JP2003049998A - ガス拘束装置 - Google Patents

ガス拘束装置

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JP2003049998A JP2002133691A JP2002133691A JP2003049998A JP 2003049998 A JP2003049998 A JP 2003049998A JP 2002133691 A JP2002133691 A JP 2002133691A JP 2002133691 A JP2002133691 A JP 2002133691A JP 2003049998 A JP2003049998 A JP 2003049998A
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James Robert Smith
ロバート スミス ジェイムズ
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レギュレータの破損時、周囲の汚染及び／又
は火災の問題を解決することができるガス拘束装置を提
供する。 【解決手段】 本発明は、ガス拘束装置に関する。ガス
拘束装置は、高圧ガスの供給源(1)と、処理装置への高
圧ガスの供給を調整するレギュレータ(3)とを有してい
る。また、ガス拘束装置は、レギュレータ(3)が破損し
たときにレギュレータ(3)から漏れるガスを大気圧より
も低い圧力のチャンバー(10)内に差し向ける手段を更に
有している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス拘束装置に関
し、更に詳細には、例えば構成部品の破損により装置か
ら偶発的に解放されたガスを拘束し、好ましくは、その
ガスを消勢させる装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子の製造では、半導体素子自体
の製造処理のために及び半導体素子の処理が行われる装
置の清掃／条件付けのために、多数のガスが採用されて
いる。これらのガスの多くは、それらが有毒又は自燃性
である点で危険である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これらのガスは、加圧
ガスのシリンダーから供給される高圧又はガスの大容量
貯蔵装置から配供される高圧で半導体処理装置に供給さ
れる傾向がある。両方の場合において、半導体処理装置
内で必要とされる圧力における半導体処理装置へガスの
供給は、ガス圧レギュレータによって制御されている。
しかしながら、ガス圧レギュレータの破損又はガス供給
装置が有するその他の構成部品の破損の場合、問題が生
じる。
【０００４】ガス圧レギュレータ自体に関し、ガス圧レ
ギュレータは、普通、ダイヤフラムを有し、このダイヤ
フラムの一方の側には、基準圧力、例えば大気圧が付与
され、ダイヤフラムの他方の側には、処理装置内で必要
とされる圧力が付与される。
【０００５】破損、例えばダイヤフラムの破断の場合、
ガス圧レギュレータの基準圧力側の高圧ガスは解放さ
れ、大気に漏れ、周囲を損傷させることがあり、自燃性
ガスの場合、火災を引き起こすこともある。
【０００６】破損の場合、ガス圧レギュレータの基準圧
力側をダクトに通気させ、ガスを半導体装置の作業領域
から遠ざけることが良く行われている。しかしながら、
かかる通気は、周囲の汚染及び／又は火災の問題を解決
しない。
【０００７】本発明は、かかる問題を解決することがで
きるガス拘束装置を提供することに係わる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、高圧ガ
スの供給源と、処理装置への高圧ガスの供給を調整する
手段と、この調整手段の破損の場合、調整手段から漏れ
るガスを、大気圧よりも低い圧力のチャンバー内に差し
向ける手段と、を有するガス拘束装置を提供する。
【０００９】好ましくは、調整手段は、ガス圧レギュレ
ータを含む。かかる実施形態では、ガス差し向け手段
は、ガス圧レギュレータの基準圧力側に接続されてい
る。
【００１０】好ましい実施形態では、１よりも多いガス
拘束装置からの前記ガス差し向け手段が、大気圧よりも
低い圧力の１つのチャンバーに接続されている。
【００１１】調整手段とチャンバーとの間に、逆流防止
弁が設けられることが有利である。これは、１よりも多
いガス拘束装置からのガス差し向け手段が単一のチャン
バーに接続されているとき、特に有利である。かかる実
施形態では、例えば、拘束装置のうちの１つのダイヤフ
ラムが破損した場合に、基準圧力、従って、損傷してい
ない残りのガス拘束装置の連続作動能力が影響を受けな
いように、各ガス拘束装置毎に逆流防止弁があることが
好ましい。
【００１２】特にガス拘束装置内に存在するいずれのガ
ス圧レギュレータの基準圧力側も大気圧よりも低い圧力
に接続されているので、変更されるオフセット圧力に備
えるために、ガス圧レギュレータの供給設定値圧力を再
設定する必要があることに注意すべきである。例えば、
供給(要求)圧力に１ｂａｒを加えることにより、実際の
供給圧力をもともとの有効作動圧力に戻す。
【００１３】ガス拘束装置のチャンバーは、好ましく
は、大気圧よりも低い圧力まで真空ポンプによって排気
される。
【００１４】調整手段の破損を、チャンバー内の結果的
な圧力上昇を測定することによって検出するために、チ
ャンバーと関連した圧力モニターが設けられる。
【００１５】本発明のガス拘束装置から漏れるガスを収
集したら、一般的には、チャンバー内のガス本来の有毒
性及び／又は自燃性を消勢させる必要があり、好ましく
は、ガス自体の固有の圧力によって及び／又はチャンバ
ーの下流に取付けられた真空ポンプによって、ガスを消
勢装置の中に差し向け、消勢装置の中で、ガスを無害に
し且つ大気への解放に適したものにする。
【００１６】本発明のガス拘束装置の概略を示す添付図
面を参照することにより、本発明の理解をより深めるこ
とができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】図面を参照すれば、シリンダ１の
形態の高圧ガス供給源を有するガス拘束装置が示されて
おり、高圧ガス供給源は、パイプ２によってガス圧レギ
ュレータ３に接続されている。ガス圧レギュレータ３
は、供給圧力チャンバー５と基準圧力チャンバー６とを
分離するダイヤフラム４を有している。
【００１８】ガス圧レギュレータ３の基準圧力チャンバ
ー６は、パイプ７、８、９によってチャンバー１０に接
続され、このチャンバー１０は、真空ポンプ１１によっ
て大気圧よりも低い圧力まで排気されるように設計され
ている。チャンバー１０を真空ポンプ１１から隔絶する
弁１３が設けられている。
【００１９】真空ポンプ１１の排気側は、消勢装置１４
に接続され、チャンバー１０から消勢装置１４に差し向
けられたガスは、環境的に許容されるようにされる。
【００２０】ガス圧レギュレータ３と同様の更なる３つ
のガス圧レギュレータ(図示せず)をそれぞれパイプ８に
接続するパイプ１５、１６、１７も図示されている。ガ
ス圧レギュレータ３、１５、１６、１７の各々は、それ
自体独立した加圧ガス供給源を有していても良いし、或
いは、加圧された１つの大容量ガス貯蔵装置に接続され
ていても良い。
【００２１】ガス圧レギュレータ３に向かうガスの逆流
を防止する逆流防止弁即ちチェック弁１８が、設けられ
ている。同様な逆流防止弁１９、２０、２１がそれぞ
れ、パイプ１５、１６、１７に設けられている。
【００２２】かかる逆流防止弁の圧力による恩恵は、主
として、１よりも多いガス圧レギュレータを備えたガス
拘束装置にあり、１つのレギュレータが破損したとき、
破損したレギュレータに対応する逆流防止弁を通ってき
たガス流は、その他の逆流防止弁の存在のため、その他
のガス圧レギュレータの基準圧力に影響を及ぼさない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるガス圧装置の概略図である。
【符号の説明】
１ 高圧ガス供給源 ２ パイプ ３ ガス圧レギュレータ ４ ダイヤフラム ５ 供給圧力チャンバー ６ 基準圧力チャンバー６ ７、８、９ パイプ １０ チャンバー １１ 真空ポンプ １３ 弁 １４ 消勢装置 １５、１６、１７ パイプ １８、１９、２０、２１ 逆流防止弁
フロントページの続き Ｆターム(参考） 3E072 AA01 DB03 GA30 4G068 AA01 AB04 AC05 AD40 AF06 AF07 AF16 AF27

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 高圧ガスの供給源と、処理装置への高圧
    ガスの供給を調整する手段と、この調整手段が破損した
    場合に、前記調整手段から漏れるガスを、大気圧よりも
    低い圧力のチャンバー内に差し向ける手段と、を有する
    ガス拘束装置。
  2. 【請求項２】 前記調整手段は、ガス圧レギュレータを
    含む、請求項１に記載のガス拘束装置。
  3. 【請求項３】 前記ガス差し向け手段は、前記ガス圧レ
    ギュレータの基準圧力側に接続されている、請求項２に
    記載のガス拘束装置。
  4. 【請求項４】 １よりも多い前記ガス拘束装置からの前
    記ガス差し向け手段が、大気圧よりも低い圧力の１つの
    チャンバーに接続されている、請求項１乃至３の何れか
    １項に記載のガス拘束装置。
  5. 【請求項５】 前記調整手段と前記チャンバーとの間
    に、逆流防止弁が設けられている、請求項１乃至４の何
    れか１項に記載のガス拘束装置。
  6. 【請求項６】 前記チャンバーは、真空ポンプによって
    大気圧よりも低い圧力まで排気される、請求項１乃至５
    の何れか１項に記載のガス拘束装置。
  7. 【請求項７】 前記調整手段の破損を検出するために、
    前記チャンバーと関連した圧力モニターが設けられる、
    請求項１乃至６の何れか１項に記載のガス拘束装置。
  8. 【請求項８】 前記チャンバー内のガスは、消勢装置に
    差し向けられる、請求項１乃至７の何れか１項に記載の
    ガス拘束装置。
JP2002133691A 2001-05-09 2002-05-09 ガス拘束装置 Pending JP2003049998A (ja)

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US20020179156A1 (en) 2002-12-05
EP1258670A3 (en) 2005-06-15
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