JP2003007780A - Mounting device - Google Patents

Mounting device

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JP2003007780A
JP2003007780A JP2001192511A JP2001192511A JP2003007780A JP 2003007780 A JP2003007780 A JP 2003007780A JP 2001192511 A JP2001192511 A JP 2001192511A JP 2001192511 A JP2001192511 A JP 2001192511A JP 2003007780 A JP2003007780 A JP 2003007780A
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英生 坂川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mounting device where load resistance to tracking force improves, the elastic deformation of a top plate and the distortion of a bottom plate are prevented, the air tightness of a mounting object is improved and highly reliable inspection can be performed. SOLUTION: Mounting device 1 has a mounting body 2 which has a space formed between the top plate 2A and the bottom plate 2B having an outer peripheral wall 2D, and mounts a wafer W on the top plate 2A and with a temperature control mechanism controlling the temperature of the wafer W on the mounting body 2. When the electric characteristic of the wafer W is inspected, the temperature of the wafer W on the mounting body 2 is controlled through the temperature control mechanism. A case 2C storing the bottom plate 2B is placed and a plurality of support bodies 2E are diffusively arranged for the whole space. The top plate 2A is supported through the support bodies 2E.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばプローブ装
置に用いられる載置装置に関し、更に詳しくは、プロー
ブ検査時の耐荷重性を向上させることができる載置装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mounting device used in, for example, a probe device, and more particularly to a mounting device capable of improving load resistance during probe inspection.

【0002】[0002]

【従来の技術】プローブ装置は、ウエハ等の被検査体を
載置して所定の電気的特性を行うための載置装置を具備
している。被検査体の検査に伴って発熱するために載置
装置を介して被検査体を冷却したり、あるいは被検査体
の種類によっては載置装置を介して被検査体を高温ある
いは低温に設定して検査を行うことがある。
2. Description of the Related Art A probe apparatus is provided with a mounting apparatus for mounting an object to be inspected such as a wafer and performing predetermined electric characteristics. Since the test object heats up as it is inspected, the test object is cooled via the mounting device, or depending on the type of the test object, the test device is set to a high temperature or a low temperature. May be inspected.

【0003】従来の載置装置は、例えば、冷却ジャケッ
トを兼ねた載置体、ヒータ及び昇降体を備え、冷却する
場合には冷却ジャケットに冷媒を供給して載置体上面を
冷却して被検査体を所定の温度まで冷却し、加熱する場
合にはヒータを用いて載置体を加熱して載置体上の被検
査体を所定の温度まで加熱する。
A conventional mounting apparatus includes, for example, a mounting body that also serves as a cooling jacket, a heater, and an elevating / lowering body. When cooling, a cooling medium is supplied to the cooling jacket to cool the upper surface of the mounting body. When the inspection body is cooled to a predetermined temperature and heated, the mounting body is heated by using a heater to heat the inspection body on the mounting body to the predetermined temperature.

【0004】また、上記載置体の内部には複数の昇降ピ
ンが昇降可能に設けられ、これらの昇降ピンを介して被
検査体の受け渡しを行う。被検査体の検査を行う場合に
は、載置体を上昇させて被検査体をオーバードライブさ
せ、被検査体の電極パッドとその上方に配置されたプロ
ーブを所定の針圧で接触させて被検査体の電気的特性検
査を行っている。
Further, a plurality of lifting pins are provided inside the mounting body so that the lifting pins can be moved up and down, and the object to be inspected is delivered through these lifting pins. When inspecting an object to be inspected, the mounting body is raised to overdrive the object to be inspected, and the electrode pad of the object to be inspected is brought into contact with the probe arranged above the electrode pad with a predetermined needle pressure to make the object to be inspected. We are inspecting the electrical characteristics of the inspection body.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
載置装置の場合には載置体はトッププレートと外周壁を
有するボトムプレートによって中空状に形成されている
ため、載置体のオーバードライブにより被検査体の電極
パッドに対してプローブから針圧を受けると、載置体の
トッププレートが針圧により僅かではあるが弾性変形し
て沈み、電極パッドからプローブが位置ずれすると共に
ボトムプレートも多少ではあるが歪み、検査の信頼性を
低下させる虞があった。特に、被検査体の超微細化が進
むほど僅かな位置ずれが大きな問題となることがある。
However, in the case of the conventional mounting apparatus, since the mounting body is formed in a hollow shape by the top plate and the bottom plate having the outer peripheral wall, the mounting body is overdriven. When needle pressure is applied to the electrode pad of the device under test from the probe, the top plate of the mounting body is elastically deformed and sunk by the needle pressure, causing the probe to shift from the electrode pad and the bottom plate to some extent. However, there is a risk of distortion and deterioration of inspection reliability. In particular, a slight misalignment may become a serious problem as the inspected body becomes ultra-fine.

【0006】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、針圧に対する耐荷重性が向上し、トッププ
レートの弾性変形及びボトムプレートの歪みを防止し、
しかも載置体の気密性を高めて信頼性の高い検査を行う
ことができる載置装置を提供することを目的としてい
る。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and has improved load resistance against stylus pressure, and prevents elastic deformation of the top plate and distortion of the bottom plate.
Moreover, it is an object of the present invention to provide a mounting apparatus that can perform highly reliable inspection by increasing the airtightness of the mounting body.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の載置装置は、トッププレートと外周壁を有するボトム
プレートを重ねて内部に空間を形成し且つトッププレー
ト上に被検査体を載置する載置体と、この載置体上の被
検査体の温度を調節する温度調節機構とを備え、上記被
検査体の電気的特性検査を行う際に、上記温度調節機構
を介して上記載置体上の被検査体の温度を調節する載置
装置において、上記ボトムプレートを収納するケースを
設けると共に上記空間全体に複数の支持体を分散配置
し、これらの支持体を介して上記トッププレートを支持
することを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a mounting apparatus in which a top plate and a bottom plate having an outer peripheral wall are overlapped with each other to form a space therein, and an object to be inspected is placed on the top plate. A mounting body to be mounted and a temperature adjusting mechanism for adjusting the temperature of the object to be inspected on the mounting body are provided, and when performing the electrical characteristic inspection of the object to be inspected, the temperature adjusting mechanism is used. In the mounting device for adjusting the temperature of the object to be inspected on the mounting body, a case for accommodating the bottom plate is provided, and a plurality of supporting bodies are dispersed and arranged in the entire space, and the supporting body is interposed via these supporting bodies. It is characterized by supporting a top plate.

【0008】また、本発明の請求項2に記載の載置装置
は、請求項1に記載の発明において、上記複数の支持体
を上記ボトムプレートと一体的に成形したことを特徴と
するものである。
Further, the mounting device according to a second aspect of the present invention is characterized in that, in the invention according to the first aspect, the plurality of supports are integrally formed with the bottom plate. is there.

【0009】また、本発明の請求項3に記載の載置装置
は、請求項1または請求項2に記載の発明において、上
記ケースを上記ボトムプレートより弾性率の高い材料に
よって形成したことを特徴とするものである。
Further, the mounting device according to claim 3 of the present invention is characterized in that, in the invention according to claim 1 or 2, the case is formed of a material having a higher elastic modulus than the bottom plate. It is what

【0010】また、本発明の請求項4に記載の載置装置
は、請求項1〜請求項3に記載の発明において、上記ボ
トムプレート及び上記ケースそれぞれに、複数の熱媒体
供給口を分散させて設けると共に上記熱媒体供給口より
少数の熱媒体排出口を分散させて設けたことを特徴とす
るものである。
Further, according to a fourth aspect of the present invention, in the mounting device according to the first to third aspects, a plurality of heat medium supply ports are dispersed in each of the bottom plate and the case. It is characterized in that a smaller number of heat medium discharge ports than the heat medium supply ports are dispersed and provided.

【0011】また、本発明の請求項5に記載の載置装置
は、請求項4に記載の発明において、上記各熱媒体供給
口それぞれに供給ノズルを取り替え可能に装着したこと
を特徴とするものである。
Further, a mounting device according to a fifth aspect of the present invention is characterized in that, in the invention according to the fourth aspect, a supply nozzle is replaceably attached to each of the heat medium supply ports. Is.

【0012】また、本発明の請求項6に記載の載置装置
は、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の発明に
おいて、上記トッププレート及び上記支持体それぞれ
に、上記被検査体を吸引するための排気路を連設したこ
とを特徴とするものである。
Further, the mounting apparatus according to claim 6 of the present invention is the mounting apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the top plate and the support are each inspected. It is characterized in that an exhaust path for sucking a body is provided in series.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図4に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。本実施形態の載置装置1
は、例えば図1に示すように、被検査体(例えば、ウエ
ハ)Wを載置する載置体2と、この載置体2の温度を調
節する温度調節機構と、載置体2を支持する基台3と、
この基台3を介して載置体2をZ方向に昇降させる昇降
体4とを備え、温度調節機構を介して載置体2上のウエ
ハWの温度を調節して所定の温度下で被検査体の電気的
特性検査をを行うように構成されている。この載置装置
1は、プローブ装置の検査室(図示せず)内でX−Y駆
動機構を介してX、Y方向に移動可能に構成されている
と共に昇降体4を介してZ方向に昇降可能に構成されて
いる。また、載置体2自体はθ駆動機構(図示せず)を
介して所定範囲内でθ方向に正逆回転可能に構成されて
いる。この載置装置1の上方にはプローブカード(図示
せず)が配置され、検査時には従来公知のように載置装
置1がアライメント機構(図示せず)と協働して載置体
2上のウエハWとプローブカードのプローブとの位置合
わせを行った後、ウエハWをインデックス送りしてウエ
ハWの電極パッドとプローブを電気的に接触させてウエ
ハWの電気的特性検査を繰り返し行う。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described below based on the embodiments shown in FIGS. Placement device 1 of the present embodiment
For example, as shown in FIG. 1, a mounting body 2 on which an object to be inspected (for example, a wafer) W is mounted, a temperature adjusting mechanism for adjusting the temperature of the mounting body 2, and a mounting body 2 are supported. Base 3 to
An elevating body 4 for elevating and lowering the mounting body 2 in the Z direction via the base 3 is provided, and the temperature of the wafer W on the mounting body 2 is adjusted via a temperature adjusting mechanism to control the temperature of the wafer W at a predetermined temperature. It is configured to perform an electrical characteristic inspection of the inspection body. The mounting device 1 is configured to be movable in the X and Y directions via an XY drive mechanism in an inspection chamber (not shown) of the probe device, and is moved up and down in the Z direction via an elevating body 4. It is configured to be possible. Further, the mounting body 2 itself is configured to be rotatable in the θ direction in the predetermined direction through a θ drive mechanism (not shown). A probe card (not shown) is arranged above the placement device 1, and the placement device 1 cooperates with an alignment mechanism (not shown), as is well known in the art, at the time of inspection on the placement body 2. After aligning the wafer W with the probe of the probe card, the wafer W is index-fed to electrically contact the electrode pad of the wafer W and the probe, and the electrical characteristic inspection of the wafer W is repeated.

【0014】而して、上記載置体2は、図1〜図3に示
すように、例えば窒化アルミニウム等のセラミックヒー
タ(図示せず)を具備した円形状のトッププレート2A
と、このトッププレート2Aを支持するこれよりやや小
径のボトムプレート2Bと、このボトムプレート2Bが
収納されたトッププレート2Aと同一外径に形成された
ケース2Cとを備え、トッププレート2Aとボトムプレ
ート2Bの間に空間が形成されている。ボトムプレート
2Bは、図1〜図3に示すように、外周縁に沿って形成
された外周壁2Dを有し、例えばマシナブルセラミック
等のセラミックによって形成されている。このボトムプ
レート2Bの内面には多数の角柱状の支持体2Eがボト
ムプレート2Bと一体的にセラミックによって形成され
ている。これらの支持体2Eは、図3に示すようにボト
ムプレート2Bの全面に行列状に分散配置され、図1に
示すように外周壁2Dと協働してトッププレート2Aを
支持している。従って、トッププレート2A上のウエハ
Wの如何なる場所で針圧が作用してもその真下あるいは
その近傍に支持体2Eが存在するため、トッププレート
2Aは撓むことがなく、耐荷重性の高いものになってい
る。また、ケース2Cは、例えばボトムプレート2Bよ
りも弾性率の高いアルミニウム等の金属によってその外
周壁2Fがボトムプレート2Bの外周壁2Dと一緒にな
ってトッププレート2Aに接触し、トッププレート2A
との気密性を高めている。従って、ボトムプレート2B
はケース2Cによって強度的に補強され、歪み防止が図
られている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the mounting body 2 has a circular top plate 2A having a ceramic heater (not shown) made of, for example, aluminum nitride.
A bottom plate 2B having a slightly smaller diameter for supporting the top plate 2A, and a case 2C having the same outer diameter as the top plate 2A in which the bottom plate 2B is housed. A space is formed between 2B. As shown in FIGS. 1 to 3, the bottom plate 2B has an outer peripheral wall 2D formed along the outer peripheral edge thereof, and is made of ceramic such as machinable ceramic. On the inner surface of the bottom plate 2B, a large number of prismatic supports 2E are formed integrally with the bottom plate 2B by ceramics. As shown in FIG. 3, these supports 2E are dispersed and arranged in a matrix on the entire surface of the bottom plate 2B, and cooperate with the outer peripheral wall 2D to support the top plate 2A as shown in FIG. Therefore, no matter where the stylus pressure acts on the wafer W on the top plate 2A, the support body 2E exists immediately below or in the vicinity of the stylus pressure, so that the top plate 2A does not bend and has a high load resistance. It has become. The outer peripheral wall 2F of the case 2C is in contact with the top plate 2A together with the outer peripheral wall 2D of the bottom plate 2B by a metal such as aluminum having a higher elastic modulus than the bottom plate 2B.
The airtightness with Therefore, the bottom plate 2B
Is strongly reinforced by the case 2C to prevent distortion.

【0015】また、図2の(a)に示すようにボトムプ
レート2B及びケース2Cには例えば8個の熱媒体供給
口(以下、単に「供給口」と称す。)2G及び2個の熱
媒体排出口2Hがそれぞれ設けられ、各供給口2Gから
熱媒体として冷媒を供給してトッププレート2Aを直に
冷却し、吸熱冷媒を排出口2Hから排出する。冷媒とし
ては例えば空気等の気体を使用することができる。本実
施形態では、例えば空気を冷媒として使用する。8個の
供給口2Gのうち4個の第1供給口2Gはそれぞれ上下
左右対称の位置に配置され、これらの供給口2Gの結線
で正四角形が形成されている。また、他の4個の第2供
給口2Gは正四角形の各辺の中点より外側にそれぞれ配
置されている。また、2個の排出口2Hは図2の
(a)、(b)に示すようにボトムプレート2Bの直径
上に配置されている。この直線上には2個の第2供給口
2Gも位置している。更に、8個の供給口2Gにはそれ
ぞれ供給ノズル5(図4の(a)参照)が装着され、各
供給ノズル5から冷媒を噴射するようにしている。噴射
された冷媒は、図1に矢印で示すように、載置体2内で
支持体2E間の隙間を縫って内部空間全体に瞬時に行き
渡るようになっている。冷媒は支持体2Eを介して乱流
を形成するため、トッププレート2Aを効率良く冷却す
ることができる。載置体2内全体に行き渡った冷媒は、
図1に矢印で示すように、載置体2の中央近傍の2箇所
の排出口2Hに集束し、これらの排出口2Hから排出さ
れる。排出口2Hには供給ノズル5と同様に形成された
排出ノズル(図示せず)が装着され、排出ノズルを介し
て外部へ排気される。尚、供給ノズル5の開口部5Aの
面積は排出ノズルの開口面積よりも小さく設定され、供
給ノズル5から冷媒をより高速で供給することができ、
載置体2内により迅速に行き渡るようになっている。
As shown in FIG. 2A, the bottom plate 2B and the case 2C have, for example, eight heat medium supply ports (hereinafter simply referred to as "supply ports") 2G and two heat mediums. Each of the discharge ports 2H is provided, and a refrigerant as a heat medium is supplied from each of the supply ports 2G to directly cool the top plate 2A, and the endothermic refrigerant is discharged from the discharge port 2H. A gas such as air can be used as the refrigerant. In this embodiment, for example, air is used as the refrigerant. Of the eight supply ports 2G, the four first supply ports 2G are arranged at vertically and horizontally symmetrical positions, and a regular quadrangle is formed by connecting the supply ports 2G. Further, the other four second supply ports 2G are arranged outside the midpoint of each side of the regular quadrangle. The two outlets 2H are arranged on the diameter of the bottom plate 2B as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). Two second supply ports 2G are also located on this straight line. Further, a supply nozzle 5 (see (a) of FIG. 4) is attached to each of the eight supply ports 2G, and a refrigerant is ejected from each supply nozzle 5. As shown by the arrow in FIG. 1, the injected refrigerant sews the gap between the supports 2E in the mounting body 2 and instantly spreads throughout the internal space. Since the refrigerant forms a turbulent flow through the support 2E, the top plate 2A can be efficiently cooled. The refrigerant that has spread all over the mounting body 2 is
As indicated by the arrow in FIG. 1, the light is focused on two discharge ports 2H near the center of the mounting body 2 and discharged from these discharge ports 2H. A discharge nozzle (not shown) formed similarly to the supply nozzle 5 is attached to the discharge port 2H, and is discharged to the outside through the discharge nozzle. The area of the opening 5A of the supply nozzle 5 is set smaller than the opening area of the discharge nozzle, so that the refrigerant can be supplied from the supply nozzle 5 at a higher speed.
It is designed to spread more quickly within the mounting body 2.

【0016】また、上記基台3内には例えば供給ノズル
5(図4の(a)参照)及び排出ノズルが複数個ずつ取
り替え可能に埋設され、これらの供給ノズル5及び排出
ノズルは、図2及び図3に示す載置体2の供給口2G及
び排出口2Hに装着され、図1に示すような流路を形成
している。そして、これらの供給ノズル5及び排出ノズ
ルはそれぞれ給気管(図示せず)及び排出管(図示せ
ず)を介して供給源及び排出手段に接続されている。こ
れらの供給ノズル5はいずれも給気管から分岐して載置
体2の8箇所の供給口2Gに連通し、また、排出ノズル
3Bも排出管から分岐して載置体2の2箇所の排出口2
Hに連通している。供給ノズル5及び排出ノズルは、上
述のように取り替え可能に構成されているため、載置装
置1の仕様に即して適宜取り替えることができ、また、
複数種の異なる口径、形状を準備しておくこともでき
る。
Further, a plurality of supply nozzles 5 (see FIG. 4A) and discharge nozzles are embedded in the base 3 in a replaceable manner, and these supply nozzles 5 and discharge nozzles are shown in FIG. Also, it is attached to the supply port 2G and the discharge port 2H of the mounting body 2 shown in FIG. 3 to form a flow path as shown in FIG. The supply nozzle 5 and the discharge nozzle are connected to a supply source and a discharge means via an air supply pipe (not shown) and a discharge pipe (not shown), respectively. All of these supply nozzles 5 branch from the air supply pipe to communicate with the eight supply ports 2G of the mounting body 2, and the discharge nozzles 3B also branch from the discharge pipe to discharge two places of the mounting body 2. Exit 2
It communicates with H. Since the supply nozzle 5 and the discharge nozzle are configured to be replaceable as described above, they can be replaced appropriately according to the specifications of the mounting apparatus 1.
It is also possible to prepare a plurality of different diameters and shapes.

【0017】更に、図3に示すように載置体2内で径方
向に一直線上に並んだ複数の支持体2EにはウエハWを
真空吸着する際に用いられる真空排気路2Iが形成さ
れ、これらの真空排気路2Iはいずれもトッププレート
2A表面に同心円状に形成された複数の円形溝2Jにお
いて開口している。ケース2Cには図3に示すように複
数の真空排気路2Iが並ぶ範囲に合わせて長孔2Kが形
成され、この長孔2K内に真空排気ノズル6(図4の
(b)参照)が装着されている。真空排気ノズル6には
真空排気路2Iに対応する複数のノズル6Aが一体的に
形成されている。そして、真空排気ノズル6内で複数の
ノズルの排気通路(図示せず)が合流し、合流通路の開
口に真空排気装置が接続されている。真空排気ノズル6
は供給ノズル5及び排出ノズルと同様に基台3内に埋設
されている。また、載置体2の中心近傍には複数(例え
ば、3本)の昇降ピン(図示せず)が昇降する孔2Lが
同一の円周上に周方向等間隔を空けて形成され、ウエハ
Wを受け渡す際に昇降ピンがトッププレート2Aから突
出し、ウエハWの受け渡し後には載置体2内に退没す
る。
Further, as shown in FIG. 3, a vacuum exhaust passage 2I used for vacuum suction of the wafer W is formed in the plurality of supports 2E arranged in a straight line in the radial direction in the mounting body 2. Each of these vacuum exhaust passages 2I is open at a plurality of circular grooves 2J formed concentrically on the surface of the top plate 2A. As shown in FIG. 3, a long hole 2K is formed in the case 2C in accordance with the range in which the plurality of vacuum exhaust passages 2I are arranged, and the vacuum exhaust nozzle 6 (see FIG. 4B) is mounted in the long hole 2K. Has been done. The vacuum exhaust nozzle 6 is integrally formed with a plurality of nozzles 6A corresponding to the vacuum exhaust passage 2I. Then, the exhaust passages (not shown) of the plurality of nozzles merge in the vacuum exhaust nozzle 6, and the vacuum exhaust device is connected to the opening of the merge passage. Vacuum exhaust nozzle 6
Are embedded in the base 3 like the supply nozzle 5 and the discharge nozzle. Further, in the vicinity of the center of the mounting body 2, holes 2L for raising and lowering a plurality of (for example, three) raising and lowering pins (not shown) are formed on the same circumference at equal intervals in the circumferential direction. The lift pins project from the top plate 2 </ b> A when the wafer W is transferred, and retract within the mounting body 2 after the wafer W is transferred.

【0018】また、上記温度調節機構は、図1に示すよ
うに、上記トッププレート2Aに内蔵されたヒータ、冷
媒の供給ノズル2G及び排出ノズル2Hを備えて構成さ
れ、図示しない制御装置の制御下でウエハWを加熱する
時にはヒータが作動し、ウエハWを冷却する時には載置
体2内の供給ノズル2Gを介して冷媒を給排する。ヒー
タはトッププレート2A内に内蔵されているため、ウエ
ハWを直に加熱するため、ウエハWを所定の設定温度ま
で短時間で加熱することができる。また、冷媒は供給口
2Gから載置体2内の空間全体に乱流を形成して短時間
で行き渡り、しかも冷媒でトッププレート2Aを直に冷
却するため、ウエハWを短時間に冷却することができ
る。
Further, as shown in FIG. 1, the temperature adjusting mechanism comprises a heater built in the top plate 2A, a coolant supply nozzle 2G and a discharge nozzle 2H, and is controlled by a controller (not shown). When heating the wafer W, the heater operates, and when cooling the wafer W, the coolant is supplied and discharged through the supply nozzle 2G in the mounting body 2. Since the heater is built in the top plate 2A, the wafer W is directly heated, so that the wafer W can be heated to a predetermined set temperature in a short time. Further, the coolant forms a turbulent flow from the supply port 2G to the entire space inside the mounting body 2 and spreads in a short time, and moreover, the top plate 2A is directly cooled by the coolant, so that the wafer W is cooled in a short time. You can

【0019】次に、動作について説明する。まず、図示
しない搬送機構を介して載置体2へウエハWを搬送する
と、昇降ピンを介してウエハWを受け取ってトッププレ
ート2A上に載置する。次いで、真空排気ノズル6から
空気を排気してウエハWをトッププレート2A上に真空
吸着して固定した後、載置装置1はX、Y、Z及びθ方
向に移動し、アライメント機構と協働してウエハWとプ
ローブとの位置合わせを行う。そして、例えばウエハW
の高温検査を行う場合には、位置合わせを行う間にヒー
タが作動してウエハWを所定の温度まで加熱する。
Next, the operation will be described. First, when the wafer W is transferred to the mounting body 2 via a transfer mechanism (not shown), the wafer W is received via the lift pins and mounted on the top plate 2A. Next, after the air is exhausted from the vacuum exhaust nozzle 6 and the wafer W is vacuum-adsorbed and fixed onto the top plate 2A, the mounting apparatus 1 moves in the X, Y, Z and θ directions and cooperates with the alignment mechanism. Then, the wafer W and the probe are aligned with each other. Then, for example, the wafer W
When the high temperature inspection is performed, the heater operates to heat the wafer W to a predetermined temperature during the alignment.

【0020】引き続き、載置台1はウエハWをインデッ
クス送りを行ってプローブの真下まで移動させた後、昇
降体4を介してウエハWをオーバードライブさせてウエ
ハWとプローブを電気的に接触させる。この際、ウエハ
Wに針圧が作用するが、トッププレート2Aは支持体2
Eによって支持されているため、トッププレート2Aが
弾性変形する虞がなく、プローブがウエハWの電極パッ
ドから位置ずれすることもなく、ウエハWの高温検査を
確実に行うことができる。インデックス送りを繰り返し
てウエハWの高温検査が終了すれば、温度調節機構がヒ
ータの電源を切ると共に、8箇所の供給口2Gからそれ
ぞれの供給ノズル5を介して載置体2内に空気を冷媒と
して供給する。空気が図1に矢印で示すように各供給ノ
ズル5から噴出すると、同図に示すように支持体2E間
の隙間を縫って乱流を形成しながら載置体2の内部空間
全体に瞬時に行き渡り、トッププレート2Aを短時間で
冷却してトッププレート2Aの温度を下げる。吸熱空気
は図1に矢印で示すように排出口2Hから排出される。
Subsequently, the mounting table 1 index-feeds the wafer W to move it directly below the probe, and then overdrives the wafer W via the elevating body 4 to electrically contact the wafer W with the probe. At this time, although the needle pressure acts on the wafer W, the top plate 2A is not supported by the support member 2.
Since the top plate 2A is supported by E, there is no risk of elastic deformation of the top plate 2A, the probe is not displaced from the electrode pad of the wafer W, and the high temperature inspection of the wafer W can be reliably performed. When the index W is repeated and the high temperature inspection of the wafer W is completed, the temperature control mechanism turns off the power of the heater, and the air is cooled by the refrigerant from the eight supply ports 2G through the respective supply nozzles 5 into the mounting body 2. Supply as. When air is ejected from each supply nozzle 5 as indicated by an arrow in FIG. 1, as shown in FIG. The temperature of the top plate 2A is lowered by cooling the top plate 2A in a short time. The heat absorbing air is discharged from the discharge port 2H as shown by the arrow in FIG.

【0021】以上説明したように本実施形態によれば、
載置体2内の空間全体に複数の支持体2Eを行列状に分
散配置し、これらの支持体2Eを介してトッププレート
2Aを支持し、しかもボトムプレート2Bがケース2C
によって補強されているため、ウエハWの検査を行う際
にウエハWに針圧が作用しても、針圧の作用点は支持体
2Eの真上あるいはその近傍になり、しかもケース2C
の補強作用と相俟ってトッププレート2Aの沈み(弾性
変形)を防止することができ、ひいてはウエハWの電極
とプローブの位置ずれをなくし、信頼性の高い検査を行
うことができる。また、冷媒を用いて載置体2を冷却す
る時には、冷媒が支持体2Eを介して乱流を形成しなが
ら載置体2内の空間全体に行き渡るため、冷媒の冷却能
力を最大限活かすことができる。
As described above, according to this embodiment,
A plurality of supports 2E are dispersed and arranged in a matrix in the entire space inside the mounting body 2, and the top plate 2A is supported via these supports 2E, and the bottom plate 2B is the case 2C.
Since it is reinforced by the needle W, even if stylus pressure acts on the wafer W when inspecting the wafer W, the point of action of stylus pressure is directly above or in the vicinity of the support 2E.
In combination with the reinforcing action of No. 2, it is possible to prevent the top plate 2A from sinking (elastically deforming), and by eliminating the positional deviation between the electrode of the wafer W and the probe, it is possible to perform highly reliable inspection. Further, when the mounting body 2 is cooled using the refrigerant, the cooling medium spreads throughout the space inside the mounting body 2 while forming a turbulent flow through the support body 2E, so that the cooling capacity of the refrigerant should be maximized. You can

【0022】また、本実施形態によれば、複数の支持体
2Eをボトムプレート2Bと一体的に成形したため、金
型等により高精度に成形することができる。また、ボト
ムプレート2Bに複数の供給口2Gを分散させて設ける
と共に、供給口2Gより少数の排出口2Hを分散させて
設け、供給口2Gを排出口2Hより多く設けたため、供
給ノズル5を介して新鮮な冷媒(本実施形態では空気)
を勢い良く供給して高速でトッププレート2Aの全領域
で均一に接触させることができると共に吸熱冷媒を集束
させて冷媒の滞留時間を延ばすことができ、ひいてはト
ッププレート2Aを短時間で冷却することができる。
Further, according to this embodiment, since the plurality of supports 2E are integrally formed with the bottom plate 2B, they can be formed with high precision by using a mold or the like. Further, since the plurality of supply ports 2G are provided in the bottom plate 2B in a dispersed manner, and the discharge ports 2H, which are smaller in number than the supply ports 2G, are provided in a dispersed manner, and the supply ports 2G are provided in a larger number than the discharge ports 2H, the supply nozzle 5 is used. And fresh refrigerant (air in this embodiment)
Can be supplied vigorously to bring them into uniform contact with all areas of the top plate 2A at high speed, and at the same time, the endothermic refrigerant can be focused to extend the residence time of the refrigerant, which in turn cools the top plate 2A. You can

【0023】また、本実施形態によれば、ケース2Cを
ボトムプレート2Bより弾性率の高い材料によって形成
したため、ケース2Cの外周壁2Fはボトムプレート2
Bの外周壁2Dよりトッププレート2Aとの接触に馴染
んで気密性が高まり、しかもこれら両外周壁2F、2D
が同時にトッププレート2Aと接触して接触面積が増
え、更に載置体2の気密性を高めることができる。ま
た、供給ノズル5を取り替え可能に装着したため、空気
の流量に応じて給気孔の径を異にする供給ノズル5を準
備しておけば、その時の空気流量に即して供給ノズル5
を適宜取り替えることができる。また、トッププレート
2A及び支持体2Eそれぞれに、ウエハWを吸引するた
めの真空排出通路2Iを連設したため、真空排気のため
に独自の配管を載置体2内に設ける必要がなく、構造を
簡素化することができる。
Further, according to this embodiment, since the case 2C is made of a material having a higher elastic modulus than the bottom plate 2B, the outer peripheral wall 2F of the case 2C has the bottom plate 2B.
B is more accustomed to contact with the top plate 2A than the outer peripheral wall 2D, and the outer peripheral walls 2F, 2D are both sealed.
At the same time, the contact area with the top plate 2A increases, and the airtightness of the mounting body 2 can be further increased. Further, since the supply nozzle 5 is mounted so as to be replaceable, if the supply nozzle 5 having different diameters of the air supply holes is prepared according to the flow rate of the air, the supply nozzle 5 can be adjusted according to the air flow rate at that time.
Can be replaced as appropriate. Further, since the vacuum discharge passage 2I for sucking the wafer W is continuously provided to each of the top plate 2A and the support body 2E, it is not necessary to provide a unique pipe for the vacuum exhaust in the mounting body 2, and the structure is It can be simplified.

【0024】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではなく、必要に応じて本発明の各構成要素を設
計変更することができる。例えば、本実施形態では支持
体をボトムプレートと一体的に成形したものについて説
明したが、トッププレートと一体化したものであっても
良い。
The present invention is not limited to the above embodiment, and the design of each constituent element of the present invention can be changed as necessary. For example, although the support is integrally formed with the bottom plate in this embodiment, the support may be integrally formed with the top plate.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明の請求項1に記載の発明によれ
ば、針圧に対する耐荷重性が向上し、トッププレートの
弾性変形及びボトムプレートの歪みが防止され、しかも
冷却ジャケットを兼ねる載置体の気密性を高めることが
でき、信頼性の高い検査を行うことができる載置装置を
提供することができる。
According to the invention described in claim 1 of the present invention, the load resistance with respect to the stylus pressure is improved, the elastic deformation of the top plate and the distortion of the bottom plate are prevented, and moreover, the mounting also serves as a cooling jacket. It is possible to provide a mounting device capable of increasing the airtightness of the body and performing highly reliable inspection.

【0026】また、本発明の請求項2に記載の発明によ
れば、請求項1に記載の発明において、金型等により高
精度に成形することができる載置装置を提供することが
できる。
Further, according to the invention described in claim 2 of the present invention, it is possible to provide a mounting device which can be molded with high precision by a mold or the like in the invention described in claim 1.

【0027】また、本発明の請求項3に記載の発明によ
れば、請求項1または請求項2に記載の発明において、
ケースはボトムプレートよりトッププレートとの接触に
馴染んで気密性が高まり、載置体の気密性を高めること
ができる載置装置を提供することができる。
Further, according to the invention of claim 3 of the present invention, in the invention of claim 1 or 2,
It is possible to provide a mounting device in which the case is more adapted to contact with the top plate than the bottom plate, and the airtightness is enhanced, and the airtightness of the mounting body is enhanced.

【0028】また、本発明の請求項4に記載の発明によ
れば、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明
において、複数の熱媒体供給口を介して新鮮な冷媒を勢
い良く供給して高速でトッププレートの全領域で均一に
接触させることができると共に吸熱冷媒を集束させて冷
媒の滞留時間を延ばすことができ、ひいてはトッププレ
ートを短時間で冷却することができる載置装置を提供す
ることができる。
Further, according to the invention described in claim 4 of the present invention, in the invention described in any one of claims 1 to 3, fresh refrigerant is supplied through a plurality of heat medium supply ports. It can be supplied vigorously and can be brought into uniform contact with all areas of the top plate at high speed, and the endothermic refrigerant can be focused to prolong the residence time of the refrigerant, which in turn can cool the top plate in a short time. A mounting device can be provided.

【0029】また、本発明の請求項5に記載の発明によ
れば、請求項4に記載の発明において、給気孔の径や形
状を異にする複数種の供給ノズルを準備しておけば、そ
の時の熱媒体の流量等の仕様に即して供給ノズルを適宜
取り替えることができる載置装置を提供することができ
る。
According to the invention of claim 5 of the present invention, in the invention of claim 4, if plural kinds of supply nozzles having different diameters and shapes of the air supply holes are prepared, It is possible to provide a mounting device in which the supply nozzle can be appropriately replaced according to the specifications such as the flow rate of the heat medium at that time.

【0030】また、本発明の請求項6に記載の発明によ
れば、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の発明
において、被検査体を吸引する時の真空排気のために独
自の配管を載置体内に設ける必要がなく、構造を簡素化
することができる載置装置を提供することができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to fifth aspects, for vacuum exhaust when sucking the object to be inspected. It is not necessary to provide a unique pipe in the mounting body, and it is possible to provide a mounting device that can simplify the structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の載置装置の一実施形態の要部を説明す
るための模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a main part of an embodiment of a mounting device of the present invention.

【図2】図1に示すボトムプレートを拡大して示す図
で、(a)はその平面図、(b)がそのB−B線方向の
断面図である。
2A and 2B are enlarged views of the bottom plate shown in FIG. 1, in which FIG. 2A is a plan view thereof, and FIG. 2B is a sectional view taken along line BB thereof.

【図3】図1に示す載置体の要部を分解して示す斜視図
である。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing a main part of the mounting body shown in FIG.

【図4】図1に示す載置体の用いられるノズルを示す図
で、(a)は供給ノズルを示す斜視図、(b)は真空排
気ノズルを示す斜視図である。
4A and 4B are views showing nozzles used in the mounting body shown in FIG. 1, FIG. 4A is a perspective view showing a supply nozzle, and FIG. 4B is a perspective view showing a vacuum exhaust nozzle.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 載置装置 2 載置体 2A トッププレート 2B ボトムプレート 2C ケース 2E 支持体 2G 供給口(熱媒体供給口) 5 供給ノズル 2I 真空排気路(排気路) 1 Placement device 2 Placement 2A top plate 2B bottom plate 2C case 2E support 2G supply port (heat medium supply port) 5 supply nozzles 2I Vacuum exhaust path (exhaust path)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平松 靖二 岐阜県揖斐郡揖斐川町1−1 イビデン株 式会社内 Fターム(参考) 4M106 AA01 BA01 DJ02    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Yasuji Hiramatsu             1-1 Ibiden Co., Ltd., Ibikawa-cho, Ibi-gun, Gifu Prefecture             Inside the company F-term (reference) 4M106 AA01 BA01 DJ02

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 トッププレートと外周壁を有するボトム
プレートを重ねて内部に空間を形成し且つトッププレー
ト上に被検査体を載置する載置体と、この載置体上の被
検査体の温度を調節する温度調節機構とを備え、上記被
検査体の電気的特性検査を行う際に、上記温度調節機構
を介して上記載置体上の被検査体の温度を調節する載置
装置において、上記ボトムプレートを収納するケースを
設けると共に上記空間全体に複数の支持体を分散配置
し、これらの支持体を介して上記トッププレートを支持
することを特徴とする載置装置。
1. A mounting body for stacking a top plate and a bottom plate having an outer peripheral wall to form a space therein and mounting the inspection object on the top plate, and an inspection object on the mounting object. In a mounting device having a temperature adjusting mechanism for adjusting a temperature, when performing an electrical characteristic inspection of the inspected object, the temperature of the inspected object on the above-mentioned object is adjusted via the temperature adjusting mechanism. A mounting device, characterized in that a case for accommodating the bottom plate is provided, a plurality of supports are dispersedly arranged in the entire space, and the top plate is supported through these supports.
【請求項2】 上記複数の支持体を上記ボトムプレート
と一体的に成形したことを特徴とする請求項1に記載の
載置装置。
2. The mounting device according to claim 1, wherein the plurality of supports are integrally formed with the bottom plate.
【請求項3】 上記ケースを上記ボトムプレートより弾
性率の高い材料によって形成したことを特徴とする請求
項1または請求項2に記載の載置装置。
3. The mounting device according to claim 1, wherein the case is made of a material having a higher elastic modulus than the bottom plate.
【請求項4】 上記ボトムプレート及び上記ケースそれ
ぞれに、複数の熱媒体供給口を分散させて設けると共に
上記熱媒体供給口より少数の熱媒体排出口を分散させて
設けたことを特徴とする請求項1〜請求項3に記載の載
置装置。
4. The bottom plate and the case are each provided with a plurality of heat medium supply ports in a dispersed manner, and at the same time, a plurality of heat medium discharge ports are provided in a dispersed manner less than the heat medium supply ports. The mounting device according to claim 1.
【請求項5】 上記各熱媒体供給口それぞれに供給ノズ
ルを取り替え可能に装着したことを特徴とする請求項4
に記載の載置装置。
5. A supply nozzle is replaceably attached to each of the heat medium supply ports.
The mounting device according to.
【請求項6】 上記トッププレート及び上記支持体それ
ぞれに、上記被検査体を吸引するための排気路を連設し
たことを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項
に記載の載置装置。
6. The exhaust passage for sucking the object to be inspected is connected to each of the top plate and the support body, and the exhaust gas passage according to any one of claims 1 to 5, wherein: Placement device.
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