JP2003051530A - Hand for high temperature furnace - Google Patents

Hand for high temperature furnace

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JP2003051530A
JP2003051530A JP2001238223A JP2001238223A JP2003051530A JP 2003051530 A JP2003051530 A JP 2003051530A JP 2001238223 A JP2001238223 A JP 2001238223A JP 2001238223 A JP2001238223 A JP 2001238223A JP 2003051530 A JP2003051530 A JP 2003051530A
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JP
Japan
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hand
high temperature
furnace
temperature furnace
work
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JP2001238223A
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Japanese (ja)
Inventor
Norihisa Handa
典久 半田
Kengo Matsuo
研吾 松尾
Toshio Hirose
敏男 広瀬
Takeo Hashizume
武男 橋爪
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hand for a high temperature furnace, with which a work can be prevented from being damaged by thermal impulse, by reducing a temperature difference from the work when putting in and putting out the work of a high temperature furnace in the production process of a semiconductor or the like. SOLUTION: In a hand 1 for a high temperature furnace for putting in and putting out a work 4 of the high temperature furnace, a main body 2 of the hand to be put in and to be put out of the high temperature furnace is made of quartz, a suction pad 3 for work placing provided on the main body 2 of the hand is made of quartz, and a heater 5 is housed for heating the adsorption pad 3 inside such a main body 2 of the hand or suction pad 3. Since the main body 2 of the hand and the suction pad 3 to be put in and to be put out of the high temperature furnace is not made of metal but is made of quartz, even when they are inserted in the high temperature furnace, a gas from a metal part, which is a conventional problem, does not occur. Further, by heating the suction pad 3 with the heater 5, the temperature difference from the work 4 in the high temperature state inside the high temperature furnace is reduced so that the work 4 can be prevented from being damaged by the thermal impulse.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体の製造プロ
セス等において、高温炉にワークを出し入れする高温炉
用ハンドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high temperature furnace hand for taking a work in and out of a high temperature furnace in a semiconductor manufacturing process or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の製造プロセス等において、高温
炉にワークを出し入れするためのハンドとして、従来、
金属製のハンドが用いられていた。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process or the like, as a hand for putting a work in and out of a high temperature furnace,
A metal hand was used.

【0003】ここで、金属製ハンドを用いて、例えば液
晶用のガラス基板(ワーク)をアニール炉(高温炉:約
400〜800度)に出し入れしようとすると、金属部からガ
スが発生し、半導体製造プロセスではこのガスが悪影響
を与える。よって、実際には、金属ハンドによってガラ
ス基板を高温雰囲気のアニール炉に出し入れできない。
Here, using a metal hand, for example, a glass substrate (workpiece) for liquid crystal is an annealing furnace (high temperature furnace: approximately
400-800 degrees), gas is generated from the metal part, and this gas adversely affects the semiconductor manufacturing process. Therefore, in reality, the glass substrate cannot be put in or taken out of the annealing furnace in the high temperature atmosphere by the metal hand.

【0004】そのため、一旦高温となった炉内が上記ガ
ス発生の影響ない低温となるまで冷めるのを待ち、その
後、低温となった炉内から金属製ハンドによってガラス
基板を取り出していた。そして、低温となった炉内に新
たなガラス基板を投入し、再び炉内を高温にしていた。
Therefore, the glass substrate is taken out from the inside of the furnace once it has become low temperature by waiting until it is cooled down to the low temperature where the gas generation does not affect. Then, a new glass substrate was put into the furnace having a low temperature, and the inside of the furnace was again heated to a high temperature.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、かかる方式
では一旦高温となった炉内が低温になるまで待つ必要が
あるため、待ち時間が生じて生産性が低下する。また、
低温となった炉を再び高温に加熱しなければならないた
め、エネルギ効率が悪い。そこで、本発明者等は、ハン
ドを石英ガラス製とし、高温状態のアニール炉内に挿入
してもガス発生の問題が生じない石英ガラス製のハンド
を開発中である。
By the way, in such a system, since it is necessary to wait until the inside of the furnace, which has once become high in temperature, becomes low in temperature, a waiting time occurs and productivity is lowered. Also,
Energy efficiency is poor because the low temperature furnace must be heated again to high temperature. Therefore, the present inventors are developing a quartz glass hand that does not cause the problem of gas generation even when the hand is made of quartz glass and is inserted into an annealing furnace in a high temperature state.

【0006】しかし、かかる石英ガラス製ハンドであっ
ても、アニール炉内の高温状態のガラス基板をハンドに
よって炉外に取り出す際には、それまで炉外にあった常
温状態のハンドとの温度差が大きいため、ハンドをガラ
ス基板に接触させたときに熱衝撃が生じてガラス基板が
破損する虞がある。
However, even with such a quartz glass hand, when the glass substrate in the high temperature state in the annealing furnace is taken out of the furnace by the hand, the temperature difference from the hand in the room temperature state, which has been outside the furnace until then, is taken. Therefore, when the hand is brought into contact with the glass substrate, the glass substrate may be damaged due to thermal shock.

【0007】以上の事情を考慮して創案された本発明の
目的は、半導体の製造プロセス等において、高温炉にワ
ークを出し入れする際にワークとの温度差を小さくして
熱衝撃によるワークの破損を防止できる高温炉用ハンド
を提供することにある。
The object of the present invention, which was devised in view of the above circumstances, is to reduce the temperature difference between the work and the work when the work is taken in and out of the high temperature furnace in a semiconductor manufacturing process or the like, so that the work is damaged by thermal shock. It is to provide a hand for a high temperature furnace that can prevent the above.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係る高温炉用ハンドは、高温炉にワークを出
し入れする高温炉用ハンドであって、高温炉に出し入れ
されるハンド本体を石英製とし、該ハンド本体に設けた
ワーク載置用の吸着パッドを石英製とし、これらハンド
本体または吸着パッドの内部に、吸着パッドを加熱する
ためのヒータを収容したものである。
To achieve the above object, a high temperature furnace hand according to the present invention is a high temperature furnace hand for loading and unloading a work into and from a high temperature furnace. It is made of quartz, and the suction pad for mounting a work provided on the hand body is made of quartz, and a heater for heating the suction pad is housed inside the hand body or the suction pad.

【0009】本発明によれば、高温炉に出し入れされる
ハンド本体および吸着パッドを金属製ではなく石英製と
したので、これらを高温炉に挿入しても従来問題となっ
ていた金属部からのガスが発生することはない。また、
吸着パッドをヒータで熱しておけば高温炉内の高温状態
のワークとの温度差が小さくなるため、熱衝撃によるワ
ークの破損を防止できる。
According to the present invention, the hand body and the suction pad to be put in and taken out from the high temperature furnace are made of quartz instead of metal, so that even if they are inserted into the high temperature furnace, the hand portion and the suction pad are separated from the metal portion which has been a problem in the past. No gas is generated. Also,
If the suction pad is heated by the heater, the temperature difference between the suction pad and the workpiece in a high temperature state in the high temperature furnace becomes small, so that damage to the workpiece due to thermal shock can be prevented.

【0010】また、上記ハンド本体および吸着パッド
に、ワークを吸着パッドに吸着するための吸引通路を設
けてもよい。こうすれば、石英製の吸着パッド上に載置
されるワークは、ハンドでワークを高温炉に出し入れす
る際に慣性力等によってハンドから滑り落ち易いが、ワ
ークを吸着パッドに吸着することにより、滑り落ちるこ
とはない。
Further, the hand body and the suction pad may be provided with a suction passage for sucking a work on the suction pad. In this way, the work placed on the suction pad made of quartz tends to slip off from the hand due to inertial force when the work is put in and out of the high temperature furnace by the hand, but by sticking the work to the suction pad, It doesn't slip off.

【0011】また、上記ハンド本体が円筒体からなり、
その内部が上記吸引通路であると共に上記ヒータの収容
部であってもよい。こうすれば、簡単な構造で吸引通路
およびヒータ格納部を確保でき、ヒータがハンド本体内
にシールドされるので高温炉に挿入した際のヒータから
の発塵の問題もない。すなわち、ヒータから生じた発塵
は、ハンド本体内の吸引通路を介して炉外に排出され
る。
The hand body is made of a cylindrical body,
The inside may be the suction passage and the housing portion of the heater. In this way, the suction passage and the heater housing can be secured with a simple structure, and the heater is shielded in the hand body, so there is no problem of dust generation from the heater when it is inserted into the high temperature furnace. That is, the dust generated from the heater is discharged to the outside of the furnace via the suction passage in the hand body.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の一実施形態を添付図面に
基いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0013】図1に、液晶用のガラス基板(ワーク)を
アニール炉(高温炉:約400〜800度)に出し入れするた
めの高温炉用ハンドの概要を示す。
FIG. 1 shows an outline of a high temperature furnace hand for putting a glass substrate (workpiece) for liquid crystal in and out of an annealing furnace (high temperature furnace: about 400 to 800 degrees).

【0014】図示するように、この高温炉用ハンド1
は、高温雰囲気のアニール炉に出し入れされるハンド本
体2と、ハンド本体2に設けた吸着パッド3とを有す
る。これらハンド本体2および吸着パッド3は、石英ガ
ラスから成形されている。吸着パッド3上には、液晶用
のガラス基板4が載置される。ハンド本体2の内部に
は、吸着パッド3を加熱するためのヒータ5が収容され
ており、ハンド本体2および吸着パッドに3は、ガラス
基板4を吸着パッド3に吸着するための吸引通路6a、
6bが形成されている。
As shown, this high temperature furnace hand 1
Has a hand body 2 that is put in and taken out from an annealing furnace in a high temperature atmosphere, and a suction pad 3 provided on the hand body 2. The hand body 2 and the suction pad 3 are made of quartz glass. A glass substrate 4 for liquid crystal is placed on the suction pad 3. A heater 5 for heating the suction pad 3 is housed inside the hand body 2, and the hand body 2 and the suction pad 3 have a suction passage 6 a for sucking the glass substrate 4 on the suction pad 3,
6b is formed.

【0015】かかるハンド1は、マニピュレータ等の操
作アームに取り付けられて複数並列配置されており、そ
れらの各吸着パッド3上にガラス基板4が複数点支持さ
れて載置されるようになっている。他方、アニール炉内
には、ガラス基板4を複数点支持するためのピンが複数
設けられている。そして、上記ハンド1は、その吸着パ
ッド3上に載置されたガラス基板4をアニール炉外から
炉内のピンに載せ替えたり、炉内のピン上に載置された
ガラス基板4を吸着パッド3で掬い上げて炉外に取り出
すために用いられる。
A plurality of such hands 1 are attached to an operation arm such as a manipulator and arranged in parallel, and a plurality of glass substrates 4 are supported and placed on the respective suction pads 3 thereof. . On the other hand, a plurality of pins for supporting the glass substrate 4 at a plurality of points are provided in the annealing furnace. The hand 1 transfers the glass substrate 4 placed on the suction pad 3 from outside the annealing furnace to a pin inside the furnace, or sucks the glass substrate 4 placed on the pin inside the furnace into the suction pad. It is used to scoop at 3 and take it out of the furnace.

【0016】ハンド本体2は、試験管のような有底円筒
体からなり、その内部が吸引通路6aとなっていると共
にヒータ5の収容部7となっている。ハンド本体2の開
口部には、石英ガラスからなるハンドフランジ8が、溶
着または削り出し等によって一体的に設けられている。
かかるハンド本体2は、マニピュレータ等の操作アーム
に取り付けた支持フランジ9に、二分割の組付カラー1
0とそれを囲繞する円筒状のスペーサ11とを介し、ボ
ルトナット12によって取り付けられている。支持フラ
ンジ9、組付カラー10およびスペーサ11は、これら
の部分まではアニール炉内に挿入されないため、金属製
である。
The hand body 2 is formed of a bottomed cylindrical body such as a test tube, and the inside thereof serves as a suction passage 6a and also serves as a housing portion 7 for the heater 5. A hand flange 8 made of quartz glass is integrally provided in the opening of the hand body 2 by welding, shaving, or the like.
The hand body 2 is constructed such that a support flange 9 attached to an operation arm such as a manipulator is attached to a two-piece assembly collar 1.
It is attached by a bolt nut 12 via 0 and a cylindrical spacer 11 surrounding it. The support flange 9, the assembling collar 10 and the spacer 11 are made of metal because they are not inserted into the annealing furnace up to these parts.

【0017】ハンドフランジ8と支持フランジ9との間
には、支持フランジ9に対するハンド本体2の回動を防
止するため、図示しない回動防止機構(キー溝機構等)
が設けられている。支持フランジ9には、ハンド本体2
内の吸引通路6aに連通する吸引通路6cが形成されて
いる。吸引通路6cには、冷却用の熱交換器13を介し
て吸出ポンプ14が接続されている。また、支持フラン
ジ9には、ハンドフランジ8との間をシールするシール
材15(Oリング等)が設けられ、組付カラー10の内
周面には、ハンド本体2との間をシールするシール材1
6(Oリング等)が設けられている。
Between the hand flange 8 and the support flange 9, in order to prevent the hand body 2 from rotating with respect to the support flange 9, a rotation preventing mechanism (key groove mechanism or the like) not shown.
Is provided. The support flange 9 has a hand body 2
A suction passage 6c communicating with the suction passage 6a therein is formed. A suction pump 14 is connected to the suction passage 6c via a heat exchanger 13 for cooling. Further, the support flange 9 is provided with a sealing material 15 (O-ring or the like) for sealing with the hand flange 8, and the inner peripheral surface of the assembling collar 10 is for sealing with the hand body 2. Material 1
6 (O-ring, etc.) are provided.

【0018】ハンド本体2の上面には、長手方向に適宜
間隔を隔てて、石英ガラス製の吸着パッド3が、溶着等
によって一体的に取り付けられている。吸着パッド3
は、高さの低い円柱体からなり、その上面に凹設された
吸着凹部17と、その周囲に環状に凸設され実質的にガ
ラス基板4が接触する接触部18と、中心に貫通形成さ
れた吸引通路6bとを有する。吸着パッド3の吸引通路
6bは、ハンド本体2に穿たれた穴19を介して、ハン
ド本体2内の吸引通路6aと連通されている。
Adsorption pads 3 made of quartz glass are integrally attached to the upper surface of the hand body 2 at appropriate intervals in the longitudinal direction by welding or the like. Suction pad 3
Is a columnar body having a low height, and has a suction concave portion 17 formed in a concave shape on the upper surface thereof, a contact portion 18 formed in a circular shape around the suction concave portion 17 and substantially in contact with the glass substrate 4, and penetratingly formed in the center. And a suction passage 6b. The suction passage 6b of the suction pad 3 is communicated with the suction passage 6a in the hand body 2 through a hole 19 formed in the hand body 2.

【0019】吸着凹部17は、ガラス基板4に対する吸
着力の作用面積を大きくして吸着力を高めるために設け
られるものであり、ガラス基板4の重さや吸出ポンプ1
4の吸引力等によって適宜その面積が決定される。すな
わち、吸着凹部17の面積は、マニピュレータによって
ハンド1を動かして吸着パッド3上のガラス基板4をア
ニール炉に出し入れする際に、ガラス基板4が慣性力等
によって硬く滑り易い石英ガラス製の吸着パッド3上か
ら滑り落ちることを防止できる吸着力を発生させる大き
さに、設定されている。
The suction concave portion 17 is provided to increase the acting area of the suction force with respect to the glass substrate 4 and increase the suction force, and the weight of the glass substrate 4 and the suction pump 1 are provided.
The area is appropriately determined by the suction force of 4 or the like. That is, the area of the suction recess 17 is such that the glass substrate 4 is hard and slippery due to inertial force when the hand 1 is moved by the manipulator to move the glass substrate 4 on the suction pad 3 into and out of the annealing furnace. 3 The size is set to generate a suction force capable of preventing slipping down from above.

【0020】ハンド本体2の内部には、吸着パッド3を
加熱するためのヒータ5が収容されている。ヒータ5
は、電気抵抗により発熱するFe-Cr-Al系等の発熱線5a
からなり、アニール炉によって高温に加熱されたガラス
基板4に吸着パッド3を接触させたとき、ガラス基板4
が熱衝撃によって破損しない程度の温度(アニール温度
より200度程度低い温度)まで吸着パッド3を加熱す
る。発熱線5aは、支持フランジ9に取り付けたシール
プラグ20を介して、ハンド本体2の外部に引き出され
ている。
A heater 5 for heating the suction pad 3 is housed inside the hand body 2. Heater 5
Is a heating wire 5a of Fe-Cr-Al system or the like that generates heat due to electrical resistance
When the adsorption pad 3 is brought into contact with the glass substrate 4 heated to a high temperature by the annealing furnace, the glass substrate 4
The adsorption pad 3 is heated to a temperature at which is not damaged by thermal shock (a temperature lower than the annealing temperature by about 200 degrees). The heating wire 5 a is drawn out of the hand body 2 via a seal plug 20 attached to the support flange 9.

【0021】以上の構成から成る本実施形態の作用を述
べる。
The operation of this embodiment having the above configuration will be described.

【0022】本実施形態にかかるハンド1によれば、ハ
ンド本体2および吸着パッド3を金属製ではなく石英ガ
ラス製としたので、これらを高温雰囲気(約800度)のア
ニール炉に挿入しても、従来問題となっていた金属部か
らのガスが発生することはない。よって、かかるハンド
1を用いて、高温状態(約400〜800度)のアニール炉内に
ガラス基板4を出し入れできる。
According to the hand 1 of the present embodiment, the hand body 2 and the suction pad 3 are made of quartz glass instead of metal, so that they can be inserted into an annealing furnace in a high temperature atmosphere (about 800 degrees). The gas from the metal part, which has been a problem in the past, is not generated. Therefore, the glass substrate 4 can be put in and taken out from the annealing furnace in a high temperature state (about 400 to 800 degrees) by using the hand 1.

【0023】従って、上記ハンド1によれば、従来の金
属製ハンドでは金属部からのガスの発生を防止するため
に必要であった、一旦高温となった炉内が低温となるま
で待つ待ち時間がなくなり、生産性が向上する。また、
上記ハンド1によれば、炉を高温に維持したままハンド
1によってガラス基板4を出し入れできるので、従来の
金属製ハンドでは必要であった低温に冷めた炉を再び高
温に加熱する工程がなくなり、エネルギ効率が向上す
る。
Therefore, according to the hand 1, the waiting time to wait until the inside temperature of the furnace once becomes high becomes low, which was necessary in the conventional metal hand to prevent the generation of gas from the metal part. Is eliminated and productivity is improved. Also,
According to the hand 1, since the glass substrate 4 can be put in and taken out by the hand 1 while keeping the furnace at a high temperature, there is no step of heating the furnace cooled to a low temperature to a high temperature, which is necessary in the conventional metal hand. Energy efficiency is improved.

【0024】また、吸着パッド3をヒータ5で所定温度
まで加熱しておくことより、炉内の高温状態(約400〜80
0度)のガラス基板4と炉外の吸着パッド3との温度差を
小さくできるため、ガラス基板4に吸着パッド3を接触
させたときの熱衝撃によるガラス基板4の破損を防止で
きる。すなわち、アニール処理後、炉内の高温状態(約4
00〜800度)のガラス基板4を上記ハンド1によって炉外
に取り出すわけであるが、このとき常温状態の吸着パッ
ド3を高温状態のガラス基板4に接触させると熱衝撃に
よってガラス基板4が破損するため、接触させる前にヒ
ータ5によって予め吸着パッド3を所定温度まで加熱し
ておくわけである。
Further, by heating the adsorption pad 3 to a predetermined temperature by the heater 5, a high temperature state (about 400 to 80
Since the temperature difference between the glass substrate 4 (0 degree) and the suction pad 3 outside the furnace can be reduced, it is possible to prevent the glass substrate 4 from being damaged by a thermal shock when the suction pad 3 is brought into contact with the glass substrate 4. That is, after the annealing treatment, the high temperature state (about 4
The glass substrate 4 of (00 to 800 degrees) is taken out of the furnace by the hand 1, but at this time, if the suction pad 3 at room temperature is brought into contact with the glass substrate 4 at high temperature, the glass substrate 4 is damaged by thermal shock. Therefore, the suction pad 3 is preheated to a predetermined temperature by the heater 5 before being brought into contact with each other.

【0025】また、上記ハンド1において、石英ガラス
製の吸着パッド3上に載置されるガラス基板4は、石英
との接触で摩擦抵抗が低いため、ハンド1でガラス基板
4をアニール炉(高温炉)に出し入れする際に慣性力等
によってハンド1から滑り落ち易いが、ガラス基板4を
吸着パッド3に吸着するようにしたので、滑り落ちるこ
とはない。よって、ガラス基板4を移送中確実に保持で
きる。
In the hand 1, the glass substrate 4 placed on the suction pad 3 made of quartz glass has a low frictional resistance due to contact with quartz. Although it is easy to slip off from the hand 1 due to inertial force when it is put in and out of the furnace, it does not slip down because the glass substrate 4 is sucked onto the suction pad 3. Therefore, the glass substrate 4 can be reliably held during transfer.

【0026】また、ハンド本体2を円筒体から構成し、
その内部を吸引通路6aとヒータ収容部7とに兼用させ
ているので、簡単な構造で吸引通路6aおよびヒータ格
納部7を確保できる。また、ヒータ5がハンド本体2内
にシールドされるので、高温炉に挿入した際のヒータ5
からの発塵の問題もない。すなわち、ヒータ5から生じ
た発塵は、ハンド本体2内の吸引通路6aを介して炉外
に排出されるため、半導体(ガラス基板4)製造プロセ
スに対して悪影響を与えない。
Further, the hand body 2 is composed of a cylindrical body,
Since the suction passage 6a and the heater accommodating portion 7 have the same interior, the suction passage 6a and the heater accommodating portion 7 can be secured with a simple structure. Further, since the heater 5 is shielded inside the hand body 2, the heater 5 when it is inserted into the high temperature furnace
There is no problem of dust generation. That is, since the dust generated from the heater 5 is discharged to the outside of the furnace through the suction passage 6a in the hand body 2, it does not adversely affect the semiconductor (glass substrate 4) manufacturing process.

【0027】つまり、吸出ポンプ14によって吸引通路
6a、6b、6cから引き出されるエアは、ガラス基板
4を吸着パッド3に吸着させる吸着力を発生させる吸着
流体として機能するのみならず、ヒータ5から生じた発
塵を炉外に排出する作動流体としても機能する。また、
このように吸出ポンプ14によってハンド本体2内のエ
アを炉外に引き出すことにより、ハンド本体2内が負圧
状態となって「ヒータ収容部7の圧力<炉内圧力」とな
るため、ヒータ5から生じた発塵が炉内に拡散すること
はない。
That is, the air drawn out from the suction passages 6a, 6b, 6c by the suction pump 14 functions not only as an adsorbing fluid for generating an adsorbing force for adsorbing the glass substrate 4 on the adsorbing pad 3, but also from the heater 5. It also functions as a working fluid that discharges dust generated outside the furnace. Also,
In this way, the suction pump 14 draws the air in the hand body 2 out of the furnace, so that the inside of the hand body 2 is in a negative pressure state and "the pressure of the heater accommodating portion 7 <the pressure in the furnace" is established. The dust generated from the furnace does not diffuse into the furnace.

【0028】また、ハンド本体2を円筒体から構成し、
その内部をヒータ収容部7にしているので、ヒータ5が
破損した場合、ボルトナット12を緩めてハンド本体2
を支持フランジ9から取り外すことでその破損したヒー
タ5を容易に交換でき、メンテナンス性が高まる。但
し、メンテナンス性を考慮しなければ、ヒータ5を吸着
パッド3の内部に埋設してもよい。こうすれば、吸着パ
ッド3を効率よく加熱できる。
Further, the hand body 2 is composed of a cylindrical body,
Since the inside is the heater accommodating portion 7, when the heater 5 is damaged, the bolt nut 12 is loosened and the hand body 2
By removing the heater 5 from the support flange 9, the damaged heater 5 can be easily replaced and the maintainability is improved. However, if the maintainability is not considered, the heater 5 may be embedded inside the suction pad 3. By doing so, the suction pad 3 can be efficiently heated.

【0029】なお、吸着パッド3(石英ガラス製)の接
触部18をスリガラス状に加工すれば、ガラス基板4と
の摩擦抵抗が増加するため、落下防止効果が向上する。
但し、吸着パッド3全体をスリガラス状にすることは、
一旦、塵芥が付着した場合に洗浄によって完全に洗い流
すことが困難であり、高温雰囲気(約400〜800度)のアニ
ール炉内に挿入したときに発塵の原因になるため、好ま
しくない。よって、接触部18以外の部分の吸着パッド
3は、表面スベスベの状態となっている。
If the contact portion 18 of the suction pad 3 (made of quartz glass) is processed into a ground glass shape, the friction resistance with the glass substrate 4 is increased, so that the fall prevention effect is improved.
However, if the entire suction pad 3 is ground glass,
Once dust is once attached, it is difficult to completely wash it away by washing, and this is not preferable because it causes dust generation when it is inserted into an annealing furnace in a high temperature atmosphere (about 400 to 800 degrees). Therefore, the suction pad 3 in the portion other than the contact portion 18 is in a surface slippery state.

【0030】また、同様の理由(発塵問題)により、ハ
ンド本体2(石英ガラス製)もスリガラス状ではなく、
表面スベスベの状態となっている。
For the same reason (dust problem), the hand body 2 (made of quartz glass) is not ground glass,
The surface is smooth.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る高温炉
用ハンドによれば、半導体の製造プロセス等において、
高温炉にワークを出し入れする際にワークとの温度差を
小さくして熱衝撃によるワークの破損を防止できる。
As described above, according to the high temperature furnace hand according to the present invention, in the semiconductor manufacturing process, etc.
When the work is put in and out of the high temperature furnace, the temperature difference between the work and the work can be reduced to prevent the work from being damaged by thermal shock.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態を示す高温炉用ハンドの説
明図であり、図1(a)は側断面図、図1(b)は図1(a)の
b−b線断面図である。
FIG. 1 is an explanatory view of a hand for a high temperature furnace showing an embodiment of the present invention, FIG. 1 (a) is a side sectional view, and FIG. 1 (b) is a sectional view taken along line bb of FIG. 1 (a). Is.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 高温炉用ハンド 2 ハンド本体 3 吸着パッド 4 ワークとしてのガラス基板 5 ヒータ 6 吸引通路 6a 吸引通路 6b 吸引通路 6c 吸引通路 7 収容部 1 Hand for high temperature furnace 2 hand body 3 adsorption pad 4 Glass substrate as work 5 heater 6 suction passage 6a Suction passage 6b Suction passage 6c Suction passage 7 accommodation

フロントページの続き (72)発明者 松尾 研吾 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 (72)発明者 広瀬 敏男 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 (72)発明者 橋爪 武男 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 Fターム(参考) 3C007 AS05 AS30 DS01 FS01 FT10 FT11 FU00 NS13 5F031 CA05 FA02 FA07 GA08 GA24 GA26 GA32 GA33 GA37 MA30 NA14 NA18 PA07 PA11 PA20 PA26 Continued front page    (72) Inventor Kengo Matsuo             3-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima             Harima Heavy Industries Tokyo Engineering Co., Ltd.             In the center (72) Inventor Toshio Hirose             3-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima             Harima Heavy Industries Tokyo Engineering Co., Ltd.             In the center (72) Inventor Takeo Hashizume             3-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima             Harima Heavy Industries Tokyo Engineering Co., Ltd.             In the center F-term (reference) 3C007 AS05 AS30 DS01 FS01 FT10                       FT11 FU00 NS13                 5F031 CA05 FA02 FA07 GA08 GA24                       GA26 GA32 GA33 GA37 MA30                       NA14 NA18 PA07 PA11 PA20                       PA26

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高温炉にワークを出し入れする高温炉用
ハンドであって、高温炉に出し入れされるハンド本体を
石英製とし、該ハンド本体に設けたワーク載置用の吸着
パッドを石英製とし、これらハンド本体または吸着パッ
ドの内部に、吸着パッドを加熱するためのヒータを収容
したことを特徴とする高温炉用ハンド。
1. A hand for a high temperature furnace for loading and unloading a work into and from a high temperature furnace, wherein a hand body that is loaded and unloaded into and from the high temperature furnace is made of quartz, and a suction pad for mounting a work provided on the hand body is made of quartz. A high temperature furnace hand characterized in that a heater for heating the suction pad is housed inside the hand body or the suction pad.
【請求項2】 上記ハンド本体および吸着パッドに、ワ
ークを吸着パッドに吸着するための吸引通路を設けた請
求項1記載の高温炉用ハンド。
2. The high temperature furnace hand according to claim 1, wherein the hand body and the suction pad are provided with a suction passage for adsorbing a work to the suction pad.
【請求項3】 上記ハンド本体が円筒体からなり、その
内部が上記吸引通路であると共に上記ヒータの収容部で
ある請求項2記載の高温炉用ハンド。
3. The high temperature furnace hand according to claim 2, wherein the hand body is a cylindrical body, and the inside of the hand body is the suction passage and the housing portion of the heater.
JP2001238223A 2001-08-06 2001-08-06 Hand for high temperature furnace Withdrawn JP2003051530A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103273494A (en) * 2013-05-21 2013-09-04 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal displayer substrate carrying device and using method thereof

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