JP2003040447A - Substrate carrying device and method - Google Patents

Substrate carrying device and method

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JP2003040447A
JP2003040447A JP2001224733A JP2001224733A JP2003040447A JP 2003040447 A JP2003040447 A JP 2003040447A JP 2001224733 A JP2001224733 A JP 2001224733A JP 2001224733 A JP2001224733 A JP 2001224733A JP 2003040447 A JP2003040447 A JP 2003040447A
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JP
Japan
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substrate
chuck
state
transfer
holding
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JP2001224733A
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Japanese (ja)
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Naoki Takashima
直樹 高嶋
Osamu Toba
修 鳥羽
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate carrying device and method capable of surely carrying even thin materials to a prescribed direction, dispensing with a sliding part, between a substrate and a carrying mechanism, and having a short carrying cycle time. SOLUTION: This substrate carrying device is provided with substrate retaining chucks A1 and A2, substrate carrying chucks B1, B2, and B3, and chuck control means for controlling these operations. The both chucks can take two types of states of a retaining state retaining the both ends of the substrate 1 and a released state of not retaining them. The chuck control means alternately take a working state of retaining one of the both chucks and releasing the other and its reverse working state, and controls the substrate carrying chucks B1, B2, and B3 to move frontward in the carrying direction under their retained state.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フラットパネルデ
ィスプレイ用基板やプリント配線基板などの製造工程に
用いられる基板搬送装置および基板搬送方法に関するも
のである。特に樹脂製ないしフィルム状のフレキシブル
基板の液処理装置や熱処理装置内で用いられる基板搬送
装置および基板搬送方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer device and a substrate transfer method used in a manufacturing process of a flat panel display substrate, a printed wiring board and the like. In particular, the present invention relates to a substrate transfer device and a substrate transfer method used in a liquid processing apparatus or a heat processing apparatus for a flexible substrate made of resin or film.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄型の基板を搬送するための基板搬送装
置としては、従来、たとえば、図17、図18に示すよ
うな構造のものがあった。この基板搬送装置では、基板
31の搬送方向に垂直な方向の両端部において基板を下
側から支持するための端部支持ローラ32が、ローラ軸
34に固定されることによって、搬送方向に沿って一定
間隔に配設されている。また、同一ローラ軸34上に配
置された一対の端部支持ローラ32に挟まれた中間に
は、基板31の中央部を支持するための中間支持ローラ
33が設けられている。このような基板搬送装置は、ガ
ラス、セラミック、プラスチックなどの基板材料の搬送
に用いられていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a substrate transfer device for transferring a thin substrate, there has been one having a structure as shown in FIGS. 17 and 18, for example. In this substrate transfer device, the end support rollers 32 for supporting the substrate from below at both ends in the direction perpendicular to the transfer direction of the substrate 31 are fixed to the roller shaft 34, so that the end portions of the substrate 31 can be moved along the transfer direction. They are arranged at regular intervals. In addition, an intermediate support roller 33 for supporting the central portion of the substrate 31 is provided in the middle between the pair of end support rollers 32 arranged on the same roller shaft 34. Such a substrate transfer device has been used to transfer substrate materials such as glass, ceramics and plastics.

【0003】しかし、たとえば、厚み0.5mm以下の
ガラス基板や、プラスチック、フィルムなどのフレキシ
ブル基板を搬送しようとした場合、基板の自重によるた
わみによって基板の搬送方向の直進性が低下するという
問題があった。その対策として、上述の中間支持ローラ
33を配置することが一般的であるが、基板の柔軟性が
勝り、中間支持ローラ33では十分に改善できない場合
があった。
However, for example, when a glass substrate having a thickness of 0.5 mm or less, or a flexible substrate made of plastic, film, or the like is to be transported, there is a problem that the straightness in the transport direction of the substrate is lowered due to the deflection of the substrate due to its own weight. there were. As a countermeasure, it is general to dispose the above-mentioned intermediate support roller 33, but the flexibility of the substrate is excellent, and the intermediate support roller 33 may not be sufficiently improved.

【0004】また、搬送方向に沿って並ぶローラ軸34
の配置間隔が広いと、ローラ軸34とローラ軸34との
間に基板が落ち込む傾向があるため、搬送する基板の厚
みが薄くなるほど、ローラー軸34の間隔を狭くして本
数を増加しなければならなかった。この方式では、基板
の進行方向の制御を、端部支持ローラ32に設けたフラ
シジ35に基板端面を当接させて行なうため、基板端面
がフランジ35と擦れ、発塵や基板の欠損という問題を
生じていた。
Further, the roller shaft 34 arranged along the conveying direction.
Since the substrate tends to fall between the roller shafts 34 when the arrangement interval of the roller shafts is wide, the distance between the roller shafts 34 must be narrowed to increase the number as the thickness of the substrate to be conveyed becomes thinner. did not become. In this method, the direction of travel of the substrate is controlled by bringing the substrate end face into contact with the flange 35 provided on the end support roller 32, so that the substrate end face rubs against the flange 35, causing problems such as dust generation and substrate loss. It was happening.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】これらの問題を解決す
るために提案されたものとして、特開平8−40598
号公報に開示された搬送装置がある。これは、図19に
示すように、基板21の進行方向と平行な両側の辺をな
す端部22を挟持部23で挟持し、挟持部23自体が直
動ガイド25によって移動するものである。しかし、こ
の搬送装置では、搬送開始地点で基板21の端部22を
挟持した挟持部23は、直動ガイド25によって移動し
てしまうため、搬送終了地点で挟持を終えた後、搬送開
始地点まで戻らなければ次の基板21を搬送できないと
いう問題を有する。この搬送装置では、搬送開始地点と
搬送終了地点との距離が長いほど、搬送自体にも搬送後
の復帰にも時間がかかるので、搬送のサイクルタイムが
長くなり、生産効率が低下する。
As a proposal for solving these problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-40598 has been proposed.
There is a transport device disclosed in the publication. In this, as shown in FIG. 19, the end portions 22 forming both sides parallel to the traveling direction of the substrate 21 are sandwiched by the sandwiching portion 23, and the sandwiching portion 23 itself is moved by the linear guide 25. However, in this transfer device, the pinching portion 23 that holds the end portion 22 of the substrate 21 at the transfer start point is moved by the linear guide 25, so after the pinch is completed at the transfer end point, the transfer start point is reached. There is a problem that the next substrate 21 cannot be transported unless it is returned. In this transfer device, the longer the distance between the transfer start point and the transfer end point is, the longer the transfer itself and the return after the transfer are. Therefore, the transfer cycle time is lengthened and the production efficiency is reduced.

【0006】さらに、この方式の場合、ホットプレート
やクールプレートと組み合わせて搬送と同時に加熱や冷
却を行なうには、構造的に困難であった。
Further, in the case of this system, it is structurally difficult to perform heating and cooling at the same time as transportation in combination with a hot plate or a cool plate.

【0007】そこで、本発明は、薄いものであっても確
実に所望の方向に搬送することができ、発塵や欠損の原
因となる基板と搬送機構との間の摺動部分がなく、搬送
のサイクルタイムが短く、ホットプレートやクールプレ
ートとの組合せにも対応しやすい基板搬送装置および基
板搬送方法を提供することを目的とする。
Therefore, according to the present invention, even if it is thin, it can be surely conveyed in a desired direction, and there is no sliding portion between the substrate and the conveyance mechanism which causes dust or damage, and It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus and a substrate transfer method which have a short cycle time and can easily be used in combination with a hot plate or a cool plate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に基づく基板搬送装置は、基板を、上記基板
の面に平行な搬送方向に沿って搬送するための基板搬送
装置であって、上記搬送方向に関して設置位置が固定さ
れている第1のチャックと、上記搬送方向に沿って移動
することができる第2のチャックと、上記第1および第
2のチャックの動作を制御するためのチャック制御手段
とを備え、上記第1のチャックおよび上記第2のチャッ
クは、それぞれ、上記基板を上記搬送方向に略垂直な方
向の両端部において保持する保持状態と、上記基板を保
持しない解除状態との2通りの状態をとることができ、
上記チャック制御手段は、上記第1および第2のチャッ
クに対して、上記第1のチャックが上記保持状態にあっ
て上記第2のチャックが上記解除状態にある第1の作業
状態と、上記第2のチャックが上記保持状態にあって上
記第1のチャックが上記解除状態にある第2の作業状態
とを交互にとり、なおかつ、上記第2のチャックは、上
記第2の作業状態の下で上記搬送方向前向きに移動する
ように制御する。この構成を採用することにより、第1
のチャックと第2のチャックとが交互に両端部を確実に
保持しながら前方へ搬送していくものであるため、基板
の自重によるたわみや変形は問題とならず、薄い柔軟性
のある基板であっても問題なく、連続的に搬送すること
ができる。また、搬送距離が長くても搬送のサイクルタ
イムは長くならないため、効率良く搬送を行うことがで
きる。
In order to achieve the above object, a substrate transfer device according to the present invention is a substrate transfer device for transferring a substrate along a transfer direction parallel to the surface of the substrate. A first chuck whose installation position is fixed in the carrying direction, a second chuck which can move along the carrying direction, and an operation for controlling the operations of the first and second chucks. And a chuck control means, wherein the first chuck and the second chuck respectively hold the substrate at both end portions in a direction substantially perpendicular to the transport direction and release state in which the substrate is not held. There are two states,
The chuck control means includes a first working state in which the first chuck is in the holding state and the second chuck is in the released state with respect to the first and second chucks; Alternately, the second chuck is in the holding state and the first chuck is in the released state, and the second chuck is in the second working state, and the second chuck is under the second working state. It is controlled to move forward in the transport direction. By adopting this configuration, the first
The second chuck and the second chuck alternately carry the front portions while securely holding both ends, so that the deflection and deformation due to the weight of the substrate do not pose a problem, and the thin and flexible substrate is used. There is no problem even if there is, it can be transported continuously. Further, even if the transport distance is long, the transport cycle time does not become long, so that the transport can be performed efficiently.

【0009】上記発明において好ましくは、上記第1の
チャックは、上記解除状態で上記基板の面に略平行で上
記基板から遠ざかる向きに移動するための第1の退避手
段と、上記解除状態で上記基板の面に略垂直で上記基板
から遠ざかる向きに移動するための第2の退避手段とを
含み、上記第2のチャックは、上記解除状態で上記基板
の面に略平行で上記基板から遠ざかる向きに移動するた
めの第3の退避手段とを含む。この構成を採用すること
により、第1のチャックと第2のチャックとはそれぞれ
基板を保持しないときは基板面に平行で基板から遠ざか
る向きに退避しておくことができるので、第1の作業状
態と第2の作業状態とを円滑に入れ替えることができ
る。また、第1のチャックは基板の面に略垂直で基板か
ら遠ざかる向きに移動する第2の退避手段を含んでいる
ので、第2のチャックが搬送方向に移動する際には、第
1のチャックは第2のチャックに干渉しない位置に退避
させておくことができる。
In the above invention, preferably, the first chuck is a first retracting means for moving in a direction away from the substrate and being substantially parallel to the surface of the substrate in the released state, and the first chuck in the released state. A second retracting means for moving in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate and away from the substrate, wherein the second chuck is substantially parallel to the surface of the substrate in the released state and moves away from the substrate. A third retracting means for moving to. By adopting this configuration, the first chuck and the second chuck can be retracted in a direction parallel to the substrate surface and away from the substrate when the substrate is not held, respectively. And the second working state can be smoothly switched. Further, since the first chuck includes the second retracting means that moves in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate and away from the substrate, when the second chuck moves in the transport direction, the first chuck is moved. Can be retracted to a position that does not interfere with the second chuck.

【0010】上記発明において好ましくは、上記搬送制
御手段は、上記第1のチャックが上記基板の第1の部分
を保持した状態で、上記第2のチャックに、上記基板の
上記第1の部分とは異なる第2の部分を保持させた後
に、上記第1のチャックを上記解除状態にするための第
1の受渡し制御手段と、上記第2のチャックが上記基板
の上記第2の部分を保持した状態で、上記第1のチャッ
クに、上記基板の上記第1の部分を保持させた後に、上
記第2のチャックを上記解除状態にするための第2の受
渡し制御手段とを含む。この構成を採用することによ
り、第1のチャックと第2のチャックとの間の受渡し時
には、第1のチャックと第2のチャックとが両方同時に
基板を保持する時間帯を経て受渡しが行なわれるので、
基板の姿勢を変化させずに搬送を行なうことができる。
In the above invention, preferably, in the transfer control means, the second chuck holds the first portion of the substrate and the first portion of the substrate while the first chuck holds the first portion of the substrate. Hold a second portion different from the first chuck, and then hold the second portion of the substrate by the second delivery control means for bringing the first chuck into the released state. A second delivery control means for bringing the second chuck into the released state after the first chuck holds the first portion of the substrate in the state. By adopting this configuration, at the time of delivery between the first chuck and the second chuck, the delivery is performed after a time period in which both the first chuck and the second chuck simultaneously hold the substrate. ,
It is possible to carry the substrate without changing the posture of the substrate.

【0011】上記発明において好ましくは、上記基板が
搬送されるべき経路に隣接した位置に、上記基板との間
で熱交換を行なうための熱交換手段を備える。この構成
を採用することにより、搬送しながら加熱または冷却を
することが可能となる。しかも、全体をコンパクトに収
めることができる。
In the above invention, preferably, a heat exchanging means for exchanging heat with the substrate is provided at a position adjacent to a path along which the substrate is to be transported. By adopting this configuration, it is possible to heat or cool while transporting. Moreover, the whole can be stored compactly.

【0012】また、上記目的を達成するため、本発明に
基づく基板搬送方法は、基板を、上記基板の面に平行な
搬送方向に沿って搬送するための基板搬送方法であっ
て、上記搬送方向に関して設置位置が固定されており、
上記基板を上記搬送方向に略垂直な方向の両端部におい
て保持する保持状態と、上記基板を保持しない解除状態
との2通りの状態をとることができる第1のチャック
と、上記搬送方向に沿って移動することができ、上記基
板を上記搬送方向に略垂直な方向の両端部において保持
する保持状態と、上記基板を保持しない解除状態との2
通りの状態をとることができる第2のチャックとを用い
て、上記第1のチャックが上記保持状態にあって上記第
2のチャックが上記解除状態にある第1の作業状態と、
上記第2のチャックが上記保持状態にあって上記第1の
チャックが上記解除状態にある第2の作業状態とを交互
にとり、なおかつ、上記第2のチャックは、上記第2の
作業状態の下で上記搬送方向前向きに移動する。この方
法を採用することにより、第1のチャックと第2のチャ
ックとで交互に両端部を確実に保持しながら前方へ搬送
していくため、基板の自重によるたわみや変形は問題と
ならず、薄い柔軟性のある基板であっても問題なく、連
続的に搬送することができる。また、搬送距離が長くて
も搬送のサイクルタイムは長くならないため、効率良く
搬送を行うことができる。
In order to achieve the above object, a substrate transfer method according to the present invention is a substrate transfer method for transferring a substrate along a transfer direction parallel to the surface of the substrate. With regard to the installation position is fixed,
A first chuck that can be in two states, a holding state in which the substrate is held at both ends in a direction substantially perpendicular to the carrying direction, and a released state in which the substrate is not held, and along the carrying direction. The holding state in which the substrate is held at both ends in the direction substantially perpendicular to the carrying direction and the released state in which the substrate is not held.
And a second chuck that can take the following states, a first working state in which the first chuck is in the holding state and the second chuck is in the released state,
Alternately, a second working state in which the second chuck is in the holding state and the first chuck is in the released state is used, and the second chuck holds the second working state under the second working state. Moves forward in the transport direction. By adopting this method, since the first chuck and the second chuck are alternately conveyed while reliably holding both end portions, the deflection and deformation due to the weight of the substrate do not pose a problem, Even a thin and flexible substrate can be continuously transported without any problem. Further, even if the transport distance is long, the transport cycle time does not become long, so that the transport can be performed efficiently.

【0013】上記発明において好ましくは、上記第1の
チャックを、上記解除状態で上記基板の面に略平行で上
記基板から遠ざかる向きに移動させる第1の退避工程
と、上記第1のチャックを、上記解除状態で上記基板の
面に略垂直で上記基板から遠ざかる向きに移動させる第
2の退避工程と、上記第2のチャックを、上記解除状態
で上記基板の面に略平行で上記基板から遠ざかる向きに
移動させる第3の退避工程とを含むことによって、上記
第1のチャックと上記第2のチャックとが互いに干渉す
ることなく、上記基板を交互に保持する。この方法を採
用することにより、第1のチャックと第2のチャックと
のうち基板を保持しないものを基板面に平行で基板から
遠ざかる向きに退避しておくことができるので、第1の
作業状態と第2の作業状態とを円滑に入れ替えることが
できる。また、第1のチャックは基板の面に略垂直で基
板から遠ざかる向きに移動する第2の退避工程を含んで
いるので、第2のチャックを搬送方向に移動させる際に
は、第1のチャックは第2のチャックに干渉しない位置
に退避させておくことができる。
In the above invention, it is preferable that the first chuck is moved in a released state in a direction substantially parallel to the surface of the substrate and away from the substrate, and the first chuck is moved. A second retracting step of moving in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate in the released state and away from the substrate; and moving the second chuck in the released state substantially parallel to the surface of the substrate and away from the substrate By including the third retracting step of moving in the direction, the first chuck and the second chuck hold the substrates alternately without interfering with each other. By adopting this method, it is possible to retract the first chuck and the second chuck that do not hold the substrate in the direction parallel to the substrate surface and away from the substrate. And the second working state can be smoothly switched. In addition, since the first chuck includes a second retracting step of moving in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate and away from the substrate, when moving the second chuck in the transport direction, the first chuck Can be retracted to a position that does not interfere with the second chuck.

【0014】上記発明において好ましくは、上記第1の
チャックが上記基板の第1の部分を保持した状態で、上
記第2のチャックに、上記基板の上記第1の部分とは異
なる第2の部分を保持させた後に、上記第1のチャック
を上記解除状態にする第1の受渡し工程と、上記第2の
チャックが上記基板の上記第2の部分を保持した状態
で、上記第1のチャックに、上記基板の上記第1の部分
を保持させた後に、上記第2のチャックを上記解除状態
にする第2の受渡し工程とを含む。この方法を採用する
ことにより、第1のチャックと第2のチャックとの間の
受渡し時には、第1のチャックと第2のチャックとが両
方同時に基板を保持する時間帯を経て受渡しが行なわれ
るので、基板の姿勢を変化させずに搬送を行なうことが
できる。
In the above invention, preferably, a second portion different from the first portion of the substrate is attached to the second chuck while the first chuck holds the first portion of the substrate. And then holding the second chuck to hold the second portion of the substrate in the released state, and the second chuck holds the second portion of the substrate to the first chuck. A second delivery step of bringing the second chuck into the released state after holding the first portion of the substrate. By adopting this method, at the time of delivery between the first chuck and the second chuck, the delivery is performed after a time period in which both the first chuck and the second chuck simultaneously hold the substrate. The transfer can be performed without changing the posture of the substrate.

【0015】上記発明において好ましくは、上記基板
は、基板本体の上記搬送方向に略垂直な方向の両端に搬
送用部材を取り付けた状態のものである。この方法を採
用することにより、基板の表面を直接挟持することは回
避できるので、基板にキズや欠けを生じさせることを防
止できる。その結果、基板の表面は全面隅々まで利用可
能となる。また、搬送用部材の材質を適当に選定するこ
とで、柔軟な基板であっても搬送用部材によってある程
度の剛性を持たせることもでき、基板の取扱いが容易に
なる。
In the above invention, preferably, the substrate is in a state in which a transport member is attached to both ends of the substrate body in a direction substantially perpendicular to the transport direction. By adopting this method, it is possible to avoid directly sandwiching the surface of the substrate, so that it is possible to prevent the substrate from being scratched or chipped. As a result, the entire surface of the substrate can be used. Further, by appropriately selecting the material of the carrying member, the carrying member can have a certain degree of rigidity even if the substrate is flexible, and the substrate can be easily handled.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】(実施の形態1) (構成)図1を参照して、本発明に基づく実施の形態1
における基板搬送装置について説明する。この基板搬送
装置は、第1のチャックとしての基板保持チャックA
1,A2と、第2のチャックとしての基板搬送チャック
B1,B2,B3とを備える。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (First Embodiment) (Structure) Referring to FIG. 1, a first embodiment according to the present invention.
The substrate transfer device in FIG. This substrate transfer apparatus is provided with a substrate holding chuck A as a first chuck.
1, A2, and substrate transfer chucks B1, B2, B3 as second chucks.

【0017】基板保持チャックA1,A2を取り出して
搬送方向の前方から見たところを図2、図3に示す。図
2は、基板1の端部2を保持した状態(以下、「保持状
態」という。)を示す。基板保持チャックA1,A2
は、基板保持部3を含み、基板保持部3は、基板保持部
材3a,3bを含む。基板1を保持する際には、シリン
ダ11が上昇動作を行なうことにより、基板保持部材3
bが基板保持部材3aに対して接近して基板1の端部2
を挟持する。図3は、基板を保持しない状態(以下、
「解除状態」という。)を示す。基板1を解放する際に
は、シリンダ11が下降動作を行なうことにより、基板
保持部材3bが基板保持部材3aから離れる。さらに、
基板保持チャックA1,A2は、第1の退避手段として
シリンダ12を含む。基板保持チャックA1,A2は、
基板保持部3やシリンダ11を、シリンダ12により、
基板面に略平行で基板から遠ざける向き(図2、図3に
おける左右に広がる向き)に移動させることができる。
さらに、基板保持チャックA1,A2は、第2の退避手
段としてシリンダ13を含む。基板保持チャックA1,
A2は、基板保持部3、シリンダ11,12を含む全体
を、シリンダ13によって上下方向に移動させることが
できる。この第2の退避手段は、後述の基板搬送チャッ
クB1,B2,B3によって基板1が搬送されるとき
に、基板保持チャックA1,A2が基板搬送チャックB
1,B2,B3に干渉しないように搬送経路から下方に
退避させるためのものである。
2 and 3 show the substrate holding chucks A1 and A2 taken out and viewed from the front in the carrying direction. FIG. 2 shows a state in which the end portion 2 of the substrate 1 is held (hereinafter referred to as “holding state”). Substrate holding chuck A1, A2
Includes a substrate holding unit 3, and the substrate holding unit 3 includes substrate holding members 3a and 3b. When holding the substrate 1, the cylinder 11 performs an ascending operation, so that the substrate holding member 3 is held.
b approaches the substrate holding member 3a and the end portion 2 of the substrate 1
To pinch. FIG. 3 shows a state in which the substrate is not held (hereinafter,
It is called "released state". ) Is shown. When the substrate 1 is released, the cylinder 11 performs a descending operation to separate the substrate holding member 3b from the substrate holding member 3a. further,
The substrate holding chucks A1 and A2 include a cylinder 12 as a first retracting unit. The substrate holding chucks A1 and A2 are
The substrate holding part 3 and the cylinder 11 are moved by the cylinder 12.
It can be moved in a direction (parallel to the left and right in FIGS. 2 and 3) that is substantially parallel to the substrate surface and away from the substrate.
Further, the substrate holding chucks A1 and A2 include a cylinder 13 as a second retracting means. Substrate holding chuck A1,
A2 can vertically move the entire substrate including the substrate holder 3 and the cylinders 11 and 12 by the cylinder 13. The second retracting means causes the substrate holding chucks A1 and A2 to move when the substrate 1 is transferred by the substrate transfer chucks B1, B2 and B3 described later.
1, B2, B3 are for retreating downward from the transport path so as not to interfere with them.

【0018】基板搬送チャックB1,B2,B3を取り
出して搬送方向の前方から見たところを図4、図5に示
す。図4は、基板1の端部2を保持した状態(以下、
「保持状態」という。)を示す。図5は、基板を保持し
ない状態(以下、「解除状態」という。)を示す。基板
搬送チャックB1,B2,B3は、基板保持部4を含
み、基板保持部4は、基板保持部材4a,4bを含む。
基板保持部材4aは連動棒7に取り付けられており、モ
ータ6(図1参照)によって連動棒7が回転することに
より、基板搬送チャックB1,B2,B3のそれぞれの
基板保持部材4aは一斉に回転するようになっている。
基板搬送チャックB1,B2,B3は、連動棒7の回転
によって、基板保持部材4aと基板保持部材4bとの間
で基板1を挟持したり解放したりすることができる。連
動棒7を回動させるために、モータ6の代わりに、ロー
タリアクチュエータなど、他の回動手段を用いてもよ
い。また、基板保持部4も、基板保持部3と同じように
シリンダで基板保持部材を平行移動させて挟持したり解
放したりする方式としてもよい。基板搬送チャックB
1,B2,B3は、直動ガイド5の上に載っており、一
体となって基板1の搬送方向に配置されたレール8に沿
って平行移動することができる。さらに、レール8は、
第3の退避手段としての直動ガイド14の上に載ってお
り、基板1の搬送方向と垂直に配置されたレール15に
沿って平行移動することによって、基板1の搬送経路か
ら両側にそれぞれ遠ざかることができる。この第3の退
避手段は、基板搬送チャックB1,B2,B3が、基板
保持チャックA1,A2に基板1を受け渡した後、搬送
経路から両脇に退避し、元の位置に戻るために搬送方向
に沿って後退する際に、基板保持チャックA1,A2と
の干渉を避けるためのものである。なお、基板搬送チャ
ックB1,B2,B3は、一体となって平行移動するた
めに、連なった構造をしている。一連の基板搬送チャッ
クB1,B2,B3の側面図を図6に示す。なお、直動
ガイド5,14は、たとえばLMガイド(R)などの市
販のものを使用することができる。
FIGS. 4 and 5 show the substrate transfer chucks B1, B2, B3 taken out and viewed from the front in the transfer direction. FIG. 4 shows a state in which the end 2 of the substrate 1 is held (hereinafter,
It is called "holding state". ) Is shown. FIG. 5 shows a state in which the substrate is not held (hereinafter referred to as “released state”). The substrate transfer chucks B1, B2, B3 include a substrate holding unit 4, and the substrate holding unit 4 includes substrate holding members 4a, 4b.
The substrate holding member 4a is attached to the interlocking rod 7, and when the interlocking rod 7 is rotated by the motor 6 (see FIG. 1), the substrate holding members 4a of the substrate transport chucks B1, B2, B3 are simultaneously rotated. It is supposed to do.
The substrate transfer chucks B1, B2, B3 can clamp or release the substrate 1 between the substrate holding member 4a and the substrate holding member 4b by rotating the interlocking rod 7. Instead of the motor 6, other rotating means such as a rotary actuator may be used to rotate the interlocking rod 7. In addition, the substrate holding unit 4 may also be of a system in which the substrate holding member is moved in parallel by a cylinder to pinch or release the substrate holding member, like the substrate holding unit 3. Substrate transfer chuck B
1, B2 and B3 are mounted on the linear guide 5 and can be moved in parallel as a unit along a rail 8 arranged in the transport direction of the substrate 1. Furthermore, the rail 8
It is placed on the linear guide 14 as the third retracting means, and is moved in parallel along the rail 15 arranged perpendicularly to the transfer direction of the substrate 1, thereby moving away from the transfer route of the substrate 1 to both sides. be able to. The third retracting means is configured so that the substrate transport chucks B1, B2, B3 transfer the substrate 1 to the substrate holding chucks A1, A2 and then retract to both sides from the transport path to return to the original position in the transport direction. This is for avoiding interference with the substrate holding chucks A1 and A2 when retracting along. The substrate transfer chucks B1, B2, B3 have a continuous structure in order to move in parallel as a unit. FIG. 6 shows a side view of a series of substrate transfer chucks B1, B2, B3. As the linear motion guides 5 and 14, commercially available products such as an LM guide (R) can be used.

【0019】基板保持チャックA1,A2、基板搬送チ
ャックB1,B2,B3が基板1を保持する際に基板1
に接する面は、基板1を安定して保持できるものであれ
ばよいが、特に、弾力性に富んだもの、さらに、スリッ
プしないように凹凸を有するものであれば好ましい。
When the substrate holding chucks A1, A2 and the substrate transfer chucks B1, B2, B3 hold the substrate 1, the substrate 1
The surface contacting the substrate 1 may be any surface that can hold the substrate 1 in a stable manner, but is particularly preferably one that is highly elastic and that has irregularities so as not to slip.

【0020】(動作)図7〜図14を参照して、この基
板搬送装置の動作について説明する。図7〜図14で
は、基板搬送装置の構造のうち、動作説明に必要な部分
のみ表示し、他は図示を省略している。この例では、複
数枚の矩形の基板1a,1b,‥‥が搬送対象となって
いる。そのうち、基板1aは既に基板保持チャックA1
に保持されている。この状態で、図7に示すように、基
板搬送チャックB1,B2,B3の各基板保持部4が、
基板搬送経路の両脇から接近するように移動する。次の
基板1bが搬送フォーク10によって、この基板搬送装
置の搬送開始位置まで搬送される。この結果、基板搬送
チャックB1の基板保持部材4bが基板1bの下側に入
り込み、基板搬送チャックB2の基板保持部材4bが基
板1aの下側に入り込んだ形になる。
(Operation) The operation of the substrate transfer apparatus will be described with reference to FIGS. 7 to 14, only the part of the structure of the substrate transfer device necessary for explaining the operation is shown, and the other parts are omitted. In this example, a plurality of rectangular substrates 1a, 1b, ... Among them, the substrate 1a is already the substrate holding chuck A1.
Held in. In this state, as shown in FIG. 7, the substrate holding portions 4 of the substrate transport chucks B1, B2, B3 are
It moves so as to approach from both sides of the substrate transfer path. The next substrate 1b is transported by the transport fork 10 to the transport start position of this substrate transport device. As a result, the substrate holding member 4b of the substrate transfer chuck B1 enters the lower side of the substrate 1b, and the substrate holding member 4b of the substrate transfer chuck B2 enters the lower side of the substrate 1a.

【0021】図8に示すように、モータ6による連動棒
7の回動により、基板保持部材4aが回転し、基板搬送
チャックB2の基板保持部4が基板1aを挟持し、基板
搬送チャックB1の基板保持部4が基板1bを挟持す
る。その後、搬送フォーク10は後退し、この基板搬送
装置の外に退避する。なお、搬送フォーク10の幅は、
基板搬送チャックB1の基板保持部4が基板1bを保持
する際の間隔よりも狭くなっている。搬送フォーク10
の退避動作は、基板1bより低い位置に下降してから行
なわれる。
As shown in FIG. 8, the rotation of the interlocking rod 7 by the motor 6 rotates the substrate holding member 4a, the substrate holding portion 4 of the substrate transfer chuck B2 holds the substrate 1a, and the substrate transfer chuck B1 moves. The substrate holding unit 4 holds the substrate 1b. After that, the transfer fork 10 retracts and retreats outside the substrate transfer device. The width of the transport fork 10 is
The distance between the substrate holding portion 4 of the substrate transport chuck B1 and the substrate 1b holding the substrate 1b is narrower. Transport fork 10
The evacuation operation of is performed after descending to a position lower than the substrate 1b.

【0022】図9に示すように、基板保持チャックA
1,A2の各基板保持部3を開き、基板搬送経路から左
右に遠ざけ、次に行なう基板搬送チャックB1,B2,
B3の移動に干渉しないように下降させておく。図10
に示すように、基板搬送チャックB1,B2,B3を基
板搬送方向に沿って1ピッチ前進させる。「1ピッチ」
とは、基板搬送チャックまたは基板保持チャックの配列
における1つ分のピッチをいうものとする。先ほど下降
させていた基板保持チャックA1,A2を上昇させる。
図11に示すように、基板保持チャックA1,A2を基
板搬送経路に寄せ、それぞれ基板を保持させる。この結
果、基板保持チャックA1は、基板1bを保持し、基板
保持チャックA2は、基板1aを保持する。図12に示
すように、基板搬送チャックB1,B2,B3の各基板
保持部4を開き、基板搬送経路から遠ざける。図13に
示すように、基板搬送チャックB1,B2,B3を基板
搬送方向に沿って1ピッチ後退させる。図14に示すよ
うに、基板搬送チャックB1,B2,B3の各基板保持
部4が、基板搬送経路の両脇から接近するように移動す
る。次の基板1cが搬送フォーク10によって、この基
板搬送装置の搬送開始位置まで搬送される。この結果、
基板搬送チャックB1の基板保持部材4bが基板1cの
下側に入り込み、基板搬送チャックB2の基板保持部材
4bが基板1bの下側に入り込み、基板搬送チャックB
3の基板保持部材4bが基板1aの下側に入り込んだ形
になる。こうして、再び図7からの動作を同様に繰り返
すことによって、各基板を1ピッチずつ前方へ搬送して
いく。
As shown in FIG. 9, the substrate holding chuck A
1 and A2, the respective substrate holders 3 are opened to move them away from the substrate transfer path to the left and right, and the next substrate transfer chuck B1, B2
It is lowered so as not to interfere with the movement of B3. Figure 10
As shown in, the substrate transfer chucks B1, B2 and B3 are advanced by one pitch along the substrate transfer direction. "1 pitch"
The term "one pitch" in the arrangement of the substrate transport chucks or the substrate holding chucks. The substrate holding chucks A1 and A2 that have been lowered previously are raised.
As shown in FIG. 11, the substrate holding chucks A1 and A2 are brought close to the substrate transfer path to hold the substrates respectively. As a result, the substrate holding chuck A1 holds the substrate 1b, and the substrate holding chuck A2 holds the substrate 1a. As shown in FIG. 12, the substrate holders 4 of the substrate transfer chucks B1, B2, B3 are opened and moved away from the substrate transfer path. As shown in FIG. 13, the substrate transfer chucks B1, B2, B3 are retracted by one pitch along the substrate transfer direction. As shown in FIG. 14, the substrate holding portions 4 of the substrate transport chucks B1, B2, B3 move so as to approach from both sides of the substrate transport path. The next substrate 1c is transported by the transport fork 10 to the transport start position of this substrate transport device. As a result,
The substrate holding member 4b of the substrate transfer chuck B1 enters below the substrate 1c, and the substrate holding member 4b of the substrate transfer chuck B2 enters below the substrate 1b.
Substrate holding member 4b of No. 3 enters the lower side of substrate 1a. In this way, each substrate is conveyed forward by one pitch by repeating the operation from FIG. 7 again.

【0023】(作用・効果)このような基板搬送装置で
あれば、基板保持チャックと基板搬送チャックとが交互
に両端部を確実に保持しながら前方へ搬送していくもの
であるため、基板の自重によるたわみや変形は問題とな
らず、薄い柔軟性のある基板であっても問題なく、連続
的に搬送することができる。特に、基板保持チャックと
基板搬送チャックとの間の受渡し時には、基板保持チャ
ックと基板搬送チャックとが両方同時に基板を保持する
時間帯を経て受渡しが行なわれるので、基板の姿勢を変
化させずに搬送を行なうことができる。この基板搬送装
置であれば、基板と搬送機構との間の摺動部分がないの
で発塵や欠損の問題も解消できる。
(Operation / Effect) With such a substrate transfer apparatus, the substrate holding chuck and the substrate transfer chuck alternately transfer the substrates forward while securely holding both ends. Deflection or deformation due to its own weight does not pose a problem, and even a thin flexible substrate can be continuously conveyed without any problem. In particular, when delivering between the substrate holding chuck and the substrate transport chuck, the substrate holding chuck and the substrate transport chuck both deliver the substrate at the same time, so that the substrate is transported without changing the posture. Can be done. With this substrate transfer device, since there is no sliding portion between the substrate and the transfer mechanism, the problems of dust generation and chipping can be solved.

【0024】また、基板搬送チャックは1ピッチ分の距
離だけを往復移動することで次々と新しい基板の搬送を
開始できるため、搬送距離に依存して搬送のサイクルタ
イムが長くなることもない。
Further, the substrate transport chuck can start transporting new substrates one after another by reciprocating the distance by one pitch, so that the transport cycle time does not become long depending on the transport distance.

【0025】なお、基板保持チャックA1,A2は、動
作を同時に行なうものであるため、駆動機器はそれぞれ
共用してもよい。基板搬送チャックB1,B2,B3に
ついても同様である。
Since the substrate holding chucks A1 and A2 simultaneously perform the operations, the driving devices may be shared. The same applies to the substrate transfer chucks B1, B2, B3.

【0026】(実施の形態2) (基板搬送方法)本発明に基づく実施の形態2における
基板搬送方法は、実施の形態1で説明した基板搬送装置
を用いる。この基板搬送方法において、基板の端部22
を挟持して保持することに支障がある場合がある。たと
えば、基板の厚みが極端に薄く、基板を直接挟持すると
基板の欠け、割れ、ひびを発生させる原因となる場合
や、端部2を含めて余さずほぼ全面を加工することとし
ていて、挟持すれば、加工部分にキズなどを発生させて
しまう場合などが該当する。これらの基板1の両端に
は、たとえば、図15に示すように、裏面から搬送用部
材として搬送用テープ18を熱圧着や接着剤などにより
貼り付け、この搬送用テープ18を挟持して搬送するこ
ととすればよい。この搬送用テープ18は、基板を処理
する環境によりシリコン樹脂、テフロン(R)樹脂およ
びアラミド樹脂などの耐薬品性や耐熱性に優れた材質の
ものとする。あるいは、樹脂に限らず、金属の薄板であ
ってもよい。
(Second Embodiment) (Substrate Transfer Method) The substrate transfer method according to the second embodiment of the present invention uses the substrate transfer device described in the first embodiment. In this substrate transfer method, the edge 22 of the substrate is
There may be a problem in pinching and holding. For example, if the substrate is extremely thin and if it is directly sandwiched, it may cause chipping, cracking, or cracking of the substrate, or if almost all the surface including the end 2 is processed, the sandwiching If so, a case where a scratch or the like is generated in the processed portion is applicable. As shown in FIG. 15, for example, as shown in FIG. 15, a transport tape 18 as a transport member is attached to both ends of these substrates 1 by thermocompression bonding or an adhesive, and the transport tape 18 is sandwiched and transported. You can do that. The transport tape 18 is made of a material having excellent chemical resistance and heat resistance such as silicon resin, Teflon (R) resin and aramid resin depending on the environment in which the substrate is processed. Alternatively, it is not limited to resin and may be a thin metal plate.

【0027】(作用・効果)上述のように搬送用テープ
18を利用することで、基板1の表面を直接挟持するこ
とは回避できるので、基板1にキズや欠けを生じさせる
ことを防止できる。その結果、基板1の表面は全面隅々
まで利用可能となる。また、搬送用テープ18の材質を
適当に選定することで、柔軟な基板であっても搬送用テ
ープ18によってある程度の剛性を持たせることもで
き、基板の取扱いが容易になる。
(Operation / Effect) By using the transport tape 18 as described above, it is possible to avoid directly pinching the surface of the substrate 1, and therefore it is possible to prevent the substrate 1 from being scratched or chipped. As a result, the entire surface of the substrate 1 can be used. Further, by appropriately selecting the material of the carrying tape 18, the carrying tape 18 can give a certain degree of rigidity even if the substrate is flexible, and the handling of the substrate becomes easy.

【0028】上述の例では、搬送用テープ18は裏面か
ら貼り付けているが、必要に応じて、表側から貼り付け
てもよく、他の方法で基板の辺に固定してもよい。ま
た、搬送用部材は、テープ状のものに限らず、他の形状
のものであってもよい。
In the above-mentioned example, the transport tape 18 is attached from the back side, but it may be attached from the front side or fixed to the side of the substrate by another method, if necessary. Further, the carrying member is not limited to the tape-shaped member, but may have another shape.

【0029】(実施の形態3) (構成)本発明に基づく実施の形態3における基板搬送
装置は、基本的には実施の形態1で示した基板搬送装置
と同様であるが、図16に前方から見たところを示すよ
うに、基板搬送経路の下側にホットプレート17を備え
ている。ホットプレート17は、基板保持チャックA
1,A2の配置に合わせて設置されている。基板保持チ
ャックA1,A2が基板1を保持した時点で、基板保持
チャックA1,A2の全体は、基板1の裏面をホットプ
レート17の上面に接触させる位置まで下降する。こう
して、基板1の加熱を行なう。ホットプレート17を配
置するには、基板搬送方向に沿ってフレームを渡し、そ
のフレームの上に搭載することとすれば、基板保持チャ
ックA1,A2や基板搬送チャックB1,B2,B3の
機構との干渉は避けることができ、実施の形態1の構造
をそのまま活用することができる。
(Embodiment 3) (Structure) A substrate transfer apparatus according to a third embodiment of the present invention is basically the same as the substrate transfer apparatus shown in the first embodiment. As shown from the above, a hot plate 17 is provided below the substrate transfer path. The hot plate 17 is a substrate holding chuck A.
It is installed according to the arrangement of A1 and A2. When the substrate holding chucks A1 and A2 hold the substrate 1, the entire substrate holding chucks A1 and A2 descend to a position where the back surface of the substrate 1 contacts the upper surface of the hot plate 17. In this way, the substrate 1 is heated. In order to arrange the hot plate 17, a frame is passed along the substrate transfer direction, and if it is mounted on the frame, the hot plate 17 and the mechanism of the substrate holding chucks A1, A2 and the substrate transfer chucks B1, B2, B3 are arranged. Interference can be avoided, and the structure of the first embodiment can be used as it is.

【0030】ここでは、ホットプレート17の例を示し
たが、ホットプレート17の代わりにクールプレートを
配置して、加熱の変わりに冷却を行なわせてもよい。
Although an example of the hot plate 17 is shown here, a cool plate may be arranged instead of the hot plate 17 and cooling may be performed instead of heating.

【0031】(作用・効果)この基板搬送装置または基
板搬送方法においては、ホットプレートやクールプレー
トの配置をすることのできるスペースが基板搬送経路の
下方にあるため、ホットプレートやクールプレートを容
易に配置することができる。また、基板保持チャックA
1,A2は基板を保持したまま上下動を行なうことがで
きるので、搬送中に必要に応じて基板をホットプレート
やクールプレートに当接させて加熱または冷却を行なう
ことが可能となる。
(Operation / Effect) In this substrate transfer apparatus or substrate transfer method, since the space in which the hot plate or cool plate can be placed is below the substrate transfer path, the hot plate or cool plate can be easily installed. Can be placed. Also, the substrate holding chuck A
Since 1 and A2 can move up and down while holding the substrate, it is possible to bring the substrate into contact with a hot plate or a cool plate during heating to heat or cool the substrate as needed.

【0032】ところで、加熱または冷却によって変化さ
せる温度が大きい場合、ホットプレートまたはクールプ
レートを数ヶ所に設けて、段階的に加熱または冷却を行
なうことが一般的であるが、本発明に基づく基板搬送装
置または基板搬送方法においては、加熱または冷却した
ことによる基板の膨張または収縮を、基板保持チャック
A1,A2と基板搬送チャックB1,B2,B3とが交
互に基板を持ち替える際に徐々に吸収できるため、膨張
または収縮時の応力を基板に蓄積することなく、平坦度
を維持して搬送することができる。
When the temperature to be changed by heating or cooling is high, it is general to provide hot plates or cool plates at several places to perform heating or cooling stepwise. In the apparatus or the substrate transfer method, the expansion or contraction of the substrate due to heating or cooling can be gradually absorbed when the substrate holding chucks A1, A2 and the substrate transfer chucks B1, B2, B3 alternately switch the substrates. In addition, the flatness can be maintained and the transfer can be performed without accumulating the stress at the time of expansion or contraction in the substrate.

【0033】なお、基板搬送経路の下方に組み込むもの
は、ホットプレートやクールプレートに限らず、基板に
対して何らかの加工を行なうための構造物を組み込んで
もよい。また、基板搬送経路の下方でなく、上方に設け
てもよい。この基板搬送装置では、このようにして、各
種加工や加熱や冷却を搬送ラインの中で一貫して行なわ
せることができるので、フレキシブル基板などの基板に
対して連続的に加工を行なう生産システムを容易に構築
することができる。
It should be noted that what is installed below the substrate transfer path is not limited to the hot plate or the cool plate, and a structure for performing some processing on the substrate may be installed. Further, it may be provided above the substrate transporting path instead of below. In this substrate transfer apparatus, various processing, heating, and cooling can be performed consistently in the transfer line in this way, so a production system that continuously processes substrates such as flexible substrates is provided. Easy to build.

【0034】上記各実施の形態では、矩形の基板を取り
扱う例を挙げて説明したが、基板は、矩形のものに限ら
ず、両端部をチャックでそれぞれ保持できるような形状
であれば、本発明は適用可能である。
In each of the above-described embodiments, an example in which a rectangular substrate is handled has been described, but the substrate is not limited to a rectangular substrate, and the present invention is not limited as long as both ends can be held by chucks. Is applicable.

【0035】また、上記各実施の形態では、基板保持チ
ャックA1,A2と基板搬送チャックB1,B2,B3
によって構成された基板搬送装置を例に挙げて説明した
が、各チャックの数はこれに限らず、増減してもよい。
より多くの数のチャックを同様に並べて動作させれば、
より長い距離の搬送にも対応できる。
Further, in each of the above embodiments, the substrate holding chucks A1, A2 and the substrate transfer chucks B1, B2, B3.
Although the substrate transfer apparatus configured by the above has been described as an example, the number of each chuck is not limited to this, and may be increased or decreased.
If you operate a larger number of chucks side by side in the same way,
It can also be used for longer distances.

【0036】なお、今回開示した上記実施の形態はすべ
ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の
範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって
示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での
すべての変更を含むものである。
The above-described embodiment disclosed this time is illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description but by the scope of the claims, and includes meaning equivalent to the scope of the claims and all modifications within the scope.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明によれば、第1のチャックとして
の基板保持チャックと第2のチャックとしての基板搬送
チャックとが、交互に両端部を確実に保持しながら前方
へ搬送していくものであるため、基板の自重によるたわ
みや変形は問題とならず、薄い柔軟性のある基板であっ
ても問題なく、連続的に搬送することができる。また、
搬送距離が長くても搬送のサイクルタイムは長くならな
いため、効率良く搬送を行うことができる。
According to the present invention, a substrate holding chuck serving as a first chuck and a substrate carrying chuck serving as a second chuck alternately carry forward while securely holding both ends. Therefore, the bending and deformation of the substrate due to its own weight do not pose a problem, and even a thin and flexible substrate can be continuously transported without any problem. Also,
Since the transport cycle time does not become long even if the transport distance is long, the transport can be performed efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a substrate transfer device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の基板保持チャックの、基板を保持した状態の正
面図である。
FIG. 2 is a front view of a substrate holding chuck of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention in a state of holding a substrate.

【図3】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の基板保持チャックの、基板を保持しない状態の
正面図である。
FIG. 3 is a front view of a substrate holding chuck of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention in a state in which a substrate is not held.

【図4】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の基板搬送チャックの、基板を保持した状態の正
面図である。
FIG. 4 is a front view of a substrate transfer chuck of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention in a state of holding a substrate.

【図5】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の基板搬送チャックの、基板を保持しない状態の
正面図である。
FIG. 5 is a front view of the substrate transfer chuck of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention in a state in which the substrate is not held.

【図6】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の基板搬送チャックの側面図である。
FIG. 6 is a side view of a substrate transfer chuck of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention.

【図7】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の動作の第1の説明図である。
FIG. 7 is a first explanatory diagram of the operation of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention.

【図8】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の動作の第2の説明図である。
FIG. 8 is a second explanatory diagram of the operation of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention.

【図9】 本発明に基づく実施の形態1における基板搬
送装置の動作の第3の説明図である。
FIG. 9 is a third explanatory diagram of the operation of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention.

【図10】 本発明に基づく実施の形態1における基板
搬送装置の動作の第4の説明図である。
FIG. 10 is a fourth explanatory view of the operation of the substrate transfer device according to Embodiment 1 of the present invention.

【図11】 本発明に基づく実施の形態1における基板
搬送装置の動作の第5の説明図である。
FIG. 11 is a fifth explanatory view of the operation of the substrate transfer device according to Embodiment 1 of the present invention.

【図12】 本発明に基づく実施の形態1における基板
搬送装置の動作の第6の説明図である。
FIG. 12 is a sixth explanatory diagram of the operation of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention.

【図13】 本発明に基づく実施の形態1における基板
搬送装置の動作の第7の説明図である。
FIG. 13 is a seventh explanatory diagram of the operation of the substrate transfer device according to Embodiment 1 of the present invention.

【図14】 本発明に基づく実施の形態1における基板
搬送装置の動作の第8の説明図である。
FIG. 14 is an eighth explanatory diagram of the operation of the substrate transfer device according to the first embodiment of the present invention.

【図15】 本発明に基づく実施の形態2における基板
搬送方法で用いる搬送用テープの説明図である。
FIG. 15 is an explanatory diagram of a carrying tape used in the substrate carrying method according to the second embodiment of the present invention.

【図16】 本発明に基づく実施の形態3における基板
搬送装置の基板保持チャックの、基板を保持した状態の
正面図である。
FIG. 16 is a front view of a substrate holding chuck of a substrate transfer apparatus according to a third embodiment of the present invention in a state of holding a substrate.

【図17】 従来技術に基づく第1の基板搬送装置の斜
視図である。
FIG. 17 is a perspective view of a first substrate transfer device based on a conventional technique.

【図18】 従来技術に基づく第1の基板搬送装置の正
面図である。
FIG. 18 is a front view of a first substrate transfer device based on a conventional technique.

【図19】 従来技術に基づく第2の基板搬送装置の斜
視図である。
FIG. 19 is a perspective view of a second substrate transfer device according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a,1b,21,31 基板、2,22 端部、
3 (基板保持チャックの)基板保持部、3a,3b
基板保持部材、4 (基板搬送チャックの)基板保持
部、4a,4b 基板保持部材、5,14 直動ガイ
ド、6 モータ、7連動棒、8,15 レール、10
搬送フォーク、11,12 シリンダ、17 ホットプ
レート、23 挟持部、25 直動ガイド、32 端部
支持ローラ、33 中間支持ローラ、34 ローラ軸、
35 フランジ。
1,1a, 1b, 21,31 substrate, 2,22 end,
3 Substrate holding parts (of substrate holding chuck) 3a, 3b
Substrate holding member, 4 Substrate holding unit (of substrate transfer chuck), 4a, 4b Substrate holding member, 5, 14 Linear motion guide, 6 Motor, 7 interlocking rod, 8, 15 Rail, 10
Transport fork, 11, 12 cylinder, 17 hot plate, 23 sandwiching portion, 25 linear guide, 32 end supporting roller, 33 intermediate supporting roller, 34 roller shaft,
35 flange.

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Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を、前記基板の面に平行な搬送方向
に沿って搬送するための基板搬送装置であって、 前記搬送方向に関して設置位置が固定されている第1の
チャックと、 前記搬送方向に沿って移動することができる第2のチャ
ックと、 前記第1および第2のチャックの動作を制御するための
チャック制御手段とを備え、 前記第1のチャックおよび前記第2のチャックは、それ
ぞれ、前記基板を前記搬送方向に略垂直な方向の両端部
において保持する保持状態と、前記基板を保持しない解
除状態との2通りの状態をとることができ、 前記チャック制御手段は、前記第1および第2のチャッ
クに対して、前記第1のチャックが前記保持状態にあっ
て前記第2のチャックが前記解除状態にある第1の作業
状態と、前記第2のチャックが前記保持状態にあって前
記第1のチャックが前記解除状態にある第2の作業状態
とを交互にとり、なおかつ、前記第2のチャックは、前
記第2の作業状態の下で前記搬送方向前向きに移動する
ように制御する、 基板搬送装置。
1. A substrate transfer device for transferring a substrate along a transfer direction parallel to a surface of the substrate, the first chuck having a fixed installation position in the transfer direction, and the transfer device. A second chuck movable along a direction, and a chuck control means for controlling the operation of the first and second chucks, wherein the first chuck and the second chuck are Each of them can be in two holding states, that is, a holding state in which the substrate is held at both ends in a direction substantially perpendicular to the carrying direction, and a release state in which the substrate is not held. For the first and second chucks, the first chuck is in the holding state and the second chuck is in the released state, and the second chuck is in the holding state. In the state, the first chuck alternates with the second work state in which the first chuck is in the release state, and the second chuck moves forward in the transport direction under the second work state. The substrate transfer device is controlled as follows.
【請求項2】 前記第1のチャックは、前記解除状態で
前記基板の面に略平行で前記基板から遠ざかる向きに移
動するための第1の退避手段と、前記解除状態で前記基
板の面に略垂直で前記基板から遠ざかる向きに移動する
ための第2の退避手段とを含み、 前記第2のチャックは、前記解除状態で前記基板の面に
略平行で前記基板から遠ざかる向きに移動するための第
3の退避手段とを含む、 請求項1に記載の基板搬送装置。
2. The first chuck is a first retracting means for moving in a direction away from the substrate, being substantially parallel to the surface of the substrate in the released state, and a first chuck on the surface of the substrate in the released state. Second retraction means for moving in a direction substantially vertical and moving away from the substrate, wherein the second chuck moves in a direction substantially parallel to the surface of the substrate and moving away from the substrate in the released state. The substrate transfer apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項3】 前記搬送制御手段は、 前記第1のチャックが前記基板の第1の部分を保持した
状態で、前記第2のチャックに、前記基板の前記第1の
部分とは異なる第2の部分を保持させた後に、前記第1
のチャックを前記解除状態にするための第1の受渡し制
御手段と、 前記第2のチャックが前記基板の前記第2の部分を保持
した状態で、前記第1のチャックに、前記基板の前記第
1の部分を保持させた後に、前記第2のチャックを前記
解除状態にするための第2の受渡し制御手段とを含む、 請求項1または2に記載の基板搬送装置。
3. The transfer control means causes the second chuck to hold a second portion different from the first portion of the substrate while the first chuck holds the first portion of the substrate. After holding the part of the
First transfer control means for putting the second chuck of the substrate into the released state, and the second chuck holding the second portion of the substrate, the first chuck is connected to the first chuck of the substrate. The substrate transfer apparatus according to claim 1 or 2, further comprising: second delivery control means for bringing the second chuck into the released state after holding the first portion.
【請求項4】 前記基板が搬送されるべき経路に隣接し
た位置に、前記基板との間で熱交換を行なうための熱交
換手段を備える、請求項1から3のいずれかに記載の基
板搬送装置。
4. The substrate transfer according to claim 1, further comprising a heat exchanging means for exchanging heat with the substrate, at a position adjacent to a path along which the substrate is to be transferred. apparatus.
【請求項5】 基板を、前記基板の面に平行な搬送方向
に沿って搬送するための基板搬送方法であって、 前記搬送方向に関して設置位置が固定されており、前記
基板を前記搬送方向に略垂直な方向の両端部において保
持する保持状態と、前記基板を保持しない解除状態との
2通りの状態をとることができる第1のチャックと、 前記搬送方向に沿って移動することができ、前記基板を
前記搬送方向に略垂直な方向の両端部において保持する
保持状態と、前記基板を保持しない解除状態との2通り
の状態をとることができる第2のチャックとを用いて、 前記第1のチャックが前記保持状態にあって前記第2の
チャックが前記解除状態にある第1の作業状態と、前記
第2のチャックが前記保持状態にあって前記第1のチャ
ックが前記解除状態にある第2の作業状態とを交互にと
り、なおかつ、前記第2のチャックは、前記第2の作業
状態の下で前記搬送方向前向きに移動する、 基板搬送方法。
5. A substrate transfer method for transferring a substrate along a transfer direction parallel to a surface of the substrate, wherein an installation position is fixed with respect to the transfer direction, and the substrate is moved in the transfer direction. A first chuck that can be in two states, a holding state in which it is held at both ends in a substantially vertical direction and a release state in which the substrate is not held; and a first chuck that can move along the carrying direction, Using a second chuck that can be in two states, a holding state in which the substrate is held at both ends in a direction substantially perpendicular to the transport direction and a release state in which the substrate is not held, A first working state in which the first chuck is in the holding state and the second chuck is in the releasing state, and a second working state is in the holding state and the first chuck is in the releasing state. is there A substrate transfer method, wherein the second work state is alternately taken, and the second chuck is moved forward in the transfer direction under the second work state.
【請求項6】 前記第1のチャックを、前記解除状態で
前記基板の面に略平行で前記基板から遠ざかる向きに移
動させる第1の退避工程と、 前記第1のチャックを、前記解除状態で前記基板の面に
略垂直で前記基板から遠ざかる向きに移動させる第2の
退避工程と、 前記第2のチャックを、前記解除状態で前記基板の面に
略平行で前記基板から遠ざかる向きに移動させる第3の
退避工程とを含むことによって、前記第1のチャックと
前記第2のチャックとが互いに干渉することなく、前記
基板を交互に保持する、 請求項5に記載の基板搬送方法。
6. A first retracting step of moving the first chuck in a direction in which the first chuck is substantially parallel to the surface of the substrate in the released state and away from the substrate, and the first chuck in the released state. A second retracting step of moving in a direction substantially perpendicular to the surface of the substrate and away from the substrate; and moving the second chuck in a direction substantially parallel to the surface of the substrate and away from the substrate in the released state. The substrate transfer method according to claim 5, wherein the first chuck and the second chuck hold the substrates alternately without interfering with each other by including the third retracting step.
【請求項7】 前記第1のチャックが前記基板の第1の
部分を保持した状態で、前記第2のチャックに、前記基
板の前記第1の部分とは異なる第2の部分を保持させた
後に、前記第1のチャックを前記解除状態にする第1の
受渡し工程と、 前記第2のチャックが前記基板の前記第2の部分を保持
した状態で、前記第1のチャックに、前記基板の前記第
1の部分を保持させた後に、前記第2のチャックを前記
解除状態にする第2の受渡し工程とを含む、 請求項5または6に記載の基板搬送方法。
7. The second chuck holds a second portion of the substrate different from the first portion while the first chuck holds the first portion of the substrate. After that, a first transfer step of bringing the first chuck into the released state, and a state in which the second chuck holds the second portion of the substrate 7. The substrate transfer method according to claim 5, further comprising a second transfer step of bringing the second chuck into the released state after holding the first portion.
【請求項8】 前記基板は、基板本体の前記搬送方向に
略垂直な方向の両端に搬送用部材を取り付けた状態のも
のである、請求項5から7のいずれかに記載の基板搬送
方法。
8. The substrate transfer method according to claim 5, wherein the substrate has a transfer member attached to both ends of the substrate main body in a direction substantially perpendicular to the transfer direction.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008218654A (en) * 2007-03-02 2008-09-18 Yamaha Motor Co Ltd Substrate carrying method and apparatus, and surface mounting apparatus
CN109955051A (en) * 2019-05-09 2019-07-02 湖州师范学院求真学院 A kind of full-automatic assembly pipeline of power distribution cabinet

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CN109955051B (en) * 2019-05-09 2020-05-26 湖州师范学院求真学院 Full-automatic assembly conveying line for power distribution cabinet

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