JP2003004854A - Radiation detector and radiation detection system - Google Patents

Radiation detector and radiation detection system

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JP2003004854A
JP2003004854A JP2001191785A JP2001191785A JP2003004854A JP 2003004854 A JP2003004854 A JP 2003004854A JP 2001191785 A JP2001191785 A JP 2001191785A JP 2001191785 A JP2001191785 A JP 2001191785A JP 2003004854 A JP2003004854 A JP 2003004854A
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photoelectric conversion
light
radiation
substrate
guide plate
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Osamu Hamamoto
修 浜本
Koji Sato
浩司 佐藤
Kenji Kajiwara
賢治 梶原
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Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent stray light from being incident on a photoelectric conversion element 1. SOLUTION: In a radiation detector, a part of a reading route 301 of an electric signal converted at least by a photoelectric conversion substrate 1 is formed to a light guide plate for guiding light converted by a fluorescent body 3 to the photoelectric conversion substrate 1. Incidence preventing films 303 and 304 preventing the light reflected by the reading route 301 from being incident on the photoelectric conversion substrate 1 are formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は撮像装置、放射線検
出装置および画像処理システムに係わり、特に、医療用
のX線撮像装置や産業用の被破壊装置などの撮像装置、
放射線検出装置および画像処理システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image pickup apparatus, a radiation detection apparatus and an image processing system, and more particularly to an image pickup apparatus such as a medical X-ray image pickup apparatus or an industrial destructible apparatus.
The present invention relates to a radiation detection device and an image processing system.

【0002】なお、本明細書では、放射線の範ちゅう
に、X線、α線、β線、γ線などの電磁波も含むものと
する。
In this specification, electromagnetic waves such as X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays are included in the category of radiation.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、X線を蛍光体によってX線の強度
に比例した可視光に変換し、それを光電変換素子を用い
て電気信号に変換し、A/D変換器でデジタル信号に変
換するX線デジタル撮影装置がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, X-rays are converted by a phosphor into visible light proportional to the intensity of the X-rays, converted into electric signals by using photoelectric conversion elements, and converted into digital signals by A / D converters. There is an X-ray digital imaging device that does this.

【0004】図6は、特開2000−241551号公
報に記載されているX線デジタル撮像装置の断面図であ
る。図6において、1は光電変換素子が形成された基
板、100は基板1に設けられた接続端子に形成された
スタッドバンプ、2はX線を光電変換素子により検出可
能な波長の光に変換するシンチレータ、3はその光を分
散することなく光電変換素子に導光する光ファイバープ
レート、4は透明接着剤、5はFPC(Flexible Print
ed Circuit:フレキシブルプリント基板)、6はシンチ
レータ保護樹脂、7は異方性導電接着剤、300は基板
1とスタッドバンプを介して接続するための接続端子、
301はFPCとの接続端子である。
FIG. 6 is a sectional view of an X-ray digital image pickup apparatus disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-241551. In FIG. 6, 1 is a substrate on which a photoelectric conversion element is formed, 100 is a stud bump formed on a connection terminal provided on the substrate 1, and 2 is an X-ray that is converted into light of a wavelength detectable by the photoelectric conversion element. The scintillator, 3 is an optical fiber plate that guides the light to the photoelectric conversion element without dispersing the light, 4 is a transparent adhesive, and 5 is an FPC (Flexible Print).
ed Circuit: flexible printed circuit board, 6 is a scintillator protective resin, 7 is an anisotropic conductive adhesive, 300 is a connection terminal for connecting to the board 1 via stud bumps,
301 is a connection terminal with the FPC.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術
は、光ファイバープレート3によって導光された光の一
部が、接続端子301で反射され、基板1の光電変換素
子へ迷光として入射する場合があった。
However, in the conventional technique, a part of the light guided by the optical fiber plate 3 may be reflected by the connection terminal 301 and enter the photoelectric conversion element of the substrate 1 as stray light. there were.

【0006】また、光ファイバープレート3によって導
光された光の一部が基板1の裏面側に回折し、その後、
再び基板1の表面側に戻り光電変換素子に入射する場合
があった。
Further, a part of the light guided by the optical fiber plate 3 is diffracted to the back surface side of the substrate 1, and thereafter,
In some cases, the light may return to the front surface side of the substrate 1 and enter the photoelectric conversion element.

【0007】そのため、特に、接続端子301付近の光
電変換素子で変換された電荷には、迷光の変換分が重畳
されており、本来のX線情報が得られないことがあっ
た。
Therefore, in particular, the charges converted by the photoelectric conversion element near the connection terminal 301 are superposed with the converted stray light, and the original X-ray information may not be obtained.

【0008】そこで、本発明は、光電変換素子へ迷光が
入射しないようにすることを課題とする。
Therefore, an object of the present invention is to prevent stray light from entering the photoelectric conversion element.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、蛍光体で変換された光を光電変換基板へ
導く導光体板に、少なくとも前記光電変換基板で変換さ
れた電気信号の読み出し経路の一部を形成した放射線検
出装置において、前記読み出し経路で反射した光が光電
変換基板へ入射しないように入射防止膜を形成すること
を特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention relates to a light guide plate for guiding light converted by a phosphor to a photoelectric conversion substrate, and at least an electric light converted by the photoelectric conversion substrate. In the radiation detecting device in which a part of the signal reading path is formed, an incident prevention film is formed so that the light reflected by the reading path does not enter the photoelectric conversion substrate.

【0010】ここで、入射防止膜とは図1で云うところ
の反射防止膜303及び遮光膜304であり、読み出し
経路とは図4で云うところの接続端子301及び電極配
線302である。
Here, the incident prevention film is the antireflection film 303 and the light shielding film 304 in FIG. 1, and the read path is the connection terminal 301 and the electrode wiring 302 in FIG.

【0011】また、本発明の放射線検出システムは、放
射線検出装置を備えることを特徴とする。
The radiation detection system of the present invention is characterized by including a radiation detection device.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1のX線撮像装置の断面図である。図2は、図1の裏面
側からの斜視図である。図3は、図1の基板1の平面図
である。図4は、図1の光ファイバープレート3を示す
平面図である。なお、図4では簡略化のために電極配線
302は一本のみ示されているが、実際は図示しない電
極配線により接続端子300と接続端子301とが接続
されている。
(First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view of an X-ray imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view from the back surface side of FIG. FIG. 3 is a plan view of the substrate 1 of FIG. FIG. 4 is a plan view showing the optical fiber plate 3 of FIG. Although only one electrode wiring 302 is shown in FIG. 4 for simplification, the connection terminal 300 and the connection terminal 301 are actually connected by an electrode wiring not shown.

【0014】図1〜図3において、1は光電変換素子が
形成された基板(光電変換基板)、100は基板1に設
けられた接続端子に形成されたスタッドバンプ、2はX
線を光電変換素子により検出可能な波長の光(例えば可
視光)に変換するシンチレータ、3はその光を分散する
ことなく光電変換素子に導光する光ファイバープレー
ト、4は透明接着剤、5はFPC(Flexible Printed C
ircuit:フレキシブルプリント基板)、6はシンチレー
タ保護樹脂、7は異方性導電接着剤、300は基板1と
スタッドバンプ100を介して基板1と接続するための
接続端子、301は異方性導電接着剤7によってFPC
5に接続される接続端子、303は接続端子300,3
01上面に形成された反射防止膜、304は基板1の側
面と接続端子301下面との間に形成された遮光膜、3
02は各基板1の光電変換素子に供給される共通信号や
電源等を結線する電極配線、102の斜線部は撮像有効
領域、103は光電変換素子の駆動回路、信号処理回路
及び実装領域である。
1 to 3, 1 is a substrate on which a photoelectric conversion element is formed (photoelectric conversion substrate), 100 is a stud bump formed on a connection terminal provided on the substrate 1, and 2 is X.
A scintillator for converting a line into light of a wavelength detectable by a photoelectric conversion element (for example, visible light), 3 is an optical fiber plate for guiding the light to the photoelectric conversion element without dispersing the light, 4 is a transparent adhesive, 5 is FPC (Flexible Printed C
ircuit: flexible printed circuit board), 6 is a scintillator protective resin, 7 is an anisotropic conductive adhesive, 300 is a connection terminal for connecting the substrate 1 to the substrate 1 via the stud bump 100, and 301 is an anisotropic conductive adhesive. FPC by agent 7
5 is a connection terminal, and 303 is a connection terminal 300, 3
01 is an antireflection film formed on the upper surface, 304 is a light-shielding film formed between the side surface of the substrate 1 and the lower surface of the connection terminal 301, 3
Reference numeral 02 is an electrode wiring for connecting a common signal supplied to the photoelectric conversion element of each substrate 1, power supply, etc., a shaded portion of 102 is an effective imaging area, and 103 is a drive circuit, signal processing circuit, and mounting area of the photoelectric conversion element. .

【0015】なお、反射防止膜303は光ファイバープ
レート3によって導光された光の反射を防止するもので
あり、遮光膜304は光ファイバープレート3によって
導光され基板1の裏面側に回折した光が基板1の光電変
換素子に入射しないようにするものである。
The antireflection film 303 prevents the reflection of the light guided by the optical fiber plate 3, and the light shielding film 304 guides the light guided by the optical fiber plate 3 and diffracted to the back side of the substrate 1. The photoelectric conversion element No. 1 does not enter.

【0016】反射防止膜303はファイバープレート3
上にスピンコート等により感光性の黒色の顔料を含ませ
たノボラック樹脂等をコーティングし、プリベーク、露
光、現像、ポストベークの工程を経て接続用端子300
と同等あるいはやや大きめに形成する。反射防止膜30
3はその上に接続用端子300を形成し、バンプ接続す
ることから硬く薄く形成できる材料が望まれる。
The antireflection film 303 is the fiber plate 3
A novolac resin containing a photosensitive black pigment is coated thereon by spin coating or the like, and the connection terminal 300 is subjected to steps of pre-baking, exposure, development, and post-baking.
The same as or slightly larger than. Antireflection film 30
3 is desired to be a material which can be formed to be hard and thin because the connection terminal 300 is formed thereon and bump connection is performed.

【0017】遮光膜304は図2に示すように、少なく
とも基板1の側面と接続端子301下面との間に形成さ
れていればよいが、より確実に迷光が光電変換素子に入
射しないようにするために、好ましくは光ファイバープ
レート3の光出射面であって基板1が位置しない部位の
全面に形成されているとよい。遮光膜304は黒色顔料
を含ませたシリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂等をディスペンス塗布等によりコートし加熱硬化とう
により樹脂を硬化させる。遮光効果が高くかつ透湿性に
すぐれた材料が望まれる。
As shown in FIG. 2, the light-shielding film 304 may be formed at least between the side surface of the substrate 1 and the lower surface of the connection terminal 301, but more reliably prevents stray light from entering the photoelectric conversion element. Therefore, it is preferably formed on the entire surface of the light emitting surface of the optical fiber plate 3 where the substrate 1 is not located. The light-shielding film 304 is coated with a silicone resin, an acrylic resin, an epoxy resin, or the like containing a black pigment by dispense coating or the like, and the resin is cured by heat curing. A material having a high light-shielding effect and an excellent moisture permeability is desired.

【0018】また、本実施形態では基板1を4つ用いて
配置した場合を示すが、基板1の数は4つに限定されな
い。光電変換素子は基板1のシンチレータ側(スタッド
バンプ100載置側)の面に形成しても、シンチレータ
側とは反対側の面に形成してもよい。さらに、電極配線
302を基板1側に設け、基板1の接続端子と光ファイ
バープレート3の接続端子301とを直接接続してもよ
い。
In this embodiment, the case where four substrates 1 are arranged is shown, but the number of substrates 1 is not limited to four. The photoelectric conversion element may be formed on the surface of the substrate 1 on the scintillator side (on which the stud bump 100 is mounted) or on the surface opposite to the scintillator side. Further, the electrode wiring 302 may be provided on the substrate 1 side, and the connection terminal of the substrate 1 and the connection terminal 301 of the optical fiber plate 3 may be directly connected.

【0019】光ファイバープレート3は、直径約5〜6
μmの1本の光ファイバーを複数束ね加熱プレスした
後、板状に切断する。切断後50×50mm、厚み3m
m程度のプレートを複数枚突き合わせ加熱接着し大型の
光ファイバープレートにしあげている。その後、それぞ
れのプレート間に厚み段差が生じないように研磨する。
The optical fiber plate 3 has a diameter of about 5-6.
A plurality of 1 μm optical fibers are bundled, heated and pressed, and then cut into plates. After cutting 50 x 50 mm, thickness 3 m
A plurality of m-sized plates are butted against each other and heat-bonded to form a large optical fiber plate. After that, polishing is performed so that there is no thickness difference between the plates.

【0020】更にその光ファイバープレート3には、各
々の基板1をフェイスダウン実装にて外部入出力端子と
結線させるための接続端子301、電極配線302や光
電変換素子を相互に接続する接続端子300をあらかじ
めフォトエッチングプロセスにより形成しておく。純ア
ルミをスパッタや蒸着等により成膜したものを実装する
基板1に合わせて電極端子、電極配線を構成する。その
アルミ電極にパラジウムを100Å、ニッケル0.1μ
m、金0.3μmを無電解メッキにて積層することによ
り接続安定性が向上する。
Further, on the optical fiber plate 3, a connection terminal 301 for connecting each substrate 1 to an external input / output terminal by face down mounting, a connection terminal 300 for connecting the electrode wiring 302 and the photoelectric conversion element to each other. It is formed by a photo etching process in advance. Electrode terminals and electrode wirings are formed according to the substrate 1 on which a pure aluminum film formed by sputtering or vapor deposition is mounted. Palladium 100 Å, nickel 0.1μ on the aluminum electrode
By stacking m and 0.3 μm of gold by electroless plating, the connection stability is improved.

【0021】また、図3に示すように、基板1上の接続
端子に接続用のバンプ100を設ける。ボールボンディ
ングのボール部のみを端子につけるスタッドバンプを用
いれば、ボールを端子部に超音波と熱で付けた後、切断
したワーヤーの再結晶部が短く残り凸形状になり基板と
の接合するためには不都合なので上面を別のツールで押
しつぶすフラットニングを行う。バンプ100には接続
信頼性を確保するため銀ペーストを転写法にて塗布して
おく。
Further, as shown in FIG. 3, bumps 100 for connection are provided on the connection terminals on the substrate 1. If stud bumps that attach only the ball portion of the ball bonding to the terminal are used, after the ball is attached to the terminal portion with ultrasonic waves and heat, the recrystallized portion of the cut wire remains short and has a convex shape, and it joins with the substrate. Since it is inconvenient for, flatten by crushing the upper surface with another tool. A silver paste is applied to the bumps 100 by a transfer method in order to ensure connection reliability.

【0022】接続端子301、接続端子300および電
極配線302が形成された光ファイバープレート3の基
板1が貼り合わさる部分の中央部に適量の接着剤を滴下
し基板1のバンプ100が接続端子300及び接続端子
301に接続されるよう位置合わせして仮圧着させる。
なお、この接着剤はいわゆるアンダーフィル剤であり硬
化収縮が大きく熱膨張係数の小さい透光性エポキシ樹脂
とシリカの混合物を使用した。
An appropriate amount of adhesive is dropped onto the central portion of the portion of the optical fiber plate 3 on which the connection terminal 301, the connection terminal 300 and the electrode wiring 302 are bonded and the bump 100 of the substrate 1 is connected to the connection terminal 300. Positioning is performed so as to be connected to the terminal 301, and temporary crimping is performed.
The adhesive was a so-called underfill agent, and a mixture of a translucent epoxy resin having a large curing shrinkage and a small thermal expansion coefficient and silica was used.

【0023】この作業を基板を使用する数だけ繰り返
し、実装する全ての基板が仮圧着させたところで、本圧
着を行う。
This operation is repeated by the number of boards to be used, and when all the boards to be mounted have been temporarily press-bonded, the main press-bonding is performed.

【0024】また、図3に示すように、基板間には基板
の切断バラツキや位置合わせバラツキなどからある程度
の隙間を設けざるをえなく、ここでは、たとえば50μ
mの隙間を設けて貼り合わせている。基板1の画素ピッ
チは50μmであり、ちょうど1画素分欠落するものの
両サイドの画素データから補完することでデータの欠落
部分を穴埋めすることができる。
Further, as shown in FIG. 3, there is no choice but to provide a certain gap between the substrates due to variations in cutting and alignment of the substrates, and here, for example, 50 μm.
They are bonded together with a space of m. The pixel pitch of the substrate 1 is 50 μm, and although one pixel is missing, the missing data can be filled in by complementing the pixel data on both sides.

【0025】また、図4に示すように、光電変換素子は
シリコンウエハ上に製作し、ダイサーにて切断するが基
板と基板が隣接する辺は切断精度が要求される。
Further, as shown in FIG. 4, the photoelectric conversion element is manufactured on a silicon wafer and cut by a dicer, but the cutting accuracy is required for the sides where the substrates are adjacent to each other.

【0026】本圧着の加熱条件としては、樹脂成分が硬
化する条件、例えば、温度条件は、150℃、80se
cで、圧力条件は端子数によって異なるが、端子当たり
70〜120gになるように適宜装置側の荷重を設定す
る。
The heating conditions for the main compression bonding are the conditions under which the resin component is cured, for example, the temperature conditions are 150 ° C. and 80 sec.
In c, the pressure condition varies depending on the number of terminals, but the load on the device side is appropriately set so as to be 70 to 120 g per terminal.

【0027】本圧着の際、基板1の高さばらつきやバン
プ100の高さばらつきを吸収するため独立ヒーターベ
ッドで同時に全ての基板を本圧着できる特殊ヒーターツ
ール使用する。あるいは一体型ヒーターツールでもバラ
ツキを吸収する緩衝材を設けても良い。
At the time of the main pressure bonding, a special heater tool capable of performing the main pressure bonding simultaneously for all the substrates by the independent heater bed is used in order to absorb the height variation of the substrate 1 and the height variation of the bumps 100. Alternatively, an integrated heater tool may be provided with a cushioning material that absorbs variations.

【0028】光ファイバープレート3上の電極配線30
0を通して、外部から電源供給、信号入出力を行う為の
FPC5を熱圧着し、更に端子部、素子部を保護するた
めに樹脂封止を施しておく。
Electrode wiring 30 on the optical fiber plate 3
The FPC 5 for supplying power and inputting / outputting signals from the outside is thermo-compressed through 0, and is further sealed with resin to protect the terminal portion and the element portion.

【0029】また、光ファイバープレート3の端子及び
電極配線形成側と反対側の面にはX線を光に変換するシ
ンチレータとして蛍光体を光ファイバープレート上に積
層するか蛍光体フィルムを接着する。
On the surface of the optical fiber plate 3 opposite to the terminal and electrode wiring forming side, a phosphor is laminated on the optical fiber plate or a phosphor film is adhered as a scintillator for converting X-rays into light.

【0030】蛍光体の材質としては、よう化セシウム
(CsI)や硫化ガドリウム(Gd22 2 )を使用
し、真空蒸着により積層する。積層したままでは触れた
だけで破壊したり湿度で溶解してしまうおそれもあるの
で透湿防止樹脂6などで保護する。
As the material of the phosphor, cesium iodide (CsI) or gadolinium sulfide (Gd 2 O 2 S 2 ) is used, and they are laminated by vacuum vapor deposition. If they are stacked, they may be destroyed by being touched or may be dissolved by humidity, so they are protected by a moisture permeation preventive resin 6 or the like.

【0031】また、硫化ガドリウム粉体にバインダーを
混合しフィルム状に加工したものを使用して光ファイバ
ープレート3に接着剤を用いて接着しても良い。
Alternatively, a gadolinium sulfide powder mixed with a binder and processed into a film may be used to adhere to the optical fiber plate 3 with an adhesive.

【0032】このようにして本発明に係わるX線撮像装
置を構成する。
Thus, the X-ray imaging apparatus according to the present invention is constructed.

【0033】(実施形態2)図5は、本発明の実施形態
2の画像処理システム(X線診断システム)の模式的な
構成図である。なお、図5に示すイメージセンサ604
0として、実施形態1で説明した撮像装置を用いてい
る。
(Second Embodiment) FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an image processing system (X-ray diagnostic system) according to a second embodiment of the present invention. The image sensor 604 shown in FIG.
The imaging device described in the first embodiment is used as 0.

【0034】X線チューブ6050で発生したX線60
60は患者あるいは被験者6061の胸部6062を透
過し、シンチレーターを上部に実装した本発明に係わる
イメージセンサ(撮像装置)6040に入射する。この
入射したX線には患者6061の体内部の情報が含まれ
ている。X線の入射に対応してシンチレーターは発光
し、これを光電変換して、電気的情報を得る。この情報
はディジタルに変換されイメージプロセッサ6070に
より画像処理され制御室のディスプレイ6080で観察
できる。
X-ray 60 generated by X-ray tube 6050
Reference numeral 60 passes through the chest 6062 of the patient or subject 6061 and enters the image sensor (imaging device) 6040 according to the present invention having a scintillator mounted on the upper portion. The incident X-ray contains information on the inside of the body of the patient 6061. The scintillator emits light in response to the incidence of X-rays and photoelectrically converts the light to obtain electrical information. This information is converted to digital, image-processed by the image processor 6070, and can be viewed on the display 6080 in the control room.

【0035】また、この情報は電話回線6090等の伝
送手段により遠隔地へ転送でき、別の場所のドクタール
ームなどディスプレイ6081に表示もしくは光ディス
ク等の保存手段に保存することができ、遠隔地の医師が
診断することも可能である。またフィルムプロセッサ6
100によりフィルム6110に記録することもでき
る。
Further, this information can be transferred to a remote place by a transmission means such as a telephone line 6090, can be displayed on a display 6081 such as a doctor room at another place, or can be stored in a storage means such as an optical disc. It is also possible to diagnose. Also the film processor 6
It is also possible to record by 100 on the film 6110.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
読み出し経路で反射した光が光電変換基板へ入射するの
を防止する入射防止膜を形成するので、光電変換素子へ
迷光が入射しないようにすることができる。
As described above, according to the present invention,
Since the incident prevention film that prevents the light reflected on the reading path from entering the photoelectric conversion substrate is formed, it is possible to prevent stray light from entering the photoelectric conversion element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態1のX線撮像装置の断面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view of an X-ray imaging apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の裏面側からの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view from the back side of FIG.

【図3】図1の基板1の平面図である。3 is a plan view of the substrate 1 of FIG. 1. FIG.

【図4】図1の光ファイバープレート3を示す平面図で
ある。
4 is a plan view showing the optical fiber plate 3 of FIG. 1. FIG.

【図5】本発明の実施形態2の画像処理システム(X線
診断システム)の模式的な構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an image processing system (X-ray diagnostic system) according to a second embodiment of the present invention.

【図6】従来のX線撮像装置の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of a conventional X-ray imaging apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光電変換素子が設けられた基板 2 シンチレータ(蛍光体) 3 光ファイバープレート 4 透明接着剤 5 FPC 6 シンチレータ保護樹脂 7 異方性導電接着剤 100 スタッドバンプ 102 撮像有効領域 103 駆動、信号処理IC搭載領域及び実装領域 300 光電変換素子接続用端子 301 FPC接続用端子 302 電極配線 303 反射防止膜 304 遮光膜 1 Substrate provided with photoelectric conversion element 2 Scintillator (phosphor) 3 Optical fiber plate 4 transparent adhesive 5 FPC 6 Scintillator protection resin 7 Anisotropic conductive adhesive 100 stud bump 102 effective imaging area 103 Drive and signal processing IC mounting area and mounting area 300 Photoelectric conversion element connection terminal 301 FPC connection terminal 302 electrode wiring 303 Anti-reflection film 304 Light-shielding film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梶原 賢治 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2G088 EE01 FF02 FF04 FF05 FF06 GG15 GG19 JJ05 JJ09 2H013 AB01 AB10 BA20    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Kenji Kajiwara             3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo             Non non corporation F term (reference) 2G088 EE01 FF02 FF04 FF05 FF06                       GG15 GG19 JJ05 JJ09                 2H013 AB01 AB10 BA20

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 蛍光体で変換された光を光電変換基板へ
導く導光体板に、少なくとも前記光電変換基板で変換さ
れた電気信号の読み出し経路の一部を形成した放射線検
出装置において、 前記読み出し経路で反射した光が光電変換基板へ入射す
るのを防止する入射防止膜を形成することを特徴とする
放射線検出装置。
1. A radiation detection apparatus comprising: a light guide plate that guides light converted by a phosphor to a photoelectric conversion substrate, and at least a part of a readout path of an electric signal converted by the photoelectric conversion substrate is formed on the light guide plate. A radiation detecting apparatus, comprising: an incident prevention film that prevents light reflected on the readout path from entering the photoelectric conversion substrate.
【請求項2】 前記入射防止膜は、反射防止膜又は遮光
膜であって、前記導光体板と前記読み出し経路との間に
形成されていることを特徴とする請求項1記載の放射線
検出装置。
2. The radiation detector according to claim 1, wherein the incident prevention film is an antireflection film or a light shielding film, and is formed between the light guide plate and the readout path. apparatus.
【請求項3】 さらに、前記入射防止膜は、前記導光体
板の光出射面であって前記光電変換基板が位置しない部
位に形成されていることを特徴とする請求項1又は2記
載の放射線検出装置。
3. The incident prevention film is further formed on a light emitting surface of the light guide plate and at a portion where the photoelectric conversion substrate is not located. Radiation detector.
【請求項4】 前記導光体板は複数の光ファイバーを有
することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記
載の放射線検出装置。
4. The radiation detecting apparatus according to claim 1, wherein the light guide plate has a plurality of optical fibers.
【請求項5】 前記導光体板は放射線を遮蔽する遮蔽材
を含むことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項
記載の放射線検出装置。
5. The radiation detecting apparatus according to claim 1, wherein the light guide plate includes a shielding material that shields radiation.
【請求項6】 請求項1から5のいずれか1項記載の放
射線検出装置を備えることを特徴とする放射線検出シス
テム。
6. A radiation detection system comprising the radiation detection device according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2477346B (en) * 2010-02-01 2016-03-23 Scintacor Ltd Scintillator assembly for use in digital x-ray imaging
US10670741B2 (en) 2015-03-20 2020-06-02 Varex Imaging Corporation Scintillator

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