JP2003057820A - Infrared-ray sensitive composition - Google Patents

Infrared-ray sensitive composition

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JP2003057820A
JP2003057820A JP2001247351A JP2001247351A JP2003057820A JP 2003057820 A JP2003057820 A JP 2003057820A JP 2001247351 A JP2001247351 A JP 2001247351A JP 2001247351 A JP2001247351 A JP 2001247351A JP 2003057820 A JP2003057820 A JP 2003057820A
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acid
group
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monomer
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JP2001247351A
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Japanese (ja)
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Ikuo Kawachi
幾生 河内
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an IR sensitive composition which imparts a good coated surface state and excellent printing and scuffing resistances to the image forming layer of a planographic printing original plate when used as the material of the image forming layer. SOLUTION: The IR sensitive composition comprises (A) a resin insoluble in water and soluble in alkaline water, (B) a photothermal conversion material, (C) a fluoropolymer obtained by polymerizing a monomer containing one specified fluoroaliphatic group and (D) a fluoropolymer obtained by polymerizing a monomer containing two or more specified fluoroaliphatic groups.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、特定の構造のフル
オロ脂肪族基を1つ含有するモノマーを重合することに
より得られたフッ素含有ポリマー及び該フルオロ脂肪族
基を2つ以上含有するモノマーを重合することにより得
られたフッ素含有ポリマーを含有する感赤外線感光性組
成物、また該感赤外線感光性組成物を例えば画像形成層
中に含有する新規な平版印刷版用原版に関し、泡立ちな
どの製造故障を起こさずに均一な塗布面状を与え、耐刷
性及び耐傷性に優れた平版印刷版を提供しうる平版印刷
版用原版に関する。 【0002】 【従来の技術】平版印刷版用原版は、基板上に画像形成
組成物を設けた構成を有する。典型的な製造プロセスは
支持体の表面に、画像形成組成物を塗布・乾燥するもの
である。また、典型的な製版工程は、露光で、画像形成
層に物性変化を引き起こした後、非画像部の画像形成層
の除去(現像)等の処理を行うことで、親水性支持体表
面層からなる非画像部と疎水性組成物表面層からなる画
像部を有する平版印刷版を形成するものである。かくし
て得られた平版印刷版は、典型的印刷工程において、親
水性の非画像部が湿し水を、親油性の画像部がインクを
受容し、表面上にインク画像を形成する。得られたイン
ク画像を、所望の印刷媒体に直接もしくは間接的に転写
する事で印刷物が得られる。 【0003】上記の平版印刷版用原版として有用性の高
いものを実現するために、1)画像形成層の均一性が高
い事、2)画像部の疎水性が高く、且つ非画像部の現像
除去性が高い事の技術課題がある。画像部の均一性は、
技術的には主に上記製造工程に関わるものであるが、均
一性が不十分な原版は、高画質で均質な印刷物を安定的
に多数枚提供することができないため好ましくない。ま
た、画像部が高い疎水性を有する事は、製版工程におけ
る、現像液に対する耐久性を高めることにより、優れた
解像力を得る事、印刷工程における十分な耐刷性やイン
ク着肉性を得る事と言った観点で重要である。但し、画
像部の高度な疎水性は、通常使用される現像液であるア
ルカリ水溶液に対する溶解性の低下を引き起こす可能性
があり、非画像部の現像不良や、現像液中でのヘドロ成
分発生等の好ましくない結果をもたらし得る。即ち、画
像部の疎水性と非画像部の除去性は単純には相反する特
性を画像形成層に要求するものであり、これらを両立化
しうる技術の開発は困難かつ重要な課題となっている。 【0004】この様な技術課題に対し、画像形成組成物
としてフルオロ脂肪族基を有する高分子化合物を含有し
た組成物の使用が有用であることが知られている。具体
的には、界面活性能の向上に起因する膜の均一性発現機
能の一層の向上、疎水性に起因する現像性の遅れの解
消、疎水性・配向力の活用による画像部の疎水性と非画
像部の除去性の両立化による硬調画像形成の効果が開示
されている。例えば、特開2000-187318号に
はフルオロ脂肪族基を2個以上有するモノマー単位を使
用した高分子化合物により、画像部と非画像部の溶解性
のディスクリミネーションに優れた画像形成材料が得ら
れることが開示されている。 【0005】以上の様に、フルオロ脂肪族化合物を含有
する画像形成層は平版印刷版用原版の画像形成層として
共通の前記技術課題1)、2)を達成する方法として有
効である。しかしながら、一方で、その効果は尚十分で
は無く、例えば、塗布面状の不良や現像液の劣化による
画像状態の変動、耐刷性、耐傷性が不充分である等、更
に改良が望まれているのが実状である。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
技術の欠点を克服しようとするものであり、より具体的
な例としては、平版印刷用原版の画像形成層として用い
る場合、その層の塗布面状が良好で、耐刷性及び耐傷性
に優れる感赤外線感光性組成物を提供しようとするもの
である。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進めた結果、例えば、平版印刷版用原版の画像形成層
に使用することができる感赤外線感光性組成物に特定の
2種類のフッ素系ポリマーを添加することにより、上記
目的が達成されることを見いだした。即ち、本発明は下
記構成により達成される。 【0008】(1)(A)水不溶アルカリ水可溶性樹
脂、(B)光熱変換剤、(C)下記一般式(I)で表さ
れる基を1つ含有するモノマーを重合することにより得
られたフッ素含有ポリマー、(D)下記一般式(I)で
表される基を2つ以上含有するモノマーを重合すること
により得られたフッ素含有ポリマー、を含有することを
特徴とする感赤外線感光性組成物。 【0009】 【化2】【0010】一般式(I)中、mは1以上6以下の整
数、nは1以上6以下の整数を表す。 【0011】 【発明の実施の形態】以下、本発明に係る(C)上記一
般式(I)で表される基を1つ含有するモノマーを重合
することにより得られたフッ素含有ポリマー(「(C)
のポリマー」と略記することもある)について詳細に説
明する。 【0012】上記一般式(I)において、mは1以上6
以下の整数を表し、好ましくは1以上4以下の整数であ
る。nは1以上6以下の整数を表し、好ましくは、2以
上4以下の整数であり、2〜4の混合物を用いても良
い。 【0013】本発明に係る(C)のポリマーにおける一
般式(I)で表される基であるフルオロ脂肪族基の一つ
は、テロメリゼーション法(テロマー法ともいわれる)
もしくはオリゴメリゼーション法(オリゴマー法ともい
われる)により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導
かれるものである。これらのフルオロ脂肪族化合物の製
造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機
能」(監修:石川延男、発行:株式会社シーエムシー、
1987)の117〜118ページや、「Chemistry of
Organic Fluorine Compounds II」(Monograph 187,Ed
by Milos Hudlicky and Attila E.Pavlath,American C
hemical Society 1995)の747-752ページに記載
されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の
連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンと
して、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化
合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法で
ある(Scheme-1に例を示した)。 【0014】 【化3】 【0015】得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、
例えば[Scheme2]のごとき適切な末端化学修飾を施さ
れ、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合
物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換さ
れフルオロ脂肪族基含有ポリマーの製造に使用される。 【0016】 【化4】 【0017】本発明の一般式(I)で表される基を1つ
含有するモノマーとしては、下記一般式(II)で表され
るモノマーが好ましい。 【0018】 【化5】 【0019】一般式(II)において、R1は水素原子ま
たはメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子、−N
(R3)−、−O−CH2−CH(OH)−、又は−O−
CH 2CH2−NHC(=O)−O−を表す。ここでR3
は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的に
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、
好ましくは水素原子またはメチル基である。Xは酸素原
子がより好ましい。R2は、上記一般式(I)で表され
る基を表す。 【0020】上記一般式(II)で表されるフルオロ脂肪
族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下に
あげるが、この限りではない。 【0021】 【化6】【0022】 【化7】 【0023】 【化8】【0024】 【化9】 【0025】 【化10】【0026】 【化11】 【0027】 【化12】【0028】 【化13】【0029】本発明の(C)のポリマーは、下記一般式
(III)で表されるモノマーに対応する繰り返し単位を
を含有することが好ましい。 【0030】 【化14】 【0031】一般式(III)において、R4は水素原子、
メチル基を表し、Yは2価の連結基を表す。2価の連結
基としては、酸素原子、イオウ原子、−N(R6)−、
等が好ましい。ここでR6は水素原子、炭素数1〜4の
アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等が好ましい。R6のより好ましい形態は水素
原子及びメチル基である。Yは、酸素原子、−N(H)
−、−N(CH3)−がより好ましい。R5は置換基を有
しても良い炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環
状のアルキル基を表す。R5のアルキル基の置換基とし
ては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボ
ニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリー
ルエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などの
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげ
られるがこの限りではない。炭素数4以上20以下の直
鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分
岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、ま
た、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シク
ロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル
基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル
基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデ
シル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられ
る。 【0032】一般式(III)で示されるモノマーのより
具体的には次に示すモノマーがあげられるがこの限りで
はない。 【0033】 【化15】 【0034】 【化16】 【0035】 【化17】【0036】 【化18】 【0037】 【化19】【0038】 【化20】 【0039】 【化21】【0040】 【化22】 【0041】 【化23】【0042】 【化24】 【0043】 【化25】【0044】 【化26】【0045】本発明の(C)のポリマーは、ポリ(オキ
シアルキレン)アクリレート及び/又はポリ(オキシア
ルキレン)メタクリレートに相当する繰り返し単位を含
有することが好ましい。 【0046】ポリオキシアルキレン基は(OR)xで表
すことができ、Rは2〜4の炭素原子を有するアルキレ
ン基であり、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH(CH3)CH2-、-
CH2CH2CH2CH2-または-CH(CH3)CH(CH3)-であることが好
ましい。xは正の整数である。前記のポリ(オキシアル
キレン)基中のオキシアルキレン単位はポリ(オキシプ
ロピレン)におけるように同一のオキシアルキレン単位
のみで構成されてもよく、また、オキシプロピレン単位
とオキシエチレン単位とが連結したもののように、異な
る2種以上のオキシアルキレン単位が規則的または不規
則に連結したものであっても良い。 【0047】ポリ(オキシアルキレン)鎖の末端に結合
する原子又は基は、水素原子であっても他の任意の基で
あっても良いが、水素原子、アルキル基(好ましくは炭
素数1〜20)、アリル基(好ましくは炭素数1〜2
0)、アリール基(例えば炭素数6〜10)であること
が好ましい。アリール基は、アルキル基(例えば炭素数
1〜10)、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよ
い。ポリ(オキシアルキレン)鎖は1つまたはそれ以上
の連鎖結合(例えば-CONH-Ph-NHCO-、−S−など:Phは
フェニレン基を表す)で連結されたり含むことができ
る。分岐鎖状のオキシアルキレン単位を供するため、連
鎖結合部位に3またはそれ以上の原子価を有することが
できる。ポリ(オキシアルキレン)基の分子量は、連鎖
結合部を含め250〜3000が好ましい。 【0048】ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及
びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ(オキシア
ルキレン)材料、例えば商品名“プルロニック”[Plur
onic(旭電化工業(株)製)、アデカポリエーテル(旭
電化工業(株)製)“カルボワックス[Carbowax(グリ
コ・プロダクス)]、”トリトン“[Toriton(ローム
・アンド・ハース(Rohm and Haas製))およびP.E.G
(第一工業製薬(株)製)として販売されているものを
公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロ
リド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反
応させることによって製造できる。別に、公知の方法で
製造したポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート等を
用いることもできる。 【0049】市販品のモノマーとしては、日本油脂株式
会社製の水酸基末端ポリアルキレングリコールモノ(メ
タ)アクリレートとしてブレンマーPE-90、ブレンマーP
E-200、ブレンマーPE-350、ブレンマーAE-90、ブレンマ
ーAE-200、ブレンマーAE-400、ブレンマーPP-1000、ブ
レンマーPP-500、ブレンマーPP-800、ブレンマーAP-15
0、ブレンマーAP-400、ブレンマーAP-550、ブレンマーA
P-800、ブレンマー50PEP-300、ブレンマー70PEP-350B、
ブレンマーAEPシリーズ、ブレンマー55PET-400、ブレン
マー30PET-800、ブレンマー55PET-800、ブレンマーAET
シリーズ、ブレンマー30PPT-800、ブレンマー50PPT-80
0、ブレンマー70PPT-800、ブレンマーAPTシリーズ、ブ
レンマー10PPB-500B、ブレンマー10APB-500Bなどがあげ
られる。同様に日本油脂株式会社製のアルキル末端ポリ
アルキレングリコールモノ(メタ)アクリレートとして
ブレンマーPME-100、ブレンマーPME-200、ブレンマーPM
E-400、ブレンマーPME-1000、ブレンマーPME-4000、ブ
レンマーAME-400、ブレンマー50POEP-800B、ブレンマー
50AOEP-800B、ブレンマーPLE-200、ブレンマーALE-20
0、ブレンマーALE-800、ブレンマーPSE-400、ブレンマ
ーPSE-1300、ブレンマーASEPシリーズ、ブレンマーPKEP
シリーズ、ブレンマーAKEPシリーズ、ブレンマーANE-30
0、ブレンマーANE-1300、ブレンマーPNEPシリーズ、ブ
レンマーPNPEシリーズ、ブレンマー43ANEP-500、ブレン
マー70ANEP-550など、また共栄社化学株式会社製ライト
エステルMC、ライトエステル130MA、ライトエステル041
MA、ライトアクリレートBO-A、ライトアクリレートEC-
A、ライトアクリレートMTG-A、ライトアクリレート130
A、ライトアクリレートDPM-A、ライトアクリレートP-20
0A、ライトアクリレートNP-4EA、ライトアクリレートNP
-8EAなどがあげられる。 【0050】本発明では、必須成分である一般式(I)
で表される基を1つ含有するモノマーとポリ(オキシア
ルキレン)アクリレート及び/またはポリ(オキシアル
キレン)メタクリレートモノマーとの共重合体が用いら
れるが、ポリ(オキシエチレン)アクリレート及び/ま
たはポリ(オキシエチレン)メタクリレートを含むこと
が更に好ましい。ここでポリ(オキシエチレン)アクリ
レート及び/またはポリ(オキシエチレン)メタクリレ
ートとは、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び
/またはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートモノ
マーにおけるオキシアルキレン基がオキシエチレンのみ
からなるモノマーである。このモノマーの添加は、特に
分散性、溶解性の向上に寄与する。 【0051】特に好ましい態様としては、一般式(I)
で表される基を1つ含有するモノマーとポリ(オキシエ
チレン)アクリレート及び/又はポリ(オキシエチレ
ン)メタクリレートとポリ(オキシアルキレン)アクリ
レート及び/またはポリ(オキシアルキレン)メタクリ
レートとの3種以上のモノマーを共重合したポリマーで
ある。尚、この場合、ポリ(オキシアルキレン)アクリ
レート及び/またはポリ(オキシアルキレン)メタクリ
レートは、ポリ(オキシエチレン)アクリレート及び/
またはポリ(オキシエチレン)メタクリレート以外のポ
リ(オキシアルキレン)アクリレート及び/またはポリ
(オキシアルキレン)メタクリレートである。 【0052】ここで本発明に用いられるポリ(オキシア
ルキレン)アクリレート、ポリ(オキシアルキレン)メ
タクリレートの具体例を示すがこの限りではない。尚、
下記具体例の中でl、m、nはそれぞれのユニットの平
均重合度を表す。重合度は分布を有していても、また単
分散であっても良い。また[ ]はランダム型重合鎖を表
す。 【0053】 【化27】 【0054】 【化28】【0055】 【化29】【0056】 【化30】【0057】 【化31】【0058】 【化32】【0059】本発明には、必須成分である一般式(I)
で表される基を1つ含有するモノマーとポリ(オキシア
ルキレン)アクリレート及び/またはポリ(オキシアル
キレン)メタクリレート及びポリ(オキシエチレン)ア
クリレート及び/またはポリ(オキシエチレン)メタク
リレートの他に、これらと共重合可能なモノマーを反応
させることができる。 【0060】他の共重合可能なモノマーの共重合比率と
しては、全モノマー中の20モル%以下、より好ましく
は10モル%以下である。このような単量体としては、
PolymerHandbook 2nd ed.,
J.Brandrup,Wiley lntersci
ence(1975)Chapter 2Page 1
〜483記載のものを用いることが出来る。例えばアク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタク
リル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミ
ド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステ
ル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を少なくとも
1個有する化合物等をあげることができる。 【0061】具体的には、以下の単量体をあげることが
できる。 アクリル酸エステル類:アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、
メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート等、 メタクリル酸エステル類:メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメ
タクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フ
ルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタ
クリレート等、 【0062】アクリルアミド類:アクリルアミド、N−
アルキルアクリルアミド(アルキル基としては炭素数1
〜3のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基)、N,N−ジアルキルアクリルアミド(アルキル基
としては炭素数1〜3のもの)、N−ヒドロキシエチル
−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエ
チル−N−アセチルアクリルアミドなど。 メタクリルアミド類:メタクリルアミド、N−アルキル
メタクリルアミド(アルキル基としては炭素数1〜3の
もの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基)、N,
N−ジアルキルメタクリルアミド(アルキル基としては
炭素数1〜3のもの)、N−ヒドロキシエチル−N−メ
チルメタクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−
N−アセチルメタクリルアミドなど。 アリル化合物:アリルエステル類(例えば酢酸アリル、
カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリ
ル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香
酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど)、アリ
ルオキシエタノールなど ビニルエーテル類:アルキルビニルエーテル(例えばヘ
キシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシ
ルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メ
トキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエ
ーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−
2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチル
ブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルア
ミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニ
ルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベン
ジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエ
ーテルなど ビニルエステル類:ビニルビチレート、ビニルイソブチ
レート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチル
アセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビ
ニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビ
ニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、
ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、
ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。 【0063】イタコン酸ジアルキル類:イタコン酸ジメ
チル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。 フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエ
ステル類:ジブチルフマレートなど その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンな
ど。 【0064】尚、従来、好んで用いられてきた電解フッ
素化法により製造されるフッ素系化学製品の一部は、生
分解性が低く、生体蓄積性の高い物質であり、程度は軽
微ではあるが、生殖毒性、発育毒性を有する事が懸念さ
れている。本発明によるフッ素系化学製品はより環境安
全性の高い物質であるということも産業上有利な点であ
るといえる。 【0065】本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に
用いられる一般式(I)で表される基を1つ含有するモ
ノマーの量は、該(C)のポリマーの各単量体に基づい
て5モル%以上であり、好ましくは5〜70モル%であ
り、より好ましくは7〜60モル%の範囲である。一般
式(III)で表されるモノマーの量は、該(C)のポリ
マーの各単量体に基づいて5モル%以上であり、好まし
くは5〜70モル%であり、より好ましくは5〜60モ
ル%である。 【0066】ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及
び/又はポリ(オキシアルキレン)メタクリレート単量
体の量は、該(C)のポリマーの各単量体の総量に基づ
いて10モル%以上であり、好ましくは15〜70モル
%であり、より好ましくは20〜60モル%である。ポ
リ(オキシエチレン)アクリレート及び/またはポリ
(オキシエチレン)メタクリレート単量体の量は、他の
ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び/又はポリ
(オキシアルキレン)メタクリレート単量体と併用され
る場合は、該(C)のポリマーの各単量体の総量に基づ
いて、3モル%以上であり、好ましくは5〜50モル%
であり、より好ましくは10〜30モル%である。他の
ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び/又はポリ
(オキシアルキレン)メタクリレート単量体を使用しな
い場合は、該(C)のポリマーの各単量体の総量に基づ
いて10モル%以上であり、好ましくは15〜70モル
%であり、より好ましくは20〜60モル%である。 【0067】本発明で用いられる(C)のポリマーの好
ましい重量平均分子量は、3000〜100,000が
好ましく、6,000〜80,000がより好ましい。 【0068】更に、本発明で用いられる(C)のポリマ
ーの好ましい添加量は、画像形成層のための感光性組成
物(溶媒を除いた塗布成分)に対して0.005〜8重
量%の範囲であり、好ましくは0.01〜5重量%の範
囲であり、更に好ましくは0.05〜3重量%の範囲で
ある。(C)のポリマーの添加量が0.005重量%未
満では効果が不十分であり、また8重量%より多くなる
と、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、感光材料
としての性能(例えば感度)に悪影響を及ぼす。 【0069】本発明の(C)のポリマーは公知慣用の方
法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ
脂肪族基を有する(メタ)アクリレート、ポリオキシア
ルキレン基を有する(メタ)アクリレート等の単量体を
有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合
させることにより製造できる。もしくは場合によりその
他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ
方法にて製造することができる。 各モノマーの重合性
に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重
合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得る
ために有効である。さらに、フッ素成分が多いポリマー
をカラム濾過、再沈精製、溶剤抽出などによって除去す
ることで、ハジキ故障を改良することができる。 【0070】以下、本発明による(C)のポリマーの具
体的な例を以下に示すがこの限りではない。尚、式中の
数字は各モノマー成分のモル比率を示す。表中、P-1〜P
-20はフッ素系モノマーとポリ(オキシアルキレン)モ
ノマーとの共重合体の例を示し、P-21〜P-40はフッ素モ
ノマーとポリ(オキシアルキレン)モノマーとポリ(オ
キシエチレン)モノマーとの3元共重合体の例を示す。 【0071】 【表1】【0072】 【表2】 【0073】 【化33】【0074】 【化34】【0075】 【化35】【0076】 【化36】【0077】 【化37】【0078】 【化38】 【0079】 【化39】【0080】 【化40】 【0081】 【化41】【0082】 【化42】 【0083】 【化43】【0084】 【化44】 【0085】 【化45】【0086】 【化46】 【0087】次に本発明の(D)上記一般式(I)で表
される基を2つ以上含有するモノマーを重合することに
より得られたフッ素含有ポリマー(「(D)のポリマ
ー」ともいう)について説明する。尚、一般式(I)に
ついての記載は、前記(C)のポリマー中のものと同様
である。本発明において、上記一般式(I)で表される
基を2つ以上含有するモノマーとしては、下記一般式
(X)で表される含フッ素単量体が好ましい。 一般式(X) 【0088】 【化47】 【0089】一般式(X)中、R1 は、炭素数3〜20
のパーフルオロアルキル基を表す。また、R1 は、炭素
数3〜20のパーフルオロアルケニル基を表してもよ
い。これらは、直鎖状、分岐状、環状、又はそれらを組
み合わせたもののいずれでもよく、更に主鎖中に酸素原
子が介入したもの、例えば(CF32CFOCF2CF
2 −等でもよい。 【0090】Z1 は、−(CH2)n −(但し、nは1
〜6の整数を表す。)又は下記式で表される基を表す
(但し、R2は、水素原子又は炭素数1〜10のアルキ
ル基を表す。)。ここで、一般式(X)中、2又は3個
含まれているZ1は、それぞれ異なる2又は3種の連結
基であってもよい。 【0091】 【化48】【0092】Z2は、−(CH2 )m −(但し、mは2
〜6の整数を表す。)又は下記式で表される基を表す。 【0093】 【化49】 【0094】Rは、水素原子、メチル基、又はハロゲン
原子(Cl、Br等)を表す。Xは、下記式で表される
2価の連結基を表す(但し、Yは、炭素数が15以下で
あり、かつ、X基中に占める重量割合が35〜65%で
ある2価の連結基を表す。)。 【0095】 【化50】 【0096】ここで、Yで表される2価の連結基の代表
的なものとしては、以下のものが挙げられる。 【0097】 【化51】 【0098】 【化52】 【0099】pは2又は3、qは1又は2である。A
は、3価又は4価の連結基であり、例えば、下記式で表
されるものが好ましい。 【0100】 【化53】 【0101】以下に、本発明の上記一般式(I)で表さ
れる基を2つ以上含有するモノマーの具体例を示すが、
本発明がこれらに限定されるものではない。 【0102】 【化54】 【0103】 【化55】 【0104】 【化56】【0105】 【化57】 【0106】本発明の(D)のポリマーは、更に炭化水
素系アクリレートに対応する繰り返し単位をを含有する
ことが好ましい。前記炭化水素系アクリレートとして
は、アクリロイル基を1個あるいは2個有するものであ
り、当業者で公知のもの(例えば、加藤清視、中原正二
著「UV硬化技術入門」(高分子刊行会)の中の、3
4、35頁の表10、46〜48頁の表16、57頁の
表20、170〜172頁の表60等に記載の化合物)
から適宜選択することができ、例えば、以下のもの(B
−1〜B−9)が挙げられる。 【0107】 【化58】【0108】以下に、本発明の(D)のポリマーの具体
例を示すが、本発明がこれらに限定されるものではな
い。 【0109】 【表3】【0110】本発明の(D)のポリマーの分子量は、特
に限定されるものではないが、重量平均分子量が3,0
00〜200,000のものが好ましく、4,000〜
100,000のものがより好ましい。また、(D)の
ポリマーの添加量は、感光性組成物(全固形分)に対し
て、0.01〜10重量%が好ましく、0.5〜5重量
%がより好ましい。 【0111】本発明の感赤外線感光性組成物には、
(A)水不溶アルカリ水可溶性樹脂(以下、アルカリ可
溶性樹脂という)を添加する。アルカリ可溶性樹脂とし
ては、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレ
ゾール・ホルムアルデヒド樹脂、フェノール・クレゾー
ル・ホルムアルデヒド共縮合樹脂、フェノール変性キシ
レン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒ
ドロキシスチレン、N-(4-ヒドロキシフェニル)メタ
クリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリ
レート共重合体の他、特開平7-28244号公報記載
のスルホニルイミド系ポリマー、特開平7-36184
号公報記載のカルボキシル基含有ポリマーなどが挙げら
れる。その他特開昭51-34711号公報に開示され
ているようなフェノール性水酸基を含有するアクリル系
樹脂、特開平2-866号に記載のスルホンアミド基を
有するアクリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂等、種々の
アルカリ可溶性の高分子化合物も用いることができる。
これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子
量が500〜20,000で数平均分子量が200〜6
0,000のものが好ましい。かかるアルカリ可溶性の
高分子化合物は1種類あるいは2種類以上を組合せて使
用してもよく、全組成物の80重量%以下の添加量で用
いられる。 【0112】更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t-ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物
を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。かかるアルカリ可溶性樹脂は、通常、組成物全重量
の90重量%以下の添加量で用いられる。 【0113】本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂
として、特に好ましくは、(a−1)フェノール性水酸
基、(a−2)スルホンアミド基、(a−3)活性イミ
ド基のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合物
が挙げられ、例えば以下のものが例示される。 【0114】(a−1)フェノール性水酸基を有する高
分子化合物としては、側鎖にフェノール性水酸基を有す
る高分子化合物を用いることができる。側鎖にフェノー
ル性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール
性水酸基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有
する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、
あるいは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させ
て得られる高分子化合物を挙げることができる。フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、フェノ
ール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、N
−(2−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(3−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(2−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(3−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシフェ
ニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレー
ト、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒドロ
キシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェニル
メタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(3−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)エチルメタクリレート、2−(3−ヒドロキシ
フェニル)エチルメタクリレート、2−(4−ヒドロキ
シフェニル)エチルメタクリレート等を好適に使用する
ことができる。かかるフェノール性水酸基を有する樹脂
は、1種類以上あるいは2種類以上を組み合わせて使用
してもよい。 【0115】(a−2)スルホンアミド基を有する高分
子化合物としては、スルホンアミド基を有する重合性モ
ノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーと
しては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの水
素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2
と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その
中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ
基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または
置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ま
しい。このような化合物としては、例えば、下記一般式
(a)〜(e)で表される化合物が挙げられるが、本発
明においては、これらに限定されるものではない。 【0116】 【化59】 【0117】式中、X1、X2は、それぞれ独立に酸素原
子又はNR7を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水素
原子又はCH3を表す。R2、R5、R9、R12、R16は、
それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜1
2のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
又はアラルキレン基を表す。R3、R7、R13は、それぞ
れ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1
〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又
はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、それぞれ独
立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を
表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又
はCH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合
又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキ
レン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラル
キレン基を表す。Y1、Y2は、それぞれ独立に単結合又
はCOを表す。 【0118】中でも、m−アミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。 【0119】(a−3)活性イミド基を有する高分子化
合物は、下記式で表される活性イミド基を分子内に有す
るものであり、この高分子化合物としては、1分子中
に、下記の式で表わされる活性イミノ基と、重合可能な
不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物から
なる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他
の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物
を挙げることができる。 【0120】 【化60】 【0121】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。 【0122】さらに、他のアルカリ可溶性樹脂として
は、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、
スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及び活性イ
ミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以上を重合
させた高分子化合物、或いはこれらの2種以上の重合性
モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる
高分子化合物を使用することができる。フェノール性水
酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミド基を有
する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を有する重
合性モノマーを共重合させる場合には、これら成分の配
合重量比は50:50から5:95の範囲にあることが
好ましく、40:60から10:90の範囲にあること
が特に好ましい。 【0123】他のアルカリ可溶性樹脂が前記フェノール
性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合
性モノマーと、他の重合性モノマーとの共重合体である
場合には、アルカリ可溶性を付与するモノマーは10モ
ル%以上含むことが好ましく、20モル%以上含むもの
がより好ましい。共重合成分が10モル%より少ない
と、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、現像ラチチ
ュードの向上効果が十分達成されないことがある。 【0124】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、例えば、下記(1)〜(12)
に挙げるモノマーを用いることができるがこれらに限定
されるものではない。 【0125】(1)例えば、2−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、および
メタクリル酸エステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルブニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 【0126】(6)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。 【0127】他のアルカリ可溶性樹脂が、前記フェノー
ル性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基
を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重
合性モノマーの単独重合体あるいは共重合体の場合、重
量平均分子量が2000以上、数平均分子量が500以
上のものが好ましい。さらに好ましくは、重量平均分子
量が5000〜300000で、数平均分子量が800
〜250000であり、分散度(重量平均分子量/数平
均分子量)が、1.1〜10のものである。 【0128】本発明の感赤外線感光性組成物には、
(B)光熱変換剤(以下、(B)成分ともいう)を添加
する。 【0129】本発明において用いられる(B)光熱変換
剤は、赤外光を吸収し熱を発生する物質であれば特に制
限はなく、赤外線吸収染料のほか、赤外線吸収顔料とし
て知られる種々の顔料もしくは、例示した以外の赤外線
吸収染料を用いることができる。顔料としては、市販の
顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新
顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、
「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載
されている顔料が利用できる。 【0130】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。 【0131】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。 【0132】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると記録層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。 【0133】染料としては、市販の染料及び文献(例え
ば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)
に記載されている公知のものが利用できる。具体的に
は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。 【0134】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては、例えば特開昭58−125246号、特開昭5
9−84356号、特開昭59−202829号、特開
昭60−78787号等に記載されているシアニン染
料、特開昭58−173696号、特開昭58−181
690号、特開昭58−194595号等に記載されて
いるメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭
58−224793号、特開昭59−48187号、特
開昭59−73996号、特開昭60−52940号、
特開昭60−63744号等に記載されているナフトキ
ノン染料、特開昭58−112792号等に記載されて
いるスクワリリウム色素、英国特許434,875号記
載のシアニン染料等を挙げることができる。 【0135】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポ
リン社製のEpolight III−178、Epoli
ght III−130、Epolight III−125等
が、特に好ましく用いられる。 【0136】また、染料として特に好ましい別の例とし
て、米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、全
固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10
重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1〜10重量%
の割合で添加することができる。 【0137】顔料もしくは染料の添加量が0.01重量
%未満であると感度が低くなり、また50重量%を越え
ると画像形成層の均一性が失われ、画像形成層の耐久性
が悪くなる。これらの染料もしくは顔料は他の成分と同
一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加し
てもよい。 【0138】次に本発明による画像形成層用の組成物と
しての感光性組成物を調製するに際して添加することの
できる他の成分について説明する。ポジ型感光性組成物
としては、露光の前後で現像液に対する溶解性または膨
潤性が変化するものならば使用できるが、その中に含ま
れる好ましいものとしては、o-キノンジアジド化合物
が挙げられる。例えば、アルカリ可溶性樹脂とo-キノ
ンジアジド化合物とを含有するポジ型感光性組成物の場
合、o-キノンジアジド化合物は、少なくとも1つのo-
キノンジアジド基を有する化合物で、活性光線によりア
ルカリ水溶液に対する溶解性を増すものが好ましい。 【0139】この様なものとしては、種々の構造のもの
が知られており、例えば、J.KOSAR著「Light-Sensitive
Systems」(John Wiley & Sons, Inc, 1965年発行)P.33
6〜P.352に詳細に記載されている。ポジ型感光性樹脂組
成物の感光性化合物としては、特に種々のヒドロキシル
化合物とo-ベンゾキノンジアジドあるいはo-ナフトキ
ノンジアジドのスルホン酸エステルが好適である。 【0140】上記のようなo-キノンジアジド化合物と
しては、例えば、1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5
-スルホニルクロライドとフェノール・ホルムアルデヒ
ド樹脂またはクレゾール・ホルムアルデヒド樹脂とのエ
ステル;米国特許第3,635,709号明細書に記載
されている1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スル
ホニルクロライドとピロガロール・アセトン樹脂とのエ
ステル;特公昭63-13,528号公報に記載されて
いる1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニル
クロライドとレゾルシン-ベンズアルデヒド樹脂とのエ
ステル;特公昭62-44,257号公報に記載されて
いる1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニル
クロライドとレゾルシン-ピロガロール・アセトン共縮
合樹脂とのエステル; 【0141】特公昭56-45,127号公報に記載さ
れている末端にヒドロキシル基を有するポリエステルに
1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニルクロ
ライドをエステル化させたもの;特公昭50-24,6
41号公報に記載されているN-(4-ヒドロキシフェニ
ル)メタクリルアミドのホモポリマーまたは他の共重合
しうるモノマーとの共重合体に1,2-ナフトキノン-2
-ジアジド-5-スルホニルクロライドをエステル化させ
たもの;特公昭54-29,922号公報に記載されて
いる1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニル
クロライドとビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂と
のエステル;特公昭52-36,043号公報に記載さ
れているp-ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたは
他の共重合しうるモノマーとの共重合体に1,2-ナフ
トキノン-2-ジアジド-5-スルホニルクロライドをエス
テル化させたもの;1,2-ナフトキノン-2-ジアジド-
5-スルホニルクロライドとポリヒドロキシベンゾフェ
ノンとのエステルがある。 【0142】その他、本発明に使用できる公知のo-キ
ノンジアジド化合物としては、特開昭63-80,25
4号、特開昭58-5,737号、特開昭57-111,
530号、特開昭57-111,531号、特開昭57-
114,138号、特開昭57-142,635号、特
開昭51-36,129号、特公昭62-3,411号、
特公昭62-51,459号、特公昭51-483号など
の各明細書中に記載されているものなどを上げることが
できる。前記のo-キノンジアジド化合物の含有量は、
感光性組成物の全固形分に対して、通常5〜60重量%
で、より好ましくは10〜40重量%である。 【0143】感光性組成物中には、更に必要に応じて、
感度を高めるための環状酸無水物、露光後直ちに可視像
を得るための焼き出し剤、画像着色剤としての染料、そ
の他のフィラーなどを加えることができる。 【0144】本発明における感光性組成物中には、感度
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第4,115,128号明細書に記載されている
ように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、3,6-エンドオキシ〜Δ4〜テ
トラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α-フェニル
無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等
がある。フェノール類としては、ビスフェノールA、p
-ニトロフェノール、p-エトキシフェノール、2,3,
4-トリヒドロキシベンゾフェノン、4-ヒドロキシベン
ゾフェノン、2,4,4′-トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4,4′,4″-トリヒドロキシ-トリフェニルメ
タン、4,4′,3″,4″-テトラヒドロキシ-3,
5,3′,5′-テトラメチルトリフェニルメタンなど
が挙げられる。 【0145】有機酸類としては、特開昭60-8894
2号公報、特開平2-96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、p-トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p-トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p-トル
イル酸、3,4-ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、1,4-シクロヘキセン-2,2-ジカルボン
酸、エルカ酸、ラウリン酸、n-ウンデカン酸、アスコ
ルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、フ
ェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましく
は、0.1〜5重量%である。 【0146】露光後、直ちに可視像を得るための焼き出
し剤としては、露光によって酸を放出する感光性化合物
と、酸と塩を形成して色調を変える有機染料との組み合
わせを挙げることができる。 【0147】露光によって酸を放出する感光性化合物と
しては、例えば、特開昭50-36,209号公報に記
載されているo-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸
ハロゲニド;特開昭53-36223号公報に記載され
ているトリハロメチル-2-ビロンやトリハロメチル-s-
トリアジン;特開昭55-62444号公報に記載され
ている種々のo-ナフトキノンジアジド化合物;特開昭
55-77742号公報に記載されている2-トリハロメ
チル-5-アリール-1,3,4-オキサジアゾール化合
物;ジアゾニウム塩などを挙げることができる。これら
の化合物は、単独または混合して使用することができ、
その添加量は、組成物全重量に対し、0.3〜15重量
%の範囲が好ましい。 【0148】本発明における、感光性組成物中には、光
分解して酸性物質を発生する化合物の光分解生成物と相
互作用することによってその色調を変える有機染料が少
なくとも一種類以上用いられる。このような有機染料と
しては、ジフェニルメタン系、トリアリールメタン系、
チアジン系、オキサジン系、フェナジン系、キサンテン
系、アントラキノン系、イミノナフトキノン系、アゾメ
チン系の色素を用いることができる。具体的には次のよ
うなものである。 【0149】ブリリアントグリーン、エオシン、エチル
バイオレット、エリスロシンB、メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノール
フタレイン、1,3-ジフェニルトリアジン、アリザリ
ンレッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、チモールス
ルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレン
ジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、2,7-
ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴー
レッド、ベンゾプルプリン4B、α-ナフチルレッド、
ナイルブルー2B、ナイルブルーA、フエナセタリン、
メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシ
ン、オイルブルー#603〔オリエント化学工業(株)
製〕、オイルピンク#312〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルレッド5B〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルスカーレット#308〔オリエント
化学工業(株)製〕、オイルレッドOG〔オリエント化
学工業(株)製〕、オイルレッドRR〔オリエント化学
工業(株)製〕、オイルグリーン#502〔オリエント
化学工業(株)製〕、スピロンレッドBEHスペシャル
〔保土谷化学工業(株)製〕、ビクトリアピュアーブル
ーBOH〔保土谷化学工業(株)製〕、 【0150】パテントピュア-ブルー〔住友三国化学工
業(株)製〕、スーダンブルーII〔BASF社製〕、m
-クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミン
B、ローダミン6G、ファーストアッシドバイオレット
R、スルホローダミンB、オーラミン、4-p-ジエチル
アミノフェニルイミノナフトキノン、2-カルボキシア
ニリノ-4-p-ジエチルアミノフェニルイミノナフトキ
ノン、2-カルボステアリルアミノ-4-p-ジヒドロオキ
シエチル-アミノ-フェニルイミノナフトキノン、p-メ
トキシベンゾイル-p′-ジエチルアミノ-o′-メチルフ
ェニルイミノアセトアニリド、シアノ-p-ジエチルアミ
ノフェニルイミノアセトアニリド、1-フェニル-3-メ
チル-4-p-ジエチルアミノフェニルイミノ-5-ピラゾ
ロン、1〜β〜ナフチル-4-p-ジエチルアミノフェニ
ルイミノ-5-ピラゾロン等。 【0151】特に好ましい有機染料は、トリアリールメ
タン系染料である。トリアリールメタン系染料では、特
開昭62-2932471号公報、特許第296902
1号公報に示されているような対アニオンとしてスルホ
ン酸化合物を有するものが特に有用である。これらの染
料は単独又は混合して使用することができ、添加量は感
光性組成物の総重量に対して0.3〜15重量%が好ま
しい。また必要に応じて他の染料、顔料と併用でき、そ
の使用量は染料及び顔料の総重量に対して70重量%以
下、より好ましくは50重量%以下である。 【0152】本発明は上記のポジ型平版印刷版用原版
(ポジ型PS版ともいう)のほかにも、例えば次のタイ
プの平版印刷版材料にも同様に用いることができる。 (1) アルカリ可溶バインダー、酸発生剤、酸(熱)
架橋性化合物を含むネガ型のレーザー直描型平版印刷材
料。 (2)光熱変換剤/熱ラジカル発生剤/ラジカル重合性
化合物を含有するネガ型のレーザー直描型平版印刷版 【0153】(1)に使用するアルカリ可溶バインダー
は前記と同様のものであり、酸発生剤は従来公知のもの
を使用することができる。酸(熱)架橋性化合物とは、
酸の存在下で架橋する化合物を指し、例えば、ヒドロキ
シメチル基、アセトキシメチル基、若しくはアルコキシ
メチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環
化合物が挙げられるが、その中でも好ましい例として、
フェノール類とアルデヒド類を塩基性条件下で縮合させ
た化合物が挙げられる。前記の化合物のうち好ましいも
のとしては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドを
前記のように塩基性条件下で縮合させた化合物、同様に
して、m-クレゾールとホルムアルデヒドから得られる
化合物、ビスフェノールAとホルムアルデヒドから得ら
れる化合物、4,4′-ビスフェノールとホルムアルデ
ヒドから得られる化合物、その他、GB第2,082,
339号にレゾール樹脂として開示された化合物等が挙
げられる。 【0154】これらの酸架橋性化合物は、重量平均分子
量が500〜100,000で数平均分子量が200〜
50,000のものが好ましい。他の好ましい例として
は、EP-A第0,212,482号に開示されている
アルコキシメチル又はオキシラニルメチル基で置換され
た芳香族化合物、EP-A第0,133,216号、D
E-A第3,634,671号、DE第3,711,2
64号に開示された単量体及びオリゴマーメラミン-ホ
ルムアルデヒド縮合物並びに尿素-ホルムアルデヒド縮
合物、EP-A第0,212,482号に開示されたア
ルコキシ置換化合物等がある。さらに他の好ましい例
は、例えば、少なくとも2個の遊離N-ヒドロキシメチ
ル、N-アルコキシメチル又はN-アシルオキシメチル基
を有するメラミン-ホルムアルデヒド誘導体である。こ
のなかでは、N-アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。 【0155】また、低分子量又はオリゴマーシラノール
は、ケイ素含有架橋剤として使用できる。これらの例
は、ジメチル-及びジフェニル-シランジオール、並びに
既に予備縮合され且つこれらの単位を含有するオリゴマ
ーであり、例えば、EP-A第0,377,155号に
開示されたものを使用できる。アルコキシメチル基でポ
リ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のなかで
は、ヒドロキシル基に隣接する位置にアルコキシメチル
基を有し、且つそのアルコキシメチル基のアルコキシ基
が炭素数18以下の化合物を好ましい例として挙げるこ
とができ、特に好ましい例として、下記一般式(B)〜
(E)の化合物を挙げることができる。 【0156】 【化61】 【0157】式中L1〜L8は同じであっても異なってい
てもよく、メトキシメチル、エトキシメチル等のように
炭素数18以下のアルコキシ基で置換された、アルコキ
シメチル基を示す。これらは架橋効率が高く、耐刷性を
向上させることができる点で好ましい。上記の熱により
架橋する化合物は、1種類のみで使用してもよいし、2
種類以上を組み合わせて使用してもよい。本発明に使用
される酸架橋性化合物は、平版印刷版材料の全固形分
中、5〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、特
に好ましくは20〜70重量%の添加量で用いられる。
酸架橋性化合物の添加量が5重量%未満であると得られ
る平版印刷版材料の感光層の耐久性が悪化し、また、8
0重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。 【0158】(2)に使用される素材の具体例として
は、その主な成分として、付加重合可能なエチレン性二
重結合を含む化合物、熱ラジカル発生剤、光熱変換剤等
を含むものである。 【0159】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましく
は2個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量
体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつもので
ある。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が
あげられる。 【0160】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリト-ルペンタアクリレ-
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。 【0161】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3-ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリト-ルペンタメタアクリレ-
ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテ
トラメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ
-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタ
ン、ビス-〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニ
ル〕ジメチルメタン等がある。 【0162】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3-ブタンジオールジイタコネート、
1,4-ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。 【0163】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。 【0164】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス-アクリルアミド、メチレンビス-メタクリルア
ミド、1,6-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、
1,6-ヘキサメチレンビス-メタクリルアミド、ジエチ
レントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビス
アクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が
ある。その他の例としては、特公昭48-41708号
公報中に記載されている1分子中に2個以上のイソシア
ネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の
一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマ
ーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。 CH2=C(R5)COOCH2CH(R6)OH (A) (ただし、R5およびR6はHあるいはCH3を示す。) 【0165】また、特開昭51-37193号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48-
64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-
30490号各公報に記載されているようなポリエステ
ルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアク
リレートやメタクリレートをあげることができる。さら
に日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜308
ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴ
マーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの二重結合を含む化合物の使用量は、
全成分に対して5〜70重量%(以下%と略称す
る。)、好ましくは10〜50%である。 【0166】熱ラジカル発生剤としては、従来公知の光
重合開始剤として用いられている多くのものが有用であ
る。また、アゾビス化合物(アゾビスイソブチロニトリ
ル)やジアゾニウム化合物等も熱重合開始剤として使用
できる。また、光熱変換剤は、前記と同様のものであ
る。 【0167】その他本発明の組成物中には、画像のイン
キ着肉性を向上させるための、疎水基を有する各種樹
脂、例えばオクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹
脂、t-ブチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、t-
ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変性
ノボラック樹脂、及びこれら変性ノボラック樹脂のo-
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル等;塗膜の可
撓性を改良するための可塑剤、例えばフタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジオクチル、ブチルグリコレート、リン酸
トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等、種々の目的に
応じて各種添加剤を加えることができる。これらの添加
量は組成物全重量に対して、0.01〜30重量%の範
囲が好ましい。 【0168】更にこれらの組成物中には、皮膜の耐摩耗
性を更に向上させるための公知の樹脂を添加できる。こ
れらの樹脂としては、例えばポリビニルアセタール樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹
脂、ナイロン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等があ
り、単独または混合して使用することができる。添加量
は組成物全重量に対して、2〜40重量%の範囲が好ま
しい。 【0169】また、本発明における感光性組成物中に
は、現像のラチチュードを広げるために、特開昭62-
251740号公報や、特開平4-68355号公報に
記載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭5
9-121044号公報、特開平4-13149号公報に
記載されているような両性界面活性剤を添加することが
できる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、ソル
ビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(ア
ミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、アモーゲンK(商品名、第一工業製薬
(株)製、N-テトラデシル-N,N-ベタイン型)、2-
アルキル-N-カルボキシエチル-N-ヒドロキシエチルイ
ミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋化
成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げられ
る。上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤の感光
性組成物中に占める割合は0.05〜15重量%が好ま
しく、より好ましくは、0.1〜5重量%である。 【0170】塗布面質の向上;本発明における感光性組
成物中には、塗布面質を向上するための界面活性剤、例
えば、特開昭62-170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全感光性組成物の0.001〜1.
0重量%であり、更に好ましくは0.005〜0.5重
量%である。 【0171】また本発明における感光性組成物中には黄
色系染料、好ましくは417nmの吸光度が436nm
の吸光度の70%以上ある黄色系染料を添加することが
できる。 【0172】本発明のフッ素系ポリマーを含んだ感光性
樹脂組成物から平版印刷版用感光材料を得る場合には、
まずそれが適当な支持体上に画像形成層として設けられ
る。本発明のフッ素系ポリマーを含んだ感光性樹脂組成
物は、下記の有機溶剤の単独あるいは混合したものに溶
解または分散され、支持体に塗布され乾燥される。有機
溶剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できる
が、沸点40℃〜200℃、特に60℃〜160℃の範
囲のものが、乾燥の際における有利さから選択される。
勿論、本発明の界面活性剤が溶解するものを選択するの
が良い。 【0173】有機溶剤としては、例えばメチルアルコー
ル、エチルアルコール、n-またはイソ-プロピルアルコ
ール、n-またはイソ-ブチルアルコール、ジアセトンア
ルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メ
チルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチル
シクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メトキ
シベンゼン等の炭化水素類、エチルアセテート、n-ま
たはイソ-プロピルアセテート、n-またはイソ-ブチル
アセテート、エチルブチルアセテート、ヘキシルアセテ
ート等の酢酸エステル類、メチレンジクロライド、エチ
レンジクロライド、モノクロルベンゼン等のハロゲン化
物、イソプロピルエーテル、n-ブチルエーテル、ジオ
キサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル類、 【0174】エチレングリコール、メチルセロソルブ、
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、ジエ
チルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブアセテート、メトキシメトキシ
エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、3-メチル-3-メトキシブタノール等の
多価アルコールとその誘導体、ジメチルスルホキシド、
N,N-ジメチルホルムアミド等の特殊溶剤などが単独
あるいは混合して好適に使用される。そして、塗布する
組成物中の固形分の濃度は、2〜50重量%とするのが
適当である。 【0175】本発明の組成物の塗布方法としては、例え
ばロールコーティング、ディップコーティング、エアナ
イフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオ
フセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレー
ドコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレ
ーコーティング等の方法が用いられ、乾燥後の重量にし
て0.3〜4.0g/m2が好ましい。塗布量が小さく
なるにつれて画像を得るための露光量は小さくて済む
が、膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつれ、露
光量を必要とするが感光膜は強くなり、例えば、印刷版
として用いた場合、印刷可能枚数の高い(高耐刷の)印
刷版が得られる。 【0176】支持体上に塗布された感光性組成物の乾燥
は、通常加熱された空気によって行われる。加熱は30
℃〜200℃特に、40℃〜140℃の範囲が好適であ
る。乾燥の温度は乾燥中一定に保たれる方法だけでなく
段階的に上昇させる方法も実施し得る。また、乾燥風は
除湿することによって好結果が得られる場合もある。加
熱された空気は、塗布面に対し0.1m/秒〜30m/
秒、特に0.5m/秒〜20m/秒の割合で供給するの
が好適である。 【0177】マット層;上記のようにして設けられた感
光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真
空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マッ
ト層を設けることが好ましい。具体的には、特開昭50
-125805号、特公昭57-6582号、同61-2
8986号の各公報に記載されているようなマット層を
設ける方法、特公昭62-62337号公報に記載され
ているような固体粉末を熱融着させる方法などが挙げら
れる。 【0178】感光性平版印刷版等に使用される支持体
は、寸度的に安定な板状物であり、これ迄印刷版の支持
体として使用されたものが含まれ、好適に使用すること
ができる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス
(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン
など)がラミネートされた紙、例えばアルミニウム(ア
ルミニウム合金も含む)、亜鉛、鉄、銅などのような金
属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプ
ラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネー
トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム
などが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。ア
ルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属
とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物
は、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得
る程度の量の不純物をも含むものである。 【0179】支持体は、必要に応じて表面処理される。
例えば感光性平版印刷版の場合には、支持体の表面に、
親水化処理が施される。また金属、特にアルミニウムの
表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸
ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水
溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処
理がなされていることが好ましい。また、米国特許第
2,714,066号明細書に記載されているように、
砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬処理し
たアルミニウム板、米国特許第3,181,461号明
細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化
処理を行った後にアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬
処理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理
は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機
酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上
を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として
電流を流すことにより実施される。 【0180】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上
させる為に施されるものである。アルミニウム板を砂目
立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去
すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるために
その表面の前処理を施しても良い。前者のためには、ト
リクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又
後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われてい
る。 【0181】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭54-31187号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭55-137993号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.0μm
となるような範囲で施されることが好ましい。このよう
にして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水
洗および化学的にエッチングされる。 【0182】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等の
エッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用
するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間1
分あたり0.3グラムから40g/m2になる様に行な
われるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回
るものであっても差支えない。 【0183】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が0.5
〜10g/m2の範囲となるように処理されることが好
ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速
度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが
望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デ
スマット処理される。デスマット処理に使用される酸
は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ
化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミ
ニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極
酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行な
うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム
酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等
あるいはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非
水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流す
と、アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させ
ることができる。 【0184】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70
℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜10
0V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法および米国特許第3,511,
661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化さ
れ、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応
じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米
国特許第2,714,066号及び同第3,181,4
61号に開示されているようなアルカリ金属シリケー
ト、例えばケイ酸ナトリウム水溶液または特公昭36-
22063号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸
カリウムおよび米国特許第4,153,461号明細書
に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理す
る方法がある。 【0185】有機下塗層;本発明の感光性平版印刷版に
は感光層を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画
像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる有機下
塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキ
シメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2
-アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホス
ホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、
ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホ
スホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホス
ホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフ
ェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸および
グリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよ
いフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アル
キルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有
機ホスフィン酸、グリシンやβ-アラニンなどのアミノ
酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒド
ロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれる
が、二種以上混合して用いてもよい。 【0186】その他ポリ(p-ビニル安息香酸)などで
代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の
中から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いることが
できる。より具体的にはp-ビニル安息香酸とビニルベン
ジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、p-ビニル
安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロ
リドとの共重合体などがあげられる。 【0187】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05
〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましく
は25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、
好ましくは2秒〜1分である。 【0188】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1
〜12の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。さらにこの溶液には、下記一般式(a)
で示される化合物を添加することもできる。 一般式(a) (HO)x-R5-(COOH)y 但し、R5は置換基を有してもよい炭素数14以下のア
リーレン基を表し、x,yは独立して1から3の整数を
表す。上記一般式(a)で示される化合物の具体的な例
として、3-ヒドロキシ安息香酸、4-ヒドロキシ安息香
酸、サリチル酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、2-ヒ
ドロキシ-1-ナフトエ酸、2-ヒドロキシ-3-ナフトエ
酸、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、10-ヒドロキシ-
9-アントラセンカルボン酸などが挙げられる。有機下
塗層の乾燥後の被覆量は、1〜100mg/m2が適当
であり、好ましくは2〜70mg/m2である。上記の
被覆量が2mg/m2より少ないと十分な耐刷性能が得
られない。また、100mg/m2より大きくても同様
である。 【0189】バックコート;支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平5-45885号公報記載の有機高分子
化合物および特開平6-35174号公報記載の有機ま
たは無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得ら
れる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC25)
4、Si(OC37)4、Si(OC49)4などのケイ素のア
ルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる
金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好まし
い。 【0190】上記のようにして作成された平版印刷版
は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光に用い
られる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に
発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レ
ーザが特に好ましい。 【0191】本発明の感光性樹脂組成物を用いる平版印
刷版の現像液として好ましいものは、(a)非還元糖か
ら選ばれる少なくとも一種の糖類および(b)少なくと
も一種の塩基を含有し、pHが9.0〜13.5の範囲
にある現像液である。以下この現像液について詳しく説
明する。なお、本明細書中において、特にことわりのな
い限り、現像液とは現像開始液(狭義の現像液)と現像
補充液とを意味する。 【0192】この現像液は、その主成分が、非還元糖か
ら選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種
の塩基からなり、液のpHが9.0〜13.5の範囲で
あることが好ましい。かかる非還元糖とは、遊離のアル
デヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類で
あり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖
類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素
添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適
に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロー
スやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配
糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げら
れる。また糖アルコールとしてはD,L-アラビット、
リビット、キシリット、D,L-ソルビット、D,L-マ
ンニット、D,L-イジット、D,L-タリット、ズリシ
ットおよびアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖
類の水素添加で得られるマルチトールおよびオリゴ糖の
水素添加で得られる還元体(還元水あめ)が好適に用い
られる。これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコ
ールとサッカロースであり、特にD-ソルビット、サッ
カロース、還元水あめが適度なpH領域に緩衝作用があ
ることと、低価格であることで好ましい。 【0193】これらの非還元糖は、単独もしくは二種以
上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める
割合は0.1〜30重量%が好ましく、更に好ましく
は、1〜20重量%である。この範囲以下では十分な緩
衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃
縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。尚、還
元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐色
に変色し、pHも徐々に下がり、よって現像性が低下す
るという問題点がある。 【0194】非還元糖に組み合わせる塩基としては従来
より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リ
ン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモ
ニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン
酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸
カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が
挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n-ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。 【0195】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいの
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである、その理由
は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより
広いpH領域でpH調整が可能となるためである。ま
た、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用がある
ので好ましい。これらのアルカリ剤は現像液のpHを
9.0〜13.5の範囲になるように添加され、その添
加量は所望のpH、非還元糖の種類と添加量によって決
められるが、より好ましいpH範囲は10.0〜13.
2である。 【0196】現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基
からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液
として用いられる弱酸としては、解離定数(pKa)が
10.0〜13.2のものが好ましい。このような弱酸
としては、Pergamon Press社発行のIONISATION CONSTAN
TS OFORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記載さ
れているものから選ばれ、例えば2,2,3,3-テト
ラフルオロプロパノール-1(PKa12.74)、ト
リフルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエ
タノール(同12.24)などのアルコール類、ピリジ
ン-2-アルデヒド(同12.68)、ピリジン-4-アル
デヒド(同12.05)などのアルデヒド類、サリチル
酸(同13.0)、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(同
12.84)、カテコール(同12.6)、没食子酸
(同12.4)、スルホサリチル酸(同11.7)、
3,4-ジヒドロキシスルホン酸(同12.2)、3,
4-ジヒドロキシ安息香酸(同11.94)、1,2,
4-トリヒドロキシベンゼン(同11.82)、ハイド
ロキノン(同11.56)、ピロガロール(同11.3
4)、o-クレゾール(同10.33)、レゾルシノー
ル(同11.27)、p-クレゾール(同10.2
7)、m-クレゾール(同10.09)などのフェノー
ル性水酸基を有する化合物、 【0197】2-ブタノンオキシム(同12.45)、
アセトキシム(同12.42)、1,2-シクロヘプタ
ンジオンジオキシム(同12.3)、2-ヒドロキシベ
ンズアルデヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグ
リオキシム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム
(同11.37)、アセトフェノンオキシム(同11.
35)などのオキシム類、アデノシン(同12.5
6)、イノシン(同12.5)、グアニン(同12.
3)、シトシン(同12.2)、ヒポキサンチン(同1
2.1)、キサンチン(同11.9)などの核酸関連物
質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸(同12.
32)、1-アミノ-3,3,3-トリフルオロ安息香酸
(同12.29)、イソプロピリデンジホスホン酸(同
12.10)、1,1-エチリデンジホスホン酸(同1
1.54)、1,1-エチリデンジホスホン酸1-ヒドロ
キシ(同11.52)、ベンズイミダゾール(同12.
86)、チオベンズアミド(同12.8)、ピコリンチ
オアミド(同12.55)、バルビツル酸(同12.
5)などの弱酸が挙げられる。 【0198】これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホ
サリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合
わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わ
せて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組
み合わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用さ
れる。 【0199】現像液には、現像性の促進や現像カスの分
散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要
に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ま
しい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノ
ニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。 【0200】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N-ビス-2-ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオ
キシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂
肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イ
オン性界面活性剤、 【0201】脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキ
シアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、
ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、N-メチル-N-オレイルタウリンナトリウム
塩、N-アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム
塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキ
ルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エス
テル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、 【0202】ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物
類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テ
トラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウ
ム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリ
エチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性
剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スル
ホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類
などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活
性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキ
シメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレ
ンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもで
き、それらの界面活性剤もまた包含される。 【0203】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に0.001〜10重量
%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加さ
れる。 【0204】現像液には、種々の現像安定化剤を用いる
ことができる。それらの好ましい例として、特開平6-
282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレン
グリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキ
シドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチ
ルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩および
ジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム
塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭50
-51324号公報記載のアニオン界面活性剤または両
性界面活性剤、また特開昭55-95946号公報記載
の水溶性カチオニックポリマー、特開昭56-1425
28号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質
を挙げることができる。 【0205】更に、特開昭59-84241号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭60-111246号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭60-129750号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭61-215554号公報記載
の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭63-175858号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平2-39157号公
報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。 【0206】現像液には更に必要により有機溶剤が加え
られる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が
約10重量%以下のものが適しており、好ましくは5重
量%以下のものから選ばれる。例えば、1-フェニルエ
タノール、2-フェニルエタノール、3-フェニル-1-プ
ロパノール、4-フェニル-1-ブタノール、4-フェニル
-2-ブタノール、2-フェニル-1-ブタノール、2-フェ
ノキシエタノール、2-ベンジルオキシエタノール、o-
メトキシベンジルアルコール、m-メトキシベンジルア
ルコール、p-メトキシベンジルアルコール、ベンジル
アルコール、シクロヘキサノール、2-メチルシクロヘ
キサノール、3-メチルシクロヘキサノールおよび4-メ
チルシクロヘキサノール、N-フェニルエタノールアミ
ンおよびN-フェニルジエタノールアミンなどを挙げる
ことができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対
して0.1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤
の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつ
れ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これ
は界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いる
と有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の
確保が期待できなくなるからである。 【0207】現像液には更に還元剤を加えることができ
る。これは印刷版の汚れを防止するものであり、特に感
光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型感光性平版印刷
版を現像する際に有効である、好ましい有機還元剤とし
ては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メ
トキシキノン、レゾルシン、2-メチルレゾルシンなど
のフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒ
ドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好まし
い無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リ
ン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸お
よび亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。これ
らの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜
硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対し
て好ましくは、0.05〜5重量%の範囲で含有され
る。 【0208】現像液には更に有機カルボン酸を加えるこ
ともできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜
20の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸であ
る。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン
酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチ
ン酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特
に好ましいのは炭素数8〜12のアルカン酸である。ま
た炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分
かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸とし
てはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などに
カルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、o
-クロロ安息香酸、p-クロロ安息香酸、o-ヒドロキシ
安息香酸、p-ヒドロキシ安息香酸、o-アミノ安息香
酸、p-アミノ安息香酸、2,4-ジヒドロシ安息香酸、
2,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,6-ジヒドロキシ安
息香酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、3,5-ジヒド
ロキシ安息香酸、没食子酸、1-ヒドロキシ-2-ナフト
エ酸、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、2-ヒドロキシ-
1-ナフトエ酸、1-ナフトエ酸、2-ナフトエ酸などが
あるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。 【0209】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、0.1重量%より低いと効果が十分でなく、また1
0重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
0.1〜10重量%であり、より好ましくは0.5〜4
重量%である。 【0210】現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、
着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤などを含有さ
せることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリ
ン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモ
ニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレント
リアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニト
リロトリ酢酸、1,2-ジアミノシクロヘキサンテトラ
酢酸および1,3-ジアミノ-2-プロパノールテトラ酢
酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウ
ム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ
(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メ
チレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メ
チレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ
(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリ(メチレンホスホン酸)および1-ヒドロキ
シタエン-1,1-ジホスホン酸やそれらのナトリウム
塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げることがで
きる。 【0211】このような硬水軟化剤はそのキレート化と
使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値が
変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液
に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.
5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量では
所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より
多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてく
る。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時
よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用
時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利であ
る。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさ
ない程度が適当である。 【0212】本発明の感光性組成物を用いる平版印刷版
の現像液としてはまた、特開平6-282079号公報
記載の現像液も使用できる。これは、SiO2/M2
(Mはアルカリ金属を示す)のモル比が0.5〜2.0
の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を4以上有する糖アル
コールに5モル以上のエチレンオキシドを付加して得ら
れる水溶性エチレンオキシド付加化合物を含有する現像
液である。糖アルコールは糖のアルデヒド基およびケト
ン基を還元してそれぞれ第一、第二アルコール基とした
ものに相当する多価アルコールである。糖アルコールの
貝体的な例としては、D,L-トレイット、エリトリッ
ト、D,L-アラビット、リビット、キシリット、D,
L-ソルビット、D,L-マンニット、D,L-イジッ
ト、D,L-タリット、ズルシット、アロズルシットな
どであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、テト
ラ、ペンタおよびヘキサグリセリンなども挙げられる。
上記水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖アルコ
ール1モルに対し5モル以上のエチレンオキシドを付加
することにより得られる。さらにエチレンオキシド付加
化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解性が
許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。これら
のエチレンオキシド付加化合物は単独もしくは二種以上
を組み合わせて用いてもよい。これらの水溶性エチレン
オキシド付加化合物の添加量は現像液(使用液)に対し
て0.001〜5重量%が適しており、より好ましくは
0.001〜2重量%である。 【0213】この現像液にはさらに、現像性の促進や現
像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める
目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。 【0214】かかる組成の現像液で現像処理されたPS
版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや
保護ガム液で後処理を施される。本発明のPS版の後処
理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることがで
きる。 【0215】近年、型版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、PS版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、PS版を搬送する装置と、各処理液槽お
よびスプレー装置からなり、露光済みのPS版を水平に
搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレー
ノズルから吹き付けて現像および後処理するものであ
る。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中
ガイドロールなどによってPS版を浸漬搬送させて現像
処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に
供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで
再利用する方法も知られている。 【0216】このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼動時間等に応じてそれぞれの補充液を補充
しながら処理することができる。また、実質的に未使用
の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用で
きる。このような処理によって得られた平版印刷版はオ
フセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられ
る。 【0217】 【実施例】以下本発明を実施例に基づいて更に説明す
る。ただし本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。 【0218】(実施例1〜9、比較例1〜3) 〔支持体の作製〕JIS A 1050アルミニウムシ
ートをパミス−水懸濁液を研磨剤として回転ナイロンブ
ラシで表面を砂目立てした。このときの表面粗さ(中心
線平均粗さ)は0.5μmであった。水洗後、10%苛
性ソーダ水溶液を70℃に温めた溶液中に浸漬して、ア
ルミニウムの溶解量が6g/m3になるようにエッチン
グした。水洗後、30%硝酸水溶液に1分間浸漬して中
和し、十分水洗した。その後に、0.7%硝酸水溶液中
で、陽極時電圧13ボルト、陰極時電圧6ボルトの矩形
波交番波形電圧を用いて20秒間電解粗面化を行ない、
20%硫酸の50℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した
後、水洗した。粗面化後のアルミニウムシートに、20
%硫酸水溶液中で直流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成
処理を行なった。電流密度5A/dm2で電解を行な
い、電解時間を調節して、表面に重量4.0g/m2
陽極酸化皮膜を有する基板を作製した。この基板を10
0℃1気圧において飽和した蒸気チャンバーの中で10
秒間処理して封孔率60%の基板(a)を作成した。基
板(a)をケイ酸ナトリウム2.5重量%水溶液で30
℃10秒間処理して表面親水化を行なった後、下記下塗
り液を塗布し、塗膜を80℃で15秒間乾燥し平版印刷
版用支持体〔A〕を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は15
mg/m2であった。 【0219】 〔下塗り液〕 ・分子量2.8万の下記共重合体 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g 【0220】 【化62】 【0221】〔記録層の形成〕得られた下塗り済の支持
体〔A〕に以下の感光液1を塗布量が1.8g/m2
なるよう塗布、乾燥して感光層(記録層)を形成し、平
版印刷版用原版1を得た。 【0222】 〔感光液1〕 ・ノボラック樹脂 1.0g (重量平均分子量、7,000、未反応クレゾール0.5重量%) ・シアニン染料A(下記構造) 0.1g ・無水フタル酸 0.05g ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・エチルバイオレットの対イオンを 6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.02g ・フッ素系ポリマーC 表4参照 ・フッ素系ポリマーD 表4参照 ・メチルエチルケトン 12g 【0223】 【化63】 【0224】(実施例10〜21、比較例4〜6) 【0225】以下の感光液2を調整した。実施例1で用
いたのと同じ支持体〔A〕基板に、この感光液2を塗布
量が1.3g/m2になるように塗布、乾燥して感光層
を形成し、平版印刷版用原版2を得た。 【0226】 〔感光液2〕 ・共重合体1(以下に詳述する) 0.75g ・ノボラツク樹脂 0.25g (重量平均分子量、4,500、未反応クレゾール0.4重量%) ・p−トルエンスルホン酸 0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g ・シアニン染料A 0.017g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 0.015g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロリン酸塩 0.02g ・ステアリン酸n−ドデシル 0.03g ・フッ素系ポリマーC 表4参照 ・フッ素系ポリマーD 表4参照 ・γ−ブチルラクトン 10g ・メチルエチルケトン 10g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8g 【0227】〔共重合体1の合成〕攪拌後、冷却管及び
滴下ロートを備えた500ml三ツ口フラスコにメタク
リル酸31.0g(0.36モル)、クロロギ酸エチル
39.1g(0.36モル)及びアセトニトリル200
mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。
この混合物にトリエチルアミン36.4g(0.36モ
ル)を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下
終了後、氷水浴をとり去り、室温下で30分間混合物を
攪拌した。 【0228】この反応混合物に、p−アミノべンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。 【0229】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.01
92モル)、メタクリル酸エチル2.58g(0.02
58モル)、アクリロニトリル0.80g(0.015
モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61
g、メタクリル酸メチル2.58g、アクリロニトリル
0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及び「V−
65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルに
この水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの特定の共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。 【0230】(実施例22〜30、比較例7〜9)実施
例1で用いたのと同じ支持体〔A〕基板に、以下の感光
液3Aを塗布し、100℃で2分間乾燥して、(A)層
を形成した。乾燥後の塗布量は1.04g/m2であっ
た。その後、以下の感光液3Bを塗布し、100℃で2
分間乾燥して、(B)層(上層)を形成し、平版印刷版
用原版3を得た。乾燥後の感光液の合計塗布量は1.2
g/m2であった。 【0231】 〔感光液3A〕 ・共重合体1 0.75g ・シアニン染料A 0.04g ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.015g ・フッ素系ポリマーC 表4参照 ・γ−ブチルラクトン 8g ・メチルエチルケトン 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7g 【0232】 〔感光液3B〕 ・ノボラック樹脂 0.25g (重量平均分子量、4,500、未反応クレゾール0.5重量%) ・シアニン染料A 0.05g ・ステアリン酸n−ドデシル 0.02g ・フッ素系ポリマーC 表4参照 ・フッ素系ポリマーD 表4参照 ・メチルエチルケトン 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7g 【0233】 【表4】【0234】〔塗布面性〕得られた印刷物を目視でムラ
がないか判断した。ムラが無いものを○、ややムラがあ
るものを△、ムラが激しいものを×とした。結果を表5
に示す。 【0235】〔耐刷性〕 (1)上記で得られた平版印刷版用原版1〜3をプレー
トセッター(TrendSetter 3244F、ク
レオ社製)を用いて、回転数150rpm、出力6Wの
条件で、版面エネルギー量が94mJ/cm2となるよ
うに露光した。ついで、浸せき型現像槽を有する市販の
自動現像機(LP−900H、富士写真フイルム(株)
製)の現像処理槽に、下記組成のアルカリ現像液を20
L仕込み、30℃に保温した。LP−900Hの第二浴
には、水道水を8L仕込み、第三浴には、FP−2W
(富士写真フイルム(株)製)を水で1:1に希釈した
フィニッシングガム液を8L仕込んだ。露光した平版印
刷版用原版をこの自動現像機を用いて、現像し、平版印
刷版1〜3を得た。尚、実施例1〜9、比較例1〜3は
アルカリ現像液Aを、実施例10〜30、比較例4〜9
はアルカリ現像液Bを用いた。 【0236】 <アルカリ現像液A組成> ・SiO2・K2O(K2O/SiO2=1/1(モル比)) 4.0質量% ・クエン酸 0.5質量% ・ポリエチレングリコール(重量平均分子量1,000) 0.5質量% ・水 95.0質量% 【0237】 <アルカリ現像液B組成> ・Dソルビット 2.5質量% ・水酸化ナトリウム 0.85質量% ・ジエチレントリアミンペンタ(メチレンスルホン酸)5Na塩 0.05質量 % ・水 96.6質量% 【0238】上記で得られた平版印刷版を印刷機(KO
R−D機、ハイデルベルグ社製)で印刷し、耐刷性を評
価した。耐刷性は、印刷初期の画質が維持できなくなっ
たと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を
評価した。尚、いずれの平版印刷版を用いた場合も、印
刷中に非画像部へのインキの付着は観察されなかった。
結果を表5に示す。 【0239】 【表5】 【0240】表5の結果より、本発明の画像形性方法を
適用することで、同じ平版印刷版用原版を用いた場合に
おいても、優れたハイライト再現性と耐刷性が実現でき
た。 【0241】〔耐傷性テスト〕得られた本発明の平版印
刷版用原版1〜3をHEIDON社製引っかき試験機を
用いてダイヤ(0.40mm)に荷重をかけてプレート
を引っかき、その後、前記と同様の現像液で現像し、傷
が視認できる荷重を表示した。数値が大きいほど耐傷性
に優れていると評価する。表5に明らかなように、本発
明に係る平版印刷版用原版は、同等に設定した電導度の
現像液で現像した場合において、比較例に比べて良好な
耐傷性を示した。 【0242】 【発明の効果】本発明により、平版印刷用原版の画像形
成層として用いる場合、その層の塗布面状が良好で、耐
刷性及び耐傷性に優れる感赤外線感光性組成物を提供す
ることができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a full structure of a specific structure.
To polymerize monomers containing one oroaliphatic group
Fluorine-containing polymer obtained and the fluoroaliphatic
Obtained by polymerizing monomers containing two or more groups
Infrared-sensitive photosensitive group containing a modified fluorine-containing polymer
The composition, and the infrared-sensitive composition, for example, an image forming layer
Concerning the new lithographic printing plate precursor contained in
Gives a uniform coating surface without causing any manufacturing failure, printing durability
That can provide a lithographic printing plate with excellent durability and scratch resistance
It relates to the original edition. [0002] 2. Description of the Related Art An original for a lithographic printing plate forms an image on a substrate.
It has the structure which provided the composition. The typical manufacturing process is
Coating and drying the image forming composition on the surface of the support
It is. Also, the typical plate making process is exposure, image formation
Image-forming layer in non-image area after causing physical property change in the layer
By carrying out treatment such as removal (development) of the hydrophilic support surface
Image consisting of non-image area consisting of face layer and surface layer of hydrophobic composition
A lithographic printing plate having an image portion is formed. Kakushi
In the typical printing process, the lithographic printing plate obtained is
Water-based non-image area is dampening water, and lipophilic image area is ink.
Receiving and forming an ink image on the surface. Inn obtained
Transfer images directly or indirectly to the desired print media
By doing so, printed matter can be obtained. Highly useful as the above lithographic printing plate precursor
1) High uniformity of image forming layer
2) The hydrophobicity of the image area is high and the non-image area is developed.
There is a technical problem of high removability. The uniformity of the image area is
Technically, it is mainly related to the above manufacturing process.
Master plates with insufficient uniformity are stable in high-quality, uniform prints.
It is not preferable because a large number of sheets cannot be provided. Ma
In addition, the high hydrophobicity of the image area means that in the plate making process.
By improving the durability against developer,
Obtaining resolving power, sufficient printing durability and printing in the printing process
This is important from the standpoint of obtaining solid meat. However,
The high hydrophobicity of the image area means that the developer, which is a commonly used developer, is used.
May cause reduced solubility in aqueous solution of Lucari
Development defects in the non-image area and sludge formation in the developer.
Unfavorable results such as minute generation can occur. That is,
The hydrophobicity of the image area and the removability of the non-image area are simply contradictory.
Is required for the image forming layer, and these are compatible
The development of possible technologies is a difficult and important issue. In response to such technical problems, an image forming composition is used.
Containing a polymer compound having a fluoroaliphatic group as
It is known that the use of various compositions is useful. Concrete
In particular, it is a machine for expressing the uniformity of the film due to the improvement of the surface activity.
Solution for development delay due to hydrophobicity
Hydrophobicity and non-image of the image area by utilizing the erasing, hydrophobicity and orientation force
Disclosed the effect of high-contrast image formation through compatibility of image area removability
Has been. For example, in JP 2000-187318 A
Uses monomer units with two or more fluoroaliphatic groups
Solubility of image area and non-image area by the polymer compound used
An image forming material with excellent discrimination is obtained.
Is disclosed. As mentioned above, containing fluoroaliphatic compounds
The image forming layer to be used as the image forming layer of the lithographic printing plate precursor
Effective as a method to achieve the common technical problems 1) and 2)
It is effective. However, on the other hand, the effect is still sufficient.
No, for example, due to defective coating surface or deterioration of developer
For example, the fluctuation of image condition, printing durability, and scratch resistance are insufficient.
The actual situation is that improvement is desired. [0006] SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides the above-described conventional technique.
More specific, trying to overcome the drawbacks of the technology
As an example, it is used as an image forming layer of an original plate for lithographic printing.
The surface of the coated layer is good, printing durability and scratch resistance
To provide an infrared-sensitive photosensitive composition excellent in resistance
It is. [0007] [Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted intensive research.
As a result of, for example, the image forming layer of the lithographic printing plate precursor
Specific to infrared sensitive compositions that can be used in
By adding two types of fluoropolymers,
I found that the goal was achieved. That is, the present invention is as follows.
This is achieved by the above configuration. (1) (A) Water-insoluble alkaline water-soluble tree
Fat, (B) photothermal conversion agent, (C) represented by the following general formula (I)
Obtained by polymerizing a monomer containing one group
(D) the following general formula (I)
Polymerizing monomers containing two or more of the groups represented
A fluorine-containing polymer obtained by
A characteristic infrared-sensitive composition. [0009] [Chemical 2]In general formula (I), m is an integer from 1 to 6.
The number, n represents an integer from 1 to 6. [0011] BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, (C) the above-mentioned one according to the present invention will be described.
Polymerization of monomer containing one group represented by general formula (I)
Fluorine-containing polymer ("(C)
) ”(Sometimes abbreviated as“ polymer of ”)
Light up. In the above general formula (I), m is 1 or more and 6
Represents the following integer, preferably an integer from 1 to 4
The n represents an integer of 1 to 6, preferably 2 or more
It is an integer of 4 or less above, and a mixture of 2 to 4 may be used.
Yes. One of the polymers (C) according to the present invention
One of fluoroaliphatic groups which are groups represented by general formula (I)
Telomerization law (also called telomer law)
Or oligomerization method (also called oligomer method)
Derived from fluoroaliphatic compounds produced by
It will be. Production of these fluoroaliphatic compounds
Regarding the production method, for example, “Synthesis and mechanism of fluorine compounds”
Noh "(Supervision: Nobuo Ishikawa, Publisher: CMC Corporation,
1987) pages 117-118 and “Chemistry of
 Organic Fluorine Compounds II ”(Monograph 187, Ed
 by Milos Hudlicky and Attila E. Pavlath, American C
hemical Society 1995), pages 747-752
Has been. The telomerization method refers to iodide
Use alkyl halides with large chain transfer constants as telogens
Fluorine-containing vinyl such as tetrafluoroethylene
A method of synthesizing telomers by radical polymerization of compounds
Yes (an example is shown in Scheme-1). [0014] [Chemical 3] The terminal iodinated telomer obtained is usually
Appropriate terminal chemical modifications such as [Scheme2]
And led to fluoroaliphatic compounds. A combination of these
The product is further converted into the desired monomer structure as needed.
It is used for the production of fluoroaliphatic group-containing polymers. [0016] [Formula 4] One group represented by the general formula (I) of the present invention
The monomer contained is represented by the following general formula (II)
Monomers are preferred. [0018] [Chemical formula 5] In the general formula (II), R1Is a hydrogen atom
Or X represents an oxygen atom, a sulfur atom, -N
(RThree)-, -O-CH2-CH (OH)-, or -O-
CH 2CH2—NHC (═O) —O— is represented. Where RThree
Is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically
Represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
A hydrogen atom or a methyl group is preferable. X is oxygen field
A child is more preferred. R2Is represented by the above general formula (I)
Represents a group. Fluoro fat represented by the above general formula (II)
Examples of more specific monomers of group group-containing monomers are as follows:
I'll give you this, but not always. [0021] [Chemical 6][0022] [Chemical 7] [0023] [Chemical 8][0024] [Chemical 9] [0025] Embedded image[0026] Embedded image [0027] Embedded image[0028] Embedded imageThe polymer (C) of the present invention has the following general formula:
A repeating unit corresponding to the monomer represented by (III)
It is preferable to contain. [0030] Embedded image In the general formula (III), RFourIs a hydrogen atom,
Represents a methyl group, and Y represents a divalent linking group. Divalent consolidation
As the group, oxygen atom, sulfur atom, -N (R6-,
Etc. are preferred. Where R6Is a hydrogen atom having 1 to 4 carbon atoms
Alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl,
A butyl group or the like is preferable. R6The more preferred form of is hydrogen
An atom and a methyl group. Y is an oxygen atom, -N (H)
-, -N (CHThree)-Is more preferable. RFiveHas a substituent
May be a straight chain, branched or ring having 4 to 20 carbon atoms
Represents an alkyl group. RFiveAs a substituent of the alkyl group of
Hydroxyl group, alkylcarbonyl group, aryl carbo
Nyl group, carboxyl group, alkyl ether group, aryl
Ruether group, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.
Halogen atom, nitro group, cyano group, amino group, etc.
This is not the case. Directly from 4 to 20 carbon atoms
Chain, branched or cyclic alkyl groups include linear and branched
Butyl, pentyl, hexyl, hep
Til, octyl, nonyl, decyl, undecyl
Group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pen
Tadecyl group, octadecyl group, eicosanyl group, etc.
In addition, monocyclic cyclyl such as cyclohexyl group and cycloheptyl group.
Loalkyl group and bicycloheptyl group, bicyclodecyl
Group, tricycloundecyl group, tetracyclododecyl group
Group, adamantyl group, norbornyl group, tetracyclode
A polycyclic cycloalkyl group such as a sil group is preferably used.
The From the monomer represented by the general formula (III)
Specific examples include the monomers listed below.
There is no. [0033] Embedded image [0034] Embedded image [0035] Embedded image[0036] Embedded image [0037] Embedded image[0038] Embedded image [0039] Embedded image[0040] Embedded image [0041] Embedded image[0042] Embedded image [0043] Embedded image[0044] Embedded imageThe polymer (C) of the present invention is poly (oxy).
Sialkylene) acrylate and / or poly (oxya)
(Lucylene) containing repeating units corresponding to methacrylate
It is preferable to have. The polyoxyalkylene group is represented by (OR) x.
R is an alkyle having 2 to 4 carbon atoms.
-CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH (CHThree) CH2-,-
CH2CH2CH2CH2-Or-CH (CHThree) CH (CHThree)-
Good. x is a positive integer. Poly (oxyal)
The oxyalkylene unit in the (xylene) group is poly (oxypene).
The same oxyalkylene unit as in
It may consist of only oxypropylene units
And different oxyethylene units
2 or more oxyalkylene units are regular or irregular
It may be connected to the law. Bonded to the end of a poly (oxyalkylene) chain
The atom or group to be formed is a hydrogen atom or any other group
There may be a hydrogen atom, an alkyl group (preferably carbon
Prime number 1-20), allyl group (preferably carbon number 1-2)
0), an aryl group (for example, having 6 to 10 carbon atoms)
Is preferred. The aryl group is an alkyl group (for example, carbon number
1-10), may have a substituent such as a halogen atom
Yes. One or more poly (oxyalkylene) chains
Chain bonds (eg -CONH-Ph-NHCO-, -S-, etc .: Ph is
Can represent or be linked by a phenylene group)
The To provide branched oxyalkylene units,
Have a valence of 3 or more at the chain binding site
it can. The molecular weight of the poly (oxyalkylene) group is linked
250-3000 including a joint part is preferable. Poly (oxyalkylene) acrylates and
And methacrylate are commercially available hydroxypoly (oxya
Lucylene) material, such as the trade name “Pluronic” [Plur
onic (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Adeka Polyether (Asahi
Denka Kogyo Co., Ltd.) “Carbowax”
Co-Products)], "Triton" [Toriton (Rohm)
・ And Haas (Rohm and Haas) and P.E.G
(Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
Acrylic acid, methacrylic acid, acrylic
Lid, methacryl chloride or acrylic anhydride
It can be manufactured by adapting. Separately, in a known manner
Manufactured poly (oxyalkylene) diacrylate, etc.
It can also be used. As a commercially available monomer, Nippon Oil & Fats Co., Ltd.
Company-made hydroxyl-terminated polyalkylene glycol mono (medium
B) Blemmer PE-90, Blemmer P as acrylate
E-200, Blemmer PE-350, Blemmer AE-90, Blemma
ー AE-200 、 Blemmer AE-400 、 Blemmer PP-1000 、
Lemmer PP-500, Bremmer PP-800, Bremmer AP-15
0, Blemmer AP-400, Blemmer AP-550, Blemmer A
P-800, Blemmer 50PEP-300, Blemmer 70PEP-350B,
Blemmer AEP series, Blemmer 55PET-400, Blen
Mar 30PET-800, Blemmer 55PET-800, Blemmer AET
Series, Bremmer 30PPT-800, Bremmer 50PPT-80
0, Bremmer 70PPT-800, Bremmer APT series,
Lemmer 10PPB-500B, Bremer 10APB-500B, etc.
It is done. Similarly, alkyl-terminated poly made by NOF Corporation
As alkylene glycol mono (meth) acrylate
Blemmer PME-100, Blemmer PME-200, Blemmer PM
E-400, Blemmer PME-1000, Blemmer PME-4000,
Lemmer AME-400, Bremmer 50POEP-800B, Bremmer
50AOEP-800B, Blemmer PLE-200, Blemmer ALE-20
0, Blemmer ALE-800, Blemmer PSE-400, Blemma
-PSE-1300, Blemmer ASEP series, Blemmer PKEP
Series, Blemmer AKEP series, Blemmer ANE-30
0, Bremmer ANE-1300, Bremmer PNEP series,
Lemmer PNPE series, Bremmer 43ANEP-500, Blen
MER 70ANEP-550 etc.
Ester MC, light ester 130MA, light ester 041
MA, light acrylate BO-A, light acrylate EC-
A, light acrylate MTG-A, light acrylate 130
A, Light acrylate DPM-A, Light acrylate P-20
0A, light acrylate NP-4EA, light acrylate NP
-8EA etc. In the present invention, the general formula (I), which is an essential component, is used.
A monomer containing one group represented by
Lucylene) acrylate and / or poly (oxyal)
Kirene) Copolymer with methacrylate monomer is used
Poly (oxyethylene) acrylate and / or
Or contain poly (oxyethylene) methacrylate
Is more preferable. Where poly (oxyethylene) acrylic
Rate and / or poly (oxyethylene) methacrylate
Is a poly (oxyalkylene) acrylate and
/ Or poly (oxyalkylene) methacrylate mono
The only oxyalkylene group in the
It is a monomer consisting of The addition of this monomer is especially
Contributes to improved dispersibility and solubility. As a particularly preferred embodiment, the general formula (I)
A monomer containing one group represented by
Tylene) acrylate and / or poly (oxyethylene)
) Methacrylate and poly (oxyalkylene) acrylic
Rate and / or poly (oxyalkylene) methacrylate
A polymer that is a copolymer of three or more monomers
is there. In this case, poly (oxyalkylene) acrylic
Rate and / or poly (oxyalkylene) methacrylate
The rate is poly (oxyethylene) acrylate and / or
Or poly (oxyethylene) methacrylate
Li (oxyalkylene) acrylate and / or poly
(Oxyalkylene) methacrylate. Here, the poly (oxya) used in the present invention is used.
Lucylene) acrylate, poly (oxyalkylene)
Although a specific example of tacrylate is shown, this is not restrictive. still,
In the following specific examples, l, m, and n are the planes of the respective units.
Represents the degree of polymerization. Even if the degree of polymerization has a distribution,
It may be distributed. [] Represents a random polymer chain.
The [0053] Embedded image [0054] Embedded image[0055] Embedded image[0056] Embedded image[0057] Embedded image[0058] Embedded imageIn the present invention, the general formula (I) which is an essential component is included.
A monomer containing one group represented by
Lucylene) acrylate and / or poly (oxyal)
Kirene) methacrylate and poly (oxyethylene)
Chlorate and / or poly (oxyethylene) methacrylate
In addition to relate, react with monomers copolymerizable with these
Can be made. Copolymerization ratios of other copolymerizable monomers and
Is preferably 20 mol% or less of the total monomers, more preferably
Is 10 mol% or less. As such a monomer,
Polymer Handbook 2nd ed. ,
J. et al. Brandrup, Wiley lntersci
ence (1975) Chapter 2Page 1
The thing of -483 description can be used. For example
Rillic acid, methacrylic acid, acrylic esters, methacrylate
Rylates, acrylamides, methacrylamids
, Allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esthetics
At least an addition-polymerizable unsaturated bond selected from
Examples thereof include compounds having one compound. Specifically, the following monomers can be mentioned:
it can. Acrylic esters: methyl acrylate, acrylic acid
Ethyl, propyl acrylate, chloroethyl acrylate
, 2-hydroxyethyl acrylate, trimethylo
Lepropane monoacrylate, benzyl acrylate,
Methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate
, Tetrahydrofurfuryl acrylate, etc. Methacrylates: methyl methacrylate, methacrylate
Ethyl laurate, propyl methacrylate, chloroethyl ester
Tacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate,
Trimethylolpropane monomethacrylate, benzyl
Methacrylate, methoxybenzyl methacrylate,
Rufuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl meta
Crilate, etc. Acrylamides: Acrylamide, N-
Alkylacrylamide (the alkyl group has 1 carbon atom)
~ 3, such as methyl, ethyl, propyl
Group), N, N-dialkylacrylamide (alkyl group)
As those having 1 to 3 carbon atoms), N-hydroxyethyl
-N-methylacrylamide, N-2-acetamido
Chill-N-acetylacrylamide and the like. Methacrylamide: methacrylamide, N-alkyl
Methacrylamide (alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
Ones such as methyl, ethyl, propyl), N,
N-dialkylmethacrylamide (as alkyl group
Having 1 to 3 carbon atoms), N-hydroxyethyl-N-me
Tyl methacrylamide, N-2-acetamidoethyl
N-acetylmethacrylamide and the like. Allyl compounds: allyl esters (eg allyl acetate,
Allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate
, Allyl palmitate, Allyl stearate, Benzo
Allyl acid, allyl acetoacetate, allyl lactate, etc.), ants
Luoxyethanol etc. Vinyl ethers: alkyl vinyl ethers (eg
Xyl vinyl ether, octyl vinyl ether, deci
Vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether,
Toxiethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether
-Tel, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-
2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethyl
Butyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether
, Diethylene glycol vinyl ether, dimethyl alcohol
Minoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl
Ether, butylaminoethyl vinyl ether, ben
Zir vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether
-Tel etc. Vinyl esters: vinyl vinylate, vinyl isobuty
Rate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl
Acetate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl
Nyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl
Nyl methoxyacetate, vinyl butoxyacetate,
Vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate,
Vinyl cyclohexyl carboxylate and the like. Dialkyl itaconates: dimethyl itaconate
Chill, diethyl itaconate, dibutyl itaconate, etc. Dialkyl esters or monoalkyl esters of fumaric acid
Stealth: Dibutyl fumarate, etc. Others, crotonic acid, itaconic acid, acrylonitrile,
Methacrylonitrile, maleilonitrile, styrene
Do. It should be noted that the electrolytic hook, which has been favorably used in the past, has been used.
Some of the fluorine-based chemical products manufactured by the raw material method are
It is a substance with low biodegradability and low degradability, and its degree is light
There is concern about having reproductive toxicity and developmental toxicity though it is very small.
It is. Fluorochemical products according to the present invention are more environmentally safe
It is also an industrial advantage that it is a highly integrity substance.
It can be said. In the fluoropolymer used in the present invention,
A module containing one group of general formula (I) used
The amount of the nomer is based on each monomer of the polymer (C).
5 mol% or more, preferably 5 to 70 mol%
More preferably, it is the range of 7-60 mol%. General
The amount of the monomer represented by the formula (III) is the poly (C)
More than 5 mol% based on each monomer of monomer
5 to 70 mol%, more preferably 5 to 60 mol%.
Le%. Poly (oxyalkylene) acrylates and
And / or poly (oxyalkylene) methacrylate
The amount of the body is based on the total amount of each monomer of the polymer (C).
10 mol% or more, preferably 15 to 70 mol
%, More preferably 20 to 60 mol%. Po
Li (oxyethylene) acrylate and / or poly
The amount of (oxyethylene) methacrylate monomer
Poly (oxyalkylene) acrylate and / or poly
Used in combination with (oxyalkylene) methacrylate monomer
Is based on the total amount of each monomer of the polymer (C).
3 mol% or more, preferably 5 to 50 mol%
More preferably, it is 10-30 mol%. other
Poly (oxyalkylene) acrylate and / or poly
Do not use (oxyalkylene) methacrylate monomers
In the case where the total amount of each monomer of the polymer (C) is used.
10 mol% or more, preferably 15 to 70 mol
%, More preferably 20 to 60 mol%. The polymer (C) used in the present invention is preferred.
The preferred weight average molecular weight is 3000 to 100,000
Preferably, 6,000-80,000 is more preferable. Further, the polymer (C) used in the present invention.
The preferred addition amount is a photosensitive composition for the image forming layer.
0.005 to 8 times the product (coating component excluding solvent)
% By weight, preferably 0.01 to 5% by weight.
More preferably in the range of 0.05 to 3% by weight.
is there. The amount of the polymer (C) added is not 0.005% by weight.
If full, the effect is insufficient, and more than 8% by weight
If the coating film is not sufficiently dried,
Adversely affects the performance (for example, sensitivity). The polymer (C) of the present invention is a conventional one.
Can be manufactured by the method. For example, the fluoro mentioned above
(Meth) acrylates with aliphatic groups, polyoxya
Monomers such as (meth) acrylates having a ruxylene group
Add general-purpose radical polymerization initiator in organic solvent and polymerize
Can be manufactured. Or in some cases
Add other addition polymerizable unsaturated compounds, same as above
It can be manufactured by a method. Polymerizability of each monomer
The monomer and initiator are added dropwise to the reaction vessel.
The drop polymerization method, etc., to obtain a polymer with a uniform composition
It is effective for. In addition, a polymer with a high fluorine content
Is removed by column filtration, reprecipitation purification, solvent extraction, etc.
By doing so, repelling failures can be improved. Hereinafter, the polymer component (C) according to the present invention will be described.
A specific example is shown below, but not limited to this. In the formula
The numbers indicate the molar ratio of each monomer component. In the table, P-1 to P
-20 is fluorine monomer and poly (oxyalkylene)
Examples of copolymers with monomers are shown.
Nomers and poly (oxyalkylene) monomers and poly (o
An example of a terpolymer with a (xylene) monomer is shown. [0071] [Table 1][0072] [Table 2] [0073] Embedded image[0074] Embedded image[0075] Embedded image[0076] Embedded image[0077] Embedded image[0078] Embedded image [0079] Embedded image[0080] Embedded image [0081] Embedded image[0082] Embedded image [0083] Embedded image[0084] Embedded image [0085] Embedded image[0086] Embedded image Next, (D) of the present invention is represented by the general formula (I).
Polymerizing monomers containing two or more groups
Fluorine-containing polymer ("(D) polymer
-"). In general formula (I),
The description is the same as that in the polymer (C).
It is. In the present invention, it is represented by the general formula (I).
As a monomer containing two or more groups, the following general formula
The fluorine-containing monomer represented by (X) is preferable. Formula (X) [0088] Embedded image In the general formula (X), R1 Has 3-20 carbon atoms
Represents a perfluoroalkyl group. R1 The carbon
May represent a perfluoroalkenyl group of 3 to 20
Yes. These can be linear, branched, cyclic, or a combination
Any of the above can be used.
What the child intervened, eg (CFThree )2CFOCF2CF
2 -Etc. may be sufficient. Z1 Is-(CH2) N-(where n is 1
Represents an integer of ~ 6. ) Or a group represented by the following formula
(However, R2Is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 10 carbon atoms.
Represents a ru group. ). Here, in general formula (X), 2 or 3
Z included1Are two or three different connections
It may be a group. [0091] Embedded imageZ2Is-(CH2 ) M-(where m is 2
Represents an integer of ~ 6. ) Or a group represented by the following formula. [0093] Embedded image R is a hydrogen atom, a methyl group, or a halogen
Represents an atom (Cl, Br, etc.). X is represented by the following formula:
Represents a divalent linking group (provided that Y represents a carbon number of 15 or less.
And the weight ratio in the X group is 35 to 65%.
Represents a certain divalent linking group. ). [0095] Embedded image Here, representative of the divalent linking group represented by Y
Examples of typical ones include the following. [0097] Embedded image [0098] Embedded image P is 2 or 3, and q is 1 or 2. A
Is a trivalent or tetravalent linking group, for example, represented by the following formula:
Are preferred. [0100] Embedded image The following is represented by the above general formula (I) of the present invention.
Specific examples of monomers containing two or more groups
The present invention is not limited to these. [0102] Embedded image [0103] Embedded image [0104] Embedded image[0105] Embedded image The polymer (D) of the present invention further contains a hydrocarbon.
Contains repeating units corresponding to the base acrylate
It is preferable. As the hydrocarbon acrylate
Has one or two acryloyl groups
Known to those skilled in the art (for example, Kato Kiyomi and Nakahara Shoji)
3 in the book "Introduction to UV Curing Technology" (Polymer Publications)
4, Table 10 on page 35, Table 16 on page 46-48, Page 57
Table 20, compounds described in Table 60 etc. on pages 170 to 172)
For example, the following (B
-1 to B-9). [0107] Embedded imageSpecific examples of the polymer (D) of the present invention are as follows.
Examples are given, but the present invention is not limited thereto.
Yes. [0109] [Table 3]The molecular weight of the polymer (D) of the present invention is not particularly limited.
Although not limited to, the weight average molecular weight is 3,0.
The thing of 00-200,000 is preferable, 4,000-
More preferred is 100,000. (D)
The amount of polymer added is relative to the photosensitive composition (total solids)
0.01 to 10 wt% is preferable, 0.5 to 5 wt%
% Is more preferable. The infrared-sensitive photosensitive composition of the present invention includes
(A) Water-insoluble alkaline water-soluble resin (hereinafter, alkali acceptable)
Add soluble resin). As alkali-soluble resin
For example, phenol-formaldehyde resin, clay
Zole / Formaldehyde resin, Phenol / Crezo
Le-formaldehyde co-condensation resin, phenol-modified xy
Ren resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydrogen
Droxystyrene, N- (4-hydroxyphenyl) meta
A copolymer of chloramide, hydroquinone monomethacrylate
In addition to rate copolymers, disclosed in JP-A-7-28244
Sulfonylimide-based polymer, JP-A-7-36184
And carboxyl group-containing polymers described in Japanese Patent Publication No.
It is. Others are disclosed in JP-A-51-34711.
Acrylic containing a phenolic hydroxyl group
Resin, sulfonamide group described in JP-A-2-866
Various acrylic resins and urethane resins
Alkali-soluble polymer compounds can also be used.
These alkali-soluble polymer compounds are weight average molecules
The number average molecular weight is 200-6 with a quantity of 500-20,000.
A value of 10,000 is preferred. Such alkali-soluble
Use one or more polymer compounds in combination.
May be used at an addition amount of 80% by weight or less of the total composition.
I can. Further, US Pat. No. 4,123,279 Akira
As described in the booklet, t-butylphenol phosphate
Lumaldehyde resin, octylphenol formaldehyde
Alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as hydride resin as a substituent
Condensation product of phenol and formaldehyde
Is preferred to improve the oil sensitivity of the image.
Yes. Such an alkali-soluble resin is usually the total weight of the composition.
In an amount of 90% by weight or less. In the present invention, other alkali-soluble resins
Especially preferably, (a-1) phenolic hydroxide
Group, (a-2) sulfonamide group, (a-3) active imi
Polymer compound having any functional group in the group
Examples thereof include the following. (A-1) High having a phenolic hydroxyl group
As a molecular compound, it has a phenolic hydroxyl group in the side chain.
High molecular compounds can be used. Phenol on side chain
Examples of the polymer compound having a rutile hydroxyl group include phenol
Each has at least one polymerizable unsaturated bond
Homopolymerizing a polymerizable monomer comprising a low molecular weight compound,
Alternatively, another monomer can be copolymerized with the monomer
The polymer compound obtained by the above can be mentioned. Feno
Examples of polymerizable monomers having a hydroxyl group include phenol.
Acrylamide having a hydroxyl group, methacrylamido
, Acrylic acid ester, methacrylic acid ester,
Examples include hydroxystyrene. Specifically, N
-(2-hydroxyphenyl) acrylamide, N-
(3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-H
Droxyphenyl) methacrylamide, N- (3-hydride)
Roxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydro
Xylphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphene
Nyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate
P-hydroxyphenyl acrylate, o-hydro
Xiphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl
Methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate
, O-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene
, P-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl)
Enyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl)
Enyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl)
Enyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl)
Enyl) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxy
Phenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxy)
Siphenyl) ethyl methacrylate and the like are preferably used.
be able to. Resin having such a phenolic hydroxyl group
Use one or more or a combination of two or more
May be. (A-2) High content having a sulfonamide group
Examples of the child compound include a polymerizable module having a sulfonamide group.
Homopolymerization of the monomer, or other polymerizable monomers
List polymer compounds obtained by copolymerization of mer
Can do. A polymerizable monomer having a sulfonamide group;
At least one water on a nitrogen atom in one molecule
Sulfonamide group bonded with elementary atoms -NH-SO2
And low with at least one polymerizable unsaturated bond
Examples thereof include polymerizable monomers composed of molecular compounds. That
Among them, acryloyl group, allyl group, or vinyloxy
A group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or
Low molecular weight compounds having a substituted sulfonylimino group are preferred.
That's right. Examples of such compounds include the following general formula:
The compounds represented by (a) to (e) can be mentioned.
In the light, it is not limited to these. [0116] Embedded image In the formula, X1, X2Each independently
Child or NR7Represents. R1, RFourAre each independently hydrogen
Atom or CHThreeRepresents. R2, RFive, R9, R12, R16Is
1 to 1 carbon atoms that may each independently have a substituent
2 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group
Or represents an aralkylene group. RThree, R7, R13Is that
Independently, a hydrogen atom and optionally having 1 substituent
~ 12 alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups or
Represents an aralkyl group. R6, R17Each
Alkyl having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent
Group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group
Represent. R8, RTen, R14Are independently hydrogen atoms or
Is CHThreeRepresents. R11, R15Are each independently a single bond
Or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent.
Rene group, cycloalkylene group, arylene group or arral
Represents a xylene group. Y1, Y2Are each independently a single bond or
Represents CO. Among them, m-aminosulfonylphenyl group
Tacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl)
Methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphen
) Methacrylamide, N- (p-aminosulfonyl)
Enyl) acrylamide etc. can be preferably used
The (A-3) Polymerization having an active imide group
The compound has an active imide group represented by the following formula in the molecule.
As this polymer compound, in one molecule
Are polymerizable with an active imino group represented by the following formula:
From low molecular weight compounds each having one or more unsaturated bonds
Homopolymerization of a polymerizable monomer or other
Polymer compound obtained by copolymerization of polymerizable monomers
Can be mentioned. [0120] Embedded image As such a compound, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-toluenesulfonyl) acrylamide and the like are preferable
Can be used for Furthermore, as other alkali-soluble resins
Is a polymerizable monomer having the phenolic hydroxyl group,
A polymerizable monomer having a sulfonamide group and an active monomer;
Polymerizes two or more of polymerizable monomers having a mid group
Polymer compounds or polymerizability of two or more of them
Obtained by copolymerizing monomers with other polymerizable monomers
Polymeric compounds can be used. Phenolic water
A polymerizable monomer having an acid group has a sulfonamide group.
With polymerizable monomers and / or active imide groups
When copolymerizing monomers,
The total weight ratio should be in the range of 50:50 to 5:95
Preferably in the range of 40:60 to 10:90
Is particularly preferred. Another alkali-soluble resin is the phenol.
Polymerizable monomer having a functional hydroxyl group, sulfonamide group
Polymerizable monomer having an active imide group
Is a copolymer of a polymerizable monomer and another polymerizable monomer
In some cases, the monomer that imparts alkali solubility is 10 moles.
Preferably contained at least 20% by mole
Is more preferable. Less than 10 mol% copolymerization component
And alkali solubility is likely to be insufficient, and development latitude
The effect of improving the speed may not be sufficiently achieved. Polymerizable module having phenolic hydroxyl group
A polymerizable monomer having a monomer, a sulfonamide group,
Is copolymerized with a polymerizable monomer having an active imide group
Examples of the monomer component include the following (1) to (12).
The monomers listed in
Is not to be done. (1) For example, 2-hydroxyethyl acetate
Relate or 2-hydroxyethyl methacrylate
Acrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, and
Methacrylic acid esters. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic
Propyl butyl, butyl acrylate, amyl acrylate, amyl
Hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid base
Nylyl, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl
Chlorate, N-dimethylaminoethyl acrylate, etc.
Alkyl acrylates. (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, meta
Propyl crylate, butyl methacrylate, methacrylic acid
Amyl, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate
Xylyl, benzyl methacrylate, 2-methacrylic acid
Loroethyl, glycidyl methacrylate, N-dimethyl
Alkyl methacrylate such as aminoethyl methacrylate
G. (4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylo
Acrylamide, N-ethylacrylamide, N-
Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylic
Luamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-
Phenylacrylamide, N-nitrophenyl acrylic
Amide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, etc.
Acrylamide or methacrylamide. (5) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl
Ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl
Vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl buni
Vinyl ethers such as ruether and phenyl vinyl ether
Le. (6) Vinyl acetate, vinyl chloroa
Vinylates such as cetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate
Ruesters. (7) Styrene, α-methylstyrene, methylstyrene
And styrenes such as chloromethylstyrene. (8) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, professional
Vinyl ketones such as pill vinyl ketone and phenyl vinyl ketone
Tons. (9) Ethylene, propylene, isobutylene, butadiene
And olefins such as isoprene. (10) N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl carbazo
, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylate
Ronitrile etc. (11) Maleimide, N-acryloylacrylami
, N-acetylmethacrylamide, N-propionyl
Methacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) meta
Unsaturated imides such as chloramide. (12) Acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid. Another alkali-soluble resin is the pheno
Polymerizable monomer having a hydroxyl group, sulfonamide group
A polymerizable monomer having
In the case of homopolymers or copolymers of compatible monomers,
The weight average molecular weight is 2000 or more and the number average molecular weight is 500 or more.
The above is preferred. More preferably, the weight average molecule
The number average molecular weight is 800 to 300,000 and 800
~ 250,000, dispersity (weight average molecular weight / several
The average molecular weight) is 1.1-10. The infrared-sensitive photosensitive composition of the present invention includes
(B) Add photothermal conversion agent (hereinafter also referred to as component (B))
To do. (B) Photothermal conversion used in the present invention
The agent is particularly effective if it absorbs infrared light and generates heat.
There is no limit, in addition to infrared absorbing dyes, infrared absorbing pigments
Various known pigments or infrared rays other than those exemplified
Absorbing dyes can be used. As a pigment, commercially available
Pigment and Color Index (CI) Handbook, “Latest
Pigment Handbook "(edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977),
“Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986),
Described in “Printing Ink Technology” published by CMC, published in 1984)
Available pigments can be used. As the types of pigments, black pigment, yellow face
, Orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Examples include polymer-bound dyes. Specifically, insoluble
Zo pigment, azo lake pigment, condensed azo pigment, chelate azo
Pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, key
Nacridone pigments, dioxazine pigments, isoindole
Non-based pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, firefly
Light pigments, inorganic pigments, carbon black, etc. can be used. These pigments may be used without surface treatment.
Alternatively, a surface treatment may be applied. Surface treatment
Methods include surface coating with resin and wax, surface activity
Methods of attaching agents, reactive substances (eg silane
(Pulling agents, epoxy compounds, polyisocyanates, etc.)
For example, a method of binding the pigment to the pigment surface can be considered. Above table
The surface treatment method is "Characteristics and application of metal soap" (Shoshobo),
“Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and
To "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986)
Has been described. The particle size of the pigment ranges from 0.01 μm to 10 μm.
Preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm
More preferably, it is particularly 0.1 μm to 1 μm.
It is preferable that it exists in the range. The pigment particle size is 0.01μ
If it is less than m, the stability of the dispersion in the recording layer coating solution
It is not preferable, and if it exceeds 10 μm, the recording layer is uniform.
It is not preferable in terms of uniformity. As a method of dispersing pigment
Is a known dispersion used in ink production, toner production, etc.
Technology can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers and supporters.
Wind mill, attritor, pearl mill, super mill,
Ball mill, impeller, disperser, KD mill, co
Lloyd mill, Dynatron, 3-roll mill, pressure knee
And the like. For details, see “Latest Pigment Application Technology”.
(CMC Publishing, published in 1986). As the dye, commercially available dyes and literature (for example,
“Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970
The well-known thing described in can be utilized. Specifically
Azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes
Material, anthraquinone dye, phthalocyanine dye, carbo
Nium dye, quinoneimine dye, methine dye, cyanine
And dyes such as dyes. In the present invention, these
Infrared light or near infrared light
That absorbs light emits infrared light or near infrared light
This is particularly preferable because it is suitable for use with a laser. It absorbs such infrared light or near infrared light.
Carbon black is preferably used as the pigment
The In addition, dyes that absorb infrared light or near infrared light
For example, JP-A-58-125246, JP-A-5
9-84356, JP 59-202829, JP
Cyanine dyeing described in Sho 60-78787
, JP-A-58-173696, JP-A-58-181
690, JP-A-58-194595, etc.
Methine dyes, JP-A 58-112793, JP-A
58-224793, JP-A-59-48187,
No. 59-73996, JP-A-60-52940,
Naftoki described in JP-A-60-63744
Non-dyes, described in JP-A-58-112792, etc.
Squaryllium dye, British Patent 434,875
Listed cyanine dyes. Further, as dyes, US Pat. No. 5,156,
The near infrared absorption sensitizer described in No. 938 is also preferably used.
Substituted in U.S. Pat. No. 3,881,924
Arylbenzo (thio) pyrylium salt, JP-A-57-1
42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169)
Trimethine thiapyrylium salt, JP-A 58-1810
51, 58-220143, 59-41363
No. 59-84248 No. 59-84249 No.
Described in 59-146063 and 59-146061
Pyryllium-based compounds, JP 59-2161
46, a cyanine dye described in U.S. Pat. No. 4,283,4
No. 75 pentamethine thiopyrylium salt, etc.
Disclosure in Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-13514 and 5-19702
As a commercially available product, an epoxy
Epolight III-178, Epoli manufactured by Phosphorus
ght III-130, Epolight III-125, etc.
Is particularly preferably used. Another example which is particularly preferable as a dye is shown below.
In U.S. Pat. No. 4,756,993.
Near-infrared absorbing dyes described as (I) and (II)
Can be mentioned. These pigments or dyes are all
0.01 to 50% by weight, preferably 0.1%, based on solids
-10% by weight, particularly preferably in the case of dyes 0.5-10
% By weight, particularly preferably in the case of pigments, 3.1 to 10% by weight
Can be added at a ratio of The amount of pigment or dye added is 0.01 wt.
If it is less than 50%, the sensitivity will be low, and will exceed 50% by weight.
Then, the uniformity of the image forming layer is lost and the durability of the image forming layer is lost.
Becomes worse. These dyes or pigments are the same as other ingredients.
It can be added to one layer or another layer can be added
May be. Next, a composition for an image forming layer according to the present invention and
To be added in preparing the photosensitive composition
Other components that can be produced will be described. Positive photosensitive composition
For example, before or after exposure.
It can be used as long as its moisture content changes, but it is included in it.
Preferred examples include o-quinonediazide compounds
Is mentioned. For example, alkali-soluble resin and o-kino
Of a positive photosensitive composition containing a diazide compound
The o-quinonediazide compound comprises at least one o-quinone
A compound having a quinonediazide group, which is
Those that increase the solubility in an aqueous solution of Lucari are preferred. [0139] Such a structure has various structures.
For example, “Light-Sensitive” by J. KOSAR
 Systems "(John Wiley & Sons, Inc, 1965) P.33
6 to P.352 for details. Positive photosensitive resin group
As the photosensitive compound of the composition, various hydroxyl groups are used.
Compound and o-benzoquinonediazide or o-naphtho
Nondiazide sulfonate esters are preferred. An o-quinonediazide compound as described above
For example, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5
-Sulfonyl chloride and phenol formaldehyde
Resin and cresol / formaldehyde resin
Steal; described in US Pat. No. 3,635,709
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfur
Ethyl chloride and pyrogallol / acetone resin
Steal; described in Japanese Examined Patent Publication No. 63-13,528
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl
Chloride and resorcin-benzaldehyde resin
Steal; described in Japanese Examined Patent Publication No. 62-44,257
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl
Chloride and resorcin-pyrogallol / acetone co-condensation
Ester with compound resin; As described in Japanese Examined Patent Publication No. 56-45,127.
A polyester having a hydroxyl group at its terminal
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonylchloro
Esterified ride; Japanese Patent Publication No. 50-24,6
N- (4-hydroxypheny) described in Japanese Patent No. 41
E) Methacrylamide homopolymer or other copolymerization
1,2-naphthoquinone-2 as a copolymer with a possible monomer
-Diazide-5-sulfonyl chloride esterified
Described in Japanese Patent Publication No. 54-29,922
1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl
With chloride and bisphenol-formaldehyde resin
Esters described in Japanese Patent Publication No. 52-36,043
P-hydroxystyrene homopolymer or
1,2-naphtha as a copolymer with other copolymerizable monomers
Toquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride
1,2-naphthoquinone-2-diazide-
5-sulfonyl chloride and polyhydroxybenzofe
There is an ester with non. In addition, known o-keys that can be used in the present invention.
Non-diazide compounds include those disclosed in JP-A-63-80,25.
4, JP-A-58-5,737, JP-A-57-111,
530, JP 57-111,531, JP 57-
114,138, JP-A-57-142,635, Special
Kaisho 51-36, 129, Shoko 62-3,411,
Shoko Sho 62-51,459, Shoko Sho 51-483, etc.
You can raise things listed in each specification of
it can. The content of the o-quinonediazide compound is
Usually 5 to 60% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition
More preferably, it is 10 to 40% by weight. In the photosensitive composition, if necessary,
Cyclic anhydride for increased sensitivity, visible image immediately after exposure
Baking agent to obtain a dye, dye as an image colorant,
Other fillers can be added. In the photosensitive composition of the present invention, sensitivity is included.
To increase cyclic anhydrides, phenols, organic acids
It is preferable to add a kind. Rice as a cyclic acid anhydride
It is described in Japanese Patent No. 4,115,128.
Phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hex
Sahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy ~ Δ4 ~ te
Trahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride,
Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenyl
Maleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride, etc.
There is. As phenols, bisphenol A, p
-Nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,3
4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxyben
Zophenone, 2,4,4'-trihydroxybenzofe
Non 4,4 ', 4 "-trihydroxy-triphenylme
Tan, 4,4 ', 3 ", 4" -tetrahydroxy-3
5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane, etc.
Is mentioned. Examples of organic acids include JP-A-60-8894.
2 and JP-A-2-96755.
Sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfuric acid
, Phosphonic acids, phosphinic acids, phosphate esters
, Carboxylic acids, etc., specifically p-tolue
Sulfonic acid, dodecylbenzene sulfonic acid, p-tolu
Enesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid,
Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphosphate phosphate
Nyl, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-tolu
Iric acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, tele
Phthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,2-dicarboxylic acid
Acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, Asco
Examples include rubic acid. The above cyclic acid anhydrides,
Ratio of enols and organic acids in the photosensitive composition
Is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably
Is 0.1 to 5% by weight. Printing out to obtain a visible image immediately after exposure
As a rusting agent, a photosensitive compound that releases an acid upon exposure
And organic dyes that change color by forming salts with acids
Can be mentioned. A photosensitive compound that releases an acid upon exposure;
For example, it is described in JP-A-50-36,209.
O-Naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid listed
Halogenide; described in JP-A-53-36223
Trihalomethyl-2-bilon and trihalomethyl-s-
Triazine; described in JP-A-55-62444
Various o-naphthoquinonediazide compounds;
2-Trihalomes described in Japanese Patent No. 55-77742
Tyl-5-aryl-1,3,4-oxadiazole compound
A diazonium salt and the like. these
These compounds can be used alone or in combination,
The added amount is 0.3 to 15 wt. With respect to the total weight of the composition.
% Range is preferred. In the photosensitive composition of the present invention, light is included.
Photolysis products and phases of compounds that decompose to generate acidic substances
Fewer organic dyes that change their color by interacting
At least one type is used. With such organic dyes
For example, diphenylmethane, triarylmethane,
Thiazine, oxazine, phenazine, xanthene
, Anthraquinone, iminonaphthoquinone, azome
A tin-based pigment can be used. Specifically:
It is a thing. Brilliant green, eosin, ethyl
Violet, erythrosine B, methyl green, chestnut
Star violet, basic fuchsin, phenol
Phthalein, 1,3-diphenyltriazine, Alizari
N Red S, Thymolphthalein, Methyl Violet
2B, Kinardine Red, Rose Bengal, Timors
Lufophthalein, xylenol blue, methyl orene
Di, orange IV, diphenylthiocarbazone, 2,7-
Dichlorofluorescein, paramethyl red, Congo
Red, benzopurpurin 4B, α-naphthyl red,
Nile Blue 2B, Nile Blue A, Phenacetalin,
Methyl violet, malachite green, parafukushi
Oil Blue # 603 [Orient Chemical Co., Ltd.
Made], Oil Pink # 312 [Orient Chemical
Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Industry
Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient
Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Red OG [Orientation
Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical
Kogyo Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient
Chemical Industry Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special
[Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Victoria Pureble
-BOH [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.] Patent Pure-Blue [Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.
Industry Co., Ltd.], Sudan Blue II (BASF), m
-Cresol purple, cresol red, rhodamine
B, Rhodamine 6G, First Acid Violet
R, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethyl
Aminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxya
Nilino-4-p-diethylaminophenyliminonaphtho
Non, 2-carbostearylamino-4-p-dihydrooxy
Cyethyl-amino-phenyliminonaphthoquinone, p-me
Toxibenzoyl-p'-diethylamino-o'-methyl
Enyliminoacetanilide, cyano-p-diethylamino
Nophenyliminoacetanilide, 1-phenyl-3-me
Tyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazo
Ron, 1-β-naphthyl-4-p-diethylaminopheny
Louisino-5-pyrazolone etc. Particularly preferred organic dyes are triaryl dyes.
Tan dye. For triarylmethane dyes,
No. 62-293471, Japanese Patent No. 296902
Sulfo as the counter anion as shown in No. 1 publication
Those having acid compounds are particularly useful. These dyes
The materials can be used alone or in combination.
0.3 to 15% by weight based on the total weight of the light composition is preferred
That's right. If necessary, it can be used in combination with other dyes and pigments.
The amount used is 70% by weight or more based on the total weight of the dye and pigment.
Below, more preferably 50% by weight or less. The present invention provides the above-mentioned positive type lithographic printing plate precursor
In addition to (also called positive PS plate), for example, the following tie
The same can be used for lithographic printing plate materials. (1) Alkali-soluble binder, acid generator, acid (heat)
Negative-type laser direct-drawing planographic printing material containing a crosslinkable compound
Fee. (2) Photothermal conversion agent / thermal radical generator / radical polymerizability
Negative type laser direct drawing lithographic printing plate containing compound Alkali-soluble binder used in (1)
Is the same as described above, and the acid generator is a conventionally known one.
Can be used. What is an acid (thermal) crosslinkable compound?
A compound that crosslinks in the presence of an acid, e.g.
Simethyl group, acetoxymethyl group, or alkoxy
Aromatic compounds and heterocycles polysubstituted by methyl groups
Among them, preferred examples include
Condensation of phenols and aldehydes under basic conditions
Compounds. Preferred among the above compounds
For example, phenol and formaldehyde
Compounds condensed under basic conditions as described above, as well
Obtained from m-cresol and formaldehyde
Obtained from the compound, bisphenol A and formaldehyde
4,4'-bisphenol and formaldehyde
Compounds obtained from hydride, etc., GB 2,082,
No. 339 includes compounds disclosed as resole resins.
I can get lost. These acid crosslinkable compounds have a weight average molecular weight.
The amount is 500-100,000 and the number average molecular weight is 200-
50,000 is preferred. As another preferred example
Is disclosed in EP-A 0,212,482
Substituted with alkoxymethyl or oxiranylmethyl groups
Aromatic compounds, EP-A 0,133,216, D
EA 3,634,671, DE 3,711,2
Monomer and oligomer melamine disclosed in No. 64
Rumaldehyde condensate and urea-formaldehyde condensation
Compound, an article disclosed in EP-A 0,212,482
Lucoxy-substituted compounds. Yet another preferred example
For example, at least two free N-hydroxymethyls
N-alkoxymethyl or N-acyloxymethyl group
It is a melamine-formaldehyde derivative having This
Of these, N-alkoxymethyl derivatives are particularly preferred.
Yes. Also low molecular weight or oligomeric silanols
Can be used as a silicon-containing crosslinking agent. These examples
Dimethyl- and diphenyl-silanediol, and
Oligomers already precondensed and containing these units
For example, in EP-A 0,377,155
The disclosed one can be used. The alkoxymethyl group
Among the substituted aromatic compounds and heterocyclic compounds
In the position adjacent to the hydroxyl group
And an alkoxy group of the alkoxymethyl group
Are preferable examples of compounds having 18 or less carbon atoms.
As a particularly preferred example, the following general formula (B) to
The compound of (E) can be mentioned. [0156] Embedded image In the formula, L1~ L8Are the same but different
Like methoxymethyl, ethoxymethyl, etc.
Alkoxy substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms
A dimethyl group is shown. These have high crosslinking efficiency and improve printing durability.
This is preferable in that it can be improved. Due to the above heat
Only one type of cross-linking compound may be used, or 2
A combination of more than one type may be used. Used in the present invention
The acid crosslinkable compound is the total solid content of the lithographic printing plate material.
Among them, 5 to 80% by weight, preferably 10 to 75% by weight,
Preferably, it is used in an addition amount of 20 to 70% by weight.
It is obtained when the amount of the acid-crosslinking compound added is less than 5% by weight.
The durability of the photosensitive layer of the lithographic printing plate material deteriorated, and
If it exceeds 0% by weight, it is preferable in terms of stability during storage.
Yes. As a specific example of the material used in (2)
Is the main component of the ethylenic diisocyanate that can be addition-polymerized.
Compounds containing heavy bonds, thermal radical generators, photothermal conversion agents, etc.
Is included. The compound containing a double bond capable of addition polymerization is
At least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably
Can be arbitrarily selected from compounds having two or more
it can. For example, monomer, prepolymer, ie 2 quantities
, Trimers and oligomers, or mixtures thereof
It has a chemical form such as their copolymer
is there. Examples of monomers and copolymers thereof are
Japanese carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid,
Such as taconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid
And esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds
Amides of Japanese carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds
can give. Aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated cal
Specific examples of monomers of esters with boric acid include
Ethyl glycol diacrylate
, Triethylene glycol diacrylate, 1,3
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol
Cold diacrylate, propylene glycol diacryl
Rate, neopentyl glycol diacrylate, tri
Methylolpropane triacrylate, trimethylol
Propanetri (acryloyloxypropyl) ate
, Trimethylolethane triacrylate, hexane
Diol diacrylate, 1,4-cyclohexanedio
Diacrylate, tetraethylene glycol diac
Relate, pentaerythritol diacrylate, pen
Taerythritol triacrylate, pentaerythritol
Tetraacrylate, dipentaerythritol dia
Chryrate, dipentaerythritol rupentaacrylate
Dipentaerythritol hexaacrylate, sol
Bitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate
Rate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol
Lehexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl)
L) Isocyanurate, polyester acrylate
There are gomers. Examples of methacrylic acid esters include tetrameth
Tylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol
Cold dimethacrylate, neopentyl glycol dimethyl
Tacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate
, Trimethylolethane trimethacrylate, ethyl
Lenglycol dimethacrylate, 1,3-butanedio
Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate
, Pentaerythritol dimethacrylate, penta
Erythritol trimethacrylate, pentaerythritol
Tetramethacrylate, dipentaerythritol di
Methacrylate, dipentaerythritol hexametac
Relate, dipentaerythritol rupentamethacryle
Sorbitol trimethacrylate, sorbitol
Toramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy
-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmeta
Bis- [p- (methacryloxyethoxy) pheny
E) Dimethylmethane and the like. Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol.
Recall Diitaconate, Propylene Glycol Diita
Conate, 1,3-butanediol diitaconate,
1,4-butanediol diitaconate, tetramethyle
Glycol diitaconate, pentaerythritol di
Itaconate, sorbitol tetritaconate, etc.
The Examples of the crotonic acid ester include ethylene glycol.
Recall dicrotonate, tetramethylene glycol di
Crotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Examples include sorbitol tetradicrotonate. Isochrome
Tonic acid esters include ethylene glycol diisocyanate.
Rotonate, pentaerythritol diisocrotonate
And sorbitol tetraisocrotonate. Ma
As the acrylate, ethylene glycol dimale
, Triethylene glycol dimaleate, pentaerythrate
Thritol dimaleate, sorbitol tetramaleate, etc.
There is. In addition, there are mixtures of the aforementioned ester monomers.
I can make it. In addition, an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated catalyst.
Specific examples of amide monomers with rubonic acid include
Renbis-acrylamide, methylenebis-methacrylate
Imide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide,
1,6-hexamethylenebis-methacrylamide, diethyl
Rentriamine Trisacrylamide, Xylylenebis
Acrylamide, xylylene bismethacrylamide, etc.
is there. As another example, Japanese Patent Publication No. 48-41708
2 or more isocyanes per molecule described in the publication
To the polyisocyanate compound having an ate group,
Vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the general formula (A)
Two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which-is added
And vinyl urethane compounds containing. CH2= C (R5) COOCH2CH (R6) OH (A) (However, R5 and R6 are H or CH.ThreeIndicates. ) Further, as described in JP-A-51-37193.
Urethane acrylates such as those disclosed in JP-A 48-
64183, Shoko 49-43191, Shoko 52-
Polyester as described in each publication No. 30490
Acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid
Multifunctional actives such as epoxy acrylates reacted with
Relates and methacrylates can be mentioned. More
In Japan Adhesion Association Vol. 20, No. 7, 300-308
Page (1984) Photocurable Monomers and Oligos
Can be used as well
The In addition, the usage-amount of the compound containing these double bonds is
5 to 70% by weight (hereinafter abbreviated as “%”)
The ), Preferably 10 to 50%. As the thermal radical generator, conventionally known light can be used.
Many used as polymerization initiators are useful
The Also, azobis compounds (azobisisobutyronitrile)
And diazonium compounds are also used as thermal polymerization initiators.
it can. The photothermal conversion agent is the same as described above.
The In addition, the composition of the present invention contains an image in
Various trees with hydrophobic groups for improving ki
Fats such as octylphenol formaldehyde tree
Fat, t-butylphenol-formaldehyde resin, t-
Butylphenol benzaldehyde resin, rosin modified
Novolak resins, and o-of these modified novolak resins
Naphthoquinone diazide sulfonate, etc.
Plasticizers for improving flexibility, for example dibutyphthalate
, Dioctyl phthalate, butyl glycolate, phosphoric acid
For various purposes such as tricresyl and dioctyl adipate
Various additives can be added accordingly. These additions
The amount ranges from 0.01 to 30% by weight relative to the total weight of the composition.
An enclosure is preferred. Further, in these compositions, the abrasion resistance of the coating is included.
A known resin for further improving the properties can be added. This
Examples of these resins include polyvinyl acetal resin.
Fat, polyurethane resin, epoxy resin, vinyl chloride tree
Such as grease, nylon, polyester resin, acrylic resin, etc.
Can be used alone or in combination. Addition amount
Is preferably in the range of 2 to 40% by weight relative to the total weight of the composition.
That's right. In the photosensitive composition of the present invention,
In order to widen the development latitude,
No. 251740 and JP-A-4-68355
Nonionic surfactants as described, JP-A-5
9-121044 and JP-A-4-13149.
Adding amphoteric surfactants as described
it can. Specific examples of nonionic surfactants include sol
Vitan tristearate, sorbitan monopalmitate
, Sorbitan trioleate, monoglyceride stearate
Lido, polyoxyethylene sorbitan monooleate, poly
Such as reoxyethylene nonylphenyl ether
Specific examples of amphoteric surfactants include alkyl di (a
Minoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine
Syn hydrochloride, Amorgen K (trade name, Daiichi Kogyo Seiyaku)
(N-tetradecyl-N, N-betaine type), 2-
Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethyl ester
Midazolinium betaine, Levon 15 (trade name, Sanyo)
Seiken Co., Ltd., alkyl imidazoline series)
The Photosensitivity of the above nonionic surfactants and amphoteric surfactants
The proportion of the composition is preferably 0.05 to 15% by weight.
More preferably, it is 0.1 to 5% by weight. Improvement of coated surface quality; photosensitive group according to the present invention
In the composition, a surfactant to improve the coating surface quality, eg
For example, it is described in JP-A-62-170950.
Such a fluorosurfactant can be added.
A preferable addition amount is 0.001-1.
0% by weight, more preferably 0.005 to 0.5 weight
%. In the photosensitive composition of the present invention, yellow is included.
Color dye, preferably 417 nm absorbance at 436 nm
It is possible to add a yellow dye having an absorbance of 70% or more
it can. Photosensitivity containing the fluoropolymer of the present invention
When obtaining a lithographic printing plate photosensitive material from the resin composition,
First it is provided as an image-forming layer on a suitable support.
The Photosensitive resin composition containing fluoropolymer of the present invention
Are dissolved in the following organic solvents alone or in combination.
Dissolved or dispersed, applied to a support and dried. Organic
Any known solvent can be used as the solvent.
In the range of boiling point 40 ° C to 200 ° C, especially 60 ° C to 160 ° C.
The surroundings are selected for their advantages in drying.
Of course, select the one that dissolves the surfactant of the present invention.
Is good. Examples of the organic solvent include methyl alcohol.
, Ethyl alcohol, n- or iso-propyl alcohol
N- or iso-butyl alcohol, diacetone alcohol
Alcohols such as alcohol, acetone, methyl ethyl ketone
T, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone,
Tyramyl ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone
T, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methyl
Ketones such as cyclohexanone and acetylacetone,
Zen, toluene, xylene, cyclohexane, methoxy
Hydrocarbons such as sibenzene, ethyl acetate, n-ma
Or iso-propyl acetate, n- or iso-butyl
Acetate, ethyl butyl acetate, hexyl acetate
Acetate, methylene dichloride, ethyl
Halogenation of range chloride, monochlorobenzene, etc.
, Isopropyl ether, n-butyl ether, geo
Xanthan, dimethyldioxane, tetrahydrofuran, etc.
Ethers, Ethylene glycol, methyl cellosolve,
Methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, die
Tilcellosolve, cellosolve acetate, butyl celloso
Rub, butyl cellosolve acetate, methoxymethoxy
Ethanol, diethylene glycol monomethyl ether
, Diethylene glycol dimethyl ether, polyethylene
Glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol
Diethyl ether, propylene glycol, propylene
Lenglycol monomethyl ether, propylene glycol
Monomethyl ether acetate, propylene glycol
Monoethyl ether, propylene glycol monoe
Tyl ether acetate, propylene glycol monob
Tilether, 3-methyl-3-methoxybutanol, etc.
Polyhydric alcohols and their derivatives, dimethyl sulfoxide,
Special solvent such as N, N-dimethylformamide alone
Or it mixes and is used suitably. And apply
The solid content in the composition should be 2 to 50% by weight.
Is appropriate. As a coating method of the composition of the present invention, for example,
Roll coating, dip coating, air na
IF coating, gravure coating, gravure
Faceted coating, hopper coating, brace
Coating, wire doctor coating, spray
-A method such as coating is used to make the weight after drying.
0.3-4.0 g / m2Is preferred. Small application amount
As it gets smaller, the amount of exposure required to obtain an image is smaller.
However, the film strength decreases. As the amount applied increases,
Light quantity is required, but the photosensitive film becomes stronger. For example, printing plates
When used as a high-printing (high durability) mark
A printing plate is obtained. Drying of the photosensitive composition coated on the support
Is usually performed by heated air. 30 heating
℃ ~ 200 ℃ Especially, the range of 40 ℃ ~ 140 ℃ is suitable
The The temperature of drying is not only a way to keep it constant during drying
A stepwise increase method can also be implemented. Also, the dry wind
Good results may be obtained by dehumidification. Addition
The heated air is 0.1 m / second to 30 m / second with respect to the coated surface.
Supply at a rate of seconds, especially 0.5m / second to 20m / second
Is preferred. Matt layer; feeling provided as described above
The surface of the optical layer is not exposed to true exposure during contact exposure using a vacuum baking frame.
In order to shorten the emptying time and prevent burning
It is preferable to provide a layer. Specifically, JP-A-50
-125805, JP-B 57-6582, 61-2
A mat layer as described in each publication of No. 8986
The method of providing is described in Japanese Patent Publication No. 62-62337.
Such as a method of heat-sealing solid powders
It is. Supports used for photosensitive lithographic printing plates and the like
Is a dimensionally stable plate-like material that has supported printing plates so far.
It is used as a body and should be used appropriately
Can do. Such supports include paper, plastics
(Eg polyethylene, polypropylene, polystyrene
Etc.) laminated paper such as aluminum (A)
Gold, such as zinc, iron, copper, etc.)
Genus plates such as cellulose diacetate, cellulose triacetate,
Cellulose propionate, cellulose butyrate, acetic acid butyrate
Rulose, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate
Polyethylene, polystyrene, polypropylene, polyethylene
Such as polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.
Rustyx film, the above metals are laminates
Or vapor-deposited paper or plastic film
In particular, an aluminum plate is preferable. A
Luminium plates include pure aluminum plates and aluminum composites.
A metal plate is included. Various aluminum alloys
For example, silicon, copper, manganese, magnesium
Metals such as chromium, chromium, zinc, lead, bismuth and nickel
An aluminum alloy is used. These compositions
Is negligible in addition to some iron and titanium
It also contains a certain amount of impurities. The support is surface-treated as necessary.
For example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate, on the surface of the support,
Hydrophilic treatment is performed. Also of metal, especially aluminum
In the case of a support having a surface, graining treatment, silicic acid
Water such as soda, potassium fluoride zirconate, phosphate
Surface treatment such as immersion in solution or anodic oxidation
It is preferable that the reason is made. US Patent No.
As described in US Pat. No. 2,714,066,
After graining, it is immersed in an aqueous sodium silicate solution.
Aluminum plate, US Pat. No. 3,181,461
Anodizing the aluminum plate as described in the booklet
Immerse in an aqueous solution of alkali metal silicate after treatment
Those treated are also preferably used. Anodizing treatment
Is, for example, inorganic such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, boric acid
Acids, or organic acids such as oxalic acid, sulfamic acid,
Is an aqueous solution or non-aqueous solution of these salts, alone or in combination
Aluminum plate as the anode in the electrolyte solution combined with
This is done by passing a current. In addition, US Pat. No. 3,658,662
Silicate electrodeposition as described in the booklet is also effective.
The These hydrophilization treatments make the surface of the support hydrophilic.
In addition to being applied to the photosensitive composition provided on it
To prevent harmful reactions with objects and improve adhesion to the photosensitive layer
It is given to make it. Grained aluminum plate
Remove surface rolling oil as needed prior to standing
To expose and clean aluminum surface
The surface may be pretreated. For the former,
Solvents such as lickle and surfactants are used. or
For the latter, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.
A method using an alkali etchant is widely used.
The As the graining method, mechanical and chemical methods are used.
Both of the electrochemical method and the electrochemical method are effective. Machine
Mechanical methods include ball polishing, blast polishing,
Nylon brush for water-dispersed slurry of stone-like abrasive
There is a brush polishing method to rub, etc., as a chemical method
Is described in JP-A-54-31187.
Method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid
The electrochemical method is hydrochloric acid, nitric acid or
AC electrolysis in acidic electrolytes like these combinations
The method is preferred. Among such roughening methods, in particular,
A machine as described in Japanese Patent Publication No. 55-137993
Roughening method combining mechanical and electrochemical roughening
Is preferred because it has a strong adhesion to the support of the oil-sensitive image.
Yes. Graining using the method described above is an aluminum plate.
The center line surface roughness (Ra) of the surface of 0.3 to 1.0 μm
It is preferable to apply in such a range. like this
The grained aluminum plate is watered as needed.
Washed and chemically etched. The etching solution is usually aluminum.
It is selected from an aqueous solution of a base or acid that dissolves. This place
If the surface of the etched surface is
A film that does not form a coating different from the conductive aluminum
Must. Examples of preferred etchants
Examples of basic substances include sodium hydroxide and potassium hydroxide.
, Trisodium phosphate, disodium phosphate, phosphorus
Tripotassium acid, dipotassium phosphate, etc .;
Sulfuric acid, persulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid and its salts, etc.
Metals that have a lower ionization tendency than luminium, such as zinc and copper
Lom, cobalt, nickel, copper and other salts are etched surfaces
This is not preferable because an unnecessary film is formed. These
Etching agent should be used in setting the concentration and temperature.
The dissolution rate of aluminum or alloy
0.3g to 40g / m per minute2It ’s going to be
Most preferably, but above or below this
Even if it is a thing. Etching is performed by adding aluminum to the above etchant.
Um plate is dipped or etching solution into the aluminum plate
The etching amount is 0.5.
-10g / m2It is preferable to be processed so that
Good. As the etching agent, the etching speed
It is possible to use an aqueous solution of a base because of its quickness
desirable. In this case, a smut is generated,
Smut processed. Acid used for desmutting
Nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borofluoride
Hydrohydric acid or the like is used. Etched aluminum
The nickel plate is washed with water and anodized as necessary. anode
Oxidation is performed in a conventional manner in this field.
I can. Specifically, sulfuric acid, phosphoric acid, chromium
Acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc.
Or an aqueous solution or a combination of two or more of them
Direct current or alternating current to aluminum in aqueous solution
And forming an anodized film on the surface of the aluminum support.
Can be. The anodizing treatment conditions depend on the electrolyte used.
Therefore, it cannot be generally determined because of various changes.
Specifically, the concentration of the electrolytic solution is 1 to 80% by weight, and the liquid temperature is 5 to 70.
° C, current density 0.5-60 amps / dm2, Voltage 1-10
The range of 0 V and electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes is appropriate. This
Among these anodizing treatments, especially British patents 1 and 4
High current in sulfuric acid as described in US Pat. No. 12,768
Method of anodizing at density and US Pat. No. 3,511,
Phosphoric acid described in the specification of No. 661 as an electrolytic bath
An anodizing method is preferred. Roughened as above
In addition, anodized aluminum plates can be
May be subjected to a hydrophilization treatment as a preferred example.
Japanese Patent Nos. 2,714,066 and 3,181,4
Alkali metal silicate as disclosed in No. 61
Such as an aqueous solution of sodium silicate or
Fluorozirconic acid disclosed in 22063
Potassium and US Pat. No. 4,153,461
Treated with polyvinylphosphonic acid as disclosed in
There is a way. Organic subbing layer; for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention
It is not possible to provide an organic subbing layer before coating the photosensitive layer.
This is preferable for reducing the remaining photosensitive layer in the image area. Under such organic
Examples of organic compounds used in the coating layer include
Cymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2
-Phosphorus having an amino group such as aminoethylphosphonic acid
Phonic acids, optionally substituted phenylphosphonic acid,
Naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophor
Sulfonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphos
Organic phosphonic acids such as phonic acid, and optionally substituted phosphonic acids
Phenyl phosphate, naphthyl phosphate, alkyl phosphate and
Organic phosphoric acid such as glycerophosphoric acid, may have a substituent
Phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, al
Such as kill phosphinic acid and glycerophosphinic acid
Amino such as phosphinic acid, glycine and β-alanine
Acids and hydrides such as triethanolamine hydrochloride
Selected from the hydrochloride of amines having a roxyl group
However, you may use it in mixture of 2 or more types. Other poly (p-vinylbenzoic acid) etc.
A group of polymer compounds having a representative structural unit in the molecule.
Using at least one compound selected from the group consisting of
it can. More specifically, p-vinylbenzoic acid and vinylben
Copolymer with zirtriethylammonium salt, p-vinyl
Benzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride
And a copolymer with Lido. This organic undercoat layer is provided by the following method.
be able to. Water or methanol, ethanol
Or organic solvents such as methyl ethyl ketone
A solution of the above organic compound in a mixed solvent of
A method of coating and drying on a minium plate and water or
Presence of methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc.
Add the above organic compounds to the organic solvent or mixed solvent
Immerse the aluminum plate in the dissolved solution and add the above organic
The compound is adsorbed and then washed with water and dried.
This is a method of providing an organic undercoat layer by drying. In the former way
Is a concentration of 0.005 to 10% by weight of the organic compound
The solution can be applied in various ways. For example, bar coater
-Coating, spin coating, spray coating, curtain coating, etc.
A deviation method may be used. In the latter method,
The concentration of the liquid is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05.
-5% by weight, soaking temperature is 20-90 ° C, preferably
Is 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes,
Preferably, it is 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia, trie.
Basic substances such as tilamine and potassium hydroxide, and salts
PH is adjusted with acidic substances such as acid and phosphoric acid, pH 1
It can also be used in the range of -12. In addition, photosensitive
Add yellow dye to improve tone reproducibility of printing plate
You can also. Furthermore, this solution contains the following general formula (a):
A compound represented by can also be added. Formula (a) (HO) x-R5- (COOH) y However, R5 is an optionally substituted atom having 14 or less carbon atoms.
Represents a rylene group, x and y are each independently an integer of 1 to 3;
Represent. Specific examples of the compound represented by the general formula (a)
As 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid
Acid, salicylic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy
Droxy-1-naphthoic acid, 2-hydroxy-3-naphthoic acid
Acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 10-hydroxy-
Examples include 9-anthracene carboxylic acid. Under organic
The coating amount after drying of the coating layer is 1 to 100 mg / m.2Is appropriate
Preferably 2 to 70 mg / m2It is. above
Covering amount is 2mg / m2If it is less, sufficient printing performance can be obtained.
I can't. 100 mg / m2Same for larger
It is. Back coat; on the back surface of the support, if necessary
A back coat is provided accordingly. Such back coat
As an organic polymer described in JP-A-5-45885
Compounds and organic compounds described in JP-A-6-35174.
Or obtained by hydrolysis and polycondensation of inorganic metal compounds.
A coating layer made of a metal oxide is preferably used.
Of these coating layers, Si (OCHThree)Four, Si (OC2HFive)
Four, Si (OCThreeH7)Four, Si (OCFourH9)FourSilicon
Lucoxy compounds are inexpensive and readily available
The metal oxide coating layer is particularly preferred because of its excellent developer resistance.
Yes. The planographic printing plate prepared as described above
In general, image exposure and development are performed. Used for image exposure
As an active light source,
A light source having an emission wavelength is preferable, and a solid-state laser, a semiconductor laser, etc.
The user is particularly preferred. Lithographic printing using the photosensitive resin composition of the present invention
Preferred as a developer for a printing plate is (a) a non-reducing sugar or
At least one saccharide selected from (b) at least
Also contains a kind of base and has a pH in the range of 9.0 to 13.5
Developer. The following explains this developer in detail.
Light up. In this specification, there is no special notice.
As long as it is a developer, a developer starter (a developer in a narrow sense) and development
Means replenisher. This developer is mainly composed of non-reducing sugars.
And at least one compound selected from
And the pH of the liquid is in the range of 9.0 to 13.5.
Preferably there is. Such non-reducing sugars are free alcohols.
It is a saccharide that does not have a dehydride group or ketone group and does not exhibit reducing properties.
Yes, trehalose-type oligosaccharides and sugars with reducing groups
Hydrogenated glycosides and saccharides in which a reducing group is bound to a non-saccharide
Classified into sugar alcohols that have been reduced by addition, all suitable
Used for. Trehalose-type oligosaccharides include saccharo
And trehalose.
Examples include glycosides, phenolic glycosides, mustard oil glycosides, etc.
It is. As sugar alcohol, D, L-Arabit,
Rebit, Xylit, D, L-Sorbit, D, L-Ma
Nnit, D, L-Exit, D, L-Talit, Zurishi
And allozulcit. Disaccharide
Of maltitol and oligosaccharides obtained by hydrogenation
The reductant obtained by hydrogenation (reduced water candy) is preferably used.
It is done. Among these, particularly preferred non-reducing sugars are sugar alcohols.
And saccharose, especially D-Sorbit and Saccharose
Callose and reduced water candy have a buffering effect in a moderate pH range.
And low cost. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more.
Can be used in combination with the above, occupy in their developer
The proportion is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably
Is 1 to 20% by weight. Less than this range
Impact is not obtained, and at concentrations above this range, high concentrations
It is difficult to shrink, and there is a problem of cost increase. Return
Brown over time when used in combination with base sugar
Discoloration, and the pH gradually decreases, and thus developability decreases.
There is a problem that. Conventional bases to be combined with non-reducing sugars
More known alkaline agents can be used. For example, water
Sodium oxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, lithium
Trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonic phosphate
Ni, disodium phosphate, dipotassium phosphate, phosphorus
Diammonium acid, sodium carbonate, potassium carbonate, charcoal
Ammonium acid, sodium bicarbonate, potassium hydrogen carbonate
, Ammonium bicarbonate, sodium borate, boric acid
Inorganic alkaline agents such as potassium and ammonium borate
Can be mentioned. Monomethylamine, dimethylamino
, Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine
Min, triethylamine, monoisopropylamine, di
Isopropylamine, triisopropylamine, n-butyl
Tylamine, monoethanolamine, diethanolamine
, Triethanolamine, monoisopropanolamine
, Diisopropanolamine, ethyleneimine, ethyl
Organic alkali agents such as range amine and pyridine are also used.
It is. These alkali agents may be used alone or in combination of two or more.
Used in combination with the above. Preferred among these
Is sodium hydroxide, potassium hydroxide, why
By adjusting these amounts for non-reducing sugars
This is because the pH can be adjusted in a wide pH range. Ma
Trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate
Lium, potassium carbonate, etc. have their own buffering effect
Therefore, it is preferable. These alkaline agents control the pH of the developer.
It is added so that it is in the range of 9.0 to 13.5.
The amount to be added depends on the desired pH, type of non-reducing sugar and amount added.
A more preferable pH range is 10.0 to 13.
2. The developer further contains weak acids and strong bases other than sugars.
An alkaline buffer solution consisting of can be used in combination. Such buffer
As a weak acid used as a dissociation constant (pKa)
The thing of 10.0-13.2 is preferable. Such a weak acid
As an IONISATION CONSTAN published by Pergamon Press
TS OFORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION
For example, 2,2,3,3-teto
Rafluoropropanol-1 (PKa 12.74), G
Lifluoroethanol (12.37), trichloroe
Alcohols such as tanol (12.24), pyridi
-2-aldehyde (12.68), pyridine-4-al
Aldehydes such as dehydr (12.05), salicyl
Acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (13.0)
12.84), catechol (12.6), gallic acid
(12.4), sulfosalicylic acid (11.7),
3,4-dihydroxysulfonic acid (12.2), 3,
4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,
4-Trihydroxybenzene (11.82), Hyde
Loquinone (same as 11.56), pyrogallol (same as 11.3)
4), o-cresol (10.33), resorcino
(11.27) and p-cresol (10.2)
7), pheno such as m-cresol (10.09)
A compound having a rutile hydroxyl group, 2-butanone oxime (12.45),
Acetoxime (12.42), 1,2-cyclohepta
Dione dioxime (12.3) and 2-hydroxybenzene
Zunsaldehyde oxime (12.10), Dimethyl
Lioxime (11.9), ethanediamide dioxime
(Id. 11.37), acetophenone oxime (Id. 11.
35) oximes, adenosine (12.5
6), inosine (12.5), guanine (12.
3), cytosine (12.2), hypoxanthine (1)
2.1) Nucleic acid-related substances such as xanthine (11.9)
In addition, diethylaminomethylphosphonic acid (12.
32) 1-amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid
(12.29), isopropylidenediphosphonic acid (same as above)
12.10), 1,1-ethylidene diphosphonic acid (same as 1
1.54), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1-hydro
Xy (11.52), benzimidazole (12.
86), thiobenzamide (12.8), picolinchi
Oamide (12.55), barbituric acid (12.
And weak acids such as 5). Of these weak acids, sulfo is preferred.
Salicylic acid and salicylic acid. Combined with these weak acids
The bases that can be used are sodium hydroxide and ammonia
, Potassium and lithium are preferably used.
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more.
Used. The above-mentioned various alkali agents have concentrations and combinations.
Adjust the pH within the preferred range by combining
It is. The developer contains development acceleration and development residue.
Necessary for the purpose of improving the ink-philicity of the scattering and printing plate image area
Depending on the conditions, various surfactants and organic solvents can be added. Like
New surfactants include anionic, cationic, and non-ionic surfactants.
Nonionic and amphoteric surfactants can be mentioned. Preferred examples of the surfactant include polio
Xylethylene alkyl ethers, polyoxyethylene
Alkylphenyl ethers, polyoxyethylene poly
Styryl phenyl ethers, polyoxyethylene poly
Oxypropylene alkyl ethers, glycerin fat
Acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial esters, propire
Glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid part
Esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid part
Esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid part
Esters, polyethylene glycol fatty acid esters
, Polyglycerol fatty acid partial esters, polyoxy
Ethyleneated castor oil, polyoxyethylene glycerin
Fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides,
N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polio
Xylethylene alkylamine, triethanolamine fat
Non-ionics such as fatty acid esters and trialkylamine oxides
On-active surfactant, Fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxy
Sialkane sulfonates, alkane sulfonates,
Dialkylsulfosuccinic acid ester salts, linear alkyl bases
Sulfonates, branched alkylbenzene sulfone
Phosphates, alkylnaphthalene sulfonates, alkyls
Ruphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonate
Polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether
Salt, sodium N-methyl-N-oleyl taurate
Salt, disodium N-alkylsulfosuccinate monoamide
Salt, petroleum sulfonate, sulfated beef oil, fatty acid alkyl
Sulfates of alkyl esters, alkyl sulfates
Salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester
Salt, fatty acid monoglyceride sulfate, poly
Oxyethylene alkyl phenyl ether sulfate
Salts, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate
Acid ester salts, alkyl phosphate ester salts, polio
Xylethylene alkyl ether phosphates
Reoxyethylene alkylphenyl ether phosphate
Tellurium salt, styrene / maleic anhydride copolymer partially saponified
And partial saponification of olefin / maleic anhydride copolymer
Chemicals, Naphthalene sulfonate formalin condensate
Anionic surfactants, alkylamine salts,
Quaternary ammonia such as trabutylammonium bromide
Salts, polyoxyethylene alkylamine salts, poly
Cationic surface activity such as ethylene polyamine derivatives
Agents, carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfur
Hobetaines, amino sulfates, imidazolines
And amphoteric surfactants. The surface activities listed above
Among the sexual agents, polyoxyethylene is a polyoxyethylene.
Simethylene, polyoxypropylene, polyoxybutyrate
It can also be read as polyoxyalkylene such as
These surfactants are also included. A more preferred surfactant is perfume in the molecule.
A fluorosurfactant containing a fluoroalkyl group
The Such fluorosurfactants include perfluoro
Alkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfones
Acids such as acid salts and perfluoroalkyl phosphates
ON type, amphoteric type such as perfluoroalkylbetaine,
Such as perfluoroalkyltrimethylammonium salt
Cationic and perfluoroalkylamine oxides
Perfluoroalkylethylene oxide adduct,
An oligomer containing a fluoroalkyl group and a hydrophilic group,
Perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomer
-Perfluoroalkyl group, hydrophilic group and lipophilic group
Containing oligomer, perfluoroalkyl group and lipophilicity
Nonionic types such as group-containing urethanes can be mentioned. above
Surfactants can be used alone or in combination of two or more.
0.001 to 10 weight in the developer
%, More preferably in the range of 0.01 to 5% by weight
It is. In the developer, various development stabilizers are used.
be able to. As a preferred example thereof, JP-A-6-
Polyethylene of sugar alcohol described in Japanese Patent No. 282079
Glycol adduct, tetrabutylammonium hydroxide
Tetraalkylammonium salts such as Cid, Tetrabuty
Phosphonium salts such as ruphosphonium bromide and
Iodonium such as diphenyliodonium chloride
A salt is a preferred example. Furthermore, JP-A-50
Anionic surfactant described in JP-A-51324 or both
Surfactants and also described in JP-A-55-95946
Water-soluble cationic polymer, JP 56-1425
Water-soluble amphoteric polymer electrolyte described in Japanese Patent No. 28
Can be mentioned. Furthermore, a) disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 59-84241.
Organoboron compounds with added ruxylene glycol, special
Polyoxyethylene described in Japanese Utility Model Publication No. 60-111246
Polyoxypropylene block polymerization type water-soluble interface
Activator, polyoxy of JP-A-60-129750
Alkylene substituted with ethylene / polyoxypropylene
Diamine compound, described in JP-A 61-215554
Polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more
The cationic group disclosed in JP-A-63-175858
Fluorine-containing surfactant having, Japanese Patent Laid-Open No. 2-39157
4 mol or more of ethyleneoxy in the acid or alcohol
Water-soluble ethylene oxide addition compound
And water-soluble polyalkylene compounds. If necessary, an organic solvent is added to the developer.
It is done. Such organic solvents have water solubility.
About 10% by weight or less is suitable, preferably 5 layers
It is selected from those having an amount of less than%. For example, 1-phenyl ether
Tanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propyl
Lopanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl
-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-Fe
Noxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-
Methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol
Lucol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl
Alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexane
Xanol, 3-methylcyclohexanol and 4-me
Tylcyclohexanol, N-phenylethanolamine
And N-phenyldiethanolamine
be able to. The content of organic solvent is relative to the total weight of the liquid used.
0.1 to 5% by weight. The amount used is a surfactant.
As the amount of organic solvent increases,
The amount of the surfactant is preferably increased. this
Uses a small amount of surfactant and a large amount of organic solvent
And organic solvents are not completely dissolved, and therefore have good developability
This is because it cannot be expected. A reducing agent can be further added to the developer.
The This is to prevent stains on the printing plate.
Negative photosensitive lithographic printing containing a light-sensitive diazonium salt compound
As a preferred organic reducing agent that is effective in developing a plate
Thiosalicylic acid, hydroquinone, metol, meso
Toxiquinone, resorcin, 2-methylresorcin, etc.
Phenol compounds, phenylenediamine, phenyl
Examples thereof include amine compounds such as drazine. More preferred
Examples of inorganic reducing agents include sulfurous acid, bisulfite, and sulfite.
Acid, hydrophosphite, dihydrogen phosphite, thiosulfate
And sodium salts of inorganic acids such as dithionite and potassium
And ammonium salts. this
Of these reducing agents,
Sulfate. These reducing agents are used against the developer during use.
Preferably, it is contained in the range of 0.05 to 5% by weight.
The An organic carboxylic acid is further added to the developer.
You can also. Preferred organic carboxylic acids have 6 to 6 carbon atoms.
20 aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids
The Specific examples of aliphatic carboxylic acids include capron
Acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic
Acid, palmitic acid and stearic acid.
Preferred is an alkanoic acid having 8 to 12 carbon atoms. Ma
Even with unsaturated fatty acids with double bonds in the carbon chain,
It may be of a carbon chain. As aromatic carboxylic acid
Benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc.
A compound in which a carboxyl group is substituted, specifically, o
-Chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxy
Benzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid
Acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydrobenzoic acid,
2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid
Benzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydride
Loxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphtho
Ethic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-
1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid, etc.
Although hydroxy naphthoic acid is particularly effective. The aliphatic and aromatic carboxylic acids are water soluble
Sodium or potassium salt or an
It is preferably used as a monium salt. Used in the present invention
There is no particular limitation on the content of organic carboxylic acid in the developer
However, if it is lower than 0.1% by weight, the effect is not sufficient, and 1
If it is 0% by weight or more, the effect cannot be improved any more
However, dissolution may be hindered when other additives are used in combination.
The Therefore, the preferred addition amount is relative to the developer at the time of use.
0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 4
% By weight. The developer may further contain a preservative, if necessary.
Contains colorants, thickeners, antifoaming agents, water softeners, etc.
It can also be made. Examples of water softeners include poly
Acid and its sodium, potassium and ammo
Nium salt, ethylenediaminetetraacetic acid, diethyleneto
Riaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexavine
Acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nito
Lilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetra
Acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid
Aminopolycarboxylic acids such as acids and their sodium
Salts, potassium and ammonium salts, aminotri
(Methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (me
Tylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta
Tylene phosphonic acid), triethylenetetramine hexa
(Methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenedi
Amine tri (methylenephosphonic acid) and 1-hydroxy
Citaene-1,1-diphosphonic acid and their sodium
Salt, potassium salt and ammonium salt
Yes. Such a water softener is a chelating agent.
The optimum value depends on the hardness and amount of hard water used.
It changes, but if you show the general usage amount, the developer at the time of use
0.01 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 0.
It is in the range of 5% by weight. In addition amounts less than this range
The intended purpose is not fully achieved, and the amount added is within this range.
If there are many, there will be an adverse effect on the image area such as color loss.
The The remaining component of the developer is water. Developer is in use
Use as a concentrate with less water content than
Sometimes it is advantageous for transportation to dilute with water
The The degree of concentration in this case is the separation or precipitation of each component.
No degree is appropriate. Planographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention
JP-A-6-282079 discloses a developer for the above.
The developers described can also be used. This is SiO2/ M2O
The molar ratio (M represents an alkali metal) is 0.5 to 2.0.
Alkali metal silicate and sugar alcohol having 4 or more hydroxyl groups
Obtained by adding more than 5 moles of ethylene oxide to coal
Development containing a water-soluble ethylene oxide addition compound
It is a liquid. Sugar alcohols are sugar aldehyde groups and keto
Reduced to the primary and secondary alcohol groups, respectively.
It is a polyhydric alcohol corresponding to the above. Sugar alcohol
Examples of shells are D, L-Trait, Eritreit
D, L-arabit, rebit, xylit, D,
L-Sorbit, D, L-Mannit, D, L-Ijid
D, L-Tallit, Zulsit, Allozulsit
Di-, tri-, and teto condensed with sugar alcohol
Also included are la, penta and hexaglycerin.
The water-soluble ethylene oxide adduct is a sugar alcohol.
Add 5 mol or more of ethylene oxide to 1 mol of
Can be obtained. Addition of ethylene oxide
The compound is soluble in propylene oxide if necessary
Block copolymerization may be performed within an allowable range. these
These ethylene oxide adducts may be used alone or in combination of two or more
May be used in combination. These water-soluble ethylene
The amount of oxide addition compound added to the developer (working solution)
0.001 to 5% by weight is suitable, more preferably
0.001 to 2% by weight. [0213] This developer further includes development acceleration and present properties.
Increases dispersion of image residue and ink affinity of printing plate image area
As necessary for the purpose, the above-mentioned various surfactants and organic solvents are used.
An agent can be added. PS developed with a developer having such a composition
The plate is washed with water, rinse solution containing surfactant, etc.
Finishers mainly composed of agum and starch derivatives
It is post-treated with a protective gum solution. Post processing of the PS plate of the present invention
In fact, these processes can be used in various combinations.
Yes. In recent years, rationalization of plate making work in the stencil / printing industry
Automatic processing machine for PS plate is widely used for standardization and standardization
It is said. This automatic processor generally has a developing unit and a post-treatment.
It consists of a science department, a PS plate transport device, and each treatment liquid tank
And spray device to horizontally expose the exposed PS plate
Spray each treatment liquid pumped up while transporting
Development and post-processing by spraying from nozzle
The In addition, recently, in the processing liquid tank filled with the processing liquid,
Develop by immersing PS plate with guide rolls
The processing method and a small amount of water for washing on the plate after development
Supply and wash with water, and use the wastewater as dilution water for the developer stock solution.
A method of reusing is also known. In such automatic processing, each processing solution
Each replenisher is replenished according to the processing amount and operating time.
Can be processed. Also virtually unused
The so-called disposable treatment method that treats with the treatment liquid of
Yes. The lithographic printing plate obtained by such treatment is
It is hung on a press machine and used for printing many sheets.
The [0217] The following examples further illustrate the present invention.
The However, the present invention is limited by these examples.
It is not a thing. (Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 to 3) [Preparation of Support] JIS A 1050 Aluminum
Rotating nylon braid with water suspension as abrasive
The surface was grained with Lashi. Surface roughness at this time (center
The line average roughness) was 0.5 μm. 10% caustic after washing
Soaked in a solution heated to 70 ° C.
Luminium dissolution is 6g / mThreeEtch to be
I was After washing with water, immersing in 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute
It was softened and washed thoroughly with water. After that, in 0.7% nitric acid aqueous solution
A rectangle with an anode voltage of 13 volts and a cathode voltage of 6 volts
Electrolytic roughening is performed for 20 seconds using a wave alternating waveform voltage,
The surface was cleaned by dipping in a 50 ° C. solution of 20% sulfuric acid.
After washing with water. 20 on the roughened aluminum sheet
Of porous anodic oxide film using direct current in 1% sulfuric acid aqueous solution
Processing was performed. Current density 5A / dm2Do electrolysis with
The electrolysis time is adjusted, and the weight is 4.0 g / m on the surface.2of
A substrate having an anodized film was prepared. This substrate is 10
10 in a steam chamber saturated at 0 ° C. and 1 atm.
The substrate (a) having a sealing rate of 60% was prepared by treating for 2 seconds. Base
Plate (a) 30% with 2.5 wt% aqueous sodium silicate solution
After the surface hydrophilization by treating at 10 ° C for 10 seconds, the following undercoat
Apply the liquid, and dry the coating film at 80 ° C for 15 seconds.
A plate support [A] was obtained. The coating amount after drying is 15
mg / m2Met. [0219] [Undercoat liquid] -0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000 ・ Methanol 100g ・ Water 1g [0220] Embedded image [Formation of recording layer] Support of the obtained undercoat
The following photosensitive solution 1 is applied to the body [A] at a coating amount of 1.8 g / m2In
Apply and dry to form a photosensitive layer (recording layer).
An original plate 1 for printing plate was obtained. [0222] [Photosensitive solution 1] ・ Novolak resin 1.0g (Weight average molecular weight, 7,000, unreacted cresol 0.5% by weight) ・ Cyanine dye A (the following structure) 0.1g ・ Phthalic anhydride 0.05g ・ 0.002 g of p-toluenesulfonic acid ・ Counterion of ethyl violet     0.02 g of 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid ・ Fluoropolymer C See Table 4 ・ Fluoropolymer D See Table 4 ・ Methyl ethyl ketone 12g [0223] Embedded image (Examples 10 to 21, Comparative Examples 4 to 6) The following photosensitive solution 2 was prepared. Used in Example 1
This photosensitive solution 2 is applied to the same support [A] substrate
The amount is 1.3g / m2Apply and dry to become a photosensitive layer
To obtain a lithographic printing plate precursor 2. [0226] [Photosensitive solution 2] -Copolymer 1 (detailed below) 0.75 g ・ Novolak resin 0.25g   (Weight average molecular weight 4,500, unreacted cresol 0.4% by weight) ・ 0.003 g of p-toluenesulfonic acid ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.03g ・ Cyanine dye A 0.017g ・ Counterion of Victoria Pure Blue BOH     0.015 g of dye converted to 1-naphthalenesulfonic acid anion ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine     Hexafluorophosphate 0.02g ・ N-dodecyl stearate 0.03g ・ Fluoropolymer C See Table 4 ・ Fluoropolymer D See Table 4 ・ Γ-Butyllactone 10g ・ Methyl ethyl ketone 10g ・ 8g of 1-methoxy-2-propanol [Synthesis of Copolymer 1] After stirring, the cooling tube and
In a 500 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel,
31.0 g (0.36 mol) of silicic acid, ethyl chloroformate
39.1 g (0.36 mol) and acetonitrile 200
The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath.
To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was added.
Was dripped with a dropping funnel over about 1 hour. Dripping
After completion, remove the ice-water bath and leave the mixture at room temperature for 30 minutes.
Stir. To this reaction mixture, p-aminobenzene was added.
Add 51.7 g (0.30 mol) of lufonamide, oil bath
The mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. reaction
When finished, do not stir the mixture into 1 liter of water.
The resulting mixture was stirred for 30 minutes. this
The mixture was filtered to remove the precipitate, which was then added to 500 m of water.
l. After slurrying with l, the slurry is filtered to obtain
The solid was dried to give N- (p-aminosulfonate
Ruphenyl) methacrylamide white solid was obtained
(Yield 46.9 g). Next, a stirrer, a cooling pipe and a dropping funnel are provided.
Into a 20 ml three-necked flask, N- (p-aminosulfo
Nylphenyl) methacrylamide 4.61 g (0.01
92 mol), 2.58 g (0.02) of ethyl methacrylate
58 mol), acrylonitrile 0.80 g (0.015
Mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide
Stirring the mixture while heating to 65 ° C in a hot water bath
It was. To this mixture, “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Add 0.15g and keep at 65 ° C for 2 hours under nitrogen flow
The mixture was stirred. The reaction mixture is further subjected to N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61
g, 2.58 g of methyl methacrylate, acrylonitrile
0.80 g, N, N-dimethylacetamide and “V—
65 ”0.15 g of mixture into the dropping funnel over 2 hours
More dripped. After completion of dropping, it was obtained at 65 ° C for 2 hours.
The mixture was stirred. After the reaction, 40g of methanol was mixed
Add to mixture, cool, and mix the resulting mixture to 2 liters of water
The water was added with stirring, and the mixture was stirred for 30 minutes.
After that, the precipitate is removed by filtration and dried.
15 g of a white solid was obtained. Gel permeation chroma
The weight average content of this specific copolymer 1 by
The molecular weight (polystyrene standard) was measured to be 53,000.
0. (Examples 22 to 30, Comparative Examples 7 to 9) Implementation
On the same substrate [A] substrate used in Example 1,
Liquid 3A was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes.
Formed. The coating amount after drying is 1.04 g / m2So
It was. Thereafter, the following photosensitive solution 3B was applied, and 2 at 100 ° C.
Dry for minutes to form layer (B) (upper layer)
The original master 3 was obtained. The total coating amount of the photosensitive solution after drying is 1.2.
g / m2Met. [0231] [Photosensitive solution 3A] ・ Copolymer 1 0.75g ・ Cyanine dye A 0.04g ・ 0.002 g of p-toluenesulfonic acid ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g ・ The counter anion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalene     0.015 g dye made into sulfonate anion ・ Fluoropolymer C See Table 4 ・ Γ-Butyllactone 8g ・ Methyl ethyl ketone 7g ・ 7g of 1-methoxy-2-propanol [0232] [Photosensitive solution 3B] ・ Novolak resin 0.25g   (Weight average molecular weight 4,500, unreacted cresol 0.5% by weight) ・ Cyanine dye A 0.05g ・ N-dodecyl stearate 0.02 g ・ Fluoropolymer C See Table 4 ・ Fluoropolymer D See Table 4 ・ Methyl ethyl ketone 7g ・ 7g of 1-methoxy-2-propanol [0233] [Table 4][Coating surface properties] The printed matter obtained was uneven by visual inspection.
Judged whether there is. ○ if there is no unevenness, slightly uneven
A sample was marked with Δ, and a sample with severe unevenness was marked with ×. Table 5 shows the results.
Shown in [Printing durability] (1) Play lithographic printing plate precursors 1 to 3 obtained above
Tossetter (TrendSetter 3244F,
Using Leo), with a rotation speed of 150 rpm and an output of 6 W.
Under the conditions, the plate surface energy amount is 94 mJ / cm.2It will be
Exposed. Next, a commercially available immersion developer tank is provided.
Automatic processor (LP-900H, Fuji Photo Film Co., Ltd.)
20) an alkaline developer having the following composition:
L was charged and kept at 30 ° C. LP-900H second bath
Has 8L of tap water and FP-2W for the third bath
(Fuji Photo Film Co., Ltd.) was diluted 1: 1 with water.
8 L of finishing gum solution was charged. Exposed lithographic stamp
The original plate for printing plate is developed using this automatic processor,
Plates 1 to 3 were obtained. In addition, Examples 1-9 and Comparative Examples 1-3 are
Alkaline developer A was used in Examples 10-30 and Comparative Examples 4-9.
Used alkaline developer B. [0236] <Alkali developer A composition> ・ SiO2・ K2O (K2O / SiO2= 1/1 (molar ratio)) 4.0% by mass ・ Citric acid 0.5% by mass ・ Polyethylene glycol (weight average molecular weight 1,000) 0.5 mass% ・ Water 95.0 mass% [0237] <Alkali developer B composition> ・ D sorbit 2.5% by mass -Sodium hydroxide 0.85 mass% ・ Diethylenetriaminepenta (methylene sulfonic acid) 5Na salt 0.05 mass % ・ Water 96.6% by mass The lithographic printing plate obtained above is printed on a printing machine (KO).
Printed with an RD machine (Heidelberg) and evaluated printing durability
I was worth it. Printing durability makes it impossible to maintain the initial image quality
The printing durability is determined by the number of printed sheets
evaluated. Regardless of which lithographic printing plate is used,
During the printing, ink adhesion to the non-image area was not observed.
The results are shown in Table 5. [0239] [Table 5] From the results in Table 5, the image formability method of the present invention was determined.
By applying, when using the same lithographic printing plate precursor
Even with excellent highlight reproducibility and printing durability.
It was. [Scratch resistance test] The obtained lithographic stamp of the present invention
A scratch tester manufactured by HEIDON
Using a plate with a load applied to the diamond (0.40mm)
And then develop with the same developer as above,
The load that can be visually recognized is displayed. The higher the number, the better the scratch resistance
It is evaluated as excellent. As clearly shown in Table 5,
The lithographic printing plate precursors related to Ming have the same conductivity set
When developed with a developer, it is better than the comparative example
Scratch resistance was shown. [0242] According to the present invention, the image form of a lithographic printing original plate can be obtained.
When used as a stratification, the coated surface of the layer is good and resistant.
Provided is an infrared-sensitive composition having excellent printability and scratch resistance.
Can be.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/004 505 7/004 505 Fターム(参考) 2H025 AA12 AA13 AB03 AC08 AD01 AD03 BE00 CB42 CC17 FA10 FA17 2H096 AA06 BA20 EA04 EA23 GA08 4J002 BC11W BC12W BG07W BG08X BG08Y BG13W BG13X CC03W CC05W FD096 FD206 GP03─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme code (reference) G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/004 505 7/004 505 F-term (reference) 2H025 AA12 AA13 AB03 AC08 AD01 AD03 BE00 CB42 CC17 FA10 FA17 2H096 AA06 BA20 EA04 EA23 GA08 4J002 BC11W BC12W BG07W BG08X BG08Y BG13W BG13X CC03W CC05W FD096 FD206 GP03

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 (A)水不溶アルカリ水可溶性樹脂、
(B)光熱変換剤、(C)下記一般式(I)で表される
基を1つ含有するモノマーを重合することにより得られ
たフッ素含有ポリマー、(D)下記一般式(I)で表さ
れる基を2つ以上含有するモノマーを重合することによ
り得られたフッ素含有ポリマー、を含有することを特徴
とする感赤外線感光性組成物。 【化1】 一般式(I)中、mは1以上6以下の整数、nは1以上
6以下の整数を表す。
What is claimed is: (A) a water-insoluble alkaline water-soluble resin;
(B) a photothermal conversion agent, (C) a fluorine-containing polymer obtained by polymerizing a monomer containing one group represented by the following general formula (I), (D) represented by the following general formula (I) An infrared-sensitive composition, comprising a fluorine-containing polymer obtained by polymerizing a monomer containing at least two groups. [Chemical 1] In general formula (I), m represents an integer of 1 to 6, and n represents an integer of 1 to 6.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106723A (en) * 2004-09-08 2006-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Planographic printing plate precursor
JP2006343667A (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Fujifilm Holdings Corp Lithographic printing original plate
WO2010134639A1 (en) * 2009-05-21 2010-11-25 株式会社トクヤマ Method for formation of resist pattern, and developing solution
EP2365389A1 (en) 2010-03-08 2011-09-14 Fujifilm Corporation Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate
EP2366546A2 (en) 2010-03-18 2011-09-21 FUJIFILM Corporation Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2506077A2 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2551113A2 (en) 2011-07-25 2013-01-30 Fujifilm Corporation Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate
WO2013015121A1 (en) 2011-07-27 2013-01-31 富士フイルム株式会社 Photosensitive composition, master plate for planographic printing plate, polyurethane, and method for producing polyurethane
EP2644378A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 Fujifilm Corporation Method of making planographic printing plate and planographic printing plate
JP5613659B2 (en) * 2009-03-23 2014-10-29 Agcセイミケミカル株式会社 Surface treatment agent
EP2796929A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4675729B2 (en) * 2004-09-08 2011-04-27 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor
JP2006106723A (en) * 2004-09-08 2006-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Planographic printing plate precursor
JP2006343667A (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Fujifilm Holdings Corp Lithographic printing original plate
JP5613659B2 (en) * 2009-03-23 2014-10-29 Agcセイミケミカル株式会社 Surface treatment agent
JP5442008B2 (en) * 2009-05-21 2014-03-12 株式会社トクヤマ Resist pattern forming method and developer
WO2010134639A1 (en) * 2009-05-21 2010-11-25 株式会社トクヤマ Method for formation of resist pattern, and developing solution
US8703402B2 (en) 2009-05-21 2014-04-22 Tokuyama Corporation Resist pattern forming method and developer
EP2365389A1 (en) 2010-03-08 2011-09-14 Fujifilm Corporation Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate
EP2366546A2 (en) 2010-03-18 2011-09-21 FUJIFILM Corporation Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2506077A2 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796929A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796928A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2551113A2 (en) 2011-07-25 2013-01-30 Fujifilm Corporation Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate
WO2013015121A1 (en) 2011-07-27 2013-01-31 富士フイルム株式会社 Photosensitive composition, master plate for planographic printing plate, polyurethane, and method for producing polyurethane
EP2644378A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 Fujifilm Corporation Method of making planographic printing plate and planographic printing plate

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