, quinacridone derivative, pyrrolopyrrole derivative, quinazoline derivative, pyrrolopyridine derivative, squarylium derivative, violanthrone derivative, phenazine derivative, acridone derivative, diazaflavin derivative, pyrromethene derivative and its metal complex, phenoxazine derivative, Phenoxazone derivative, thiadiazolopylene derivative, tris (2-phenylpyridine) iridium complex,
Tris (2-phenylpyridyl) iridium complex, tris {2- (2-thiophenyl) pyridyl} iridium complex, tris {2- (2-benzothiophenyl) pyridyl} iridium complex, tris (2-phenylbenzothiazole) iridium complex , Tris (2-phenylbenzoxazole) iridium complex, trisbenzoquinolineiridium complex, bis (2-phenylpyridyl) (acetylacetonato) iridium complex, bis {2- (2-
Thiophenyl) pyridyl} iridium complex, bis {2-
(2-benzothiophenyl) pyridyl} (acetylacetonato) iridium complex, bis (2-phenylbenzothiazole) (acetylacetonato) iridium complex, bis (2-phenylbenzoxazole) (acetylacetonato) iridium complex, bis Phosphorescent materials such as benzoquinoline (acetylacetonato) iridium complex and platinum porphyrin complex are known, but these may be used alone or in combination of a plurality of derivatives.

【0015】電子輸送層とは陰極から電子が注入され、
さらに電子を輸送することを司る層であり、電子注入効
率が高く、注入された電子を効率良く輸送することが望
ましい。しかしながら、正孔と電子の輸送バランスを考
えた場合に、陽極からの正孔が再結合せずに陰極側へ流
れるのを効率よく阻止できる役割を主に果たす場合に
は、電子輸送能力がそれ程高くなくても、発光効率を向
上させる効果は電子輸送能力が高い材料と同等に有す
る。したがって、本発明における電子輸送層は、正孔の
移動を効率よく阻止できる正孔阻止層も同義のものとし
て含まれる。
The electron transport layer is a layer in which electrons are injected from the cathode,
Further, it is a layer that controls the transport of electrons, has a high electron injection efficiency, and it is desirable to transport the injected electrons efficiently. However, when considering the transport balance of holes and electrons, when the role mainly capable of efficiently blocking the holes from the anode from flowing to the cathode side without recombining, the electron transport capability is not so much. Even if it is not high, it has the same effect of improving the luminous efficiency as a material having a high electron transporting ability. Therefore, the electron-transporting layer in the present invention also includes a hole-blocking layer that can efficiently block the movement of holes as a synonym.

【0016】本発明における電子輸送層は発光層よりも
0.1eV以上大きいイオン化ポテンシャルを有する。
発光層とのイオン化ポテンシャル差が0.1eV以上で
あれば、陽極より注入された正孔が発光層内で再結合せ
ずに陰極側に流れるのを効率良く阻止できることができ
るが、高温下での動作環境などを考慮すると、より好ま
しくは0.15eV以上であり、さらに好ましくは0.
2eV以上である。尚、イオン化ポテンシャルの絶対値
は測定条件等により異なることが報告されているが、本
発明における両層のイオン化ポテンシャル差は、各層の
単独層を別途ITOガラス基板上に真空蒸着で作製した
薄膜を大気雰囲気型紫外線光電子分析装置(AC−1、
理研計器(株)製)を用いて測定したイオン化ポテンシャ
ル値から算出している。また、イオン化ポテンシャル値
は試料の状態により変化することが考えられる。従っ
て、発光層や電子輸送層が2種以上の材料からなる混合
層の場合には、その混合層のイオン化ポテンシャル値を
測定する必要がある。
The electron transport layer in the present invention has an ionization potential larger than that of the light emitting layer by 0.1 eV or more.
If the ionization potential difference from the light emitting layer is 0.1 eV or more, holes injected from the anode can be efficiently prevented from flowing to the cathode side without recombination in the light emitting layer, but at high temperature. In consideration of the operating environment and the like, it is more preferably 0.15 eV or more, and even more preferably 0.
It is 2 eV or more. It is reported that the absolute value of the ionization potential differs depending on the measurement conditions and the like. However, the ionization potential difference between the two layers in the present invention is that a single layer of each layer is separately formed on an ITO glass substrate by a thin film formed by vacuum vapor deposition. Atmosphere UV photoelectron analyzer (AC-1,
It is calculated from the ionization potential value measured using Riken Keiki Co., Ltd.). Further, the ionization potential value may change depending on the state of the sample. Therefore, when the light emitting layer or the electron transport layer is a mixed layer composed of two or more kinds of materials, it is necessary to measure the ionization potential value of the mixed layer.

【0017】また、本発明の電子輸送層を主に構成する
材料は分子量が400以上の有機化合物からなる。分子
量が400以上でないと効率よく電子を輸送できても、
電子輸送層が熱的に不安定で結晶化しやすくなり、長時
間の通電に対して安定な発光が得られない。分子量が4
00以上であれば安定な発光が得られるが、さらに好ま
しくは600以上である。さらに、該材料は90℃以上
のガラス転移温度を有する。ガラス転移温度は有機化合
物の熱的安定性のひとつの指標であり、ガラス転移温度
が高いほど熱的に安定なアモルファス薄膜を与えること
ができる。本発明のようにガラス転移温度が90℃以上
であれば、熱的に安定で長時間の通電に対して安定な発
光が得られるが、高温下での動作環境などを考慮する
と、より好ましくは120℃以上であり、さらに好まし
くは150℃以上である。また、結晶化しずらい膜を与
えるという観点からは冷結晶化温度が高い方が好まし
く、具体的には140℃以上であることが好ましく、よ
り好ましくは170℃以上、さらに好ましくは200℃
以上である。さらに、極めて結晶化しずらい膜を与える
という点からは冷結晶化温度が観測されないことが好ま
しい。ここでいう観測されないとは、試料のガラス転移
温度や冷結晶化温度を測定する際に、ある一定の速度で
試料を昇温したときの場合であり、ガラス転移温度以上
の温度で試料を長時間保持した場合に結晶化が観測され
るか否かを意味するものではない。尚、本発明では示差
走査熱量計を用いて温度変調DSC法により粉末試料を
測定した値を採用している。
The material mainly constituting the electron transport layer of the present invention is an organic compound having a molecular weight of 400 or more. Even if electrons can be efficiently transported unless the molecular weight is 400 or more,
The electron transport layer is thermally unstable and easily crystallized, so that stable light emission cannot be obtained even when electricity is applied for a long time. Molecular weight is 4
If it is 00 or more, stable light emission can be obtained, but it is more preferably 600 or more. Furthermore, the material has a glass transition temperature of 90 ° C. or higher. The glass transition temperature is one index of the thermal stability of organic compounds, and the higher the glass transition temperature, the more thermally stable an amorphous thin film can be provided. When the glass transition temperature is 90 ° C. or higher as in the present invention, thermally stable and stable light emission can be obtained over long-time energization, but more preferably in consideration of an operating environment at high temperature. It is 120 ° C. or higher, and more preferably 150 ° C. or higher. Further, from the viewpoint of providing a film that is hard to crystallize, the higher the cold crystallization temperature is, more preferably 140 ° C. or higher, more preferably 170 ° C. or higher, further preferably 200 ° C.
That is all. Furthermore, it is preferable that no cold crystallization temperature is observed from the viewpoint of giving a film that is extremely hard to crystallize. What is not observed here is the case where the temperature of the sample is raised at a certain constant rate when measuring the glass transition temperature or cold crystallization temperature of the sample, and the sample is kept at a temperature higher than the glass transition temperature. It does not mean whether crystallization is observed when it is held for a long time. In the present invention, a value obtained by measuring a powder sample by a temperature modulation DSC method using a differential scanning calorimeter is adopted.

【0018】このような電子輸送層を構成する有機化合
物の化学構造としては、チオフェンジオキサイド、ピラ
ゾール、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、
オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジ
アゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピリミ
ドン、ピラジン、トリアジンなどの芳香複素環やベンゼ
ン、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレ
ン、スチレン、スチルベンなどの芳香族炭化水素のよう
な電子輸送能を有する母骨格となりうるものやこれらの
母骨格にビニル基、カルボニル基、カルボキシル基、ア
ルデヒド基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン、スルホ
ン、リンオキサイドなどの電子輸送能を有する官能基を
修飾したものが含まれていればどのような化学構造を有
していても良いが、電子輸送能を維持しつつ上記の熱的
安定性を有するには該有機化合物が複数の母骨格を含
み、複数の母骨格が共役結合、芳香族炭化水素、芳香複
素環により連結されていることが好ましい。母骨格は連
結に使われる箇所以外が置換されていても無置換でも良
い。一方の連結基も同様に連結に使われる箇所以外が置
換されていても無置換でも良く、また1種類でもこれら
を混合したものでも良い。
The chemical structure of the organic compound constituting the electron transport layer is thiophene dioxide, pyrazole, imidazole, triazole, tetrazole,
Electrons such as aromatic heterocycles such as oxazole, oxadiazole, thiazole, thiadiazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrimidone, pyrazine and triazine, and aromatic hydrocarbons such as benzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, styrene and stilbene. Those that can be a mother skeleton having a transporting ability and these mother skeletons are modified with a functional group having an electron transporting ability such as a vinyl group, a carbonyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, a nitro group, a cyano group, a halogen, a sulfone, or a phosphorus oxide. The organic compound may have a plurality of mother skeletons in order to have the above-mentioned thermal stability while maintaining the electron transporting ability, as long as it contains the compound Multiple mother skeletons linked by conjugated bonds, aromatic hydrocarbons, and aromatic heterocycles Rukoto is preferable. The mother skeleton may be substituted or unsubstituted except for the site used for the connection. Similarly, one of the linking groups may be substituted or unsubstituted at a site other than the site used for linking, and one kind or a mixture thereof may be used.

【0019】このような有機化合物の中でも、電子輸送
能力および/あるいは正孔阻止能力が高いことから、母
骨格に少なくとも1個以上のピリジン環が含まれている
ことが好ましく、より好ましくはピリジン環がベンゼン
あるいはピリジンと縮合したキノリンあるいはナフチリ
ジンであり、さらに好ましくはキノリンがベンゼンやピ
リジンと縮合したベンゾキノリンやフェナントロリンで
ある。これらの母骨格は連結に使われる箇所以外が置換
されていても無置換でも良い。また、ピリジン環以外に
もリンオキサイドを同様に好ましい母骨格として挙げる
ことができる。
Among such organic compounds, it is preferable that at least one pyridine ring is contained in the mother skeleton because the electron transporting ability and / or the hole blocking ability is high, and the pyridine ring is more preferable. Is quinoline or naphthyridine condensed with benzene or pyridine, and more preferably benzoquinoline or phenanthroline with quinoline condensed with benzene or pyridine. These mother skeletons may be substituted or non-substituted except for the site used for connection. In addition to the pyridine ring, phosphorus oxide can be mentioned as a preferable mother skeleton.

【0020】好ましい連結基の具体例として下記に示す
ものが挙げられる。
Specific examples of preferable linking groups include those shown below.

【0021】[0021]

【化1】 [Chemical 1]

【0022】[0022]

【化2】 [Chemical 2]

【0023】[0023]

【化3】 [Chemical 3]

【0024】これらの連結基は、市販のものを入手した
り、常法に従って合成することができるが、いくつかの
骨格の具体例を以下に記す。
These linking groups can be commercially available or can be synthesized according to a conventional method. Specific examples of some skeletons are shown below.

【0025】9,9’−スピロビフルオレン骨格の合成
は、J.Am.Chem.Soc.,vol.52(1930)の第2881頁、特
開平7−278537号公報の実施例「A.出発化合物
(a)9,9−スピロビフルオレンの合成」などが挙げら
れる。2−ブロモビフェニルをTHF中で金属マグネシ
ウムを用いてグリニャール化し、次いで室温から50℃
で、9−フルオレノンと反応させ、常法で処理し、得ら
れたヒドロキシ体を酢酸に小量の塩酸を加えた中で加熱
脱水し、常法で処理する。
The synthesis of 9,9'-spirobifluorene skeleton is described in J. Am. Chem. Soc., Vol. 52 (1930), page 2881, JP-A-7-278537. Compound
(a) Synthesis of 9,9-spirobifluorene ”and the like. 2-Bromobiphenyl was Grignarded with metallic magnesium in THF, then from room temperature to 50 ° C.
Then, it is reacted with 9-fluorenone and treated by a conventional method. The obtained hydroxy form is heated and dehydrated in acetic acid with a small amount of hydrochloric acid added, and then treated by a conventional method.

【0026】さらに、9−フルオレノンの代わりに9−
キサントンを用いてスピロキサンテンフルオレンが得ら
れ、9−チオキサントンを用いてスピロチオキサンテン
フルオレンが得られ、N−ブチル−アクリドンを用いて
スピロ−N−ブチル−アクリジンフルオレンが得られ、
アンスロンを用いてスピロジヒドロアントラセンフルオ
レンが得られ、さらにスベロンを用いてスピロジヒドロ
ジベンゾシクロヘプタンフルオレンを得ることができ
る。
Furthermore, instead of 9-fluorenone, 9-
Spiroxanthene fluorene is obtained using xanthone, spirothioxanthene fluorene is obtained using 9-thioxanthone, and spiro-N-butyl-acridinefluorene is obtained using N-butyl-acridone.
Anthrone can be used to obtain spiro dihydroanthracene fluorene, and suberon can be used to obtain spiro dihydrodibenzocycloheptanefluorene.

【0027】9,9’−スピロビ(9H−9−シラフル
オレン)骨格の合成は、参考文献としてJ.Am.Chem.So
c.,vol.80(1958)の第1883頁などが挙げられる。
2,2’−ジブロモビフェニルをエーテル中で金属リチ
ウムと反応させ、次いで所定の温度で、テトラクロロシ
ランと反応させ、常法で処理し得ることができる。
The synthesis of the 9,9'-spirobi (9H-9-silafluorene) skeleton is described in J. Am. Chem. So as a reference.
c., vol.80 (1958), page 1883 and the like.
The 2,2'-dibromobiphenyl can be reacted with metallic lithium in ether and then with tetrachlorosilane at a given temperature and treated in a conventional manner.

【0028】テトラフェニルメタン骨格の合成は、参考
文献としてAngew.Chem.Int.Ed.Engl.vol.25(1986)No.12
の第1098頁や、Tetrahedron Letters,vol.38(1997)
の第1487頁などがあげられる。無溶媒または酢酸溶
媒中、トリフェニルメタノールまたはトリフェニルメチ
ルクロライドを、アニリンまたはアニリン塩酸塩と10
0℃乃至220℃で反応させ、得られた中間体を常法で
処理して単離し、次いでエタノール/硫酸の混合溶媒
中、−10℃でイソアミルナイトライトと反応させ、ホ
スフィン酸を加えて加熱還流し、常法で処理する。
The synthesis of the tetraphenylmethane skeleton is described in Angew. Chem. Int. Ed. Engl. Vol. 25 (1986) No. 12 as a reference.
Pp. 1098, Tetrahedron Letters, vol.38 (1997)
Pp. 1487 and the like. Triphenylmethanol or triphenylmethyl chloride was mixed with aniline or aniline hydrochloride in a solvent-free or acetic acid solvent.
The reaction was carried out at 0 ° C to 220 ° C, the obtained intermediate was treated by a conventional method to be isolated, and then reacted with isoamyl nitrite at -10 ° C in a mixed solvent of ethanol / sulfuric acid, and phosphinic acid was added and heated. Reflux and treat in the usual manner.

【0029】ヘキサベンゾプロペラン骨格の合成は、参
考文献としてLibigs Ann.Chem.,vol.749(1971)の第38
頁などが挙げられる。9−フルオレノンを亜りん酸トリ
エチルと反応させ、メタノールで処理してスピロケトン
化合物を得る。次にエーテル中のスピロケトン化合物に
2−ブロモビフェニルのリチオ体を所定の温度で反応さ
せ、常法で処理し、得られたヒドロキシ体を酢酸および
メタンスルホン酸を加えた中で加熱脱水し、常法で処理
し得ることができる。
The synthesis of the hexabenzopropellane skeleton is described in Libigs Ann. Chem., Vol. 749 (1971) No. 38 by reference.
Page etc. are mentioned. The 9-fluorenone is reacted with triethyl phosphite and treated with methanol to give the spiroketone compound. Next, the spiroketone compound in ether is reacted with the lithio form of 2-bromobiphenyl at a predetermined temperature and treated by a conventional method. The obtained hydroxy form is heated and dehydrated in acetic acid and methanesulfonic acid. Can be treated by law.

【0030】連結基への母骨格の導入は、母骨格に応じ
て常法に従い導入することができるが、例えばベンゾキ
ノリンやフェナントロリン母骨格の導入としては、アセ
チル基のような反応性置換基を導入した後、ベンゾキノ
リン環あるいはフェナントロリン環を形成する方法や、
ヨード基やブロモ基などの反応性置換基を導入した後、
ベンゾキノリン環あるいはフェナントロリン環を付加す
る方法があげられる。
The mother skeleton can be introduced into the linking group according to a conventional method depending on the mother skeleton. For example, a benzoquinoline or phenanthroline mother skeleton can be introduced with a reactive substituent such as an acetyl group. After the introduction, a method of forming a benzoquinoline ring or a phenanthroline ring,
After introducing a reactive substituent such as iodo group or bromo group,
Examples thereof include a method of adding a benzoquinoline ring or a phenanthroline ring.

【0031】アセチル基の導入法は、一般的かつ簡便な
フリーデル・クラフツのアシル化があげられる。参考文
献としては、特開平7−278537号公報の実施例
「A.出発化合物(f)2,2’−ジアセチル−9,
9’−スピロビフルオレンを介しての9,9’−スピロ
ビフルオレンからの9,9’−スピロビフルオレン−
2,2’−ジカルボン酸」やHelvetiva Chimica Acta,v
ol.52(1969)第1210頁「Experimenteller Tell 2,2'
-diacetyl-9,9'-spirobifluorene(IV)」などがあげられ
る。連結基を1,2−ジクロロエタン中で50℃で塩化
アセチルと塩化アルミニウムと反応させ、定法で処理
し、アセチル基を導入することができる。
The acetyl group can be introduced by a general and convenient acylation of Friedel-Crafts. As a reference, an example “A. Starting compound (f) 2,2′-diacetyl-9,” disclosed in JP-A-7-278537 can be used.
9,9'-spirobifluorene from 9,9'-spirobifluorene via 9'-spirobifluorene-
2,2'-dicarboxylic acid "and Helvetiva Chimica Acta, v
ol.52 (1969) p.1210 "Experimenteller Tell 2,2 '
-diacetyl-9,9'-spirobifluorene (IV) "and the like. The acetyl group can be introduced by reacting the linking group with acetyl chloride and aluminum chloride in 1,2-dichloroethane at 50 ° C. and treating by a conventional method.

【0032】アセチル基からのベンゾキノリン骨格ある
いはフェナントロリン骨格の導入法は、参考文献として
J.Org.Chem.1996,61.第3021頁「1,3-Di(benzo)[h]q
uinolin-2-yl)benzene]」、Tetrahedron Letters,vol.4
0(1999).第7321頁スキームなどがあげられる。連結
基のアセチル体をジオキサン中で60℃で1−アミノ−
2−ナフタレンカルボアルデヒドあるいは8−アミノ−
7−キノリンカルボアルデヒドなどの対応するナフタレ
ン誘導体あるいはキノリン誘導体、水酸化カリウムと反
応させ、常法で処理する方法である。
A method for introducing a benzoquinoline skeleton or a phenanthroline skeleton from an acetyl group is described as a reference.
J. Org. Chem. 1996, 61. p. 3021 “1,3-Di (benzo) [h] q.
uinolin-2-yl) benzene] ”, Tetrahedron Letters, vol.4
0 (1999). 7321 page scheme and the like. The acetyl form of the linking group is 1-amino-in dioxane at 60 ° C.
2-naphthalenecarbaldehyde or 8-amino-
This is a method of reacting with a corresponding naphthalene derivative such as 7-quinolinecarbaldehyde or a quinoline derivative and potassium hydroxide, and treating with a conventional method.

【0033】ヨード基の導入は、参考文献として、日本
化学雑誌92巻11号(1971)第1023頁「1.
1,1−メチルナフタレンのヨウ素化」やTetrahedron
Letters,vol.38(1997)の第1487頁などがあげられ
る。連結基を80%酢酸中で80℃でヨウ素と過ヨウ素
酸2水和物と反応させ、常法で処理するか、あるいは四
塩化炭素中で50℃乃至60℃でヨウ素とビス(トリフ
ルオロアセトキシ)ヨードベンゼンと反応させ、常法で
処理し、ヨード基を導入することができる。
The introduction of the iodo group is described in Japanese Chemical Journal, Vol. 92, No. 11 (1971), page 1023, "1.
Iodination of 1,1-methylnaphthalene "and Tetrahedron
Letters, vol. 38 (1997), page 1487. The linking group is reacted with iodine and periodate dihydrate in 80% acetic acid at 80 ° C. and treated in a conventional manner, or in carbon tetrachloride at 50 ° C. to 60 ° C. with iodine and bis (trifluoroacetoxy). ) Iodobenzene can be introduced by reacting with iodobenzene and treating in a conventional manner.

【0034】ブロモ基の導入は、参考文献として、特開
平7−278537号公報の実施例「A.出発化合物
(a)9,9’−スピロビフルオレンの合成」、Angew.
Chem.Int.Ed.Engl.25(1986)No.12の第1098頁などが
あげられる。連結基を室温で臭素と反応させ、常法で処
理し、ブロモ基を導入することができる。
The introduction of the bromo group is described in Reference of JP-A No. 7-278537, "A. Synthesis of starting compound (a) 9,9'-spirobifluorene", Angew.
Chem. Int. Ed. Engl. 25 (1986) No. 12, page 1098, and the like. The linking group can be reacted with bromine at room temperature and treated in a conventional manner to introduce a bromo group.

【0035】ヨード基、ブロモ基からのベンゾキノリン
骨格あるいはフェナントロリン骨格の導入としては、連
結基のヨード体またはブロモ体を金属リチウムでリチオ
化し、次いで対応する無水ベンゾキノリンあるいは無水
フェナントロリンと反応させて、水、二酸化マンガンで
処理する方法がある。
To introduce a benzoquinoline skeleton or a phenanthroline skeleton from an iodo group or a bromo group, the iodo or bromo form of the linking group is lithiated with metallic lithium and then reacted with the corresponding anhydrous benzoquinoline or anhydrous phenanthroline, There is a method of treating with water and manganese dioxide.

【0036】さらに、連結基へのベンゾキノリン骨格あ
るいはフェナントロリン骨格の導入は、上記のようにま
ず連結基を合成し、そこに反応性置換基を導入する方法
だけでなく、連結基を合成する際に反応性置換基を含ん
だ原料を用いることにより、反応性置換基を導入させた
連結基を直接得てもよい。例えば、下記に示すアセチル
基を導入した連結基の合成については、2,2’−ブロ
モビフェニルに4−アセチルボロン酸を鈴木カップリン
グ(参考文献:Chem.Rev.,vol.95(1995)の第2457
頁)の条件で反応させることにより得ることができる。
Further, the introduction of the benzoquinoline skeleton or the phenanthroline skeleton into the linking group is not limited to the method of first synthesizing the linking group and then introducing the reactive substituent into the linking group as described above. A linking group having a reactive substituent introduced therein may be directly obtained by using a raw material containing a reactive substituent. For example, regarding the synthesis of a linking group having an acetyl group introduced below, 4-acetylboronic acid is coupled to 2,2′-bromobiphenyl by Suzuki coupling (Reference: Chem. Rev., vol. 95 (1995)). 2457
It can be obtained by reacting under the conditions of page).

【0037】[0037]

【化4】 [Chemical 4]

【0038】本発明における電子輸送層は上記有機化合
物一種のみに限る必要はなく、複数の材料を混合あるい
は積層して層を形成してもよい。さらに、それ自身は電
子輸送能を有さないが、電子輸送層全体の輸送能や熱的
安定性、電気化学的安定性の向上など種々の目的で有機
化合物や無機化合物、金属錯体を電子輸送材料に添加し
て電子輸送層を形成しても良い。
The electron transport layer in the present invention is not limited to one kind of the above organic compounds, and a layer may be formed by mixing or laminating a plurality of materials. Furthermore, although it does not have an electron-transporting ability by itself, an organic compound, an inorganic compound, or a metal complex can be electron-transported for various purposes such as improving the transporting ability, thermal stability, and electrochemical stability of the entire electron-transporting layer. You may add to a material and form an electron carrying layer.

【0039】以上の発光層および電子輸送層を主に構成
する有機化合物は昇華性を有する。ここでいう昇華性と
は、固体が液体を経ずに気化するという厳密な意味では
なく、真空中で加熱したときに分解することなく揮発
し、薄膜形成が可能であるという広義の意味で用いてい
る。本発明における発光素子は積層構造を有するが、昇
華性を有する有機化合物であれば真空蒸着法などのドラ
イプロセスにより積層構造の形成が容易である。また、
発光層内にドーピング層を形成する場合においても、ホ
スト材料との共蒸着法やホスト材料と予め混合してから
同時に蒸着する方法を用いることにより制御性に優れた
ドーピング層が形成できる。さらに、マトリクスやセグ
メント方式で表示するディスプレイなどを構成する際に
所望のパターン化された発光を得る必要があるが、昇華
性を有する有機化合物であればドライプロセスでのパタ
ーニング形成により容易にパターニングできる。
The above-mentioned organic compounds mainly constituting the light emitting layer and the electron transporting layer have sublimability. The sublimability used here does not mean that a solid is vaporized without passing through a liquid, but is used in a broad sense that it volatilizes without decomposition when heated in a vacuum and a thin film can be formed. ing. Although the light emitting device of the present invention has a laminated structure, it is easy to form the laminated structure by a dry process such as a vacuum deposition method if it is an organic compound having a sublimation property. Also,
Also in the case of forming a doping layer in the light emitting layer, a doping layer excellent in controllability can be formed by using a co-evaporation method with a host material or a method of pre-mixing with a host material and then performing vapor deposition at the same time. Furthermore, it is necessary to obtain desired patterned light emission when forming a display that uses a matrix or segment system, but an organic compound having a sublimation property can be easily patterned by patterning by a dry process. .

【0040】また、本発明における発光層および電子輸
送層を主に構成する材料とは、各層の薄膜状態の性質が
その材料により決定されているということである。例え
ばホストおよびドーパント材料の組み合わせからなる発
光層では、発光層を主に構成する材料とはホスト材料の
ことを意味する。
The material mainly constituting the light emitting layer and the electron transporting layer in the present invention means that the properties of the thin film state of each layer are determined by the material. For example, in a light emitting layer made of a combination of a host and a dopant material, the material mainly constituting the light emitting layer means a host material.

【0041】本発明における発光素子は、正孔および電
子が発光層内で効率よく再結合させる目的から陽極と発
光層の間に、さらに正孔輸送層を有することが好まし
い。正孔輸送層とは陽極から正孔が注入され、さらに正
孔を輸送することを司る層であり、正孔輸送性材料とし
て具体的にはN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス
(3−メチルフェニル)−4,4’−ジフェニル−1,
1’−ジアミン、N,N’−ビス(1−ナフチル)−
N,N’−ジフェニル−4,4’−ジフェニル−1,
1’−ジアミンなどのトリフェニルアミン類、ビス(N
−アリルカルバゾール)またはビス(N−アルキルカル
バゾール)類などのカルバゾール誘導体、ピラゾリン誘
導体、スチルベン系化合物、ジスチリル誘導体、ヒドラ
ゾン系化合物、オキサジアゾール誘導体やフタロシアニ
ン誘導体、ポルフィリン誘導体に代表される複素環化合
物、ポリマー系では前記単量体を側鎖に有するポリカー
ボネートやスチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、
ポリシランなどが挙げられるが、素子作製に必要な薄膜
を形成し、陽極から正孔が注入できて、さらに正孔を輸
送できる化合物であれば特に限定されるものではない。
これらは単独で用いてもよいし、複数の誘導体を混合あ
るいは積層して用いて層を形成しても良い。さらに、そ
れ自身は正孔輸送能を有さないが、正孔輸送層全体の輸
送能や熱的安定性、電気化学的安定性の向上など種々の
目的で有機化合物や無機化合物、金属錯体を正孔輸送材
料に添加して正孔輸送層を形成しても良い。
The light emitting device of the present invention preferably further has a hole transport layer between the anode and the light emitting layer for the purpose of efficiently recombination of holes and electrons in the light emitting layer. The hole transport layer is a layer that is responsible for injecting holes from the anode and further transporting holes, and specifically, as the hole transport material, N, N′-diphenyl-N, N′-bis. (3-methylphenyl) -4,4'-diphenyl-1,
1'-diamine, N, N'-bis (1-naphthyl)-
N, N'-diphenyl-4,4'-diphenyl-1,
Triphenylamines such as 1'-diamine, bis (N
-Allylcarbazole) or bis (N-alkylcarbazole) s, etc., carbazole derivatives, pyrazoline derivatives, stilbene compounds, distyryl derivatives, hydrazone compounds, oxadiazole derivatives, phthalocyanine derivatives, heterocyclic compounds represented by porphyrin derivatives, In the polymer system, polycarbonate having a side chain of the monomer, a styrene derivative, polyvinylcarbazole,
Examples thereof include polysilane, but the compound is not particularly limited as long as it is a compound capable of forming a thin film necessary for manufacturing an element, injecting holes from the anode, and further transporting holes.
These may be used alone, or a plurality of derivatives may be mixed or laminated to form a layer. Furthermore, although it does not have a hole-transporting ability by itself, an organic compound, an inorganic compound, or a metal complex is used for various purposes such as improving the transportability, thermal stability, and electrochemical stability of the entire hole-transporting layer. It may be added to the hole transport material to form a hole transport layer.

【0042】各層の形成方法は、抵抗加熱蒸着、電子ビ
ーム蒸着、スパッタリング、分子積層法、コーティング
法など特に限定されるものではないが、通常は、抵抗加
熱蒸着、電子ビーム蒸着が特性面で好ましい。層の厚み
は、発光物質の抵抗値にもよるので限定することはでき
ないが、1〜1000nmの間から選ばれる。
The method of forming each layer is not particularly limited, such as resistance heating vapor deposition, electron beam vapor deposition, sputtering, molecular lamination method, coating method, etc., but resistance heating vapor deposition and electron beam vapor deposition are usually preferable in terms of characteristics. . The thickness of the layer cannot be limited because it depends on the resistance value of the light emitting substance, but is selected from the range of 1 to 1000 nm.

【0043】電気エネルギーとは主に直流電流を指す
が、パルス電流や交流電流を用いることも可能である。
電流値および電圧値は特に制限はないが、素子の消費電
力、寿命を考慮するとできるだけ低いエネルギーで最大
の輝度が得られるようにするべきである。
The electric energy mainly refers to a direct current, but it is also possible to use a pulse current or an alternating current.
The current value and the voltage value are not particularly limited, but in consideration of the power consumption and life of the element, it is necessary to obtain the maximum brightness with the lowest possible energy.

【0044】本発明におけるマトリクスとは、表示のた
めの画素が格子状に配置されたものをいい、画素の集合
で文字や画像を表示する。画素の形状、サイズは用途に
よって決まる。例えばパソコン、モニター、テレビの画
像および文字表示には、通常一辺が300μm以下の四
角形の画素が用いられるし、表示パネルのような大型デ
ィスプレイの場合は、一辺がmmオーダーの画素を用い
ることになる。モノクロ表示の場合は、同じ色の画素を
配列すればよいが、カラー表示の場合には、赤、赤、
緑、青の画素を並べて表示させる。この場合、典型的に
はデルタタイプとストライプタイプがある。そして、こ
のマトリクスの駆動方法としては、線順次駆動方法やア
クティブマトリックスのどちらでもよい。線順次駆動の
方が構造が簡単であるという利点があるが、動作特性を
考慮した場合、アクティブマトリックスの方が優れる場
合があるので、これも用途によって使い分けることが必
要である。
The matrix in the present invention refers to a matrix in which pixels for display are arranged, and a character or an image is displayed by a set of pixels. The shape and size of the pixel depend on the application. For example, a quadrangular pixel with a side of 300 μm or less is usually used for displaying images and characters on a personal computer, a monitor, a television, and in the case of a large display such as a display panel, a pixel with a side of mm is used. . For monochrome display, pixels of the same color may be arranged, but for color display, red, red,
Display green and blue pixels side by side. In this case, there are typically a delta type and a stripe type. The driving method of this matrix may be either a line-sequential driving method or an active matrix. The line-sequential drive has an advantage that the structure is simpler, but in consideration of the operation characteristics, the active matrix may be superior in some cases. Therefore, it is necessary to properly use the active matrix depending on the application.

【0045】本発明におけるセグメントタイプとは、予
め決められた情報を表示するようにパターンを形成し、
決められた領域を発光させることになる。例えば、デジ
タル時計や温度計における時刻や温度表示、オーディオ
機器や電磁調理器などの動作状態表示、自動車のパネル
表示などがあげられる。そして、前記マトリクス表示と
セグメント表示は同じパネルの中に共存していてもよ
い。
The segment type in the present invention means that a pattern is formed so as to display predetermined information,
The light will be emitted in the determined area. Examples include time and temperature display on digital clocks and thermometers, operation status display of audio equipment and electromagnetic cookers, and panel display of automobiles. The matrix display and the segment display may coexist in the same panel.

【0046】本発明の発光素子はバックライトとしても
好ましく用いられる。バックライトは、主に自発光しな
い表示装置の視認性を向上させる目的に使用され、液晶
表示装置、時計、オーディオ装置、自動車パネル、表示
板、標識などに使用される。特に液晶表示装置、中でも
薄型化が課題となっているパソコン用途のバックライト
としては、従来方式のものが蛍光灯や導光板からなって
いるため薄型化が困難であることを考えると、本発明に
おける発光素子を用いたバックライトは薄型、軽量が特
徴になる。
The light emitting device of the present invention is also preferably used as a backlight. The backlight is mainly used to improve the visibility of a display device that does not emit light by itself, and is used for a liquid crystal display device, a clock, an audio device, an automobile panel, a display board, a sign, and the like. In particular, as a backlight for a liquid crystal display device, in particular, a personal computer for which thinning has been a problem, it is difficult to reduce the thickness because the conventional type is composed of a fluorescent lamp and a light guide plate. The backlight using the light emitting element in 1 is characterized by being thin and lightweight.

【0047】[0047]

【実施例】以下、実施例および比較例をあげて本発明を
説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるも
のではない。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0048】実施例1 ITO透明導電膜を150nm堆積させたガラス基板
(旭硝子(株)製、15Ω/□、電子ビーム蒸着品)を
30×40mmに切断、エッチングを行った。得られた
基板をアセトン、”セミコクリン56”で各々15分間
超音波洗浄してから、超純水で洗浄した。続いてイソプ
ロピルアルコールで15分間超音波洗浄してから熱メタ
ノールに15分間浸漬させて乾燥させた。この基板を素
子を作製する直前に1時間UV−オゾン処理し、真空蒸
着装置内に設置して、装置内の真空度が1×10-5Pa
以下になるまで排気した。抵抗加熱法によって、まず第
一の正孔注入輸送層として銅フタロシアニン(CuP
c)を10nm蒸着し、引き続いて第二の正孔輸送層と
してN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(1−ナフ
チル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン
(α−NPD)を50nm積層した。さらに、引き続い
て発光層部分をホスト材料としてトリス(8−キノリノ
ラト)アルミニウム(III)(Alq3)、ドーパント
材料として3−(2−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチ
ルアミノクマリンを用いて、ドーパントが1.0wt%
になるように25nmの厚さに共蒸着した。ついで電子
輸送層として下記に示すETM1を25nmの厚さに積
層した。引き続いてリチウムを0.2nmドーピング
し、最後にアルミニウムを150nm蒸着して陰極と
し、5×5mm角の素子を作製した。発光層のイオン化
ポテンシャルは5.78eV、電子輸送層のイオン化ポ
テンシャルは5.97eVであり、両層のイオン化ポテ
ンシャル差は0.19eVである。また、ETM1の分
子量は609、ガラス転移温度は112℃である。この
発光素子からは、10Vの印加電圧で、発光ピーク波長
が513nmのドーパント材料に基づく緑色発光が得ら
れ、発光輝度は5000cd/m2であった。また、こ
の発光素子の通電後500時間経過後の初期輝度保持率
は70%であり、均質な発光面を維持していた。
Example 1 A glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., 15 Ω / □, electron beam evaporation product) on which an ITO transparent conductive film was deposited to a thickness of 150 nm was cut into 30 × 40 mm and etched. The obtained substrate was ultrasonically cleaned with acetone and "semicoclin 56" for 15 minutes each, and then with ultrapure water. Subsequently, ultrasonic cleaning was performed for 15 minutes with isopropyl alcohol, and then immersion was performed for 15 minutes in hot methanol for drying. This substrate was subjected to UV-ozone treatment for 1 hour immediately before producing an element and placed in a vacuum vapor deposition apparatus so that the degree of vacuum in the apparatus was 1 × 10 −5 Pa.
Exhausted until below. By the resistance heating method, copper phthalocyanine (CuP) was used as the first hole injecting and transporting layer.
c) is vapor-deposited to a thickness of 10 nm, and then N, N′-diphenyl-N, N′-bis (1-naphthyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (as a second hole transport layer (α-NPD) was laminated in a thickness of 50 nm. Further, subsequently, using tris (8-quinolinolato) aluminum (III) (Alq3) as a host material and 3- (2-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin as a dopant material in the light emitting layer portion, the dopant is 1.0 wt%.
Was co-deposited to a thickness of 25 nm. Then, ETM1 shown below as an electron transport layer was laminated to a thickness of 25 nm. Subsequently, 0.2 nm of lithium was doped, and finally 150 nm of aluminum was vapor-deposited to form a cathode, and a 5 × 5 mm square device was manufactured. The ionization potential of the light emitting layer is 5.78 eV, the ionization potential of the electron transport layer is 5.97 eV, and the ionization potential difference between both layers is 0.19 eV. Further, ETM1 has a molecular weight of 609 and a glass transition temperature of 112 ° C. From this light emitting device, green light emission based on a dopant material having an emission peak wavelength of 513 nm was obtained with an applied voltage of 10 V, and the emission luminance was 5000 cd / m 2 . The initial luminance retention rate of this light-emitting element was 70% after 500 hours had passed after energization, and a uniform light-emitting surface was maintained.

【0049】[0049]

【化5】 [Chemical 5]

【0050】比較例1 電子輸送層としてAlq3を用いた以外は実施例1と全
く同様にして発光素子を作製した。電子輸送層のイオン
化ポテンシャルは5.79eVであり、発光層と電子輸
送層のイオン化ポテンシャル差は0.01eVである。
また、Alq3の分子量は459である。この発光素子
からは、10Vの印加電圧で、発光ピーク波長が513
nmのドーパント材料に基づく緑色発光が得られ、発光
輝度は3000cd/m2であった。
Comparative Example 1 A light emitting device was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that Alq3 was used as the electron transport layer. The ionization potential of the electron transport layer is 5.79 eV, and the ionization potential difference between the light emitting layer and the electron transport layer is 0.01 eV.
The molecular weight of Alq3 is 459. From this light emitting device, the emission peak wavelength was 513 with an applied voltage of 10V.
Green emission was obtained based on the nm dopant material, and the emission luminance was 3000 cd / m 2 .

【0051】比較例2 電子輸送層として2,9−ジメチル−4,7−ジフェニ
ル−1,10−フェナントロリン(BCP)を用いた以
外は実施例1と全く同様にして発光素子を作製した。電
子輸送層のイオン化ポテンシャルは6.20eVであ
り、発光層と電子輸送層のイオン化ポテンシャル差は
0.42eVである。また、BCPの分子量は360で
ある。この発光素子からは、10Vの印加電圧で、発光
ピーク波長が523nmのドーパント材料に基づく緑色
発光が得られ、発光輝度は8000cd/m2であっ
た。しかしながら、この発光素子の通電後500時間経
過後の初期輝度保持率は50%以下であり、発光面には
ムラが見られた。
Comparative Example 2 A light emitting device was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP) was used as the electron transport layer. The ionization potential of the electron transport layer is 6.20 eV, and the ionization potential difference between the light emitting layer and the electron transport layer is 0.42 eV. The molecular weight of BCP is 360. From this light emitting device, green light emission based on a dopant material having an emission peak wavelength of 523 nm was obtained with an applied voltage of 10 V, and the emission luminance was 8000 cd / m 2 . However, the initial luminance retention rate of this light-emitting element after 500 hours had passed after energization was 50% or less, and unevenness was observed on the light-emitting surface.

【0052】実施例2 発光層部分をホスト材料として下記に示すEM1、ドー
パント材料として同じくEM2を用いた以外は実施例1
と全く同様にして発光素子を作製した。発光層のイオン
化ポテンシャルは5.65eVであり、発光層と電子輸
送層のイオン化ポテンシャル差は0.42eVである。
この発光素子からは、15Vの印加電圧で、発光ピーク
波長が477nmのドーパント材料に基づく青色発光が
得られ、発光輝度は3500cd/m2であった。
Example 2 Example 1 was repeated except that EM1 shown below was used as the host material and EM2 was also used as the dopant material in the light emitting layer portion.
A light emitting device was manufactured in exactly the same manner as in. The ionization potential of the light emitting layer is 5.65 eV, and the ionization potential difference between the light emitting layer and the electron transport layer is 0.42 eV.
From this light emitting device, blue light emission based on a dopant material having an emission peak wavelength of 477 nm was obtained at an applied voltage of 15 V, and the emission luminance was 3500 cd / m 2 .

【0053】[0053]

【化6】 [Chemical 6]

【0054】実施例3 発光層部分をホスト材料として1,4−ジケト−2,5
−ビス(3,5−ジ−t−ブチルベンジル)−3,6−
ビス(4−ビフェニル)ピロロ[3,4−c]ピロー
ル、ドーパント材料として下記に示すEM3を用いて、
ドーパントが1.0wt%になるように15nmの厚さ
に共蒸着した以外は実施例1と全く同様にして発光素子
を作製した。発光層のイオン化ポテンシャルは5.79
eVであり、発光層と電子輸送層のイオン化ポテンシャ
ル差は0.28eVである。この発光素子からは、14
Vの印加電圧で、発光ピーク波長629nmのドーパン
ト材料に基づく赤色発光が得られ、発光輝度は8000
cd/m2であった。
Example 3 1,4-diketo-2,5 using the light emitting layer portion as a host material
-Bis (3,5-di-t-butylbenzyl) -3,6-
Bis (4-biphenyl) pyrrolo [3,4-c] pyrrole, using EM3 shown below as a dopant material,
A light emitting device was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that co-evaporation was performed to a thickness of 15 nm so that the dopant was 1.0 wt%. The ionization potential of the light emitting layer is 5.79.
eV, and the difference in ionization potential between the light emitting layer and the electron transport layer is 0.28 eV. From this light emitting device,
With an applied voltage of V, red emission based on the dopant material having an emission peak wavelength of 629 nm was obtained, and the emission luminance was 8000.
It was cd / m 2 .

【0055】[0055]

【化7】 [Chemical 7]

【0056】比較例3 電子輸送層としてAlq3を用いる以外は実施例5と全
く同様にして発光素子を作製した。発光層と電子輸送層
のイオン化ポテンシャル差は0eVである。この発光素
子からは、10Vの印加電圧で赤色発光は得られず、6
29nmの発光ピーク波長と共に535nmの付近にシ
ョルダーピークを有する橙色発光となった。
Comparative Example 3 A light emitting device was produced in exactly the same manner as in Example 5 except that Alq3 was used as the electron transport layer. The ionization potential difference between the light emitting layer and the electron transport layer is 0 eV. From this light emitting device, red light emission was not obtained with an applied voltage of 10 V.
Orange emission was obtained with a peak emission wavelength of 29 nm and a shoulder peak near 535 nm.

【0057】実施例4 ITO透明導電膜を150nm堆積させたガラス基板
(旭硝子(株)製、15Ω/□、電子ビーム蒸着品)を
30×40mmに切断、フォトリソグラフィ法によって
300μmピッチ(残り幅270μm)×32本のスト
ライプ状にパターン加工した。ITOストライプの長辺
方向片側は外部との電気的接続を容易にするために1.
27mmピッチ(開口部幅800μm)まで広げてあ
る。得られた基板をアセトン、”セミコクリン56”で
各々15分間超音波洗浄してから、超純水で洗浄した。
続いてイソプロピルアルコールで15分間超音波洗浄し
てから熱メタノールに15分間浸漬させて乾燥させた。
この基板を素子を作製する直前に1時間UV−オゾン処
理し、真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が5
×10-4Pa以下になるまで排気した。抵抗加熱法によ
って、まずCuPcを10nm蒸着し、引き続いてα−
NPDを50nm蒸着した。次に発光層部分をホスト材
料としてAlq3、ドーパント材料として3−(2−ベ
ンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリンを用い
て、ドーパントが1.0wt%になるように25nmの
厚さに共蒸着した。引き続いて電子輸送層としてETM
1を25nmの厚さに積層した。次に厚さ50μmのコ
バール板にウエットエッチングによって16本の250
μmの開口部(残り幅50μm、300μmピッチに相
当)を設けたマスクを、真空中でITOストライプに直
交するようにマスク交換し、マスクとITO基板が密着
するように裏面から磁石で固定した。そしてリチウムを
0.5nm有機層にドーピングした後、アルミニウムを
200nm蒸着して32×16ドットマトリクス素子を
作製した。本素子をマトリクス駆動させたところ、クロ
ストークなく文字表示できた。
Example 4 A glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., 15Ω / □, electron beam evaporation product) on which an ITO transparent conductive film was deposited to a thickness of 150 nm was cut into 30 × 40 mm, and a 300 μm pitch (remaining width of 270 μm was obtained by a photolithography method. ) × 32 stripes were patterned. In order to facilitate electrical connection to the outside, one side of the ITO stripe in the long side direction is 1.
Widened to 27 mm pitch (opening width 800 μm). The obtained substrate was ultrasonically cleaned with acetone and "semicoclin 56" for 15 minutes each, and then with ultrapure water.
Subsequently, ultrasonic cleaning was performed for 15 minutes with isopropyl alcohol, and then immersion was performed for 15 minutes in hot methanol for drying.
This substrate was subjected to UV-ozone treatment for 1 hour immediately before producing an element and placed in a vacuum vapor deposition apparatus, and the degree of vacuum in the apparatus was 5
Evacuation was performed until the pressure became × 10 -4 Pa or less. First, CuPc was evaporated to a thickness of 10 nm by the resistance heating method, and then α-
50 nm of NPD was vapor-deposited. Next, the light emitting layer portion was co-evaporated to a thickness of 25 nm using Alq3 as a host material and 3- (2-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin as a dopant material so that the dopant might be 1.0 wt%. Then ETM as electron transport layer
1 was laminated to a thickness of 25 nm. Then, the Kovar plate with a thickness of 50 μm was wet-etched with 16 250 pieces.
A mask provided with a μm opening (remaining width of 50 μm, corresponding to a pitch of 300 μm) was exchanged in a vacuum so as to be orthogonal to the ITO stripe, and fixed with a magnet from the back surface so that the mask and the ITO substrate were in close contact. Then, after doping the organic layer with 0.5 nm of lithium, aluminum was vapor-deposited with 200 nm to produce a 32 × 16 dot matrix device. When this device was matrix-driven, characters could be displayed without crosstalk.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明は、熱的安定性に優れ、電気エネ
ルギーの利用効率が高く、色純度に優れた赤色発光素子
を提供できるものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a red light emitting device having excellent thermal stability, high utilization efficiency of electric energy, and excellent color purity.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも陽極、発光層、電子輸送層、陰
極が順に積層された構造を有する発光素子において、電
子輸送層は発光層のイオン化ポテンシャルよりも0.1
eV以上大きいイオン化ポテンシャルを有し、発光層お
よび電子輸送層を主に構成する材料が昇華性を有する有
機化合物からなり、さらに電子輸送層を主に構成する有
機化合物は分子量が400以上、ガラス転移温度が90
℃以上であることを特徴とする発光素子。
1. In a light emitting device having a structure in which at least an anode, a light emitting layer, an electron transporting layer and a cathode are laminated in this order, the electron transporting layer is more than 0.1 than the ionization potential of the light emitting layer.
The material having a large ionization potential of eV or more, the material mainly constituting the light emitting layer and the electron transport layer is composed of a sublimable organic compound, and the organic compound mainly constituting the electron transport layer has a molecular weight of 400 or more and a glass transition. Temperature is 90
A light-emitting element having a temperature of not less than ° C.
【請求項2】陽極と発光層の間に、さらに正孔輸送層を
有することを特徴とする請求項1記載の発光素子。
2. The light emitting device according to claim 1, further comprising a hole transport layer between the anode and the light emitting layer.
【請求項3】発光層が少なくとも2種類以上の有機化合
物から構成されることを特徴とする請求項1記載の発光
素子。
3. The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting layer is composed of at least two kinds of organic compounds.
【請求項4】発光素子がマトリクスおよび/またはセグ
メント方式によって表示するディスプレイを構成するこ
とを特徴とする請求項1記載の発光素子。
4. The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device constitutes a display for displaying by a matrix and / or segment system.
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