JP2002530132A - 磁気共鳴装置及び方法 - Google Patents
磁気共鳴装置及び方法Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、磁気共鳴装置を用いて体の拡散パラメータを撮像する方法に関する。この方法は、調節パルスシーケンス及び撮像パルスシーケンスに関する。調節パルスシーケンスは、準備ＭＲ信号を測定する。撮像パルスシーケンスは、位置に依存したＭＲ信号を測定する。撮像パルスシーケンスは、調節パルスシーケンス中に測定された準備ＭＲ信号からの情報に基づいて調節される。
Description
【０００１】 本発明は、請求項１の前文において定義されたような方法に関する。更に、本
発明は、このような方法を実行する装置に関する。
発明は、このような方法を実行する装置に関する。
【０００２】 本願の文脈において、ＭＧ（Ｍｅｉｂｏｈｍ、Ｇｉｌｌ）コンポーネントは、
回転基準システムの第１の軸の方向における横方向磁化のコンポーネントを意味
するものとして理解されるべきであり、磁化はリフォーカシングＲＦパルスによ
って上記第１の軸の周りで回転される。上述された種類の方法は、D.C.Alsop:“
Phase Insensitive Preparation of Single-Shot RARE:Application to diffusi
on Imaging in Humans” Magnetic Resonance in Medicine, No.38, pp.527
-533，1997年記載の論文から公知である。
回転基準システムの第１の軸の方向における横方向磁化のコンポーネントを意味
するものとして理解されるべきであり、磁化はリフォーカシングＲＦパルスによ
って上記第１の軸の周りで回転される。上述された種類の方法は、D.C.Alsop:“
Phase Insensitive Preparation of Single-Shot RARE:Application to diffusi
on Imaging in Humans” Magnetic Resonance in Medicine, No.38, pp.527
-533，1997年記載の論文から公知である。
【０００３】 公知の方法は、検査されるべき人体又は動物の体の組織、例えば、脳における
拡散現象を生体内で撮像するために使用される。公知の方法の磁化準備パルスシ
ーケンスは、検査されるべき体の組織の選択されるべき部分における物質の拡散
に依存する振幅変調を与えるために例えば、一組の勾配磁場及びリフォーカシン
グＲＦパルスを含む。磁化準備パルスシーケンスの後に続く撮像パルスシーケン
スは、組織の選択された部分を撮像する。勾配磁場は、ＭＲ信号のスライス選択
、位相エンコーディング、及び、周波数エンコーディングを夫々与える。連続す
るＭＲ信号において、例えば、磁化準備パルスシーケンス中の体の動き又は体の
組織の動きによる位相感応性を減少させるために、夫々第１のクラッシャ勾配磁
場が印加され、追加的ＲＦパルスが生成される。クラッシャ勾配磁場は、小領域
内のスピンによる磁化が安定した磁場を横切る断面に分布されるようスピンを回
転させる勾配磁場である。更なる、第１及び第２のクラッシャ勾配磁場は、ＭＧ
コンポーネントをリフォーカスしデフォーカスする。従って、位置に依存するＭ
Ｒ信号が測定される。検査されるべき体の脳の選択された部分の拡散画像は、測
定された位置依存ＭＲ信号から二次元変換を用いて再構成される。
拡散現象を生体内で撮像するために使用される。公知の方法の磁化準備パルスシ
ーケンスは、検査されるべき体の組織の選択されるべき部分における物質の拡散
に依存する振幅変調を与えるために例えば、一組の勾配磁場及びリフォーカシン
グＲＦパルスを含む。磁化準備パルスシーケンスの後に続く撮像パルスシーケン
スは、組織の選択された部分を撮像する。勾配磁場は、ＭＲ信号のスライス選択
、位相エンコーディング、及び、周波数エンコーディングを夫々与える。連続す
るＭＲ信号において、例えば、磁化準備パルスシーケンス中の体の動き又は体の
組織の動きによる位相感応性を減少させるために、夫々第１のクラッシャ勾配磁
場が印加され、追加的ＲＦパルスが生成される。クラッシャ勾配磁場は、小領域
内のスピンによる磁化が安定した磁場を横切る断面に分布されるようスピンを回
転させる勾配磁場である。更なる、第１及び第２のクラッシャ勾配磁場は、ＭＧ
コンポーネントをリフォーカスしデフォーカスする。従って、位置に依存するＭ
Ｒ信号が測定される。検査されるべき体の脳の選択された部分の拡散画像は、測
定された位置依存ＭＲ信号から二次元変換を用いて再構成される。
【０００４】 画像の中にアーチファクト、例えば、組織部分の実際の画像中にゴーストが生
じることは公知の方法の欠点である。ゴーストは、第１の画像に関してシフトさ
れ、減少した強度を有する組織部分の第２、若しくは、後続する画像である。
じることは公知の方法の欠点である。ゴーストは、第１の画像に関してシフトさ
れ、減少した強度を有する組織部分の第２、若しくは、後続する画像である。
【０００５】 本発明は、再構成された画像中のアーチファクトを軽減する方法を提供するこ
とを目的とする。このために本発明による方法は、予備的な励起ＲＦパルスを生
成する段階と、予備的な磁化準備パルスシーケンスを印加する段階と、ＭＧコン
ポーネントを選択するために予備的な追加的ＲＦパルスを生成する段階と、予備
的なリフォーカシングＲＦパルスを生成する段階と、第１及び第２の予備的なク
ラッシャ勾配磁場を印加する段階と、予備的な磁気共鳴信号を測定する段階とを
含む調節パルスシーケンスを使用し、上記撮像パルスシーケンスにおける上記追
加的ＲＦパルスは、上記調節パルスシーケンスにおいて測定された上記予備的な
ＭＲ信号から決定されるパラメータに依存して調節されることを特徴とする。本
発明による方法の他の有利なバージョンは、従属項に記載されている。本発明は
、所望のＲＦパルスに関する追加的ＲＦパルスの偏差が連続するＭＲ信号におい
て追加的変調を生じるといった認識に基づく。偏差は、例えば、ＲＦパルスを生
成するＲＦチェーンにおける振幅及び位相のひずみ、又は、勾配磁場を印加する
ことで生じる渦電流により生じ得る。連続する予備的なＭＲ信号からの調節パル
スシーケンスにおけるこの変調の測定、及び、撮像画像パルスシーケンスにおけ
る追加的ＲＦパルスに対する訂正の形成は、ＭＲ信号における変調の減少を可能
にし、このＭＲ信号から拡散画像は再構成される。この方法は、オペレータの介
入を要すること無く実行できるといった利点を提供する。生じ得る偏差は、フリ
ップ角及びリフォーカシングＲＦパルスの位相に関するＲＦパルスの位相の偏差
に関わり、このフリップ角を通じて磁化は回転される。振幅偏差は、リフォーカ
シングＲＦパルスの偏差に対してよりも追加的ＲＦパルスの同様の偏差に対して
感応であることが知られており、リフォーカシングＲＦパルスは約１８０度のフ
リップ角を有する。調節パルスシーケンスの使用は、本質的に、欧州特許出願第
５７７１８８号から公知である。引用された特許出願に開示された方法によると
、使用されるスピンエコー撮像パルスシーケンスと略同一の調節パルスシーケン
スが複数のスピンエコー撮像パルスシーケンスの前に印加される。撮像パルスシ
ーケンスは、励起ＲＦパルスと幾つかのリフォーカシングＲＦパルスを含む。調
節パルスシーケンスにおいて、予備的なＭＲ信号が測定され、測定された予備的
なＭＲ信号に基づいて訂正が決定され、それによって撮像パルスシーケンスの励
起ＲＦパルスの位相がＣＰＭＧ条件を満たすように調節される。
とを目的とする。このために本発明による方法は、予備的な励起ＲＦパルスを生
成する段階と、予備的な磁化準備パルスシーケンスを印加する段階と、ＭＧコン
ポーネントを選択するために予備的な追加的ＲＦパルスを生成する段階と、予備
的なリフォーカシングＲＦパルスを生成する段階と、第１及び第２の予備的なク
ラッシャ勾配磁場を印加する段階と、予備的な磁気共鳴信号を測定する段階とを
含む調節パルスシーケンスを使用し、上記撮像パルスシーケンスにおける上記追
加的ＲＦパルスは、上記調節パルスシーケンスにおいて測定された上記予備的な
ＭＲ信号から決定されるパラメータに依存して調節されることを特徴とする。本
発明による方法の他の有利なバージョンは、従属項に記載されている。本発明は
、所望のＲＦパルスに関する追加的ＲＦパルスの偏差が連続するＭＲ信号におい
て追加的変調を生じるといった認識に基づく。偏差は、例えば、ＲＦパルスを生
成するＲＦチェーンにおける振幅及び位相のひずみ、又は、勾配磁場を印加する
ことで生じる渦電流により生じ得る。連続する予備的なＭＲ信号からの調節パル
スシーケンスにおけるこの変調の測定、及び、撮像画像パルスシーケンスにおけ
る追加的ＲＦパルスに対する訂正の形成は、ＭＲ信号における変調の減少を可能
にし、このＭＲ信号から拡散画像は再構成される。この方法は、オペレータの介
入を要すること無く実行できるといった利点を提供する。生じ得る偏差は、フリ
ップ角及びリフォーカシングＲＦパルスの位相に関するＲＦパルスの位相の偏差
に関わり、このフリップ角を通じて磁化は回転される。振幅偏差は、リフォーカ
シングＲＦパルスの偏差に対してよりも追加的ＲＦパルスの同様の偏差に対して
感応であることが知られており、リフォーカシングＲＦパルスは約１８０度のフ
リップ角を有する。調節パルスシーケンスの使用は、本質的に、欧州特許出願第
５７７１８８号から公知である。引用された特許出願に開示された方法によると
、使用されるスピンエコー撮像パルスシーケンスと略同一の調節パルスシーケン
スが複数のスピンエコー撮像パルスシーケンスの前に印加される。撮像パルスシ
ーケンスは、励起ＲＦパルスと幾つかのリフォーカシングＲＦパルスを含む。調
節パルスシーケンスにおいて、予備的なＭＲ信号が測定され、測定された予備的
なＭＲ信号に基づいて訂正が決定され、それによって撮像パルスシーケンスの励
起ＲＦパルスの位相がＣＰＭＧ条件を満たすように調節される。
【０００６】 本発明による方法の特別なバージョンは、請求項２に記載されている。従って
、位置依存ＭＲ信号の振幅変調は妨げられ得る。追加的ＲＦパルスの公称フリッ
プ角は９０度である。公称フリップ角の偏差により、非ＭＧコンポーネントはｚ
方向に完全に回転されず、残余の非ＭＧコンポーネントが残り、これは連続する
ＭＲ信号において振幅変調を生じる。追加的ＲＦパルスの公称フリップ角の訂正
は、調節パルスシーケンスにおける連続する予備的なＭＲ信号の振幅の測定によ
って決定され得る。
、位置依存ＭＲ信号の振幅変調は妨げられ得る。追加的ＲＦパルスの公称フリッ
プ角は９０度である。公称フリップ角の偏差により、非ＭＧコンポーネントはｚ
方向に完全に回転されず、残余の非ＭＧコンポーネントが残り、これは連続する
ＭＲ信号において振幅変調を生じる。追加的ＲＦパルスの公称フリップ角の訂正
は、調節パルスシーケンスにおける連続する予備的なＭＲ信号の振幅の測定によ
って決定され得る。
【０００７】 振幅偏差は、リフォーカシングＲＦパルスに対する偏差に対してよりも追加的
ＲＦパルスの同様の偏差に対して感応であることが分かり、リフォーカシングＲ
Ｆパルスは約１８０度のフリップ角を有する。
ＲＦパルスの同様の偏差に対して感応であることが分かり、リフォーカシングＲ
Ｆパルスは約１８０度のフリップ角を有する。
【０００８】 本発明による方法の別のバージョンは、請求項３に記載されている。ＣＰＭＧ
条件（Ｃａｒｒ,Ｐｕｒｃｅｌ,Ｍｅｉｂｏｈｍ,Ｇｉｌｌ）を満たすためには、
このパルスでは追加的ＲＦパルスの位相とリフォーカシングＲＦパルスの位相と
の間の公称位相差は零として選択される。公称位相差に関する位相差は、連続す
るＭＲ信号の位相において振幅変調を発生する。撮像パルスシーケンスにおける
追加的ＲＦパルスの位相のための位相訂正は、調節パルスシーケンスにおける２
つの連続する予備的なＭＲ信号の間の測定された位相差から決定される。従って
、撮像パルスシーケンスを用いて測定された、連続するＭＲ信号間の位相差は一
定である。しかしながら、連続する撮像パルスシーケンスにおいて測定されたＭ
Ｒ信号の位相差は変化し得る。
条件（Ｃａｒｒ,Ｐｕｒｃｅｌ,Ｍｅｉｂｏｈｍ,Ｇｉｌｌ）を満たすためには、
このパルスでは追加的ＲＦパルスの位相とリフォーカシングＲＦパルスの位相と
の間の公称位相差は零として選択される。公称位相差に関する位相差は、連続す
るＭＲ信号の位相において振幅変調を発生する。撮像パルスシーケンスにおける
追加的ＲＦパルスの位相のための位相訂正は、調節パルスシーケンスにおける２
つの連続する予備的なＭＲ信号の間の測定された位相差から決定される。従って
、撮像パルスシーケンスを用いて測定された、連続するＭＲ信号間の位相差は一
定である。しかしながら、連続する撮像パルスシーケンスにおいて測定されたＭ
Ｒ信号の位相差は変化し得る。
【０００９】 本発明による方法の更なるバージョンは、請求項６に記載されている。連続す
る撮像パルスシーケンスの位相は、ナビゲータ信号の測定によって互いに関連付
けられ得る。
る撮像パルスシーケンスの位相は、ナビゲータ信号の測定によって互いに関連付
けられ得る。
【００１０】 更に、本発明は、このような方法を実行する装置に関する。このような種類の
装置は請求項７に記載されている。
装置は請求項７に記載されている。
【００１１】 本発明の上記及び他のより詳細な面は、添付図面を参照して例によって明らか
にされ、以下に説明される。
にされ、以下に説明される。
【００１２】 図１は、安定した磁場を生成する第１の磁石システム２と、安定した磁場上に
重畳され、安定した磁場において座標系Ｘ、Ｙ、及び、Ｚに対応する３つの直交
方向に勾配磁場を生じる、追加的磁場を生成する幾つかの勾配磁場コイル３とを
有する。示される座標系のＺ方向は、磁石システム２における安定した磁場の方
向に対応する。測定する座標系ｘ、ｙ、及び、ｚ（図示せず）は、図１に示され
るＸ、Ｙ、及び、Ｚの座標系と関係無く選択され得る。概して、ｘ方向における
勾配磁場は読み出し勾配磁場、ｙ方向における勾配磁場は位相エンコード勾配磁
場、更に、ｚ方向における勾配磁場は選択勾配磁場と称される。勾配磁場コイル
３は、給電ユニット４によって給電される。ＭＲＩ装置は、更に、ＲＦ送信コイ
ル５を含む。ＲＦ送信コイル５は、ＲＦ磁場を生成させ、ＲＦ送信器及び変調器
６に接続されている。受信コイルは、検査されるべき対象物７、又は、対象物の
一部分例えば、人間又は動物の体におけるＲＦ磁場によって生体内で生成された
磁気共鳴信号を受信するために使用される。この受信コイルは、ＲＦ送信コイル
５と同一のものでもよい。更に、磁石システム２は、検査されるべき体７の部分
を収容するのに十分に大きい検査領域を囲む。この検査領域においてＲＦ送信コ
イル５は、検査されるべき体７の一部分の周り又はその上に配置される。ＲＦ送
信コイル５は、送信器−受信器回路９を介して信号増幅器及び復調ユニット１０
に接続される。制御ユニット１１は、ＲＦパルス及び勾配磁場を含む特別なＭＲ
撮像パルスシーケンスを生成するためにＲＦ送信器及び変調器６と、給電ユニッ
ト４とを制御する。復調ユニット１０から得られた位相及び振幅は、処理ユニッ
ト１２に与えられる。処理ユニット１２は、例えば、二次元フーリエ変換を用い
てＭＲ画像を形成するために受信した信号値を処理する。画像処理ユニット１３
は、モニタ１４を介してＭＲ画像を視覚化する。本発明は、図２及び図３を参照
して以下により詳細に説明する。
重畳され、安定した磁場において座標系Ｘ、Ｙ、及び、Ｚに対応する３つの直交
方向に勾配磁場を生じる、追加的磁場を生成する幾つかの勾配磁場コイル３とを
有する。示される座標系のＺ方向は、磁石システム２における安定した磁場の方
向に対応する。測定する座標系ｘ、ｙ、及び、ｚ（図示せず）は、図１に示され
るＸ、Ｙ、及び、Ｚの座標系と関係無く選択され得る。概して、ｘ方向における
勾配磁場は読み出し勾配磁場、ｙ方向における勾配磁場は位相エンコード勾配磁
場、更に、ｚ方向における勾配磁場は選択勾配磁場と称される。勾配磁場コイル
３は、給電ユニット４によって給電される。ＭＲＩ装置は、更に、ＲＦ送信コイ
ル５を含む。ＲＦ送信コイル５は、ＲＦ磁場を生成させ、ＲＦ送信器及び変調器
６に接続されている。受信コイルは、検査されるべき対象物７、又は、対象物の
一部分例えば、人間又は動物の体におけるＲＦ磁場によって生体内で生成された
磁気共鳴信号を受信するために使用される。この受信コイルは、ＲＦ送信コイル
５と同一のものでもよい。更に、磁石システム２は、検査されるべき体７の部分
を収容するのに十分に大きい検査領域を囲む。この検査領域においてＲＦ送信コ
イル５は、検査されるべき体７の一部分の周り又はその上に配置される。ＲＦ送
信コイル５は、送信器−受信器回路９を介して信号増幅器及び復調ユニット１０
に接続される。制御ユニット１１は、ＲＦパルス及び勾配磁場を含む特別なＭＲ
撮像パルスシーケンスを生成するためにＲＦ送信器及び変調器６と、給電ユニッ
ト４とを制御する。復調ユニット１０から得られた位相及び振幅は、処理ユニッ
ト１２に与えられる。処理ユニット１２は、例えば、二次元フーリエ変換を用い
てＭＲ画像を形成するために受信した信号値を処理する。画像処理ユニット１３
は、モニタ１４を介してＭＲ画像を視覚化する。本発明は、図２及び図３を参照
して以下により詳細に説明する。
【００１３】 図２は、方法の第１のバージョンにおいては、検査されるべき体の脳の部分に
おける例えば、細胞内液のような物質の拡散の生体内ＭＲ画像を実現するために
使用される既知の拡散撮像パルスシーケンスを示している。図３と同様に図２で
は、時間が左から右へプロットされ、幾つかの行は生成されるべきＲＦパルス、
印加されるべき勾配磁場、及び、測定されるべきＭＲ信号の時間的な関係を示し
ている。最上の行ＲＦは生成されるべきＲＦパルスを示し、この行から下の３行
、即ち行Ｇｘ、行Ｇｙ、及び、行Ｇｚは夫々ｘ、ｙ、及び、ｚ方向における勾配
磁場を示している。これら３行の下にある行ＭＲは、測定されるべきＭＲ信号を
示す。
おける例えば、細胞内液のような物質の拡散の生体内ＭＲ画像を実現するために
使用される既知の拡散撮像パルスシーケンスを示している。図３と同様に図２で
は、時間が左から右へプロットされ、幾つかの行は生成されるべきＲＦパルス、
印加されるべき勾配磁場、及び、測定されるべきＭＲ信号の時間的な関係を示し
ている。最上の行ＲＦは生成されるべきＲＦパルスを示し、この行から下の３行
、即ち行Ｇｘ、行Ｇｙ、及び、行Ｇｚは夫々ｘ、ｙ、及び、ｚ方向における勾配
磁場を示している。これら３行の下にある行ＭＲは、測定されるべきＭＲ信号を
示す。
【００１４】 拡散撮像パルスシーケンスは、励起ＲＦパルス２０と、磁化準備パルスシーケ
ンス３０、２１、及び３１と、追加的ＲＦパルス２２と、リフォーカシングパル
ス２４及び２５とを含む。この種類の拡散撮像パルスシーケンス自体は、D.C.Al
sop:“Phase Insensitive Preparation of Single-Shot RARE:Application to d
iffusion Imaging in Humans” Magnetic Resonance in Medicine, No.38,
pp.527-533，1997年記載の引用された論文から公知である。励起ＲＦパルス２０
は、回転基準システムｘ’、ｙ’、及び、ｚ’（図示せず）を横切る断面におい
て磁化を回転させ、この回転基準システムのｚ方向は安定した磁場の方向に対応
する。フリップ角の値は、通常９０度である。磁化準備パルスシーケンスは、リ
フォーカシングＲＦパルス２１によって分離された一対の勾配磁場３０及び３１
を含む。リフォーカシングＲＦパルスのフリップ角の値は、通常１８０度である
。一対の勾配磁場３０及び３１は、例えば、ｚ方向に向けられる。双極の勾配磁
場が勾配磁場３０及び３１の代わりに使用されてもよく、リフォーカシングＲＦ
パルス２１、即ち２つの勾配磁場の時間積分は等しくなる。
ンス３０、２１、及び３１と、追加的ＲＦパルス２２と、リフォーカシングパル
ス２４及び２５とを含む。この種類の拡散撮像パルスシーケンス自体は、D.C.Al
sop:“Phase Insensitive Preparation of Single-Shot RARE:Application to d
iffusion Imaging in Humans” Magnetic Resonance in Medicine, No.38,
pp.527-533，1997年記載の引用された論文から公知である。励起ＲＦパルス２０
は、回転基準システムｘ’、ｙ’、及び、ｚ’（図示せず）を横切る断面におい
て磁化を回転させ、この回転基準システムのｚ方向は安定した磁場の方向に対応
する。フリップ角の値は、通常９０度である。磁化準備パルスシーケンスは、リ
フォーカシングＲＦパルス２１によって分離された一対の勾配磁場３０及び３１
を含む。リフォーカシングＲＦパルスのフリップ角の値は、通常１８０度である
。一対の勾配磁場３０及び３１は、例えば、ｚ方向に向けられる。双極の勾配磁
場が勾配磁場３０及び３１の代わりに使用されてもよく、リフォーカシングＲＦ
パルス２１、即ち２つの勾配磁場の時間積分は等しくなる。
【００１５】 磁化準備パルスシーケンスの別の例は、例えば、J.E.M.Snaar他：“Discrimin
ation of Different Types of Motion by modified Stimulated echo NMR”,Jou
rnal of Magnetic Resonance 87, pp.132-140,1990記載の論文から公知の適用さ
れた刺激されたエコーパルスシーケンスを用いて流体の速度を測定するパルスシ
ーケンスである。
ation of Different Types of Motion by modified Stimulated echo NMR”,Jou
rnal of Magnetic Resonance 87, pp.132-140,1990記載の論文から公知の適用さ
れた刺激されたエコーパルスシーケンスを用いて流体の速度を測定するパルスシ
ーケンスである。
【００１６】 本例において使用される磁化準備パルスシーケンスのため、磁化の絶対値は組
織内における物質の拡散に依存する。勾配磁場３０及び３１を印加する間、複数
のスピンエコーパルスシーケンスを検査されるべき体の動きによる磁化の位相エ
ラーに対してさほど感応でなくならせるためには、第１のクラッシャ勾配磁場３
２が与えられ、追加的ＲＦパルス２２が生成される。
織内における物質の拡散に依存する。勾配磁場３０及び３１を印加する間、複数
のスピンエコーパルスシーケンスを検査されるべき体の動きによる磁化の位相エ
ラーに対してさほど感応でなくならせるためには、第１のクラッシャ勾配磁場３
２が与えられ、追加的ＲＦパルス２２が生成される。
【００１７】 第１のクラッシャ勾配磁場の時間積分は、選択された部分においてスピンの位
相をばらばらにさせ、磁化を回転基準システム（図示せず）のｘ’軸及びｙ’軸
に沿って夫々略等しい大きさの２つのコンポーネントに分割させるのには十分に
大きい。従って、追加的ＲＦパルス２２は、コンポーネントの一つを回転基準シ
ステムのｚ軸方向に回転させる。追加的ＲＦパルス２２が磁化を回転させる回転
基準システムの軸が対応するリフォーカシングＲＦパルス２３乃至２５が磁化を
回転させる回転基準システムの軸に対応する場合、ＣＰＭＧ条件はクラッシャ勾
配磁場によって分割された磁化の２つのコンポーネントの一つによって満たされ
る。一般的に、追加的ＲＦパルス２２のフリップ角は９０度であり、リフォーカ
シングＲＦパルス２３乃至２５のフリップ角は１８０度である。撮像パルスシー
ケンスにおける間隔ＴＥ／２の後に対応するＭＲ信号６０及び６１を測定するた
めには、第１のリフォーカシングＲＦパルス２３が生成され第２のクラッシャ勾
配磁場３３が印加される。更に、位相エンコーディングが第１の位相エンコード
勾配磁場４０によって印加され、ＭＲ信号６０の測定後この位相エンコーディン
グは第２の位相エンコード勾配磁場４１によって打ち消される。更に、準備読み
出し勾配磁場５０が追加的ＲＦパルス２２及び第１のリフォーカシングＲＦパル
ス２３の間に印加される。ＭＲ信号６０を測定するために、第１の読み出し勾配
磁場５１が連続するリフォーカシングＲＦパルス２３及び２４の間に印加される
。実際に測定されたＭＲ信号の数は、例えば、１６である。その結果、リフォー
カシングＲＦパルス２３を繰り返し、固定された段階を増加させる強さで位置エ
ンコード勾配磁場４０及び４１を印加する一方で、一組のＭＲ信号６０及び６１
が測定され、これらの信号はｋ空間のｋｘ面及びｋｙ面における線の数に対応す
る。線の数は通常、例えば、６４又は１２８である。検査されるべき体の組織に
おけるスライスを選択するためには、選択勾配磁場がＲＦパルス（図２には図示
せず）の生成と同時に印加される。第１のクラッシャ勾配磁場３４がＭＲ信号６
０の測定後に再び印加される。
相をばらばらにさせ、磁化を回転基準システム（図示せず）のｘ’軸及びｙ’軸
に沿って夫々略等しい大きさの２つのコンポーネントに分割させるのには十分に
大きい。従って、追加的ＲＦパルス２２は、コンポーネントの一つを回転基準シ
ステムのｚ軸方向に回転させる。追加的ＲＦパルス２２が磁化を回転させる回転
基準システムの軸が対応するリフォーカシングＲＦパルス２３乃至２５が磁化を
回転させる回転基準システムの軸に対応する場合、ＣＰＭＧ条件はクラッシャ勾
配磁場によって分割された磁化の２つのコンポーネントの一つによって満たされ
る。一般的に、追加的ＲＦパルス２２のフリップ角は９０度であり、リフォーカ
シングＲＦパルス２３乃至２５のフリップ角は１８０度である。撮像パルスシー
ケンスにおける間隔ＴＥ／２の後に対応するＭＲ信号６０及び６１を測定するた
めには、第１のリフォーカシングＲＦパルス２３が生成され第２のクラッシャ勾
配磁場３３が印加される。更に、位相エンコーディングが第１の位相エンコード
勾配磁場４０によって印加され、ＭＲ信号６０の測定後この位相エンコーディン
グは第２の位相エンコード勾配磁場４１によって打ち消される。更に、準備読み
出し勾配磁場５０が追加的ＲＦパルス２２及び第１のリフォーカシングＲＦパル
ス２３の間に印加される。ＭＲ信号６０を測定するために、第１の読み出し勾配
磁場５１が連続するリフォーカシングＲＦパルス２３及び２４の間に印加される
。実際に測定されたＭＲ信号の数は、例えば、１６である。その結果、リフォー
カシングＲＦパルス２３を繰り返し、固定された段階を増加させる強さで位置エ
ンコード勾配磁場４０及び４１を印加する一方で、一組のＭＲ信号６０及び６１
が測定され、これらの信号はｋ空間のｋｘ面及びｋｙ面における線の数に対応す
る。線の数は通常、例えば、６４又は１２８である。検査されるべき体の組織に
おけるスライスを選択するためには、選択勾配磁場がＲＦパルス（図２には図示
せず）の生成と同時に印加される。第１のクラッシャ勾配磁場３４がＭＲ信号６
０の測定後に再び印加される。
【００１８】 追加的ＲＦパルス２２の偏差は、測定されたＭＲ信号において望ましくない変
調を生じる。例えば、フリップ角の偏差は連続するＭＲ信号において振幅変調を
生じる。リフォーカシングＲＦパルス２３乃至２５の位相に関する追加的ＲＦパ
ルスの位相の偏差は、ＭＲ信号６０及び６１の追加的位相変調を生じる。偏差は
、又、例えば、ＲＦパルスを生成するためのＲＦチェーンにおける振幅及び位相
のひずみ、或いは、勾配磁場の印加によって生じた渦電流効果によるものでもよ
い。追加的ＲＦパルス２２の偏差を妨げるためには、本発明によると、撮像パル
スシーケンスの前に実行される調整パルスシーケンスが使用され得る。図３は、
本発明による調整パルスシーケンス及び撮像パルスシーケンスの例を示している
。
調を生じる。例えば、フリップ角の偏差は連続するＭＲ信号において振幅変調を
生じる。リフォーカシングＲＦパルス２３乃至２５の位相に関する追加的ＲＦパ
ルスの位相の偏差は、ＭＲ信号６０及び６１の追加的位相変調を生じる。偏差は
、又、例えば、ＲＦパルスを生成するためのＲＦチェーンにおける振幅及び位相
のひずみ、或いは、勾配磁場の印加によって生じた渦電流効果によるものでもよ
い。追加的ＲＦパルス２２の偏差を妨げるためには、本発明によると、撮像パル
スシーケンスの前に実行される調整パルスシーケンスが使用され得る。図３は、
本発明による調整パルスシーケンス及び撮像パルスシーケンスの例を示している
。
【００１９】 調整パルスシーケンス１２０は、予備的な励起ＲＦパルス２２０と、予備的な
磁化準備パルスシーケンス２３０、２２１、及び２３１と、第１の予備的なクラ
ッシャ勾配磁場２３２と、ＭＧコンポーネントを選択する予備的な追加的ＲＦパ
ルス２２２と、予備的なリフォーカシングＲＦパルス２２３乃至２２５と、第１
及び第２の予備的なクラッシャ勾配磁場２３２及び２３６と、予備的な選択勾配
磁場（図示せず）と、予備的な準備読み出し勾配磁場２５０と、予備的なＭＲ信
号２６０及び２６１を測定する予備的な読み出し勾配磁場２５１及び２５２とを
含む。調節パルスシーケンス１２０の実行は、図２を参照して説明された既知の
撮像パルスシーケンスの実行と類似する。しかしながら、位相エンコード勾配磁
場は与えられない。更に、第１及び第２の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１の
みが測定されることが好ましい。図３は、更に、撮像パルスシーケンス１３０を
示している。撮像パルスシーケンスは、図２に示される撮像パルスシーケンスと
同一のものであるが、ここでは参照番号が図２の参照番号に３００足されている
。
磁化準備パルスシーケンス２３０、２２１、及び２３１と、第１の予備的なクラ
ッシャ勾配磁場２３２と、ＭＧコンポーネントを選択する予備的な追加的ＲＦパ
ルス２２２と、予備的なリフォーカシングＲＦパルス２２３乃至２２５と、第１
及び第２の予備的なクラッシャ勾配磁場２３２及び２３６と、予備的な選択勾配
磁場（図示せず）と、予備的な準備読み出し勾配磁場２５０と、予備的なＭＲ信
号２６０及び２６１を測定する予備的な読み出し勾配磁場２５１及び２５２とを
含む。調節パルスシーケンス１２０の実行は、図２を参照して説明された既知の
撮像パルスシーケンスの実行と類似する。しかしながら、位相エンコード勾配磁
場は与えられない。更に、第１及び第２の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１の
みが測定されることが好ましい。図３は、更に、撮像パルスシーケンス１３０を
示している。撮像パルスシーケンスは、図２に示される撮像パルスシーケンスと
同一のものであるが、ここでは参照番号が図２の参照番号に３００足されている
。
【００２０】 本発明の方法によると、予備的な追加的ＲＦパルス２２２のフリップ角の値及
び予備的なリフォーカシングＲＦパルス２２３乃至２２５のフリップ角の値は、
夫々通常９０度及び１８０度に調節されている。しかしながら、フリップ角の実
際の値はその所望の値から得られ得る。撮像パルスシーケンス１３０における追
加的ＲＦパルス３２２の調節は、調節パルスシーケンス１２０において測定され
た第１及び第２の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１から決定されたパラメータ
に依存して実施される。
び予備的なリフォーカシングＲＦパルス２２３乃至２２５のフリップ角の値は、
夫々通常９０度及び１８０度に調節されている。しかしながら、フリップ角の実
際の値はその所望の値から得られ得る。撮像パルスシーケンス１３０における追
加的ＲＦパルス３２２の調節は、調節パルスシーケンス１２０において測定され
た第１及び第２の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１から決定されたパラメータ
に依存して実施される。
【００２１】 本発明による追加的ＲＦパルス３２２のフリップ角、即ち９０度、の所望の公
称値のより良い近似のために、測定されたフリップ角は、
称値のより良い近似のために、測定されたフリップ角は、
【００２２】
【数１】 に従って第１及び第２の予備的なＭＲ信号の最大値から決定され、このとき、
【００２３】
【外１】 は、夫々調節パルスシーケンス１２０における第１及び第２の測定された予備的
なＭＲ信号２６０及び２６１の振幅を表わす。
なＭＲ信号２６０及び２６１の振幅を表わす。
【００２４】 更に、式（１ａ）は、第１の予備的なクラッシャ勾配磁場２３２の正の値のた
めに使用され、式（１ｂ）は第１の予備的なクラッシャ勾配磁場２３２の負の値
のために使用される。予備的な追加的ＲＦパルス２２２のために調節されるべき
フリップ角と測定されたフリップ角との差から、
めに使用され、式（１ｂ）は第１の予備的なクラッシャ勾配磁場２３２の負の値
のために使用される。予備的な追加的ＲＦパルス２２２のために調節されるべき
フリップ角と測定されたフリップ角との差から、
【００２５】
【数２】 に従って撮像パルスシーケンス１３０において追加的ＲＦパルス３２２のフリッ
プ角のために調節されるべき値が得られ、このとき、αａｃｔは予備的な追加的
ＲＦパルス２２２の測定されたフリップ角、α１は予備的な追加的ＲＦパルス２
２２のために調節されるべきフリップ角、α２は追加的ＲＦパルス３２２のため
に調節されるべきフリップ角を表わしている。
プ角のために調節されるべき値が得られ、このとき、αａｃｔは予備的な追加的
ＲＦパルス２２２の測定されたフリップ角、α１は予備的な追加的ＲＦパルス２
２２のために調節されるべきフリップ角、α２は追加的ＲＦパルス３２２のため
に調節されるべきフリップ角を表わしている。
【００２６】 追加的ＲＦパルス３２２の所望のフリップ角をより良く推定するためには、必
要であれば、第２の調節パルスシーケンス（図示せず）が実行されてもよく、こ
のとき第２の調節パルスシーケンスにおける追加的ＲＦパルスのために調節され
るべきフリップ角は第１の調節パルスシーケンスから決定され、撮像パルスシー
ケンス１３０における追加的ＲＦパルス３２２のために調節されるべきフリップ
角の値は第２の調節パルスシーケンスの追加的ＲＦパルスの調節されるべきフリ
ップ角及び測定されたフリップ角から決定される。従って、追加的ＲＦパルス３
２２の位相は、撮像パル子シーケンス１３０におけるリフォーカシングＲＦパル
ス３２２乃至３２５の位相に関して訂正される。追加的ＲＦパルス３２２の位相
及びリフォーカシングＲＦパルス３２２乃至３２５の位相の所望の差は、零であ
る。この所望の位相差に近付くためには、まず予備的な追加的ＲＦパルス２２２
の位相及び予備的なリフォーカシングＲＦパルス２２３乃至２２５の位相の測定
された位相差が、調節パルスシーケンス１２０において測定された第１及び第２
の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１の夫々の最大値における位相間の差から決
定される。追加的ＲＦパルス３２２のために調節されるべき位相のための訂正は
、
要であれば、第２の調節パルスシーケンス（図示せず）が実行されてもよく、こ
のとき第２の調節パルスシーケンスにおける追加的ＲＦパルスのために調節され
るべきフリップ角は第１の調節パルスシーケンスから決定され、撮像パルスシー
ケンス１３０における追加的ＲＦパルス３２２のために調節されるべきフリップ
角の値は第２の調節パルスシーケンスの追加的ＲＦパルスの調節されるべきフリ
ップ角及び測定されたフリップ角から決定される。従って、追加的ＲＦパルス３
２２の位相は、撮像パル子シーケンス１３０におけるリフォーカシングＲＦパル
ス３２２乃至３２５の位相に関して訂正される。追加的ＲＦパルス３２２の位相
及びリフォーカシングＲＦパルス３２２乃至３２５の位相の所望の差は、零であ
る。この所望の位相差に近付くためには、まず予備的な追加的ＲＦパルス２２２
の位相及び予備的なリフォーカシングＲＦパルス２２３乃至２２５の位相の測定
された位相差が、調節パルスシーケンス１２０において測定された第１及び第２
の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１の夫々の最大値における位相間の差から決
定される。追加的ＲＦパルス３２２のために調節されるべき位相のための訂正は
、
【００２７】
【数３】 の式に従って決定され、このときδａｃｔは訂正、ψ１及びψ２は夫々第１及び
第２の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１の最大値において測定された位相を表
わす。
第２の予備的なＭＲ信号２６０及び２６１の最大値において測定された位相を表
わす。
【００２８】 撮像パルスシーケンスにおける追加的ＲＦパルスの位相は、
【００２９】
【数４】 から得られ、このとき、φ２は撮像パルスシーケンスにおいて追加的ＲＦパルス
のために調節されるべき位相、φ１は調節パルスシーケンスにおいて予備的な追
加的ＲＦパルスのために調節されるべき位相、又、δａｃｔは上記訂正を表わす
。
のために調節されるべき位相、φ１は調節パルスシーケンスにおいて予備的な追
加的ＲＦパルスのために調節されるべき位相、又、δａｃｔは上記訂正を表わす
。
【００３０】 従って、同じ撮像パルスシーケンスにおいて測定されたＭＲ信号の位相は、一
定に保たれる。しかしながら、連続する撮像パルスシーケンスにおいて測定され
たＭＲ信号の位相は変化し得る。連続する撮像パルスシーケンスにおいて測定さ
れた、測定された撮像ＭＲ信号の位相を互いに関連付けるためには、例えば、各
撮像パルスシーケンスの始めに測定されたＭＲ信号６０がナビゲータ信号として
使用され得、この第１のナビゲータＭＲ信号は後続するＭＲ信号に関する位相偏
差を決定するための基準として使用される。測定されたＭＲ信号６１の位相は、
当業者に公知の方法で訂正され得る。
定に保たれる。しかしながら、連続する撮像パルスシーケンスにおいて測定され
たＭＲ信号の位相は変化し得る。連続する撮像パルスシーケンスにおいて測定さ
れた、測定された撮像ＭＲ信号の位相を互いに関連付けるためには、例えば、各
撮像パルスシーケンスの始めに測定されたＭＲ信号６０がナビゲータ信号として
使用され得、この第１のナビゲータＭＲ信号は後続するＭＲ信号に関する位相偏
差を決定するための基準として使用される。測定されたＭＲ信号６１の位相は、
当業者に公知の方法で訂正され得る。
【図１】 磁気共鳴装置を示す図である。
【図２】 既知の拡散撮像パルスシーケンスの例を示す図である。
【図３】 本発明による拡散撮像パルスシーケンスを示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 Ｇｒｏｅｎｅｗｏｕｄｓｅｗｅｇ １， 5621 ＢＡ Ｅｉｎｄｈｏｖｅｎ， Ｔｈ ｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ (72)発明者 ユェンニスケンス，ハンス ヘー オランダ国，5656 アーアー アインドー フェン，プロフ・ホルストラーン ６ Ｆターム(参考） 4C096 AA17 AB11 AD06 BB40
Claims (7)
- 【請求項１】 励起ＲＦパルスを生成する段階と、 磁化準備を調節するために磁化準備パルスシーケンスを生成する段階と、 非ＭＧコンポーネントを排除するために追加的ＲＦパルスを生成する段階と、 リフォーカシングＲＦパルスを生成する段階と、 位置依存ＭＲ信号を測定するために第１及び第２のクラッシャ勾配磁場を印加
する段階とを有する撮像パルスシーケンスを含み、磁気共鳴を用いて体の拡散パ
ラメータを撮像する方法であって、 予備的な励起ＲＦパルスを生成する段階と、 予備的な磁化準備パルスシーケンスを印加する段階と、 ＭＧコンポーネントを選択するために予備的な追加的ＲＦパルスを生成する段
階と、 予備的なリフォーカシングＲＦパルスを生成する段階と、 第１及び第２の予備的なクラッシャ勾配磁場を印加する段階と、 予備的な磁気共鳴信号を測定する段階とを含む調節パルスシーケンスを使用し
、 上記撮像パルスシーケンスにおける上記追加的ＲＦパルスは、上記調節パルス
シーケンスにおいて測定された上記予備的なＭＲ信号から決定されるパラメータ
に依存して調節されることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 第１及び第２の予備的なＭＲ信号は、上記調節パルスシーケ
ンスにおいて測定され、上記追加的ＲＦパルスのフリップ角の調節は上記調節パ
ルスシーケンスにおける上記測定された第１及び第２の予備的なＭＲ信号の振幅
に依存する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 第１及び第２の予備的なＭＲ信号は上記調節パルスシーケン
スにおいて測定され、上記リフォーカシングＲＦパルスの位相と関連する上記追
加的ＲＦパルスの位相の調節は上記調節パルスシーケンスにおける上記測定され
た第１及び第２の予備的なＭＲ信号の位相に依存する請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 上記予備的な磁化準備パルスシーケンス、及び、上記磁化準
備パルスシーケンスは一組の勾配磁場及びリフォーカシングパルスを含む請求項
１記載の方法。 - 【請求項５】 上記予備的な磁化準備パルスシーケンス及び上記磁化準備パ
ルスシーケンスは、双極の勾配磁場を含む請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 上記位置依存ＭＲ信号の一つは、連続する撮像パルシーケン
スにおいて測定された上記位置依存ＭＲ信号を互いに関連付けるためにナビゲー
タＭＲ信号として使用される請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 安定した磁場を維持する手段と、 勾配磁場を印加する手段と、 上記安定した磁場において検査されるべき対象物に印加されるＲＦパルスを生
成する手段と、 上記勾配磁場の印加及び上記ＲＦパルスの生成を制御する制御ユニットと、 上記ＲＦパルス及び上記勾配を含むパルスシーケンスによって生成された磁気
共鳴信号を受信しサンプリングする手段とを有し、上記制御ユニットは、 励起ＲＦパルスを生成する段階と、 磁化準備を調節するために磁化準備パルスシーケンスを実行する段階と、 非ＭＧコンポーネントを排除するために追加的ＲＦパルスを生成する段階と、 リフォーカシングＲＦパルスを生成する段階と、 位置依存ＭＲ信号を測定するために第１及び第２のクラッシャ勾配磁場を印加
する段階とを含む方法を実行するように構成され、安定した磁場に配置された検
査されるべき対象物を撮像する磁気共鳴装置であって、 上記制御ユニットは、 予備的な励起ＲＦパルスを生成する段階と、 予備的な磁化準備パルスシーケンスを印加する段階と、 ＭＧコンポーネントを選択するために予備的な追加的ＲＦパルスを生成する段
階と、 予備的なリフォーカシングＲＦパルスを生成する段階と、 第１及び第２の予備的なクラッシャ勾配磁場を印加する段階と、 予備的な磁気共鳴信号を測定する段階とを含む調節パルスシーケンスを行なう
ように構成され、 上記制御ユニットは、上記調節パルスシーケンスにおいて測定された上記予備
的なＭＲ信号から決定されたパラメータに依存して撮像パルスシーケンスにおけ
る上記追加的ＲＦパルスを調節するように構成されることを特徴とする磁気共鳴
装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98203881 | 1998-11-18 | ||
| EP98203881.2 | 1998-11-18 | ||
| PCT/EP1999/008337 WO2000029865A1 (en) | 1998-11-18 | 1999-11-01 | Magnetic resonance method and device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002530132A true JP2002530132A (ja) | 2002-09-17 |
Family
ID=8234347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000582816A Pending JP2002530132A (ja) | 1998-11-18 | 1999-11-01 | 磁気共鳴装置及び方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6275036B1 (ja) |
| EP (1) | EP1057039A1 (ja) |
| JP (1) | JP2002530132A (ja) |
| WO (1) | WO2000029865A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| DE10109511C2 (de) * | 2001-02-28 | 2003-03-27 | Max Planck Gesellschaft | Verfahren und Gerät zum Gewinnen von Daten für diffusionsgewichtete Magnetresonanz-Bildgebung |
| US6552538B2 (en) * | 2001-04-11 | 2003-04-22 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | RF transmit calibration for open MRI systems |
| AU2003272024A1 (en) * | 2002-11-18 | 2004-06-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Magnetic resonance method and device |
| US7239137B2 (en) * | 2005-09-20 | 2007-07-03 | General Electric Company | Method and apparatus for fast spin echo (FSE) prescan phase correction |
| JP5022696B2 (ja) | 2006-12-22 | 2012-09-12 | ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー | 磁気共鳴イメージング装置 |
| DE102010038775B4 (de) * | 2010-08-02 | 2012-10-31 | Siemens Aktiengesellschaft | Dynamische Phasenkorrektur bei einem Mehrkanal-HF-Sendemodul |
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| DE102016218713B4 (de) * | 2016-09-28 | 2019-02-07 | Siemens Healthcare Gmbh | Diffusionsgewichtete Magnetresonanz-Messung |
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|---|---|---|---|---|
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| DE69326202T2 (de) * | 1992-06-29 | 2000-04-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V., Eindhoven | Verfahren und Gerät zur Kernresonanzabbildung |
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| US5420510A (en) * | 1993-08-13 | 1995-05-30 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Suppression of oscillations in NMR measurement using off-resonance spin-locking pulses |
-
1999
- 1999-11-01 EP EP99972309A patent/EP1057039A1/en not_active Withdrawn
- 1999-11-01 WO PCT/EP1999/008337 patent/WO2000029865A1/en not_active Application Discontinuation
- 1999-11-01 JP JP2000582816A patent/JP2002530132A/ja active Pending
- 1999-11-12 US US09/439,241 patent/US6275036B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US6275036B1 (en) | 2001-08-14 |
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