JP2002526630A - Formulations containing particulate inorganic oxides - Google Patents

Formulations containing particulate inorganic oxides

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JP2002526630A JP2000574623A JP2000574623A JP2002526630A JP 2002526630 A JP2002526630 A JP 2002526630A JP 2000574623 A JP2000574623 A JP 2000574623A JP 2000574623 A JP2000574623 A JP 2000574623A JP 2002526630 A JP2002526630 A JP 2002526630A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、a)平均一次粒子サイズが1〜100nm、好ましくは1〜50nmである少なくとも1種の酸化物;b)少なくとも1種の、平均分子量Mwが1000g/モルを超える分散剤;及びc)少なくとも1種の溶媒を含有する配合物に関する。本発明の配合物は、特に、インク−ジェット法を用いて、透明な高融点の基体上に、構造を持った表面体として塗工される印刷インクを製造するのに好適である。透明な導電層が、還元性雰囲気下で焼結した後に生成する。   (57) [Summary] The invention relates to a) at least one oxide having an average primary particle size of 1 to 100 nm, preferably 1 to 50 nm; b) at least one dispersant having an average molecular weight Mw of more than 1000 g / mol; and c) A) formulations containing at least one solvent; The formulations according to the invention are particularly suitable for producing printing inks which are applied as a structured surface on a transparent, high-melting substrate using the ink-jet method. A transparent conductive layer is formed after sintering in a reducing atmosphere.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 本発明は、微粒子状無機酸化物を含有する配合物、その製造方法、印刷インク
を製造するためのその使用、及び、透明な、導電性の、構造を持った表面体を、
透明な支持物質上に製造するための印刷インクの使用に関する。
The present invention relates to a formulation containing a particulate inorganic oxide, a method for its production, its use for producing printing inks, and a transparent, conductive, structured surface,
It relates to the use of printing inks for producing on transparent support materials.

【0002】 透明な、導電性の、構造を持った表面体(例えば、表示分野用の)、例えば絶
縁性の透明な基体上の導電路、の形成は、現代技術において以下のように行われ
ている。導電性物質(例えば、インジウム−スズ酸化物)の連続した層を、蒸着
、スパッタリング、噴霧熱分解(spray pyrolysis)、プラズマ蒸着、浸せき法又
はCVD法によって均一に形成した後、半導体技術において一般的なリソグラフ
法を使用して、例えばエッチング又はスコアリング(scoring)によって所望の構
造を形成する。この方法の不利な点は、構造を持った表面体を製造するために膨
大な加工処理が必要であるということである。
The formation of transparent, conductive, structured surfaces (eg, for the display field), such as conductive paths on insulating transparent substrates, is performed in modern technology as follows. ing. After a continuous layer of a conductive material (eg, indium-tin oxide) is uniformly formed by evaporation, sputtering, spray pyrolysis, plasma evaporation, immersion, or CVD, it is common in semiconductor technology. The desired structure is formed using any lithographic method, for example, by etching or scoring. A disadvantage of this method is that extensive processing is required to produce structured surface bodies.

【0003】 本発明の一つの目的は、透明な、例えば導電路の形態の、構造を持った表面体
を、最小限の加工処理で基体上に形成することができる配合物を製造することで
ある。
[0003] One object of the present invention is to produce a formulation that allows a transparent, structured surface, for example in the form of a conductive path, to be formed on a substrate with minimal processing. is there.

【0004】 本発明の更に一つの目的は、還元性の雰囲気中で焼結することによって、これ
らの構造を持った表面体内部での導電性を達成することである。
Another object of the present invention is to achieve conductivity inside a surface body having such a structure by sintering in a reducing atmosphere.

【0005】 微粒子状の無機酸化物を含有する配合物を製造し、そしてこれらの配合物を使
用して、インクジェット法によって、透明な表面体に、構造を持った形態で塗工
される印刷インクを処方することが可能になった。このようにして透明な基体上
に形成された構造を持った表面体は、次いで還元性の雰囲気中で焼結することに
よって、導電性の、構造を持った表面体に転化した。これらの導電性の、構造を
持った表面構造体(例えば、導電路)は、特に電気工業が興味を持っている。
[0005] Printing inks for preparing formulations containing finely divided inorganic oxides, and using these formulations, in a structured manner, on transparent surfaces by ink-jet processes It became possible to prescribe. The structured surface body thus formed on the transparent substrate was then converted to a conductive, structured surface body by sintering in a reducing atmosphere. These conductive, structured surface structures (eg, conductive paths) are of particular interest to the electrical industry.

【0006】 本発明は、 a)平均一次サイズが1〜100nmである少なくとも1種の酸化物、 b)少なくとも1種の、平均分子量Mwが1000g/モルを超える分散剤、及 び c)少なくとも1種の溶媒 を含有する配合物を提供する。The present invention provides a composition comprising: a) at least one oxide having an average primary size of 1 to 100 nm; b) at least one dispersant having an average molecular weight Mw of more than 1000 g / mol; and c) at least one Formulations containing different solvents are provided.

【0007】 好ましい配合物は、 a)平均一次サイズが1〜100nm、好ましくは1〜50nmである少なく とも1種の酸化物であって、 i)ABX[ここに、 Aは、Sn、In又はZnであり、 Bは、Sb、Sn、F、P、Al又はCdであり、 Xは、O、S、Se又はTe、好ましくはOであり、そして Aがホスト(host)格子を形成していてBはそのホスト格子中にドープされ ている、即ちAの一部がBによって置き換えられており、BによるAの置 換量は、20原子%未満、好ましくは10原子%未満であり、 インジウム錫酸化物(A=In、B=Sn、X=O)及びアンチモン錫酸 化物(A=Sb、B=Sn、X=O)が特に好ましい]、 ii)タングステンブロンズ(bronze)及びモリブデンブロンズ [ここに 、 組成はそれぞれZxWO3又はZxMoO3であり、0<x<1であり、そし てZは、元素の周期表の第1及び/又は第2主族の元素である]、及び/ 又は iii)酸化タングステン及び酸化モリブデン[ここに、 組成はそれぞれWO3-x又はMoO3-xであり、x<0.1である] の型の酸化物、 b)少なくとも1種の、平均分子量Mwが1000g/モルを超える、好まし くは1000g/モルを超え500,000g/モル迄の分散剤、及び c)少なくとも1種の溶媒 を含有する。a)酸化物 本発明の配合物に含まれる酸化物a)は、一次粒子、一次粒子の凝集体もしく
は集合体、又はその2種の混合物のいずれの形態で存在してもよい。凝集体もし
くは集合体とは、複数の一次粒子がファンデルワールス力によって相互作用して
生成した粒子、又は一次粒子が、製造工程中に、表面反応又は「焼結」の結果と
して互いに付着した状態になって生成した粒子である。
Preferred formulations are: a) at least one oxide having an average primary size of 1 to 100 nm, preferably 1 to 50 nm, i) ABX [where A is Sn, In or B is Sb, Sn, F, P, Al or Cd; X is O, S, Se or Te, preferably O; and A forms a host lattice. B is doped in its host lattice, ie a part of A is replaced by B, the replacement of A by B is less than 20 at%, preferably less than 10 at%, Particularly preferred are tin oxides (A = In, B = Sn, X = O) and antimony stannic oxides (A = Sb, B = Sn, X = O), ii) tungsten bronze and molybdenum bronze. Here is the composition Re Z x is a WO 3 or Z x MoO 3, 0 <a x <1, element Z is the first and / or the elements of the second main group of the periodic table of the elements, and / or iii An oxide of the type tungsten oxide and molybdenum oxide, wherein the composition is WO 3-x or MoO 3-x , respectively, where x <0.1; b) at least one of the compounds having an average molecular weight M w It contains more than 1000 g / mol, preferably more than 1000 g / mol and up to 500,000 g / mol of dispersant, and c) at least one solvent. a) Oxide The oxide a) contained in the composition of the present invention may be present in any form of primary particles, aggregates or aggregates of primary particles, or mixtures of the two. Aggregates or aggregates are particles formed by the interaction of multiple primary particles by Van der Waals forces, or the state in which primary particles adhere to each other during the manufacturing process as a result of a surface reaction or "sintering". These are the particles generated by

【0008】 本発明の配合物に含まれる酸化物a)が一次粒子の形態で存在している場合は
、酸化物の平均一次粒子サイズは、通常1〜100nm、好ましくは1〜50n
mである。酸化物の一次粒子は、球形であるのが好ましい。
If the oxides a) contained in the formulations according to the invention are present in the form of primary particles, the average primary particle size of the oxides is generally between 1 and 100 nm, preferably between 1 and 50 n
m. The primary particles of the oxide are preferably spherical.

【0009】 本発明の配合物に含まれる酸化物a)が集合体もしくは凝集体の形態で存在し
ている場合は、これらの集合体もしくは凝集体の平均粒子サイズは、500nm
未満、好ましくは150nm未満である。
If the oxides a) contained in the formulations according to the invention are present in the form of aggregates or aggregates, the average particle size of these aggregates or aggregates is 500 nm
Less than 150 nm, preferably less than 150 nm.

【0010】 本発明の配合物に含まれる酸化物a)は、結晶性であっても無定型であっても
よく、結晶性であるのが好ましい。
The oxide a) contained in the inventive composition may be crystalline or amorphous, and is preferably crystalline.

【0011】 酸化物a)は、例えば、ゾル−ゲル法、化学気相反応(chemical vapor reacti
on)(CVR)法、化学気相凝縮(condensation)法又はプラズマ脱着(desorption
)によって製造することができる。
The oxides a) can be obtained, for example, by the sol-gel method, chemical vapor reacti
on) (CVR), chemical vapor condensation or plasma desorption
).

【0012】 本発明の配合物に含まれる酸化物a)は、配合物基準で、好ましくは0.05
〜80重量%、特に0.1〜30重量%、特に好ましくは0.5〜20重量%の
量で使用される。
The oxides a) contained in the formulations according to the invention preferably have a content of 0.05%, based on the formulation.
It is used in an amount of .about.80% by weight, in particular 0.1-30% by weight, particularly preferably 0.5-20% by weight.

【0013】 特に好ましい酸化物は、インジウム錫酸化物(A=In、B=Sn、X=O)
及びアンチモン錫酸化物(A=Sb、B=Sn、X=O)である。b)分散剤 分散剤は、モル質量が、1000g/モルを超え500,000g/モル迄、
好ましくは1000g/モルを超え100,000g/モル迄、特には1000
g/モルを超え10,000g/モル迄である分子である。分散剤は、非イオン
化合物、アニオン化合物、カチオン化合物又は両性化合物であることができる。
A particularly preferred oxide is indium tin oxide (A = In, B = Sn, X = O)
And antimony tin oxide (A = Sb, B = Sn, X = O). b) Dispersant The dispersant has a molar mass greater than 1000 g / mol and up to 500,000 g / mol.
Preferably more than 1000 g / mol and up to 100,000 g / mol, especially 1000
A molecule that is in excess of g / mol and up to 10,000 g / mol. The dispersant can be a nonionic, anionic, cationic or amphoteric compound.

【0014】 高分子分散剤が特に好ましい。[0014] Polymeric dispersants are particularly preferred.

【0015】 高分子分散剤としては、例えば、”Water−soluble Synth
etic Polymers: Properties and Behavi
or”(VolumeI+II,Philip Molyneux,CRC P
ress, Florida 1983/84)に記載されている化合物が挙げ
られる。
As the polymer dispersant, for example, “Water-soluble Synth”
etic Polymers: Properties and Behavi
or "(Volume I + II, Philip Molyneux, CRCP
res., Florida 1983/84).

【0016】 高分子分散剤としては更に、例えば、水溶性化合物及び水乳化性化合物、例え
ばホモ−及びコポリマー、グラフトポリマー及びコポリマーそしてランダムブロ
ックコポリマーをも挙げることができる。
Polymeric dispersants can further include, for example, water-soluble and water-emulsifiable compounds, such as homo- and copolymers, graft polymers and copolymers and random block copolymers.

【0017】 特に好ましい高分子分散剤として、例えばAB、BAB及びABCブロックコ
ポリマーが挙げられる。AB又はBABブロックコポリマーにおいて、Aセグメ
ントは、疎水性のホモポリマー又はコポリマーであって、本発明の配合物におい
て使用された場合ブロックコポリマーを確実に酸化物に付着させる。Bブロック
は親水性のホモポリマー又はコポリマー又はその塩であって、本発明の配合物に
おいて使用された場合本発明の配合物中の溶媒に酸化物を確実に分散させる。そ
のような高分子分散剤とその合成については、例えばEP−A−518225及
びEP−A−556649から、公知である。
Particularly preferred polymeric dispersants include, for example, AB, BAB and ABC block copolymers. In AB or BAB block copolymers, the A segment is a hydrophobic homopolymer or copolymer that when used in the formulations of the present invention ensures that the block copolymer adheres to the oxide. The B block is a hydrophilic homopolymer or copolymer or a salt thereof, which when used in the formulation of the present invention, ensures that the oxide is dispersed in the solvent in the formulation of the present invention. Such polymeric dispersants and their synthesis are known, for example, from EP-A-518225 and EP-A-566649.

【0018】 有用な高分子分散剤としては、例えば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレ
ンオキシド、ポリオキシメチレン、ポリトリメチレンオキシド、ポリビニルメチ
ルエーテル、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ
メタクリル酸、ポリメタクリルアミド、ポリ−N,N−ジメチルアクリルアミド
、ポリ−N−イソプロピルアクリルアミド、ポリ−N−アクリロイルグリシンア
ミド、ポリ−N−メタクリロイルグリシンアミド、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルアセタール、ポリビニルアルコールとポリビニルアセタールの共重合体、
ポリビニルピロリドン、ポリビニルオキサドリドン及びポリビニルメチルオキサ
ドリドンが挙げられる。
Useful polymeric dispersants include, for example, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyoxymethylene, polytrimethylene oxide, polyvinyl methyl ether, polyethylene imine, polyacrylic acid, polyacrylamide, polymethacrylic acid, polymethacrylamide. Poly-N, N-dimethylacrylamide, poly-N-isopropylacrylamide, poly-N-acryloylglycinamide, poly-N-methacryloylglycinamide, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, a copolymer of polyvinyl alcohol and polyvinyl acetal,
Polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl oxadridone and polyvinyl methyl oxadridone are mentioned.

【0019】 有用な天然高分子として、例えば、セルロース、デンプン、ゼラチン又はそれ
らの誘導体が挙げられる。
Useful natural macromolecules include, for example, cellulose, starch, gelatin or derivatives thereof.

【0020】 有用な非イオン分散剤として、例えば、アルコキシラート、アルキロールアミ
ド、エステル、アミンオキシド、例えば3−グリシジルオキシプロピルトリメト
キシシランのようなシラン及びアルキルポリグリコシドが挙げられる。
Useful nonionic dispersants include, for example, alkoxylates, alkylolamides, esters, amine oxides, silanes such as 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, and alkyl polyglycosides.

【0021】 有用な非イオン分散剤の例として、更に、アルキレンオキシドとアルコキシル
化可能な化合物、例えば脂肪族アルコール、脂肪族アミン、脂肪酸、フェノール
、アルキルフェノール、スチレン−フェノール縮合物のようなアリールアルキル
フェノール、カルボキシアミド及び樹脂酸、との反応生成物が挙げられる。
Examples of useful nonionic dispersants further include compounds capable of alkoxylation with alkylene oxides, for example, aliphatic alcohols, aliphatic amines, fatty acids, phenols, alkylphenols, arylalkylphenols such as styrene-phenol condensates, Reaction products with carboxamides and resin acids.

【0022】 これらの反応生成物が、エチレンオキシドと、 1)炭素数が6〜20個の飽和及び/又は不飽和脂肪族アルコール又は 2)アルキル基中の炭素数が4〜12個のアルキルフェノール又は 3)炭素数が14〜20個の飽和及び/又は不飽和脂肪族アミン又は 4)炭素数が14〜20個の飽和及び/又は不飽和脂肪酸又は 5)水素化及び/又は非水素化樹脂酸 との反応から生成するエチレンオキシド付加物であることが好ましい。The reaction products are ethylene oxide and 1) a saturated and / or unsaturated aliphatic alcohol having 6 to 20 carbon atoms or 2) an alkylphenol having 4 to 12 carbon atoms in an alkyl group or 3 A) a saturated and / or unsaturated aliphatic amine having 14 to 20 carbon atoms or 4) a saturated and / or unsaturated fatty acid having 14 to 20 carbon atoms or 5) a hydrogenated and / or non-hydrogenated resin acid. Is preferably an ethylene oxide adduct generated from the above reaction.

【0023】 有用なエチレンオキシド付加物は、特に、1)〜5)に記載されたアルコキシ
ル化可能な化合物を、1分子当たり5〜120個の、好ましくは5〜60個の、
特に5〜30個のエチレンオキシド単位と共に、含有している。
Useful ethylene oxide adducts include, in particular, the alkoxylatable compounds described in 1) to 5) above, in which 5 to 120, preferably 5 to 60,
Particularly, it is contained together with 5 to 30 ethylene oxide units.

【0024】 例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリオキシメチレン
、ポリトリメチレンオキシド、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチレンイミン
、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸、ポリメタクリルア
ミド、ポリ−N,N−ジメチルアクリルアミド、ポリ−N−イソプロピルアクリ
ルアミド、ポリ−N−アクリロイルグリシンアミド、ポリ−N−メタクリロイル
グリシンアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及びポリビニル
メチルオキサドリドンのような非イオン高分子分散剤が特に好ましい。
For example, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyoxymethylene, polytrimethylene oxide, polyvinyl methyl ether, polyethylene imine, polyacrylic acid, polyacrylamide, polymethacrylic acid, polymethacrylamide, poly-N, N-dimethylacrylamide, Nonionic polymeric dispersants such as poly-N-isopropylacrylamide, poly-N-acryloylglycinamide, poly-N-methacryloylglycinamide, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone and polyvinylmethyloxadridone are particularly preferred.

【0025】 有用なアニオン分散剤としては、例えば、硫酸アルキル、硫酸エーテル、カル
ボン酸エーテル、リン酸エステル、スルホコハク酸エステル、スルホコハク酸ア
ミド、パラフィンスルホナート、オレフィンスルホナート、サルコシナート、イ
ソチオナート、タウラート、及びリグニン化合物が挙げられる。
Useful anionic dispersants include, for example, alkyl sulfates, sulfate ethers, carboxylate ethers, phosphate esters, sulfosuccinate esters, sulfosuccinamides, paraffin sulfonates, olefin sulfonates, sarcosinates, isothionates, taurates, and And lignin compounds.

【0026】 アニオン高分子分散剤が特に好ましい。Anionic polymeric dispersants are particularly preferred.

【0027】 好ましいアニオン高分子分散剤は、芳香族スルホン酸とホルムアルデヒドとの
縮合生成物、例えば、ホルムアルデヒドとアルキルナフタレンスルホン酸との縮
合生成物、ホルムアルデヒドとナフタレンスルホン酸及び/又はベンゼンスルホ
ン酸との縮合生成物、或いは置換又は非置換フェノールとホルムアルデヒド及び
亜硫酸水素ナトリウムとの縮合生成物である。
Preferred anionic polymeric dispersants are the condensation products of aromatic sulfonic acids with formaldehyde, such as the condensation products of formaldehyde with alkylnaphthalenesulfonic acids, and the condensation products of formaldehyde with naphthalenesulfonic acid and / or benzenesulfonic acid. Condensation products or condensation products of substituted or unsubstituted phenols with formaldehyde and sodium bisulfite.

【0028】 同様に、ナフトールとアルカノールとの反応、アルキレンオキサイドの付加、
及び末端水酸基の少なくとも一部の、スルホ基又はマレイン酸、フタル酸又はコ
ハク酸のモノエステルへの転化により得ることができる縮合生成物が好ましい。
Similarly, reaction of naphthol with alkanol, addition of alkylene oxide,
Preference is given to the condensation products which can be obtained by conversion of at least some of the terminal hydroxyl groups to sulfo groups or monoesters of maleic acid, phthalic acid or succinic acid.

【0029】 アニオン分散剤として使用するのに好ましい化合物としては、上記の他に、ス
ルホコハク酸エステル、アルキルベンゼンスルホナート、硫酸化されたアルコキ
シル化脂肪酸アルコール又はこれらの塩のグループからの化合物が挙げられる。
アルコキシル化脂肪酸アルコールは、特に、分子当たり5〜120個、好ましく
は5〜60個、特に好ましくは5〜30個のエチレンオキサイド単位を持った、
飽和又は不飽和のC6−C22脂肪酸アルコ−ル、特にステアリルアルコールであ
る。特に、8〜10個のエチレンオキサイド単位を持ったアルコキシル化された
ステアリルアルコールが好ましい。硫酸化されたアルコキシル化脂肪酸アルコー
ルは、塩、特にアルカリ金属塩又はアンモニウム塩として存在するのが好ましく
、ジエチルアンモニウム塩として存在するのがより好ましい。
Preferred compounds for use as anionic dispersants include, in addition to those described above, compounds from the group of the sulfosuccinates, alkylbenzenesulfonates, sulfated alkoxylated fatty alcohols or salts thereof.
Alkoxylated fatty acid alcohols have in particular 5 to 120, preferably 5 to 60, particularly preferably 5 to 30 ethylene oxide units per molecule,
Saturated or unsaturated C 6 -C 22 fatty acid alcohols, especially stearyl alcohol. Particularly, an alkoxylated stearyl alcohol having 8 to 10 ethylene oxide units is preferable. Preferably, the sulfated alkoxylated fatty acid alcohol is present as a salt, especially an alkali metal salt or ammonium salt, more preferably as a diethyl ammonium salt.

【0030】 好ましいアニオン高分子分散剤のその他の例として、ポリアクリル酸、ポリエ
チレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリメタクリル酸、ポリリン酸及
びポリアスパラギン酸の塩が挙げられる。
Other examples of preferred anionic polymer dispersants include salts of polyacrylic acid, polyethylene sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polymethacrylic acid, polyphosphoric acid and polyaspartic acid.

【0031】 同様に、アクリル酸モノマーのコポリマーであるアニオン高分子分散剤が好ま
しい。これらのコポリマーは、例えば、以下に示すモノマーの組み合わせによっ
て得ることができ、これらのモノマーは、ランダム又は交互コポリマーあるいは
グラフトコポリマーを形成する。 アクリルアミド、 アクリル酸; アクリルアミド、 アクリロニトリル; アクリル酸、 N−アクリロイルグリシンアミド; アクリル酸、 エチルアクリラート; アクリル酸、 メチルアクリラート; アクリル酸、 メチレンブチロラクタム; N−アクリロイルグリシンアミド、 N−イソプロピルアクリルアミド; メタクリルアミド、 メタクリル酸; メタクリル酸、 ベンジルメタクリラート; メタクリル酸、 ジフェニルメチルメタクリラート; メタクリル酸、 メチルメタアクリラート; メタクリル酸、 スチレン; 更に、有用な無機分散剤の例としては、好ましくは、リグニンスルホナート、
例えば亜硫酸塩又はクラフトプロセスで得られたリグニンスルホナート(亜硫酸
塩及びクラフトリグニンスルホナート)が挙げられる。それらは、部分的に加水
分解、酸化、プロポキシ化、スルホン化、スルホメチル化又はジスルホン化し、
そして、例えば分子量に基づいて又はスルホン化の程度に基づいて公知の方法に
よって分別した生成物であることが好ましい。亜硫酸塩及びクラフトリグニンス
ルホナートの混合物も、好ましい。特に好ましいリグニンスルホナートは、平均
分子量が1000g/モルを超え100,000g/モルまでであり、活性リグ
ニンスルホナート含量が少なくとも80%で、かつ好ましくは多価カチオン含量
が少ないものである。スルホン化の程度は、広い範囲で変動してもよい。
Similarly, anionic polymeric dispersants that are copolymers of acrylic acid monomers are preferred. These copolymers can be obtained, for example, by the following combinations of monomers, which form random or alternating copolymers or graft copolymers. Acrylamide, Acrylic acid; Acrylamide, Acrylonitrile; Acrylic acid, N-acryloylglycinamide; Acrylic acid, Ethyl acrylate; Acrylic acid, Methyl acrylate; Acrylic acid, Methylenebutyrolactam; N-Acryloylglycinamide, N-isopropylacrylamide Methacrylamide, Methacrylic acid; Methacrylic acid, Benzyl methacrylate; Methacrylic acid, Diphenylmethyl methacrylate; Methacrylic acid, Methyl methacrylate; Methacrylic acid, Styrene; Lignin sulfonate,
For example, sulphite or ligninsulfonate obtained by the kraft process (sulphite and kraft ligninsulphonate) are mentioned. They are partially hydrolyzed, oxidized, propoxylated, sulfonated, sulfomethylated or disulfonated,
And it is preferable that the product is fractionated by a known method based on, for example, the molecular weight or the degree of sulfonation. Mixtures of sulfites and kraft lignin sulfonates are also preferred. Particularly preferred lignin sulfonates are those having an average molecular weight of more than 1000 g / mol to 100,000 g / mol, an active lignin sulfonate content of at least 80%, and preferably a low polyvalent cation content. The degree of sulfonation may vary over a wide range.

【0032】 有用なカチオン分散剤としては、例えばアルキルアンモニウム化合物及びイミ
ダゾールが挙げられる。
Useful cationic dispersants include, for example, alkyl ammonium compounds and imidazole.

【0033】 特に、カチオン高分子分散剤が好ましい。Particularly, a cationic polymer dispersant is preferable.

【0034】 カチオン高分子分散剤の例は、ポリエチレンイミン、ポリビニルアミン、ポリ
(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、塩化ポリ(ジアリルジ
メチルアンモニウム)、ポリ(4−ビニルベンジルトリメチルアンモニウム)塩
、ポリ(2−ビニルピリジン)及びポリリシンの塩である。
Examples of cationic polymer dispersants include polyethyleneimine, polyvinylamine, poly (2-vinylpyridine), poly (4-vinylpyridine), poly (diallyldimethylammonium) chloride, poly (4-vinylbenzyltrimethylammonium) ) Salts, salts of poly (2-vinylpyridine) and polylysine.

【0035】 有用な両性分散剤として、例えばベタイン、グリシナート、プロピオナート及
びイミダゾリンが挙げられる。
Useful amphoteric dispersants include, for example, betaines, glycinates, propionates and imidazolines.

【0036】 アニオン性及びカチオン性ポリマーは、共に高分子電解質として分類され、水
性及び/又は有機相中で部分的又は完全に解離可能である。
Both anionic and cationic polymers are classified as polyelectrolytes and can be partially or completely dissociated in aqueous and / or organic phases.

【0037】 分散剤は、使用される酸化物の量を基準として、好ましくは0.1〜200重
量%、特には0.5〜100重量%、特に好ましくは1〜20重量%の量で使用
される。
The dispersant is preferably used in an amount of 0.1 to 200% by weight, in particular 0.5 to 100% by weight, particularly preferably 1 to 20% by weight, based on the amount of oxide used. Is done.

【0038】 特に好ましい配合物は、 a)平均一次サイズが1〜100nm、好ましくは1〜50nmである少なく とも1種の酸化物であって、 i)ABX[ここに、 Aは、Sn、In又はZnであり、 Bは、Sb、Sn、F、P、Al又はCdであり、 Xは、O、S、Se又はTe、好ましくはOであり、そして Aがホスト(host)格子を形成していてBはそのホスト格子中にドープされ ている、即ちAの一部がBによって置き換えられており、BによるAの置 換量は、20原子%未満、好ましくは10原子%未満であり、 インジウム錫酸化物(A=In、B=Sn、X=O)及びアンチモン錫酸 化物(A=Sb、B=Sn、X=O)が特に好ましい]、 ii)タングステンブロンズ(bronze)及びモリブデンブロンズ [ここに 、 組成はそれぞれZxWO3又はZxMoO3であり、0<x<1であり、そし てZは、元素の周期表の第1及び/又は第2主族の元素である]、及び/ 又は iii)酸化タングステン及び酸化モリブデン[ここに、 組成はそれぞれWO3-x又はMoO3-xであり、x<0.1である] の型の酸化物、 b)少なくとも1種の、平均分子量Mwが1000g/モルを超える、好まし くは1000g/モルを超え500,000g/モル迄である分散剤であ って、以下のアニオン分散剤の群; スルホコハク酸エステル、アルキルベンゼンスルホナート、硫酸化された アルコキシル化脂肪酸アルコール又はその塩、硫酸エーテル、カルボン酸 エーテル、リン酸エステル、スルホコハク酸アミド、パラフィンスルホナ ート、オレフィンスルホナート、サルコシナート、イソチオナート、タウ ラート、リグニン化合物、芳香族スルホン酸とホルムアルデヒドとの縮合 生成物、例えばホルムアルデヒドとアルキルナフタレンスルホン酸との縮 合生成物、ホルムアルデヒドとナフタレンスルホン酸及び/又はベンゼン スルホン酸との縮合生成物、或いは置換又は非置換フェノールとホルムア ルデヒドと亜硫酸水素ナトリウムとの縮合生成物、ナフトールとアルカノ ールとの反応、アルキレンオキシドの付加、及び末端水酸基の少なくとも 一部の、スルホ基又はマレイン酸、フタル酸又はコハク酸のモノエステル への転化により得ることができる縮合生成物、及びポリマー又はアミノ酸 単位特にポリアスパラギン酸 から、又は 下記のカチオン分散剤の群: 第4級アルキルアンモニウム化合物及びイミダゾール から、又は 下記の両性分散剤の群: グリシナート、プロピオナート、及びイミダゾリン から、又は 下記の非イオン分散剤の群: アルコキシラート、アルキロールアミド、エステル、アミンオキシド、例 えば3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランのようなシラン、 アルキルポリグリコシド、及びアルキレンオキシドとアルコキシル化可能 な化合物、例えば脂肪族アルコール、脂肪族アミン、脂肪酸、フェノール 、アルキルフェノール、スチレン−フェノール縮合物のようなアリールア ルキルフェノール、カルボキシアミド及び樹脂酸、との反応生成物、好ま しくは、エチレンオキシドと、 1)炭素数が6〜20個の飽和及び/又は不飽和脂肪族アルコール又は 2)アルキル基中の炭素数が4〜12個のアルキルフェノール又は 3)炭素数が14〜20個の飽和及び/又は不飽和脂肪族アミン又は 4)炭素数が14〜20個の飽和及び/又は不飽和脂肪酸又は 5)水素化及び/又は非水素化樹脂酸 との反応から生成するエチレンオキシド付加物、特に好ましくは、1)〜 5)に記載されたアルコキシル化可能な化合物を、1分子当たり5〜12 0個の、好ましくは5〜60個の、特に5〜30個のエチレンオキシド単 位と共に、含有しているエチレンオキシド付加物 から選ばれる分散剤、 c)少なくとも1種の溶媒 を含有する。c)溶媒 本発明の配合物で使用される溶媒c)は、好ましくは、水、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、n−プロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、又は第3級ブタノールのようなC1〜C4の脂肪族アルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン又はジアセトンアルコールのような
脂肪族ケトン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、トリメチロールプロパン
、平均分子量100から4000g/モル、好ましくは400から1500g/
モルのポリエチレングリコール、グリセロールのようなポリオール、モノヒドロ
キシエーテル好ましくはモノヒドロキシアルキルエーテルであり、特に、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、チオジグリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル又はトリエチレングリコールモノエチルエーテル、のようなC1〜C4のモノア
ルキルグリコールエーテル、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、N
−エチルピロリドン、N−ビニルピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリドン
、ジメチルアセトアミド、及びジメチルホルムアミドが好ましい。
Particularly preferred formulations are: a) at least one oxide having an average primary size of 1 to 100 nm, preferably 1 to 50 nm, i) ABX [where A is Sn, In Or Zn; B is Sb, Sn, F, P, Al or Cd; X is O, S, Se or Te, preferably O; and A forms a host lattice. And B is doped in its host lattice, ie a part of A is replaced by B, the replacement of A by B is less than 20 at%, preferably less than 10 at%, Particularly preferred are indium tin oxide (A = In, B = Sn, X = O) and antimony stannic oxide (A = Sb, B = Sn, X = O), ii) tungsten bronze and molybdenum bronze [Here, the composition is A respectively Z x WO 3 or Z x MoO 3, 0 <a x <1, element Z is the element of the first and / or second main group of the periodic table of the elements, and / Or iii) an oxide of the type tungsten oxide and molybdenum oxide, where the composition is WO 3-x or MoO 3-x , respectively, where x <0.1; b) at least one average molecular weight Dispersants having a Mw of more than 1000 g / mol, preferably more than 1000 g / mol and up to 500,000 g / mol, comprising the following group of anionic dispersants: sulfosuccinates, alkylbenzenesulfonates, sulfated Alkoxylated fatty acid alcohols or salts thereof, sulfuric acid ethers, carboxylic acid ethers, phosphate esters, sulfosuccinamides, paraffin sulfonates, olefin sulfonates, monkeys Sinates, isothionates, taurates, lignin compounds, condensation products of aromatic sulfonic acids with formaldehyde, such as condensation products of formaldehyde and alkylnaphthalenesulfonic acids, condensation of formaldehyde with naphthalenesulfonic acid and / or benzenesulfonic acid Product, or condensation product of substituted or unsubstituted phenol with formaldehyde and sodium bisulfite, reaction of naphthol with alkanol, addition of alkylene oxide, and sulfo group or maleic acid at least a part of terminal hydroxyl group , Condensation products obtainable by the conversion of phthalic acid or succinic acid to monoesters, and polymers or amino acid units, in particular from polyaspartic acid, or from the group of the following cationic dispersants: quaternary alkyl ammonium compounds and From midazoles or from the following groups of amphoteric dispersants: glycinate, propionate and imidazoline or from the following groups of nonionic dispersants: alkoxylates, alkylolamides, esters, amine oxides, for example 3-glycidyloxypropyl tris Silanols such as methoxysilanes, alkyl polyglycosides, and compounds that can be alkoxylated with alkylene oxides, for example, aliphatic alcohols, aliphatic amines, fatty acids, phenols, alkylphenols, arylalkylphenols such as styrene-phenol condensates, carboxamides And a resin acid, preferably ethylene oxide, and 1) a saturated and / or unsaturated aliphatic alcohol having 6 to 20 carbon atoms or 2) a carbon atom having 4 to 12 carbon atoms in an alkyl group. Archi Phenol or 3) a saturated and / or unsaturated aliphatic amine having 14 to 20 carbon atoms or 4) a saturated and / or unsaturated fatty acid having 14 to 20 carbon atoms or 5) hydrogenated and / or non-hydrogenated Ethylene oxide adducts formed from the reaction with resin acids, particularly preferably the alkoxylatable compounds described in 1) to 5), are reacted with 5 to 120, preferably 5 to 60, In particular, it contains 5 to 30 ethylene oxide units together with a dispersant selected from the ethylene oxide adducts contained therein, and c) at least one solvent. c) Solvent The solvent c) used in the formulations according to the invention is preferably a C 1 to C such as water, methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, n-butanol, isobutanol or tertiary butanol. aliphatic alcohol C 4, acetone, methyl ethyl ketone, aliphatic ketones such as methyl isobutyl ketone or diacetone alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, trimethylol propane, 4000 g average molecular weight 100 / Mol, preferably 400 to 1500 g /
Moles of polyethylene glycol, polyols such as glycerol, monohydroxy ethers, preferably monohydroxyalkyl ethers, especially ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monoethyl ether, thiodiglycol, triethylene glycol monomethyl ether or triethylene glycol monoethyl ether, monoalkyl glycol ethers of C 1 -C 4, such as, 2-pyrrolidone, N- methyl-2-pyrrolidone, N
-Ethylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidone, dimethylacetamide, and dimethylformamide are preferred.

【0039】 溶媒の混合物を使用することが好ましく、特に好ましいのは、ポリエチレング
リコール/2−ピロリドン/水、又はポリエチレングリコール/2−ピロリドン
/エタノールという混合物の使用である。
It is preferred to use a mixture of solvents, particularly preferred is the use of a mixture of polyethylene glycol / 2-pyrrolidone / water or polyethylene glycol / 2-pyrrolidone / ethanol.

【0040】 本発明の配合物に用いられる溶媒の量は、本発明の配合物中の酸化物の固形分
含量を基準として、好ましくは10〜99重量%、特に好ましくは30〜98重
量%である。
The amount of solvent used in the formulations according to the invention is preferably from 10 to 99% by weight, particularly preferably from 30 to 98% by weight, based on the solids content of the oxides in the formulations according to the invention. is there.

【0041】 本発明の配合物は、使用される化合物a)−c)に加えて、更に、カチオン、
アニオン、両性、及び/又は非イオン界面活性化合物、例えば”Surfact
ants Europa、A Directory of Surface A
ctive Agents avalable in Europe”(Edite
d by Gordon L.Hollis,Royal Society of C
hemistry),Cambridge(1995)に引用された化合物を含
有してもよい。
The formulations according to the invention furthermore comprise, in addition to the compounds a) to c) used,
Anionic, amphoteric, and / or nonionic surface active compounds, such as "Sulfact
Ants Europa, A Directory of Surface A
active Agents available in Europe "(Edite
d by Gordon L. Hollis, Royal Society of C
hemistry), Cambridge (1995).

【0042】 本発明の配合物で使用される分散剤b)が、イオン性基を含有する場合には、
その界面活性化合物は、好ましくは、非イオン性又は分散剤b)と同一のイオン
性の化合物であるべきである。
If the dispersant b) used in the formulations according to the invention contains ionic groups,
The surface-active compound should preferably be a non-ionic or ionic compound identical to the dispersant b).

【0043】 本発明の配合物は、使用される化合物a)−c)に加え、更に添加剤を含むこ
とができる。
The formulations according to the invention can furthermore comprise additives in addition to the compounds a) to c) used.

【0044】 好ましい添加剤は、芳香族ジカルボン酸とそれらのエステルである。Preferred additives are aromatic dicarboxylic acids and their esters.

【0045】 好ましい芳香族ジカルボン酸は、フタル酸、イソフタル酸、及びテレフタル酸
である。好ましいエステルは、構造式RCOO−C64−COOR’(式中、R
、R’は、独立にメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、フェニル又はベンジルである)を有するイソフタル酸
ジエステル、フタル酸ジエステル及びテレフタル酸ジエステルである。
Preferred aromatic dicarboxylic acids are phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid. Preferred esters are structural formula RCOO-C 6 H 4 -COOR ' ( wherein, R
, R ′ are independently methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, phenyl or benzyl), diesters of phthalic, diester of phthalic and diesters of terephthalic acid.

【0046】 フタル酸ジエチルが、特に好ましい。上述の添加剤の混合物もまた可能である
[0046] Diethyl phthalate is particularly preferred. Mixtures of the abovementioned additives are also possible.

【0047】 他の好ましい添加剤は、テルペン、テルペノイド、脂肪酸、及び脂肪酸エステ
ルの群からの化合物である。
Other preferred additives are compounds from the group of the terpenes, terpenoids, fatty acids and fatty acid esters.

【0048】 好ましい化合物は、オシメン、ミルセン、ゼラニオール、ネロール、リナロー
ル、シトロネロール、ゲラニアール、シトロネラル、ネラール、リモネン、メン
トール、例えば(−)−メントール、メントーネ又は二環式モノテルペン、例え
ばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸のような炭素数6〜2
2の飽和又は不飽和脂肪酸である。添加剤の混合物も可能である。
Preferred compounds are ocimene, myrcene, zeraniol, nerol, linalool, citronellol, geranial, citronellal, neral, limonene, menthol, such as (-)-menthol, mentone or bicyclic monoterpenes, such as stearic acid, olein 6 to 2 carbon atoms such as acid, linoleic acid and linolenic acid
2 saturated or unsaturated fatty acids. Mixtures of additives are also possible.

【0049】 本発明の配合物の製造は、湿式粉砕工程と希釈工程を含んで成る。The preparation of the formulation according to the invention comprises a wet milling step and a dilution step.

【0050】 湿式粉砕は、場合によっては、予備粉砕、粉砕用懸濁液の製造、及び粉砕を含
んで成る。
[0050] Wet milling optionally comprises premilling, making a milling suspension, and milling.

【0051】 粉砕用懸濁液を製造するために、酸化物a)を、場合によっては予備粉砕後、
通常、粉末又は湿潤プレスケーキ状で、分散剤の一部及び極性有機溶媒及び/又
は水、好ましくは脱イオン水と共に、打ち砕き(即ち、導入し均質化し)、均一
な粉砕用懸濁液を形成する。この工程において、使用した分散剤が、酸化物の表
面に吸着し、その結果、酸化物はその凝集が解け分散する。この粉砕用懸濁液の
製造は、例えば、攪拌バット、デゾルバー及び類似の器具を用いて行うことがで
きる。
In order to produce a milling suspension, the oxide a), optionally after premilling,
Usually in the form of a powder or wet presscake, with a portion of the dispersant and a polar organic solvent and / or water, preferably deionized water, crushed (ie, introduced and homogenized) to form a uniform grinding suspension. I do. In this step, the dispersant used is adsorbed on the surface of the oxide, and as a result, the oxide disaggregates and disperses. The production of this suspension for grinding can be carried out, for example, using a stirring vat, a dissolver and similar devices.

【0052】 粉砕用懸濁液は、場合によっては、次の微粉化の過程で蒸発によって除去でき
る低沸点溶媒(沸点<150℃)留分を更に含有してもよい。一方、懸濁液はま
た、高沸点溶媒留分、上述の界面活性化合物、又は追加の添加剤例えば粉砕助剤
、脱泡剤、又は湿潤剤をも含有することができる。
The suspension for milling may optionally also contain a low-boiling solvent (boiling point <150 ° C.) fraction which can be removed by evaporation in the course of the next micronization. On the other hand, the suspension can also contain high-boiling solvent fractions, the surface-active compounds mentioned above, or additional additives such as grinding aids, defoamers or wetting agents.

【0053】 粉砕用懸濁液中の酸化物a)の固形分含量は、最終配合物での所望の固形分含
量以上であることが好ましい。最終配合物での所望の固形分含量は、湿潤粉砕の
後に設定されるのが好ましい。
The solids content of the oxide a) in the milling suspension is preferably greater than or equal to the desired solids content in the final formulation. The desired solids content in the final formulation is preferably set after wet milling.

【0054】 粉砕によって、所望の粒子細分への標準化が達成される。粉砕は、例えば、ニ
ーダー、ロールミル、ニーデイングスクリュウ、ボールミル、ローター−ステー
ターミル、デゾルバー、鋼玉デイスクミル、又は振動ミル中で行う。粉砕は、連
続又は非連続仕込みの、0.1〜5mm径の粉砕メディア(media)を備えた高速
攪拌メディアミル中で行うのが好ましい。粉砕メディアは、ガラス、セラミック
、又は金属例えばスチール製であり得る。粉砕温度は、好ましくは0から250
℃の範囲であるのが好ましいが、通常室温であり、特に好ましくは、用いた分散
剤b)の曇点未満である。
By milling, standardization to the desired particle refinement is achieved. Grinding is performed, for example, in a kneader, a roll mill, a kneading screw, a ball mill, a rotor-stator mill, a dissolver, a steel ball disk mill, or a vibration mill. The pulverization is preferably carried out in a continuous or discontinuous charged high-speed stirring media mill equipped with a pulverization medium having a diameter of 0.1 to 5 mm. The grinding media can be made of glass, ceramic, or metal such as steel. The grinding temperature is preferably from 0 to 250
It is preferably in the range of ° C, but usually at room temperature, particularly preferably below the cloud point of the dispersant b) used.

【0055】 粉砕を、全体的に又は部分的に、高圧ホモジナイザー又はいわゆるジェットデ
ィスパーサー(jet disperser)(DE−A19536845から公知である)中
で行うのも同様に好ましい方法であり、これによって、懸濁液中での粉砕メデイ
ア摩耗のレベルを、あるいは粉砕メデイアからの可溶物質(例えば、ガラスメデ
ィアからのイオン)の放出を、最小限に減少させることが又は完全に避けること
が可能である。加うるに、泡の形成を抑制することができ、再凝集が避けられる
It is likewise preferred to carry out the milling in whole or in part in a high-pressure homogenizer or a so-called jet disperser (known from DE-A 195 36 845), whereby It is possible to minimize or completely avoid the level of grinding media abrasion in the suspension or the release of soluble substances (eg ions from the glass media) from the grinding media. In addition, the formation of bubbles can be suppressed and reagglomeration is avoided.

【0056】 希釈工程においては、粉砕直後の懸濁液を、通常の方法で、場合によっては残
りの分散剤そして場合によっては追加の添加剤と共に、溶媒、好ましくは水中に
混入し、そして、均一化し、また最終配合物に対する所望の固形分含量になるよ
うに調整する。この工程で、所望なら、例えば最終配合物中での微粒子の再凝集
を避けるために、追加の分散剤を添加することができる。
In the dilution step, the freshly milled suspension is mixed in a customary manner, optionally with the remaining dispersing agent and optionally further additives, into a solvent, preferably water, And adjusted to the desired solids content for the final formulation. In this step, if desired, additional dispersants can be added, for example to avoid reagglomeration of the microparticles in the final formulation.

【0057】 粉砕懸濁液を製造するための粉砕工程において安定化のために十分な分散剤が
使用可能になっている本発明の配合物の製造方法は、特に有利である。それに続
いて又は希釈工程の後、用いた酸化物a)上に吸着されていない分散剤及び/又
は過剰の界面活性化合物を溶液から除去し、そして次いで最終配合物における所
望の固形分濃度を設定する。
[0057] The process for the preparation of the formulations according to the invention, in which sufficient dispersing agent is available for stabilization in the milling process for preparing the milled suspension, is particularly advantageous. Subsequent or after the dilution step, the dispersant and / or excess surfactant not adsorbed on the oxide a) used is removed from the solution and then the desired solids concentration in the final formulation is set. I do.

【0058】 溶液中に存在する分散剤を除く方法は、例えば、粉砕懸濁液を遠心分離し、次
いでその上澄みをデカンテーションする方法である。膜を使用する方法又はミク
ロ濾過法も好適である。
A method for removing the dispersant present in the solution is, for example, a method of centrifuging a ground suspension and then decanting the supernatant. A method using a membrane or a microfiltration method is also suitable.

【0059】 本発明の配合物は、構造を持った、導電性で透明な表面体(例えば表示用の)
例えば導電路を、絶縁性で透明な基体上に形成するために使用されるのが好まし
い。本発明の配合物は、ナイフ−コーテイング又はキャステイングによってペー
スト状又は流動性組成物状で、又はインクジェット印刷法によって印刷インク状
で、基体に塗工することができる。
The formulations of the present invention are structured, conductive and transparent surfaces (eg for display).
For example, it is preferably used to form a conductive path on an insulating and transparent substrate. The formulations of the present invention can be applied to substrates in the form of pastes or flowable compositions by knife-coating or casting, or in the form of printing inks by inkjet printing.

【0060】 本発明の配合物は、インクジェット印刷法によって印刷インク状で基体に塗工
するのが好ましい。
The composition of the present invention is preferably applied to a substrate in the form of a printing ink by an inkjet printing method.

【0061】 更に、本発明は、本発明の配合物を含む印刷インクを提供する。The present invention further provides a printing ink comprising the formulation of the present invention.

【0062】 本発明の配合物及び本発明の印刷インクは、例えば、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、メチルセルロースなどのインクの粘度調整剤及びその他
の当業者に公知の添加剤を、これらが印刷インク安定性、印刷機能、及び乾燥機
能に悪影響を及ぼさない限り、含有していてもよい。
The formulation of the present invention and the printing ink of the present invention include, for example, polyvinyl alcohol,
Viscosity modifiers for inks such as polyvinylpyrrolidone and methylcellulose and other additives known to those skilled in the art may be included as long as they do not adversely affect the stability of the printing ink, the printing function, and the drying function.

【0063】 本発明の印刷インクには、更に、防腐剤、界面活性剤及びpH調整剤が含まれ
ていてもよい。
The printing ink of the present invention may further contain a preservative, a surfactant and a pH adjuster.

【0064】 好ましい防腐剤は、メチルイソチアゾリン−3−オン、クロロメチルイソチア
ゾリン−3−オン、ベンジソチアゾリン−3−オン又はこれらの混合物である。
Preferred preservatives are methylisothiazolin-3-one, chloromethylisothiazolin-3-one, benzisothiazolin-3-one or mixtures thereof.

【0065】 好ましいpH調整剤は、NaOH、アンモニア、アミノメチルプロパノール及
びN,N−ジメチルアミノエタノールである。
Preferred pH adjusters are NaOH, ammonia, aminomethylpropanol and N, N-dimethylaminoethanol.

【0066】 本発明の印刷インクは、本発明の配合物と同様にして製造することができ、そ
して本発明の印刷インクの所望の粘度、濃度、及び表面張力への標準化は、おそ
らく本発明による印刷インクの固形分の標準化の過程で行うことができる。
The printing inks of the present invention can be prepared in a similar manner to the formulations of the present invention, and the standardization of the printing inks of the present invention to the desired viscosity, concentration, and surface tension is likely to be in accordance with the present invention. This can be performed in the process of standardizing the solid content of the printing ink.

【0067】 インクの物理的特性は、好ましくは、通常のインクジェットプリンターで用い
るために標準化され、表面張力は、好ましくは20〜70mN/mで、粘度は、
20mPa・s未満であることが好ましく、より好ましくは0.5〜10mPa
・sである。
The physical properties of the ink are preferably standardized for use in conventional ink jet printers, the surface tension is preferably 20-70 mN / m and the viscosity is
It is preferably less than 20 mPa · s, more preferably 0.5 to 10 mPa
-It is s.

【0068】 本発明の印刷インクは、好ましくは、使用前に、例えば0.5〜5μmの膜又
はガラスフィルターを用いて濾過する。
The printing ink of the present invention is preferably filtered before use, for example using a 0.5 to 5 μm membrane or glass filter.

【0069】 本発明の印刷インクは、広い温度範囲で、優れた分散性及び貯蔵安定性を持っ
ている。インクジェットプリンターでこれらを使用した場合、プリントヘッドで
コゲーション(cogation)や詰まりが起こらない。異なった透明基体、例えばガラ
ス又は耐熱性プラスチック上へ印刷した場合、高い耐水性及び移行堅牢性を示す
The printing ink of the present invention has excellent dispersibility and storage stability over a wide temperature range. When these are used in inkjet printers, no kogation or clogging occurs in the printhead. When printed on different transparent substrates, such as glass or heat resistant plastics, they show high water resistance and migration fastness.

【0070】 本発明は、更に、(例えば、表示用途のための)導電性で構造を持った透明表
面体、例えばガラス又は高融点プラスチックのような絶縁性透明基体における導
電路の製造方法であって、本発明の印刷インクを、インクジェット印刷によって
構造を持った透明表面体の形状で塗工し、次いで、還元的雰囲気中で印刷された
基体を焼結することにより、これらの構造を持った透明表面体を、導電性で構造
を持った透明表面体に転化することによる製造方法を提供する。
The present invention is further directed to a method of making a conductive path in a conductive, structured transparent surface (eg, for display applications), for example, an insulating transparent substrate such as glass or a high melting point plastic. By applying the printing ink of the present invention in the form of a transparent surface body having a structure by inkjet printing, and then sintering the printed substrate in a reducing atmosphere, these structures were obtained. Provided is a manufacturing method by converting a transparent surface body into a conductive and structured transparent surface body.

【0071】 インクジェット法でのインクジェット印刷それ自体は、公知である。一般的に
、印刷インクは、インクジェットプリントヘッドの受け容器に満たされており、
基体上へ小滴状で散布される。小滴状のインクの放出は、好ましくは、圧電性結
晶、加熱カヌラ(バブル又は熱的ジェット法)又はインク滴を放出するためにイ
ンクシステムにかけられる機械的圧力上昇によって行われる。小滴は、1個以上
の小さいノズルにより目標に向けて基体上へ噴射される。
Ink-jet printing by the ink-jet method itself is known. Generally, the printing ink is filled in a receiving container of the inkjet print head,
Sprayed in droplets on the substrate. The ejection of the ink in the form of droplets is preferably effected by piezoelectric crystals, heated cannula (bubble or thermal jet method) or by a mechanical pressure increase applied to the ink system to eject the ink droplets. Droplets are ejected onto the substrate by one or more small nozzles toward a target.

【0072】 非常に少量のインクジェットを液滴状で基体上に到達させるために静電偏向が
用いられる方法も使用可能である。
A method in which electrostatic deflection is used to cause a very small amount of ink jet to reach the substrate in droplet form can also be used.

【0073】 電子制御により、個々の小滴は基体上に寄せ集められ、スクリプトキャラクタ
ー(script character)又は例えば構造を持った表面体のような図形体となる。
By electronic control, the individual droplets are gathered together on a substrate and become a script character or a figure, for example a structured surface.

【0074】 本発明の方法は、印刷インクを塗工した後、印刷された基体を、還元性雰囲気
(例えば、アルゴン−水素ガス混合物)中で、好ましくは活性ガス(=5%水素
、95%アルゴン)下で、150〜600℃の温度で焼結する焼結工程を有する
ことを特徴としている。
The method of the present invention comprises the steps of applying a printing ink and then applying the printed substrate in a reducing atmosphere (eg, an argon-hydrogen gas mixture), preferably with an active gas (= 5% hydrogen, 95% (Argon) under a temperature of 150 to 600 ° C.

【0075】 好ましくは、この工程に続いて、400〜600℃の温度で空気中で焼結して
、有機成分を残留しないように除去する。
Preferably, following this step, sintering is performed in air at a temperature of 400 to 600 ° C. to remove organic components without remaining.

【0076】 本発明の方法に従って製造された、導電性で構造を持ち、透明な表面体は、抵
抗率が0.014〜0.11ohm*cmである。実施例 実施例 1 ポリアスパラギン酸(モル質量3000g/モル)2.5gを脱イオン水24
7.5mlに溶解した。この溶液に固形インジウムスズ酸化物粉体(CVR法に
より、TEMによる測定で2〜30nmの一次粒体サイズで調製)50gを強く
攪拌しながら(マグネチックスタ−ラ−で)添加した。この懸濁液を超音波フィ
ンガ−(finger)(出力、200ワット)を使用して5分間予備分散を行った。
The conductive, structured, transparent surface body produced according to the method of the present invention has a resistivity of 0.014-0.11 ohm * cm. EXAMPLES Example 1 2.5 g of polyaspartic acid (molar mass 3000 g / mol) were added to deionized water 24
Dissolved in 7.5 ml. To this solution, 50 g of solid indium tin oxide powder (prepared by a CVR method with a primary particle size of 2 to 30 nm as measured by TEM) was added with strong stirring (with a magnetic stirrer). The suspension was predispersed for 5 minutes using an ultrasonic finger (power, 200 watts).

【0077】 続いて、これを5時間還流しながら加熱した(マントルヒ−タ−で)。冷却し
た懸濁液を、0.22μmの細孔サイズを有する、ガラスフリット(frit)製の丸
型フィルタ−(=MilliporeからのHAWP(登録商標))上で、吸引
しながらにろ過し、そして残分を水洗した。次に残分を70℃で12時間乾燥箱
中で乾燥した。
Subsequently, this was heated under reflux for 5 hours (with a mantle heater). The cooled suspension is filtered with suction on a round filter made of glass frit (= HAWP® from Millipore) with a pore size of 0.22 μm and The residue was washed with water. Next, the residue was dried in a drying box at 70 ° C. for 12 hours.

【0078】 乾燥し、変性したインジウムスズ酸化物粉体5gを採取して、PEG1000
(=ポリエチレングリコ−ル MW=1000g/モル)16%及び2−ピロリ
ドン8%を水の中に含んで成る溶剤混合物100mlに入れ、そしてpHを半濃
縮アンモニア溶液で6に調整した。次いでこれを超音波フィンガ−(finger)で5
分間処理した。
5 g of the dried and modified indium tin oxide powder was collected and
(= Polyethylene glycol - le M W = 1000 g / mol) was placed 16% and 2-pyrrolidone 8% in the solvent mixture 100ml comprising in water, and the pH adjusted to 6 with half-concentrated ammonia solution. This is then applied to an ultrasonic finger for 5 minutes.
Minutes.

【0079】 配合物の粉体特性を求めるために、その一部を前記の溶剤混合物で希釈した、
そしてインジウムスズ酸化物粒子の平均粒子径を動的光散乱法(散乱光分布)で
求めた。91nmの粒子径が測定された。質量分布を超遠心機で求めたところ次
の結果:
To determine the powder properties of the formulation, a portion was diluted with the solvent mixture described above,
Then, the average particle diameter of the indium tin oxide particles was determined by a dynamic light scattering method (scattered light distribution). A particle size of 91 nm was measured. The following results were obtained when the mass distribution was determined using an ultracentrifuge.

【0080】[0080]

【表1】 [Table 1]

【0081】 (表中、d10は全粒子の10%が17nm以下であることを、d50は全粒子の5
0%が43nm以下であることを、そしてd90は全粒子の90%が87nm以下
であることを示す)が得られた。ここで言う粒子とは、一次粒子だけでなく集合
体及び凝集体をも意味するものとする。実施例 2 ポリアスパラギン酸(モル質量3000g/モル)2.5gを脱イオン水24
7.5mlに溶解した。この溶液に固形インジウムスズ酸化物粉体(CVR法に
より、TEMによる測定で2〜30nmの一次粒体サイズに調製)50gを強く
攪拌しながら(マグネチックスタ−ラ−で)添加した。この懸濁液を5時間還流
しながら加熱した(マントルヒ−タ−で)。 冷却した懸濁液を、0.22μm
の細孔サイズを有する、ガラスフリット(frit)製の丸型フィルタ−(=Mill
iporeからのHAWP(登録商標))上で、吸引しながらにろ過し、そして
残分を水洗した。次に残分を70℃で12時間乾燥箱中で乾燥した。
(In the table, d 10 indicates that 10% of all particles are 17 nm or less, and d 50 indicates 5% of all particles.
0% is less than 43 nm, and d 90 indicates that 90% of all particles are less than 87 nm). The particles mentioned here mean not only primary particles but also aggregates and aggregates. Example 2 2.5 g of polyaspartic acid (molar mass 3000 g / mol) in deionized water 24
Dissolved in 7.5 ml. To this solution, 50 g of solid indium tin oxide powder (prepared to have a primary particle size of 2 to 30 nm as measured by TEM by CVR method) was added with strong stirring (with a magnetic stirrer). The suspension was heated at reflux (mantle heater) for 5 hours. Cool the suspension to 0.22 μm
Round filter made of glass frit having a pore size of (= Mill)
Filtration over HAWP® from ipore) with suction, and the residue was washed with water. Next, the residue was dried in a drying box at 70 ° C. for 12 hours.

【0082】 乾燥し、変性したインジウムスズ酸化物粉体5gを、PEG1000(=ポリ
エチレングリコ−ル MW=1000g/mol)10%、2−ピロリドン5%
及びフタル酸ジエチル35%をエタノ−ル中に含んで成る溶剤混合物100ml
に強く攪拌しながら(マグネチックスタ−ラ−で)入れた。ついでこれを超音波
フィンガ−で2分間処理した。
[0082] The dried, the denatured indium tin oxide powder 5 g, PEG 1000 (= polyethylene glycol - le M W = 1000g / mol) 10 %, 2- pyrrolidone 5%
And 100 ml of a solvent mixture comprising 35% of diethyl phthalate and ethanol in ethanol
(With a magnetic stirrer). This was then treated with an ultrasonic finger for 2 minutes.

【0083】 配合物の粉体特性を求めるために、その一部を前記の溶剤混合物で希釈した、
そしてインジウムスズ酸化物粒子の平均粒子径を動的(dynamic)光散乱法(散乱
光分布)で求めた。91nmの粒子径が測定された。質量分布を超遠心機で求め
たところ次の結果:
To determine the powder properties of the formulation, a portion was diluted with the solvent mixture described above,
Then, the average particle diameter of the indium tin oxide particles was determined by a dynamic light scattering method (scattered light distribution). A particle size of 91 nm was measured. The following results were obtained when the mass distribution was determined using an ultracentrifuge.

【0084】[0084]

【表2】 [Table 2]

【0085】 (表中、d10は全粒子の10%が34nm以下であることを、d50は全粒子の5
0%が79nm以下であることを、そしてd90は全粒子の90%が107nm以
下であることを示す)が得られた。ここで言う粒子とは一次粒子だけでなく集合
体及び凝集体をも意味するものとする。実施例 3 ポリアクリル酸(モル質量2500g/モル)2.5gを脱イオン水247.
5mlに溶解した。この溶液に固形インジウムスズ酸化物粉体(CVR法により
、TEMによる測定で2〜30nmの一次粒体サイズに調製)50gを強く攪拌
しながら(マグネチックスタ−ラ−で)添加した。この懸濁液を超音波プロ−ブ
(出力、220w)を使用して5分間予備分散を行った。続いて、これを5時間
還流しながら加熱した(マントルヒ−タ−で)。冷却した懸濁液を、0.22μ
mの細孔サイズを有する、ガラスフリット製の丸型フィルタ−(=Millip
oreからのHAWP(登録商標))上で、吸引しながらにろ過し、そして残分
を水洗した。次に残分を70℃で12時間乾燥箱中で乾燥した。
(In the table, d 10 indicates that 10% of all particles are 34 nm or less, and d 50 indicates 5% of all particles.
0% is less than 79 nm and d 90 indicates that 90% of all particles are less than 107 nm). The particles mentioned here mean not only primary particles but also aggregates and aggregates. Example 3 2.5 g of polyacrylic acid (molar mass 2500 g / mol) in 247.
Dissolved in 5 ml. To this solution, 50 g of solid indium tin oxide powder (prepared to have a primary particle size of 2 to 30 nm as measured by TEM by CVR method) was added with strong stirring (with a magnetic stirrer). This suspension was pre-dispersed for 5 minutes using an ultrasonic probe (power: 220 w). Subsequently, it was heated under reflux for 5 hours (with a mantle heater). Cool the suspension to 0.22μ
Round filter made of glass frit having a pore size of m (= Millip
Filtration over HAWP® from ore) with suction and washing the residue with water. Next, the residue was dried in a drying box at 70 ° C. for 12 hours.

【0086】 乾燥し、変性したインジウムスズ酸化物粉体5gをPEG1000(=ポリエ
チレングリコ−ル MW=1000g/モル)16%及び2−ピロリドン8%を
水の中に含んで成る溶剤混合物100mlに入れ、そしてpHを半濃縮アンモニ
ア溶液で6に調整した。次いでこれを超音波フィンガ−で5分間処理した。
[0086] The dried, the denatured indium tin oxide powder 5 g PEG 1000 - a (= polyethylene glycol le M W = 1000 g / mol) 16% and 2-pyrrolidone 8% solvent mixture comprising in water 100ml And the pH was adjusted to 6 with a semi-concentrated ammonia solution. This was then treated with an ultrasonic finger for 5 minutes.

【0087】 配合物の粉体特性を求めるために、その一部をを前記の溶剤混合物で希釈した
、そしてインジウムスズ酸化物粒子の平均粒子径を動的光散乱法(散乱光分布)
で求めた。91nmの粒子径が測定された。質量分布を超遠心機で求めたところ
次の結果:
To determine the powder properties of the formulation, a portion was diluted with the solvent mixture described above and the average particle size of the indium tin oxide particles was determined by dynamic light scattering (scattered light distribution).
I asked for it. A particle size of 91 nm was measured. The following results were obtained when the mass distribution was determined using an ultracentrifuge.

【0088】[0088]

【表3】 [Table 3]

【0089】 (表中、d10は全粒子の10%が23nm以下であること、d50は全粒子の50
%が60nm以下であること、そしてd90は全粒子の90%が92nm以下であ
ることを示す)が得られた。ここで言う粒子とは一次粒子だけでなく集合体及び
凝集体をも意味するものとする。実施例 4 ポリアクリル酸(モル質量2500g/モル)2.5gを脱イオン水247.
5mlに溶解した。此の溶液に固形インジウムスズ酸化物粉体(CVR法により
、TEMによる測定で2〜30nmの一次粒体サイズに調製)50gを強く攪拌
しながら(マグネチックスタ−ラ−で)添加した。この懸濁液を還流しながら5
時間加熱した(マントルヒ−タ−で)。冷却した懸濁液を、0.22μmの細孔
サイズを有する、ガラスフリット製の丸型フィルタ−(=Milliporeか
らのHAWP(登録商標))上で、吸引しながらにろ過し、そして残分を水洗し
た。次に残分を70℃で12時間乾燥箱中で乾燥した。
(In the table, d 10 indicates that 10% of all particles are 23 nm or less, and d 50 indicates 50 % of all particles.
% Is below 60 nm, and d 90 indicates that 90% of all particles are below 92 nm). The particles mentioned here mean not only primary particles but also aggregates and aggregates. Example 4 2.5 g of polyacrylic acid (molar mass 2500 g / mol) in 247.
Dissolved in 5 ml. To this solution, 50 g of solid indium tin oxide powder (prepared to have a primary particle size of 2 to 30 nm as measured by TEM according to the CVR method) was added with strong stirring (with a magnetic stirrer). The suspension is refluxed for 5 minutes.
Heated (with mantle heater) for hours. The cooled suspension is filtered with suction on a round filter made of glass frit with a pore size of 0.22 μm (= HAWP® from Millipore) and the residue is filtered off. Washed with water. Next, the residue was dried in a drying box at 70 ° C. for 12 hours.

【0090】 乾燥し、変性したインジウムスズ酸化物粉体5gをPEG1000(=ポリエ
チレングリコ−ル MW=1000g/mol)10%、2−ピロリドン5%及
びフタ−ル酸ジエチル35%をエタノ−ルの中に含んで成る溶剤混合物100m
lに強く攪拌しながら(マグネチックスタ−ラ−で)入れた。次いでこれを超音
波フィンガ−で2分間処理した。
5 g of the dried and modified indium tin oxide powder was mixed with 10% of PEG1000 (= polyethylene glycol MW = 1000 g / mol), 5% of 2-pyrrolidone and 35% of diethyl phthalate in ethanol. 100 m solvent mixture contained therein
1 with strong stirring (with a magnetic stirrer). This was then treated with an ultrasonic finger for 2 minutes.

【0091】 配合物の粉体特性を求めるために、その一部を前記の溶剤混合物で希釈した、
そしてインジウムスズ酸化物粒子の平均粒子径を動的光散乱法(散乱光分布)で
求めた。91nmの粒子径が測定された。質量分布を超遠心機で求めたところ次
の結果:
To determine the powder properties of the formulation, a portion was diluted with the solvent mixture described above,
Then, the average particle diameter of the indium tin oxide particles was determined by a dynamic light scattering method (scattered light distribution). A particle size of 91 nm was measured. The following results were obtained when the mass distribution was determined using an ultracentrifuge.

【0092】[0092]

【表4】 [Table 4]

【0093】 (表中、d10は全粒子の10%が34nm以下であること、d50は全粒子の50
%が67nm以下であること、そしてd90は全粒子の90%が110nm以下で
あることを示す)が得られた。ここで言う粒子とは一次粒子だけでなく集合体及
び凝集体をも意味するものとする。実施例 5 3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン2.5gをエタノ−ル49
7.5gに溶解した。この溶液に固形インジウムスズ酸化物粉体(CVR法によ
り、TEMによる測定で2〜30nmの一次粒体サイズに調製)50g及び3m
lの1モル塩酸を強く攪拌しながら(マグネチックスタ−ラ−で)添加した。こ
の懸濁液を5時間還流しながら加熱した(マントルヒ−タ−で)。冷却した懸濁
液を、0.22μmの細孔サイズを有する、ガラスフリット(frit)製の丸型フィ
ルタ−(=MilliporeからのHAWP(登録商標))上で、吸引しなが
らにろ過し、そして残分をエタノ−ルで洗浄した。次に残分を70℃で12時間
乾燥箱中で乾燥した。
(In the table, d 10 indicates that 10% of all particles are 34 nm or less, and d 50 indicates 50 % of all particles.
% Is below 67 nm, and d 90 indicates that 90% of all particles are below 110 nm). The particles mentioned here mean not only primary particles but also aggregates and aggregates. Example 5 2.5 g of 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane was added to ethanol 49.
Dissolved in 7.5 g. 50 g of solid indium tin oxide powder (prepared to have a primary particle size of 2 to 30 nm as measured by TEM by CVR method) and 3 m
One liter of 1 molar hydrochloric acid was added with vigorous stirring (with a magnetic stirrer). The suspension was heated at reflux (mantle heater) for 5 hours. The cooled suspension is filtered with suction on a round filter made of glass frit (= HAWP® from Millipore) with a pore size of 0.22 μm and The residue was washed with ethanol. Next, the residue was dried in a drying box at 70 ° C. for 12 hours.

【0094】 乾燥し、変性したインジウムスズ酸化物粉体5gをPEG1000(=ポリエ
チレングリコ−ル MW=1000g/mol)10%、2−ピロリドン5%及
びフタル酸ジメチル35%をエタノ−ル中に含んで成る溶剤混合物100mlに
強く攪拌しながら(マグネチックスタ−ラ−で)入れた。
[0094] drying, the modified indium tin oxide powder 5 g PEG 1000 (= polyethylene glycol - le M W = 1000g / mol) 10 %, 2- pyrrolidone 5% and 35% dimethyl phthalate ethanol - in Le The resulting solvent mixture (100 ml) was placed under vigorous stirring (with a magnetic stirrer).

【0095】 配合物の粉体特性を求めるために、その一部をを前記の溶剤混合物で希釈した
、そしてインジウムスズ酸化物粒子の平均粒子径を動的光散乱法(散乱光分布)
で求めた。91nmの粒子径が測定された。質量分布を超遠心機で求めたところ
次の結果:
To determine the powder properties of the formulation, a portion was diluted with the above solvent mixture and the average particle size of the indium tin oxide particles was determined by dynamic light scattering (scattered light distribution).
I asked for it. A particle size of 91 nm was measured. The following results were obtained when the mass distribution was determined using an ultracentrifuge.

【0096】[0096]

【表5】 [Table 5]

【0097】 (表中、d10は全粒子の10%が31nm以下であること、d50は全粒子の50
%が64nm以下であること、そしてd90は全粒子の90%が117nm以下で
あることを示す)を得た。ここで言う粒子とは一次粒子だけでなく集合体及び凝
集体をも意味するものとする。実施例 6 実施例1〜5で製造した配合物を印刷用インキとして使用した。これらをイン
クジェットプリンタ−で使用して、厚さ1〜2mmのガラス板に、構造を持った
表面体及び導電路を印刷した。
(In the table, d 10 is that 10% of all particles are 31 nm or less, and d 50 is 50 % of all particles.
% Is less than 64 nm and d 90 indicates that 90% of all particles are less than 117 nm). The particles mentioned here mean not only primary particles but also aggregates and aggregates. Example 6 The formulations prepared in Examples 1 to 5 were used as printing inks. These were used in an ink jet printer to print a structured surface and conductive paths on a glass plate having a thickness of 1 to 2 mm.

【0098】 この印刷したガラス板を400℃で活性ガス(5%水素、95%アルゴン)下
で6時間焼結し、そして次に炉内で空気中400℃で6時間焼結を行った。この
ようにして製造される、導電性の、構造を持った表面体は、透明でありそして抵
抗率は0.014〜0.11ohm*cmである。
The printed glass plate was sintered at 400 ° C. under an active gas (5% hydrogen, 95% argon) for 6 hours and then in a furnace at 400 ° C. in air for 6 hours. The conductive, structured surface produced in this way is transparent and has a resistivity of 0.014 to 0.11 ohm * cm.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 17/00 C09D 17/00 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD ,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL, PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,S L,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US ,UZ,VN,YU,ZA,ZW (71)出願人 D−51368 Leverkusen,Ge rmany Fターム(参考) 4F100 AA17B AA19B AA25B AA28B AA29B AA33B AG00 AT00A BA02 BA07 EJ48B 4J037 AA11 AA12 AA24 AA28 CB30 DD24 4J039 AB01 AB02 AB07 AD06 AD07 AD09 AD12 AD23 AE07 BA13 BA18 BA19 BA31 BA33 BA36 BE12 BE22 BE30 EA24 EA33 GA24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) C09D 17/00 C09D 17/00 (81) Designated country EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU) , TJ, TM), AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, D M, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS , LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW (71) Applicant D-51368 Leverkusen, Germany F term (reference) AA12 AA24 AA28 CB30 DD24 4J039 AB01 AB02 AB07 AD06 AD07 AD09 AD12 AD23 AE07 BA13 BA18 BA19 BA31 BA33 BA36 BE12 BE22 BE30 EA24 EA33 GA24

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 a)平均一次粒子サイズが1〜100nmである少なくとも1種の酸化物、 b)少なくとも1種の、平均分子量Mwが1000g/モルを超える分散剤、 c)少なくとも1種の溶媒 を含有する配合物。1. a) at least one oxide having an average primary particle size of 1 to 100 nm; b) at least one dispersant having an average molecular weight Mw of more than 1000 g / mol; c) at least one solvent A formulation containing 【請求項2】 a)平均一次粒子サイズが1〜100nmである少なくとも1種の酸化物であっ て、 i)ABX(ここに、 Aは、Sn、In又はZnであり、 Bは、Sb、Sn、F、P、Al又はCdであり、 Xは、O、S、Se又はTe、好ましくはOであり、そして Aがホスト格子を形成していてBはそのホスト格子中にドープされている 、即ちAの一部がBによって置き換えられており、BによるAの置換量は 、20原子%未満、好ましくは10原子%未満である)、及び/又は ii)タングステンブロンズ及びモリブデンブロンズ (ここに、 組成はそれぞれZxWO3又はZxMoO3であり、0<x<1であり、そし てZは、元素の周期表の第1及び/又は第2主族の元素である)、及び/ 又は iii)酸化タングステン及び酸化モリブデン(ここに、組成はそれぞれ WO3-x又はMoO3-xであり、x<0.1である) の型の酸化物、 b)少なくとも1種の、平均分子量Mwが1000g/モルを超える分散剤、 c)少なくとも1種の溶媒 を含有する、請求項1に記載の配合物。2. A) at least one oxide having an average primary particle size of 1 to 100 nm, i) ABX (where A is Sn, In or Zn, B is Sb, X is O, S, Se or Te, preferably O, and A forms a host lattice, and B is doped in the host lattice. Ie, part of A is replaced by B, and the amount of A replaced by B is less than 20 at%, preferably less than 10 at%), and / or ii) tungsten bronze and molybdenum bronze (wherein The composition is Z x WO 3 or Z x MoO 3 , respectively, where 0 <x <1, and Z is an element of the first and / or second main group of the periodic table of the elements), and / Or iii) tungsten oxide and Oxides of the type molybdenum oxide and molybdenum oxide, wherein the composition is WO 3-x or MoO 3-x , respectively, where x <0.1; b) at least one having an average molecular weight Mw of 1000 g / mol A formulation according to claim 1, comprising more than one dispersant; c) at least one solvent. 【請求項3】 酸化物が、インジウム錫酸化物(A=In、B=Sn、X=
O)又はアンチモン錫酸化物(A=Sb、B=Sn、X=O)である請求項1及
び2のいずれかに記載の配合物。
3. The method according to claim 1, wherein the oxide is indium tin oxide (A = In, B = Sn, X =
O) or antimony tin oxide (A = Sb, B = Sn, X = O).
【請求項4】 配合物を基準として0.05〜80重量%の少なくとも1種
の酸化物a)、及び使用される酸化物の量を基準として0.1〜200重量%の
少なくとも1種の分散剤b)、及び配合物を基準として10〜98重量%の少な
くとも1種の溶媒c)を含有することを特徴とする前請求項1〜3のいずれかに
記載の配合物。
4. The at least one oxide a), based on the formulation, from 0.05 to 80% by weight, and from 0.1 to 200% by weight, based on the amount of oxide used, of at least one oxide. 4. The formulation according to claim 1, wherein the formulation comprises a dispersant b) and from 10 to 98% by weight, based on the formulation, of at least one solvent c).
【請求項5】 酸化物a)が、、一次粒子、凝集体、集合体、及び/又はそ
の混合物として存在しており、凝集体及び集合体の平均粒子サイズが500nm
未満、好ましくは150nm未満であることを特徴とする前請求項1〜4のいず
れかに記載の配合物。
5. The oxide a) is present as primary particles, agglomerates, aggregates and / or mixtures thereof, the aggregates and aggregates having an average particle size of 500 nm.
Formulation according to any of the preceding claims, characterized in that it is less than 150 nm.
【請求項6】 分散剤b)が、高分子分散剤であることを特徴とする前請求
項1〜5のいずれかに記載の配合物。
6. A formulation according to claim 1, wherein the dispersant b) is a polymeric dispersant.
【請求項7】 カチオン、アニオン、両性及び/又は非イオン界面活性化合
物、特に芳香族ジカルボン酸又はそのジステルを、更に含有することを特徴とす
る前請求項1〜6のいずれかに記載の配合物。
7. The composition according to claim 1, further comprising a cationic, anionic, amphoteric and / or nonionic surface active compound, particularly an aromatic dicarboxylic acid or a dister thereof. object.
【請求項8】 前請求項1〜7のいずれかに記載の配合物の製造方法であっ
て、粉砕用懸濁液を製造する工程、粉砕工程、及び希釈工程を含んで成り、粉砕
用懸濁液を製造する前に予備粉砕を行う、又は行わない方法。
8. A method for producing a blend according to any one of claims 1 to 7, comprising a step of producing a suspension for grinding, a grinding step, and a dilution step. A method in which pre-milling is performed or not performed before producing a suspension.
【請求項9】 印刷インクを製造するための、請求項1〜7のいずれかに記
載の配合物の使用。
9. Use of a formulation according to claim 1 for producing printing inks.
【請求項10】 請求項1〜6のいずれかに記載の配合物を含有する印刷イ
ンク。
10. A printing ink containing the composition according to claim 1.
【請求項11】 pH調節剤及び/又は界面活性剤及び/又は保存剤を含有
することを特徴とする請求項9に記載の印刷インク。
11. The printing ink according to claim 9, comprising a pH adjuster and / or a surfactant and / or a preservative.
【請求項12】 基体上の、導電性で構造を持った表面体の製造方法であっ
て、請求項9及び10のいずれかに記載の印刷インクを、インクジェット印刷に
よって構造を持った表面体の形に塗工し、次いで、印刷された基体を還元性雰囲
気中で150〜600℃の温度で焼結して、この構造を持った表面体を導電性で
構造を持った表面体に転化することを特徴とする方法。
12. A method for producing a conductive, structured surface on a substrate, comprising applying the printing ink according to claim 9 to the structured surface by inkjet printing. Coated into a shape, then sintering the printed substrate at a temperature of 150-600 ° C. in a reducing atmosphere to convert the structured surface into a conductive structured surface. A method comprising:
【請求項13】 請求項9及び10のいずれかに記載の印刷インクで印刷さ
れた基体。
13. A substrate printed with the printing ink according to claim 9. Description:
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