JP2003003299A - Electrolytic treatment equipment and electrolysis method - Google Patents

Electrolytic treatment equipment and electrolysis method

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JP2003003299A
JP2003003299A JP2001187353A JP2001187353A JP2003003299A JP 2003003299 A JP2003003299 A JP 2003003299A JP 2001187353 A JP2001187353 A JP 2001187353A JP 2001187353 A JP2001187353 A JP 2001187353A JP 2003003299 A JP2003003299 A JP 2003003299A
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Japan
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electrolytic
metal plate
soft start
current
current density
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JP2001187353A
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Japanese (ja)
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Mutsumi Matsuura
睦 松浦
Akio Uesugi
彰男 上杉
Tsutomu Hirokawa
強 廣川
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide electrolytic treatment equipment and electrolytic treatment method capable of effectively preventing the formation of charter marks even when the electrolytic treatment of a metallic sheet is performed at a high conveyance speed and high current density. SOLUTION: The electrolytic treatment equipment which continuously electrolytically treats the belt-like metallic sheet by an AC waveform current while conveying the metallic sheet in an acidic electrolyte has an electrolytic cell in which the acidic electrolyte is housed and the metallic sheet is conveyed. The inlet section of the electrolytic cell is formed with a soft start section for electrolytically treating the metallic sheet at the low current density in such a manner that MCD×LS/L=1 to 750 (L: the length (mm) of the soft start section, LS: the conveyance speed (mm/scd) of the metallic sheet, MCD: the maximum current density (A/dm<2> ) holds.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電解処理装置およ
び電解処理方法に関し、特に、連続した帯状の金属板
を、高い電流密度および搬送速度で電解処理するときに
も、前記金属板の表面におけるチャターマークの発生を
効果的に防止できる電解処理装置および電解処理方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrolytic treatment apparatus and an electrolytic treatment method, and particularly to a surface of a continuous strip-shaped metal plate even when the metal plate is electrolytically treated at a high current density and a high transport speed. The present invention relates to an electrolytic treatment apparatus and an electrolytic treatment method capable of effectively preventing the formation of chatter marks.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷版の原版である平版印刷原版
は、一般的に、純アルミニウムまたはアルミニウム合金
(以下、「アルミニウム等」ということがある。)の板
の表面を粗面化し、次いで前記表面を陽極酸化処理する
ことにより、陽極酸化皮膜を形成して平版印刷版用支持
体を得、前記平版印刷版用支持体における陽極酸化皮膜
が形成された表面に感光性樹脂または感熱性樹脂を塗布
して感光性または感熱性の製版層を形成するという手順
に従って作製される。
2. Description of the Related Art A lithographic printing original plate, which is an original plate of a lithographic printing plate, generally has a surface of a plate of pure aluminum or an aluminum alloy (hereinafter sometimes referred to as "aluminum or the like") roughened, and then, By subjecting the surface to anodizing treatment, an anodized film is formed to obtain a lithographic printing plate support, and a photosensitive resin or a heat-sensitive resin is formed on the surface of the lithographic printing plate support on which the anodized film is formed. It is prepared according to the procedure of applying to form a photosensitive or heat-sensitive plate-making layer.

【0003】前記平版印刷原版の製版層に文字および絵
などの印刷画像を焼き付け、現像することにより、平版
印刷版が作製される。
A lithographic printing plate is produced by printing a printed image such as characters and pictures on the plate making layer of the lithographic printing original plate and developing it.

【0004】前記アルミニウム板は、ナイロンなどの毛
を有するブラシローラまたは表面が研磨布からなる研磨
ローラ等による機械的粗面化処理、アルカリ溶液中で前
記アルミニウム板の表面を化学的に粗面化するエッチン
グ処理、および前記アルミニウム板を電極の一方として
電解粗面化する電解粗面化処理などにより、粗面化され
る。
The aluminum plate is mechanically roughened by a brush roller having nylon bristles or a polishing roller having a surface made of a polishing cloth, and the surface of the aluminum plate is chemically roughened in an alkaline solution. The surface is roughened by an etching treatment to be performed, an electrolytic surface roughening treatment to electrolytically roughen the aluminum plate as one of the electrodes.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記電
解粗面化処理は、通常、酸性電解液中で前記アルミニウ
ム板に正弦波電流、矩形波電流、または台形波電流など
の交番波形電流を印加して行なうので、電解槽の入口に
おいて、前記アルミニウム板に正電圧および負電圧が交
互に印加される。
However, in the electrolytic surface roughening treatment, an alternating waveform current such as a sine wave current, a rectangular wave current or a trapezoidal wave current is usually applied to the aluminum plate in an acidic electrolyte. The positive voltage and the negative voltage are alternately applied to the aluminum plate at the inlet of the electrolytic cell.

【0006】前記アルミニウム板においては、正電圧が
印加されるとカソード反応が起き、負電圧が印加される
とアノード反応が起きる。そしてカソード反応時には、
水酸化アルミニウムを主体とする酸化皮膜が生成し、ア
ノード反応時には、前記酸化皮膜が溶解してピットと称
する蜂の巣状の小孔が生じる。
In the aluminum plate, a cathode reaction occurs when a positive voltage is applied, and an anode reaction occurs when a negative voltage is applied. And during the cathode reaction,
An oxide film mainly composed of aluminum hydroxide is formed, and during the anodic reaction, the oxide film is dissolved to form a honeycomb-shaped small hole called a pit.

【0007】したがって、前記電解槽内を通過するアル
ミニウム板は、前記電解槽の入口において正電圧が印加
されると先ずカソード反応をし、負電圧が印加されると
先ずアノード反応をするから、前記電解槽の入口におい
て印加される電流の極性によって前記アルミニウム板の
表面状態が異なり、前記アルミニウム板の幅方向に伸び
る縞状の面質ムラすなわちチャターマークが生じること
がある。特に、高い搬送速度および高い電流密度で電解
粗面化処理を行なうときには、前記チャターマークの発
生が顕著に見られることがあった。
Therefore, the aluminum plate passing through the inside of the electrolytic cell first undergoes a cathodic reaction when a positive voltage is applied at the inlet of the electrolytic cell and an anodic reaction when a negative voltage is applied. The surface state of the aluminum plate varies depending on the polarity of the current applied at the inlet of the electrolytic cell, and striped uneven surface quality, that is, chatter marks extending in the width direction of the aluminum plate may occur. In particular, when the electrolytic surface roughening treatment is performed at a high transport speed and a high current density, the chatter mark may be remarkably generated.

【0008】本発明は、上記問題を解決すべく成された
もので、高い搬送速度および電流密度で電解粗面化処理
などの電解処理を行なう場合においてもチャターマーク
の発生を効果的に防止できる電解処理装置および電解処
理方法の提供を目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and can effectively prevent the occurrence of chatter marks even when electrolytic treatment such as electrolytic surface roughening treatment is performed at a high transport speed and a high current density. An object is to provide an electrolytic treatment apparatus and an electrolytic treatment method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、帯状の金属板を、酸性電解液中を搬送しつつ、交番
波形電流により連続的に電解処理する電解処理装置であ
って、前記酸性電解液を収容し、内部を前記金属板が搬
送される電解槽を備えてなり、前記電解槽において前記
金属板が導入される入口部には、前記金属板を、前記電
解槽における前記入口部よりも内部において印加される
交番波形電流の電流密度よりも低い電流密度で電解処理
するソフトスタート部が設けられてなり、前記金属板の
搬送経路である搬送面に沿った前記ソフトスタート部の
長さをL(mm)、前記金属板の搬送速度をLS(mm
/秒)、前記電解槽における最大電流密度をMCD(A
/dm2)とすると、下記の関係式: MCD×LS/L=1〜750 が成り立つように前記ソフトスタート部が形成されてな
ることを特徴とする電解処理装置に関する。
The invention according to claim 1 is an electrolytic treatment apparatus for continuously electrolytically treating a strip-shaped metal plate by an alternating waveform current while transporting it in an acidic electrolyte. The acidic electrolytic solution is accommodated, and the inside is provided with an electrolysis tank in which the metal plate is conveyed, and the metal plate is introduced into the inlet portion of the electrolysis tank where the metal plate is introduced. A soft start portion for electrolytically processing at a current density lower than the current density of the alternating waveform current applied inside the inlet portion is provided, and the soft start portion along the conveyance surface that is the conveyance path of the metal plate. Is L (mm), and the transport speed of the metal plate is LS (mm
/ Sec), the maximum current density in the electrolytic cell is MCD (A
/ Dm 2 ), the soft start portion is formed so that the following relational expression: MCD × LS / L = 1 to 750 holds.

【0010】前記電解処理装置においては、高い電流密
度および搬送速度で金属板の電解処理を行なう場合に
も、チャターマークが発生することがなく、また、均一
な処理面が得られる。
In the electrolytic treatment apparatus, chatter marks are not generated and a uniform treated surface is obtained even when electrolytic treatment of a metal plate is performed at high current density and transport speed.

【0011】したがって、前記電解処理装置を、[従来
の技術]の欄で述べたアルミニウム板の電解粗面化に使
用すれば、高い電流密度および搬送速度で前記アルミニ
ウム板を電解粗面化できるから、高い生産性で平版印刷
版用支持体を製造できる。
Therefore, if the electrolytic treatment apparatus is used for electrolytic surface roughening of an aluminum plate described in the section "Prior Art", the aluminum plate can be electrolytically surface roughened at a high current density and a transport speed. A lithographic printing plate support can be manufactured with high productivity.

【0012】前記ソフトスタート部は、長さLが、前記
金属板の搬送速度LS、および最大電流密度MCDとの
間に MCD×LS/L=50〜300 の関係を満たすように形成することが好ましい。
The soft start portion may be formed so that the length L satisfies the relationship of MCD × LS / L = 50 to 300 between the transport speed LS of the metal plate and the maximum current density MCD. preferable.

【0013】前記金属板は、交番波形電流を印加するこ
とにより粗面化できるものであれば、前記アルミニウム
板には限定されない。
The metal plate is not limited to the aluminum plate as long as it can be roughened by applying an alternating waveform current.

【0014】また、前記酸性電解液としては、硫酸、硝
酸、塩酸、燐酸、スルホン酸などの無機または有機の強
酸を主要な酸成分として含有する溶液が挙げられる。前
記酸性電解液は、前記酸性枌の他に、前記金属板を構成
する金属元素のイオンを含有していてもよい。
The acidic electrolyte may be a solution containing a strong inorganic or organic acid such as sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid or sulfonic acid as a main acid component. The acidic electrolytic solution may contain ions of a metal element that forms the metal plate, in addition to the acidic screen.

【0015】前記ソフトスタート部は、前記金属板の入
口において、前記金属板に印加される電流密度が10A
/dm2以下になるように形成することが好ましく、特
に前記電流密度が1〜5A/dm2になるように形成す
ることが好ましい。
The soft start portion has a current density of 10 A applied to the metal plate at the entrance of the metal plate.
/ Dm 2 or less, and particularly preferably the current density is 1 to 5 A / dm 2 .

【0016】前記交番波形電流としては、前述のよう
に、正弦波電流のほか、矩形波電流および台形波電流も
挙げられる。また、前記正弦波電流、矩形波電流、また
は台形波電流に直流電流を重畳して印加してもよい。
As described above, examples of the alternating waveform current include a sine wave current, a rectangular wave current and a trapezoidal wave current. In addition, a DC current may be superimposed and applied to the sine wave current, the rectangular wave current, or the trapezoidal wave current.

【0017】請求項2に記載の発明は、前記電流密度
が、前記金属板の搬送方向に沿って前記最大電流密度ま
で連続的に増大するように前記ソフトスタート部が形成
されてなる電解処理装置に関する。
According to a second aspect of the present invention, the electrolytic treatment apparatus has the soft start portion formed so that the current density continuously increases to the maximum current density along the transport direction of the metal plate. Regarding

【0018】前記電解処理装置においては、前記電解槽
の内部におけるソフトスタート部とそれよりも内側の部
分との間で電流密度が階段状に変化することが無いの
で、前記チャターマークの発生をより効果的に防止でき
る。
In the electrolytic treatment apparatus, since the current density does not change stepwise between the soft start portion inside the electrolytic cell and the portion inside thereof, the chatter mark is generated more effectively. It can be effectively prevented.

【0019】請求項3に記載の発明は、前記電解槽が、
前記搬送面に沿って配設されてなるとともに、前記交番
波形電流が印加される電極を備えてなり、前記電極が、
前記ソフトスタート部において、前記金属板の搬送方向
に対して下流側に向って前記搬送面に連続的に近接する
漸近部を有してなる電解処理装置に関する。
According to a third aspect of the present invention, the electrolytic cell is
The electrode is arranged along the transport surface, and comprises an electrode to which the alternating waveform current is applied.
The present invention relates to an electrolytic processing apparatus, wherein the soft start portion has an asymptotic portion that is continuously close to the transport surface toward the downstream side with respect to the transport direction of the metal plate.

【0020】電解処理装置においては、電極と金属板の
搬送面との間隔が大きいと、前記電極と前記搬送面との
間に存在する酸性電解液の層が厚くなるから、前記電極
と前記金属板との間の電気抵抗が高い。一方、前記間隔
が小さいと、前記酸性電解液の層の厚さが小さくなるか
ら、前記電極と前記金属板との間の電気抵抗が低い。
In the electrolytic treatment apparatus, if the distance between the electrode and the carrying surface of the metal plate is large, the layer of the acidic electrolytic solution existing between the electrode and the carrying surface becomes thick, and therefore, the electrode and the metal plate. High electrical resistance between the board. On the other hand, when the distance is small, the thickness of the layer of the acidic electrolyte is small, so that the electric resistance between the electrode and the metal plate is low.

【0021】ここで、前記電解処理装置においては、前
述のように、前記ソフトスタート部においては、前記電
極に、前記金属板の搬送面に対して下流側に向って前記
搬送面に連続的に近接し、換言すれば漸近する漸近部が
形成されているから、前記電極と前記金属板との間の電
気抵抗は、前記金属板の搬送方向に対して下流側に向っ
て減少する。したがって前記電極と前記金属板との間に
流れる電流は、前記搬送方向に対して下流側に向かって
増大するから、前記漸近部は、ソフトスタート部として
機能する。
Here, in the electrolytic treatment apparatus, as described above, in the soft start portion, the electrode is continuously connected to the transport surface of the metal plate toward the downstream side with respect to the transport surface. Since an asymptotic portion that is close to, in other words, asymptotic to, is formed, the electrical resistance between the electrode and the metal plate decreases toward the downstream side with respect to the transport direction of the metal plate. Therefore, the current flowing between the electrode and the metal plate increases toward the downstream side with respect to the transport direction, so that the asymptotic portion functions as a soft start portion.

【0022】このように、前記電解処理装置は、従来の
電解槽に何らの装置や部品を付加することなくソフトス
タート部を形成できるから、構成が単純であるという特
徴を有する。
As described above, the electrolytic treatment apparatus has a characteristic that the structure is simple because the soft start portion can be formed without adding any apparatus or parts to the conventional electrolytic cell.

【0023】前記電解処理装置が、浅い直方体状の電解
槽と前記電解槽の底面に設けられた板状の電極とを有
し、前記電解槽内部において金属板を前記電極に対して
平行に搬送するフラット型電解処理装置であるときは、
前記ソフトスタート部においては、前記電極における漸
近部は、前記金属板の搬送面に直線的に漸近するように
形成してもよいが、前記漸近部を前記搬送面に向って凸
の円柱面状に形成すれば、前記ソフトスタート部と前記
搬送方向に対してそれよりも下流側の部分との間の電流
密度の変化がより滑らかになるから好ましい。
The electrolytic treatment apparatus has a shallow rectangular parallelepiped electrolytic cell and a plate-shaped electrode provided on the bottom surface of the electrolytic cell, and conveys a metal plate in parallel to the electrode inside the electrolytic cell. When it is a flat type electrolytic treatment device that
In the soft start portion, the asymptotic portion of the electrode may be formed so as to linearly asymptote to the transport surface of the metal plate, but the asymptotic portion is a cylindrical surface convex toward the transport surface. If it is formed, the change in the current density between the soft start portion and the portion on the downstream side with respect to the transport direction becomes smoother, which is preferable.

【0024】前記電解処理装置が、前記金属板を巻き掛
けて搬送する送りローラと、前記送りローラを囲むよう
に略円筒状に形成された電極と、前記送りローラおよび
前記電極を収容する電解槽とを有するラジアル型電解処
理装置である場合には、前記漸近部を、前記電極の円筒
状の内周面から接線方向に延びる平面状に形成すること
が好ましい。
In the electrolytic treatment apparatus, a feed roller for winding and transporting the metal plate, an electrode formed in a substantially cylindrical shape so as to surround the feed roller, and an electrolytic cell for accommodating the feed roller and the electrode. In the case of the radial type electrolytic treatment apparatus having the above, it is preferable that the asymptotic portion is formed in a planar shape extending in the tangential direction from the cylindrical inner peripheral surface of the electrode.

【0025】前記電極は、一体に形成されていてもよ
く、また、複数の小電極と板状または層状の絶縁体とを
交互に積層した構造を有していてもよい。
The electrodes may be integrally formed, or may have a structure in which a plurality of small electrodes and plate-like or layer-like insulators are alternately laminated.

【0026】請求項4に記載の発明は、前記電極が、少
なくとも前記ソフトスタート部において、互いに絶縁さ
れた複数の小電極を有してなり、前記小電極のそれぞれ
と、前記交番波形電流を供給する電源との間に、前記電
源から供給される電流の密度を前記最大電流密度よりも
小さくする電流絞り手段とを備えてなる電解処理装置に
関する。
According to a fourth aspect of the present invention, the electrode has a plurality of small electrodes insulated from each other at least in the soft start portion, and supplies the alternating waveform current to each of the small electrodes. And an electric current limiting means for reducing the density of the electric current supplied from the electric power source to be smaller than the maximum current density.

【0027】前記電流絞り手段は、前記金属板の搬送方
向に対して下流側に位置する小電極程高い電流密度で電
流が供給されるように形成する。
The current throttling means is formed so that the electric current is supplied at a higher current density toward the small electrode located on the downstream side in the transport direction of the metal plate.

【0028】前記電流絞り手段としては、後述するイン
ダクタンスコイルおよび抵抗器などが挙げられる。他に
は、前記電極のそれぞれと電源との間に挿入される変圧
器、電圧制御回路、および電流制御回路が挙げられる。
Examples of the current throttle means include an inductance coil and a resistor which will be described later. Others include transformers, voltage control circuits, and current control circuits that are inserted between each of the electrodes and a power source.

【0029】請求項5に記載の発明は、前記電流絞り手
段がインダクタンスコイルである電解処理装置に関す
る。
The fifth aspect of the present invention relates to the electrolytic treatment apparatus, wherein the current limiting means is an inductance coil.

【0030】前記電解処理装置は、請求項4に記載の電
解処理装置において、電流絞り手段としてインダクタン
スコイルを用いた例である。
The electrolytic processing apparatus is an example of the electrolytic processing apparatus according to claim 4, wherein an inductance coil is used as the current limiting means.

【0031】インダクタンスコイルは、また、インダク
タとも称され、鉄心を有するコイルも有しないコイルも
使用できる。
The inductance coil is also called an inductor, and a coil having an iron core or a coil having no iron core can be used.

【0032】インダクタンスコイルは、電極と電源との
間のインダクタンスを増加させて前記電極に流れる電流
を規制するので抵抗損失が殆どない。また、インダクタ
ンスコイルには何らの制御装置も必要ないから、前記電
解処理装置は構成が簡略であるという特長も有する。
Since the inductance coil increases the inductance between the electrode and the power supply to regulate the current flowing through the electrode, there is almost no resistance loss. Further, since the inductance coil does not require any control device, the electrolytic treatment device has a feature that the structure is simple.

【0033】請求項6に記載の発明は、前記電流絞り手
段が抵抗器である電解処理装置に関する。
The invention according to claim 6 relates to the electrolytic treatment apparatus wherein the current limiting means is a resistor.

【0034】前記電解処理装置は、請求項4に記載の電
解処理装置において、電流絞り手段として抵抗器を用い
た例である。
The electrolytic processing apparatus is an example of the electrolytic processing apparatus according to claim 4, wherein a resistor is used as the current limiting means.

【0035】前記電解処理装置においては、前記電流絞
り手段として抵抗器を使用しているから、前記電源と前
記小電極との間には抵抗負荷しかない。したがって、力
率が1である。
In the electrolytic treatment apparatus, since the resistor is used as the current throttling means, there is only a resistive load between the power source and the small electrode. Therefore, the power factor is 1.

【0036】請求項7に記載の発明は、前記ソフトスタ
ート部が、前記電極における前記金属板の入口近傍に形
成された漸近部と、前記漸近部よりも下流側に位置し、
互いに絶縁された小電極および前記小電極のそれぞれに
接続された電流絞り手段を有する電流絞り部とを備えて
なる電解処理装置に関する。
According to a seventh aspect of the present invention, the soft start portion is located at an asymptotic portion formed near the entrance of the metal plate in the electrode and at a downstream side of the asymptotic portion.
The present invention relates to an electrolytic treatment apparatus comprising a small electrode insulated from each other and a current throttle unit having a current throttle means connected to each of the small electrodes.

【0037】前記電解処理装置は、ソフトスタート部に
おいて、前記漸近部と電流絞り手段とを併用しているか
ら、前記電解処理装置における最大電流密度、および前
記金属板の搬送速度に応じて、ソフトスタート部におけ
る電流密度の変化パターンを幅広く変化させることがで
きるという特長を有する。
In the electrolytic treatment apparatus, since the asymptotic portion and the current throttling means are used together in the soft start portion, the soft start portion is softened depending on the maximum current density in the electrolytic treatment apparatus and the transport speed of the metal plate. It has a feature that the change pattern of the current density in the start portion can be widely changed.

【0038】請求項8に記載の発明は、前記金属板がア
ルミニウム板である電解処理装置に関する。
The invention according to claim 8 relates to the electrolytic treatment apparatus, wherein the metal plate is an aluminum plate.

【0039】前記電解処理装置は、例えば連続帯状のア
ルミニウム板を電解粗面化して平版印刷版用支持体を製
造するのに使用できる。
The electrolytic treatment apparatus can be used, for example, to electrolytically roughen a continuous strip of aluminum plate to produce a support for a lithographic printing plate.

【0040】請求項9に記載の発明は、帯状の金属板
を、酸性電解液中で交番波形電流により連続的に電解処
理する電解処理方法であって、前記酸性電解液を収容す
るとともに、内部を前記金属板が搬送される電解槽であ
って、前記金属板の入口部に、前記金属板を、電解槽の
前記入口部よりも内側における電流密度よりも低い電流
密度で電解処理するソフトスタート部が設けられてな
り、前記金属板の搬送経路である搬送面に沿った前記ソ
フトスタート部の長さをL(mm)、前記金属板の搬送
速度をLS(mm/秒)、前記電解槽内部における最大
電流密度をMCD(A/dm2)とすると、下記の関係
式: MCD×LS/L=1〜750 が成り立つように前記ソフトスタート部が形成されてな
る電解槽を用いて電解処理を行なうことを特徴とする電
解処理方法に関する。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an electrolytic treatment method in which a strip-shaped metal plate is continuously electrolytically treated in an acidic electrolytic solution with an alternating waveform current. In the electrolysis tank in which the metal plate is transported, a soft start for electrolyzing the metal plate at an entrance portion of the metal plate at a current density lower than a current density inside the entrance portion of the electrolysis tank. Is provided, the length of the soft start portion along the transport surface that is the transport path of the metal plate is L (mm), the transport speed of the metal plate is LS (mm / sec), the electrolytic bath If the maximum current density in the interior is MCD (A / dm 2 ), electrolytic treatment is performed using an electrolytic cell in which the soft start portion is formed so that the following relational expression: MCD × LS / L = 1 to 750 holds. To do The present invention relates to a characteristic electrolytic treatment method.

【0041】高い電流密度および高い搬送速度で金属板
の電解処理を行なう場合においても、前記電解処理方法
を用いることにより、チャターマークがなく、処理面の
均一な金属板を製造できる。
Even when the metal plate is electrolyzed at a high current density and a high transport speed, a metal plate having no chatter mark and a uniform treated surface can be manufactured by using the above-mentioned electrolytic treatment method.

【0042】請求項10に記載の発明は、前記金属板が
アルミニウム板である電解処理方法に関する。
The invention according to claim 10 relates to an electrolytic treatment method, wherein the metal plate is an aluminum plate.

【0043】前記電解処理方法によれば、アルミニウム
板を従来よりも高い電流密度および搬送速度で電解粗面
化できるから、平版印刷版用支持体を高い生産性で製造
できる。
According to the above-mentioned electrolytic treatment method, the aluminum plate can be electrolytically surface-roughened at a current density and a transporting speed higher than those in the prior art, so that the lithographic printing plate support can be produced with high productivity.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】1.実施形態1 連続した帯状のアルミニウム板であるアルミニウムウェ
ブを交流電解して電解粗面化処理する電解粗面化処理装
置のうち、ラジアル型のものに、本発明を適用した一例
につき、以下に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION 1. Embodiment 1 An example in which the present invention is applied to a radial type of an electrolytic surface roughening treatment apparatus for electrolytically roughening treatment by alternating current electrolysis of an aluminum web which is a continuous strip-shaped aluminum plate will be described below. To do.

【0045】図1に示すように、実施形態1に係る電解
粗面化処理装置100は、酸性電解液が貯留される電解
槽2Aが内部に設けられた電解槽本体2と、電解槽2A
内部に、水平方向に伸びる軸線の周りに回転可能に配設
され、帯状に連続した薄板であるアルミニウムウェブW
を矢印aの方向、即ち図1における右方から左方に向か
って送る送りローラ4とを備えている。
As shown in FIG. 1, the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100 according to the first embodiment includes an electrolytic cell body 2 having an electrolytic cell 2A in which an acidic electrolytic solution is stored, and an electrolytic cell 2A.
An aluminum web W that is a strip-shaped continuous thin plate disposed rotatably around an axis extending in the horizontal direction inside.
Is provided in the direction of arrow a, that is, from the right side to the left side in FIG.

【0046】電解槽2Aの内壁面は、送りローラ4を囲
むように略円筒状に形成され、前記内壁面上には、半円
筒状の電極6Aおよび6Bが送りローラ4を挟んで設け
られている。電極6Aおよび6Bは、それぞれ円周方向
に沿って複数の小電極62Aおよび62Bに分割され、
各電極62Aおよび62Bの間には、それぞれ絶縁層6
4Aおよび64Bが介装されている。小電極62Aおよ
び62Bは、例えば、グラファイトや金属などを用いて
形成でき、絶縁層64Aおよび64Bは、例えば塩化ビ
ニル樹脂などにより形成できる。絶縁層64Aおよび6
4Bの厚さは、1〜10mmが好ましい。また、図1で
は省略されているが、電極6Aおよび6Bの何れにおい
ても、小電極62Aおよび62Bは、それぞれ電源AC
に接続されている。小電極62A、62B、および絶縁
層64A、64Bは、何れも絶縁性の電極ホルダー64
Cによって保持されて電極6Aおよび6Bを形成してい
る。
The inner wall surface of the electrolytic cell 2A is formed in a substantially cylindrical shape so as to surround the feed roller 4, and semicylindrical electrodes 6A and 6B are provided on the inner wall surface so as to sandwich the feed roller 4 therebetween. There is. The electrodes 6A and 6B are divided into a plurality of small electrodes 62A and 62B along the circumferential direction,
An insulating layer 6 is formed between the electrodes 62A and 62B.
4A and 64B are interposed. The small electrodes 62A and 62B can be formed by using, for example, graphite or metal, and the insulating layers 64A and 64B can be formed by, for example, vinyl chloride resin. Insulation layers 64A and 6
The thickness of 4B is preferably 1 to 10 mm. Although not shown in FIG. 1, in each of the electrodes 6A and 6B, the small electrodes 62A and 62B are connected to the power supply AC.
It is connected to the. The small electrodes 62A and 62B and the insulating layers 64A and 64B are all electrode holders 64 having an insulating property.
It is held by C to form electrodes 6A and 6B.

【0047】前記電源ACは、前記交番波形電流を電極
6Aおよび6Bに供給する機能を有する。前記電源AC
は、誘導電圧調整器および変圧器を用いて商用交流を電
流・電圧調整することにより正弦波を発生させる正弦波
発生回路、前記商用交流を整流するなどの手段により得
られた直流から台形波電流または矩形波電流を発生させ
るサイリスタ回路などが挙げられる。
The power supply AC has a function of supplying the alternating waveform current to the electrodes 6A and 6B. The power supply AC
Is a sine wave generation circuit that generates a sine wave by adjusting the current and voltage of a commercial alternating current using an induction voltage regulator and a transformer, a trapezoidal current from a direct current obtained by means such as rectifying the commercial alternating current. Alternatively, a thyristor circuit that generates a rectangular wave current may be used.

【0048】電解槽2Aの上部には、交流電解粗面化処
理時において、本発明の金属板の一例であり、連続帯状
のアルミニウム板であるアルミニウムウェブWが導入・
導出される開口部2Bが形成されている。開口部2Bに
おける電極6Bの下流側末端近傍には、電解槽2Aに酸
性電解液を補充する酸性電解液補充流路8が設けらてい
る。前記酸性電解液としては、硝酸溶液および塩酸溶液
などが使用できる。
An aluminum web W, which is an example of the metal plate of the present invention and is a continuous strip-shaped aluminum plate, is introduced into the upper portion of the electrolytic cell 2A during the AC electrolytic graining treatment.
An opening 2B that is led out is formed. An acidic electrolyte replenishment flow path 8 for replenishing the electrolytic bath 2A with an acidic electrolyte is provided near the downstream end of the electrode 6B in the opening 2B. A nitric acid solution, a hydrochloric acid solution or the like can be used as the acidic electrolyte.

【0049】電解槽2Aの上方における開口部2B近傍
には、アルミニウムウェブWを電解槽2A内部に案内す
る一群の上流側案内ローラ10Aと、電解槽2A内で電
解処理されたアルミニウム板Wを電解槽2Aの外部に案
内する下流側案内ローラ10Bとが配設されている。
In the vicinity of the opening 2B above the electrolytic cell 2A, a group of upstream guide rollers 10A for guiding the aluminum web W into the electrolytic cell 2A and an aluminum plate W electrolyzed in the electrolytic cell 2A are electrolyzed. A downstream guide roller 10B that guides the outside of the tank 2A is provided.

【0050】電解槽本体2における電解槽2Aの上流側
には溢流槽2Cが設けられている。溢流槽2Cは、電解
槽2Aから溢流した酸性電解液を一時貯留し、電解槽2
Aの液面高さを一定に保持する機能を有する。
An overflow tank 2C is provided on the upstream side of the electrolytic cell 2A in the electrolytic cell body 2. The overflow tank 2C temporarily stores the acidic electrolytic solution overflowing from the electrolytic tank 2A,
It has the function of keeping the liquid level of A constant.

【0051】電解槽2Aと溢流層2Cとの間には、補助
電解槽12が設けられている。補助電解槽12は、電解
槽2Aよりも浅く、底面12Aが平面状に形成されてい
る。そして、底面12A上には、円柱状の補助電極14
が複数本設けられている。
An auxiliary electrolytic cell 12 is provided between the electrolytic cell 2A and the overflow layer 2C. The auxiliary electrolytic cell 12 is shallower than the electrolytic cell 2A and has a bottom surface 12A formed in a flat shape. The cylindrical auxiliary electrode 14 is formed on the bottom surface 12A.
Is provided in plural.

【0052】補助電極14は、白金などの高耐食性の金
属またはフェライトなどから形成されたものが好まし
く、また、板状であってもよい。
The auxiliary electrode 14 is preferably formed of a highly corrosion-resistant metal such as platinum or ferrite, and may be plate-shaped.

【0053】補助電極14は、交流電源ACにおける電
極6Aが接続される側に、電極6Aに対して並列に接続
され、中間には、サイリスタTh1が、点弧時におい
て、交流電源ACにおける電極6Aに接続された側から
補助電極14に向う方向に電流が流れるように接続され
ている。
The auxiliary electrode 14 is connected in parallel to the electrode 6A on the side to which the electrode 6A in the AC power supply AC is connected, and in the middle, the thyristor Th1 is connected to the electrode 6A in the AC power supply AC at the time of ignition. It is connected so that a current flows from the side connected to the auxiliary electrode 14 to the auxiliary electrode 14.

【0054】また、交流電源ACにおける電極6Bが接
続された側にも、サイリスタTh2を介して補助電極1
4に接続されている。サイリスタTh2は、点弧時に交
流電源ACにおける電極6Bに接続された側から補助電
極14に向う方向に電流が流れるように接続されてい
る。
Further, on the side of the AC power source AC to which the electrode 6B is connected, the auxiliary electrode 1 is also provided through the thyristor Th2.
4 is connected. The thyristor Th2 is connected so that a current flows in a direction from the side connected to the electrode 6B in the AC power supply AC to the auxiliary electrode 14 at the time of ignition.

【0055】サイリスタTh1およびTh2の何れを点
弧したときも、補助電極14にはアノード電流が流れ
る。したがって、サイリスタTh1およびTh2を位相
制御することにより、補助電極14に流れるアノード電
流の電流値を制御でき、したがって、アルミニウムウェ
ブWがカソードの時に流れる電気量Gcとアノードのと
きに流れる電気量Qaとの比率Qc/Qaも制御でき
る。
When either of the thyristors Th1 and Th2 is fired, the anode current flows through the auxiliary electrode 14. Therefore, by controlling the phases of the thyristors Th1 and Th2, the current value of the anode current flowing through the auxiliary electrode 14 can be controlled. Therefore, the amount of electricity Gc flowing when the aluminum web W is the cathode and the amount of electricity Qa flowing when the aluminum web W is the anode are obtained. The ratio Qc / Qa of can also be controlled.

【0056】電解粗面化処理装置100における電極6
Aおよび6Bにおけるソフトスタート部60Aおよび6
0B近傍部分の詳細を、図3における(A)に示す。な
お、図3においては、電極6A、電極6B、電解槽2
A、およびアルミニウムウェブWの何れも直線状に展開
した状態で示されている。なお、図3において送りロー
ラ4は省略されている。
Electrode 6 in the electrolytic graining apparatus 100
Soft start parts 60A and 6 in A and 6B
Details of the portion near 0B are shown in FIG. In FIG. 3, the electrode 6A, the electrode 6B, the electrolytic cell 2
Both A and the aluminum web W are shown in a linearly developed state. The feed roller 4 is omitted in FIG.

【0057】図1と図3における(A)とに示すよう
に、電極6Aおよび電極6Bにおけるアルミニウムウェ
ブWの搬送方向aに対して上流側の端部には、それぞれ
搬送方向aに沿って送りローラ4の表面に漸近する漸近
部66Aおよび66Bが形成され、これにより、電解槽
2Aの内部にソフトスタート部60Aおよび60Bが形
成される。図3において、点線の矢印は、アルミニウム
ウェブWに向って電流が流れていることを示し、前記矢
印の密度が高いほど電流密度が高いことを示す。
As shown in FIGS. 1 and 3 (A), the ends of the electrodes 6A and 6B on the upstream side of the transport direction a of the aluminum web W are respectively fed along the transport direction a. Asymptotic portions 66A and 66B that are asymptotic to the surface of the roller 4 are formed, whereby soft start portions 60A and 60B are formed inside the electrolytic cell 2A. In FIG. 3, a dotted arrow indicates that a current is flowing toward the aluminum web W, and the higher the density of the arrow, the higher the current density.

【0058】漸近部66Aおよび66Bは、実施形態1
の電解粗面化装置100においては平面的に形成されて
いるが、送りローラ4の表面、言い替えればアルミニウ
ムウェブWの搬送面Tに対して凸または凹の曲面状に形
成されていてもよい。
The asymptotic parts 66A and 66B are the same as those in the first embodiment.
In the electrolytic graining apparatus 100, the surface is formed flat, but may be formed in a convex or concave curved surface shape with respect to the surface of the feed roller 4, in other words, the transport surface T of the aluminum web W.

【0059】ソフトスタート部60Aおよび60Bは、
電解粗面化処理装置100において電解粗面化処理を行
なうとき、電解槽2Aの内部においてアルミニウムウェ
ブWの表面の色が変化し始める位置から、漸近部66A
および66Bの下流側の末端、すなわち終点までの区間
である。ソフトスタート部60Aおよび60Bの始点
は、図3における(A)に示すように、漸近部66Aお
よび66Bの上流側の末端、すなわち漸近部66Aおよ
び66Bの始点よりも上流側に位置する。ソフトスター
ト部60Aおよび60Bは、搬送方向aに沿った長さL
が、 MCD×LS/L=1〜750 (LS(mm/秒)は、アルミニウムウェブWの搬送速
度であり、MCD(A/dm2)は、電解粗面化処理装
置100における最大電流密度である。)を満たすよう
に形成される。
The soft start units 60A and 60B are
When the electrolytic surface-roughening treatment is performed in the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100, from the position where the color of the surface of the aluminum web W begins to change inside the electrolytic cell 2A, the asymptotic portion 66A.
And 66B is the downstream end, that is, the section to the end point. As shown in FIG. 3A, the start points of the soft start sections 60A and 60B are located at the upstream ends of the asymptotic sections 66A and 66B, that is, upstream of the start points of the asymptotic sections 66A and 66B. The soft start portions 60A and 60B have a length L along the transport direction a.
However, MCD × LS / L = 1 to 750 (LS (mm / sec) is the transport speed of the aluminum web W, and MCD (A / dm 2 ) is the maximum current density in the electrolytic surface roughening treatment apparatus 100. There is).

【0060】ソフトスタート部60Aおよび60Bの長
さLが前記関係式を満たしていれば、アルミニウムウェ
ブWの表面には、チャターマークが発生することがな
く、また、ハニカムビット、すなわち互いに蜂の巣状に
密集した小孔がアルミニウムウェブWの粗面化面全体に
均一に形成される。また、ソフトスタート部60Aおよ
び60Bの長さLが、下記の関係式 MCD×LS/L=50〜200 を満たしていれば、アルミニウムウェブWに、さらに均
一なハニカムビットが形成されるから好ましい。
If the lengths L of the soft start portions 60A and 60B satisfy the above relational expression, chatter marks are not generated on the surface of the aluminum web W, and the honeycomb bits, that is, honeycomb shapes are formed. The dense small holes are uniformly formed on the entire roughened surface of the aluminum web W. Further, it is preferable that the length L of the soft start portions 60A and 60B satisfy the following relational expression MCD × LS / L = 50 to 200 because a more uniform honeycomb bit is formed on the aluminum web W.

【0061】図1に示す電解粗面化処理装置100の作
用について以下に説明する。
The operation of the electrolytic graining apparatus 100 shown in FIG. 1 will be described below.

【0062】図1における右方から電解槽本体2に案内
されたアルミニウム板Wは、先ず補助電解槽12に導入
され、次いで、上流側案内ローラ10Aによって電解槽
2Aに案内される。そして、送りローラ4によって図1
における右方から左方に向って送られ、下流側案内ロー
ラ10Bによって電解槽2Aの外に導かれる。
The aluminum plate W guided to the electrolytic cell body 2 from the right side in FIG. 1 is first introduced into the auxiliary electrolytic cell 12 and then guided to the electrolytic cell 2A by the upstream guide roller 10A. Then, by the feed roller 4,
Is sent from the right side to the left side in FIG. 1 and guided to the outside of the electrolytic cell 2A by the downstream guide roller 10B.

【0063】電解槽2Aに導入されたアルミニウムウェ
ブWは、最初に、ソフトスタート部60Aを通過する。
ソフトスタート部60Aの始点においては、アルミニウ
ムウェブWと電極6Aとの間隔は、ソフトスタート部6
0Aよりも下流側における前記間隔よりも広いから、
[課題を解決するための手段]における請求項3につい
ての説明のところで述べた理由により、図3における
(A)において点線の矢印で示すように、電流密度は、
電解槽2Aにおける最大電流密度MCDよりも遥かに小
さい。
The aluminum web W introduced into the electrolytic cell 2A first passes through the soft start portion 60A.
At the start point of the soft start portion 60A, the distance between the aluminum web W and the electrode 6A is
Since it is wider than the interval on the downstream side of 0A,
For the reason described in the description of claim 3 in [Means for Solving the Problems], as indicated by a dotted arrow in FIG.
It is much smaller than the maximum current density MCD in the electrolytic cell 2A.

【0064】ソフトスタート部60Aを下流側に向って
移動するにつれ、アルミニウムウェブWに流れる電流密
度は増大し、ソフトスタート部60Aの終点において
は、前記最大電流密度MCDに等しくなる。
As the soft start portion 60A moves toward the downstream side, the current density flowing through the aluminum web W increases, and becomes equal to the maximum current density MCD at the end point of the soft start portion 60A.

【0065】アルミニウムウェブWは、ソフトスタート
部60Aを通過したのち、電極6Aに沿って搬送され、
電源ACから電極6Aに印加された交番波形電流によ
り、電極6Aに向いた側の面がアノードまたはカソード
反応する。
After passing through the soft start portion 60A, the aluminum web W is conveyed along the electrode 6A,
Due to the alternating waveform current applied from the power supply AC to the electrode 6A, the surface facing the electrode 6A undergoes an anode or cathode reaction.

【0066】電極6Aの近傍を通過したアルミニウムウ
ェブWは、次ぎに、ソフトスタート部60Bを通過す
る。ソフトスタート部60Bにおいても、ソフトスター
ト部60Aと同様、アルミニウムウェブWが下流側に向
って移動するにつれ、アルミニウムウェブWに流れる電
流密度は増大し、ソフトスタート部60Bの終点におい
ては、前記最大電流密度MCDに等しくなる。
The aluminum web W which has passed near the electrode 6A then passes through the soft start portion 60B. In the soft start portion 60B as well, as in the soft start portion 60A, the current density flowing in the aluminum web W increases as the aluminum web W moves toward the downstream side, and at the end point of the soft start portion 60B, the maximum current is increased. It is equal to the density MCD.

【0067】アルミニウムウェブWは、ソフトスタート
部60Bを通過したのち、同様に、電極6Bに沿って搬
送され、電源ACから電極6Bに印加された交番波形電
流により、電極6Aに向いた側の面がアノードまたはカ
ソード反応して、全面にハニカムビットが形成される。
After passing through the soft start portion 60B, the aluminum web W is likewise conveyed along the electrode 6B, and the surface facing the electrode 6A by the alternating waveform current applied to the electrode 6B from the power source AC. React with the anode or cathode to form a honeycomb bit on the entire surface.

【0068】実施形態1に係る電解粗面化装置100に
おいては、電解槽2Aにソフトスタート部60Aおよび
60Bが設けられている故に、電解槽2Aに導入された
アルミニウムウェブWには、最初は低い電流密度の電流
が印加される。したがって、大電流密度で粗面化を行な
う場合において、アルミニウムウェブWの搬送速度を高
くしても、チャターマークが発生することがなく、アル
ミニウムウェブWの粗面化面全体に均一なハニカム状ビ
ットが形成される。
In the electrolytic surface-roughening apparatus 100 according to the first embodiment, since the electrolytic cell 2A is provided with the soft start portions 60A and 60B, the aluminum web W introduced into the electrolytic cell 2A is initially low. A current of current density is applied. Therefore, in the case of roughening at a high current density, chatter marks are not generated even if the transport speed of the aluminum web W is increased, and a uniform honeycomb bit is formed on the entire roughened surface of the aluminum web W. Is formed.

【0069】実施形態1に係る電解粗面化装置100
は、従来の電解粗面化装置に新たに付加する部品が殆ど
ないから、従来の電解粗面化装置から安価に改造できる
という特長も有する。
Electrolytic surface roughening apparatus 100 according to the first embodiment
Since there are almost no parts newly added to the conventional electrolytic surface roughening device, it also has a feature that the conventional electrolytic surface roughening device can be modified at low cost.

【0070】2.実施形態2 ラジアル型電解粗面化装置に本発明を適用した別の例に
つき、以下に説明する。
2. Embodiment 2 Another example in which the present invention is applied to a radial type electrolytic surface roughening device will be described below.

【0071】実施形態2に係る電解粗面化処理装置10
2の構成の概要を図2に示す。図2において、図1と同
一の符号は、特に断らない限り、前記符号が図1におい
て示す要素と同一の要素を示す。
Electrolytic surface roughening treatment apparatus 10 according to the second embodiment
An outline of the configuration of No. 2 is shown in FIG. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same elements as those shown in FIG. 1 unless otherwise specified.

【0072】電極6Aおよび6Bにおけるソフトスター
ト部60Aおよび60B近傍の構成の詳細を図3におけ
る(B)に示す。
Details of the configuration near the soft start portions 60A and 60B in the electrodes 6A and 6B are shown in FIG. 3 (B).

【0073】図2と図3における(B)とに示すよう
に、電極6Aを構成する小電極62Aのうち、上流側端
部に位置する3つの小電極62Aのそれぞれと電源AC
との間にインダクタンスコイル68Aが設けられてい
る。同様に、電極6Bを構成する小電極62Bのうち、
上流側端部に位置する3つの小電極62Bのそれぞれと
電源ACとの間には、インダクタンスコイル68Bが設
けられている。
As shown in FIGS. 2 and 3B, among the small electrodes 62A forming the electrode 6A, each of the three small electrodes 62A located at the upstream end and the power supply AC.
An inductance coil 68A is provided between and. Similarly, of the small electrodes 62B forming the electrode 6B,
An inductance coil 68B is provided between each of the three small electrodes 62B located at the upstream end and the power supply AC.

【0074】インダクタンスコイル68Aおよび68B
は、通常のコイルであり、インダクタンスを有している
から、交流が流れるのを阻止する作用がある。したがっ
て、ソフトスタート部60Aおよび60Bにおいて小電
極62Aおよび62Bに流れる電流は、電極6Aおよび
6Bにおけるソフトスタート部60Aおよび60Bより
も下流側の小電極62Aおよび62Bに流れる電流、す
なわち最大電流密度MCDよりも小さい。
Inductance coils 68A and 68B
Is an ordinary coil and has an action of blocking an alternating current since it has an inductance. Therefore, the currents flowing through the small electrodes 62A and 62B in the soft start portions 60A and 60B are smaller than the currents flowing through the small electrodes 62A and 62B in the electrodes 6A and 6B on the downstream side of the soft start portions 60A and 60B, that is, the maximum current density MCD. Is also small.

【0075】インダクタンスコイル68Aおよび68B
は、下流側、すなわち図3において右方に位置するもの
ほどインダクタンスが小さく、具体的には、たとえばコ
イルの巻き数が少なくなっている。したがって、ソフト
スタート部60Aおよび60Bを形成する小電極62A
および小電極62Bのうち、最も上流側、すなわちアル
ミニウムウェブWの入口側に位置するものは、電流密度
が最も小さく、下流側に位置するものほど電流密度が大
きくなる。
Inductance coils 68A and 68B
Has a smaller inductance as it is located on the downstream side, that is, on the right side in FIG. 3, and specifically, for example, the number of turns of the coil is smaller. Therefore, the small electrode 62A forming the soft start portions 60A and 60B is formed.
Further, among the small electrodes 62B, the one located on the most upstream side, that is, on the inlet side of the aluminum web W has the smallest current density, and the one located on the downstream side has a larger current density.

【0076】したがって、実施形態2に係る電解粗面化
処理装置102においても、ソフトスタート部60Aお
よび60Bにおいては、アルミニウム和部Wの搬送方向
aに沿って最大電流密度MCDに向って電流密度が増大
する。
Therefore, also in the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 102 according to the second embodiment, in the soft start portions 60A and 60B, the current density increases toward the maximum current density MCD along the transport direction a of the aluminum summation portion W. Increase.

【0077】なお、インダクタンスコイル68Aおよび
68Bに代えて抵抗器を使用してもよい。
A resistor may be used instead of the inductance coils 68A and 68B.

【0078】電解粗面化処理装置102は、前記の点を
除いては、実施形態1に係る電解粗面化処理装置100
と同様な構成を有する。
The electrolytic surface-roughening treatment apparatus 102 is the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100 according to the first embodiment except for the above points.
It has the same configuration as.

【0079】電解粗面化処理装置102は、電解粗面化
処理装置100の有する特長に加え、運転中において
も、インダクタンスコイル68Aおよび68Bのインダ
クタンスを調整できるという特長を有する。
The electrolytic surface-roughening treatment apparatus 102 has the characteristic that the inductance of the inductance coils 68A and 68B can be adjusted even during operation, in addition to the characteristic of the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100.

【0080】したがって、アルミニウムウェブWの電解
粗面化処理を行ないながら、最大電流密度MCDおよび
アルミニウムウェブWの搬送速度に応じて、インダクタ
ンスコイル68Aおよび68Bのインダクタンスを調整
して、アルミニウムウェブWの粗面化面にチャターマー
クや不均一部が形成されないようにすることができる。
Therefore, while performing the electrolytic surface roughening treatment of the aluminum web W, the inductances of the inductance coils 68A and 68B are adjusted according to the maximum current density MCD and the transport speed of the aluminum web W to roughen the aluminum web W. It is possible to prevent the formation of chatter marks or non-uniform portions on the surface to be surfaced.

【0081】このように、電解粗面化処理装置102
は、実施形態1に係る電解粗面化処理装置100よりも
さらに幅広い範囲の最大電流密度MCDおよびアルミニ
ウムウェブWの搬送速度に対応できる。
As described above, the electrolytic graining treatment device 102
Can correspond to the maximum current density MCD and the transport speed of the aluminum web W in a wider range than the electrolytic surface roughening treatment apparatus 100 according to the first embodiment.

【0082】3.実施形態3 ラジアル型電解粗面化処理装置に本発明を適用したさら
に別の例につき、構成の概略を図4に示す。図4におい
て、図1〜図3と同一の符号は、前記符号が前記図面に
おいて示す要素と同一の要素を示す。
3. Embodiment 3 FIG. 4 shows a schematic configuration of still another example in which the present invention is applied to a radial type electrolytic surface roughening treatment apparatus. 4, the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 3 denote the same elements as those shown in the drawings.

【0083】図4に示すように、実施形態3に係る電解
粗面化処理装置104においては、ソフトスタート部6
0Aおよびソフトスタート部60Bにおける最も上流側
に漸近部66Aおよび66Bが形成され、漸近部66A
および66Bよりも下流側に位置する小電極62Aおよ
び62Bに、それぞれリアクタンスコイル68Aおよび
68Bが接続されている。リアクタンスコイル68Aお
よび68Bは、実施形態3に係る電解粗面化処理装置1
02と同様、下流側のものほどインダクタンスが小さく
なるように形成されている。
As shown in FIG. 4, in the electrolytic graining apparatus 104 according to the third embodiment, the soft start unit 6
0A and the asymptotic parts 66A and 66B are formed on the most upstream side in the soft start part 60B.
And reactance coils 68A and 68B are connected to the small electrodes 62A and 62B located downstream of 66B and 66B, respectively. The reactance coils 68A and 68B are the electrolytic graining treatment apparatus 1 according to the third embodiment.
Similar to No. 02, it is formed so that the inductance on the downstream side becomes smaller.

【0084】電解粗面化処理装置104は、前記諸点を
除いては、実施形態1に係る電解粗面化処理装置100
と同様な構成を有する。
The electrolytic surface-roughening treatment apparatus 104 is the same as the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100 according to the first embodiment except for the above points.
It has the same configuration as.

【0085】電解粗面化処理装置104は、電解粗面化
処理装置100の有する特長に加え、ソフトスタート部
60Aおよびソフトスタート部60Bにおける電流密度
の変化をさらに緩やかに、しかも連続的にできるという
特長を有する。
In addition to the features of the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100, the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 104 can change the current density in the soft start portion 60A and the soft start portion 60B more gradually and continuously. Has features.

【0086】以上、ラジアル型電解粗面化処理装置に本
発明を適用した例について説明してきたが、本発明は、
フラット型の電化粗面化処理装置にも適用できることは
言うまでもない。
The example in which the present invention is applied to the radial type electrolytic surface roughening treatment apparatus has been described above.
It goes without saying that the present invention can also be applied to a flat type electrified surface roughening treatment device.

【0087】[0087]

【実施例】以下、実施例を用いて本発明につき、さらに
具体的に説明する。 (実施例1〜5、比較例1〜3)図1に示す電解粗面化
装置100を用い、幅1000mm、厚さ0.24mm
のアルミニウムウェブに電解粗面化処理を施した。ソフ
トスタート部60A、60Bの長さL、アルミニウムウ
ェブWの搬送速度LS、および最大電流密度MCDを、
表1に示すように変化させた。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. (Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 3) Using the electrolytic surface roughening device 100 shown in FIG. 1, a width of 1000 mm and a thickness of 0.24 mm
Was subjected to electrolytic surface roughening treatment. The length L of the soft start portions 60A and 60B, the transport speed LS of the aluminum web W, and the maximum current density MCD are
Changes were made as shown in Table 1.

【0088】電解粗面化処理装置100で電解粗面化さ
れたアルミニウムウェブWの品質については、チャター
マークの有無、および砂目形状の均一性を目視で観察
し、○:優、○△:良、△:可、×:不可の4段階で評
価した。結果を表1に示す。なお、砂目形状の均一性に
ついて、「×」は、形成された砂目が不均一であったこ
とが目視でも容易に認められたことを示す。
Regarding the quality of the aluminum web W electrolytically surface-roughened by the electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100, the presence or absence of chatter marks and the uniformity of the grain shape were visually observed, and ◯: excellent, ○ Δ: Good, Δ: acceptable, ×: evaluated in four grades. The results are shown in Table 1. In addition, regarding the uniformity of the grain shape, "x" indicates that it was easily recognized visually that the formed grain was not uniform.

【0089】[0089]

【表1】 [Table 1]

【0090】表1に示すように、比率MCD×LS/L
が1〜750の範囲になるような長さのソフトスタート
部を形成した電解粗面化処理装置を用いた実施例1〜5
においては、高い電流密度および搬送速度で電解粗面化
を行った場合においても、電解粗面化後のアルミニウム
ウェブWにはチャターマークが認められず、また砂目形
状は均一であったが、比率MCD×LS/Lが前記範囲
外である比較例1〜3においては、電解粗面化後のアル
ミニウムウェブWに明らかなチャターマークが認めら
れ、また砂目形状が不均一であった。
As shown in Table 1, the ratio MCD × LS / L
Examples 1 to 5 using an electrolytic surface roughening treatment apparatus in which a soft start portion having a length such that is in the range of 1 to 750 is formed.
In the above, even when electrolytic surface roughening was performed at a high current density and a transport speed, chatter marks were not recognized in the aluminum web W after electrolytic surface roughening, and the grain shape was uniform, In Comparative Examples 1 to 3 in which the ratio MCD × LS / L was outside the above range, clear chatter marks were recognized on the aluminum web W after electrolytic surface roughening, and the grain shape was not uniform.

【0091】[0091]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高い搬送速度および高い電流密度で電解処理を行なう場
合においてもチャターマークの発生を効果的に防止でき
る電解処理装置および電解処理方法が提供される。
As described above, according to the present invention,
Provided are an electrolytic treatment apparatus and an electrolytic treatment method capable of effectively preventing the formation of chatter marks even when electrolytic treatment is performed at a high transport speed and a high current density.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、ラジアル型の電解粗面化処理装置にお
いて本発明を適用した一例につき、構成の概略を示す断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of an example of applying the present invention to a radial type electrolytic graining apparatus.

【図2】図2は、ラジアル型の電解粗面化処理装置にお
いて本発明を適用した別の例につき、構成の概略を示す
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of another example in which the present invention is applied to a radial type electrolytic graining treatment apparatus.

【図3】図3は、図1および図2に示す電解粗面化処理
装置におけるソフトスタート部の詳細を示す展開図であ
る。
FIG. 3 is a development view showing details of a soft start portion in the electrolytic surface-roughening treatment apparatus shown in FIGS. 1 and 2.

【図4】図4は、ラジアル型の電解粗面化処理装置にお
いて本発明を適用したさらに別の例につき、構成の概略
を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of still another example in which the present invention is applied to a radial type electrolytic graining treatment apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 電解槽本体 2A 電解槽 4 送りローラ 6A 電極 6B 電極 12 補助電解槽 14 補助電極 60A ソフトスタート部 60B ソフトスタート部 62A 小電極 62B 小電極 64A 絶縁槽 64B 絶縁槽 66A 漸近部 66B 漸近部 2 Electrolyzer body 2A electrolysis tank 4 feed rollers 6A electrode 6B electrode 12 Auxiliary electrolyzer 14 Auxiliary electrode 60A Soft start part 60B Soft start part 62A small electrode 62B small electrode 64A insulation tank 64B insulation tank 66A Asymptotic part 66B Asymptotic part

フロントページの続き (72)発明者 廣川 強 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H114 AA04 AA14 DA04 EA01 EA02 GA08 Continued front page    (72) Inventor Tsuyoshi Hirokawa             Fuji-Sha, 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture             Shin Film Co., Ltd. F term (reference) 2H114 AA04 AA14 DA04 EA01 EA02                       GA08

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 帯状の金属板を、酸性電解液中を搬送
しつつ、交番波形電流により連続的に電解処理する電解
処理装置であって、 前記酸性電解液を収容し、内部を前記金属板が搬送され
る電解槽を備えてなり、 前記電解槽において前記金属板が導入される入口部に
は、前記金属板を、前記電解槽における前記入口部より
も内部において印加される交番波形電流の電流密度より
も低い電流密度で電解処理するソフトスタート部が設け
られてなり、 前記金属板の搬送経路である搬送面に沿った前記ソフト
スタート部の長さをL(mm)、前記金属板の搬送速度
をLS(mm/秒)、前記電解槽における最大電流密度
をMCD(A/dm2)とすると、下記の関係式: MCD×LS/L=1〜750 が成り立つように前記ソフトスタート部が形成されてな
ることを特徴とする電解処理装置。
1. An electrolytic treatment apparatus for continuously electrolytically treating a strip-shaped metal plate with an alternating waveform current while transporting the metal plate in the acidic electrolyte, wherein the acidic electrolyte is accommodated inside the metal plate. Is provided with an electrolyzer, the inlet part of the electrolyzer into which the metal plate is introduced, the metal plate, the alternating waveform current applied inside the electrolyzer than the inlet part. A soft start part for electrolyzing at a current density lower than the current density is provided, and the length of the soft start part along the carrying surface, which is a carrying path of the metal plate, is L (mm). Assuming that the transport speed is LS (mm / sec) and the maximum current density in the electrolytic cell is MCD (A / dm 2 ), the following relational expression: MCD × LS / L = 1 to 750 Formed Electrolytic treatment apparatus characterized by comprising been.
【請求項2】 前記ソフトスタート部は、前記電流密
度が、前記金属板の搬送方向に沿って前記最大電流密度
まで連続的に増大するように形成されてなる請求項1に
記載の電解処理装置。
2. The electrolytic treatment apparatus according to claim 1, wherein the soft start portion is formed such that the current density continuously increases up to the maximum current density along a transport direction of the metal plate. .
【請求項3】 前記電解槽は、前記搬送面に沿って配
設されてなるとともに、前記交番波形電流が印加される
電極を備えてなり、 前記電極は、前記ソフトスタート部において、前記金属
板の搬送方向に対して下流側に向って前記搬送面に連続
的に近接する漸近部を有してなる請求項2に記載の電解
処理装置。
3. The electrolytic cell is arranged along the transport surface, and comprises an electrode to which the alternating waveform current is applied, wherein the electrode is the metal plate in the soft start portion. The electrolytic treatment apparatus according to claim 2, further comprising: an asymptotic portion that is continuously close to the transport surface toward the downstream side with respect to the transport direction.
【請求項4】 前記電極は、少なくとも前記ソフトス
タート部において、互いに絶縁された複数の小電極を有
してなり、前記小電極のそれぞれと、前記交番波形電流
を供給する電源との間に、前記電源から供給される電流
の密度を前記最大電流密度よりも小さくする電流絞り手
段とを備えてなる請求項2に記載の電解処理装置。
4. The electrode has a plurality of small electrodes insulated from each other at least in the soft start portion, and between each of the small electrodes and a power supply for supplying the alternating waveform current, The electrolytic treatment apparatus according to claim 2, further comprising: a current throttling unit that reduces the density of the current supplied from the power source to be smaller than the maximum current density.
【請求項5】 前記電流絞り手段はインダクタンスコ
イルである請求項4に記載の電解処理装置。
5. The electrolytic processing apparatus according to claim 4, wherein the current limiting unit is an inductance coil.
【請求項6】 前記電流絞り手段は抵抗器である請求
項4に記載の電解処理装置。
6. The electrolytic processing apparatus according to claim 4, wherein the current limiting unit is a resistor.
【請求項7】 前記ソフトスタート部は、前記電極に
おける前記金属板の入口近傍に形成された前記漸近部
と、前記漸近部よりも下流側に位置し、互いに絶縁され
た小電極および前記小電極のそれぞれに接続された電流
絞り手段を有する電流絞り部とを備えてなる請求項4〜
6の何れか1項に記載の電解処理装置。
7. The soft start portion is formed in the vicinity of the entrance of the metal plate in the electrode, and an asymptotic portion located downstream of the asymptotic portion and insulated from each other and the small electrode. 5. A current throttling section having a current throttling means connected to each of the above.
6. The electrolytic treatment apparatus according to any one of 6 above.
【請求項8】 前記金属板はアルミニウム板である請
求項1〜6の何れか1項に記載の電解処理装置。
8. The electrolytic treatment apparatus according to claim 1, wherein the metal plate is an aluminum plate.
【請求項9】 帯状の金属板を、酸性電解液中で交番
波形電流により連続的に電解処理する電解処理方法であ
って、前記酸性電解液を収容するとともに、内部を前記
金属板が搬送される電解槽であって、前記金属板の入口
部に、前記金属板を、電解槽の前記入口部よりも内側に
おける電流密度よりも低い電流密度で電解処理するソフ
トスタート部が設けられてなり、前記金属板の搬送経路
である搬送面に沿った前記ソフトスタート部の長さをL
(mm)、前記金属板の搬送速度をLS(mm/秒)、
前記電解槽内部における最大電流密度をMCD(A/d
2)とすると、下記の関係式: MCD×LS/L=1〜750 が成り立つように前記ソフトスタート部が形成されてな
る電解槽を用いて電解処理を行なうことを特徴とする電
解処理方法。
9. An electrolytic treatment method for continuously electrolytically treating a strip-shaped metal plate in an acidic electrolytic solution by an alternating waveform current, wherein the acidic electrolytic solution is accommodated and the metal plate is conveyed inside. In the electrolysis tank according to the above, at the inlet of the metal plate, the metal plate is provided with a soft start portion for electrolytically treating at a current density lower than the current density inside the entrance of the electrolysis tank, The length of the soft start portion along the transportation surface, which is the transportation path of the metal plate, is L
(Mm), the transport speed of the metal plate is LS (mm / sec),
The maximum current density inside the electrolytic cell is MCD (A / d
m 2 ), electrolytic treatment is carried out using an electrolytic cell in which the soft start portion is formed so that the following relational expression: MCD × LS / L = 1 to 750 holds. .
【請求項10】 前記金属板はアルミニウム板である請
求項9に記載の電解処理方法。
10. The electrolytic treatment method according to claim 9, wherein the metal plate is an aluminum plate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007270217A (en) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp Electrolytic treatment method and apparatus and method and apparatus for manufacturing planographic printing plate
EP1978135A2 (en) 2007-03-30 2008-10-08 FUJIFILM Corporation Electrolysis treatment apparatus, support for planographic printing plate, planographic printing plate, and electrolysis treatment process
CN102165106A (en) * 2008-09-30 2011-08-24 富士胶片株式会社 Electrolytic treatment method and electrolytic treatment device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007270217A (en) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp Electrolytic treatment method and apparatus and method and apparatus for manufacturing planographic printing plate
EP1978135A2 (en) 2007-03-30 2008-10-08 FUJIFILM Corporation Electrolysis treatment apparatus, support for planographic printing plate, planographic printing plate, and electrolysis treatment process
JP2008246971A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp Electrolytic processing apparatus, lithographic printing plate support, lithographic printing original plate, and electrolytic processing method
CN102165106A (en) * 2008-09-30 2011-08-24 富士胶片株式会社 Electrolytic treatment method and electrolytic treatment device

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