JP2003021092A - Vacuum pump - Google Patents

Vacuum pump

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JP2003021092A
JP2003021092A JP2001202297A JP2001202297A JP2003021092A JP 2003021092 A JP2003021092 A JP 2003021092A JP 2001202297 A JP2001202297 A JP 2001202297A JP 2001202297 A JP2001202297 A JP 2001202297A JP 2003021092 A JP2003021092 A JP 2003021092A
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Japan
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rotor
peripheral surface
pump case
vacuum pump
balancing hole
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Withdrawn
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JP2001202297A
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Japanese (ja)
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Yasushi Maejima
靖 前島
Yuko Sakaguchi
祐幸 坂口
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Original Assignee
BOC Edwards Technologies Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum pump capable of preventing breakdown of a rotor due to corrosion and preventing damage due to contact between the rotor and the fixed side by reducing deposition of products. SOLUTION: This vacuum pump comprises a pump case 1 opening a gas intake port in the upper surface, a rotor shaft 5 rotatably supported in the pump case 1, a plurality of rotor blades 10, 10, etc., that are stored in the pump case 1 and disposed on the outer peripheral surface 8a of the rotor 8 fixed to the rotor shaft 5, a plurality of stator blades 11, 11, etc., that are positioned alternately among the plurality of rotor blades 10, 10, etc., and fixed in the pump case 1, and a driving motor 9 for rotating the rotor shaft 5. Corrosion preventing film layers 15 are formed on the inner peripheral surface 8b and the outer peripheral surface 8a of the rotor 8, part of the inner peripheral surface 8b or the outer peripheral surface 8a of the rotor 8 is scraped to form a balancing hole 16, and a thermosetting resin film layer 17 is formed on the surface of the balancing hole 16 as an anticorrosion treatment.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置、
電子顕微鏡、表面分析装置、質量分析装置、粒子加速
器、核融合実験装置等に用いられる真空ポンプに関し、
特に、半導体製造装置のように耐腐食処理が必要となる
真空ポンプに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus,
Regarding vacuum pumps used in electron microscopes, surface analyzers, mass spectrometers, particle accelerators, nuclear fusion experimental devices, etc.
In particular, the present invention relates to a vacuum pump that requires anticorrosion treatment such as a semiconductor manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体製造工程におけるドライエ
ッチングやCVD等のプロセスのように、高真空のプロ
セスチャンバ内で処理を行なう工程では、プロセスチャ
ンバ内のガスを排気して一定の高真空度を形成する手段
として、例えばターボ分子ポンプのような真空ポンプが
用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in processes such as dry etching and CVD in semiconductor manufacturing processes, in which a process is carried out in a high vacuum process chamber, the gas in the process chamber is evacuated to a certain degree of high vacuum. A vacuum pump such as a turbo molecular pump is used as a forming means.

【0003】この種の真空ポンプの回転体は、通常アル
ミ合金で形成されているが、半導体製造工程のように塩
素や硫化フッ素系の腐食性ガスにさらされる過酷な環境
下で使用される真空ポンプの場合、アルミ合金で形成さ
れている回転体の表面に、ニッケルりん合金めっきのよ
うな腐食防止皮膜をコーティングして耐腐食処理を施し
ている。
The rotating body of this type of vacuum pump is usually made of an aluminum alloy, but it is used in a harsh environment exposed to chlorine or fluorine sulfide-based corrosive gas as in the semiconductor manufacturing process. In the case of a pump, the surface of a rotating body made of an aluminum alloy is coated with a corrosion prevention film such as nickel-phosphorus alloy plating for anticorrosion treatment.

【0004】一方、上記のような回転体を有する真空ポ
ンプにおいては、ポンプ組立製造段階で、回転体の高速
回転時のバランス取りを行なう必要が生じる。このよう
なバランス取りの手段としては、一般に、ドリルやリュ
ータ等の加工刃具を用いて回転体の外周面や内周面を一
部削り取ることによって回転体の質量を変化させてバラ
ンスの微調整を行なう方法が知られている。
On the other hand, in the vacuum pump having the rotating body as described above, it is necessary to balance the rotating body at a high speed during the pump assembly and manufacturing stage. As such a balancing means, generally, a fine adjustment of the balance is performed by changing the mass of the rotating body by partially scraping off the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the rotating body using a processing blade such as a drill or a lute. It is known how to do it.

【0005】しかしながら、上記のような削り取りによ
るバランス取りは、耐腐食処理後に行なわれており、ド
リルやリュータ等の加工刃具によって回転体の表面にコ
ーティングされた腐食防止皮膜の一部が削り取られてし
まうため、回転体本体のアルミ合金が露出した削り取り
部分に腐食性ガスによる腐食が発生し、回転体の高速回
転により削り取り部分の応力腐食亀裂が進行し、最悪の
場合、回転体破壊に繋がり、真空ポンプ外部にも影響を
及ぼすことがある。
However, the above-mentioned shaving balance is carried out after the corrosion resistance treatment, and a part of the corrosion prevention film coated on the surface of the rotating body is scraped off by a processing blade such as a drill or a lute. Therefore, corrosion due to corrosive gas occurs in the scraped part where the aluminum alloy of the rotating body is exposed, stress corrosion cracking of the scraping part progresses due to high speed rotation of the rotating body, and in the worst case, it leads to destruction of the rotating body, It may also affect the outside of the vacuum pump.

【0006】また、バランス取りした削り取り部分は、
上記のように回転体本体のアルミ合金が露出しており、
半導体製造工程におけるウエハ表面をエッチングした削
りカス等が真空ポンプ内に混入すると、この削りカスが
削り取り部分のアルミ表面に付着し、生成物として堆積
する。
In addition, the balanced scraped portion is
As mentioned above, the aluminum alloy of the rotating body is exposed,
When shavings and the like obtained by etching the wafer surface in the semiconductor manufacturing process are mixed in the vacuum pump, the shavings adhere to the aluminum surface of the scraped portion and are deposited as a product.

【0007】堆積した生成物の表面にはさらに削りカス
が堆積し易く、このように回転体表面に生成物の堆積の
連鎖が進行すると、真空ポンプの固定側と回転体との隙
間が狭くなり、回転体に堆積した生成物と固定側とが接
触すると固定側に致命的な損傷を与える恐れがある。
Shavings are more likely to accumulate on the surface of the accumulated product, and when the chain of product accumulation progresses on the surface of the rotating body in this way, the gap between the fixed side of the vacuum pump and the rotating body becomes narrow. If the product accumulated on the rotating body comes into contact with the fixed side, the fixed side may be fatally damaged.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、腐食による回転体破壊を防止でき、かつ、生
成物の堆積を減少させ回転体と固定側との接触による損
傷を防止することができる真空ポンプを提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to prevent destruction of a rotor due to corrosion and to accumulate a product. (EN) Provided is a vacuum pump capable of reducing damage and preventing damage due to contact between a rotating body and a fixed side.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る真空ポンプは、上面にガス吸気口を開
口したポンプケースと、上記ポンプケース内に回転可能
に支持されたロータ軸と、上記ポンプケース内に収容さ
れ、上記ロータ軸に固定されたロータの外周面に設けら
れた複数枚のロータ翼と、上記複数枚のロータ翼間に交
互に位置決めされ、上記ポンプケース内に固定された複
数枚のステータ翼と、上記ロータ軸を回転させるための
駆動モータと、上記ロータ表面に腐食防止皮膜層が形成
され、かつ、上記ロータの内周面または外周面の一部を
削り取ることにより形成されたバランス取り穴と、を具
備し、上記バランス取り穴に耐腐食処理が施されている
ことを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, a vacuum pump according to the present invention comprises a pump case having a gas intake port opened on its upper surface, and a rotor shaft rotatably supported in the pump case. And a plurality of rotor blades housed in the pump case and provided on the outer peripheral surface of the rotor fixed to the rotor shaft, and the rotor blades are alternately positioned between the plurality of rotor blades, and are arranged in the pump case. A plurality of fixed stator blades, a drive motor for rotating the rotor shaft, a corrosion prevention film layer formed on the rotor surface, and a part of the inner or outer peripheral surface of the rotor is shaved off. And a balancing hole formed by the above, and the balancing hole is subjected to a corrosion resistance treatment.

【0010】ここで、耐腐食処理とは、上記バランス取
り穴表面に、熱硬化性樹脂皮膜層を形成するものであ
る。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂やフ
ッ素樹脂等の耐熱性および耐腐食性に優れた合成樹脂を
用いることができる。
Here, the term "corrosion-resistant treatment" means that a thermosetting resin film layer is formed on the surface of the balancing hole. As the thermosetting resin, for example, a synthetic resin having excellent heat resistance and corrosion resistance such as epoxy resin or fluororesin can be used.

【0011】また、本発明に係る真空ポンプは、上面に
ガス吸気口を開口したポンプケースと、上記ポンプケー
ス内に回転可能に支持されたロータ軸と、上記ポンプケ
ース内に収容され、上記ロータ軸に固定されたロータの
外周面に設けられた複数枚のロータ翼と、上記複数枚の
ロータ翼間に交互に位置決めされ、上記ポンプケース内
に固定された複数枚のステータ翼と、上記ロータ軸を回
転させるための駆動モータと、上記ロータの内周面また
は外周面の一部を削り取ることにより形成されたバラン
ス取り穴と、を具備し、上記ロータ内周面および外周面
に腐食防止皮膜層が形成されていることを特徴とするも
のである。
Further, the vacuum pump according to the present invention has a pump case having a gas inlet opening on an upper surface thereof, a rotor shaft rotatably supported in the pump case, and the rotor case housed in the pump case. A plurality of rotor blades provided on the outer peripheral surface of the rotor fixed to the shaft, a plurality of stator blades alternately positioned between the plurality of rotor blades and fixed in the pump case, and the rotor A drive motor for rotating the shaft, and a balancing hole formed by cutting off a part of the inner peripheral surface or the outer peripheral surface of the rotor, and a corrosion prevention film on the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the rotor. It is characterized in that a layer is formed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る真空ポンプの
実施形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a vacuum pump according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0013】図1は本発明に係る真空ポンプの第1の実
施形態の構成を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view showing the structure of the first embodiment of the vacuum pump according to the present invention.

【0014】同図に示すように、本実施形態における真
空ポンプPは、円筒部1−1とその下端に取り付けられ
たベース1−2とからなるポンプケース1と、ポンプケ
ース1内部に収容されたポンプ機構部とから大略構成さ
れている。
As shown in FIG. 1, the vacuum pump P in this embodiment is housed inside the pump case 1 and a pump case 1 composed of a cylindrical portion 1-1 and a base 1-2 attached to the lower end thereof. And a pump mechanism section.

【0015】ポンプケース1の上面は開口されていて、
ガス吸気口2となっており、ガス吸気口2には図示しな
いプロセスチャンバ等の真空容器がボルトによりネジ止
め固定され、ポンプケース1の下部一側面にはガス排気
口3となる排気パイプが設けられている。
The upper surface of the pump case 1 is open,
A gas inlet 2 is provided. A vacuum container such as a process chamber (not shown) is screwed and fixed to the gas inlet 2, and an exhaust pipe serving as the gas outlet 3 is provided on one lower surface of the pump case 1. Has been.

【0016】ポンプケース1の下部底面は裏蓋1−3で
蓋されており、裏蓋1−3上方には、ポンプケース1内
部に向かって立設するステータコラム4がベース1−2
にネジ止め固定されている。
The lower bottom surface of the pump case 1 is covered with a back cover 1-3, and above the back cover 1-3, a stator column 4 standing upright inside the pump case 1 is provided as a base 1-2.
It is fixed with screws.

【0017】ステータコラム4には、その端面間を貫通
するロータ軸5が回転可能となるように、ステータコラ
ム4内部に設けられたラジアル方向電磁石6−1,軸方
向電磁石6−2により、ロータ軸5のラジアル方向およ
び軸方向にそれぞれ軸受支持されている。なお、符号7
はドライ潤滑剤が塗布されたボールベアリングであり、
上記磁気軸受の電源異常時に、ロータ軸5と電磁石6−
1,6−2とが接触するのを保護し、ロータ軸5を支持
するためのものであり、通常運転時にはロータ軸5には
接触していない。
The stator column 4 is provided with a radial electromagnet 6-1 and an axial electromagnet 6-2 provided inside the stator column 4 so that the rotor shaft 5 penetrating between the end surfaces thereof can rotate. Bearings are supported in the radial direction and the axial direction of the shaft 5, respectively. Note that reference numeral 7
Is a ball bearing coated with dry lubricant,
When the power supply of the magnetic bearing is abnormal, the rotor shaft 5 and the electromagnet 6-
This is to protect the rotor shaft 5 from contacting the rotor shafts 1 and 6-2, and does not contact the rotor shaft 5 during normal operation.

【0018】ポンプケース1内部には、円筒型に成形さ
れたロータ8がステータコラム4を包囲するように配置
され、ロータ8上端はガス吸気口2付近まで延長されて
おり、ボルトによりロータ軸5にネジ止め固定されてい
る。
A cylindrical rotor 8 is arranged inside the pump case 1 so as to surround the stator column 4. The upper end of the rotor 8 extends to the vicinity of the gas intake port 2, and the rotor shaft 5 is fixed by a bolt. It is fixed with screws.

【0019】ロータ軸5の軸方向略中央部には、ロータ
軸5とステータコラム4との間に、高周波モータ等から
なる駆動モータ9が配設されており、ロータ軸5とロー
タ8とは駆動モータ9により高速回転するように構成さ
れている。
A drive motor 9 such as a high frequency motor is arranged between the rotor shaft 5 and the stator column 4 at a substantially central portion of the rotor shaft 5 in the axial direction. The drive motor 9 is configured to rotate at high speed.

【0020】また、本実施形態における真空ポンプPの
ポンプ機構部は、ポンプケース1内部に収容され、ロー
タ8外周面とポンプケース1内周面との間における上方
半分のターボ分子ポンプ機構部PA と、下方半分のネジ
溝ポンプ機構部PB とから構成された複合型のポンプ機
構を採用している。
Further, the pump mechanism portion of the vacuum pump P in this embodiment is housed inside the pump case 1, and the upper half of the turbo molecular pump mechanism portion P between the outer peripheral surface of the rotor 8 and the inner peripheral surface of the pump case 1 is arranged. A composite pump mechanism composed of A and a screw groove pump mechanism portion P B in the lower half is adopted.

【0021】ターボ分子機構部PA は、高速回転するロ
ータ翼10と、固定され、静止しているステータ翼11
とにより構成されている。
The turbo molecular mechanism unit P A comprises a rotor blade 10 rotating at high speed and a stator blade 11 fixed and stationary.
It is composed of and.

【0022】すなわち、ロータ8の上方半分の外周面に
は、ガス吸気口2側からロータ8の回転中心軸線L方向
にかけて加工された複数枚のブレード状のロータ翼1
0,10,…が設けられており、ポンプケース1の上方
半分の内周面には、複数枚のロータ翼10,10,…間
に交互に配設された複数枚のステータ翼11,11,…
が形成され、スペーサ12,12,…を介して固定され
ている。
That is, on the outer peripheral surface of the upper half of the rotor 8, a plurality of blade-shaped rotor blades 1 machined from the gas intake port 2 side in the direction of the rotation center axis L of the rotor 8.
0, 10, ... Are provided, and a plurality of stator blades 11, 11 alternately arranged between the plurality of rotor blades 10, 10, ... Are provided on the inner peripheral surface of the upper half of the pump case 1. 、…
Are formed and are fixed via the spacers 12, 12, ....

【0023】一方、ネジ溝ポンプ機構部PB は、高速回
転するロータ8の円筒面8aと、静止しているネジ溝1
3とにより構成されている。
On the other hand, the thread groove pump mechanism portion P B has a cylindrical surface 8a of the rotor 8 which rotates at a high speed and the thread groove 1 which is stationary.
3 and 3.

【0024】すなわち、ロータ8の下方半分の外周面は
平坦な円筒面8aとなっており、ポンプケース1の下方
半分の内周面には、ロータ8外周の円筒面8aと狭い間
隔で対向する円筒型のネジステータ14が配設され、ネ
ジステータ14にネジ溝13が刻設されている。
That is, the outer peripheral surface of the lower half of the rotor 8 is a flat cylindrical surface 8a, and the inner peripheral surface of the lower half of the pump case 1 faces the outer peripheral cylindrical surface 8a of the rotor 8 at a narrow interval. A cylindrical screw stator 14 is provided, and a screw groove 13 is formed in the screw stator 14.

【0025】なお、ロータ8の下方半分の外周面にネジ
溝13を刻設し、ポンプケース1の下方半分の内周に配
設されたネジステータ14のロータ8対向面を平坦な円
筒面に形成することもできる。
A screw groove 13 is formed on the outer peripheral surface of the lower half of the rotor 8 so that the surface of the screw stator 14 disposed on the inner periphery of the lower half of the pump case 1 facing the rotor 8 is formed into a flat cylindrical surface. You can also do it.

【0026】ところで、本実施形態における真空ポンプ
Pは、半導体製造工程のように塩素や硫化フッ素系の腐
食性ガスにさらされる過酷な環境下で使用されることを
想定し、図2に示すように、アルミ合金等により形成さ
れたロータ8の外周面8aおよび内周面8bに、ニッケ
ルりん合金めっき等のめっきによる腐食防止皮膜層15
を10〜20μm程度の厚みで均一にコーティングする
耐腐食処理が施されている。
By the way, the vacuum pump P in the present embodiment is assumed to be used in a harsh environment exposed to a corrosive gas such as chlorine or fluorine sulfide as in the semiconductor manufacturing process, and as shown in FIG. On the outer peripheral surface 8a and the inner peripheral surface 8b of the rotor 8 formed of aluminum alloy or the like, a corrosion prevention coating layer 15 formed by plating such as nickel phosphorus alloy plating
Is uniformly coated with a thickness of about 10 to 20 μm.

【0027】また、真空ポンプPにおけるロータ軸5、
ロータ8、ロータ翼10からなる回転体の高速回転時の
バランス取りを行なうための手段として、ポンプケース
1の円筒部1−1に固定されたステータ翼11,および
ネジステータ14を一旦取り外し、図2に示すように、
ドリルやリュータ等の加工刃具20を用いてロータ8の
外周面8aまたは内周面8bに形成された腐食防止皮膜
層15の表面を一部削り取ることによりバランス取り穴
16,16,…を形成し、ロータ8の質量を変化させて
回転体のバランス取りの微調整を行なった後に、このバ
ランス取り穴16の表面に耐腐食処理を施すことを特徴
とする。
Further, the rotor shaft 5 in the vacuum pump P,
As a means for balancing the rotating body composed of the rotor 8 and the rotor blades 10 at the time of high speed rotation, the stator blades 11 fixed to the cylindrical portion 1-1 of the pump case 1 and the screw stator 14 are once removed, As shown in
Forming the balancing holes 16, 16, ... By partially cutting off the surface of the corrosion prevention film layer 15 formed on the outer peripheral surface 8a or the inner peripheral surface 8b of the rotor 8 using a machining tool 20 such as a drill or a luteer. After finely adjusting the balance of the rotor by changing the mass of the rotor 8, the surface of the balance hole 16 is subjected to corrosion resistance treatment.

【0028】回転体のバランス取りを行なった後のバラ
ンス取り穴16の表面は、同図に示すように、ロータ8
の外周面8aまたは内周面8b表面にコーティングされ
た腐食防止皮膜層15の一部が削り取られ、ロータ8本
体のアルミ合金の一部が露出した状態である。
The surface of the balancing hole 16 after balancing the rotor is, as shown in FIG.
A part of the corrosion-preventing film layer 15 coated on the outer peripheral surface 8a or the inner peripheral surface 8b is scraped off, and a part of the aluminum alloy of the rotor 8 main body is exposed.

【0029】したがって、このバランス取り穴16のア
ルミ合金表面の応力腐食亀裂および生成物の堆積を防止
するために、図3に示すように、バランス取り穴16の
表面には、エポキシ樹脂またはフッ素樹脂等の耐熱性お
よび耐腐食性に優れた熱硬化性樹脂皮膜層17を形成す
る。
Therefore, in order to prevent stress corrosion cracking and product accumulation on the aluminum alloy surface of the balancing hole 16, as shown in FIG. 3, the surface of the balancing hole 16 is covered with epoxy resin or fluororesin. A thermosetting resin film layer 17 having excellent heat resistance and corrosion resistance is formed.

【0030】上記のような熱硬化性樹脂は、金属材に対
する接着性が良好で、ロータ8の内周面8bや外周面8
aのような曲面に対しても強度な接着力を有しているた
め、回転体の遠心力によって剥がれることはなく、ま
た、優れた酸素遮断性を有しているため、熱硬化性樹脂
皮膜層17をバランス取り穴16の表面に形成するだけ
の比較的簡単な方法で耐腐食処理を行なうことができ
る。
The thermosetting resin as described above has good adhesiveness to a metal material, and the inner peripheral surface 8b and the outer peripheral surface 8 of the rotor 8 are
Since it has a strong adhesive force even on a curved surface such as a, it does not peel off due to the centrifugal force of the rotating body, and has an excellent oxygen barrier property, so that it is a thermosetting resin film. The anticorrosion treatment can be performed by a relatively simple method in which the layer 17 is formed on the surface of the balancing hole 16.

【0031】熱硬化性樹脂皮膜層17の形成方法として
は、公知のスプレーガン等により吹付塗工し、ロータ8
を常温または所要温度に加熱して経時硬化させることに
より、少なくともバランス取り穴16のアルミ合金表面
に10〜20μmの厚みで均一に塗膜する。
As the method for forming the thermosetting resin film layer 17, the rotor 8 is formed by spray coating with a known spray gun or the like.
Is heated to room temperature or a required temperature to be hardened with time, so that at least a film having a thickness of 10 to 20 μm is uniformly coated on the surface of the aluminum alloy in the balancing hole 16.

【0032】熱硬化性樹脂皮膜層17を厚膜に形成すれ
ば、耐腐食性能は向上し、長期に亘りバランス取り穴1
6の腐食を防止することができるが、製造コストが嵩む
上に、ロータ8の外周面8aとネジステータ14間の隙
間が狭くなり、真空ポンプの回転体と固定側とが接触
し、固定側が損傷してしまうという理由から、上記範囲
内の膜厚が適切である。
If the thermosetting resin film layer 17 is formed as a thick film, the corrosion resistance is improved and the balancing hole 1 is provided for a long period of time.
Although the corrosion of 6 can be prevented, the manufacturing cost is increased and the gap between the outer peripheral surface 8a of the rotor 8 and the screw stator 14 is narrowed, the rotating body of the vacuum pump and the fixed side are in contact with each other, and the fixed side is damaged. Therefore, the film thickness within the above range is appropriate.

【0033】また、硬化乾燥後の熱硬化性樹脂皮膜層1
7の重量は、バランス取り穴16数個に対して1〜10
mg程度に設定され、この熱硬化性樹脂皮膜層17の重
量の増加分を考慮して、バランス取りのための削り取り
を若干量余分に行なった後に合成樹脂皮膜層17を形成
する必要がある。
The thermosetting resin film layer 1 after curing and drying
The weight of 7 is 1 to 10 for 16 balancing holes.
It is necessary to form the synthetic resin film layer 17 after setting the amount to about mg, and taking into account the increase in the weight of the thermosetting resin film layer 17, performing a slight amount of shaving for balancing.

【0034】このように、本実施形態における真空ポン
プによれば、ロータ8の外周面8aまたは内周面8b表
面に形成されたバランス取り穴16のアルミ合金表面
は、耐腐食処理として熱硬化性樹脂皮膜層17により被
覆されているため、バランス取り穴16のアルミ合金表
面に腐食性ガスによる腐食が発生せず、回転体の高速回
転によるバランス穴の応力腐食亀裂を防止でき、腐食に
よるロータ破壊を未然に防止することができる。
As described above, according to the vacuum pump of the present embodiment, the aluminum alloy surface of the balancing hole 16 formed on the surface of the outer peripheral surface 8a or the inner peripheral surface 8b of the rotor 8 is thermoset as a corrosion resistant treatment. Since it is covered with the resin film layer 17, corrosion due to corrosive gas does not occur on the aluminum alloy surface of the balancing hole 16, stress corrosion cracking of the balancing hole due to high speed rotation of the rotor can be prevented, and rotor damage due to corrosion can be destroyed. Can be prevented in advance.

【0035】また、上記のように、バランス取り穴16
のアルミ合金表面は、耐腐食処理として、熱硬化性樹脂
皮膜層17を薄膜に形成でき、かつ、アルミ合金に付着
する生成物の堆積を減少させることができるため、回転
体と固定側との接触による損傷を防止することができ
る。
Further, as described above, the balancing hole 16
Since the thermosetting resin film layer 17 can be formed into a thin film as the anticorrosion treatment on the aluminum alloy surface of and the deposition of the product adhering to the aluminum alloy can be reduced, the rotating body and the fixed side can be It is possible to prevent damage due to contact.

【0036】次に、本発明に係る真空ポンプの第2の実
施形態について図4に基づき説明する。
Next, a second embodiment of the vacuum pump according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0037】本実施形態における真空ポンプの基本的な
構成については、図1に示した真空ポンプと同様である
ので、同一部材には同一符号を付してその詳細な説明は
省略する。
The basic structure of the vacuum pump in this embodiment is the same as that of the vacuum pump shown in FIG. 1. Therefore, the same members are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.

【0038】本実施形態における真空ポンプは、図4に
示すように、ロータ8の内周面8bまたは外周面8aの
一部を削り取ることにより形成されたバランス取り穴1
6と、ロータ8の内周面8bおよび外周面8aに腐食防
止皮膜層15が形成されていることを特徴とするもので
ある。
As shown in FIG. 4, the vacuum pump in this embodiment has a balancing hole 1 formed by cutting off a part of the inner peripheral surface 8b or the outer peripheral surface 8a of the rotor 8.
6, and the corrosion prevention coating layer 15 is formed on the inner peripheral surface 8b and the outer peripheral surface 8a of the rotor 8.

【0039】すなわち、本実施形態では、アルミ合金等
により形成されたロータ8の外周面8aまたは内周面8
bの一部をドリルやリュータ等の加工刃具20を用いて
削り取り、ロータ8の質量を変化させて回転体のバラン
ス取りの微調整を行なった後に、ニッケルりん合金めっ
き等のめっきによる腐食防止皮膜層15を10〜20μ
m程度の厚みで均一にコーティングし、ロータ8および
バランス取り穴16に同時に耐腐食処理を施すこととし
たものである。
That is, in this embodiment, the outer peripheral surface 8a or the inner peripheral surface 8 of the rotor 8 formed of aluminum alloy or the like is used.
A part of b is scraped off by using a cutting tool 20 such as a drill or a luter, the mass of the rotor 8 is changed to finely adjust the balance of the rotor, and then a corrosion prevention film is formed by plating such as nickel phosphorus alloy plating. Layer 15 to 10-20μ
The coating is uniformly applied to a thickness of about m, and the rotor 8 and the balancing hole 16 are simultaneously subjected to anticorrosion treatment.

【0040】このように、本実施形態における真空ポン
プによれば、上述した第1の実施形態における効果に加
え、バランス取り穴16の耐腐食処理のために、熱硬化
性樹脂皮膜層17を形成するための工程を省略すること
ができ、バランス取り穴16の耐腐食処理を簡素化する
ことができるとともに、耐腐食処理における真空ポンプ
の製造コストの低減を図ることができる。
As described above, according to the vacuum pump of the present embodiment, in addition to the effects of the first embodiment described above, the thermosetting resin film layer 17 is formed for the anticorrosion treatment of the balancing hole 16. It is possible to omit the process for doing so, it is possible to simplify the anticorrosion treatment of the balancing hole 16, and it is possible to reduce the manufacturing cost of the vacuum pump in the anticorrosion treatment.

【0041】また、上記のようにバランス取りを行なっ
た後に腐食防止皮膜層15をロータ8表面全体に均一に
形成することになるため、バランス取りの調整のための
余分な削り取りは必要ない。
Further, since the corrosion prevention film layer 15 is uniformly formed on the entire surface of the rotor 8 after performing the balancing as described above, no extra shaving is necessary for adjusting the balancing.

【0042】なお、上述した実施形態においては、本発
明をターボ分子ポンプに適用した例について説明した
が、ドラックポンプ等、回転体の回転を利用したその他
のポンプにも適用できることは勿論、バランス取り穴の
形成箇所についても、設計上、適宜変更が可能である。
In the above-described embodiment, an example in which the present invention is applied to a turbo-molecular pump has been described, but it is of course applicable to other pumps using the rotation of a rotating body, such as a drag pump, as well as balancing. The place where the hole is formed can be appropriately changed in design.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る真空ポンプによれば、以下のような効果を奏する。
As described above in detail, the vacuum pump according to the present invention has the following effects.

【0044】(1)ロータ表面に形成されたバランス取
り穴のアルミ合金表面に腐食性ガスによる腐食が発生せ
ず、回転体の高速回転によるバランス取り穴の応力腐食
亀裂を防止でき、腐食によるロータ破壊を未然に防止す
ることができるという効果を奏する。
(1) Corrosion due to corrosive gas does not occur on the aluminum alloy surface of the balancing hole formed on the rotor surface, stress corrosion cracking of the balancing hole due to high speed rotation of the rotor can be prevented, and the rotor due to corrosion can be prevented. This has the effect of preventing destruction in advance.

【0045】(2)バランス取り穴のアルミ合金表面
は、耐腐食処理として、熱硬化性樹脂皮膜層を薄膜に形
成でき、かつ、アルミ合金に付着する生成物の堆積を減
少させることができるため、回転体と固定側との接触に
よる損傷を防止することができるという効果を奏する。
(2) On the surface of the aluminum alloy of the balancing hole, a thermosetting resin film layer can be formed into a thin film as a corrosion resistant treatment, and the deposition of products adhering to the aluminum alloy can be reduced. Therefore, it is possible to prevent damage due to contact between the rotating body and the fixed side.

【0046】(3)バランス取りを行なった後に、腐食
防止皮膜をロータ表面全体に均一に形成する構成を採用
すれば、バランス取り穴の耐腐食処理を簡素化すること
ができるとともに、耐腐食処理における真空ポンプの製
造コストの低減を図ることができるという効果を奏す
る。
(3) By adopting a structure in which the corrosion prevention film is uniformly formed on the entire rotor surface after the balancing is performed, the corrosion resistance treatment of the balancing holes can be simplified and the corrosion resistance treatment can be performed. It is possible to reduce the manufacturing cost of the vacuum pump.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る真空ポンプの第1の実施形態の構
成を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing the configuration of a first embodiment of a vacuum pump according to the present invention.

【図2】図1に示した真空ポンプの要部拡大断面図であ
り、ロータに加工刃具を用いてバランス取り穴を形成す
る例を説明する図である。
2 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the vacuum pump shown in FIG. 1, illustrating an example of forming a balancing hole in a rotor by using a working blade.

【図3】図1に示した真空ポンプの要部拡大断面図であ
り、ロータのバランス取り穴に耐腐食処理を施した後の
状態を示す図である。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the vacuum pump shown in FIG. 1, showing a state after the anticorrosion treatment is applied to the balancing holes of the rotor.

【図4】図1に示した真空ポンプの要部拡大断面図であ
り、ロータのバランス取り穴に施す耐腐食処理の第2の
実施形態を示す図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the vacuum pump shown in FIG. 1, showing a second embodiment of the anticorrosion treatment applied to the balancing holes of the rotor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ポンプケース 1−1 円筒部 1−2 ベース 1−3 裏蓋 2 ガス吸気口 3 ガス排気口 4 ステータコラム 5 ロータ軸 6−1 ラジアル方向電磁石(磁気軸受) 6−2 軸方向電磁石(磁気軸受) 7 ボールベアリング(保護用軸受) 8 ロータ 8a ロータ外周面(円筒面) 8b ロータ内周面 9 駆動モータ 10 ロータ翼 11 ステータ翼 12 スペーサ 13 ネジ溝 14 ネジステータ 15 腐食防止皮膜層 16 バランス取り穴 17 熱硬化性樹脂皮膜層 20 加工刃具 P 真空ポンプ PA ターボ分子機構部 PB ネジ溝ポンプ機構部1 Pump Case 1-1 Cylindrical Part 1-2 Base 1-3 Back Cover 2 Gas Intake Port 3 Gas Exhaust Port 4 Stator Column 5 Rotor Shaft 6-1 Radial Direction Electromagnet (Magnetic Bearing) 6-2 Axial Electromagnet (Magnetic Bearing) ) 7 ball bearing (protective bearing) 8 rotor 8a rotor outer peripheral surface (cylindrical surface) 8b rotor inner peripheral surface 9 drive motor 10 rotor blade 11 stator blade 12 spacer 13 screw groove 14 screw stator 15 corrosion prevention film layer 16 balancing hole 17 Thermosetting resin film layer 20 Processing blade P Vacuum pump P A Turbo molecular mechanism P B Thread groove pump mechanism

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3H022 AA01 BA04 CA54 CA55 DA14 3H031 AA06 BA01 CA01 DA02 EA09 FA01    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 3H022 AA01 BA04 CA54 CA55 DA14                 3H031 AA06 BA01 CA01 DA02 EA09                       FA01

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 上面にガス吸気口を開口したポンプケー
スと、 上記ポンプケース内に回転可能に支持されたロータ軸
と、 上記ポンプケース内に収容され、上記ロータ軸に固定さ
れたロータの外周面に設けられた複数枚のロータ翼と、 上記複数枚のロータ翼間に交互に位置決めされ、上記ポ
ンプケース内に固定された複数枚のステータ翼と、 上記ロータ軸を回転させるための駆動モータと、 上記ロータ表面に腐食防止皮膜層が形成され、かつ、上
記ロータの内周面または外周面の一部を削り取ることに
より形成されたバランス取り穴と、を具備し、上記バラ
ンス取り穴に耐腐食処理が施されていることを特徴とす
る真空ポンプ。
1. A pump case having a gas inlet opening on an upper surface thereof, a rotor shaft rotatably supported in the pump case, and an outer circumference of a rotor housed in the pump case and fixed to the rotor shaft. A plurality of rotor blades provided on a surface, a plurality of stator blades that are alternately positioned between the plurality of rotor blades, and are fixed in the pump case, and a drive motor for rotating the rotor shaft. And a balancing hole formed by scraping off a part of the inner peripheral surface or the outer peripheral surface of the rotor to form a corrosion prevention film layer on the rotor surface, and the balancing hole is resistant to the balancing hole. Vacuum pump characterized by being subjected to corrosion treatment.
【請求項2】 上記耐腐食処理は、上記バランス取り穴
表面に、熱硬化性樹脂皮膜層が形成されていることを特
徴とする請求項1に記載の真空ポンプ。
2. The vacuum pump according to claim 1, wherein the anticorrosion treatment includes forming a thermosetting resin film layer on the surface of the balancing hole.
【請求項3】 上面にガス吸気口を開口したポンプケー
スと、 上記ポンプケース内に回転可能に支持されたロータ軸
と、 上記ポンプケース内に収容され、上記ロータ軸に固定さ
れたロータの外周面に設けられた複数枚のロータ翼と、 上記複数枚のロータ翼間に交互に位置決めされ、上記ポ
ンプケース内に固定された複数枚のステータ翼と、 上記ロータ軸を回転させるための駆動モータと、 上記ロータの内周面または外周面の一部を削り取ること
により形成されたバランス取り穴と、を具備し、 上記ロータ表面に腐食防止皮膜層が形成されていること
を特徴とする真空ポンプ。
3. A pump case having a gas intake port opened on an upper surface, a rotor shaft rotatably supported in the pump case, and an outer periphery of a rotor housed in the pump case and fixed to the rotor shaft. A plurality of rotor blades provided on a surface, a plurality of stator blades that are alternately positioned between the plurality of rotor blades, and are fixed in the pump case, and a drive motor for rotating the rotor shaft. And a balancing hole formed by scraping off a part of the inner peripheral surface or the outer peripheral surface of the rotor, and a corrosion prevention coating layer is formed on the rotor surface. .
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012233477A (en) * 2011-05-05 2012-11-29 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vacuum pump having rotor
JP2018127950A (en) * 2017-02-08 2018-08-16 エドワーズ株式会社 Vacuum pump, rotary part included in vacuum pump, and unbalance correction method

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003021093A (en) * 2001-07-05 2003-01-24 Boc Edwards Technologies Ltd Vacuum pump
JP2005320905A (en) * 2004-05-10 2005-11-17 Boc Edwards Kk Vacuum pump
US20130129482A1 (en) * 2010-08-06 2013-05-23 Shimadzu Corporation Vacuum pump
WO2013011635A1 (en) * 2011-07-21 2013-01-24 国立大学法人東北大学 Screw rotor for gas-evacuation pump, manufacturing method therefor, gas-evacuation pump provided with said screw rotor, and manufacturing method and assembly method therefor
DE102014103060B4 (en) * 2014-03-07 2019-01-03 Pfeiffer Vacuum Gmbh Method for balancing a rotor of a vacuum pump or a rotor of a rotary unit for a vacuum pump
US10585291B2 (en) 2017-04-28 2020-03-10 Yonatan Gerlitz Eye safety system for lasers
JP6973348B2 (en) * 2018-10-15 2021-11-24 株式会社島津製作所 Vacuum pump

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB687976A (en) * 1949-12-23 1953-02-25 Vickers Electrical Co Ltd Improved curing process for thermosetting resinous coatings
DE4239391C2 (en) * 1991-11-27 1996-11-21 Electro Chem Eng Gmbh Objects made of aluminum, magnesium or titanium with an oxide ceramic layer filled with fluoropolymers and process for their production
JP2527398B2 (en) * 1992-06-05 1996-08-21 財団法人真空科学研究所 Turbo molecular pump
JPH0783189A (en) * 1993-09-17 1995-03-28 Hitachi Ltd Turbo vacuum pump
IT1296155B1 (en) * 1996-04-05 1999-06-09 Varian Spa TURBOMOLECULAR PUMP ROTOR
US5938406A (en) * 1997-04-18 1999-08-17 Varian, Inc. Rotor for turbomolecular pump
US6164945A (en) * 1998-02-13 2000-12-26 Ebara Corporation Vacuum pump rotor and method of manufacturing the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012233477A (en) * 2011-05-05 2012-11-29 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vacuum pump having rotor
JP2018127950A (en) * 2017-02-08 2018-08-16 エドワーズ株式会社 Vacuum pump, rotary part included in vacuum pump, and unbalance correction method
US11168697B2 (en) 2017-02-08 2021-11-09 Edwards Japan Limited Vacuum pump, rotating portion included in vacuum pump, and imbalance correction method

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EP1273802A1 (en) 2003-01-08
US20030021672A1 (en) 2003-01-30
KR20030004118A (en) 2003-01-14

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