JP2003048141A - Device for polishing cathode beam for electrolysis, and cathode manufacturing device - Google Patents

Device for polishing cathode beam for electrolysis, and cathode manufacturing device

Info

Publication number
JP2003048141A
JP2003048141A JP2001239972A JP2001239972A JP2003048141A JP 2003048141 A JP2003048141 A JP 2003048141A JP 2001239972 A JP2001239972 A JP 2001239972A JP 2001239972 A JP2001239972 A JP 2001239972A JP 2003048141 A JP2003048141 A JP 2003048141A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode
polishing
electrolysis
polishing apparatus
inclined surfaces
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001239972A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Maki
公一 牧
Takamitsu Kaneda
貴光 金田
Kazunori Tajiri
和徳 田尻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Mining Holdings Inc
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining and Metals Co Ltd
Nippon Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining and Metals Co Ltd, Nippon Mining Co Ltd filed Critical Nippon Mining and Metals Co Ltd
Priority to JP2001239972A priority Critical patent/JP2003048141A/en
Publication of JP2003048141A publication Critical patent/JP2003048141A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for polishing a cathode beam for electrolysis which can excellently polish an inclined surface of each corner part, remove a film of oxides and sulfates causing electric resistance thereby, keeping the inclined surface clean, reducing the voltage drop and unifying the current distribution. SOLUTION: Polishing means 30A and 30B for polishing both inclined surfaces 107 of the beam which is held and moved by a guide means 10 are installed below the guide means 10 which holds the beam 104, and moves and guides the beam in the longitudinally axial direction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、非鉄金属の電解精
製、電解採取などの電解工程にて使用されるカソード
(陰極板)を電解槽にて吊下げ、支持するためのビーム
(導電用棹)の研磨装置、及び、研磨されたビームをリ
ボンにて種板(カソード)に取り付けビームが取り付け
られたカソードを製造するカソード製造装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beam (conducting rod) for suspending and supporting a cathode (cathode plate) used in electrolytic processes such as electrolytic refining and electrowinning of non-ferrous metals in an electrolytic cell. ), And a cathode manufacturing apparatus for manufacturing a cathode having a beam attached to a seed plate (cathode) with a polished beam attached to a seed plate (cathode).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば銅電解精錬における電解工
程においては、通常、長方形の電解槽が設けられ、各電
解槽中には、図8に示すように、粗銅(99%Cu)か
らなるアノード101と、種板とされるカソード102
が交互に平行となるように配置される。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in an electrolytic process in copper electrolytic refining, a rectangular electrolytic cell is usually provided, and each electrolytic cell has an anode made of crude copper (99% Cu) as shown in FIG. 101 and a cathode 102 serving as a seed plate
Are arranged in parallel with each other.

【0003】電解槽の槽壁上にはブスバー103(10
3a、103b)が配置されており、このブスバー10
3上に、アノード101の耳部101A、及びカソード
102を吊下げ支持したビーム104の端部104Aが
配置される。例えば、電解槽1個当たり、アノード10
1は56枚、カソード102は57枚とされる。
The bus bar 103 (10
3a, 103b) are arranged in the bus bar 10
3A, the ear portion 101A of the anode 101 and the end portion 104A of the beam 104 that suspends and supports the cathode 102 are arranged. For example, 10 anodes per electrolytic cell
There are 56 sheets of 1 and 57 sheets of cathode 102.

【0004】特に、カソード102は電解槽に吊り下げ
るためにその上端にカソード102と同材質の薄板にて
ループ状に形成された取付け具(リボン)105を2箇
所に取り付け、このループ105の中にビーム104を
通し、ループ105とビーム104との接触面を通じて
電流を通している。従って、ループ105とビーム10
4との電気的接触部は、電気的に良好な接触状態を保つ
ことが必要である。
In particular, in order to suspend the cathode 102 from the electrolytic cell, two attachments (ribbons) 105 formed in a loop shape by a thin plate made of the same material as the cathode 102 are attached to the upper end of the cathode 102. Through the beam 104, and current is passed through the contact surface between the loop 105 and the beam 104. Therefore, the loop 105 and the beam 10
It is necessary for the electrical contact portion with 4 to maintain a good electrical contact state.

【0005】通常、ビーム104は、図8に示すよう
に、四角形断面の棒状体、即ち、直方体型ビームとさ
れ、材料としては、電気抵抗を小さくするために純銅が
用いられている。電解操業終了後にカソード102から
取り外されたビーム104は、繰り返し使用される。
As shown in FIG. 8, the beam 104 is usually a rod having a quadrangular cross section, that is, a rectangular parallelepiped beam, and pure copper is used as a material for reducing electric resistance. The beam 104 removed from the cathode 102 after the electrolytic operation is finished is repeatedly used.

【0006】本出願人は、特開2000−345380
号公報にて、図8に示すように、ビーム104の長手軸
線方向に沿って延在する各角部に傾斜面107が形成さ
れた、カソードリボン105との電気的接触が良好なビ
ーム104を提案した。
[0006] The applicant of the present invention filed Japanese Patent Laid-Open No. 2000-345380.
In the publication, as shown in FIG. 8, a beam 104 in which an inclined surface 107 is formed at each corner extending along the longitudinal axis of the beam 104 and which has good electrical contact with the cathode ribbon 105 is disclosed. Proposed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ビーム
104は、電解操業中に電解液等の付着により酸化物や
硫酸化物の皮膜ができる結果、放置しておくとビーム表
面での電気抵抗が増加する。この抵抗のためリボン10
5とビーム104の接触部では電圧降下が起こり、消費
電力の増加や槽内の電流分布の不均一化を生じさせる。
電流分布が不均一な場合、局部的な電流集中が起こる結
果、電着物が樹枝状の形態となり短絡が発生して電流効
率の低下を招くことになる。
However, as a result of the deposition of the electrolytic solution or the like on the beam 104 during the electrolytic operation, a film of an oxide or a sulfate is formed, and as a result, the electrical resistance on the beam surface increases if left unattended. . Ribbon 10 because of this resistance
A voltage drop occurs at the contact portion between the beam 5 and the beam 104, resulting in an increase in power consumption and non-uniformity of current distribution in the tank.
When the current distribution is non-uniform, local current concentration occurs, and as a result, the electrodeposit becomes a dendritic form and a short circuit occurs, resulting in a decrease in current efficiency.

【0008】従って、従来、一度電解工程に使用したビ
ーム104は、次回の使用前に、表面を研磨し、表面の
電気的特性を良好にした後、再度電解工程で使用するこ
とが行われている。ビーム104の研磨作業は、通常、
多数のビーム104を密着して平面状に整列し、その
後、整列した各ビーム104の上面を研磨する、といっ
た方法が取られている。
Therefore, conventionally, the beam 104 once used in the electrolysis step is used again in the electrolysis step after polishing the surface to improve the electric characteristics of the surface before the next use. There is. The beam 104 polishing operation is usually
A method is adopted in which a large number of beams 104 are closely contacted and aligned in a plane, and then the upper surface of each aligned beam 104 is polished.

【0009】しかしながら、本発明者らの研究実験の結
果によると、上述の方法では、図8に示すように、断面
が角形とされ、しかもビームの長手軸線方向に沿って傾
斜面107が形成されたビーム104のこの各角部の傾
斜面107を良好に研磨することは困難であることが分
った。
However, according to the results of the research and experiment conducted by the present inventors, in the above-described method, as shown in FIG. 8, the cross section is rectangular and the inclined surface 107 is formed along the longitudinal axis of the beam. It has been found that it is difficult to satisfactorily polish the inclined surface 107 at each corner of the beam 104.

【0010】従って、本発明の目的は、長手軸線方向に
沿って傾斜面が形成された断面が角形のビームにおい
て、この各角部の傾斜面を良好に研磨することができ、
それによって電気抵抗の原因となる酸化物や硫酸化物の
皮膜を除去し、清浄な状態に保ち、電圧降下の低減及び
電流分布の均一化を図ることのできる電解用カソードビ
ーム研磨装置を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a beam having a rectangular cross section in which an inclined surface is formed along the longitudinal axis direction, and the inclined surface at each corner can be polished well.
Provided is a cathode beam polishing apparatus for electrolysis, which can remove oxide or sulfate film that causes electric resistance, keep it in a clean state, reduce voltage drop and make current distribution uniform. Is.

【0011】本発明の他の目的は、連続的に1本ずつ供
給される、長手軸線方向に沿って傾斜面が形成された断
面が角形のビームを搬送途中で効率良く研磨することが
でき、それによって、ビームと、ビームをカソードに取
り付けるためのリボンとの接触抵抗を下げ、電解効率を
上げることのできるカソードの製造装置を提供すること
である。
Another object of the present invention is to efficiently polish a beam, which is continuously supplied one by one, and which has a rectangular cross section with an inclined surface formed along the longitudinal axis, during transportation, Accordingly, the contact resistance between the beam and the ribbon for attaching the beam to the cathode is reduced, and the cathode manufacturing apparatus capable of increasing the electrolysis efficiency is provided.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的は本発明に係る
電解用カソードビーム研磨装置及びカソードの製造装置
にて達成される。要約すれば、本発明の一態様によれ
ば、断面が角形とされ、長手軸線方向に沿って延在する
隣接した両角部に傾斜面が形成された電解用カソードビ
ームの、前記両傾斜面を研磨するための研磨装置であっ
て、前記ビームを保持し、長手軸線方向に移動案内する
ガイド手段と、前記ガイド手段の上方に配置され、前記
ガイド手段に保持された前記ビームを長手軸線方向に駆
動する駆動手段と、前記ガイド手段の下方に配置され、
前記ガイド手段に保持されて移動する前記ビームの両傾
斜面を研磨する研磨手段と、を有することを特徴とする
電解用カソードビーム研磨装置である。
The above objects can be achieved by the electrolytic cathode beam polishing apparatus and cathode manufacturing apparatus according to the present invention. In summary, according to an aspect of the present invention, the inclined surfaces of the cathode beam for electrolysis having a rectangular cross section and having inclined surfaces at both adjacent corners extending along the longitudinal axis are provided. A polishing apparatus for polishing, which holds the beam and guides the beam to move and guide in the longitudinal axis direction, and the beam which is arranged above the guide means and is held by the guide means in the longitudinal axis direction. Drive means for driving, and arranged below the guide means,
Polishing means for polishing both inclined surfaces of the beam that is held and moved by the guide means, and is a cathode beam polishing apparatus for electrolysis.

【0013】本発明の一実施態様によると、前記傾斜面
は、平面或いは湾曲面とされ、又、断面が四角形とされ
る。
According to one embodiment of the present invention, the inclined surface is a flat surface or a curved surface, and has a quadrangular cross section.

【0014】本発明の他の実施態様によると、前記駆動
手段は、無端循環運動するチェーン装置であり、その外
周に舌片状のアタッチが、前記ビームの長さより長い所
定の間隔にて取り付けられ、前記ビームの後端面に当接
することにより、前記ビームを駆動する。
[0014] According to another embodiment of the present invention, the driving means is a chain device having endless circulation motion, and tongue-shaped attachments are attached to the outer periphery of the chain device at predetermined intervals longer than the length of the beam. The beam is driven by contacting the rear end surface of the beam.

【0015】本発明の他の実施態様によると、前記ガイ
ド手段は、前記ビームを保持し案内する底壁と、底壁よ
り上方へと延在した側壁とを有し、前記側壁は、ビーム
の上面より僅かに高い位置まで延び、更に、V字状に上
方へと拡開して形成される。
According to another embodiment of the present invention, the guide means has a bottom wall for holding and guiding the beam, and a side wall extending above the bottom wall, the side wall of the beam. It is formed to extend to a position slightly higher than the upper surface and further expand upward in a V shape.

【0016】本発明の他の実施態様によると、前記研磨
手段は、前記ビームの各傾斜面を研磨する第1及び第2
研磨手段と備え、前記ガイドの側壁及び底壁には、両側
にて互い違いとなるように、切欠部が形成され、この切
欠部に対応して前記第1及び第2研磨手段がそれぞれ配
置される。他の実施態様によると、前記研磨手段は、研
磨用回転ブラシと、この研磨ブラシを所定の回転方向に
所定の回転数にて回転駆動する電動機とを備えている。
According to another embodiment of the present invention, the polishing means polishes the inclined surfaces of the beam by first and second polishing.
A notch is formed on the side wall and the bottom wall of the guide so as to be staggered on both sides, and the first and second polishing means are arranged corresponding to the notch. . According to another embodiment, the polishing means includes a polishing rotary brush and an electric motor that rotationally drives the polishing brush in a predetermined rotation direction at a predetermined rotation speed.

【0017】本発明の他の態様によると、上記研磨装置
にて研磨された前記ビームを、90°回転して、研磨さ
れた前記両傾斜面を水平方向に位置させた後、前記ビー
ムをカソードとリボンで結合することを特徴とするカソ
ード製造装置が提供される。一実施態様によると、前記
ビームは、カソード整板機へと供給され、前記ビームの
研磨された両傾斜面とは反対側に前記カソードが配置さ
れ、その後、前記ビームの研磨された両傾斜面側から前
記リボンが前記ビームの所定位置へと装着され、前記リ
ボンの端部が前記カソードに固定される。
According to another aspect of the present invention, the beam polished by the polishing apparatus is rotated by 90 ° to position both the polished inclined surfaces in a horizontal direction, and then the beam is cathodically. There is provided a cathode manufacturing apparatus, characterized in that the cathode manufacturing apparatus is connected with a ribbon. According to one embodiment, the beam is fed to a cathode platen and the cathode is located on the opposite side of the beam from both polished slopes, after which the polished slopes of the beam are aligned. From the side, the ribbon is mounted in place on the beam and the end of the ribbon is fixed to the cathode.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る電解用カソー
ドビーム研磨装置及びカソードの製造装置を図面に則し
て更に詳しく説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a cathode beam polishing apparatus for electrolysis and a cathode manufacturing apparatus according to the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

【0019】本発明においても、図8に示すカソードと
同様に、カソード102は、カソード102を電解槽に
吊り下げて支持するためにその上端にカソード102と
同材質の薄板にてループ状に形成されたリボン(取付け
具)105が、例えば2箇所に取り付けられている。こ
のループの中に、ビーム104が通される。
Also in the present invention, similarly to the cathode shown in FIG. 8, the cathode 102 is formed in a loop shape by a thin plate made of the same material as the cathode 102 at the upper end in order to suspend and support the cathode 102 in the electrolytic cell. The formed ribbon (mounting tool) 105 is mounted at, for example, two places. The beam 104 is passed through this loop.

【0020】本実施例によれば、ビーム104は、図8
に示すように、断面が角形、例えば四角形とされる棒状
体、即ち、直方体型ビームとされ、通常、純銅で作製さ
れる。特に、ビーム104の隣接した二つの角部が、直
線的に、即ち、平面状に面取りされ、傾斜面107が形
成されている。
According to the present embodiment, the beam 104 is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a rod-shaped body having a rectangular cross section, for example, a quadrangle, that is, a rectangular parallelepiped beam is used and is usually made of pure copper. In particular, two adjacent corners of the beam 104 are chamfered linearly, that is, in a plane, so that an inclined surface 107 is formed.

【0021】従って、本発明のビーム104によれば、
リボン105は、ビーム104とは、このビーム104
の上面に連接した対向する二つの傾斜面107で面接触
状態となり、電気的に良好な接触状態を保つことがで
き、この傾斜面107を通じて電流が流れることとな
る。
Therefore, according to the beam 104 of the present invention,
Ribbon 105 is beam 104
The two inclined surfaces 107 facing each other connected to the upper surface of the are in a surface contact state, and an electrically good contact state can be maintained, and a current flows through the inclined surface 107.

【0022】ビーム104の一具体的寸法形状を示せ
ば、本実施例では、一辺の長さ(W)が3cm、長さ
(L)が120cm、傾斜面107の面取り部長さ
(w)が5mmとすることができる。
To show one specific dimension and shape of the beam 104, in this embodiment, the length (W) of one side is 3 cm, the length (L) is 120 cm, and the chamfer length (w) of the inclined surface 107 is 5 mm. Can be

【0023】上記説明では、ビーム104の傾斜面10
7は、直線的に角部を削除することにより平面状に形成
されるものとしたが、ビーム104の角部を湾曲状に削
ることにより、ビームの角部に湾曲状の傾斜面を形成し
ても良い。
In the above description, the inclined surface 10 of the beam 104 is used.
7 is formed in a flat shape by linearly deleting the corners, but the corners of the beam 104 are cut into a curved shape to form curved inclined surfaces at the corners of the beam. May be.

【0024】図1を参照すると、電解槽から取り出され
たカソード102は、カソードラインL1からビーム抜
き取りラインL2へと搬送され、ここで、ビーム抜き取
りローラ201によりビーム104が抜き取られる。抜
き取られたビーム104は、ビームコンテナ202に移
載され、ビーム送り出しコンベア203へと搬送され、
次いで、ビーム送り出しコンベア203にてビーム送り
出し位置Pへと送り出される。このとき、ビーム104
の両傾斜面107は、下面に位置するようにして搬送さ
れる。ここまでの工程及び装置構成は、当業者には周知
であるので、これ以上の詳しい説明は省略する。
Referring to FIG. 1, the cathode 102 taken out from the electrolytic cell is conveyed from the cathode line L1 to the beam extraction line L2, where the beam extraction roller 201 extracts the beam 104. The extracted beam 104 is transferred to the beam container 202 and conveyed to the beam delivery conveyor 203,
Then, it is sent to the beam sending position P on the beam sending conveyor 203. At this time, the beam 104
Both inclined surfaces 107 are conveyed so as to be located on the lower surface. Since the steps and device configuration up to this point are well known to those skilled in the art, further detailed description will be omitted.

【0025】本発明のビーム研磨装置1は、ビーム送り
出し位置Pに隣接して配置される。
The beam polishing apparatus 1 of the present invention is arranged adjacent to the beam delivery position P.

【0026】図2〜図5には、本発明のビーム研磨装置
1の一実施例が示される。本実施例によると、ビーム研
磨装置1は、駆動手段としての無端循環運動するチェー
ン装置2と、その下方に配置されたガイド手段10とを
有する。
2 to 5 show an embodiment of the beam polishing apparatus 1 of the present invention. According to the present embodiment, the beam polishing apparatus 1 has a chain device 2 as an endless circulating motion and a guide unit 10 arranged below the chain unit 2.

【0027】チェーン装置2は、駆動ホイール3と従動
ホイール4との間に無端チェーン5を巻回することによ
って構成される。
The chain device 2 is constructed by winding an endless chain 5 between a drive wheel 3 and a driven wheel 4.

【0028】又、チェーン装置1は、その外周に舌片状
のアタッチ6が、ビーム104の長さより長い所定の間
隔にて取り付けられている。本実施例では、ビーム10
4の長さが120cmとされたので、アタッチ6は、1
295.4cmの間隔にて配置された。
Further, the chain device 1 has tongue-shaped attachments 6 attached to the outer periphery thereof at a predetermined interval longer than the length of the beam 104. In this embodiment, the beam 10
Since the length of 4 is 120 cm, attach 6 is 1
They were arranged at a distance of 295.4 cm.

【0029】本実施例によると、チェーン装置1の駆動
ホイール3とは反対側に位置した従動ホイール4は、図
1にて理解されるように、送り出しコンベア203を横
断した位置に配置されている。従って、送り出しコンベ
ア203にて送り出し位置Pに搬送されてきたビーム1
04は、チェーン装置1が循環移動することにより、ビ
ーム後端面が無端循環移動するチェーン装置1のアタッ
チ6と係合し、チェーン装置1によりガイド手段10の
入口10A(図2)へと送り出される。
According to this embodiment, the driven wheel 4 located on the side opposite to the drive wheel 3 of the chain device 1 is arranged at a position traversing the feed conveyor 203, as can be seen in FIG. . Therefore, the beam 1 transported to the delivery position P by the delivery conveyor 203
When the chain device 1 circulates, 04 is engaged with the attachment 6 of the chain device 1 whose beam rear end surface circulates endlessly, and is sent out to the inlet 10A (FIG. 2) of the guide means 10 by the chain device 1. .

【0030】このようにして、ビーム送り出し位置Pか
らチェーン装置1により一本づつビーム研磨装置1のガ
イド入口10Aへと送出されたビーム104は、その後
端面が無端循環移動するチェーン装置1のアタッチ6に
より継続して押圧されることにより、ガイド手段10の
出口10B(図2)へと送り出される。
In this way, the beams 104 sent from the beam delivery position P to the guide inlet 10A of the beam polishing apparatus 1 one by one by the chain device 1 are attached 6 of the chain device 1 whose rear end face moves endlessly in a circulating manner. By being continuously pressed by, the sheet is sent out to the outlet 10B (FIG. 2) of the guide means 10.

【0031】ガイド手段10は、限定されるものではな
いが、本実施例ではステンレスの板にて形成され、ビー
ム送り出し位置Pから一本づつ送り出されたビーム10
4を保持し案内する底壁11と、底壁11より上方へと
延在した側壁12とを有している。底壁11は、ビーム
104がガイド手段10に沿って円滑に移動し得るよう
に、直方体型ビーム104の一辺の大きさより僅かに大
きくされる。又、側壁12は、ビームの上面より僅かに
高い位置まで延び、更に、V字状に上方へと拡開して形
成されている。本実施例では、図2にて、ガイド手段の
全長(L)は略3.9mとされ、又、図5にて、底壁1
1の幅(W1)は4cm、側壁12の高さ(H)は4c
m、拡開幅(W2)は6cmとされた。
Although not limited, the guide means 10 is formed of a stainless steel plate in this embodiment, and the beams 10 are delivered one by one from the beam delivery position P.
It has a bottom wall 11 for holding and guiding 4, and a side wall 12 extending upward from the bottom wall 11. The bottom wall 11 is made slightly larger than the size of one side of the rectangular parallelepiped beam 104 so that the beam 104 can smoothly move along the guide means 10. Further, the side wall 12 extends to a position slightly higher than the upper surface of the beam, and is further formed so as to expand upward in a V shape. In this embodiment, the total length (L) of the guide means is approximately 3.9 m in FIG. 2 and the bottom wall 1 in FIG.
The width (W1) of 1 is 4 cm, and the height (H) of the side wall 12 is 4 c.
m, the spread width (W2) was 6 cm.

【0032】ガイド手段10の側壁12には、両側にて
互い違いと成るように、切欠部13が形成される。又、
この部分では、図5に示すように、底壁11にも、側壁
切欠部13に連接する部分に一部切欠部14が形成され
る。
Notches 13 are formed on the side wall 12 of the guide means 10 so that they are staggered on both sides. or,
In this portion, as shown in FIG. 5, the bottom wall 11 is also formed with a partial cutout portion 14 at a portion connected to the side wall cutout portion 13.

【0033】切欠部13、14に対応して研磨手段30
が配置される。本実施例では、研磨手段30は、第1及
び第2研磨手段30A、30Bにて構成される。又、第
1及び第2研磨手段は同じ構成とされ、各研磨手段30
A、30B共に、ビーム104に押圧された研磨用回転
ブラシ31と、この研磨用回転ブラシ31を所定の回転
方向に所定の回転数にて回転駆動する電動機32とにて
構成される。研磨用回転ブラシ31と電動機32とは、
スペースの関係から、本実施例では可撓性軸33にて駆
動伝達されたが、これに限定されるものではない。
Polishing means 30 corresponding to the notches 13 and 14
Are placed. In this embodiment, the polishing means 30 comprises first and second polishing means 30A and 30B. The first and second polishing means have the same structure, and each polishing means 30
Both A and 30B are composed of a polishing rotary brush 31 pressed by the beam 104, and an electric motor 32 that rotationally drives the polishing rotary brush 31 in a predetermined rotation direction at a predetermined rotation speed. The polishing rotary brush 31 and the electric motor 32 are
Due to the space, the drive is transmitted by the flexible shaft 33 in the present embodiment, but it is not limited to this.

【0034】上記構成により、チェーン装置2によりガ
イド出口10Bへと送り出されているビーム104は、
この研磨用回転ブラシ31が配置された位置を通過する
時に、下面に位置した両傾斜面107が研磨される。
With the above structure, the beam 104 sent out to the guide outlet 10B by the chain device 2 is
When passing through the position where the polishing rotary brush 31 is arranged, both the inclined surfaces 107 located on the lower surface are polished.

【0035】本実施例では、上述のように、ビーム10
4の長手方向に沿って左右に二つの研磨用回転ブラシ3
1が配置されているが、所望に応じて任意の数を配置す
ることができる。研磨用回転ブラシ31としては、任意
のものを使用し得るが、本実施例では、下記仕様の研磨
ブラシ31を使用して良好な結果を得ることができた。
In this embodiment, the beam 10 is used as described above.
Two rotary brushes for polishing 3 on the left and right along the longitudinal direction of 4
Although 1 is arranged, any number can be arranged as desired. As the rotary brush 31 for polishing, any one can be used, but in the present example, good results could be obtained by using the polishing brush 31 having the following specifications.

【0036】・ブラシの毛 メーカ:デュポン社製 商品名:タイネックス 材質:ナイロン(研磨剤練り込み) 太さ:1〜1.2mm ・ブラシ メーカ:高島産業(株) 直径:190〜230mm 幅:130mm 回転数:1710rpm[Brush bristles Manufacturer: DuPont Product Name: Tynex Material: Nylon (kneaded with abrasive) Thickness: 1-1.2mm ·brush Manufacturer: Takashima Sangyo Co., Ltd. Diameter: 190-230mm Width: 130 mm Rotation speed: 1710 rpm

【0037】上記構成により、研磨用回転ブラシ31
は、研磨位置を通過するビーム104の両傾斜面107
を研磨する。
With the above configuration, the polishing rotary brush 31
Are both inclined surfaces 107 of the beam 104 passing through the polishing position.
To polish.

【0038】研磨が終了したビーム104は、図2に示
すように、下降コンベア20へと移送されるべく、載置
台21に送り出される。下降コンベア20は、垂直方向
に配置された対をなす搬送用コンベアチェーン22にて
構成され、その外周面に所定間隔にて受け台23が配置
されている。
The beam 104, which has been polished, is sent to the mounting table 21 so as to be transferred to the descending conveyor 20, as shown in FIG. The descending conveyor 20 is composed of a pair of conveyor conveyor chains 22 arranged in the vertical direction, and pedestals 23 are arranged at predetermined intervals on the outer peripheral surface thereof.

【0039】載置台21上のビーム104は、所定のタ
イミングで往復作動する移載シリンダ装置24により、
下降コンベア20へと移載される。この時、移載シリン
ダ装置24のピストンの先端に取り付けられた作動爪2
5は、ビーム104の上部に浅く係合する構成とされ、
且つ、載置台21と、コンベア受け台23との間に段差
ΔE(図6(b))が存在するために、ビーム104
は、載置台21から受け台23へと移動する過程にて、
図6(b)にて反時計方向の回転運動を受け、下降コン
ベア20の受け台23に90度だけ回転した状態、即
ち、ビームの両傾斜面107が、図6(b)にて右正面
を向くようにして載置される。
The beam 104 on the mounting table 21 is moved by the transfer cylinder device 24 that reciprocates at a predetermined timing.
It is transferred to the descending conveyor 20. At this time, the operating claw 2 attached to the tip of the piston of the transfer cylinder device 24
5 is configured to shallowly engage the upper portion of the beam 104,
Moreover, since the step ΔE (FIG. 6B) exists between the mounting table 21 and the conveyor receiving table 23, the beam 104
Is in the process of moving from the mounting table 21 to the receiving table 23,
In FIG. 6B, the counterclockwise rotational motion is received and the pedestal 23 of the descending conveyor 20 is rotated by 90 degrees, that is, both inclined surfaces 107 of the beam are front right in FIG. 6B. It is placed so that it faces.

【0040】図6(c)に示すように、下降コンベア2
0にて下方所定位置へと移送されたビーム104は、ビ
ーム搬送用コンベア40によりカソード整板機(図示せ
ず)へと搬送される。
As shown in FIG. 6C, the descending conveyor 2
The beam 104, which has been moved to a predetermined lower position at 0, is transported to a cathode plate adjusting machine (not shown) by the beam transport conveyor 40.

【0041】次いで、図7に示すように、ビーム104
は、カソード整板機にて種板(カソード)102と所定
関係に配置される(図7(a)、(b))。カソード1
02とビーム104とは、リボン装着位置へと搬送さ
れ、リボン供給機(図示せず)からのリボン105が装
着される(図7(c))。次いで、カソード102、ビ
ーム104、リボン105の組立体は、リボンかしめ機
(図示せず)へと搬送され、かしめ工程が実施される
(図7(d))。ビーム104をカソード整板機に搬送
し、そして、ビーム104をリボン105にてカソード
102に取り付けるまでの工程は、従来の当業者には周
知の装置及び手順にて実施されるので、これ以上詳しい
説明は省略する。
Then, as shown in FIG.
Are arranged in a predetermined relationship with the seed plate (cathode) 102 by the cathode plate adjusting machine (FIGS. 7A and 7B). Cathode 1
02 and the beam 104 are conveyed to the ribbon mounting position, and the ribbon 105 from the ribbon feeder (not shown) is mounted (FIG. 7C). Next, the assembly of the cathode 102, the beam 104, and the ribbon 105 is conveyed to a ribbon caulking machine (not shown), and a caulking process is performed (FIG. 7D). The process of transporting the beam 104 to the cathode flattening machine and attaching the beam 104 to the cathode 102 by the ribbon 105 is performed by a device and a procedure well known to those skilled in the art, and thus will not be described in further detail. The description is omitted.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
断面が角形とされ、長手軸線方向に沿って延在する隣接
した両角部に傾斜面が形成された電解用カソードビーム
の、前記両傾斜面を研磨するための研磨装置が、ビーム
を保持し、長手軸線方向に移動案内するガイド手段と、
ガイド手段の上方に配置され、ガイド手段に保持された
ビームを長手軸線方向に駆動する駆動手段と、ガイド手
段の下方に配置され、ガイド手段に保持されて移動する
ビームの両傾斜面を研磨する研磨手段と、を有する構成
とされるので、 (1)長手軸線方向に沿って傾斜面が形成された断面が
角形のビームにおいて、この各角部の傾斜面を良好に研
磨することができ、それによって電気抵抗の原因となる
酸化物や硫酸化物の皮膜を除去し、清浄な状態に保ち、
電圧降下の低減及び電流分布の均一化を図ることができ
る。 (2)連続的に1本ずつ供給される、長手軸線方向に沿
って傾斜面が形成された断面が角形のビームを搬送途中
で効率良く研磨することができ、それによって、ビーム
と、ビームをカソードに取り付けるためのリボンとの接
触抵抗を下げ、電解効率を上げることのできるカソード
を製造することができる。といった効果を奏し得る。
As described above, according to the present invention,
The cross section is rectangular, and the electrolysis cathode beam in which inclined surfaces are formed at both adjacent corners extending along the longitudinal axis direction, a polishing device for polishing the both inclined surfaces holds the beam, Guide means for moving and guiding in the longitudinal axis direction,
The driving means is arranged above the guide means and drives the beam held by the guide means in the longitudinal axis direction, and both inclined surfaces of the beam arranged below the guide means and held and moved by the guide means are polished. And (1) in a beam having a rectangular cross section in which an inclined surface is formed along the longitudinal axis direction, the inclined surface at each corner can be polished well. As a result, the oxide or sulfate film that causes electrical resistance is removed and kept in a clean state.
It is possible to reduce the voltage drop and make the current distribution uniform. (2) It is possible to efficiently polish a beam, which is continuously supplied one by one and has a rectangular cross-section with an inclined surface formed along the longitudinal axis direction, during transportation, whereby the beam and the beam are A contact resistance with a ribbon for attaching to the cathode can be reduced, and a cathode capable of increasing electrolysis efficiency can be manufactured. Such an effect can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に従って構成されるカソード製造装置の
概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a cathode manufacturing apparatus configured according to the present invention.

【図2】本発明に従って構成される電解用カソードビー
ム研磨装置の一実施例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of a cathode beam polishing apparatus for electrolysis constructed according to the present invention.

【図3】本発明に従って構成されるビーム研磨装置の平
面図である。
FIG. 3 is a plan view of a beam polishing apparatus constructed according to the present invention.

【図4】本発明に従って構成されるビーム研磨装置の側
面図である。
FIG. 4 is a side view of a beam polishing apparatus constructed in accordance with the present invention.

【図5】本発明に従って構成されるビーム研磨装置の正
面図である。
FIG. 5 is a front view of a beam polishing apparatus constructed in accordance with the present invention.

【図6】研磨されたビームの90°転向装置の説明図で
ある。
FIG. 6 is an illustration of a 90 ° turning device for a polished beam.

【図7】本発明に従ったカソード製造工程を説明する図
である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a cathode manufacturing process according to the present invention.

【図8】カソードを電解槽に装入した状態を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a state in which a cathode is loaded in an electrolytic cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電解用カソードビーム研磨装
置 2 駆動手段(チェーン装置) 10 ガイド手段 20 下降コンベア 21 載置台 22 搬送用コンベアチェーン 23 受け台 24 移載シリンダ装置 25 作動爪 30(30A、30B) 研磨手段 31 研磨用回転ブラシ 32 電動機 40 ビーム搬送用コンベア 102 電解用カソード 104 ビーム 105 リボン 107 傾斜面
1 Cathode Beam Polishing Device for Electrolysis 2 Driving Means (Chain Device) 10 Guide Means 20 Lowering Conveyor 21 Mounting Table 22 Conveyor Chain 23 Receiving Table 24 Transfer Cylinder Device 25 Actuating Claw 30 (30A, 30B) Polishing Means 31 Polishing Rotating brush 32 electric motor 40 beam conveyor 102 electrolysis cathode 104 beam 105 ribbon 107 inclined surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田尻 和徳 大分県北海部郡佐賀関町大字関3の3382番 地 日鉱金属株式会社佐賀関製錬所内 Fターム(参考) 3C043 AC04 CC06 CC11    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Kazunori Tajiri             3382 No. 3 of Seki, Saga-seki-cho, Kitakaibu-gun, Oita Prefecture             Jichi Nippon Mining & Metals Co., Ltd.Saganoseki Smelter F-term (reference) 3C043 AC04 CC06 CC11

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 断面が角形とされ、長手軸線方向に沿っ
て延在する隣接した両角部に傾斜面が形成された電解用
カソードビームの、前記両傾斜面を研磨するための研磨
装置であって、 前記ビームを保持し、長手軸線方向に移動案内するガイ
ド手段と、 前記ガイド手段の上方に配置され、前記ガイド手段に保
持された前記ビームを長手軸線方向に駆動する駆動手段
と、 前記ガイド手段の下方に配置され、前記ガイド手段に保
持されて移動する前記ビームの両傾斜面を研磨する研磨
手段と、を有することを特徴とする電解用カソードビー
ム研磨装置。
1. A polishing apparatus for polishing both inclined surfaces of a cathode beam for electrolysis, which has a rectangular cross section and is formed with inclined surfaces at both adjacent corner portions extending along the longitudinal axis direction. A guide means for holding the beam and guiding it in the longitudinal axis direction; a drive means disposed above the guide means for driving the beam held by the guide means in the longitudinal axis direction; Polishing means for polishing both inclined surfaces of the beam, which is arranged below the means and is held by the guide means and moving, and a cathode beam polishing apparatus for electrolysis.
【請求項2】 前記傾斜面は、平面或いは湾曲面とされ
ることを特徴とする請求項1の電解用カソードビーム研
磨装置。
2. The cathode beam polishing apparatus for electrolysis according to claim 1, wherein the inclined surface is a flat surface or a curved surface.
【請求項3】 断面が四角形とされることを特徴とする
請求項1又は2の電解用カソードビーム研磨装置。
3. The cathode beam polishing apparatus for electrolysis according to claim 1 or 2, wherein the cross section has a quadrangular shape.
【請求項4】 前記駆動手段は、無端循環運動するチェ
ーン装置であり、その外周に舌片状のアタッチが、前記
ビームの長さより長い所定の間隔にて取り付けられ、前
記ビームの後端面に当接することにより、前記ビームを
駆動することを特徴とする請求項1、2又は3の電解用
カソードビーム研磨装置。
4. The drive means is a chain device that performs endless circulation motion, and tongue-shaped attachments are attached to the outer periphery of the chain device at a predetermined interval longer than the length of the beam, and the attachment means contacts the rear end surface of the beam. The cathode beam polishing apparatus for electrolysis according to claim 1, 2 or 3, wherein the beam is driven by coming into contact with each other.
【請求項5】 前記ガイド手段は、前記ビームを保持し
案内する底壁と、底壁より上方へと延在した側壁とを有
し、前記側壁は、ビームの上面より僅かに高い位置まで
延び、更に、V字状に上方へと拡開して形成されること
を特徴とする請求項1〜4のいずれかの項に記載の電解
用カソードビーム研磨装置。
5. The guide means has a bottom wall for holding and guiding the beam, and a side wall extending above the bottom wall, the side wall extending to a position slightly higher than the upper surface of the beam. The cathode beam polishing apparatus for electrolysis according to any one of claims 1 to 4, wherein the cathode beam polishing apparatus for electrolysis is further formed by expanding upward in a V shape.
【請求項6】 前記研磨手段は、前記ビームの各傾斜面
を研磨する第1及び第2研磨手段と備え、前記ガイドの
側壁及び底壁には、両側にて互い違いとなるように、切
欠部が形成され、この切欠部に対応して前記第1及び第
2研磨手段がそれぞれ配置されることを特徴とする請求
項5の電解用カソードビーム研磨装置。
6. The polishing means comprises first and second polishing means for polishing each inclined surface of the beam, and a side wall and a bottom wall of the guide are notched so as to be staggered on both sides. 6. The cathode beam polishing apparatus for electrolysis according to claim 5, wherein the first and second polishing means are respectively arranged corresponding to the notches.
【請求項7】 前記研磨手段は、研磨用回転ブラシと、
この研磨ブラシを所定の回転方向に所定の回転数にて回
転駆動する電動機とを備えていることを特徴とする請求
項1〜6のいずれかの項に記載の電解用カソードビーム
研磨装置。
7. The polishing means includes a rotary brush for polishing,
The electrolysis cathode beam polishing apparatus according to any one of claims 1 to 6, further comprising: an electric motor that drives the polishing brush to rotate in a predetermined rotation direction at a predetermined rotation speed.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかの項に記載の研
磨装置にて研磨された前記ビームを、90°回転して、
研磨された前記両傾斜面を水平方向に位置させた後、前
記ビームをカソードとリボンで結合することを特徴とす
るカソード製造装置。
8. The beam polished by the polishing apparatus according to claim 1, is rotated by 90 °,
A cathode manufacturing apparatus, characterized in that, after arranging both the polished inclined surfaces in a horizontal direction, the beam is connected to the cathode by a ribbon.
【請求項9】 前記ビームは、カソード整板機へと供給
され、前記ビームの研磨された両傾斜面とは反対側に前
記カソードが配置され、その後、前記ビームの研磨され
た両傾斜面側から前記リボンが前記ビームの所定位置へ
と装着され、そして、前記リボンの端部が前記カソード
に固定されることを特徴とする請求項8のカソード製造
装置。
9. The beam is supplied to a cathode flattening machine, the cathode is disposed on the opposite side of the polished inclined surfaces of the beam, and then the polished inclined surface sides of the beam. 9. The cathode manufacturing apparatus according to claim 8, wherein the ribbon is attached to a predetermined position of the beam, and an end portion of the ribbon is fixed to the cathode.
JP2001239972A 2001-08-07 2001-08-07 Device for polishing cathode beam for electrolysis, and cathode manufacturing device Pending JP2003048141A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001239972A JP2003048141A (en) 2001-08-07 2001-08-07 Device for polishing cathode beam for electrolysis, and cathode manufacturing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001239972A JP2003048141A (en) 2001-08-07 2001-08-07 Device for polishing cathode beam for electrolysis, and cathode manufacturing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003048141A true JP2003048141A (en) 2003-02-18

Family

ID=19070650

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001239972A Pending JP2003048141A (en) 2001-08-07 2001-08-07 Device for polishing cathode beam for electrolysis, and cathode manufacturing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003048141A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100973479B1 (en) 2008-06-12 2010-08-03 주식회사 예일하이테크 Cam shaft cleaning apparatus with surface polishing function
JP2015196202A (en) * 2014-03-31 2015-11-09 パンパシフィック・カッパー株式会社 Polishing device
JP2019023340A (en) * 2017-07-21 2019-02-14 住友金属鉱山株式会社 Electrolytic refining process of non-ferrous metal
JP2019039079A (en) * 2018-11-28 2019-03-14 パンパシフィック・カッパー株式会社 Polishing device
CN109930192A (en) * 2019-04-04 2019-06-25 浙江宏途电气科技有限公司 Electric brushing coating installation for metal works reparation
JP7196574B2 (en) 2018-11-30 2022-12-27 住友金属鉱山株式会社 Cathode plate for electrolysis and electrorefining method using the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100973479B1 (en) 2008-06-12 2010-08-03 주식회사 예일하이테크 Cam shaft cleaning apparatus with surface polishing function
JP2015196202A (en) * 2014-03-31 2015-11-09 パンパシフィック・カッパー株式会社 Polishing device
JP2019023340A (en) * 2017-07-21 2019-02-14 住友金属鉱山株式会社 Electrolytic refining process of non-ferrous metal
JP6996277B2 (en) 2017-07-21 2022-02-21 住友金属鉱山株式会社 Electrorefining method for non-ferrous metals
JP2019039079A (en) * 2018-11-28 2019-03-14 パンパシフィック・カッパー株式会社 Polishing device
JP7196574B2 (en) 2018-11-30 2022-12-27 住友金属鉱山株式会社 Cathode plate for electrolysis and electrorefining method using the same
CN109930192A (en) * 2019-04-04 2019-06-25 浙江宏途电气科技有限公司 Electric brushing coating installation for metal works reparation

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5833355B2 (en) Surface treatment equipment
JP4210260B2 (en) Milling machine for steel plate flat surface processing with magnetic belt conveyor
MXPA01005345A (en) Equipment for inline plating.
TWI682072B (en) Surface treatment device
JP2003048141A (en) Device for polishing cathode beam for electrolysis, and cathode manufacturing device
CN1774790A (en) Integrated system for processing semiconductor wafers
JP3623129B2 (en) Crossbar polishing equipment
TWI682076B (en) Surface treatment device
CN1969065A (en) Device and method for electrolytically treating flat work pieces
WO2021130873A1 (en) Electroplating system
CN216891289U (en) Electroplating device capable of cleaning conductive copper head
JP2016029219A (en) Surface treatment apparatus
CN212834126U (en) Automatic nickel plating device for laser working plate
CN213701066U (en) Circulation mechanism of material supporting jig
CN219256078U (en) Cutting machine
CN212505144U (en) Nickel plating transfer device for laser working plate
EP1425948A2 (en) A method of etching copper on cards
CN221304623U (en) Silicon wafer basket lifting device, silicon wafer basket lifting equipment and battery production system
CN210546801U (en) Cleaning device for removing oxide layer
JP2004217954A (en) Plating tool
CN219880875U (en) Double-sided horizontal electroplating device for solar photovoltaic cell
JPH10265990A (en) Polishing device of rod for electric conduction
JP2015009346A (en) Electrolytic dressing method and electrolytic dressing device
JP2018044249A (en) Surface treatment apparatus and work holding tool
CN214242663U (en) Workpiece lamination feeding device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20060519