JP2003007475A - Organic electroluminescence element - Google Patents

Organic electroluminescence element

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JP2003007475A
JP2003007475A JP2001186892A JP2001186892A JP2003007475A JP 2003007475 A JP2003007475 A JP 2003007475A JP 2001186892 A JP2001186892 A JP 2001186892A JP 2001186892 A JP2001186892 A JP 2001186892A JP 2003007475 A JP2003007475 A JP 2003007475A
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chemical formula
layer
chemical
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hole
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Japanese (ja)
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Hodaka Tsuge
穂高 柘植
Akihiro Komatsuzaki
明広 小松崎
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Honda Motor Co Ltd
Original Assignee
Honda Motor Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescence element of high luminescence efficiency. SOLUTION: Concerning to the organic electroluminescence element, which is formed between both the electrodes of a positive electrode layer and a negative electrode layer, and has an electron hole transportation electronic block layer (electron hole transportation layer) and a luminescence layer electron hole transportation layer, the electron hole transportation electronic block layer is constituted from a polymer, which has a repetition unit expressed with a formula (1). In the formula (1), R shows either of hydrogen, fatty-series hydrocarbon group, ether group, or heterocyclic-ring group.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高輝度での発光が
可能な有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescence device capable of emitting light with high brightness.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、発光効率を向上させることを目的
とした多層積層構造の有機エレクトロルミネッセンス素
子として、陽極層及び陰極層の両電極層間に形成され、
正孔輸送層と発光層とを有するものが知られている。こ
のものにおいて、正孔輸送層を構成する正孔輸送性と電
子ブロック性とを備えた物質として、
2. Description of the Related Art Conventionally, as an organic electroluminescence device having a multilayer laminated structure for the purpose of improving luminous efficiency, it is formed between both electrode layers of an anode layer and a cathode layer,
Those having a hole transport layer and a light emitting layer are known. In this, as a substance having a hole-transporting property and an electron-blocking property that constitutes the hole-transporting layer,

【0003】[0003]

【化2】 [Chemical 2]

【0004】[化2]に示すN,N’−ジフェニル−
N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビ
フェニル−4,4’−ジアミン(以下TPDともい
う。)など正孔輸送性低分子を用いるのが一般的であ
る。
N, N'-diphenyl-shown in [Chemical Formula 2]
It is common to use a hole transporting low molecule such as N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (hereinafter also referred to as TPD).

【0005】また、上記従来の有機エレクトロルミネッ
センス素子の発光方法として、励起三重項状態からの発
光、即ち、燐光を用いると、発光の量子効率を向上させ
ることができる。励起一重項状態による発光、即ち、蛍
光のみを利用して発光させる場合の内部量子効率の理論
的限界が25%であるのに対し、燐光による発光は、三
重項状態の励起エネルギーが発光に寄与するため内部量
子効率の理論的限界を100%と考えてよい。このた
め、駆動電圧に対する発光輝度で定義される発光効率の
向上が期待できる。
Further, as the light emitting method of the above-mentioned conventional organic electroluminescence device, if light emission from an excited triplet state, that is, phosphorescence is used, the quantum efficiency of light emission can be improved. The theoretical limit of internal quantum efficiency is 25% in the case of light emission by excited singlet state, that is, in the case of emitting light only by fluorescence, whereas in light emission by phosphorescence, excitation energy of triplet state contributes to light emission. Therefore, the theoretical limit of the internal quantum efficiency may be considered to be 100%. Therefore, it can be expected that the light emission efficiency defined by the light emission luminance with respect to the drive voltage is improved.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この時、燐光による発
光の場合には、
At this time, in the case of light emission by phosphorescence,

【0007】[0007]

【化3】 [Chemical 3]

【0008】[化3]に示すN,N’−ジフェニル−
N,N’−ビス(1−ナフチル)―1,1’−ビフェニ
ル−4,4’−ジアミン(以下NPDとも言う。)など
の正孔輸送性低分子、または、
N, N'-diphenyl-shown in [Chemical Formula 3]
A hole transporting low molecule such as N, N'-bis (1-naphthyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (hereinafter also referred to as NPD), or

【0009】[0009]

【化4】 [Chemical 4]

【0010】[化4]に示すポリ(N−ビニルカルバゾ
ール)(以下PVKともいう。)などの正孔輸送性高分
子など、正孔移動度に相関する電気抵抗値が相対的に高
い正孔輸送性物質を用いている。
Holes such as poly (N-vinylcarbazole) (hereinafter also referred to as PVK) shown in [Chemical Formula 4] having a relatively high electric resistance value that correlates with hole mobility, such as a hole transporting polymer. Uses transportable substances.

【0011】したがって、上記[化3]で示されるNP
Dや[化4]で示されるPVKを正孔輸送性物質として
用い、燐光により発光する有機エレクトロルミネッセン
ス素子を駆動させる場合には比較的高い印加電圧が必要
となり、これが所期の発光効率の向上を阻害する要因と
なる。
Therefore, the NP shown in [Chemical Formula 3] above
When PVK represented by D or [Chemical Formula 4] is used as a hole-transporting substance and an organic electroluminescence device that emits light by phosphorescence is driven, a relatively high applied voltage is required, which is expected to improve the luminous efficiency. It becomes a factor to inhibit.

【0012】本発明は、上記問題点に鑑み、低電圧での
駆動により高輝度で発光し得る、即ち、発光効率の高い
有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを課
題としている。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide an organic electroluminescence device which can emit light with high brightness when driven at a low voltage, that is, has high luminous efficiency.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、陽極層及び陰極層の両電極層間に形成さ
れ、正孔輸送層と発光層とを有する有機エレクトロルミ
ネッセンス素子において、前記正孔輸送層を[化1]で
表される繰り返し単位を有する重合体で構成している。
このような重合体は、導電性高分子であるため高い正孔
移動度を有し、このため、正孔輸送層から発光層へ正孔
が確実に移動できる。
In order to solve the above problems, the present invention provides an organic electroluminescence device having a hole transport layer and a light emitting layer, which is formed between both electrode layers of an anode layer and a cathode layer. The hole transport layer is composed of a polymer having a repeating unit represented by [Chemical Formula 1].
Since such a polymer is a conductive polymer, it has a high hole mobility, and therefore holes can surely move from the hole transport layer to the light emitting layer.

【0014】この場合、前記[化1]で表される繰り返
し単位中のRは、炭素数10以下のアルキル基から成る
ことが望ましい。
In this case, R in the repeating unit represented by the above [Chemical formula 1] is preferably an alkyl group having 10 or less carbon atoms.

【0015】また、前記[化1]で表される繰り返し単
位中のRは、炭素数10以下のアルコキシル基から成る
ことが望ましい。
Further, R in the repeating unit represented by the above [Chemical formula 1] is preferably an alkoxyl group having 10 or less carbon atoms.

【0016】また、前記[化1]で表される繰り返し単
位中のRは、アリール基を有する置換基から成ることが
望ましい。
Further, R in the repeating unit represented by the above [Chemical formula 1] preferably comprises a substituent having an aryl group.

【0017】さらに、これらの場合、前記重合体を、前
記発光層中のホスト剤より電子親和力が小さくなるよう
に構成すると、正孔輸送層の電子注入障壁を増大させる
ので、正孔輸送層に電子ブロック効果が確実に具備され
て正孔輸送電子ブロック層として機能する。このため、
さらに高輝度の発光が得られる。
Further, in these cases, if the polymer is constituted so as to have an electron affinity lower than that of the host agent in the light emitting layer, the electron injection barrier of the hole transporting layer is increased, so that the hole transporting layer is formed. The electron blocking effect is surely provided to function as a hole transporting electron blocking layer. For this reason,
Further, high-luminance light emission can be obtained.

【0018】さらに、これらの場合、前記発光層が燐光
を放射するドープ剤を有するように構成することが望ま
しい。このようにすれば、燐光により発光し得る有機エ
レクトロルミネッセンス素子の形成が可能になる。
Further, in these cases, it is desirable that the light emitting layer has a dopant emitting phosphorescence. By doing so, it becomes possible to form an organic electroluminescence element capable of emitting light by phosphorescence.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1は、発光効率の向上を目的と
して多層に積層された素子構造を有する有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の基本構造を示す。有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の素子構造は、図外の基板上に形成
された陽極層10に、正孔輸送層20、電子ブロック層
30、発光層40、正孔ブロック層50及び電子輸送層
60の各薄膜層が、陽極層10と陰極層70との両電極
層間で順次積層されて成る多層積層構造であり、発光層
40は、発光層ドープ剤41と発光層ホスト剤42とを
有して構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a basic structure of an organic electroluminescence device having a device structure laminated in multiple layers for the purpose of improving luminous efficiency. The element structure of the organic electroluminescence element is such that each of the hole transport layer 20, the electron block layer 30, the light emitting layer 40, the hole block layer 50, and the electron transport layer 60 is formed on the anode layer 10 formed on a substrate (not shown). The thin film layer has a multi-layered structure in which the anode layer 10 and the cathode layer 70 are sequentially laminated between both electrode layers, and the light emitting layer 40 includes a light emitting layer doping agent 41 and a light emitting layer host agent 42. Has been done.

【0020】図1で示される素子構造において、陽極層
10は、例えばガラス基板のような透明絶縁性支持体に
形成された透明な導電性物質が用いられ、その材料とし
ては、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム(I
TO)などの導電性酸化物、あるいは、金、銀、クロム
などの金属、よう化銅、硫化銅などの無機導電性物質、
ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン等の導電
性ポリマーなどを用いることができる。
In the element structure shown in FIG. 1, for the anode layer 10, a transparent conductive substance formed on a transparent insulating support such as a glass substrate is used, and the material thereof is tin oxide or oxide. Indium, indium tin oxide (I
Conductive oxides such as TO) or metals such as gold, silver and chromium, inorganic conductive substances such as copper iodide and copper sulfide,
Conductive polymers such as polythiophene, polypyrrole, and polyaniline can be used.

【0021】また、陰極層70が透明な材料で形成され
ている場合には、陽極層10は不透明な材料で形成され
ても良い。
When the cathode layer 70 is made of a transparent material, the anode layer 10 may be made of an opaque material.

【0022】また、図1で示される素子構造において、
陰極層70には、ニオブ、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、硼素、アルミニウム、
銅、銀、金などの単体または合金が使用できる。さら
に、これらを積層して使用することもできる。また、テ
トラヒドロアルミン酸塩により湿式で形成することもで
きる。この場合、陰極層70に用いられるテトラヒドロ
アルミン酸塩としては、特に、水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化アルミニウ
ムマグネシウム、水素化アルミニウムカルシウムを挙げ
ることができる。この中で、水素化アルミニウムリチウ
ムが、特に電子輸送層への電子注入性に優れている。
In the device structure shown in FIG. 1,
The cathode layer 70 includes niobium, lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, strontium, barium, boron, aluminum,
A simple substance such as copper, silver or gold or an alloy can be used. Further, these may be laminated and used. It can also be formed by a wet process using tetrahydroaluminate. In this case, examples of the tetrahydroaluminate used for the cathode layer 70 include lithium aluminum hydride, potassium aluminum hydride, magnesium aluminum hydride, and aluminum calcium hydride. Among these, lithium aluminum hydride is particularly excellent in the electron injection property into the electron transport layer.

【0023】また、正孔輸送層20は、陽極層10から
注入される正孔を輸送するための層であり、正孔輸送性
有機物を含む有機層である。正孔輸送層性有機物の例と
して、[化1]に示す繰り返し単位を有するポリフルオ
レン化合物、例えば、
The hole transport layer 20 is a layer for transporting holes injected from the anode layer 10, and is an organic layer containing a hole transporting organic substance. As an example of the hole transport layer organic material, a polyfluorene compound having a repeating unit represented by [Chemical Formula 1], for example,

【0024】[0024]

【化5】 [Chemical 5]

【0025】[化5]で示されるジノルマルブチルポリ
フルオレン、
Di-normal butyl polyfluorene represented by [Chemical formula 5],

【0026】[0026]

【化6】 [Chemical 6]

【0027】[化6]で示されるジノルマルブチルフル
オレン/アントラセンコポリマー化合物、[化4]に示
すPVK、
A dinormal butylfluorene / anthracene copolymer compound represented by [Chemical Formula 6], PVK represented by [Chemical Formula 4],

【0028】[0028]

【化7】 [Chemical 7]

【0029】[化7]に示すポリ(パラ−フェニレンビ
ニレン)、などの高分子からなることが好ましい。ある
いは、[化2]に示すTPD、[化3]に示すNPD、
It is preferably composed of a polymer such as poly (para-phenylene vinylene) shown in [Chemical Formula 7]. Alternatively, TPD shown in [Chemical Formula 2], NPD shown in [Chemical Formula 3],

【0030】[0030]

【化8】 [Chemical 8]

【0031】[化8]に示すカルバゾールビフェニル
(以下、CBPとも言う。)、
Carbazole biphenyl (hereinafter also referred to as CBP) shown in [Chemical Formula 8],

【0032】[0032]

【化9】 [Chemical 9]

【0033】[化9]に示す4,4’−ビス(10−フ
ェノチアジニル)ビフェニル、
4,4'-bis (10-phenothiazinyl) biphenyl shown in [Chemical Formula 9],

【0034】[0034]

【化10】 [Chemical 10]

【0035】[化10]に示すカッパーフタロシアニ
ン、また、電子ブロック層30は、陰極層70から発光
層40へ注入された電子がそのまま陽極層10へ通過し
てしまうことを防ぐため電子をブロックするための層で
あり、電子ブロック性物質で構成される。電子ブロック
性物質としては、例えば、[化2] 乃至[化9]で示され
る化合物や、
The copper phthalocyanine shown in [Chemical Formula 10] and the electron blocking layer 30 block electrons in order to prevent the electrons injected from the cathode layer 70 to the light emitting layer 40 from directly passing to the anode layer 10. And is composed of an electron blocking substance. Examples of the electron blocking substance include compounds represented by [Chemical Formula 2] to [Chemical Formula 9],

【0036】[0036]

【化11】 [Chemical 11]

【0037】[化11]に示す2,4,6−トリフェニル
−1,3,5−トリアゾール、
2,4,6-triphenyl-1,3,5-triazole shown in [Chemical Formula 11],

【0038】[0038]

【化12】 [Chemical 12]

【0039】[化12]に示すフローレン、などを挙げる
ことができる。
Examples thereof include Florene shown in [Chemical Formula 12].

【0040】また、発光層40はドープ剤41とホスト
剤42とを有し、これらドープ剤41とホスト剤42と
を均一に分散させるため、バインダ高分子を添加するこ
とも可能である。ホスト剤42は、陽極層10及び陰極
層70からそれぞれ注入された正孔と電子とが発光層4
0において再結合する際に賦活されて励起子として作用
する物質であり、[化1]で示されるポリフルオレン化
合物、例えば、
Further, the light emitting layer 40 has a doping agent 41 and a host agent 42, and in order to disperse the doping agent 41 and the host agent 42 uniformly, it is possible to add a binder polymer. In the host agent 42, holes and electrons injected from the anode layer 10 and the cathode layer 70, respectively, are emitted from the light emitting layer 4.
Is a substance that is activated when recombining at 0 and acts as an exciton, and is a polyfluorene compound represented by [Chemical Formula 1], for example,

【0041】[0041]

【化13】 [Chemical 13]

【0042】[化13]で示されるジノルマルブトキシ
ポリフルオレン、[化4]に示すPVK、[化8]に示
すCBP、
Dinormal butoxypolyfluorene represented by [Chemical Formula 13], PVK represented by [Chemical Formula 4], CBP represented by [Chemical Formula 8],

【0043】[0043]

【化14】 [Chemical 14]

【0044】[化14]に示す1,3,5−トリ(5−
(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキ
サジアゾール)フェニル(以下OXD−1ともい
う。)、
1,3,5-tri (5-
(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole) phenyl (hereinafter also referred to as OXD-1),

【0045】[0045]

【化15】 [Chemical 15]

【0046】[化15]に示される1,3―ジ(5−
(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキ
サジアゾール)フェニル(以下OXD−7ともい
う。)、
1,3-di (5-
(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole) phenyl (hereinafter also referred to as OXD-7),

【0047】[0047]

【化16】 [Chemical 16]

【0048】[化16] に示す2−(4−ビフェニリ
ル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,
3,4−オキサジアゾール、(以下PBDともい
う。)、
2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1, shown in [Chemical Formula 16],
3,4-oxadiazole, (hereinafter also referred to as PBD),

【0049】[0049]

【化17】 [Chemical 17]

【0050】[化17]で示される3,4,5―トリ
(1−ナフチル)―1,2,4―トリアゾール
3,4,5-tri (1-naphthyl) -1,2,4-triazole represented by [Chemical Formula 17]

【0051】[0051]

【化18】 [Chemical 18]

【0052】[化18]で示されるN-フェニルカルバ
ゾール、
N-phenylcarbazole represented by [Chemical Formula 18],

【0053】[0053]

【化19】 [Chemical 19]

【0054】[化19]で示される、N-メチルカルバ
ゾール、
N-methylcarbazole represented by [Chemical Formula 19],

【0055】[0055]

【化20】 [Chemical 20]

【0056】[化20]で示されるN-フェニルポリカ
ルバゾール
N-phenyl polycarbazole represented by [Chemical Formula 20]

【0057】[0057]

【化21】 [Chemical 21]

【0058】[化21]で示されるN-メチルポリカル
バゾール、
N-methylpolycarbazole represented by [Chemical Formula 21],

【0059】[0059]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0060】[0060]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0061】[0061]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0062】[0062]

【化25】 [Chemical 25]

【0063】[化22]乃至[化25]で示されるオキ
サジアゾール系高分子化合物、
Oxadiazole-based polymer compounds represented by [Chemical Formula 22] to [Chemical Formula 25],

【0064】[0064]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0065】[0065]

【化27】 [Chemical 27]

【0066】[0066]

【化28】 [Chemical 28]

【0067】[化26]乃至[化28]で示されるトリ
アゾール系高分子化合物
Triazole polymer compounds represented by [Chemical formula 26] to [Chemical formula 28]

【0068】[0068]

【化29】 [Chemical 29]

【0069】[化29]に示すバソキュプロイン(以下B
CPともいう。)、
Bathocuproine (hereinafter referred to as B)
Also called CP. ),

【0070】[0070]

【化30】 [Chemical 30]

【0071】[化30]に示すトリス(8−ヒドロキシ
キノリナート)アルミニウム(以下Alq3ともい
う。)、などが挙げられる。
Examples include tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (hereinafter also referred to as Alq3) shown in [Chemical Formula 30].

【0072】一方、発光層40のドープ剤41は、励起
子たるホスト剤42の励起エネルギーにより燐光を放射
する物質であり、
On the other hand, the doping agent 41 of the light emitting layer 40 is a substance which emits phosphorescence by the excitation energy of the host agent 42 which is an exciton,

【0073】[0073]

【化31】 [Chemical 31]

【0074】[化31]に示すトリ(2フェニルピリジ
ン)イリジウム錯体(以下Ir(ppy)3とも言
う。)、
A tri (2phenylpyridine) iridium complex represented by [Chemical Formula 31] (hereinafter also referred to as Ir (ppy) 3 ),

【0075】[0075]

【化32】 [Chemical 32]

【0076】[0076]

【化33】 [Chemical 33]

【0077】[0077]

【化34】 [Chemical 34]

【0078】[0078]

【化35】 [Chemical 35]

【0079】[0079]

【化36】 [Chemical 36]

【0080】[0080]

【化37】 [Chemical 37]

【0081】(化学式[化37]中、acacは、(In the chemical formula [Chemical Formula 37], acac is

【0082】[0082]

【化38】 [Chemical 38]

【0083】[化38]で示される官能基を示す。下記
[化39]乃至[化43]に示す化学式において同じ。)
The functional group represented by [Chemical Formula 38] is shown below. following
The same applies to the chemical formulas shown in [Chemical Formula 39] to [Chemical Formula 43]. )

【0084】[0084]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0085】[0085]

【化40】 [Chemical 40]

【0086】[0086]

【化41】 [Chemical 41]

【0087】[0087]

【化42】 [Chemical 42]

【0088】[0088]

【化43】 [Chemical 43]

【0089】[化32]乃至[化37]、[化39]乃至[化
43]で示されるイリジウム錯体化合物、
Iridium complex compounds represented by [Chemical Formula 32] to [Chemical Formula 37] and [Chemical Formula 39] to [Chemical Formula 43],

【0090】[0090]

【化44】 [Chemical 44]

【0091】[化44]に示す2,3,7,8,12,
13,17,18−オクタエチル−21H,23H−白
金(II)ポルフィン(以下PtOEPとも言う。)、
2, 3, 7, 8, 12, shown in [Chemical 44]
13,17,18-octaethyl-21H, 23H-platinum (II) porphine (hereinafter also referred to as PtOEP),

【0092】[0092]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0093】[化45]に示す3-(2’-ベンゾチアゾ
リル)-7-ジエチルアミノクマリン(以下、クマリン6
とも言う。)
3- (2'-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (hereinafter referred to as coumarin 6) shown in [Chemical Formula 45]
Also say. )

【0094】[0094]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0095】[化46]に示す(2-メチル-6-(2-
(2,3,6,7-テトラハイドロ-1H、5H-ベンゾ
(ij)クイノリジン-9-イル)エチニル)-4H-ピラ
ン-4-イリデン)プロパン-ジニトリル(以下DCM2
とも言う。)、などを挙げることができる。
(2-Methyl-6- (2-
(2,3,6,7-Tetrahydro-1H, 5H-benzo (ij) quinolidine-9-yl) ethynyl) -4H-pyran-4-ylidene) propane-dinitrile (hereinafter DCM2
Also say. ), And so on.

【0096】また、発光層40に添加可能なバインダ高
分子の例として、ポリスチレン、ポリビニルビフェニ
ル、ポリビニルフェナントレン、ポリビニルアントラセ
ン、ポリビニルペリレン、ポリ(エチレン−co−ビニ
ルアセテート)、ポリブタジエンのcisとtran
s、ポリ(2−ビニルナフタレン)、ポリビニルピロリ
ドン、ポリスチレン、ポリ(メチルメタクリレート)、
ポリ(ビニルアセテート)、ポリ(2−ビニルピリジン
−co−スチレン)、ポリアセナフチレン、ポリ(アク
リロニトリル−co−ブタジエン)、ポリ(ベンジルメ
タクリレート)、ポリ(ビニルトルエン)、ポリ(スチ
レン−co−アクリロニトリル)、ポリ(4−ビニルビ
フェニル)、ポリエチレングリコールなどが挙げられ
る。
Examples of binder polymers that can be added to the light emitting layer 40 include polystyrene, polyvinylbiphenyl, polyvinylphenanthrene, polyvinylanthracene, polyvinylperylene, poly (ethylene-co-vinylacetate), and polybutadienes cis and tran.
s, poly (2-vinylnaphthalene), polyvinylpyrrolidone, polystyrene, poly (methylmethacrylate),
Poly (vinyl acetate), poly (2-vinyl pyridine-co-styrene), polyacenaphthylene, poly (acrylonitrile-co-butadiene), poly (benzyl methacrylate), poly (vinyltoluene), poly (styrene-co-) Acrylonitrile), poly (4-vinylbiphenyl), polyethylene glycol and the like.

【0097】また、正孔ブロック層50は、陽極層10
から発光層40へ注入された正孔がそのまま陰極層70
へ通過してしまうことを防ぐため正孔をブロックするた
めの層であり、正孔ブロック性物質で構成される。正孔
ブロック性物質としては、例えば、[化14]に示すOX
D−1、[化16] に示すPBD、 [化29]に示すBC
P、[化30]に示すAlq3、
Further, the hole blocking layer 50 is the anode layer 10
The holes injected into the light emitting layer 40 from the cathode layer 70 as they are.
It is a layer for blocking holes in order to prevent the holes from passing through and is composed of a hole blocking substance. Examples of the hole blocking substance include OX shown in [Chemical Formula 14].
D-1, PBD shown in [Chemical 16], BC shown in [Chemical 29]
P, Alq3 shown in [Chemical Formula 30],

【0098】[0098]

【化47】 [Chemical 47]

【0099】[化47]に示す3−(4−ビフェニリ
ル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フ
ェニル−1,2,4−トリアゾール(以下、TAZとも
いう。)、
3- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -4-phenyl-1,2,4-triazole (hereinafter also referred to as TAZ) shown in [Chemical Formula 47],

【0100】[0100]

【化48】 [Chemical 48]

【0101】[化48]に示す4,4’−ビス(1,1
−ジフェニルエテニル)ビフェニル(以下にDPVBi
ともいう。)、
4,4'-bis (1,1 shown in [Chemical Formula 48]
-Diphenylethenyl) biphenyl (hereinafter DPVBi
Also called. ),

【0102】[0102]

【化49】 [Chemical 49]

【0103】[化49]に示す2,5−ビス(1−ナフ
チル)−1.3.4−オキサジアゾール(以下にBND
ともいう。)
2,5-bis (1-naphthyl) -1.3.4-oxadiazole (hereinafter referred to as BND
Also called. )

【0104】[0104]

【化50】 [Chemical 50]

【0105】[化50]に示される4,4’−ビス
(1,1−ビス(4−メチルフェニル)エテニル)ビフ
ェニル(以下DTVBiとも言う。)、
4,4'-bis (1,1-bis (4-methylphenyl) ethenyl) biphenyl (hereinafter also referred to as DTVBi) shown in [Chemical Formula 50],

【0106】[0106]

【化51】 [Chemical 51]

【0107】[化51]に示される2,5−ビス(4−
ビフェニリル)−1,3,4−オキサジアゾール(以下
BBDともいう。)、
2,5-bis (4-) shown in [Chemical Formula 51]
Biphenylyl) -1,3,4-oxadiazole (hereinafter also referred to as BBD),

【0108】[0108]

【化52】 [Chemical 52]

【0109】[0109]

【化53】 [Chemical 53]

【0110】[化52]、[化53]に示すようなオキ
サジアゾール系高分子化合物、
Oxadiazole-based polymer compounds represented by [Chemical Formula 52] and [Chemical Formula 53],

【0111】[0111]

【化54】 [Chemical 54]

【0112】[0112]

【化55】 [Chemical 55]

【0113】[化54]、[化55]で示すようなトリ
アゾール系高分子化合物、などを挙げることができる。
Examples thereof include triazole polymer compounds represented by [Chemical Formula 54] and [Chemical Formula 55].

【0114】また、電子輸送層60は、陰極層70から
注入される電子を輸送するための層であり、電子輸送剤
を含む。電子輸送剤は、電子輸送性高分子で構成され、
さらに電子輸送性低分子を含む構成が可能である。
The electron transport layer 60 is a layer for transporting electrons injected from the cathode layer 70 and contains an electron transport agent. The electron transport agent is composed of an electron transporting polymer,
Further, a structure containing a low molecule having an electron transport property is possible.

【0115】ここで、電子輸送性低分子の例として、
[化15]に示されるOXD−7、[化16]に示すP
BD、[化29]に示すBCP、[化30]に示すAlq
3、[化47]に示すTAZ、[化48]に示すDPV
Bi、[化49]に示すBND、[化50]に示すDT
VBi、[化51]に示すBBD、
Here, as an example of the electron transporting low molecule,
OXD-7 shown in [Chemical Formula 15] and P shown in [Chemical Formula 16]
BD, BCP shown in [Chemical formula 29], Alq shown in [Chemical formula 30]
3, TAZ shown in [Chemical 47], DPV shown in [Chemical 48]
Bi, BND shown in [Chemical 49], DT shown in [Chemical 50]
VBi, the BBD shown in [Chemical 51],

【0116】[0116]

【化56】 [Chemical 56]

【0117】[化56]で示される2,5-ジフェニル-
1,3,4-オキサジアゾール(以下PPDとも言
う。)、また、電子輸送性高分子の例として、[化5
2]、[化53]で示されるようなオキサジアゾール系
高分子化合物、[化54]、[化55]で示されるよう
なトリアゾール系高分子化合物、などが挙げられる。
2,5-diphenyl-represented by [Chemical Formula 56]
1,3,4-oxadiazole (hereinafter also referred to as PPD), and as an example of an electron-transporting polymer,
2] and oxadiazole-based polymer compounds represented by [Chemical Formula 53], and triazole-based polymer compounds represented by [Chemical Formula 54] and [Chemical Formula 55].

【0118】発光効率のさらなる向上や構造の簡素化の
ため、図1に示す有機エレクトロルミネッセンス素子の
基本構造に変更を加えたものとして、図2または図3に
示す素子構造が可能である。
The element structure shown in FIG. 2 or FIG. 3 is possible by modifying the basic structure of the organic electroluminescence element shown in FIG. 1 in order to further improve the luminous efficiency and simplify the structure.

【0119】図2で示される有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の素子構造は、本発明の有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の第1の実施形態を示す。図1の電子ブロ
ック層30と正孔ブロック層50とが省略されている
が、図2において、正孔輸送層20に電子ブロック効果
を備えさせて正孔輸送電子ブロック層23として形成す
る一方、電子輸送層60に正孔ブロック効果を持たせ
て、発光効率を維持させることができる。
The element structure of the organic electroluminescent element shown in FIG. 2 shows the first embodiment of the organic electroluminescent element of the present invention. Although the electron blocking layer 30 and the hole blocking layer 50 in FIG. 1 are omitted, in FIG. 2, the hole transporting layer 20 is provided with an electron blocking effect to be formed as the hole transporting electron blocking layer 23. The electron transport layer 60 can have a hole blocking effect to maintain the luminous efficiency.

【0120】図3で示される有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の素子構造は、図1で示す素子構造において、
正孔輸送層20に電子ブロック効果を備えさせて正孔輸
送電子ブロック層23に変更し、電子ブロック層30と
正孔ブロック層50とを省略し、陽極層10と正孔輸送
電子ブロック層23との間に正孔注入性物質で構成され
る正孔注入層21を追加したものである。
The element structure of the organic electroluminescent element shown in FIG. 3 is the same as the element structure shown in FIG.
The hole transporting layer 20 is provided with an electron blocking effect and is changed to a hole transporting electron blocking layer 23, the electron blocking layer 30 and the hole blocking layer 50 are omitted, and the anode layer 10 and the hole transporting electron blocking layer 23 are omitted. And a hole injecting layer 21 made of a hole injecting material is added between and.

【0121】正孔注入性物質としては、たとえば、[化
10]に示すカッパーフタロシアニンなどの金属フタロ
シアニンや、
Examples of the hole injecting substance include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine shown in [Chemical formula 10] and

【0122】[0122]

【化57】 [Chemical 57]

【0123】[化57]で示される、ポリ(3,4)エチ
レンジオキシチオフェン/ポリスチレンサルフォネート
(以下PEDT/PSSともいう。)、
Poly (3,4) ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (hereinafter also referred to as PEDT / PSS) represented by [Chemical Formula 57],

【0124】[0124]

【化58】 [Chemical 58]

【0125】[化58]に示すポリ(3,4)エチレン
ジオキシチオフェン(以下PEDTともいう。)などが
挙げられる。
Examples include poly (3,4) ethylenedioxythiophene (hereinafter also referred to as PEDT) shown in [Chemical Formula 58].

【0126】次に、図2を本発明の第1の実施形態とし
て、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を説
明する。
Next, referring to FIG. 2 as the first embodiment of the present invention, a method for manufacturing an organic electroluminescence element will be described.

【0127】まず、基板(図示せず)となる透明絶縁性
支持体、例えばガラス基板上に陽極層10を蒸着法また
はスパッタ法にて形成する。
First, the anode layer 10 is formed by a vapor deposition method or a sputtering method on a transparent insulating support which will be a substrate (not shown), for example, a glass substrate.

【0128】次に、電子ブロック効果をも有する正孔輸
送性高分子または正孔輸送性低分子を溶媒に溶解または
分散した第1の溶液を作成する。ここで、第1の溶液
に、さらにバインダ高分子を溶解または分散することも
可能である。そして、第1の溶液を用いた湿式法によっ
て、陽極層10上に正孔輸送層に電子ブロック効果を備
えさせて成る正孔輸送電子ブロック層23を形成する。
Next, a first solution is prepared by dissolving or dispersing a hole transporting polymer or a hole transporting low molecule having an electron blocking effect in a solvent. Here, it is also possible to further dissolve or disperse the binder polymer in the first solution. Then, by a wet method using the first solution, the hole transport electron blocking layer 23 including the hole transport layer having the electron blocking effect is formed on the anode layer 10.

【0129】さらに、発光層40のドープ剤41とホス
ト剤42とを溶媒に溶解または分散した第2の溶液を作
成する。ここで、第2の溶液に、さらにバインダ高分子
を溶解または分散することも可能である。そして、その
第2の溶液を用いた湿式法によって、上記正孔輸送電子
ブロック層23上に発光層40を形成する。
Further, a second solution is prepared by dissolving or dispersing the doping agent 41 and the host agent 42 of the light emitting layer 40 in a solvent. Here, it is also possible to further dissolve or disperse the binder polymer in the second solution. Then, the light emitting layer 40 is formed on the hole transport electron blocking layer 23 by a wet method using the second solution.

【0130】さらに、電子輸送性高分子または電子輸送
性低分子を溶媒に溶解または分散した第3の溶液を作成
する。ここで、第3の溶液に、さらにバインダ高分子を
溶解または分散することも可能である。その第3の溶液
を用いた湿式法によって、発光層40上に電子輸送層6
0を形成する。
Further, a third solution is prepared by dissolving or dispersing the electron transporting polymer or the electron transporting low molecule in a solvent. Here, the binder polymer can be further dissolved or dispersed in the third solution. The electron transport layer 6 is formed on the light emitting layer 40 by a wet method using the third solution.
Form 0.

【0131】また、第2の溶液に用いた溶媒の溶解度パ
ラメータは、発光層40の成膜温度において、正孔輸送
電子ブロック層23に含まれる物質(電子ブロック効果
をも有する正孔輸送性高分子または正孔輸送性低分子な
ど)に対して可溶範囲外を示す値を有する。このような
溶媒を用いた、湿式法による発光層40の形成におい
て、下層の正孔輸送電子ブロック層23に含まれる有機
物を溶解することがない。
The solubility parameter of the solvent used in the second solution is determined by the substance contained in the hole transporting electron blocking layer 23 (high hole transporting property also having an electron blocking effect) at the film formation temperature of the light emitting layer 40. It has a value that is out of the soluble range for a molecule or a hole transporting small molecule). When the light emitting layer 40 is formed by the wet method using such a solvent, the organic substance contained in the lower hole transport electron blocking layer 23 is not dissolved.

【0132】また、第3の溶液に用いる溶媒の溶解度パ
ラメータは、電子輸送層60の成膜温度において、発光
層40に含まれる物質(ドープ剤41、ホスト剤42及
びバインダ高分子など)に対して可溶範囲外を示す値を
有する。このような溶媒を用いた、湿式法による電子輸
送層60の形成において、下層の発光層40に含まれる
有機物を溶解することがない。
Further, the solubility parameter of the solvent used in the third solution is set to the substances contained in the light emitting layer 40 (the dopant 41, the host agent 42, the binder polymer, etc.) at the film formation temperature of the electron transport layer 60. Has a value outside the soluble range. When the electron transport layer 60 is formed by the wet method using such a solvent, the organic substance contained in the lower light emitting layer 40 is not dissolved.

【0133】この時、上記の第1乃至第3の溶液に用い
る溶媒は自然乾燥によって蒸発することにより、正孔輸
送電子ブロック層23と発光層40と電子輸送層60と
が形成される。この場合、加熱、紫外線の照射による重
合、硬化等の処理を行う必要がなく、従って、製造工程
が簡単であり生産効率を向上させることができる。
At this time, the solvent used for the above-mentioned first to third solutions is evaporated by natural drying to form the hole-transporting electron blocking layer 23, the light-emitting layer 40 and the electron-transporting layer 60. In this case, there is no need to perform treatments such as heating, polymerization by irradiation of ultraviolet rays, curing, etc. Therefore, the manufacturing process is simple and the production efficiency can be improved.

【0134】本発明で使用される湿式法には、たとえば
キャスティング法、ブレードコート法、浸漬塗工法、ス
ピンコート法、スプレイコート法、ロール塗工法、イン
クジェット塗工法などの通常の塗工法が含まれる。
The wet method used in the present invention includes ordinary coating methods such as casting method, blade coating method, dip coating method, spin coating method, spray coating method, roll coating method and ink jet coating method. .

【0135】最後に、電子輸送層60上に、蒸着法など
を用いて陰極層70を形成し、本発明の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子が得られる。
Finally, the cathode layer 70 is formed on the electron transport layer 60 by using the vapor deposition method or the like to obtain the organic electroluminescence device of the present invention.

【0136】なお、溶解度パラメータSPは、モル蒸発
熱ΔH、モル体積Vの液体の絶対温度Tにおいて、 SP={(ΔH−RT)/V}1/2 で定義される。ただし、上記式中、SPは溶解度パラメ
ータ(単位:(cal/cm31/2)であり、ΔHはモ
ル蒸発熱(単位:cal/mol)であり、Rは気体定
数(単位:cal/(mol・K))であり、Tは絶対
温度(単位:K)であり、Vはモル体積(単位:cm3
/mol)である。
The solubility parameter SP is defined by SP = {(ΔH-RT) / V} 1/2 at the absolute temperature T of the liquid having a molar evaporation heat ΔH and a molar volume V. However, in the above formula, SP is a solubility parameter (unit: (cal / cm 3 ) 1/2 ), ΔH is a heat of molar evaporation (unit: cal / mol), and R is a gas constant (unit: cal / mol). (Mol · K)), T is the absolute temperature (unit: K), and V is the molar volume (unit: cm 3).
/ Mol).

【0137】また、図3は、本発明の有機エレクトロル
ミネッセンス素子の第2の実施形態であり、上記図2で
示される素子構造の製造工程中、正孔輸送電子ブロック
層23の形成前に、陽極層10上に[化58]で示され
るPEDTなどの正孔注入性物質を湿式法により成膜し
て正孔注入層21を形成した後に、該正孔注入層21上
に上記図2と同様に、正孔輸送電子ブロック層23、発
光層40、電子輸送層60及び陰極層70を順次形成す
る製造工程を経て得られる。
FIG. 3 shows a second embodiment of the organic electroluminescence device of the present invention. During the manufacturing process of the device structure shown in FIG. 2, before forming the hole transport electron blocking layer 23, After forming a hole injecting substance such as PEDT represented by [Chemical Formula 58] on the anode layer 10 by a wet method to form the hole injecting layer 21, the hole injecting layer 21 is formed on the hole injecting layer 21 as shown in FIG. Similarly, the hole transport electron blocking layer 23, the light emitting layer 40, the electron transport layer 60, and the cathode layer 70 are sequentially formed, and the resultant is obtained.

【0138】[0138]

【実施例】[実施例1]ゲルパーエイションクロマトグ
ラフィーにより測定したポリスチレン換算重量平均量
(以下分子量と言う。)として60,000の[化5]
で示されるジノルマルブチルポリフルオレン重合体(電
子親和力:2.15eV)6mgを1mlの1,2-ジ
クロロエタンで溶解して溶液1を作成した。
EXAMPLES [Example 1] A polystyrene-converted weight average amount (hereinafter referred to as molecular weight) measured by gel permeation chromatography of 60,000 [Chemical formula 5].
A solution 1 was prepared by dissolving 6 mg of a di-normal-butyl polyfluorene polymer (electron affinity: 2.15 eV) shown in 1 with 1 ml of 1,2-dichloroethane.

【0139】酸素プラズマ処理を行なったITO基板上
(市販ITO、旭硝子社製:20Ω/□以下)に溶液1
を回転数1000rpmで1秒間スピンコートする事に
より50nmの膜厚の正孔輸送電子ブロック層を得た。
Solution 1 was placed on an ITO substrate that had been subjected to oxygen plasma treatment (commercial ITO, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: 20 Ω / □ or less).
Was spin-coated at 1000 rpm for 1 second to obtain a hole-transporting electron blocking layer having a film thickness of 50 nm.

【0140】真空蒸着装置により、真空度10-3Pa、
蒸着速度1nm/secで、正孔輸送電子ブロック層上
に、[化8]に示されるCBP(電子親和力2.33e
V)と[化31]に示すIr(ppy)3とを、Ir
(ppy)3が6.5重量%になるように共蒸着して2
0nmの膜厚に発光層として成膜し、[化14]で示さ
れるOXD−1を蒸着速度1nm/secで50nmの
膜厚で電子輸送層として成膜した。
A vacuum degree of 10 −3 Pa,
The CBP (electron affinity 2.33e) shown in [Chemical Formula 8] is formed on the hole transporting electron blocking layer at a vapor deposition rate of 1 nm / sec.
V) and Ir (ppy) 3 shown in [Chemical Formula 31]
Co-evaporate so that (ppy) 3 becomes 6.5% by weight and 2
A film having a thickness of 0 nm was formed as a light emitting layer, and OXD-1 represented by [Chemical Formula 14] was formed as a film having an electron transporting layer with a film thickness of 50 nm at a vapor deposition rate of 1 nm / sec.

【0141】蒸着速度0.01nm/secでリチウム
を0.5nmの膜厚で成膜し、さらにその上に蒸着速度
1nm/secでアルミニウムを50nmの膜厚で蒸着
して成膜して陰極を形成した。このようにして、図2に
示す素子構造を作成したところ、4.7V(駆動電圧、
以下同じ。)、1mA/cm2(電流密度、以下同
じ。)で630cd/m2(輝度、以下同じ。)の緑色
の発光を得た。 [比較例1][化5]で示されるジノルマルブチルポリ
フルオレンの替りに、[化3]で示されるNPD(電子
親和力2.46eV)を使用して蒸着で成膜した以外は
[実施例1]と同様に図2に示す素子構造を作成した。
蒸着条件は真空度10-3Pa、蒸着速度1nm/sec
である。この時、5V、1mA/cm2で400cd/
2の緑色の発光が得られた。 [比較例2][化5]で示されるジノルマルブチルポリ
フルオレンの替りに[化6]で示されるジノルマルブチ
ルフルオレン/アントラセンコポリマー化合物(電子親
和力3.30eV)を使用した以外は、[実施例1]と
同様に図2に示す素子構造を作成した。この時、4.5
V、1mA/cm2で200cd/m2の緑色の発光が得
られた。[実施例1]と[比較例1]及び[比較例2]
とを比較すると、発光層ホスト剤より正孔輸送電子ブロ
ック性物質の電子親和力が小さいときに、1mA/cm
2の電流密度における輝度が向上する事がわかる。
Lithium was deposited at a film thickness of 0.5 nm at a vapor deposition rate of 0.01 nm / sec, and aluminum was further deposited at a vapor deposition rate of 1 nm / sec to a thickness of 50 nm to form a cathode. Formed. In this way, when the device structure shown in FIG. 2 was created, 4.7 V (driving voltage,
same as below. ) Green light emission of 630 cd / m 2 (luminance, the same hereinafter) was obtained at 1 mA / cm 2 (current density, the same hereinafter). [Comparative Example 1] [Examples] except that NPD (electron affinity 2.46 eV) shown in [Chemical Formula 3] was used instead of dinormal butyl polyfluorene shown in [Chemical Formula 5] to form a film by vapor deposition. 1], the device structure shown in FIG. 2 was prepared.
Deposition conditions are vacuum degree of 10 -3 Pa and deposition rate of 1 nm / sec.
Is. At this time, 400 cd / at 5 V and 1 mA / cm 2.
A green emission of m 2 was obtained. [Comparative Example 2] [Execution] The device structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 1]. At this time, 4.5
A green emission of 200 cd / m 2 was obtained at V and 1 mA / cm 2 . [Example 1], [Comparative Example 1] and [Comparative Example 2]
Comparing with, when the electron affinity of the hole transporting electron blocking substance is smaller than that of the light emitting layer host agent, 1 mA / cm
It can be seen that the luminance at the current density of 2 is improved.

【0142】また、[実施例1]と[比較例1]とを比
較すると、正孔輸送電子ブロック層に導電性高分子を用
いると1mA/cm2における駆動電圧を軽減できる事
が判る。 [実施例2]〜[実施例9]、[比較例3]、[比較例
4][化5]で示されるジノルマルブチルポリフルオレ
ンの替りに、[化1]で表されるくり返し単位中のRと
して下記[表1]に示す置換基を用いて生成される重合
体を用いた以外は、[実施例1]と同様に図2に示す素
子構造を作成した。これらの重合体の分子量はすべて6
0,000としたところ、下記[表1]に示す発光効率
の発光が得られた。
Further, by comparing [Example 1] with [Comparative Example 1], it can be seen that the driving voltage at 1 mA / cm 2 can be reduced by using a conductive polymer in the hole transport electron blocking layer. [Example 2] to [Example 9], [Comparative Example 3], [Comparative Example 4] In the repeating unit represented by [Chemical Formula 1] in place of the dinormal butyl polyfluorene represented by [Chemical Formula 5]. An element structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 1] except that a polymer produced by using the substituents shown in [Table 1] below was used as R of. The molecular weight of all these polymers is 6
When it was set to 10,000, light emission having the light emission efficiency shown in [Table 1] below was obtained.

【0143】[0143]

【表1】 [Table 1]

【0144】[実施例5]に対して[比較例3]を、ま
た、[実施例7]に対して[比較例4]を比較すると、
上記R中の炭素数が10以上の場合、炭素数が大きくな
ると、電圧が上昇すると共に輝度が低下する。このこと
より、Rとして用いる置換基の炭素数は10以下が望ま
しい。 [実施例10]ITO基板と正孔輸送電子ブロック層と
の間に、[化57]で示されるPEDT/PSSを、回
転数4000rpmで10秒間スピンコートして50n
mの膜厚の正孔注入層を成膜した以外は[実施例1]と
同様にして図3に示す素子構造を作成した。この時、
4.2V、1mA/cm2で580cd/m2の緑色の発
光が得られた。 [実施例11]ITO基板と正孔輸送電子ブロック層と
の間に、真空蒸着により、[化10]で示されるカッパ
ーフタロシアニンを、真空度10-3Pa、蒸着速度0.
1nm/secで2nmの膜厚の正孔注入層を成膜した
以外は[実施例1]と同様にして図3に示す素子構造を
作成した。この時、4.4V、1mA/cm2で570
cd/m2の緑色の発光が得られた。 [実施例12]〜[実施例17]、[比較例5]発光層
ホスト剤として用いる[化8]に示されるCBPに替
え、下記[表2]に示す化合物を使用した以外は、[実
施例1]と同様に図2に示す素子構造を作成したとこ
ろ、[表2]に示す発光効率の発光が得られた。
Comparing [Comparative Example 3] with [Example 5] and [Comparative Example 4] with [Example 7],
When the number of carbon atoms in R is 10 or more, as the number of carbon atoms increases, the voltage increases and the brightness decreases. From this, the number of carbon atoms of the substituent used as R is preferably 10 or less. [Example 10] PEDT / PSS represented by [Chemical Formula 57] was spin-coated between the ITO substrate and the hole-transporting electron blocking layer for 10 seconds at a rotation speed of 4000 rpm to obtain 50 n.
An element structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 1] except that a hole injection layer having a thickness of m was formed. This time,
Green light emission of 580 cd / m 2 was obtained at 4.2 V and 1 mA / cm 2 . [Example 11] A copper phthalocyanine represented by [Chemical Formula 10] was vacuum-deposited between the ITO substrate and the hole-transporting electron blocking layer to form a vacuum degree of 10 -3 Pa and a deposition rate of 0.
An element structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 1] except that a hole injection layer having a film thickness of 2 nm was formed at 1 nm / sec. At this time, it is 570 at 4.4 V and 1 mA / cm 2 .
Green light emission of cd / m 2 was obtained. [Example 12] to [Example 17], [Comparative Example 5] [Example 5] was repeated except that the compound shown in the following [Table 2] was used instead of the CBP shown in [Chemical formula 8] used as the host agent for the light emitting layer. When the device structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in Example 1, emission with the emission efficiency shown in [Table 2] was obtained.

【0145】[0145]

【表2】 [Table 2]

【0146】[比較例5]において発光層ホスト剤とし
て用いる[化29]で示されるBCPの電子親和力は、
[化5]で示されるジノルマルブチルポリフルオレン
(2.15eV)より小さく、1mA/cm2における
輝度が低下することが示されている。 [実施例18]〜[実施例24][化14]で示される
OXD−1に替え、下記[表3]に示される化合物を電
子輸送層に用いた以外は、[実施例1]と同様に図2に
示す素子構造を作成したところ、下記[表3]に示す発
光効率の発光が得られた。なお、[実施例24]で用い
た[化29]で示されるBCPは6nmの膜厚に成膜し
ている。
The electron affinity of BCP represented by [Chemical Formula 29] used as a host material for the light emitting layer in [Comparative Example 5] is
It is smaller than dinormal butyl polyfluorene (2.15 eV) represented by [Chemical Formula 5], and it is shown that the luminance at 1 mA / cm 2 is reduced. [Example 18] to [Example 24] Same as [Example 1] except that the compound shown in [Table 3] below was used in the electron transport layer instead of OXD-1 shown in [Chemical formula 14]. When the device structure shown in FIG. 2 was created, light emission having the light emission efficiency shown in [Table 3] below was obtained. The BCP represented by [Chemical Formula 29] used in [Example 24] is formed to have a film thickness of 6 nm.

【0147】[0147]

【表3】 [Table 3]

【0148】[実施例25]〜[実施例30]陰極とし
て、リチウムに替えて下記[表4]に示す化合物を使用
した以外は[実施例1]と同様に図2に示す素子構造を
作成したところ[表4]に示す発光効率の発光が得られ
た。
[Example 25] to [Example 30] The device structure shown in Fig. 2 was prepared in the same manner as in [Example 1] except that lithium was replaced with the compounds shown in [Table 4] below. As a result, light emission having the light emission efficiency shown in [Table 4] was obtained.

【0149】[0149]

【表4】 [Table 4]

【0150】[実施例31]〜[実施例42]発光層ド
ープ剤として[化31]に示すIr(ppy)3に替
え、下記[表5]に示す化合物を使用した以外は[実施
例1]と同様に図2に示す素子構造を作成したところ、
[表5]に示す発光効率の発光が得られた。
[Example 31] to [Example 42] [Example 1] except that the compound shown in [Table 5] below was used instead of Ir (ppy) 3 shown in [Chemical Formula 31] as a light emitting layer doping agent. ], The device structure shown in FIG.
Luminescence having the luminous efficiency shown in [Table 5] was obtained.

【0151】[0151]

【表5】 [Table 5]

【0152】[実施例43][化5]で示されるジノル
マルブチルポリフルオレン重合体(分子量60,00
0、電子親和力:2.15eV)として6mgを1ml
の1,2-ジクロロエタンで溶解して溶液1を作成し
た。
[Example 43] A dinormal butyl polyfluorene polymer represented by [Chemical Formula 5] (molecular weight 60,000)
0, electron affinity: 2.15 eV) 6 mg as 1 ml
Solution 1 was prepared by dissolving with 1,2-dichloroethane.

【0153】[化8]に示されるCBP(電子親和力
2.33eV)として2.5mgと[化31]に示すI
r(ppy)3として0.17mgとバインダ高分子た
るポリビニルビフェニル(分子量115,000)とし
て2.5mgとをm−キシレン1mlに溶解して、溶液
2を作成した。
2.5 mg as CBP (electron affinity 2.33 eV) shown in [Chemical formula 8] and I shown in [Chemical formula 31]
A solution 2 was prepared by dissolving 0.17 mg of r (ppy) 3 and 2.5 mg of polyvinyl biphenyl (molecular weight 115,000) as a binder polymer in 1 ml of m-xylene.

【0154】酸素プラズマ処理を行なったITO基板上
(市販ITO、旭硝子社製:20Ω/□以下)に溶液1
を、回転数1000rpmで1秒間スピンコートする事
により50nmの膜厚の正孔輸送電子ブロック層を成膜
した。
Solution 1 was placed on an ITO substrate that had been subjected to oxygen plasma treatment (commercial ITO, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: 20 Ω / □ or less).
Was spin-coated at 1000 rpm for 1 second to form a hole-transporting electron blocking layer having a thickness of 50 nm.

【0155】正孔輸送電子ブロック層上に溶液2を、回
転数1000rpmで1秒間スピンコートする事により
20nmの膜厚の発光層を成膜した。
Solution 2 was spin-coated on the hole-transporting electron blocking layer at 1000 rpm for 1 second to form a light-emitting layer having a thickness of 20 nm.

【0156】[化14]で示されるOXD−1を、蒸着
速度1nm/secで50nmの膜厚の電子輸送層を成
膜した。
An electron transporting layer having a film thickness of 50 nm was formed from OXD-1 represented by [Chemical Formula 14] at a vapor deposition rate of 1 nm / sec.

【0157】蒸着速度0.01nm/secの速度でリ
チウムを0.5nmの膜厚に成膜し、さらに、その上に
アルミニウムを蒸着速度1nm/secで50nmの膜
厚に成膜して陰極を形成した。
Lithium was formed into a film having a thickness of 0.5 nm at a deposition rate of 0.01 nm / sec, and aluminum was further formed thereon at a deposition rate of 1 nm / sec to a thickness of 50 nm to form a cathode. Formed.

【0158】このようにして、図2に示す素子構造を作
成したところ、6.2V、1mA/cm2で600cd
/m2の緑色の発光が得られた。 [比較例6][化5]に示されるジノルマルブチルポリ
フルオレンに替え、[化4]に示されるPVK(分子量
1,100,000、電子親和力2.52eV)を用い
て溶液1を作成した以外は、[実施例43]と同様に図
2に示す素子構造を作成した。この時、9.0V、1m
A/cm2で400cd/m2の緑色の発光が得られた。
[実施例43]と[比較例6]とを比較すると、正孔輸
送電子ブロック性物質の電子親和力が、発光層ホスト剤
のものより小さいと、電流密度1mA/cm2における
輝度が向上する事がわかる。また、正孔輸送電子ブロッ
ク層に導電性高分子を使用することにより、 1mA/
cm2における駆動電圧を軽減できる事が判る。 [実施例44]〜[実施例49][化5]で示されるジ
ノルマルブチルポリフルオレンの替りに[化1]で示さ
れる繰り返し単位中のRとして、下記[表6]に示す置
換基を用いて生成される重合体を使用した以外は、[実
施例43]と同様に図2に示す素子構造を作成した。上
記重合体の分子量はすべて60,000とした。このと
きに、[表6]で示される発光効率の発光が得られた。
When the device structure shown in FIG. 2 was prepared in this manner, it was 600 cd at 6.2 V and 1 mA / cm 2 .
A green emission of / m 2 was obtained. [Comparative Example 6] A solution 1 was prepared by using PVK (molecular weight: 1,100,000, electron affinity: 2.52 eV) shown in [Chemical formula 4] in place of the dinormal butyl polyfluorene shown in [Chemical formula 5]. The element structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 43] except for the above. At this time, 9.0V, 1m
Green luminescence of 400 cd / m 2 was obtained at A / cm 2 .
Comparing [Example 43] with [Comparative Example 6], when the electron affinity of the hole transport electron blocking substance is smaller than that of the light emitting layer host material, the brightness at a current density of 1 mA / cm 2 is improved. I understand. In addition, by using a conductive polymer in the hole transporting electron blocking layer, 1 mA /
It can be seen that the driving voltage in cm 2 can be reduced. [Example 44] to [Example 49] In place of the dinormal butyl polyfluorene represented by [Chemical formula 5], as the R in the repeating unit represented by [Chemical formula 1], a substituent represented by the following [Table 6] may be used. The device structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 43] except that the polymer produced by using the above was used. The molecular weights of the above polymers were all 60,000. At this time, light emission with the light emission efficiency shown in [Table 6] was obtained.

【0159】[0159]

【表6】 [Table 6]

【0160】[実施例50]ITO基板と正孔輸送電子
ブロック層との間に、[化58]で示されるPEDTを
回転数4000rpmで10秒間スピンコートすること
により、50nmの膜厚の正孔注入層を成膜した以外
は、[実施例43]と同様にして図3に示す素子構造を
作成した。この時、5.9V、1mA/cm2で580
cd/m2の緑色の発光が得られた。 [実施例51]ITO基板と正孔輸送電子ブロック層と
の間に、[化10]で示されるカッパーフタロシアニン
を、真空度10-3Pa、蒸着速度0.1nm/secで
真空蒸着することにより、2nmの膜厚の正孔注入層を
成膜した以外は[実施例43]と同様に図3に示す素子
構造を作成した。この時、6.1V、1mA/cm2
570cd/m2の緑色の発光が得られた。 [実施例52]〜[実施例57]、[比較例7]発光層
ホスト剤として[化8]に示されるCBPに替え、下記
[表7]で示される化合物を使用した以外は[実施例4
3]と同様に図2に示す素子構造を作成したところ[表
7]に示すような発光効率の発光が得られた。
[Example 50] PEDT represented by [Chemical Formula 58] was spin-coated at a rotation speed of 4000 rpm for 10 seconds between the ITO substrate and the hole-transporting electron blocking layer to form a hole having a thickness of 50 nm. An element structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 43] except that the injection layer was formed. At this time, it is 580 at 5.9 V and 1 mA / cm 2 .
Green light emission of cd / m 2 was obtained. [Example 51] A copper phthalocyanine represented by [Chemical Formula 10] was vacuum-deposited between the ITO substrate and the hole-transporting electron blocking layer at a vacuum degree of 10 -3 Pa and a deposition rate of 0.1 nm / sec. An element structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 43] except that a hole injection layer having a film thickness of 2 nm was formed. At this time, green light emission of 570 cd / m 2 was obtained at 6.1 V and 1 mA / cm 2 . [Example 52] to [Example 57], [Comparative Example 7] [Example 7] except that the compound shown in [Table 7] below was used instead of the CBP shown in [Chemical formula 8] as the host agent for the light emitting layer. Four
When the device structure shown in FIG. 2 was created in the same manner as in [3], light emission with a light emission efficiency as shown in [Table 7] was obtained.

【0161】[0161]

【表7】 [Table 7]

【0162】[比較例7]に示すように、発光層ホスト
剤の電子親和力が、[実施例43]で用いた[化5]で
示されるジノルマルブチルポリフルオレンの電子親和力
(2.15eV)より小さいと、 電流密度1mA/c
2において輝度が低下してしまう。 [実施例58]〜[実施例68]下記[表8]に化合物
として示される重合体(分子量60,000)として
5.0mgと[化31]に示すIr(ppy)3として
0.17mgとをm−キシレン1mlに溶解して溶液2
を作成した以外は[実施例43]と同様にして図2に示
す素子構造を作成したところ、[表8]に示される発光
効率の発光が得られた。
As shown in [Comparative Example 7], the electron affinity of the host agent for the light emitting layer is the electron affinity (2.15 eV) of the dinormal butyl polyfluorene represented by [Chemical Formula 5] used in [Example 43]. If it is smaller, the current density is 1 mA / c
The brightness decreases at m 2 . [Example 58] to [Example 68] 5.0 mg as a polymer (molecular weight 60,000) shown as a compound in [Table 8] below and 0.17 mg as Ir (ppy) 3 shown in [Chemical Formula 31]. Is dissolved in 1 ml of m-xylene to prepare solution 2
When the device structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 43] except that the above was prepared, light emission having the light emission efficiency shown in [Table 8] was obtained.

【0163】[0163]

【表8】 [Table 8]

【0164】[実施例69]〜[実施例75][化1
4]で示されるOXD−1に替え、下記[表9]に示す
化合物を電子輸送層に用いた以外は[実施例43]と同
様に図2に示す素子構造を作成したところ、[表9]に
示す発光効率の発光が得られた。なお、[実施例75]
で用いた[化29]で示されるBCPは6nmの膜厚に
成膜している。
[Example 69] to [Example 75] [Chemical formula 1]
2] was prepared in the same manner as in [Example 43] except that the compound shown in [Table 9] below was used in the electron transport layer instead of OXD-1 shown in [Table 9]. ] The light emission of the luminous efficiency shown in was obtained. [Example 75]
The BCP represented by [Chemical Formula 29] used in [1] is formed to a film thickness of 6 nm.

【0165】[0165]

【表9】 [Table 9]

【0166】[実施例76]〜[実施例81]陰極に、
リチウムに替えて下記[表10]で示す化合物を使用し
た以外は[実施例43]と同様に図2に示す素子構造を
作成したところ、[表10]で示される発光効率の発光
が得られた。
[Example 76] to [Example 81] For the cathode,
When the device structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 43] except that the compound shown in [Table 10] below was used instead of lithium, luminescence with the emission efficiency shown in [Table 10] was obtained. It was

【0167】[0167]

【表10】 [Table 10]

【0168】[実施例82]〜[実施例93]発光層ド
ープ剤として、[化31]に示すIr(ppy)3に替
え、下記[表11]に示す化合物を使用した以外は[実
施例43]と同様に図2に示す素子構造を作成したとこ
ろ、[表11]に示す発光効率の発光が得られた。
[Examples 82 to 93] [Examples] [Examples] except that the compound shown in [Table 11] below was used instead of Ir (ppy) 3 shown in [Chemical Formula 31] as the light emitting layer doping agent. When the device structure shown in FIG. 2 was created in the same manner as in [43], light emission having the light emission efficiency shown in [Table 11] was obtained.

【0169】[0169]

【表11】 [Table 11]

【0170】[実施例94][化5]で示されるジノル
マルブチルポリフルオレン重合体(分子量60,00
0、電子親和力:2.15eV)として6mgを1ml
の1,2-ジクロロエタンで溶解して溶液1を作成し
た。[化8]に示されるCBP(電子親和力2.33e
V)として2.5mgと[化31]に示すIr(pp
y)3として0.17mgとバインダ高分子たるポリビ
ニルビフェニル(分子量115,000)2.5mgと
をm−キシレン1mlに溶解して、溶液2を作成した。
[Example 94] A dinormal butyl polyfluorene polymer represented by [Chemical Formula 5] (molecular weight 60,000) was used.
0, electron affinity: 2.15 eV) 6 mg as 1 ml
Solution 1 was prepared by dissolving with 1,2-dichloroethane. CBP (electron affinity 2.33e) shown in [Chemical Formula 8]
V) is 2.5 mg and Ir (pp
y) 3 as 0.17mg and the binder polymer serving as polyvinyl biphenyl (molecular weight 115,000) was dissolved with 2.5mg to m- xylene 1 ml, were prepared solution 2.

【0171】[化16]に示されるPBDとして2.5
mgとバインダ高分子たるポリスチレン(分子量50,
000)として2.5mgとをシクロヘキサン1mlに
溶解して、溶液3を作成した酸素プラズマ処理を行なっ
たITO基板上(市販ITO、旭硝子社製:20Ω/□
以下)に溶液1を、回転数1000rpmで1秒間スピ
ンコートする事により50nmの膜厚の正孔輸送電子ブ
ロック層を成膜した。
2.5 as the PBD shown in [Chemical Formula 16]
mg and polystyrene as a binder polymer (molecular weight 50,
000) was dissolved in 1 ml of cyclohexane to prepare solution 3, and the solution 3 was prepared on the oxygen-plasma-treated ITO substrate (commercial ITO, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: 20Ω / □).
Solution 1 was spin-coated at 1000 rpm for 1 second to form a hole-transporting electron blocking layer having a thickness of 50 nm.

【0172】正孔輸送電子ブロック層上に溶液2を、回
転数1000rpmで1秒間スピンコートする事により
20nmの膜厚の発光層を成膜した。発光層上に溶液3
を回転数1000rpmで1秒間スピンコートする事に
より50nmの膜厚の電子輸送層を得た。
Solution 2 was spin-coated on the hole-transporting electron blocking layer at a rotation speed of 1000 rpm for 1 second to form a light-emitting layer having a thickness of 20 nm. Solution 3 on the light emitting layer
Was spin-coated at 1000 rpm for 1 second to obtain an electron transport layer having a film thickness of 50 nm.

【0173】蒸着により、リチウムを蒸着速度0.01
nm/secで0.5nmの膜厚に成膜し、さらにその
上にアルミニウムを蒸着速度1nm/secで50nm
の膜厚に成膜して陰極を形成した。このようにして、図
2に示す素子構造を作成したところ、8.5V、1mA
/cm2で600cd/m2の緑色の発光が得られた。 [比較例8][化5]で示されるジノルマルブチルポリ
フルオレンに替え、[化4]で示されるPVK(分子量
1,100,000、電子親和力2.52eV)を用い
て溶液1を作成した以外は、[実施例94]と同様にし
て図2に示す素子構造を作成した。この時、12.0
V、1mA/cm2で400cd/m2の緑色の発光が得
られた。[実施例94]と[比較例8]とを比較する
と、正孔輸送電子ブロック性物質に、発光層ホスト剤よ
り電子親和力が小さいものを用いると、1mA/cm2
における輝度が向上する事がわかる。また、正孔輸送電
子ブロック層に導電性高分子を使用すると、 1mA/
cm2における駆動電圧を軽減できることが判る。 [実施例95]〜[実施例100][化5]で示される
ジノルマルブチルポリフルオレンの替りに、[化1]で
示される繰り返し単位中のRとして、下記[表12]に
示される置換基を用いて生成した重合体を用いた以外
は、[実施例94]と同様に図2に示す素子構造を作成
したところ、[表12]に示す発光効率の発光が得られ
た。上記重合体の分子量はすべて60,000とした。
The evaporation rate of lithium was 0.01 by evaporation.
A film thickness of 0.5 nm is formed at a nm / sec, and aluminum is further deposited thereon at a vapor deposition rate of 1 nm / sec to a thickness of 50 nm.
A film was formed to a thickness to form a cathode. In this way, when the device structure shown in FIG. 2 was created, it was 8.5 V and 1 mA.
Green emission of 600 cd / m 2 was obtained at / cm 2 . [Comparative Example 8] A solution 1 was prepared by using PVK (molecular weight: 1,100,000, electron affinity: 2.52 eV) represented by [Chemical Formula 4] in place of the dinormal butyl polyfluorene represented by [Chemical Formula 5]. The element structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 94] except for the above. At this time, 12.0
A green emission of 400 cd / m 2 was obtained at V and 1 mA / cm 2 . Comparing [Example 94] with [Comparative Example 8], when a hole transport electron blocking substance having a lower electron affinity than the light emitting layer host material is used, 1 mA / cm 2
It can be seen that the brightness in In addition, when a conductive polymer is used for the hole transport electron blocking layer, 1 mA /
It can be seen that the driving voltage in cm 2 can be reduced. [Example 95] to [Example 100] Substitutions shown in [Table 12] below as R in the repeating unit shown in [Chemical Formula 1] in place of the dinormal butyl polyfluorene shown in [Chemical Formula 5]. When the device structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 94] except that the polymer produced using a group was used, light emission having the light emission efficiency shown in [Table 12] was obtained. The molecular weights of the above polymers were all 60,000.

【0174】[0174]

【表12】 [Table 12]

【0175】[実施例101]ITO基板と正孔輸送電
子ブロック層との間に、[化58]で示されるPEDT
を、回転数4000rpmで10秒間スピンコートして
50nmの膜厚の正孔注入層として成膜した以外は、
[実施例94]と同様に図3に示す素子構造を作成し
た。この時、8.3V、1mA/cm2で580cd/
2の緑色の発光が得られた。 [実施例102]ITO基板と正孔輸送電子ブロック層
との間に、真空蒸着により[化10]で示されるカッパ
ーフタロシアニンを、真空度10-3Pa、蒸着速度0.
1nm/seで2nmの膜厚の正孔注入層として成膜し
た以外は[実施例94]と同様に図3に示す素子構造を
作成した。この時、8.4V、1mA/cm2で570
cd/m2の緑色の発光が得られた。 [実施例103]〜[実施例108]、[比較例9]発
光層ホスト剤として[化8]に示されるCBPに替え、
下記[表13]中の化合物を用いた以外は[実施例9
4]と同様に図2に示す素子構造を作成したところ、
[表13]に示す発光効率の発光が得られた。
[Example 101] PEDT represented by [Chemical Formula 58] between the ITO substrate and the hole transport electron blocking layer.
Was spin-coated at a rotation speed of 4000 rpm for 10 seconds to form a hole injection layer having a thickness of 50 nm.
The device structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 94]. At this time, at 8.3 V, 1 mA / cm 2 , 580 cd /
A green emission of m 2 was obtained. [Example 102] Copper phthalocyanine represented by [Chemical Formula 10] was vacuum-deposited between the ITO substrate and the hole-transporting electron blocking layer to obtain a vacuum degree of 10 -3 Pa and a deposition rate of 0.
An element structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 94] except that the film was formed as a hole injection layer having a film thickness of 1 nm / se and a thickness of 2 nm. At this time, it is 570 at 8.4 V and 1 mA / cm 2 .
Green light emission of cd / m 2 was obtained. [Example 103] to [Example 108], [Comparative Example 9] Instead of the CBP shown in [Chemical Formula 8] as the host agent for the light emitting layer,
[Example 9 except that the compounds in the following [Table 13] were used
4] and the device structure shown in FIG.
Luminescence having the luminous efficiency shown in [Table 13] was obtained.

【0176】[0176]

【表13】 [Table 13]

【0177】[比較例9]と[実施例94]とを比較す
ると、発光層ホスト剤の電子親和力が、正孔輸送電子ブ
ロック性物質([化5]で示されるジノルマルブチルポ
リフルオレン)の電子親和力(2.15eV)より小さ
いと、 1mA/cm2における輝度が低下することが判
る。 [実施例109]〜[実施例119]下記[表14]の
化合物(分子量60,000)として5.0mgと[化
31]に示すIr(ppy)3として0.17mgとを
m−キシレン1mlに溶解して溶液2を作成した以外は
[実施例94]と同様に図2に示す素子構造を作成した
ところ、[表14]に示す発光効率の発光が得られた。
Comparing [Comparative Example 9] with [Example 94], the electron affinity of the light-emitting layer host agent is that of the hole transporting electron blocking substance (dinormal butyl polyfluorene represented by [Chemical Formula 5]). It can be seen that when the electron affinity is smaller than (2.15 eV), the brightness at 1 mA / cm 2 is lowered. [Example 109] to [Example 119] 5.0 mg of the compound (molecular weight 60,000) shown below in [Table 14] and 0.17 mg of Ir (ppy) 3 shown in [Chemical Formula 31] were added to 1 ml of m-xylene. When the device structure shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in [Example 94] except that the solution 2 was prepared by dissolving in Example 1 to obtain Solution 2, light emission with the emission efficiency shown in [Table 14] was obtained.

【0178】[0178]

【表14】 [Table 14]

【0179】[実施例120][化22]で表される共
重合体(分子量50,000)として5.0mgをシク
ロヘキサン1mlに溶解して溶液3を作成した以外は
[実施例94]と同様に図2に示す素子構造を作成し
た。この時、5.5V、1mA/cm2で580cd/m2
の緑色の発光が得られた。 [実施例121]〜[実施例126]陰極として、リチ
ウムに替えて、下記[表15]に示す化合物を使用した
以外は[実施例94]と同様に図2に示す素子構造を作
成したところ、[表15]に示す発光効率の発光が得ら
れた。
[Example 120] Same as [Example 94] except that 5.0 mg of the copolymer (molecular weight 50,000) represented by [Chemical Formula 22] was dissolved in 1 ml of cyclohexane to prepare solution 3. The device structure shown in FIG. At this time, 5.5V, at 1mA / cm 2 580cd / m 2
A green emission of was obtained. [Example 121] to [Example 126] A device structure shown in Fig. 2 was prepared in the same manner as in [Example 94] except that lithium was used as the cathode instead of the compounds shown in [Table 15] below. Luminous luminescence having the luminous efficiency shown in [Table 15] was obtained.

【0180】[0180]

【表15】 [Table 15]

【0181】[実施例127]〜[実施例138]発光
層ドープ剤として、[化31]に示すIr(ppy)3
に替え、下記[表16]に示す化合物を用いた以外は
[実施例94]と同様に図2に示す素子構造を作成した
ところ、[表16]に示す発光効率の発光が得られた。
[Example 127] to [Example 138] Ir (ppy) 3 shown in [Chemical Formula 31] as a light emitting layer doping agent.
2 was prepared in the same manner as in [Example 94] except that the compounds shown in [Table 16] below were used, and light emission with the emission efficiency shown in [Table 16] was obtained.

【0182】[0182]

【表16】 [Table 16]

【0183】[実施例139][化5]で示されるジノ
ルマルブチルポリフルオレン重合体(分子量60,00
0、電子親和力:2.15eV)として6mgを1ml
の1,2-ジクロロエタンで溶解して溶液1を作成し
た。
[Example 139] A dinormal butyl polyfluorene polymer represented by [Chemical Formula 5] (molecular weight 60,000)
0, electron affinity: 2.15 eV) 6 mg as 1 ml
Solution 1 was prepared by dissolving with 1,2-dichloroethane.

【0184】[化20]で示されるN−フェニルポリカ
ルバゾール(電子親和力2.25eV、分子量60,0
00)として5.0mgと[化31]に示すIr(pp
y) 3として0.17mgとをm−キシレン1mlに溶
解して溶液2を作成した。
N-phenyl polycarbonate represented by [Chemical Formula 20]
Lubazole (electron affinity 2.25 eV, molecular weight 60,0
00) as 5.0 mg and Ir (pp
y) 30.17 mg as a solution in 1 ml of m-xylene
Solution 2 was prepared.

【0185】[化22]で示されるオキサジアゾール系
共重合体(分子量50,000)として5.0mgをシ
クロヘキサン1mlに溶解して、溶液3を作成した。
A solution 3 was prepared by dissolving 5.0 mg of the oxadiazole-based copolymer (molecular weight 50,000) represented by [Chemical Formula 22] in 1 ml of cyclohexane.

【0186】酸素プラズマ処理を行なったITO基板上
(市販ITO、旭硝子社製:20Ω/□以下)に、[化
57]で示されるPEDT/PSSを、回転数4000
rpmで10秒間スピンコートすることにより、50n
mの膜厚の正孔注入層を成膜した。
On an ITO substrate (commercial ITO, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: 20 Ω / □ or less) subjected to oxygen plasma treatment, PEDT / PSS represented by [Chemical Formula 57] was rotated at a rotation speed of 4000.
50n by spin coating at rpm for 10 seconds
A hole injection layer having a thickness of m was formed.

【0187】次に、溶液1を回転数1000rpmで1
秒間スピンコートする事により50nmの膜厚の正孔輸
送電子ブロック層を成膜した。
Next, the solution 1 was rotated at 1000 rpm for 1 time.
A hole transport electron blocking layer having a thickness of 50 nm was formed by spin coating for 2 seconds.

【0188】正孔輸送電子ブロック層上に溶液2を、回
転数1000rpmで1秒間スピンコートする事により
20nmの膜厚の発光層を成膜した。
Solution 2 was spin-coated on the hole-transporting electron blocking layer at a rotation speed of 1000 rpm for 1 second to form a light-emitting layer having a thickness of 20 nm.

【0189】発光層の上に溶液3を、回転数1000r
pmで1秒間スピンコートする事により50nmの膜厚
の電子輸送層を成膜した。
Solution 3 was applied on the light emitting layer at a rotation speed of 1000 r.
An electron transport layer having a film thickness of 50 nm was formed by spin coating at pm for 1 second.

【0190】蒸着速度0.01nm/secでセシウム
を0.5nmの膜厚に成膜し、さらにその上にアルミニ
ウムを蒸着速度1nm/secで50nmの膜厚に蒸着
して陰極として形成した。このようにして、図3に示す
素子構造を作成した。
Cesium was deposited to a thickness of 0.5 nm at a deposition rate of 0.01 nm / sec, and aluminum was further deposited thereon at a deposition rate of 1 nm / sec to a thickness of 50 nm to form a cathode. In this way, the device structure shown in FIG. 3 was created.

【0191】この時、3.5V、1mA/cm2で65
0cd/m2の緑色の発光が得られた。 [実施例140][化5]で示されるジノルマルブチル
ポリフルオレン重合体(分子量60,000)として6
mgを1mlの1,2-ジクロロエタンで溶解して溶液
1を作成した。
At this time, 65 V at 3.5 V and 1 mA / cm 2
A green emission of 0 cd / m 2 was obtained. [Example 140] 6 as a di-normal butyl polyfluorene polymer (molecular weight 60,000) represented by [Chemical formula 5]
Solution 1 was prepared by dissolving mg in 1 ml of 1,2-dichloroethane.

【0192】酸素プラズマ処理を行なったITO基板上
(市販ITO、旭硝子社製:20Ω/□以下)に[化5
7]で示されるPEDT/PSSを回転数4000rp
mで10秒間スピンコートすることにより50nmの膜
厚の正孔注入層を成膜した。
[Chemical formula 5] was formed on an ITO substrate that had been subjected to oxygen plasma treatment (commercial ITO, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: 20Ω / □ or less).
7], the PEDT / PSS shown in FIG.
A hole injection layer having a film thickness of 50 nm was formed by spin coating at m for 10 seconds.

【0193】次に、溶液1を回転数1000rpmで1
秒間スピンコートする事により50nmの膜厚の正孔輸
送電子ブロック層を成膜した。
Next, the solution 1 was rotated at 1000 rpm for 1 time.
A hole transport electron blocking layer having a thickness of 50 nm was formed by spin coating for 2 seconds.

【0194】真空蒸着装置により真空度10-3Paで、
正孔輸送電子ブロック層上に[化30]で示されるAl
q3と[化45]で示すクマリン6とを、クマリン6が
1重量%になるように蒸着速度1nm/secで共蒸着
して20nmの膜厚の発光層を成膜し、[化30]で示
されるAlq3を50nmの膜厚の電子輸送層を成膜し
た。
With a vacuum deposition apparatus at a vacuum degree of 10 -3 Pa,
Al represented by [Chemical Formula 30] on the hole transport electron blocking layer
q3 and coumarin 6 shown in [Chemical Formula 45] are co-evaporated at a vapor deposition rate of 1 nm / sec so that coumarin 6 is 1% by weight to form a light emitting layer having a thickness of 20 nm. An electron transport layer having a film thickness of 50 nm was formed from the Alq3 shown.

【0195】蒸着速度0.01nm/secでリチウム
を0.5nmの膜厚に蒸着して成膜し、さらにその上に
アルミニウムを蒸着速度1nm/secで50nmの膜
厚に蒸着して成膜して陰極として形成した。
Lithium was vapor-deposited at a film thickness of 0.5 nm to form a film at a vapor deposition rate of 0.01 nm / sec, and aluminum was further vapor-deposited at a film thickness of 50 nm at a vapor deposition rate of 1 nm / sec to form a film. Formed as a cathode.

【0196】この時、5V、10mA/cm2で160
0cd/m2の緑色の発光が得られた。 [比較例10][化5]で示されるジノルマルブチルポ
リフルオレンの替りに、[化3]で示されるNPDを用
い、蒸着により正孔輸送電子ブロック層を成膜した以外
は、[実施例140]と同様に図3に示す素子構造を作
成した。蒸着条件は真空度10-3Pa、蒸着速度1nm
/secであった。この時、7V、10mA/cm2
1500cd/m2の緑色の発光が得られた。[実施例
140]と[比較例10]を比較すると、導電性高分子
たるジノルマルブチルポリフルオレンを用いたことによ
り駆動電圧が軽減できたことが判る。 [実施例141][化45]で示すクマリン6の替り
に、[化46]で示されるDCM2を用いた以外は、
[実施例140]と同様に図3に示す素子構造を作成し
た。この時、5V、10mA/cm2で500cd/m2
の赤色の発光が得られた。 [実施例142]〜[実施例143]、[比較例11]
〜[比較例12][化1]で示される繰り返し単位中のR
を直鎖のアルキル(-Cn2n+1)としたポリフルオレン
化合物の溶解度パラメータ表示の溶解範囲を測定した。
測定方法は、下記に[実験1]として示す方法により、
所定の膜厚を有する薄膜を基板上に積層したテストピー
スを作成し、所定の溶解度パラメータを有する溶媒に対
する溶解範囲を測定することによって行った。 [実験1]有機エレクトロルミネッセンス素子を構成す
る、正孔輸送層、電子ブロック層、発光層、正孔ブロッ
ク層、電子輸送層、電子注入層などの薄膜層の材料とな
る重合体6mgを、トリクロロメタン1mlに溶解して
溶液を作成する。酸素プラズマ処理を施した市販のIT
O基板(旭硝子社製:20Ω/□以下)上に、この溶液
を、回転数1500rpmで1秒間スピンコートして、
50nmの薄膜付の基板を作成し、テストピースとす
る。
At this time, 160 at 5 V and 10 mA / cm 2
A green emission of 0 cd / m 2 was obtained. [Comparative Example 10] [Example 5] NPD shown in [Chemical Formula 3] was used in place of the dinormal butyl polyfluorene shown in [Chemical Formula 5], and the hole transport electron blocking layer was formed by vapor deposition. 140], the device structure shown in FIG. 3 was prepared. Deposition conditions are vacuum degree of 10 -3 Pa and deposition rate of 1 nm.
/ Sec. At this time, green light emission of 1500 cd / m 2 was obtained at 7 V and 10 mA / cm 2 . Comparing [Example 140] with [Comparative Example 10], it can be seen that the driving voltage could be reduced by using the conductive polymer dinormal butyl polyfluorene. [Example 141] Except that DCM2 shown in [Chemical Formula 46] was used instead of coumarin 6 shown in [Chemical Formula 45].
A device structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 140]. At this time, 5V, at 10mA / cm 2 500cd / m 2
Red emission was obtained. [Example 142] to [Example 143], [Comparative Example 11]
~ [Comparative Example 12] R in the repeating unit represented by [Chemical Formula 1]
The solubility range of the solubility parameter display of the polyfluorene compound in which is a linear alkyl (-C n H 2n + 1 ) was measured.
The measuring method is the method shown as [Experiment 1] below.
The test piece was prepared by laminating a thin film having a predetermined film thickness on a substrate, and the dissolution range in a solvent having a predetermined solubility parameter was measured. [Experiment 1] 6 mg of a polymer, which is a material for a thin film layer such as a hole transport layer, an electron block layer, a light emitting layer, a hole block layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, which constitutes an organic electroluminescence device, was added to trichloro Dissolve in 1 ml of methane to make a solution. Commercial IT with oxygen plasma treatment
This solution was spin-coated on an O substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: 20Ω / □ or less) at a rotation speed of 1500 rpm for 1 second,
A substrate with a thin film of 50 nm is prepared and used as a test piece.

【0197】[0197]

【表17】 [Table 17]

【0198】[表17]に示す溶解度パラメータを有する
溶媒を、これら溶解度パラメータ値の昇順に用意し、図
4(a)及び図4(b)に示すように、それらの溶媒1
で満たされたビーカー2にテストピース3をそれぞれ1
0秒間浸漬させ、その後、図4(c)に示すように、テ
ストピース3を取り出して薄膜が溶解したか否かを目視
で確認する。
Solvents having the solubility parameters shown in [Table 17] are prepared in the ascending order of the solubility parameter values, and as shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b), the solvent 1
Beaker 2 filled with 1 test piece 3 each
It is dipped for 0 second, and then, as shown in FIG. 4C, the test piece 3 is taken out and it is visually confirmed whether or not the thin film is dissolved.

【0199】薄膜が溶解する溶媒の溶解度パラメータの
うち、最小値と最大値とをテストピースの溶解範囲と定
義する。
Of the solubility parameters of the solvent in which the thin film dissolves, the minimum value and the maximum value are defined as the dissolution range of the test piece.

【0200】この時使用した重合体の分子量60,00
0の物で実施した。溶解範囲の測定結果を下記[表1
8]に示す。
The molecular weight of the polymer used at this time was 60,000.
It carried out with the thing of 0. The measurement results of the dissolution range are shown in [Table 1
8].

【0201】[0201]

【表18】 [Table 18]

【0202】ここで、[化5]で示されるジノルマルブ
チルポリフルオレンに替え、[化1]で示される繰り返し
単位中のRを直鎖のアルキル(-Cn2n+1)として生成
される分子量60,000の重合体を正孔輸送電子ブロ
ック層に用いた以外は[実施例139]と同様に図3に
示す素子構造を作成したところ下記[表19]で示す発
光効率の発光が得られた。
Here, in place of the dinormal butyl polyfluorene represented by [Chemical formula 5], R in the repeating unit represented by [Chemical formula 1] is produced as a straight-chain alkyl (—C n H 2n + 1 ). A device structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 139] except that a polymer having a molecular weight of 60,000 was used for the hole transport electron blocking layer. Was obtained.

【0203】[0203]

【表19】 [Table 19]

【0204】[比較例11]では1,2-ジクロロエタ
ンに重合体が溶解しない為素子が作成できなかった。
[比較例12]では発光層成膜時に正孔輸送電子ブロッ
ク層が溶解する為、素子が作成できなかった。 [実施例144]〜[実施例145]、[比較例13]
溶媒をヘキサンに変更して溶液1を作成したこと、溶媒
をトルエンに変更して溶液2を作成したこと以外は、
[実施例139]と同様に図3に示す素子構造を作成し
たところ、下記[表20]に示す発光効率の発光が得ら
れた。
In [Comparative Example 11], a device could not be prepared because the polymer was not dissolved in 1,2-dichloroethane.
In [Comparative Example 12], the device could not be prepared because the hole transport electron blocking layer was dissolved during the formation of the light emitting layer. [Example 144] to [Example 145], [Comparative Example 13]
Except that the solvent was changed to hexane to prepare solution 1, and the solvent was changed to toluene to prepare solution 2.
When the device structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 139], light emission having the light emission efficiency shown in [Table 20] below was obtained.

【0205】[0205]

【表20】 [Table 20]

【0206】[比較例13]では、発光層成膜時に正孔
輸送電子ブロック層が溶解する為素子が作成できなかっ
た。 [実施例146]〜[実施例147]、[比較例14]
〜[比較例15][化5]で示されるジノルマルブチル
ポリフルオレンを下記[表21]に示すような分子量に
設定した以外は、[実施例139]と同様に図3に示す
素子構造を作成したところ、[表21]に示す発光効率
の発光が得られた。なお、各分子量における溶解度パラ
メータ表示による溶解範囲も記載した。
In [Comparative Example 13], an element could not be prepared because the hole transport electron blocking layer was dissolved during the formation of the light emitting layer. [Example 146] to [Example 147], [Comparative Example 14]
~ [Comparative Example 15] A device structure shown in Fig. 3 was prepared in the same manner as in [Example 139] except that the molecular weight of dinormal butyl polyfluorene represented by [Chemical Formula 5] was set as shown in [Table 21] below. When created, light emission having the light emission efficiency shown in [Table 21] was obtained. In addition, the solubility range by the solubility parameter display at each molecular weight is also described.

【0207】[0207]

【表21】 [Table 21]

【0208】[比較例14]では発光層成膜時に正孔輸
送電子ブロック層が溶解する為素子が作成できなかっ
た。[比較例15]では溶解する溶媒がない為、素子が
作成できなかった。 [実施例148]〜[実施例155]、[比較例16]
下記[表22]で示す溶媒(各1ml)に溶解して溶液
2を作成した以外は[実施例139]と同様に図3に示
す素子構造を作成したところ、[表22]に示す発光効
率の発光が得られた。
In [Comparative Example 14], the device could not be prepared because the hole transport electron blocking layer was dissolved during the formation of the light emitting layer. In [Comparative Example 15], an element could not be prepared because there was no solvent to dissolve. [Example 148] to [Example 155], [Comparative Example 16]
When the device structure shown in FIG. 3 was prepared in the same manner as in [Example 139] except that the solution 2 was prepared by dissolving in a solvent (1 ml each) shown in [Table 22] below, the luminous efficiency shown in [Table 22] was obtained. Luminescence was obtained.

【0209】[0209]

【表22】 [Table 22]

【0210】[比較例16]では、溶媒として用いたア
セトニトリルに[化20]で示されるN-フェニルポリ
カルバゾールが溶解しない為素子が作成できなかった。
In [Comparative Example 16], an element could not be prepared because N-phenylpolycarbazole represented by [Chemical Formula 20] was not dissolved in acetonitrile used as a solvent.

【0211】[0211]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に用いるポリフルオレン化合物は、導電性高分子である
ため高い正孔移動度を有するので、正孔輸送層の電気抵
抗値が軽減される。さらに、上記ポリフルオレン化合物
は、電子親和力が比較的小さいので、正孔輸送層に電子
ブロック効果を具備させることができて発光輝度が向上
する。したがって、本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子は、比較的低電圧の駆動により高輝度の発光が
得られるので発光効率を向上させることができる。
As is apparent from the above description, the polyfluorene compound used in the present invention has a high hole mobility because it is a conductive polymer, so that the electric resistance value of the hole transport layer is reduced. It Further, since the polyfluorene compound has a relatively low electron affinity, the hole transport layer can have an electron blocking effect, and the emission brightness is improved. Therefore, the organic electroluminescent element of the present invention can emit light with high brightness by driving at a relatively low voltage, and thus can improve the light emission efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】有機エレクトロルミネッセンス素子の素子構造FIG. 1 is a device structure of an organic electroluminescence device.

【図2】本発明の素子構造の第1の実施形態FIG. 2 is a first embodiment of the device structure of the present invention.

【図3】本発明の素子構造の第2の実施形態FIG. 3 is a second embodiment of the device structure of the present invention.

【図4】(a)〜(c)溶解度パラメータ表示によるサ
ンプルピースの溶解範囲の測定手順
[FIG. 4] (a) to (c) Procedure for measuring the dissolution range of a sample piece by displaying solubility parameters

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 陽極層 23 正孔輸送電子ブロック層(正孔輸送層) 40 発光層 41 ドープ剤 42 ホスト剤 70 陰極層 10 Anode layer 23 Hole transport electron blocking layer (hole transport layer) 40 light emitting layer 41 Dope 42 Host agent 70 cathode layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】陽極層及び陰極層の両電極層間に形成さ
れ、正孔輸送層と発光層とを有する有機エレクトロルミ
ネッセンス素子において、前記正孔輸送層が、 【化1】 (化学式[化1]中、Rは水素、脂肪族炭化水素基、芳香
族炭化水素基、エーテル基、複素環基のいずれかを示
す。)で表される繰り返し単位を有する重合体で構成さ
れることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素
子。
1. In an organic electroluminescence device, which is formed between both electrode layers of an anode layer and a cathode layer and has a hole transport layer and a light emitting layer, the hole transport layer comprises: (In the chemical formula [Chemical Formula 1], R represents hydrogen, an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, an ether group, or a heterocyclic group.) An organic electroluminescence device characterized in that
【請求項2】前記[化1]で表される繰り返し単位中の
Rは、炭素数10以下のアルキル基から成ることを特徴
とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子。
2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein R in the repeating unit represented by [Chemical Formula 1] is an alkyl group having 10 or less carbon atoms.
【請求項3】前記[化1]で表される繰り返し単位中の
Rは、炭素数10以下のアルコキシル基から成ることを
特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子。
3. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein R in the repeating unit represented by [Chemical Formula 1] is an alkoxyl group having 10 or less carbon atoms.
【請求項4】前記[化1]で表される繰り返し単位中の
Rは、アリール基を有する置換基から成ることを特徴と
する請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素
子。
4. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein R in the repeating unit represented by [Chemical Formula 1] is a substituent having an aryl group.
【請求項5】前記重合体は、前記発光層中のホスト剤よ
り電子親和力が小さいことを特徴とする請求項1乃至4
のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子。
5. The polymer has a smaller electron affinity than the host agent in the light emitting layer.
The organic electroluminescence element according to any one of 1.
【請求項6】前記発光層は燐光を放射するドープ剤を有
することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に
記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
6. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the light emitting layer has a dopant that emits phosphorescence.
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