JP2003035898A - Plane display element and manufacturing method for plane display element - Google Patents

Plane display element and manufacturing method for plane display element

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JP2003035898A
JP2003035898A JP2001223247A JP2001223247A JP2003035898A JP 2003035898 A JP2003035898 A JP 2003035898A JP 2001223247 A JP2001223247 A JP 2001223247A JP 2001223247 A JP2001223247 A JP 2001223247A JP 2003035898 A JP2003035898 A JP 2003035898A
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JP
Japan
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substrates
light diffusion
pair
diffusion layer
display element
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Application number
JP2001223247A
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Japanese (ja)
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Norihiro Yoshida
典弘 吉田
Takeshi Yamamoto
武志 山本
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve manufacturing yield by preventing a light diffusion layer or substrate from damaging owing to a shock when a plane display element which has the light diffusion layer on an internal surface of a couple of substrates is cut to prescribed size, and to obtain excellent display quality for a long time by increasing the adhesive strength of a sealant of a plane display cell and holding the durability of the sealant. SOLUTION: The light diffusion layer 28 in an area of ±1 mm from a cutting line 38 when a liquid crystal display element 10 is cut to the prescribed size after the light diffusion layer 28 is formed on the entire surface of a large-sized glass plate 37 is ground and removed and then the light diffusion layer 28 has its end surface positioned 1 mm inside the end surface of a glass substrate 27 of an opposite substrate 13. The sealant 16 is arranged on the area of the light diffusion layer 28 and large-sized glass plates 36 and 37 are stuck together and cut along the cutting line 38 to obtain a liquid crystal display cell.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平面表示素子に係
り、特に基板内面に光拡散層を有する平面表示素子及び
平面表示素子の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat display element, and more particularly to a flat display element having a light diffusion layer on the inner surface of a substrate and a method for manufacturing the flat display element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パソコン端末、モニター等に用い
られ、透明電極を有する一対の基板を対向配置してなる
平面表示セルのシール剤でかこまれた間隙に、例えば液
晶等の光変調層を備えてなる平面表示装置素子として、
表示品位を損なうことなく広い視野角を有するものが要
求されるようになってきている。このため従来は、日本
特許特開平9−297295号公報等に開示されるよう
に、液晶表示素子内面に光拡散層を設けることにより、
視野角を損なうことなくにじみ等の表示不良を防止した
平面表示素子が提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a light modulating layer such as a liquid crystal is provided in a gap surrounded by a sealant of a flat display cell which is used for a personal computer terminal, a monitor and the like and has a pair of substrates having transparent electrodes arranged to face each other. As a flat display device element provided,
There has been a demand for a device having a wide viewing angle without impairing the display quality. Therefore, conventionally, by providing a light diffusion layer on the inner surface of the liquid crystal display element, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-297295, etc.,
A flat panel display device has been proposed which prevents display defects such as bleeding without impairing the viewing angle.

【0003】例えば図6に示す様に視野角を保持しかつ
良好な表示を得るための液晶表示素子1は、ガラス基板
2a内面に光拡散層2b、対向電極2cを積層した対向
基板2と、ガラス基板3a上に薄膜トランジスタ(以下
TFTと略称する.)3b、カラーフィルタ層3c、画
素電極3d、ブラックマスク(以下BMと略称する。)
3eを有してなるアレイ基板3とを対向配置し、シール
剤4で囲まれる領域に液晶層6を封入してなっている、
For example, as shown in FIG. 6, a liquid crystal display element 1 for maintaining a viewing angle and obtaining a good display includes a counter substrate 2 in which a light diffusion layer 2b and a counter electrode 2c are laminated on an inner surface of a glass substrate 2a. On the glass substrate 3a, a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) 3b, a color filter layer 3c, a pixel electrode 3d, a black mask (hereinafter abbreviated as BM).
An array substrate 3 having 3e is disposed so as to face it, and a liquid crystal layer 6 is enclosed in a region surrounded by a sealant 4.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の液晶表示素子1にあっては、対向基板2のガラス基板
2a全面に光拡散層2bを形成されていた。このため液
晶セルの製造時、例えば大型ガラス板上に複数面の基板
パターンを形成した大板状態で複数面の基板を貼り合
せ、その後各基板を規定のサイズに切り出して液晶セル
を得るという工程においては、複数面の液晶セルを個々
に切り出す際の衝撃により、裁断部の光拡散層2bに、
割れ、欠け、剥がれによるガラス基板2aからの浮き等
の損傷を生じたり、裁断部のガラス基板2aに割れ、欠
け、削げを生じるおそれがあった。
However, in the above-mentioned conventional liquid crystal display element 1, the light diffusion layer 2b is formed on the entire surface of the glass substrate 2a of the counter substrate 2. Therefore, when manufacturing a liquid crystal cell, for example, a process of bonding a plurality of substrates in a large plate state in which a plurality of substrate patterns are formed on a large glass plate, and then cutting each substrate into a prescribed size to obtain a liquid crystal cell. In the above, in the light diffusion layer 2b of the cutting portion, due to the impact when the liquid crystal cells of the plurality of surfaces are individually cut out,
There is a risk of damage such as floating from the glass substrate 2a due to cracking, chipping, or peeling, and cracking, chipping, or scraping of the cut glass substrate 2a.

【0005】このガラス基板2aや光拡散層2bの損傷
は、ガラス基板2aの裁断部にて、光拡散層2bが平坦
でない(凹凸のある)膜で出来ていることから、もしく
はガラス基板2aと光拡散層2bのように硬度の違うも
のが積層されていること等から、本来裁断による削げが
ガラス基板2aの厚み方向に進行するはずが、均等に力
が加わらず、他の方向に削げが分散、進行する現象によ
り生じるものと思われる。そしてこのガラス基板2aや
光拡散層2bの損傷により液晶表示素子1の表示品位を
悪化させ使用不能になるおそれがあった。
The glass substrate 2a and the light diffusion layer 2b are damaged because the light diffusion layer 2b is made of a non-planar (uneven) film at the cut portion of the glass substrate 2a. Since the materials such as the light diffusion layer 2b having different hardness are laminated, the shaving by cutting should originally proceed in the thickness direction of the glass substrate 2a, but the force is not evenly applied and the shaving in other directions is not performed. It is thought to be caused by the phenomenon of dispersion and progress. The damage of the glass substrate 2a and the light diffusion layer 2b may deteriorate the display quality of the liquid crystal display element 1 and render it unusable.

【0006】そこで本発明は上記課題を除去するもので
あり、平面表示セルの内面に光拡散層を形成するものに
おいて、平面表示セル製造時の平面表示セルの切り出し
操作に起因する光拡散層あるいは基板の損傷を防止して
表示品位の優れた平面表示素子を高い製造歩留まりで得
ることのできる平面表示素子及び平面表示素子の製造方
法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention is to eliminate the above-mentioned problems, and in the case of forming a light diffusion layer on the inner surface of a flat display cell, the light diffusion layer or the light diffusion layer caused by the cutting operation of the flat display cell at the time of manufacturing the flat display cell An object of the present invention is to provide a flat panel display element and a method for manufacturing the flat panel display element, which can prevent the substrate from being damaged and can obtain a flat panel display element having excellent display quality with a high manufacturing yield.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するための手段として、一対の基板と、前記一対の基板
のいずれか一方の内面に取着され、端面が前記基板の端
面より内側に位置する光拡散層と、この光拡散層上にて
前記一対の基板の表示領域を囲うよう配置されるシール
剤と、このシール剤に囲まれる領域にて前記一対の基板
間に封入される光変調層とを設けるものである。
Means for Solving the Problems The present invention is, as a means for solving the above problems, attached to an inner surface of one of a pair of substrates and the pair of substrates, and an end surface of the substrate is inside the end surface of the substrate. A light diffusing layer, a sealant disposed on the light diffusing layer so as to surround the display regions of the pair of substrates, and a space enclosed by the sealant between the pair of substrates. And a light modulation layer.

【0008】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、一対の大型基板を所定サイズに切り出すことに
より、いずれか一方の基板の内面に光拡散層が取着さ
れ、シール剤で囲まれた間隙に光変調層を封入してなる
平面表示素子の製造方法において、前記大型基板に、前
記基板の端面より内側に端面を有する光拡散層を形成す
る工程と、前記一対の大型基板のいずれかであって、前
記光拡散層の形成領域上に相当する領域に前記シール剤
を配置する工程と、前記一対の大型基板を前記シール剤
で貼り合せる工程と、前記貼り合せた一対の大型基板を
前記所定のサイズに切り出す工程とを実施するものであ
る。
Further, according to the present invention, as a means for solving the above problems, a pair of large-sized substrates are cut into a predetermined size to attach a light diffusion layer to the inner surface of one of the substrates and surrounded by a sealant. In the method for manufacturing a flat display element in which a light modulation layer is enclosed in a gap, a step of forming a light diffusion layer having an end surface inside the end surface of the large substrate on the large substrate That is, the step of disposing the sealant in a region corresponding to the formation region of the light diffusion layer, the step of bonding the pair of large-sized substrates with the sealant, and the pair of bonded large-sized substrates Is cut into the predetermined size.

【0009】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、一対の大型基板を所定サイズに切り出すことに
より、いずれか一方の基板の内面に光拡散層が取着さ
れ、シール剤で囲まれた間隙に光変調層を封入してなる
平面表示素子を複数個形成する平面表示素子の製造方法
において、前記大型基板に、所定の間隙を隔てて光拡散
層を複数面形成する工程と、前記一対の大型基板のいず
れかであって、前記複数面の光拡散層の形成領域上に相
当する領域にそれぞれ前記シール剤を配置する工程と、
前記一対の大型基板を前記シール剤で貼り合せる工程
と、前記貼り合せた一対の大型基板を前記所定の間隙の
領域で切り離す工程とを実施するものである。
As a means for solving the above problems, the present invention cuts a pair of large-sized substrates into a predetermined size so that the light diffusion layer is attached to the inner surface of one of the substrates and surrounded by a sealant. In a method of manufacturing a flat display element, wherein a plurality of flat display elements are formed by enclosing a light modulation layer in the gap, a step of forming a plurality of light diffusion layers on the large-sized substrate with a predetermined gap, Any one of a pair of large-sized substrates, the step of disposing the sealing agent in a region corresponding to the formation region of the light diffusion layer of the plurality of surfaces,
The step of bonding the pair of large-sized substrates with the sealing agent and the step of separating the bonded pair of large-sized substrates in the region of the predetermined gap are performed.

【0010】上記構成により本発明は、製造時に平面表
示セルを切り出す際に基板あるいは光拡散層を損傷する
ことなく、良好な表示品位を有する平面表示素子を高い
製造歩留まりで製造可能とすることにより平面表示素子
の実用化を図るものである。
With the above structure, the present invention makes it possible to manufacture a flat display element having a good display quality at a high manufacturing yield without damaging the substrate or the light diffusion layer when cutting out the flat display cell during manufacturing. It is intended to put the flat display device to practical use.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図1及び図2に示
す実施の形態を参照して説明する。図1は平面表示素子
である、対角10インチで、画素数はSVGAの液晶表
示素子10及びこの液晶表示素子10を照射するバック
ライト11を示す概略構成図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the embodiments shown in FIGS. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal display element 10 having a diagonal size of 10 inches and a pixel number of SVGA and a backlight 11 for illuminating the liquid crystal display element 10, which is a flat display element.

【0012】液晶表示素子10は、一対の基板であるア
レイ基板12及び対向基板13をスペーサ14を介して
対向配置し、シール剤16にて周囲を接着して成る間隙
に光変調層である液晶層17を封入し、更にアレイ基板
12及び対向基板13外面には偏光板12a,13aが
貼り付けられている。
In the liquid crystal display element 10, a pair of substrates, an array substrate 12 and a counter substrate 13 are arranged to face each other with a spacer 14 interposed therebetween, and a liquid crystal as a light modulation layer is formed in a gap formed by bonding the periphery with a sealant 16. The layer 17 is enclosed, and polarizing plates 12a and 13a are attached to the outer surfaces of the array substrate 12 and the counter substrate 13.

【0013】アレイ基板12は、ガラス基板18上の図
示しない走査線及び信号線の交点近傍に液晶駆動用のT
FT素子20を有している。TFT素子20の上にはR
(赤)、G(緑)、B(青)の着色層がストライプ状に
配置されてなるカラーフィルタ層21が配置されてい
る。尚22は、表示領域周囲をマスクするBMである。
The array substrate 12 has a T for driving a liquid crystal near the intersection of a scanning line and a signal line (not shown) on the glass substrate 18.
It has an FT element 20. R on the TFT element 20
A color filter layer 21 in which (red), G (green), and B (blue) colored layers are arranged in stripes is arranged. Reference numeral 22 is a BM that masks the periphery of the display area.

【0014】カラーフィルタ層21上であって図示しな
い走査線及び信号線で囲まれる領域には、インジウム錫
酸化物(以下ITOと称する。)からなる複数の画素電
極23がマトリクス状にパターン形成されていて、画素
電極23はカラーフィルタ層21に形成されるスルーホ
ール24を介してTFT素子20のソース電極(図示せ
ず)に接続し、TFT素子20により駆動される。更に
画素電極23上には柱状のスペーサ14が形成され、そ
の上から液晶配向膜22が成膜されている。
A plurality of pixel electrodes 23 made of indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) are formed in a matrix pattern on the color filter layer 21 in a region surrounded by scanning lines and signal lines (not shown). However, the pixel electrode 23 is connected to the source electrode (not shown) of the TFT element 20 through the through hole 24 formed in the color filter layer 21, and is driven by the TFT element 20. Further, the columnar spacer 14 is formed on the pixel electrode 23, and the liquid crystal alignment film 22 is formed thereon.

【0015】一方対向基板13は、ガラス基板27上に
光拡散層28を有しており、光拡散層28上に対向電極
30が形成され、更に対向電極30上に液晶配向膜31
が成膜されている。光拡散層28は、透明なシリコーン
樹脂28a中に粒径5μmのプラスチック球28bを水
平且つ均等に並べた層を3層重ねてなっていて、その端
面は、ガラス基板27の端面より1mm内側に位置する
様形成されている。又シール剤16は、光拡散層28上
にて幅約1mmで、複数の画素電極23形成領域である
表示領域を囲うよう配置されている。尚シール剤16
は、光拡散層28表面と貼り合わされる事から、その高
さは、柱状スペーサ14高さとカラーフィルタ層21厚
の和に近似される約5μmに形成されている。
On the other hand, the counter substrate 13 has a light diffusion layer 28 on a glass substrate 27, a counter electrode 30 is formed on the light diffusion layer 28, and a liquid crystal alignment film 31 is further formed on the counter electrode 30.
Is deposited. The light diffusing layer 28 is formed by stacking three layers in which transparent and uniform plastic spheres 28b having a particle diameter of 5 μm are horizontally and evenly arranged in a transparent silicone resin 28a, and the end surface of the light diffusing layer 28 is located 1 mm inside the end surface of the glass substrate 27. It is formed to be located. The sealant 16 has a width of about 1 mm on the light diffusion layer 28 and is arranged so as to surround the display region, which is a region where the plurality of pixel electrodes 23 are formed. Sealing agent 16
Is bonded to the surface of the light diffusing layer 28, the height is about 5 μm, which is approximate to the sum of the height of the columnar spacer 14 and the thickness of the color filter layer 21.

【0016】次に液晶表示素子10の製造方法について
述べる。本実施の形態にあっては、図2に示すように一
対の大型基板である大型ガラス板36、37上にそれぞ
れアレイ基板12及び対向基板13を4面づつ作成し、
一対の大型ガラス板36、37を貼り合せた後裁断し、
同一の4面の液晶セルを形成するものである。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display element 10 will be described. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, four arrays of the array substrate 12 and the counter substrate 13 are formed on the large glass plates 36 and 37, which are a pair of large substrates, respectively.
After laminating a pair of large glass plates 36, 37 and cutting,
The liquid crystal cells having the same four surfaces are formed.

【0017】まずアレイ基板12は、大型ガラス板36
上の4面のそれぞれに、通常のフォトリソグラフィ工程
によるパターニングを繰り返してTFT素子20を形成
する。次いでR(赤)、G(緑)、B(青)の着色層材
料を順次ストライプ状にパターン形成して、カラーフィ
ルタ層21を形成し、更に表示領域周囲にBM22を形
成後、スパッタ法にてITO膜を成膜し、フォトリソグ
ラフィ工程によってパターン形成し、カラーフィルタ層
21上にマトリクス配列される画素電極23を形成後、
液晶配向膜26を塗布し、更にスペーサ14をパターン
形成して、大型ガラス板36上にアレイ基板12を4面
形成する。
First, the array substrate 12 is a large glass plate 36.
The TFT element 20 is formed by repeating patterning by a normal photolithography process on each of the upper four surfaces. Next, R (red), G (green), and B (blue) colored layer materials are sequentially patterned in a stripe shape to form a color filter layer 21, and further a BM 22 is formed around the display area, followed by sputtering. Then, an ITO film is formed, a pattern is formed by a photolithography process, and pixel electrodes 23 arranged in a matrix on the color filter layer 21 are formed.
The liquid crystal alignment film 26 is applied, and the spacers 14 are further patterned to form four array substrates 12 on the large glass plate 36.

【0018】一方対向基板13は、大型基板である大型
ガラス板37上の4面のそれぞれに、以下の様にして光
拡散層28を形成する。大型ガラス板37上に光学的に
等方性を有し且つ透明なシリコーン樹脂であるTFC7
700(東芝シリコーン社製、屈折率=1.4)28a
を0.1mmの厚さに塗布し、シリコーン樹脂28aの
表面が粘着性を示す程度に固化する量の紫外線を照射す
る。この粘着性を示すシリコーン膜28aの表面に光学
的に等方性を有し且つ透明な粒径5μmのプラスチック
球(例えば、積水ファインケミカル社製のミクロパール
(商品名)、屈折率=1.57)28bを擦り込むよう
に均等に塗布する。次いで、プラスチック球28bを塗
布した面を水洗いした後、乾燥させる。この上に再び前
述のシリコーン樹脂28aを塗布し、固化した後プラス
チック球28bを塗布し、水洗いするという工程を3回
繰り返し、最後に最表面のプラスチック球28bの上に
シリコーン樹脂28aを塗布し紫外線を十分照射してシ
リコーン樹脂を固めて大型ガラス板37の全面に光拡散
層28を形成する。
On the other hand, the counter substrate 13 has a light diffusion layer 28 formed on each of four surfaces on a large glass plate 37 which is a large substrate as follows. TFC7, which is a transparent silicone resin that is optically isotropic on a large glass plate 37
700 (Toshiba Silicone, refractive index = 1.4) 28a
Is applied to a thickness of 0.1 mm, and is irradiated with an amount of ultraviolet rays that solidifies the surface of the silicone resin 28a to such an extent that the surface exhibits tackiness. An optically isotropic and transparent plastic sphere having a particle diameter of 5 μm (for example, Micropearl (trade name) manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd., refractive index = 1.57) on the surface of the adhesive silicone film 28a. ) 28b is evenly applied by rubbing. Next, the surface coated with the plastic balls 28b is washed with water and then dried. The process of coating the above-mentioned silicone resin 28a again, solidifying and then coating the plastic sphere 28b, and washing with water is repeated three times, and finally the silicone resin 28a is coated on the plastic sphere 28b on the outermost surface and UV rays are applied. To sufficiently harden the silicone resin to form the light diffusion layer 28 on the entire surface of the large glass plate 37.

【0019】次に図2に示すように、対向基板13の切
り出しサイズ、すなわち大型ガラス板37の裁断線38
から±1mmの領域の光拡散層28を研磨除去する。更に
光拡散層28上にスパッタ法にてITO膜を成膜し対向
電極30をパターン形成後、この上に液晶配向膜31を
塗布して、大型ガラス板37上に対向基板13を4面形
成する。
Next, as shown in FIG. 2, the cut-out size of the counter substrate 13, that is, the cutting line 38 of the large glass plate 37.
The light diffusion layer 28 in the region of ± 1 mm from is removed by polishing. Further, an ITO film is formed on the light diffusion layer 28 by a sputtering method, a counter electrode 30 is patterned, and then a liquid crystal alignment film 31 is applied thereon, and four counter substrates 13 are formed on a large glass plate 37. To do.

【0020】この後、各液晶配向膜26、31をラビン
グによりそれぞれ配向処理し、大型ガラス板36上の各
アレイ基板12上であって、大型ガラス板37上の光拡
散層28形成領域内と対向する位置に、シール剤16と
して三井化学社製のXN−21Sを出来上がりのシール
幅が1.0mmとなるように印刷塗布し、且つアレイ基
板12から対向電極30に電圧を印加するためのトラン
スファ剤(図示せず)を塗布する。更に液晶配向膜2
6、31のそれぞれのラビング方向が90°となるよう
両大型ガラス板36、37を対向配置し、シール剤16
を加熱硬化して貼り合せる。
After that, the liquid crystal alignment films 26 and 31 are each subjected to an alignment treatment by rubbing, and on each array substrate 12 on the large glass plate 36 and in the light diffusion layer 28 forming region on the large glass plate 37. A transfer for applying XN-21S manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd. as a sealant 16 so as to have a finished seal width of 1.0 mm and applying a voltage from the array substrate 12 to the counter electrode 30 at a position facing each other. Apply an agent (not shown). Furthermore, the liquid crystal alignment film 2
Both large glass plates 36 and 37 are arranged so as to face each other so that the rubbing directions of 6 and 31 are 90 °, respectively.
Heat cure and bond.

【0021】次いで、貼り合わされた一対の大型ガラス
板36、37を裁断線38で切り出す裁断工程を行い、
同一の4面の液晶セルを形成する。この液晶セルを切り
出す際、裁断線38をセンターとする±1mmの領域に
あっては光拡散層28が除去されているので光拡散層2
8は裁断時の衝撃を受けない。従って光拡散層28は、
裁断時の衝撃による損傷を生じる事が無く又、光拡散層
28を有するガラス基板27の裁断面も損傷されず、高
い製造歩留まりにて裁断工程が実施される。
Next, a cutting process for cutting the pair of large glass plates 36, 37 bonded together by a cutting line 38 is carried out,
The same four-sided liquid crystal cell is formed. When this liquid crystal cell is cut out, the light diffusion layer 28 is removed in the region of ± 1 mm with the cutting line 38 as the center, so the light diffusion layer 2
No. 8 does not receive the impact during cutting. Therefore, the light diffusion layer 28 is
There is no damage due to impact during cutting, and the cut surface of the glass substrate 27 having the light diffusion layer 28 is not damaged, so that the cutting process is performed with a high manufacturing yield.

【0022】この後、各液晶セルの間隙に液晶組成物を
封入して液晶層17を形成後、アレイ基板12、対向基
板13にそれぞれ偏光板12a、13aを貼り付けて液
晶表示素子10を完成する。
After that, the liquid crystal composition is sealed in the spaces between the liquid crystal cells to form the liquid crystal layer 17, and then the polarizing plates 12a and 13a are attached to the array substrate 12 and the counter substrate 13, respectively, to complete the liquid crystal display element 10. To do.

【0023】このようにして作製した液晶表示素子10
の裁断品位を評価したところ、光拡散層28更にはガラ
ス基板27に、割れや欠けあるいは削げは観察されなか
った。又、光拡散層28の剥がれによるガラス基板27
からの浮きも観察されなかった。更に得られた液晶表示
素子10を高温高湿度(50℃、80%)条件で100
0時間連続画像表示試験をおこない、表示品位を評価し
たところ、表示むらの発生や、シール剤16の剥がれ等
による表示不良の発生は皆無で有り、良好な表示画像を
得られた。
The liquid crystal display device 10 manufactured in this way
When the cutting quality was evaluated, no cracks, chips or shavings were observed on the light diffusion layer 28 and further on the glass substrate 27. In addition, the glass substrate 27 due to peeling of the light diffusion layer 28
No floats were observed. Further, the obtained liquid crystal display element 10 was subjected to 100
A 0-hour continuous image display test was performed and the display quality was evaluated. As a result, there was no display unevenness and no display failure due to peeling of the sealant 16 or the like, and a good display image was obtained.

【0024】これに対し(比較例1)として、大型ガラ
ス板37上の裁断線38領域の光拡散層28を除去せず
に、大型ガラス板37の全面に光拡散層28を形成した
まま一対の大型ガラス板36、37をシール剤16で貼
り合せ、裁断線38に沿って4面の液晶セルを切り出す
以外は、本実施の形態と全く同様にして図3に示す液晶
表示素子41を作製した。
On the other hand, as (Comparative Example 1), the light diffusing layer 28 in the region of the cutting line 38 on the large glass plate 37 was not removed, but the light diffusing layer 28 was formed on the entire surface of the large glass plate 37 as a pair. A liquid crystal display element 41 shown in FIG. 3 is manufactured in exactly the same manner as this embodiment, except that the large glass plates 36 and 37 are bonded together with the sealant 16 and the liquid crystal cells on four sides are cut out along the cutting line 38. did.

【0025】この(比較例1)の液晶表示素子41の裁
断品位を評価したところ、光拡散層28及びガラス基板
27にて割れや欠けあるいは削げが観察された。又、光
拡散層28の剥がれによるガラス基板27からの浮きも
観察された。更にこの(比較例1)の液晶表示素子41
を本実施の形態と同様、高温高湿度(50℃、80%)
条件で連続画像表示試験を行い、表示品位を評価したと
ころ、380時間経過時に、光拡散層28の割れ、欠
け、削げ、あるいは剥がれによるガラス基板からの浮き
部分を伝い液晶表示素子41外部から浸入した水分に起
因すると考えられる表示ムラが発生し、表示品位が著し
く低下した。
When the cutting quality of the liquid crystal display element 41 of this (Comparative Example 1) was evaluated, cracking, chipping or scraping was observed in the light diffusion layer 28 and the glass substrate 27. In addition, floating from the glass substrate 27 due to peeling of the light diffusion layer 28 was also observed. Further, the liquid crystal display element 41 of this (Comparative Example 1)
As in this embodiment, high temperature and high humidity (50 ° C, 80%)
A continuous image display test was performed under the conditions and the display quality was evaluated. After 380 hours, the light diffusion layer 28 penetrated from the outside of the liquid crystal display element 41 through the floating portion from the glass substrate due to cracking, chipping, shaving, or peeling. Display unevenness, which is considered to be caused by the water content, was generated, and the display quality was significantly deteriorated.

【0026】次に(比較例2)として、大型ガラス板3
7上の光拡散層28の除去範囲を、一対の大型ガラス板
36、37を貼り合せた時に、光拡散層28の端面がシ
ール剤43のセンターに相当する位置までとした以外
は、本実施の形態と同様の図4に示す液晶表示素子43
を作製した。
Next, as (Comparative Example 2), a large glass plate 3
7 except that the removal range of the light diffusion layer 28 on 7 is set to the position where the end surface of the light diffusion layer 28 corresponds to the center of the sealant 43 when the pair of large glass plates 36 and 37 are bonded together. Liquid crystal display element 43 shown in FIG.
Was produced.

【0027】更に(比較例3)として、大型ガラス板3
7上の光拡散層28の除去範囲を、一対の大型ガラス板
36、37を貼り合せた時に、光拡散層28の端面がシ
ール剤47の内周面より内側に位置するようにした以外
は、本実施の形態と同様の図5に示す液晶表示素子48
を作製した。
Further (Comparative Example 3), a large glass plate 3
7 except that the end surface of the light diffusion layer 28 is located inside the inner peripheral surface of the sealant 47 when the pair of large glass plates 36 and 37 are bonded to each other. A liquid crystal display element 48 shown in FIG. 5 similar to that of the present embodiment.
Was produced.

【0028】この(比較例2)及び(比較例3)の液晶
表示素子44、48の裁断品位を評価したところ、いず
れも、光拡散層28更にはガラス基板27に、割れや欠
けあるいは削げは観察されなかった。又、光拡散層28
の剥がれによるガラス基板27からの浮きも観察されな
かった。
When the cut quality of the liquid crystal display elements 44 and 48 of (Comparative Example 2) and (Comparative Example 3) was evaluated, it was found that the light diffusing layer 28 and the glass substrate 27 were not cracked, chipped or scraped. Not observed. In addition, the light diffusion layer 28
No detachment from the glass substrate 27 due to peeling was also observed.

【0029】但しこの(比較例2)及び(比較例3)の
液晶表示素子44、48にあってはシール剤43、47
の接着性の低下が見られた。そこでこの(比較例2)及
び(比較例3)の液晶表示素子44、48のシール剤4
3、47によるシールの出来映えとして、出来上がりシ
ール幅とシール部の接着強度を本実施の形態と比較した
結果を(表1)に示す。シール幅は、各液晶表示素子1
0、44、48の4辺のシール幅を、25点/辺の合計
100点で測定し、平均値と、標準偏差の3倍(平均±
3σ)で表記して比較評価した。この結果標準偏差の3
倍(平均±3σ)が本実施の形態にあっては±0.14
mmであるのに比して、(比較例2)では±0.22mm、
(比較例3)では±0.32mmと大きく、本実施の形態
に比して、(比較例2)あるいは(比較例3)のシール
幅は不均一となっていた。
However, in the liquid crystal display elements 44 and 48 of (Comparative Example 2) and (Comparative Example 3), the sealing agents 43 and 47 are used.
The decrease in the adhesiveness was observed. Therefore, the sealant 4 of the liquid crystal display elements 44 and 48 of (Comparative Example 2) and (Comparative Example 3) is used.
Table 1 shows the result of comparing the finished seal width and the adhesive strength of the seal portion with that of the present embodiment as the performance of the seals 3 and 47. The seal width is for each liquid crystal display element 1
The seal width on four sides of 0, 44, and 48 was measured at 25 points / total of 100 points, and the average value and three times the standard deviation (average ±
3σ) was used for comparison and evaluation. As a result, the standard deviation of 3
Double (average ± 3σ) is ± 0.14 in this embodiment.
In comparison with Comparative Example 2, ± 0.22 mm,
In (Comparative Example 3), it was as large as ± 0.32 mm, and the seal width in (Comparative Example 2) or (Comparative Example 3) was nonuniform as compared with the present embodiment.

【0030】シール部の接着強度は、各液晶表示素子1
0、44、48を構成する一対のガラス基板18、27
を、ガラス面に対して垂直方向に互いに引き合い、2枚
のガラス基板18、27が引き剥がされる時点での引っ
張り加重で比較評価した。この結果本実施の形態のシー
ル幅が1.02±0.14mmと狭く形成されるのに比し
(比較例2)ではシール幅が1.16±0.22mm、全
面的に広いことから、又(比較例3)ではシール幅は本
実施の形態のシール幅に比し、さほど広くはないもの
の、1.04±0.32mmと不均一で、部分的に広いこ
とから、いずれもシール幅の広い部分で凝集破壊が起こ
り易くなっていて、強度が低下してしまった。
The adhesive strength of the seal portion is the same as that of each liquid crystal display element 1.
A pair of glass substrates 18 and 27 forming 0, 44 and 48
Were drawn to each other in the direction perpendicular to the glass surface, and comparative evaluation was made by the tensile load at the time when the two glass substrates 18 and 27 were peeled off. As a result, the seal width of the present embodiment is as narrow as 1.02 ± 0.14 mm, whereas in Comparative Example 2 the seal width is 1.16 ± 0.22 mm, which is wide over the entire surface. Also, in (Comparative Example 3), the seal width is not so wide as compared with the seal width of the present embodiment, but it is non-uniform at 1.04 ± 0.32 mm and is partially wide. The cohesive failure was apt to occur in a wide area of, and the strength was reduced.

【表1】 この結果(比較例2)及び(比較例3)の液晶表示素子
44、48にあっては大型ガラス板36、37の裁断時
の製造歩留まりは、本実施の形態と同等であるものの、
シール剤43、47の接着強度は、本実施の形態に比し
劣ることが判明した。
[Table 1] As a result, in the liquid crystal display elements 44 and 48 of (Comparative Example 2) and (Comparative Example 3), the manufacturing yields at the time of cutting the large glass plates 36 and 37 are the same as those of the present embodiment.
It was found that the adhesive strength of the sealing agents 43 and 47 was inferior to that of the present embodiment.

【0031】以上の構成により、本実施の形態にあって
は、視野角を拡大して画質を向上するための光拡散層2
8を有する液晶セルを、一対の大型ガラス板36、37
を用いて4面同時に作製後に切り出す時に、裁断線38
領域にあっては光拡散層28が除去されていることか
ら、裁断時の衝撃により光拡散層28に割れ、欠け、削
げ、あるいは剥がれによるガラス基板27からの浮きを
生じること無く、又ガラス基板27の割れ、欠け、ある
いは削げも無く製造歩留まりを向上出来る。また、シー
ル剤16の出来上がりシール幅の均一化に優れ、部分的
なシール幅の増大により発生される凝集破壊を防止出
来、シール全面にわたり良好な接着強度を得られ、シー
ル不良を生じることなく高い耐久性を保持し、長時間に
わたる良好な表示品位を得られた。
With the above structure, in the present embodiment, the light diffusion layer 2 for expanding the viewing angle and improving the image quality.
A liquid crystal cell having a pair of large glass plates 36, 37
When cutting out after producing four sides at the same time using
Since the light diffusing layer 28 is removed in the region, the light diffusing layer 28 is not cracked, chipped, scraped, or peeled off from the glass substrate 27 due to the impact during cutting, and the glass substrate 27 is removed. The production yield can be improved without cracking, chipping or chipping of No. 27. Further, the finished sealing agent 16 is excellent in uniformizing the sealing width, can prevent the cohesive failure caused by the partial increase in the sealing width, can obtain good adhesive strength over the entire surface of the sealant, and is high without causing a sealing failure. The durability was maintained and good display quality was obtained for a long time.

【0032】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
で無く、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であっ
て、例えば、基板端面から光拡散層端面迄の距離は前述
の実施の形態の1.02mmに限定されるものではなく、
大型基板上へのアレイ基板や対向基板の製造精度、一対
の大型基板の貼り合せ精度、大型基板の切り離し領域で
の光拡散層の除去精度、更には一対の大型基板の切り離
し精度等を考慮し、大型基板を切り離す際の裁断線上に
光拡散層が残るおそれの無い距離であれば良い。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and changes can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the distance from the end face of the substrate to the end face of the light diffusion layer is the same as that of the above-mentioned embodiment. The shape is not limited to 1.02 mm,
Considering the manufacturing precision of the array substrate and counter substrate on a large substrate, the bonding precision of a pair of large substrates, the removal precision of the light diffusion layer in the separation region of the large substrates, and the precision of the separation of a pair of large substrates. The distance may be such that the light diffusion layer is not likely to remain on the cutting line when the large substrate is cut off.

【0033】上記実施の形態において、裁断線38をセ
ンターとして、光拡散層28の除去領域を変えて裁断試
験を行ったところ、裁断線38をセンターして、±0.
3mmの領域の光拡散層28を除去した場合には、製造精
度の誤差により液晶セルの切り出し時の実際の裁断線が
光拡散層28が完全に除去されない領域にかかってしま
うため裁断品位が低下して、削げが多く発生した。これ
に対して裁断線38をセンターして、±0.5mmの領域
の光拡散層28を除去した場合には、良好な裁断品位を
得られ、又、シール幅、剥離強度とも光拡散層28の除
去領域が裁断線38をセンターして、±1.0mmの領域
の場合と同程度であり、高温高湿度(50℃、80%)
条件の1000時間連続画像表示試験においても、表示
不良等全く無く、良好な全く表示品位を得られた。以上
のことから、基板端面から光拡散層端面迄の距離は±
0.5mm〜1mm程度にするのがより望ましい。
In the above-described embodiment, a cutting test was conducted by changing the removal area of the light diffusion layer 28 with the cutting line 38 as the center.
When the light diffusion layer 28 in the area of 3 mm is removed, the cutting quality deteriorates because the actual cutting line at the time of cutting out the liquid crystal cell is applied to the area where the light diffusion layer 28 is not completely removed due to an error in manufacturing accuracy. Then, a lot of scraping occurred. On the other hand, when the light diffusion layer 28 in the region of ± 0.5 mm is removed with the cutting line 38 as the center, good cutting quality can be obtained, and the sealing width and peel strength are both excellent. Is approximately the same as the area of ± 1.0 mm centering on the cutting line 38, and high temperature and high humidity (50 ° C, 80%)
Even in the 1000-hour continuous image display test under the conditions, good display quality was obtained without any display defects. From the above, the distance from the substrate end face to the light diffusion layer end face is ±
It is more desirable to set it to about 0.5 mm to 1 mm.

【0034】また、光拡散層端面を基板端面より内側に
形成するよう光拡散層を加工する方法も、前述の実施の
形態の様に研磨するのではなく、例えば、レーザ光を照
射して、裁断線領域の光拡散層を切り取っても良く、こ
の様にすれば、除去される光拡散層の端面の位置精度を
より向上可能となる。更に、光拡散層形成時に、裁断線
領域をマスキングして、裁断線領域を除いた領域に光拡
散層を形成する様にしても良い。
Also, the method of processing the light diffusion layer so that the end surface of the light diffusion layer is formed inside the end surface of the substrate does not have to be polished as in the above-described embodiment, but is irradiated with laser light, for example. The light diffusion layer in the cutting line region may be cut off. By doing so, the positional accuracy of the end surface of the light diffusion layer to be removed can be further improved. Further, when forming the light diffusion layer, the cutting line region may be masked so that the light diffusion layer is formed in the region excluding the cutting line region.

【0035】更にシール剤のシール幅も凝集破壊を生じ
るおそれの無い範囲で任意である。
Further, the seal width of the sealant is arbitrary within the range where there is no risk of causing cohesive failure.

【0036】又、大型基板上に形成する平面表示素子の
面数も限定されず、単面であっても良く、単面にて規定
の平面表示素子サイズに切り出す場合に、光拡散層を、
その端面が基板端面より内側になるように形成し、且つ
シール剤を光拡散層形成領域内に配置すれば、切り出し
時の衝撃による光拡散層の損傷を防止出来、且つシール
幅を狭く且つ均一に形成出来る。
The number of flat display elements formed on a large-sized substrate is not limited, and it may be a single surface. When cutting out to a prescribed flat display element size on a single surface, the light diffusion layer is
If the edge is formed so that it is inside the edge of the substrate and the sealant is placed in the light diffusion layer formation area, damage to the light diffusion layer due to impact during cutting can be prevented, and the sealing width is narrow and uniform. Can be formed into

【0037】更に光拡散層は、原材料や構造も任意であ
り、前述の第1の実施の形態において、シリコーン樹脂
28aに塗布されるプラスチック球28bは、3層に限
定されず、単層、あるいは更に多層であっても良い。
又、平面表示素子は、バックライトを用いる透過型で無
く、反射型あるいは、半透過型であっても良い。
Further, the light diffusion layer may be made of any raw material or structure. In the first embodiment, the plastic sphere 28b coated on the silicone resin 28a is not limited to three layers, but may be a single layer or Further, it may be a multilayer.
Further, the flat display element may be a reflective type or a semi-transmissive type instead of the transmissive type using a backlight.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
拡散層を有する平面表示セルを規定サイズに切り出す際
に、切り出し時の衝撃により光拡散層に割れ、欠け、削
げあるいは剥がれによる基板からの浮き等の損傷を生
じ、あるいは基板に割れ、欠け、あるいは削げ等の損傷
を生じるのを防止出来、製造歩留まりの向上を図れる。
更に本発明によればシール剤のシール幅を均一且つ狭く
形成出来、ひいてはシール剤の凝集破壊を生じることな
く、強い接着強度を得られ、シール不良を生じることな
く長時間にわたり良好な表示品位を得られる。
As described above, according to the present invention, when a flat display cell having a light diffusing layer is cut into a prescribed size, the light diffusing layer is cracked, chipped, scraped or peeled off due to an impact during cutting. It is possible to prevent damage such as floating from the substrate or damage such as cracking, chipping or shaving of the substrate, and it is possible to improve the manufacturing yield.
Further, according to the present invention, the sealing width of the sealing agent can be formed uniformly and narrow, and thus, strong adhesive strength can be obtained without causing cohesive failure of the sealing agent, and good display quality can be obtained for a long time without causing sealing failure. can get.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態である液晶表示素子及びバ
ックライトを示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal display element and a backlight according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態における大型ガラス板の裁
断を示す概略説明図である。
FIG. 2 is a schematic explanatory view showing cutting of a large glass plate in the embodiment of the present invention.

【図3】(比較例1)の液晶素子を示す概略構成図であ
る。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal element of (Comparative example 1).

【図4】(比較例2)の液晶素子を示す概略構成図であ
る。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal element of (Comparative example 2).

【図5】(比較例3)の液晶素子を示す概略構成図であ
る。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal element of (Comparative example 3).

【図6】従来例の液晶表示素子を示す概略構成図であ
る。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a conventional liquid crystal display element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…液晶表示素子 11…バックライト 12…アレイ基板 13…対向基板 14…スペーサ 16…シール剤 17…液晶層 18、27…ガラス基板 20…TFT素子 21…カラーフィルタ層 23…画素電極 28…光拡散層 28a…シリコーン樹脂 28b…プラスチック球 36、37…大型ガラス板 38…裁断線 10 ... Liquid crystal display element 11 ... Backlight 12 ... Array substrate 13 ... Counter substrate 14 ... Spacer 16 ... Sealant 17 ... Liquid crystal layer 18, 27 ... Glass substrate 20 ... TFT element 21 ... Color filter layer 23 ... Pixel electrode 28 ... Light diffusion layer 28a ... Silicone resin 28b ... Plastic ball 36, 37 ... Large glass plate 38 ... Cutting line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 342 G09F 9/00 342Z 5C094 343 343Z 5G435 9/30 349 9/30 349Z 9/35 9/35 Fターム(参考) 2H042 BA02 BA15 BA20 2H088 FA01 FA06 FA27 2H089 LA46 QA12 TA17 2H090 JA06 JB02 JC07 JC13 LA10 2H091 FA31Y FB02 FB13 GA01 GA09 5C094 AA31 AA42 AA43 BA43 CA24 EB02 ED03 HA08 5G435 AA06 AA17 BB12 CC12 KK05 KK07 KK10 LL08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09F 9/00 342 G09F 9/00 342Z 5C094 343 343Z 5G435 9/30 349 9/30 349Z 9/35 9 / 35 F-term (reference) 2H042 BA02 BA15 BA20 2H088 FA01 FA06 FA27 2H089 LA46 QA12 TA17 2H090 JA06 JB02 JC07 JC13 LA10 2H091 FA31Y FB02 FB13 GA01 GA09 5C094 AA31 AA42 AA43 BA43 CA24 AK12 BB02 A10A12 A12A02 A17A12 A1243

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の基板と、 前記一対の基板のいずれか一方の内面に取着され、端面
が前記基板の端面より内側に位置する光拡散層と、 この光拡散層上にて前記一対の基板の表示領域を囲うよ
う配置されるシール剤と、 このシール剤に囲まれる領域にて前記一対の基板間に封
入される光変調層とを具備する事を特徴とする平面表示
素子。
1. A pair of substrates, a light diffusing layer attached to an inner surface of one of the pair of substrates, and an end face of which is located inside the end face of the substrate, and the pair of substrates on the light diffusing layer. 2. A flat display element, comprising: a sealant disposed so as to surround a display region of the substrate, and a light modulation layer sealed between the pair of substrates in the region surrounded by the sealant.
【請求項2】 前記一対の基板が透明ガラス基板からな
り、 前記光拡散層の前記ガラス基板との取着面が有機物から
なることを特徴とする請求項1に記載の平面表示素子。
2. The flat display element according to claim 1, wherein the pair of substrates are made of transparent glass substrates, and an attachment surface of the light diffusion layer to the glass substrate is made of an organic material.
【請求項3】 前記光拡散層が、平板状の透明媒質中に
透明かつ前記透明媒質と屈折率の異なる概略球形状の屈
折体を前記平板状の透明媒質の主面に対して略平行且つ
均等に並べた層を有することを特徴とする請求項1記載
の平面表示素子。
3. The light diffusing layer comprises a substantially spherical refracting body which is transparent in a flat transparent medium and has a refractive index different from that of the transparent medium, and which is substantially parallel to the main surface of the flat transparent medium. The flat display element according to claim 1, wherein the flat display element has evenly arranged layers.
【請求項4】 前記透明媒質及び前記屈折体が光学的に
等方であることを特徴とする請求項3に記載の平面表示
素子。
4. The flat display element according to claim 3, wherein the transparent medium and the refracting body are optically isotropic.
【請求項5】 前記光変調層が液晶層であることを特徴
とする請求項1記載の平面表示素子。
5. The flat display element according to claim 1, wherein the light modulation layer is a liquid crystal layer.
【請求項6】 一対の大型基板を所定サイズに切り出す
ことにより、いずれか一方の基板の内面に光拡散層が取
着され、シール剤で囲まれた間隙に光変調層を封入して
なる平面表示素子の製造方法において、 前記大型基板に、前記基板の端面より内側に端面を有す
る光拡散層を形成する工程と、 前記一対の大型基板のいずれかであって、前記光拡散層
の形成領域上に相当する領域に前記シール剤を配置する
工程と、 前記一対の大型基板を前記シール剤で貼り合せる工程
と、 前記貼り合せた一対の大型基板を前記所定のサイズに切
り出す工程とを具備することを特徴とする平面表示素子
の製造方法。
6. A flat surface obtained by cutting a pair of large-sized substrates into a predetermined size so that a light diffusion layer is attached to the inner surface of one of the substrates and the light modulation layer is enclosed in a gap surrounded by a sealant. In the method for manufacturing a display element, in the large-sized substrate, a step of forming a light diffusion layer having an end surface inside the end surface of the substrate, and one of the pair of large-sized substrate, the light diffusion layer forming region The method further comprises the steps of disposing the sealant in an area corresponding to the above, bonding the pair of large-sized substrates with the sealant, and cutting out the bonded pair of large-sized substrates into the predetermined size. A method of manufacturing a flat display element, comprising:
【請求項7】 一対の大型基板を所定サイズに切り出す
ことにより、いずれか一方の基板の内面に光拡散層が取
着され、シール剤で囲まれた間隙に光変調層を封入して
なる平面表示素子を複数個形成する平面表示素子の製造
方法において、 前記大型基板に、所定の間隙を隔てて光拡散層を複数面
形成する工程と、 前記一対の大型基板のいずれかであって、前記複数面の
光拡散層の形成領域上に相当する領域にそれぞれ前記シ
ール剤を配置する工程と、 前記一対の大型基板を前記シール剤で貼り合せる工程
と、 前記貼り合せた一対の大型基板を前記所定の間隙の領域
で切り離す工程とを具備することを特徴とする平面表示
素子の製造方法。
7. A flat surface obtained by cutting a pair of large-sized substrates into a predetermined size so that a light diffusion layer is attached to the inner surface of one of the substrates and the light modulation layer is enclosed in a gap surrounded by a sealant. In the method for manufacturing a flat display element, wherein a plurality of display elements are formed, in the large-sized substrate, a step of forming a plurality of light-diffusing layers with a predetermined gap therebetween, and one of the pair of large-sized substrates, The step of disposing the sealing agent in each of the regions corresponding to the formation regions of the light diffusion layers on a plurality of surfaces, the step of bonding the pair of large-sized substrates with the sealing agent, and the pair of large-sized substrates bonded to each other And a step of separating at a region of a predetermined gap.
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