JP2003047561A - ワッフルメーカーなどの加熱調理器 - Google Patents
ワッフルメーカーなどの加熱調理器Info
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- JP2003047561A JP2003047561A JP2001239466A JP2001239466A JP2003047561A JP 2003047561 A JP2003047561 A JP 2003047561A JP 2001239466 A JP2001239466 A JP 2001239466A JP 2001239466 A JP2001239466 A JP 2001239466A JP 2003047561 A JP2003047561 A JP 2003047561A
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- JP
- Japan
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- recess
- dough
- mold
- depth
- waffle
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- Baking, Grill, Roasting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ワッフルメーカーやケーキメーカーなど、対応
位置に凹所を形成した一対の上型１と下型２で構成し、
上型の凹所３と下型の凹所４で形成される空間に生地を
入れて調理を行う加熱調理器において、生地が十分に膨
らまずに上型に密着しない結果、所定形状に焼き上がら
ないことを防止する。 【解決手段】下型２に形成する凹所４の深さD2を、上型
１に形成する凹所３の深さD1よりも深く形成する。これ
により、下型２の凹所４に従来よりも多くの生地を入れ
ることができ、例え膨張率が小さな生地の調理であって
も凹所３と４で構成する空間一杯に膨らませて、凹所３
と４内面の全体に生地を密着させ、所定形状に形成され
たワッフルなどを焼き上げることができる。
位置に凹所を形成した一対の上型１と下型２で構成し、
上型の凹所３と下型の凹所４で形成される空間に生地を
入れて調理を行う加熱調理器において、生地が十分に膨
らまずに上型に密着しない結果、所定形状に焼き上がら
ないことを防止する。 【解決手段】下型２に形成する凹所４の深さD2を、上型
１に形成する凹所３の深さD1よりも深く形成する。これ
により、下型２の凹所４に従来よりも多くの生地を入れ
ることができ、例え膨張率が小さな生地の調理であって
も凹所３と４で構成する空間一杯に膨らませて、凹所３
と４内面の全体に生地を密着させ、所定形状に形成され
たワッフルなどを焼き上げることができる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ワッフルメーカ
ーやケーキメーカーなど、対応位置に凹所を形成した一
対の上型と下型とで構成し、上型の凹所と下型の凹所で
形成される空間に調理物を収容して加熱調理を行う加熱
調理器に関する発明である。 【０００２】 【従来の技術】ワッフルメーカーやケーキメーカーその
他、主としてお菓子の調理器として、図５に示すよう
に、対応位置に凹所３，４を形成した一対の上型と下型
とで構成し、上型１の凹所３と下型２の凹所４で形成さ
れる空間に調理物を収容して加熱する加熱調理器が知ら
れている。従来のこの種加熱調理器は、図５に示すよう
に上型１の凹所３の深さD1と、下型２の凹所４の深さD
２が同じ深さで形成されていた。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】この種加熱調理器で調
理を行うには、下型２の凹所４に調理物である生地を入
れた後、上型を装着して上型１と下型２を加熱する。上
型１と下型２の加熱によって生地Ａが加熱調理されて膨
張し、型に形成してある形状や模様が写し取られたワッ
フルやケーキが焼き上がる。このとき、上型１の凹所３
の深さD1と、下型２の深さD２が同じ深さに形成されて
いる従来の加熱調理器では、図５の(b)に示すように下
型２内に収容した生地Ａが、上型１の凹所と下型２の凹
所４とで構成する空間一杯に膨らみきらないことがあ
る。生地Ａが十分に膨らまないと、調理過程の調理物
は、その上面が上型に密着しないまま調理が完了する。
このようなものでは、焼きあがったワッフルなどの調理
物が所定形状を呈さないとともに、上型の模様が写し取
られないなどといった欠点があった。 【０００４】上記従来技術の欠点に鑑み、本発明は上型
１の凹所３と下型２の凹所４とで構成する空間に調理物
を収容して調理を行う加熱調理器において、上型と下型
の凹所によって形成される空間が満たされるまで、ワッ
フルなどの調理物が十分に膨らみ、所定の形状に安定し
て焼き上げることができる加熱調理器を提供することを
目的とするものである。 【０００５】 【課題を解決するための手段】下型２内に収容した生地
Ａが、上型１の凹所３と下型２の凹所４とで構成する空
間一杯に膨らみきらない理由には、二つの場合が考えら
れる。その一つは、生地の調理ミスによって調理物本来
の膨張が得られない場合であり、今ひとつは、生地の膨
張率が本来さほど大きくなく、下型の凹所に収容した生
地では空間一杯に膨らみきらない場合である。極端な調
理ミスによる場合は別とし、膨張率がさほど大きくない
調理物であっても、所定の形状に安定して焼き上げるこ
とができるように、本発明は対応位置に凹所を形成した
一対の上型と下型とで構成し、上型１の凹所３と下型２
の凹所４で形成される空間に調理物を収容して加熱する
加熱調理器において、下型２の凹所４の深さD２を上型
１の凹所３の深さよりも深くD 1形成する。 【０００６】本発明は、下型２の凹所４の深さD２を上
型１の凹所３の深さD1よりも深く形成した。この構成と
することによって、下型２の凹所４に従来よりも多くの
生地を収容することができ、例え膨張率が小さな生地Ａ
を調理する場合であっても、焼き上げた調理物を凹所３
と凹所４で形成される空間一杯に膨張させることが可能
となる。勿論、調理物の膨張率が大きなものである場合
は、下型２の凹所４に入れる生地の量を減らせばよい。 【０００７】 【発明の実施の形態】以下、本発明に係るワッフルメー
カーなどの加熱調理器の実施形態を、添付の図面に基づ
いて説明する。図１は一対のプレートを開いた状態のワ
ッフルメーカー全体の斜視図、図２はプレートを閉じた
状態の縦断面図である。 【０００８】図１、図２に示すワッフルメーカーは、上
型１を保持する上本体５と、下型２を保持する下本体６
を背面のヒンジ構造７で軸支し、図１や図２に点線で示
すように下本体６をテーブル等に載置し、上本体５を上
方に開閉することができるようにしている。下本体６に
は、テーブル等に安定良く載置することができるよう
に、脚16を突出させている。上本体５に保持される上型
１には凹所３が、下本体６に保持される下型２には、凹
所４がそれぞれ対向位置に形成されている。そして、上
本体５と下本体６を閉じることによって、上本体５に保
持されている上型１と、下本体６に保持されている下型
２が密接し、上型１に形成している凹所３と下型２に形
成している凹所４によって調理のための密閉空間が形成
される。 【０００９】上型が保持される上本体５の背部には脚部
８を、下型が保持される下本体６の背部には脚部９をそ
れぞれ形成するとともに、上本体５の前部には貫通孔10
を形成した取手部11を、下本体６の前部には貫通孔12を
形成した取手部13をそれぞれ形成している。これによ
り、図２に示す上本体と下本体を閉じた状態で、脚部
８，９によって使用しないときはテーブルの上などに自
立させておくことができるとともに、取手部11と取手部
13を合わせた状態で把持し、全体を持って自由に持ち運
びすることができる。 【００１０】上本体５に保持される上型１の上面には上
ヒータ14が、下本体６に保持される下型２の下面には下
ヒータ15を装着し、上型１および下型２をそれぞれ加熱
することによって加熱調理を行う。上型に形成する凹所
３と、下型に形成する凹所４は同じ平面形状であって、
焼き上がりの調理物を所定の形状、例えばキャラクター
形状に形成しておく。また、上型の凹所３上面及び下型
の凹所４の底面に、必要に応じて模様付けのための凹凸
を形成するものであってもよい。 【００１１】本発明に係る加熱調理器では、図３に示す
ように下型２に形成する凹所４の深さD2を、上型１に形
成する凹所３の深さD1よりも深く形成する。一例とし
て、加熱調理器であるワッフルメーカーでワッフルを調
理するには、図３の(a)に示すように、下型２の凹所４
に生地Ａを入れた後上型１を被せ、凹所３と４で形成さ
れる密閉空間に生地Ａが収容されている状態で、上ヒー
タ14及び下ヒータ15によって上型１と下型２を加熱し、
凹所３に収容した生地Ａを加熱調理する。 【００１２】凹所４内の生地Ａが加熱調理されると、図
３の(a)に矢印で示すように生地Ａが全体に膨らみ、や
がて図３の(b)に示すように凹所３と凹所４の空間一杯
に膨張する。最終的に、生地Ａの調理が完了するのに必
要な時間加熱することによって、凹所３，４の形状と一
致する図４に示す如きワッフルＢが焼き上がる。本発明
に係るワッフルメーカーによって焼き上げたワッフルＢ
には、凹所３と４の境界線Ｃが厚みの中心から上方にず
れた位置に現れることになる。 【００１３】上記したように、本発明では下型に形成す
る凹所４の深さD2を上型１に形成する凹所３の深さD1よ
りも深く形成するが、その比率は特に限定されるもので
はなく、調理物の種類や用途に適応するように、少なく
とも凹所４の深さD2が凹所３の深さD1よりも適度に深く
形成されていればよい。しかしながら、本発明者らの実
験によれば加熱バランスや生地Ａの膨張率などを総合的
に勘案し、凹所３の深さD1と凹所４の深さD2の関係が、
D1＝0.5D2〜0.8D2の範囲であるときに良好な結果を得る
ことができた。 【００１４】本発明では、上型１及び下型２の形状や大
きさは任意である。すなわち、調理物の焼きあがり形状
や調理物の対象は、凹所３を形成した上型１と、凹所４
を形成した下型２の組み合わせによって調理を行う加熱
調理器に広く応用することができる。図１には、上型１
及び下型２にそれぞれ三種類の平面形状の凹所３，４を
形成し、一回の加熱調理で大小三つのワッフルを焼くこ
とができるワッフルメーカーを例示しているが、より多
くの凹所を形成したものや、大きな一つの凹所を形成し
たものであってもよい。 【００１５】 【発明の効果】本発明のワッフルメーカーなどの加熱調
理器によれば、対応位置に凹所を形成した一対の上型と
下型とで構成し、上型の凹所と下型の凹所で形成される
空間に調理物を収容して加熱する加熱調理器において、
下型の凹所の深さを上型の凹所の深さよりも深く形成し
たことにより、従来のように上型の凹所の深さと下型の
凹所の深さを同じとしたものに比較し、下型の凹所に収
容する生地の量を広い範囲にわたって自由に調節するこ
とができる。 【００１６】したがって、例えば生地の膨張率が200パ
ーセント未満のものを調理する場合であっても、加熱調
理によって膨張した調理物が、上型の凹所と下型の凹所
で形成される空間を満たし、生地が上型に密着して所定
形状に形成されるワッフルなどの調理物を調理すること
が可能となる。
ーやケーキメーカーなど、対応位置に凹所を形成した一
対の上型と下型とで構成し、上型の凹所と下型の凹所で
形成される空間に調理物を収容して加熱調理を行う加熱
調理器に関する発明である。 【０００２】 【従来の技術】ワッフルメーカーやケーキメーカーその
他、主としてお菓子の調理器として、図５に示すよう
に、対応位置に凹所３，４を形成した一対の上型と下型
とで構成し、上型１の凹所３と下型２の凹所４で形成さ
れる空間に調理物を収容して加熱する加熱調理器が知ら
れている。従来のこの種加熱調理器は、図５に示すよう
に上型１の凹所３の深さD1と、下型２の凹所４の深さD
２が同じ深さで形成されていた。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】この種加熱調理器で調
理を行うには、下型２の凹所４に調理物である生地を入
れた後、上型を装着して上型１と下型２を加熱する。上
型１と下型２の加熱によって生地Ａが加熱調理されて膨
張し、型に形成してある形状や模様が写し取られたワッ
フルやケーキが焼き上がる。このとき、上型１の凹所３
の深さD1と、下型２の深さD２が同じ深さに形成されて
いる従来の加熱調理器では、図５の(b)に示すように下
型２内に収容した生地Ａが、上型１の凹所と下型２の凹
所４とで構成する空間一杯に膨らみきらないことがあ
る。生地Ａが十分に膨らまないと、調理過程の調理物
は、その上面が上型に密着しないまま調理が完了する。
このようなものでは、焼きあがったワッフルなどの調理
物が所定形状を呈さないとともに、上型の模様が写し取
られないなどといった欠点があった。 【０００４】上記従来技術の欠点に鑑み、本発明は上型
１の凹所３と下型２の凹所４とで構成する空間に調理物
を収容して調理を行う加熱調理器において、上型と下型
の凹所によって形成される空間が満たされるまで、ワッ
フルなどの調理物が十分に膨らみ、所定の形状に安定し
て焼き上げることができる加熱調理器を提供することを
目的とするものである。 【０００５】 【課題を解決するための手段】下型２内に収容した生地
Ａが、上型１の凹所３と下型２の凹所４とで構成する空
間一杯に膨らみきらない理由には、二つの場合が考えら
れる。その一つは、生地の調理ミスによって調理物本来
の膨張が得られない場合であり、今ひとつは、生地の膨
張率が本来さほど大きくなく、下型の凹所に収容した生
地では空間一杯に膨らみきらない場合である。極端な調
理ミスによる場合は別とし、膨張率がさほど大きくない
調理物であっても、所定の形状に安定して焼き上げるこ
とができるように、本発明は対応位置に凹所を形成した
一対の上型と下型とで構成し、上型１の凹所３と下型２
の凹所４で形成される空間に調理物を収容して加熱する
加熱調理器において、下型２の凹所４の深さD２を上型
１の凹所３の深さよりも深くD 1形成する。 【０００６】本発明は、下型２の凹所４の深さD２を上
型１の凹所３の深さD1よりも深く形成した。この構成と
することによって、下型２の凹所４に従来よりも多くの
生地を収容することができ、例え膨張率が小さな生地Ａ
を調理する場合であっても、焼き上げた調理物を凹所３
と凹所４で形成される空間一杯に膨張させることが可能
となる。勿論、調理物の膨張率が大きなものである場合
は、下型２の凹所４に入れる生地の量を減らせばよい。 【０００７】 【発明の実施の形態】以下、本発明に係るワッフルメー
カーなどの加熱調理器の実施形態を、添付の図面に基づ
いて説明する。図１は一対のプレートを開いた状態のワ
ッフルメーカー全体の斜視図、図２はプレートを閉じた
状態の縦断面図である。 【０００８】図１、図２に示すワッフルメーカーは、上
型１を保持する上本体５と、下型２を保持する下本体６
を背面のヒンジ構造７で軸支し、図１や図２に点線で示
すように下本体６をテーブル等に載置し、上本体５を上
方に開閉することができるようにしている。下本体６に
は、テーブル等に安定良く載置することができるよう
に、脚16を突出させている。上本体５に保持される上型
１には凹所３が、下本体６に保持される下型２には、凹
所４がそれぞれ対向位置に形成されている。そして、上
本体５と下本体６を閉じることによって、上本体５に保
持されている上型１と、下本体６に保持されている下型
２が密接し、上型１に形成している凹所３と下型２に形
成している凹所４によって調理のための密閉空間が形成
される。 【０００９】上型が保持される上本体５の背部には脚部
８を、下型が保持される下本体６の背部には脚部９をそ
れぞれ形成するとともに、上本体５の前部には貫通孔10
を形成した取手部11を、下本体６の前部には貫通孔12を
形成した取手部13をそれぞれ形成している。これによ
り、図２に示す上本体と下本体を閉じた状態で、脚部
８，９によって使用しないときはテーブルの上などに自
立させておくことができるとともに、取手部11と取手部
13を合わせた状態で把持し、全体を持って自由に持ち運
びすることができる。 【００１０】上本体５に保持される上型１の上面には上
ヒータ14が、下本体６に保持される下型２の下面には下
ヒータ15を装着し、上型１および下型２をそれぞれ加熱
することによって加熱調理を行う。上型に形成する凹所
３と、下型に形成する凹所４は同じ平面形状であって、
焼き上がりの調理物を所定の形状、例えばキャラクター
形状に形成しておく。また、上型の凹所３上面及び下型
の凹所４の底面に、必要に応じて模様付けのための凹凸
を形成するものであってもよい。 【００１１】本発明に係る加熱調理器では、図３に示す
ように下型２に形成する凹所４の深さD2を、上型１に形
成する凹所３の深さD1よりも深く形成する。一例とし
て、加熱調理器であるワッフルメーカーでワッフルを調
理するには、図３の(a)に示すように、下型２の凹所４
に生地Ａを入れた後上型１を被せ、凹所３と４で形成さ
れる密閉空間に生地Ａが収容されている状態で、上ヒー
タ14及び下ヒータ15によって上型１と下型２を加熱し、
凹所３に収容した生地Ａを加熱調理する。 【００１２】凹所４内の生地Ａが加熱調理されると、図
３の(a)に矢印で示すように生地Ａが全体に膨らみ、や
がて図３の(b)に示すように凹所３と凹所４の空間一杯
に膨張する。最終的に、生地Ａの調理が完了するのに必
要な時間加熱することによって、凹所３，４の形状と一
致する図４に示す如きワッフルＢが焼き上がる。本発明
に係るワッフルメーカーによって焼き上げたワッフルＢ
には、凹所３と４の境界線Ｃが厚みの中心から上方にず
れた位置に現れることになる。 【００１３】上記したように、本発明では下型に形成す
る凹所４の深さD2を上型１に形成する凹所３の深さD1よ
りも深く形成するが、その比率は特に限定されるもので
はなく、調理物の種類や用途に適応するように、少なく
とも凹所４の深さD2が凹所３の深さD1よりも適度に深く
形成されていればよい。しかしながら、本発明者らの実
験によれば加熱バランスや生地Ａの膨張率などを総合的
に勘案し、凹所３の深さD1と凹所４の深さD2の関係が、
D1＝0.5D2〜0.8D2の範囲であるときに良好な結果を得る
ことができた。 【００１４】本発明では、上型１及び下型２の形状や大
きさは任意である。すなわち、調理物の焼きあがり形状
や調理物の対象は、凹所３を形成した上型１と、凹所４
を形成した下型２の組み合わせによって調理を行う加熱
調理器に広く応用することができる。図１には、上型１
及び下型２にそれぞれ三種類の平面形状の凹所３，４を
形成し、一回の加熱調理で大小三つのワッフルを焼くこ
とができるワッフルメーカーを例示しているが、より多
くの凹所を形成したものや、大きな一つの凹所を形成し
たものであってもよい。 【００１５】 【発明の効果】本発明のワッフルメーカーなどの加熱調
理器によれば、対応位置に凹所を形成した一対の上型と
下型とで構成し、上型の凹所と下型の凹所で形成される
空間に調理物を収容して加熱する加熱調理器において、
下型の凹所の深さを上型の凹所の深さよりも深く形成し
たことにより、従来のように上型の凹所の深さと下型の
凹所の深さを同じとしたものに比較し、下型の凹所に収
容する生地の量を広い範囲にわたって自由に調節するこ
とができる。 【００１６】したがって、例えば生地の膨張率が200パ
ーセント未満のものを調理する場合であっても、加熱調
理によって膨張した調理物が、上型の凹所と下型の凹所
で形成される空間を満たし、生地が上型に密着して所定
形状に形成されるワッフルなどの調理物を調理すること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明、ワッフルメーカーなどの加熱調理器の
一例を示す、上型と下型を開いた状態の斜視図、 【図２】図１に示すワッフルメーカーの縦断面図、 【図３】図１に示すワッフルメーカーによる調理状態を
示す、上型及び下型の縦断面図、 【図４】図１に示すワッフルメーカーによって調理され
たワッフルを示す斜視図、 【図５】従来のワッフルメーカーによる調理状態を示
す、上型及び下型の縦断面図。 【符号の説明】 １…上型、 ２…下型、 ３,４…凹所、 ５…上本
体、 ６…下本体、 ７…ヒンジ構造、 ８，９…脚
部、 10…貫通孔、 11，13…取手部、 12…貫通孔、
14…上ヒータ、 15…下ヒータ、 16…脚、 Ａ…生
地、 Ｂ…ワッフル、Ｃ…境界線。
一例を示す、上型と下型を開いた状態の斜視図、 【図２】図１に示すワッフルメーカーの縦断面図、 【図３】図１に示すワッフルメーカーによる調理状態を
示す、上型及び下型の縦断面図、 【図４】図１に示すワッフルメーカーによって調理され
たワッフルを示す斜視図、 【図５】従来のワッフルメーカーによる調理状態を示
す、上型及び下型の縦断面図。 【符号の説明】 １…上型、 ２…下型、 ３,４…凹所、 ５…上本
体、 ６…下本体、 ７…ヒンジ構造、 ８，９…脚
部、 10…貫通孔、 11，13…取手部、 12…貫通孔、
14…上ヒータ、 15…下ヒータ、 16…脚、 Ａ…生
地、 Ｂ…ワッフル、Ｃ…境界線。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4B014 GQ08 GU06
4B040 AA02 AA08 AB09 AC04 AD04
AE20 CA04 CA17 GD30
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】対応位置に凹所を形成した一対の上型と下
型とで構成し、上型の凹所と下型の凹所で形成される空
間に調理物を収容して加熱する加熱調理器において、下
型の凹所の深さを上型の凹所の深さよりも深く形成した
ことを特徴とするワッフルメーカーなどの加熱調理器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001239466A JP2003047561A (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | ワッフルメーカーなどの加熱調理器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001239466A JP2003047561A (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | ワッフルメーカーなどの加熱調理器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003047561A true JP2003047561A (ja) | 2003-02-18 |
Family
ID=19070213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001239466A Pending JP2003047561A (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | ワッフルメーカーなどの加熱調理器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003047561A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015181885A1 (ja) | 2014-05-27 | 2015-12-03 | 株式会社サンテックコーポレーション | 電熱調理器 |
| EP3581076A1 (en) * | 2016-02-08 | 2019-12-18 | Suntec Co., Ltd. | A method of baking both sides of ingredients and an electric cooker used therefor |
| KR102334041B1 (ko) * | 2021-01-19 | 2021-12-01 | 김정래 | 와플 메이커 |
-
2001
- 2001-08-07 JP JP2001239466A patent/JP2003047561A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015181885A1 (ja) | 2014-05-27 | 2015-12-03 | 株式会社サンテックコーポレーション | 電熱調理器 |
| KR20160004895A (ko) | 2014-05-27 | 2016-01-13 | 가부시키가이샤 선테크 코포레이션 | 전열 조리기 |
| US9782038B2 (en) | 2014-05-27 | 2017-10-10 | Suntec Company, Limited | Electric cooker |
| EP3581076A1 (en) * | 2016-02-08 | 2019-12-18 | Suntec Co., Ltd. | A method of baking both sides of ingredients and an electric cooker used therefor |
| KR102334041B1 (ko) * | 2021-01-19 | 2021-12-01 | 김정래 | 와플 메이커 |
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