JPH10333132A - Substrate flatening method, liquid crystal display panel and liquid crystal projector - Google Patents

Substrate flatening method, liquid crystal display panel and liquid crystal projector

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JPH10333132A
JPH10333132A JP14223097A JP14223097A JPH10333132A JP H10333132 A JPH10333132 A JP H10333132A JP 14223097 A JP14223097 A JP 14223097A JP 14223097 A JP14223097 A JP 14223097A JP H10333132 A JPH10333132 A JP H10333132A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
display panel
film
crystal display
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Application number
JP14223097A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Ueda
博之 上田
Hiroaki Kono
広明 河野
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance productivity and to make a device flat by easily eliminating unevenness by applying a flatening substance on the entire surface of a substrate surface. SOLUTION: The flatening substance is applied on the entire surface of the substrate surface. In the case that the unevenness 15 of scratches is caused by a jig for instance on the glass substrate 12 of a completed liquid crystal display panel, the flatening substance is applied on the surface of the glass substrate 12 having the unevenness 15. As the flatening substance, for instance SOG(Spin On Glass) film 34 is used. Organic SOG film is used as the SOG film 34, and is applied on the substrate surface having the unevenness 15 by a spinner. Then, a hot plate is prebaked, so that flatened film is formed. Also, a process is repeated until the desired thickness of the flatened film is obtained. The flatened film is formed by baking by a baking furnace after a thickness reaches a desired film thickness, so that the unevenness 15 of the substrate surface is eliminated and the substrate surface is made flat.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板表面の凹凸を
平坦化物質によって平坦にする基板平坦化方法、その平
坦化方法を用いて作成した液晶表示パネル及び液晶プロ
ジェクタに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for flattening a substrate by using a flattening material to make unevenness on the surface of the substrate, a liquid crystal display panel and a liquid crystal projector produced by using the flattening method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、数インチの大きさの液晶表示パネ
ルの表示をスクリーンに拡大投影して表示する液晶プロ
ジェクタの開発が進められている。図10に一般的な液
晶表示パネルを用いた液晶プロジェクタの概略断面図を
示す。
2. Description of the Related Art In recent years, a liquid crystal projector for enlarging and projecting a display of a liquid crystal display panel having a size of several inches on a screen has been developed. FIG. 10 is a schematic sectional view of a liquid crystal projector using a general liquid crystal display panel.

【0003】同図に示す如く、光源16からの光は、U
Vカットフィルタ17を透過してダイクロイックミラー
18により反射された青色光Bと、透過する緑色光G及
び赤色光Rに分光される。一方の反射された青色光B
は、全反射ミラー19により反射され集光レンズ20を
透過して液晶表示パネル21に入射した後、ダイクロイ
ックミラー22を透過して更にダイクロイックミラー2
3を透過して投影レンズ24に集光する。
As shown in FIG. 1, light from a light source 16 is U
The blue light B transmitted through the V cut filter 17 and reflected by the dichroic mirror 18 is separated into the transmitted green light G and red light R. One reflected blue light B
Is reflected by the total reflection mirror 19, passes through the condenser lens 20, enters the liquid crystal display panel 21, then passes through the dichroic mirror 22, and further passes through the dichroic mirror 2.
3 and converge on the projection lens 24.

【0004】他方の透過した緑色光G及び赤色光Rは、
次のダイクロイックミラー25により緑色光Gは反射さ
れ赤色光Rは透過する。反射された緑色光Gは集光レン
ズ26を透過して緑色用液晶表示パネル27に入射さ
れ、前記ダイクロイックミラー22によって反射され更
にダイクロイックミラー23を透過して投影レンズ24
に集光し、他方の透過した赤色光Rは集光レンズ28を
透過して緑色用液晶表示パネル29を透過した後全反射
ミラー30によって反射されダイクロイックミラー23
によって反射され投影レンズ24に集光する。
The other transmitted green light G and red light R are
The green light G is reflected by the next dichroic mirror 25, and the red light R is transmitted. The reflected green light G passes through the condenser lens 26 and enters the green liquid crystal display panel 27, is reflected by the dichroic mirror 22, further passes through the dichroic mirror 23, and passes through the projection lens 24.
The other transmitted red light R is transmitted through the condenser lens 28 and transmitted through the liquid crystal display panel 29 for green, and then reflected by the total reflection mirror 30 to be reflected by the dichroic mirror 23.
And is condensed on the projection lens 24.

【0005】こうしてそれぞれの液晶表示パネル21、
27、29の映像がスクリーン31に合成されて拡大投
影される。このとき、前述の液晶プロジェクタに用いる
液晶表示パネルは、その液晶表示パネルを完成させるま
での工程において、治工具との接触等により基板に点状
あるいは線状の傷、即ち凹凸が発生する。
Thus, each of the liquid crystal display panels 21,
The images 27 and 29 are synthesized on the screen 31 and are enlarged and projected. At this time, in the liquid crystal display panel used in the above-described liquid crystal projector, in a process until the liquid crystal display panel is completed, a point-like or linear scratch, that is, unevenness occurs on the substrate due to contact with a jig or the like.

【0006】ここで、液晶表示パネルに用いられている
ガラス基板に生じる傷と、その傷を平坦にする従来の方
法について以下に説明する。図11に、傷の生じたガラ
ス基板を備えた液晶表示パネルの平面図を示し、図12
に図11中のA−A線に沿った液晶表示パネルの断面図
を示す。図11及び図12に示す如く、電極7、13を
設けた一対のガラス基板1、12間に、そのガラス基板
1、12の周辺に接着性を有する接着材料であるシール
材14を設けそのシール材14にて両基板1、12を接
着して貼り合わせる。そしてこれら両ガラス基板1、1
2及びシール材14によって形成される空隙に液晶11
を充填することにより、液晶表示パネルが形成される。
Here, a description will be given of a flaw generated on a glass substrate used for a liquid crystal display panel and a conventional method for flattening the flaw. FIG. 11 is a plan view of a liquid crystal display panel having a scratched glass substrate, and FIG.
11 shows a cross-sectional view of the liquid crystal display panel along the line AA in FIG. As shown in FIGS. 11 and 12, a sealing material 14, which is an adhesive material having adhesive properties, is provided between a pair of glass substrates 1, 12 provided with electrodes 7, 13 around the glass substrates 1, 12. The two substrates 1 and 12 are adhered to each other with a material 14. These two glass substrates 1, 1
The liquid crystal 11 is filled in a gap formed by the
Is filled to form a liquid crystal display panel.

【0007】図11に示す如く、この液晶表示パネルの
最外部にあるガラス基板12には、ガラス基板上に液晶
を駆動するための薄膜トランジスタ(以下、「TFT」
と称する。)を形成する工程や、治工具による両基板の
貼り合わせの工程を経る間に治工具との接触等により、
ガラスが削られて点状あるいは線状の傷15が生じてし
まうことがある。
As shown in FIG. 11, a thin film transistor (hereinafter, referred to as "TFT") for driving liquid crystal is provided on a glass substrate 12 at the outermost side of the liquid crystal display panel.
Called. ), And contact with the jig during the process of bonding both substrates with the jig
In some cases, the glass is shaved to cause dot-like or linear scratches 15.

【0008】ところが、液晶プロジェクタの光学系にお
いてその傷に焦点が合うと、プロジェクタ投影時に拡大
投影されるため、スクリーン上において点状あるいは線
状の傷が拡大投影され著しく表示品位を低下させること
となる。ここで、液晶プロジェクタに用いる液晶表示パ
ネルのガラス基板に傷が生じた場合について説明する。
However, when the flaws are focused on the optical system of the liquid crystal projector, they are magnified and projected at the time of projecting the projector. Therefore, point-like or linear flaws are magnified and projected on the screen to significantly degrade the display quality. Become. Here, a case where a glass substrate of a liquid crystal display panel used for a liquid crystal projector is damaged will be described.

【0009】図13に液晶表示パネルのガラス基板に傷
が生じた場合の液晶プロジェクタの一部概略図を示す。
図13に示す如く、光源方向から進んできた光は、集光
レンズ20を透過して液晶表示パネル21を透過し、更
に投影レンズ24に集光された後、スクリーン31に拡
大投影されるが、その際、液晶表示パネル21のガラス
基板12上の傷15に焦点が合った場合(図中点線a)
には、実際の表示33とともにその傷15が拡大投影さ
れてスクリーン31上に投影15aされてしまい、表示
にきわめて悪影響を与えることとなる。
FIG. 13 is a partial schematic view of a liquid crystal projector when a glass substrate of a liquid crystal display panel is damaged.
As shown in FIG. 13, the light traveling from the light source direction passes through the condenser lens 20, passes through the liquid crystal display panel 21, is further focused on the projection lens 24, and is enlarged and projected on the screen 31. At this time, when the flaw 15 on the glass substrate 12 of the liquid crystal display panel 21 is focused (dotted line a in the figure)
In this case, the scratch 15 is magnified and projected together with the actual display 33 and is projected 15a on the screen 31, which has a very bad influence on the display.

【0010】そこで、従来は図14に示すように、ガラ
ス基板12に生じた傷、即ち凹凸15をなくすために、
CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械
的研磨)装置等により、ガラス基板12表面を傷の深さ
以上研磨する(図中点線で表示)方法が採られていた。
しかしながら、この従来の方法では、ガラス基板12の
凹凸を研磨して平坦にするのに基板1枚当たり極めて時
間を要する(例えば平均約1時間程度)ため非常に生産
性に欠けるという問題が生じていた。また、この従来の
方法では、ガラス基板が破損しやすいという問題もあっ
た。
Therefore, conventionally, as shown in FIG. 14, in order to eliminate the scratches generated on the glass substrate 12, that is, the irregularities 15,
A method has been employed in which the surface of the glass substrate 12 is polished to a depth equal to or greater than the depth of the scratch using a CMP (Chemical Mechanical Polishing) apparatus or the like (indicated by a dotted line in the figure).
However, in this conventional method, it takes a very long time for each substrate to polish and flatten the unevenness of the glass substrate 12 (for example, about one hour on average), so that there is a problem that the productivity is very low. Was. In addition, this conventional method has a problem that the glass substrate is easily damaged.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は上述の
従来の欠点に鑑みて為されたものであって、基板の表面
に生じた傷、即ち凹凸を容易にかつ生産性良く無くして
平坦にする基板の平坦化方法を提供するとともに、その
平坦化方法によって作成した液晶表示パネル及び液晶プ
ロジェクタを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional drawbacks, and it is intended to eliminate the scratches, i.e., irregularities generated on the surface of a substrate easily and with good productivity and to make the surface flat. It is an object of the present invention to provide a method for flattening a substrate, and a liquid crystal display panel and a liquid crystal projector produced by the flattening method.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、基板の全表面に平坦化物質を塗布することを特徴と
するものである。請求項2に記載の発明は、請求項1に
記載の基板平坦化方法において、前記平坦化物質は、該
平坦化物質の屈折率が塗布する基板の屈折率とほぼ等し
い材料であるものである。
According to the first aspect of the present invention, a flattening material is applied to the entire surface of the substrate. According to a second aspect of the present invention, in the substrate flattening method according to the first aspect, the flattening material is a material in which the refractive index of the flattening material is substantially equal to the refractive index of the substrate to be coated. .

【0013】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載の基板平坦化方法において、前記基板がガラス
またはアクリル樹脂からなるものである。請求項4に記
載の発明は、請求項1乃至3に記載の基板平坦化方法に
おいて、前記平坦化物質が、SOG膜またはアクリル樹
脂であるものである。請求項5に記載の発明は、互いに
対向させてなりいずれか一方の基板に凹凸を有する一対
の基板と、該一対の基板の周辺部に設けた接着材料とに
よる空隙に液晶材料を充填してなる液晶表示パネルにお
いて、前記一対の基板のうち凹凸を有する基板の全表面
に表面平坦化物質を塗布したものである。
According to a third aspect of the present invention, in the substrate flattening method according to the first or second aspect, the substrate is made of glass or acrylic resin. According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate flattening method according to any one of the first to third aspects, the flattening material is an SOG film or an acrylic resin. According to a fifth aspect of the present invention, a liquid crystal material is filled in a gap formed by a pair of substrates which are opposed to each other and have unevenness on one of the substrates, and an adhesive material provided on a peripheral portion of the pair of substrates. In this liquid crystal display panel, a surface flattening substance is applied to the entire surface of a substrate having irregularities among the pair of substrates.

【0014】請求項6に記載の発明は、互いに対向させ
てなりいずれか一方の基板に凹凸を有する一対の基板
と、該一対の基板の周辺部に設けた接着材料とによる空
隙に液晶材料を充填してなる液晶表示パネルにおいて、
前記一対の基板の凹凸を有する基板の全表面に該基板と
ほぼ屈折率の等しい表面平坦化物質を塗布したものであ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, a liquid crystal material is filled in a gap formed by a pair of substrates facing each other and having unevenness on one of the substrates, and an adhesive material provided on the periphery of the pair of substrates. In the filled liquid crystal display panel,
The entire surface of the substrate having the unevenness of the pair of substrates is coated with a surface flattening substance having substantially the same refractive index as the substrate.

【0015】請求項7に記載の発明は、前記請求項5ま
たは請求項6に記載の液晶表示パネルを用いた液晶プロ
ジェクタである。即ち、請求項1に記載の発明は、基板
の全表面に平坦化物質を塗布することを特徴とするもの
であるので、基板表面に発生した傷を、従来の基板表面
を化学的機械的に研磨する方法に比べ、極めて容易に無
くすることができ工程の簡略化が図れるとともに生産性
が非常に良い。更に化学的機械的に研磨に比べ基板が破
損する惧れもきわめて少ない。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal projector using the liquid crystal display panel according to the fifth or sixth aspect. That is, since the invention according to claim 1 is characterized in that a flattening substance is applied to the entire surface of the substrate, scratches generated on the substrate surface can be chemically and mechanically applied to the conventional substrate surface. Compared to the polishing method, it can be eliminated very easily, the process can be simplified, and the productivity is very good. Further, there is very little risk of damaging the substrate as compared with chemical mechanical polishing.

【0016】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の基板平坦化方法において、前記平坦化物質は、該平坦
化物質の屈折率が塗布する基板の屈折率とほぼ等しい材
料であるので、基板表面に発生した傷の部分において、
基板に入射した光が反射あるいは拡散することがなくな
り表示に悪影響を与えることがない。請求項3に記載の
発明は、請求項1または2に記載の基板平坦化方法にお
いて、前記基板がガラスまたはアクリル樹脂からなるも
のであるので、高い光透過率を得ることができるため例
えば表示装置に用いた場合にも明るい表示を得ることが
できる。また、基板がガラスまたはアクリル樹脂である
ことから、塗布できる平坦化物質を容易に選択すること
ができる。
According to a second aspect of the present invention, in the method of flattening a substrate according to the first aspect, the flattening material is a material having a refractive index of the flattening material substantially equal to a refractive index of the substrate to be coated. So, in the part of the scratch that occurred on the substrate surface,
Light incident on the substrate is not reflected or diffused, and does not adversely affect display. According to a third aspect of the present invention, in the method for flattening a substrate according to the first or second aspect, since the substrate is made of glass or acrylic resin, a high light transmittance can be obtained. , A bright display can be obtained. Further, since the substrate is made of glass or acrylic resin, an applicable flattening substance can be easily selected.

【0017】請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3
に記載の基板平坦化方法において、前記平坦化物質が、
SOG膜またはアクリル樹脂であるものであるので、い
ずれの膜もスピンナーによって容易に塗布することがで
き、またスピンナーの回転数、平坦化物質の粘度、平坦
化物質の塗布回数等を調整することにより所望の膜厚を
容易に得ることができる。またアクリル樹脂の場合には
紫外線照射によって容易に硬化することができる。
The invention described in claim 4 is the first to third aspects of the present invention.
In the substrate flattening method according to the above, the flattening material,
Since it is an SOG film or an acrylic resin, any film can be easily applied by a spinner, and by adjusting the rotation speed of the spinner, the viscosity of the flattening material, the number of times the flattening material is applied, and the like. A desired film thickness can be easily obtained. In the case of acrylic resin, it can be easily cured by ultraviolet irradiation.

【0018】請求項5に記載の発明は、互いに対向させ
てなりいずれか一方の基板に凹凸を有する一対の基板
と、該一対の基板の周辺部に設けた接着材料とによる空
隙に液晶材料を充填してなる液晶表示パネルにおいて、
前記一対の基板のうち凹凸を有する基板の全表面に表面
平坦化物質を塗布したものであるので、基板表面を平坦
にすることができるため、基板表面に偏光板を貼る際に
も気泡が入り込んでしまい偏光機能を失うことがない。
According to a fifth aspect of the present invention, a liquid crystal material is filled in a gap formed by a pair of substrates facing each other and having unevenness on one of the substrates, and an adhesive material provided on the periphery of the pair of substrates. In the filled liquid crystal display panel,
Since a surface flattening substance is applied to the entire surface of the substrate having irregularities of the pair of substrates, air bubbles enter when the polarizing plate is attached to the substrate surface because the substrate surface can be flattened. It does not lose the polarization function.

【0019】請求項6に記載の発明は、互いに対向させ
てなりいずれか一方の基板に凹凸を有する一対の基板
と、該一対の基板の周辺部に設けた接着材料とによる空
隙に液晶材料を充填してなる液晶表示パネルにおいて、
前記一対の基板の凹凸を有する基板の全表面に基板とほ
ぼ屈折率の等しい表面平坦化物質を塗布したものである
ので、パネルに入射される光が凹凸部での拡散や反射を
することが防止できるため、透過光が基板全面で均一に
できる。
According to a sixth aspect of the present invention, a liquid crystal material is filled in a gap formed by a pair of substrates facing each other and having irregularities on one of the substrates, and an adhesive material provided on the periphery of the pair of substrates. In the filled liquid crystal display panel,
Since the entire surface of the substrate having the unevenness of the pair of substrates is coated with a surface flattening substance having substantially the same refractive index as the substrate, light incident on the panel may diffuse or reflect on the uneven portion. Since it can be prevented, the transmitted light can be made uniform over the entire surface of the substrate.

【0020】請求項7に記載の発明は、前記一対の基板
のうち少なくとも一方の基板の全表面に表面平坦化物質
を塗布した液晶表示パネルを用いた液晶プロジェクタで
あるので、その液晶表示パネルのTFTを設けた基板の
作製工程で基板に点状あるいは線状の傷が発生してその
傷にプロジェクタの光学系において焦点が合った状態で
拡大投影されても、スクリーン上において点状あるいは
線状の傷が拡大投影されて著しく表示品位が低下するこ
とはない。また、前記一対の基板のうち少なくとも一方
の基板の全表面に基板とほぼ屈折率の等しい表面平坦化
物質を塗布した液晶表示パネルを用いた液晶プロジェク
タであるので、パネルに入射される光が凹凸部での拡散
や反射をすることが防止できるため、透過光が基板全面
で均一にできることから、スクリーン上において点状あ
るいは線状の傷が拡大投影されて著しく表示品位が低下
することはない。
The invention according to claim 7 is a liquid crystal projector using a liquid crystal display panel in which a surface flattening substance is applied to the entire surface of at least one of the pair of substrates. Even if point-like or linear scratches occur on the substrate during the manufacturing process of the substrate on which the TFT is provided, and the scratches are enlarged and projected in a state where the optical system of the projector is in focus, a point-like or linear scratch on the screen There is no significant reduction in display quality due to the enlarged projection of the scratches. Further, since the liquid crystal projector uses a liquid crystal display panel in which a surface flattening substance having a refractive index substantially equal to that of the substrate is applied to the entire surface of at least one of the pair of substrates, light incident on the panel is uneven. Since diffusion and reflection at the portion can be prevented, transmitted light can be made uniform over the entire surface of the substrate, so that point-like or linear flaws are magnified and projected on the screen, and the display quality does not significantly deteriorate.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】図1に、本発明の基板の平坦化方
法を液晶表示パネルに採用した場合の液晶表示パネルの
平面図を示し、図2に、液晶表示パネルの分解斜視図を
示し、図3に図1及び図2中のA−A線に沿った断面図
を示す。図2に示す如く、一方のガラス基板1上には、
ゲート電極2を一部に備えた複数のゲートライン3と、
その各ゲートライン3と直交しておりドレイン電極4を
一部に備えた複数のドレインライン5と、これらの各ラ
イン3、5の交点付近にTFT6とが形成されており、
そのTFT6は前記ゲートライン3の一部のゲート電極
2、前記ドレインライン5の一部のドレイン電極4、及
び表示電極7に接続されたソース電極8から成ってい
る。一方のガラス基板の表示電極を形成しない面には偏
光板16が設けられている。なお、同図には、便宜上、
ゲートライン3本及びドレインライン5本としたが、実
際には、例えばゲートライン768本、ドレインライン
1024本である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display panel when the substrate flattening method of the present invention is applied to a liquid crystal display panel, and FIG. 2 is an exploded perspective view of the liquid crystal display panel. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIGS. As shown in FIG. 2, on one glass substrate 1,
A plurality of gate lines 3 partially provided with a gate electrode 2;
A plurality of drain lines 5 which are orthogonal to the respective gate lines 3 and partially include a drain electrode 4, and a TFT 6 is formed near an intersection of the respective lines 3 and 5,
The TFT 6 includes a part of the gate electrode 2 of the gate line 3, a part of the drain electrode 4 of the drain line 5, and a source electrode 8 connected to the display electrode 7. A polarizing plate 16 is provided on a surface of one of the glass substrates on which the display electrode is not formed. In the figure, for convenience,
Although three gate lines and five drain lines are used, actually, for example, 768 gate lines and 1024 drain lines are used.

【0022】図3に示す如く、続いて前記TFT6及び
表示電極7上には、絶縁膜9を介して液晶11に接する
面に液晶11を配向させるためのポリイミド、SiO2
等からなる配向膜10を形成する。次に、他方のガラス
基板12上には、前記一方のガラス基板1に形成した各
表示電極7に対向して対向電極13が、一方のガラス基
板1上の表示電極7が形成されている領域、即ち表示領
域に対応して全面に形成されており、その対向電極13
の上の液晶11に接する面には、一方の基板と同様に液
晶11を配向させるためのポリイミド等の有機樹脂から
なる配向膜10を形成する。
As shown in FIG. 3, subsequently, on the TFT 6 and the display electrode 7, polyimide, SiO 2 for aligning the liquid crystal 11 on the surface in contact with the liquid crystal 11 via the insulating film 9.
An alignment film 10 made of, for example, is formed. Next, on the other glass substrate 12, a counter electrode 13 faces each display electrode 7 formed on the one glass substrate 1, and a region where the display electrode 7 on the one glass substrate 1 is formed. That is, the counter electrode 13 is formed on the entire surface corresponding to the display region.
An alignment film 10 made of an organic resin such as polyimide for orienting the liquid crystal 11 is formed on the surface of the substrate in contact with the liquid crystal 11 as in the case of one substrate.

【0023】これら一方のガラス基板1と他方のガラス
基板12の両基板は、表示領域32の周囲に接着性を有
する接着材料としてシール材14を塗布して接着され
る。そして、両基板1、12とシール材14とによって
形成された間隙に液晶11を充填して液晶表示パネルが
完成する。こうして完成した液晶表示パネルは、各工
程、例えば、パネル完成前の工程であるTFTを形成す
る工程、あるいは両基板を貼り合わせる工程などにおい
て、治工具等との接触によってガラス基板の表面に傷が
付いてしまいそれがガラス基板の表面の凹凸となること
がある。
The two substrates, one glass substrate 1 and the other glass substrate 12, are adhered by applying a sealing material 14 as an adhesive material having adhesive properties around the display area 32. Then, the liquid crystal 11 is filled in the gap formed by the substrates 1 and 12 and the sealing material 14 to complete the liquid crystal display panel. In the liquid crystal display panel completed in this way, the surface of the glass substrate is damaged by contact with a jig or the like in each step, for example, a step of forming a TFT which is a step before panel completion, or a step of bonding both substrates. It may adhere and cause irregularities on the surface of the glass substrate.

【0024】本実施の形態においては、完成した液晶表
示パネルのガラス基板12上に治工具による引っ掻き傷
の凹凸15が生じた場合を示している。そこで、凹凸1
5の付いたガラス基板12の表面に平坦化物質を塗布す
る。平坦化物質としてSOG(Spin On Glass)膜3
4を用いた場合について説明する。
In the present embodiment, a case is shown in which irregularities 15 of scratches caused by a jig are generated on a glass substrate 12 of a completed liquid crystal display panel. Therefore, unevenness 1
A flattening substance is applied to the surface of the glass substrate 12 with 5. SOG (Spin On Glass) film 3 as a planarizing material
4 will be described.

【0025】SOG膜の形成は、以下の通りである。S
OG膜としては、有機SOG膜(例えば粘度20cp)を
用い、それを凹凸の付いた基板面にスピンナーにて塗布
する。その後、ホットプレートを用いて120℃で1分
間プリベークすることにより、2000乃至3000Å
の平坦化膜が形成できる。そして、所望とする平坦化膜
厚に達するまでこれらの工程を繰り返せばよい。平坦化
膜の厚みとしては凹凸の深さ以上であって基板表面全面
に塗布でき表面が平坦になる厚みであればよい。所望の
膜厚まで達したらベーク炉において200℃で30分焼
成を行って平坦化膜が形成でき、基板表面の凹凸がなく
なり平坦になる。
The formation of the SOG film is as follows. S
As the OG film, an organic SOG film (for example, having a viscosity of 20 cp) is used, and the OG film is applied to the uneven substrate surface by a spinner. Thereafter, the film is pre-baked at 120 ° C. for 1 minute using a hot plate, so that 2000 to 3000 ° C.
Can be formed. These steps may be repeated until the desired flattening film thickness is reached. The thickness of the flattening film is not less than the depth of the unevenness, and may be any thickness that can be applied to the entire surface of the substrate and makes the surface flat. When the desired film thickness is reached, baking is performed in a baking furnace at 200 ° C. for 30 minutes to form a flattened film, and the substrate surface is flattened without unevenness.

【0026】以下に、液晶表示パネルの各製造工程にお
ける平坦化物質の塗布について説明する。まず、液晶表
示パネル完成前の工程であるTFTを形成した工程後に
平坦化物質を塗布する場合について説明する。図4に液
晶表パネルのTFTを基板上に形成した後に、TFTを
形成していない面に有機SOG膜を形成した断面図を示
す。
Hereinafter, the application of the flattening substance in each manufacturing process of the liquid crystal display panel will be described. First, a case where a flattening material is applied after a step of forming a TFT which is a step before completion of a liquid crystal display panel will be described. FIG. 4 is a cross-sectional view in which a TFT of a liquid crystal front panel is formed on a substrate, and then an organic SOG film is formed on a surface where the TFT is not formed.

【0027】TFTを形成する工程にて発生したガラス
基板1上の凹凸15の場合、TFT6及び表示電極7全
体をレジスト膜36で覆って保護をする。そして、15
0℃、30分間レジスト膜36を硬化した後、TFT6
を形成したガラス基板1を上にして前述の如くSOG膜
37を成膜する。そして、レジスト膜36を除去してベ
ーク炉において300℃、30分焼成を行う。
In the case of the irregularities 15 on the glass substrate 1 generated in the step of forming the TFT, the whole of the TFT 6 and the display electrode 7 is covered with a resist film 36 to protect it. And 15
After curing the resist film 36 at 0 ° C. for 30 minutes, the TFT 6
The SOG film 37 is formed as described above with the glass substrate 1 on which is formed as above. Then, the resist film 36 is removed, and baking is performed at 300 ° C. for 30 minutes in a baking furnace.

【0028】こうして、基板の表面にSOG膜が形成で
き表面が平坦となる。なお、TFT形成後で、そのTF
Tを形成した基板に液晶を配向させるポリイミドを形成
した後であれば、ポリイミドの熱による劣化を防ぐため
にも前述のベーク炉におけるベーキングは250℃にて
30分行うことが好ましい。ここで、TFTを形成した
後とは、TFT及び各ラインを形成しそれらの上に絶縁
膜を形成した場合も含むものとする。
Thus, an SOG film can be formed on the surface of the substrate, and the surface becomes flat. After forming the TFT, the TF
After the polyimide for aligning the liquid crystal is formed on the substrate on which the T is formed, the baking in the baking furnace is preferably performed at 250 ° C. for 30 minutes in order to prevent the polyimide from being deteriorated by heat. Here, “after the TFT is formed” includes the case where the TFT and each line are formed and an insulating film is formed thereon.

【0029】次に、両基板を貼り合わせる工程後に平坦
化物質を塗布する場合を説明する。図5に両基板を貼り
合わせた後に平坦化物質を塗布した場合の断面図を示
す。同図に示す如く、両基板1、12のうち、凹凸15
の生じていない基板1の保護のために例えばレジスト膜
36を基板表面に形成する。その後、前述のTFTを形
成した工程後の場合と同様に、SOG膜37を形成す
る。そして、保護用のレジスト膜36を除去した後、S
OG膜37を硬化をする。それは図5においてレジスト
膜36が除去された状態である。 SOG膜37の硬化
温度は液晶が劣化しない程度の温度、例えば200℃と
する。
Next, a case where a flattening substance is applied after the step of bonding both substrates will be described. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a case where a planarizing substance is applied after both substrates are bonded. As shown in FIG.
For example, a resist film 36 is formed on the surface of the substrate 1 in order to protect the substrate 1 in which the generation of the resist 1 has not occurred. After that, the SOG film 37 is formed as in the case after the step of forming the TFT. Then, after removing the protective resist film 36, S
The OG film 37 is cured. This is the state where the resist film 36 is removed in FIG. The curing temperature of the SOG film 37 is set to a temperature at which the liquid crystal does not deteriorate, for example, 200 ° C.

【0030】なお、保護用にレジスト膜等を形成するこ
とは必ずしも必要ではなく、傷の発生した面を上にして
SOG膜を成膜することも可能である。また、両面とも
に傷が発生している場合には、レジスト膜にて覆うこと
なく順番に両基板にSOG膜を塗布すればよい。 <第2の実施の形態>以下に、凹凸を生じた基板に、前
述のSOG膜に代えてアクリル樹脂を塗布した場合につ
いて説明する。
It is not always necessary to form a resist film or the like for protection, and it is also possible to form an SOG film with the scratched surface facing up. If both surfaces are scratched, an SOG film may be applied to both substrates in order without covering with a resist film. <Second Embodiment> A case in which an acrylic resin is applied instead of the above-described SOG film to a substrate having irregularities will be described below.

【0031】図6に、凹凸を生じた基板にアクリル樹脂
を形成する場合の断面図を示す。同図に示す如く、傷の
生じた基板面には、アクリル樹脂膜38(TB3042
(スリーボンド(株)、粘度20cp))を塗布する。そ
の後、紫外線(365nm)を1500mJ/cm2照
射39することにより、約2000乃至3000Åの平
坦化膜が形成できる。
FIG. 6 is a sectional view showing a case where an acrylic resin is formed on a substrate having irregularities. As shown in the figure, an acrylic resin film 38 (TB3042
(ThreeBond Co., Ltd., viscosity 20 cp)). Thereafter, ultraviolet light (365 nm) is irradiated with 1500 mJ / cm 2 39 to form a flattening film of about 2000 to 3000 °.

【0032】そして、所望とする平坦化膜厚に達するま
でこれらの工程を繰り返せばよい。膜厚は、第1の実施
の形態と同様に平坦化膜の厚みとしては凹凸の深さ以上
であって基板表面全面に塗布でき表面が平坦になる厚み
であればよい。こうして、傷により凹凸の生じた基板の
表面を平坦にすることができる。ここで、本実施形態の
如く、紫外線硬化樹脂であるアクリル樹脂を平坦化物質
として用いた場合には紫外線より液晶が劣化してしまう
惧れがあるので、液晶表示パネルが完成してからの平坦
化膜の塗布は第1の実施の形態にて用いたSOG膜のほ
うが好ましい。
These steps may be repeated until the desired flattening film thickness is reached. As in the first embodiment, the thickness of the flattening film is not less than the depth of the unevenness, and may be any thickness that can be applied to the entire surface of the substrate and makes the surface flat. In this manner, the surface of the substrate having unevenness due to the scratch can be made flat. Here, when an acrylic resin, which is an ultraviolet curable resin, is used as a flattening substance as in the present embodiment, there is a concern that the liquid crystal may be deteriorated by ultraviolet rays. The application of the oxide film is more preferably the SOG film used in the first embodiment.

【0033】なお、上述の各実施の形態における、所望
の膜厚を得るための、平坦化物質の粘度、塗布回数等を
変更しても同様の効果が得られる。また、上記実施の形
態においては、凹凸を生じていない基板にはレジスト膜
36を形成したが、基板表面が保護でき、平坦化膜形成
後に容易に剥がせるフィルム等を貼り付けても良い。
The same effect can be obtained by changing the viscosity of the flattening substance, the number of times of application, and the like for obtaining a desired film thickness in each of the above-described embodiments. Further, in the above embodiment, the resist film 36 is formed on the substrate having no unevenness. However, a film or the like which can protect the substrate surface and can be easily peeled off after the formation of the flattening film may be attached.

【0034】更に、本実施の形態においては、TFTを
形成した基板に平坦化膜を形成した場合について説明し
たが、本発明は、図7に示す如くそのTFTを形成した
基板に対向した基板12に形成する場合にも同様に塗布
することができ、同様の効果を得ることができる。更
に、TFTを備えたいわゆるアクティブマトリクス液晶
表示装置について説明したが、単純マトリクス型液晶表
示装置においても同様に実施が可能であり同様の効果が
得られる。
Further, in this embodiment, the case where the flattening film is formed on the substrate on which the TFT is formed has been described. However, as shown in FIG. Can be applied in the same manner, and the same effect can be obtained. Furthermore, the so-called active matrix liquid crystal display device having a TFT has been described. However, the present invention can be similarly applied to a simple matrix liquid crystal display device, and the same effects can be obtained.

【0035】図8に単純マトリックス型液晶表示装置に
適用した場合の断面図を示す。まず、一方のガラス基板
について説明する。一方のガラス基板1上には、ITO
(Indium Tin Oxide)等からなる透明電極40がストライ
プ状にパターニングされて形成されている。その上の液
晶11に接する面には、液晶11を配向させるためのポ
リイミド等の有機樹脂からなる配向膜10を形成する。
この透明電極40のストライプの方向は、後述のカラー
フィルタ41のストライプの方向と直角に配置してあ
る。
FIG. 8 is a cross-sectional view when applied to a simple matrix type liquid crystal display device. First, one glass substrate will be described. On one glass substrate 1, ITO
A transparent electrode 40 made of (Indium Tin Oxide) or the like is formed by being patterned in a stripe shape. An alignment film 10 made of an organic resin such as polyimide for aligning the liquid crystal 11 is formed on a surface in contact with the liquid crystal 11 thereon.
The direction of the stripe of the transparent electrode 40 is arranged at right angles to the direction of the stripe of the color filter 41 described later.

【0036】そして、この一方のガラス基板1の外側、
即ち液晶11に接しない面側には偏光板16が他方のガ
ラス基板12に設ける偏光板16とクロスニコル位置に
なるように配置してある。次に他方のガラス基板12に
ついて説明する。他方のガラス基板12上には、赤色、
緑色、青色及び黒色を備えたカラーフィルタ41、透明
絶縁膜42、透明電極43及び配向膜10が順次形成さ
れている。
Then, outside the one glass substrate 1,
That is, the polarizing plate 16 is disposed on the side not in contact with the liquid crystal 11 so as to be in a crossed Nicol position with the polarizing plate 16 provided on the other glass substrate 12. Next, the other glass substrate 12 will be described. On the other glass substrate 12, red,
A color filter 41 having green, blue, and black colors, a transparent insulating film 42, a transparent electrode 43, and an alignment film 10 are sequentially formed.

【0037】この他方のガラス基板12に凹凸が生じた
場合に、その上に平坦化膜(SOG膜あるいはアクリル
樹脂膜)を前述のアクティブマトリクス型液晶表示装置
の場合と同様に塗布して平坦にする。そうすると、凹凸
をなくすことができるとともにその基板上に貼り付ける
偏光板16も貼り付け時に気泡を含むことなく均一に貼
ることができる。
When irregularities are formed on the other glass substrate 12, a flattening film (SOG film or acrylic resin film) is applied on the other glass substrate 12 in the same manner as in the case of the active matrix type liquid crystal display device described above. I do. Then, the unevenness can be eliminated, and the polarizing plate 16 to be stuck on the substrate can be stuck uniformly without containing bubbles at the time of stuck.

【0038】ここで、本発明の基板平坦化方法にて製造
した液晶パネルを液晶プロジェクタに用いた場合につい
て説明する。図9に液晶表示パネルのガラス基板に傷が
生じた場合の液晶プロジェクタの一部概略図を示す。図
9に示す如く、光源方向から進んできた光は、集光レン
ズ20を透過して液晶表示パネル21を透過し、更に投
影レンズ24に集光された後、スクリーン31に拡大投
影されるが、その際、液晶表示パネル21のガラス基板
12上の傷15に焦点が合った場合(図中点線b)で
も、実際の表示33とともにその傷15が拡大投影され
てスクリーン31上に投影されることはなく、表示に悪
影響を与えることはなく、高品質の表示を得ることがで
きる。
Here, a case where the liquid crystal panel manufactured by the substrate flattening method of the present invention is used for a liquid crystal projector will be described. FIG. 9 is a partial schematic view of a liquid crystal projector when a glass substrate of a liquid crystal display panel is damaged. As shown in FIG. 9, the light traveling from the light source direction passes through the condenser lens 20, passes through the liquid crystal display panel 21, is further focused on the projection lens 24, and is enlarged and projected on the screen 31. At this time, even when the flaw 15 on the glass substrate 12 of the liquid crystal display panel 21 is focused (dotted line b in the drawing), the flaw 15 is enlarged and projected together with the actual display 33 and projected on the screen 31. There is no adverse effect on the display, and a high-quality display can be obtained.

【0039】[0039]

【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、製造工程
中に基板表面に傷が生じた場合に、該基板表面全面に平
坦化物質を塗布することにより、傷の凹凸をなくすこと
ができるとともに基板表面が平坦になるため、従来の基
板研磨と比較してより生産性に優れ、かつ容易に凹凸を
なくすことができる。
As described above, according to the present invention, when a scratch is generated on the substrate surface during the manufacturing process, the unevenness of the scratch can be eliminated by applying a flattening substance to the entire surface of the substrate. Since the substrate surface can be flattened, the productivity is higher and the unevenness can be easily eliminated as compared with the conventional substrate polishing.

【0040】また、本発明によれば、液晶表示パネルあ
るいは液晶プロジェクタに用いた場合、高品質の表示を
得ることができる。
According to the present invention, when used in a liquid crystal display panel or a liquid crystal projector, a high quality display can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】液晶表示パネルの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display panel.

【図2】本発明の実施形態を示す概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view showing an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施形態を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施形態を示す断面図である。FIG. 7 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施形態を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施形態を示す概略一部断面図であ
る。
FIG. 9 is a schematic partial sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図10】一般的な液晶プロジェクタの概略断面図であ
る。
FIG. 10 is a schematic sectional view of a general liquid crystal projector.

【図11】液晶表示パネルの平面図である。FIG. 11 is a plan view of the liquid crystal display panel.

【図12】液晶表示パネルの断面図である。FIG. 12 is a sectional view of a liquid crystal display panel.

【図13】従来の実施形態を示す概略一部断面図であ
る。
FIG. 13 is a schematic partial sectional view showing a conventional embodiment.

【図14】従来の液晶表示パネルの断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 12 ガラス基板 15 凹凸 16 偏光板 34 SOG膜 38 アクリル樹脂膜 39 紫外線照射 Reference Signs List 1 glass substrate 12 glass substrate 15 unevenness 16 polarizing plate 34 SOG film 38 acrylic resin film 39 ultraviolet irradiation

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の全表面に平坦化物質を塗布するこ
とを特徴とする基板平坦化方法。
1. A method for flattening a substrate, comprising applying a flattening substance to the entire surface of the substrate.
【請求項2】 前記平坦化物質は、該平坦化物質の屈折
率が塗布する基板の屈折率とほぼ等しい材料であること
を特徴とする請求項1に記載の基板平坦化方法。
2. The method according to claim 1, wherein the planarizing material is a material having a refractive index of the planarizing material substantially equal to a refractive index of a substrate to be coated.
【請求項3】 前記基板がガラスまたはアクリル樹脂か
らなることを特徴とする請求項1または2に記載の基板
平坦化方法。
3. The method according to claim 1, wherein the substrate is made of glass or acrylic resin.
【請求項4】 前記平坦化物質が、SOG膜またはアク
リル樹脂であることを特徴とする請求項1乃至3に記載
の基板平坦化方法。
4. The method according to claim 1, wherein the planarizing material is an SOG film or an acrylic resin.
【請求項5】 互いに対向させてなりいずれか一方の基
板に凹凸を有する一対の基板と、該一対の基板の周辺部
に設けた接着材料とによる空隙に液晶材料を充填してな
る液晶表示パネルにおいて、 前記一対の基板のうち凹凸を有する基板の全表面に表面
平坦化物質を塗布したことを特徴とする液晶表示パネ
ル。
5. A liquid crystal display panel in which a liquid crystal material is filled in a gap between a pair of substrates facing each other and having unevenness on one of the substrates and an adhesive material provided on the periphery of the pair of substrates. 3. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a surface flattening substance is applied to all surfaces of the substrate having irregularities among the pair of substrates.
【請求項6】 互いに対向させてなりいずれか一方の基
板に凹凸を有する一対の基板と、該一対の基板の周辺部
に設けた接着材料とによる空隙に液晶材料を充填してな
る液晶表示パネルにおいて、 前記一対の基板のうち凹凸を有する基板の全表面に該基
板とほぼ屈折率の等しい表面平坦化物質を塗布したこと
を特徴とする液晶表示パネル。
6. A liquid crystal display panel in which a liquid crystal material is filled in a gap formed by a pair of substrates facing each other and having unevenness on one of the substrates and an adhesive material provided on the periphery of the pair of substrates. 3. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a surface flattening substance having substantially the same refractive index as that of the substrate is applied to the entire surface of the substrate having irregularities among the pair of substrates.
【請求項7】 前記請求項5または請求項6に記載の液
晶表示パネルを用いたことを特徴とする液晶プロジェク
タ。
7. A liquid crystal projector using the liquid crystal display panel according to claim 5 or 6.
JP14223097A 1997-05-30 1997-05-30 Substrate flatening method, liquid crystal display panel and liquid crystal projector Pending JPH10333132A (en)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006011436A (en) * 2004-06-25 2006-01-12 Kofukin Seimitsu Kogyo (Shenzhen) Yugenkoshi Glass substrate for liquid crystal sealing, its manufacturing method and the liquid crystal display
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