JP2002522225A - Continuous cast molding system and method associated therewith - Google Patents

Continuous cast molding system and method associated therewith

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JP2002522225A
JP2002522225A JP2000563420A JP2000563420A JP2002522225A JP 2002522225 A JP2002522225 A JP 2002522225A JP 2000563420 A JP2000563420 A JP 2000563420A JP 2000563420 A JP2000563420 A JP 2000563420A JP 2002522225 A JP2002522225 A JP 2002522225A
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JP
Japan
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mold
wall assembly
continuous casting
diamond
casting
Prior art date
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Application number
JP2000563420A
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Japanese (ja)
Inventor
シアーズ・ジェイムス・ビー
ノーブル・ジョン・エル
Original Assignee
エイジー・インダストリーズ・インコーポレーテッド
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Publication date
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    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22DCASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D11/00Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
    • B22D11/16Controlling or regulating processes or operations
    • B22D11/20Controlling or regulating processes or operations for removing cast stock
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22DCASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D11/00Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
    • B22D11/04Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths into open-ended moulds
    • B22D11/059Mould materials or platings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
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    • B22D11/00Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
    • B22D11/16Controlling or regulating processes or operations
    • B22D11/18Controlling or regulating processes or operations for pouring

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  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
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Abstract

An improved mold and process for continuous casting involves the use of a mold surface that is fabricated from a material, such as diamond, that is nonmetallic, an efficient conductor of heat and that is more degradation-resistant than the conventional materials and coatings that are used on mold surfaces. In one embodiment, the nonmetallic material is bonded to a conventional mold liner. In a second embodiment, the entire mold wall can be fabricated from the nonmetallic material. In another aspect of the invention, since materials such as diamond are transparent in the infrared range, the temperature of the outer shell of the casting can be monitored through the nonmetallic material without interfering with the casting process, and this information can be used to control one or more variables in the casting process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

本発明は、連続鋳造工程を使った金属の形成および加工の技術分野に関し、よ
り正確には、この発明は連続鋳造機械用に改良された鋳型表面、およびその機械
の操作中における鋳型表面での鋳造温度の正確な監視による鋳造工程の制御に関
する。
The present invention relates to the technical field of metal formation and processing using a continuous casting process, and more precisely, the present invention relates to an improved mold surface for a continuous casting machine, and to the molding surface during operation of the machine. The present invention relates to controlling a casting process by accurately monitoring a casting temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術及び関連する技術】[Prior Art and Related Art]

連続鋳造技術を使った金属の生産は約30年前の大規模な導入以降増加しており
、今日では毎年世界的に生産されている鉄鋼などで大きな割合を占めている。周
知のように、この連続鋳造機械は、一般的に、略平行に対向する幅広の2つの壁
と略平行に対向する幅狭の2つの壁を有する鋳型を含んでおり、これら2対の壁に
より四辺形の鋳造通路が定義される。溶融金属は鋳造通路の上端へ連続的に供給
され、鋳型は金属を冷却し鋼片(スラブ)またはストランドが鋳造通路の底部か
ら出る前に外板が形成されるよう設計されている。溶融鉄鋼から効率的に熱を散
逸させるため、鋳造過程に迅速に熱交換が行われるよう、鋳型の鋳造表面は典型
的に銅で裏打ちされているか、または銅合金の表面層を有し、水流を通すための
多数の通路を含んでいる。一部の場合には、鋳型は鋳型ライナー材の比較的温度
が低い側に直接水を吹き付けることにより冷却される。ストランドは鋳型から遠
ざかりながら完全に固化するまで水散布によりさらに冷却される。これは次に圧
延などの伝統的技術により鉄鋼のプレート、シーティング、コイルなどの中間的
または最終的な金属製品へと加工される場合がある。
Metal production using continuous casting technology has increased since its large-scale introduction about 30 years ago, and today it accounts for a large proportion of steel and other products that are produced worldwide every year. As is well known, this continuous casting machine generally includes a mold having two generally parallel opposed wide walls and two substantially parallel opposed narrow walls, and the two pairs of wall Defines a quadrilateral casting path. Molten metal is continuously fed to the top of the casting passage and the mold is designed to cool the metal and form a skin before the billets (slabs) or strands exit the bottom of the casting passage. The casting surface of the mold is typically lined with copper or has a copper alloy surface layer so that heat can be exchanged quickly during the casting process to efficiently dissipate heat from the molten steel. It contains multiple passages for passing through. In some cases, the mold is cooled by spraying water directly onto the relatively cool side of the mold liner material. The strands are further cooled by water sprinkling until completely solidified away from the mold. It may then be processed by conventional techniques, such as rolling, into intermediate or final metal products, such as steel plates, sheets, coils, and the like.

【0003】 鋳型の「ホットフェース(熱い面)」とも呼ばれる鋳型の鋳造表面は、高温の
溶融鉄鋼と腐食性のある型流れに長時間さらされる。銅は非常に効率的な熱伝導
体であるが、比較的軟かいため摩耗その他の劣化が速い。通常の鋳造条件では、
鋳型の熱い面は摩耗、亀裂、および蒸気、化学的侵食などのため比較的速く劣化
する。この効果は高温で行われがちな高速鋳造の場合より悪化し、銅材料はさら
に軟化を始める。この発明の譲受社であるA. G. Industries, Inc.は連続鋳造機
械用の保守および修理サービス供給者としては北米最大手であり、鋳造中、鋳型
面に起こる劣化と摩耗に非常に詳細な情報を有している。
[0003] The casting surface of the mold, also referred to as the "hot face" of the mold, is subject to prolonged exposure to hot molten steel and corrosive mold flows. Although copper is a very efficient heat conductor, it is relatively soft and rapidly wears and degrades. Under normal casting conditions,
The hot surface of the mold degrades relatively quickly due to wear, cracks, and steam, chemical attack, and the like. This effect is worse than in the case of high speed casting, which tends to occur at high temperatures, and the copper material begins to soften further. AG Industries, Inc., the assignee of the present invention, is the largest provider of maintenance and repair services for continuous casting machines in North America and has very detailed information on the deterioration and wear on the mold surfaces during casting. are doing.

【0004】 鋳型面の寿命を最大限延ばすには、ニッケルやクロミウムなどの耐摩擦性およ
び耐侵食性のある材料で銅の鋳型表面をプレコーティングするのが典型的である
。鋳型壁面を保護するための技術は他にも提案および汎用化(またはそのいずれ
か)されている。例えば、米国特許第5,499,672号は金属炭化物の保護材料を鋳
型表面に蒸着させて行なう銅の鋳型表面保護工程を開示している。また別の保護
コーティング技術では溶射工程によりNi-Cr合金を銅の鋳型面に蒸着させている
。この工程は新日本製鉄および三島興産による1989年5月付の出版物「Ni-Cr All
oy thermal spraying of the Narrow Face of Continuous Casting Mold」に開
示されている。今日までに開発されてきたコーティング材は鋳型摩耗の率と強度
をある程度軽減してきたが、連続鋳造業界では鋳型面を定期的に除去、交換する
か、修復しなければならないことは周知の事実である。これを行なうために鋳型
を取り外すことは、製鋼業者にとって1時間15,000ドルにも及ぶ損失を意味する
To maximize the life of the mold surface, it is typical to precoat the copper mold surface with a friction and erosion resistant material such as nickel or chromium. Other techniques for protecting the mold wall have been proposed and / or generalized. For example, US Pat. No. 5,499,672 discloses a copper mold surface protection process performed by depositing a metal carbide protective material on the mold surface. Another protective coating technique uses a thermal spray process to deposit a Ni-Cr alloy on the copper mold surface. This process is based on the publication “Ni-Cr All” published in May 1989 by Nippon Steel and Mishima Kosan.
oy thermal spraying of the Narrow Face of Continuous Casting Mold. Although coating materials developed to date have reduced the rate and strength of mold wear to some extent, it is well known that the continuous casting industry must periodically remove, replace, or repair mold surfaces. is there. Removing the mold to do this could cost steelmakers $ 15,000 an hour.

【0005】 ストランドまたは鋼片は、鋳型内での初期形成時、非常に薄い外板を有する。
この外板の破損は何としてもでも回避しなければならない。その理由は、これが
ブレークアウトとして知られる状態、つまり鋳型面下で溶融金属が外皮から噴出
する状態を招くからである。深刻なブレークアウトは溶融金属の通路にある機械
部分に及び、それらの部品を使用不能にし、交換、修復を余儀なくする。ブレー
クアウトが起こるかどうかを決定する要素の1つは、鋳造金属が鋳型内を移動す
る際の外皮の厚さである。理論的には外皮の厚さは鋼片の赤外線ふく射を監視す
ることによりそのままの状態で鋳造中測定できるはずだが、実際には鋼片全体が
鋳型に囲まれており測定を不可能にしているため、実現不可能である。一部には
、鋳型のライナー内の選ばれた位置で温度をサンプリング抽出することにより鋳
造厚さをモデル化するシステムが存在するが、これらのシステムはセンサーと鋳
造表面間の銅材料の厚さが一定でないため、非常に不正確である。
[0005] Strands or billets have a very thin skin when initially formed in a mold.
This damage to the skin must be avoided at all costs. The reason for this is that this leads to a condition known as breakout, i.e. a condition in which the molten metal blows out of the shell below the mold surface. Serious breakouts extend to machine parts in the path of the molten metal, rendering those parts unusable and forcing replacement and repair. One of the factors that determines whether a breakout occurs is the thickness of the skin as the cast metal moves through the mold. Theoretically, the skin thickness could be measured during casting by monitoring the slab's infrared radiation, but in practice the entire slab is surrounded by the mold, making measurement impossible. Therefore, it is not feasible. Some systems model casting thickness by sampling temperature at selected locations within the mold liner, but these systems rely on the thickness of the copper material between the sensor and the casting surface. Is very inaccurate because it is not constant.

【0006】 連続鋳造業界では、鋳造中、従来の鋳型面より摩耗と劣化に対しより耐性のあ
る鋳型面が求められている。また、ブレークアウトその他の不要な状態を回避す
るため、鋳型内を移動する鋳造金属をより正確に監視できる連続鋳造鋳型も求め
られている。
[0006] The continuous casting industry requires a mold surface that is more resistant to wear and degradation during casting than conventional mold surfaces. There is also a need for a continuous casting mold that can more accurately monitor cast metal moving within the mold to avoid breakouts and other unwanted conditions.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題及び手段】Problems and Means to be Solved by the Invention

従って、この発明の目的は、従来の鋳型面と比較して鋳造中における耐摩耗性
と耐劣化性に優れた鋳型面の構成を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a configuration of a mold surface which is superior in wear resistance and deterioration resistance during casting as compared with a conventional mold surface.

【0008】 また、この発明の更なる目的は、ブレークアウトその他の不要な状態を回避す
るため、鋳型内を移動する鋳造金属をより正確に監視できる連続鋳造鋳型を提供
することにある。
It is a further object of the present invention to provide a continuous casting mold that can more accurately monitor the casting metal moving in the mold to avoid breakouts and other unnecessary conditions.

【0009】 このような目的及び他の目的を達成するため、この発明によれば、連続鋳造機
械において使用される鋳造型の壁部アセンブリであって、動作中の熱を鋳型ライ
ナーから取り除くように構成され配置された内側部分と、前記鋳型の鋳造表面を
構成する外表面とを有し、この外表面は、高熱伝導性を有する耐劣化性の非金属
材料を有し、これによって、前記鋳型ライナーが良好な耐劣化性及び熱伝導性能
を連続鋳造装置の動作中に奏するように構成されていることを特徴とする鋳造型
壁部アセンブリが提供される。
To achieve these and other objects, according to the present invention, there is provided a casting mold wall assembly for use in a continuous casting machine, such that heat during operation is removed from the mold liner. A structured and disposed inner portion, and an outer surface that constitutes a casting surface of the mold, the outer surface comprising a degradable, non-metallic material having high thermal conductivity, whereby the mold A casting mold wall assembly is provided wherein the liner is configured to exhibit good resistance to degradation and heat transfer during operation of the continuous casting apparatus.

【0010】 この発明の異なる観点によれば、連続鋳造材料のストランドを生成する方法で
あって:(a)少なくとも1つの鋳型表面が高熱伝導性を有する耐劣化性非金属
材料からなる外コーティングを有する複数の鋳型表面を有する鋳型に対して、溶
融金属を導入する工程と、(b)前記外コーティングを通してこの溶融金属から
熱を除去することによってこの溶融金属を冷却する工程と、(c)前記ストラン
ドを前記鋳型から動かす工程とを有することを特徴とする方法が提供される。
According to a different aspect of the invention, there is provided a method of producing a strand of a continuous cast material, comprising: (a) providing an outer coating of at least one mold surface comprising a degradable non-metallic material having high thermal conductivity. Introducing a molten metal to a mold having a plurality of mold surfaces having: (b) cooling the molten metal by removing heat from the molten metal through the outer coating; Moving the strands from the mold.

【0011】 この発明の第3の観点によれば、連続鋳造装置に使用される鋳型アセンブリで
あって、それぞれ少なくとも1つの鋳型表面を有し、上端開口と下端開口を有す
る鋳造空間を区画する複数の鋳型壁を有し、少なくとも1つの前記鋳型壁は、高
熱伝導性を有する耐劣化性の非金属材料で形成され、これによって、前記良好な
耐劣化性及び熱伝導性能を連続鋳造装置の動作中に奏するように構成されている
ことを特徴とする鋳型アセンブリが提供される。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a mold assembly for use in a continuous casting apparatus, the mold assembly having at least one mold surface and defining a casting space having an upper end opening and a lower end opening. Wherein at least one of said mold walls is formed of a non-metallic material having high thermal conductivity and high resistance to deterioration, thereby providing said good resistance to deterioration and heat transfer performance to the operation of a continuous casting apparatus. A mold assembly is provided that is configured to play therein.

【0012】 この発明の第4の観点によれば、連続鋳造材料のストランドを製造する方法で
あって、複数の鋳型表面を有する鋳型に対して、溶融金属を導入する工程と、前
記鋳型表面を通した熱伝導によって前記溶融金属から熱を除去することによって
この溶融金属を冷却する工程と、前記少なくとも1つの鋳型表面を通して起こる
ふく射熱によって前記鋳型内に位置する溶融金属をさらに冷却する工程とを有す
ることを特徴とする方法が提供される。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for producing a strand of a continuous casting material, comprising: introducing a molten metal into a mold having a plurality of mold surfaces; Cooling the molten metal by removing heat from the molten metal by conducting heat therethrough; and further cooling the molten metal located within the mold by radiant heat generated through the at least one mold surface. A method is provided.

【0013】 この発明の第5の観点によれば、連続鋳造装置で使用するための鋳型アセンブ
リであって、鋳型の鋳造表面を構成する表面を有し、この表面は、赤外線領域に
おいて少なくとも部分的にふく射を透過させるものであり、それにより前記鋳型
は前記鋳型内に位置する溶融金属を前記表面を通して起こるふく射熱伝導の手段
によって冷却するものであることを特徴とする鋳型アセンブリが提供される。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a mold assembly for use in a continuous casting apparatus, comprising a surface constituting a casting surface of the mold, the surface being at least partially in the infrared region. A mold assembly, characterized in that the mold cools the molten metal located in the mold by means of radiant heat conduction occurring through the surface.

【0014】 発明を特徴付ける上記及び他の特徴及び新規性を有する特徴は、この記載の一
部に含まれる特許請求の範囲において指摘される。しかしながら、この発明、そ
の効果及び目的を理解するには、以下の好ましい実施形態において説明される記
述及び図面の参照が必要である。
[0014] These and other features and novel features that characterize the invention are pointed out in the claims hereof which are a part of this description. However, in order to understand the present invention, its effects and objects, it is necessary to refer to the description and drawings described in the following preferred embodiments.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。参照番号は全図にわたり
それぞれ対応する構造に割り当てられている。特に図1では、連続鋳造機械10用
に改良された型壁アセンブリ12に、向き合った細長い壁14と16、および向き合っ
た幅の広い壁18と20を含む複数個の鋳型壁が含まれている。鋳型壁14、16、18、
20はそれぞれ鋳型表面を最低1つ有し、これらの面により上部と下部に開口部を
有する鋳造空間26が定義されている。この型壁アセンブリ12は従来どおりに設計
されており、溶融金属が連続的に鋳造空間26の上端から供給され、鋳造通路の下
部から鋼片またはストランドが出る前に外板が形成されるよう、金属が冷却され
る。従来どおり、冷却剤を供給するパイプ22および24は、細長い鋳型壁14および
16と幅広い鋳型壁18および20にそれぞれ冷却水を供給するためのものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Reference numbers are assigned to the corresponding structures throughout the figures. In particular, in FIG. 1, an improved mold wall assembly 12 for a continuous casting machine 10 includes a plurality of mold walls, including opposed elongated walls 14 and 16, and opposed wide walls 18 and 20. . Mold walls 14, 16, 18,
20 each have at least one mold surface, and these surfaces define a casting space 26 having openings at the top and bottom. The mold wall assembly 12 is conventionally designed so that the molten metal is continuously fed from the upper end of the casting space 26 and the skin is formed before the billet or strand exits from the lower part of the casting passage. The metal is cooled. As before, the pipes 22 and 24 for supplying the coolant are connected to the elongated mold walls 14 and
16 for supplying cooling water to the wide mold walls 18 and 20, respectively.

【0016】 ここで図2を参照する。図2は図1の幅広い鋳型壁の1つを垂直方向に見た断面図
であり、鋳型面28を有するライナーアセンブリ27、およびライナーアセンブリ27
を固定する支持アセンブリ32が鋳型壁20に含まれる様子を示している。図2で見
られるように、ライナーアセンブリ27は銅製のライナー30に埋め込まれた内側の
部分29、および鋳型面28を形成する耐劣化性の非金属材料でできた外層44を含み
、以降で詳細に説明されている。支持アセンブリ32は、冷却剤供給パイプ24、冷
却剤返還パイプ42、吸い込み空間36、および吐き出し空間38を含んでいる。吸い
込み空間36および吐き出し空間38は、どちらもライナーアセンブリ27に含まれる
銅製のライナー30で定義された冷却導水路34とつながっている。操作の際は、従
来どおり典型的に水である冷却剤は冷却剤供給パイプ24を通じて吸い込み空間36
へ流れ込み、そこから冷却銅水路34を通じて上方向に移動し、吐き出し空間38へ
流れ出す。次に、冷却剤は返還パイプ42を通じて循環ポンプへ戻される。
Reference is now made to FIG. FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of one of the wide mold walls of FIG. 1, showing a liner assembly 27 having a mold surface 28, and a liner assembly 27.
A support assembly 32 for fixing the is shown in the mold wall 20. As seen in FIG. 2, the liner assembly 27 includes an inner portion 29 embedded in a copper liner 30 and an outer layer 44 of a non-degradable non-metallic material forming a mold surface 28, which will be described in more detail below. Is described in The support assembly 32 includes a coolant supply pipe 24, a coolant return pipe 42, a suction space 36, and a discharge space 38. Both the suction space 36 and the discharge space 38 are connected to a cooling channel 34 defined by a copper liner 30 included in the liner assembly 27. In operation, a coolant, typically water, as before, is drawn through the coolant supply pipe 24 into the suction space 36.
, From which it moves upward through the cooling copper channel 34 and flows out to the discharge space 38. Next, the coolant is returned to the circulation pump through the return pipe 42.

【0017】 耐劣化性の非金属材料からなる層44は、効率的な熱伝導体で硬度が高く、耐劣
化性があり、鋳造工程によりもたらされる高温と連続鋳造機械が典型的に動作す
る酸性の環境に耐えられ、以降で詳しく説明する理由から赤外線領域で透過な材
料でできていることが好ましい。これらの条件を満たす既知の材料には、ダイヤ
モンドと結晶性窒化ホウ素の2つがある。
The layer 44 of non-metallic material, which is resistant to degradation, is an efficient heat conductor, high hardness, resistant to degradation, the high temperatures resulting from the casting process and the acidic conditions under which continuous casting machines typically operate. It is preferable to be made of a material that can withstand the above environment and is transparent in the infrared region for the reason described in detail below. There are two known materials that meet these requirements: diamond and crystalline boron nitride.

【0018】 炭素の同素体であるダイヤモンドは、通常の圧力下で準安定性を有し、通常の
温度および圧力下でより安定な同素体である黒炭への返還を妨げる大きな活性化
エネルギー障壁を有する。ダイヤモンドは宝石としての美しさと価値だけでなく
、そのユニークで貴重な機械的、電気的、光学的、および熱的な多数の特性によ
っても高く評価されてきた。ダイヤモンドは自然に存在する材料の中で最も固く
、低い摩擦係数と化学侵食に対する極度の耐性を有し、光学的には電磁気スペク
トルの大部分に対し透過性が高く、特に赤外線ふく射に対しては高度な透過性を
有し、全物質中で最も高い熱伝導性を有している。結晶性窒化ホウ素(CBN)は
多くの点でダイヤモンドと同等な特性を有している。
Diamond, an allotrope of carbon, is metastable at normal pressures and has a large activation energy barrier that prevents its return to black coal, a more stable allotrope at normal temperatures and pressures. Diamonds have been valued not only for their beauty and value as gems, but also for their numerous unique and valuable mechanical, electrical, optical and thermal properties. Diamond is the hardest of naturally occurring materials, has a low coefficient of friction and extreme resistance to chemical erosion, is optically transparent to most of the electromagnetic spectrum, and is particularly resistant to infrared radiation. It has high permeability and the highest thermal conductivity of all materials. Crystalline boron nitride (CBN) has properties similar to diamond in many respects.

【0019】 この発明の特長の1つは図3に図示されている。図2および3から見られるように
、通路46はライナーアセンブリ27に含まれる銅のライナープレート30により形成
されている。光ファイバー48は通路46中に位置しており、鋳造表面すなわち層44
の鋳型面28に対面する側で、耐劣化性の非金属材料からなり透過性を有する層34
と光学的に連結している。次に、センサー50が光ファイバー48の第2端、すなわ
ち他方の端に連結している。センサー50の目的は、光ファイバー48を通過する光
のスペクトル特性を調べることにより、連続鋳造工程の特性を監視することにあ
る。その好ましい実施形態では、センサー50は伝送される光の赤外線特性、およ
び鋳造ストランドが鋳型内で鋳造面上を下部へ移動する際のストランド外部温度
を監視するために作成、および配置されている。この温度を監視することにより
、多くの点で有用な指標となる鋳造金属の外板厚さを決定することができる。こ
の指標には、ストランドが鋳型の底部を出た後ブレークアウトする確率、鋳造機
械からの最適なストランド回収速度、鋳型壁内における冷却剤の最適な循環率、
および外殻成長の均一性などが含まれる。ここで図4を参照すると、センサー50
などの数が鋳型アセンブリ中に記載されていること、型壁アセンブリ12用のロー
カル制御システムとして機能するCPU 52にこれらの各センサーが情報を提供する
こと、CPU 52が連続鋳造機械10の中央制御システム54と双方向に通信すること、
およびこれがさらに他のサブシステムと通信して連続鋳造工程の各種パフォーマ
ンス変数を修正することが示されている。図4は、このような4つのサブシステム
56、58、60、62を図示しているが、この数はセンサー50により実行される光学的
監視値に応答して制御することが望ましいパフォーマンス変数の数におおよそ依
存する。例えば、あるサブシステムでは連続鋳造機械の回収速度を調整し、別の
サブシステムでは鋳型のテーパを調整することが可能である。また第3、第4のサ
ブシステムでは、1つまたは複数の鋳型における冷却剤の流量を調整して冷却剤
の鋳型冷却率を調整し、また型流れの配合を変更して鋳型の熱伝導率特性を変更
することができる。
One of the features of the present invention is illustrated in FIG. As can be seen from FIGS. 2 and 3, the passage 46 is formed by the copper liner plate 30 included in the liner assembly 27. An optical fiber 48 is located in the passage 46 and has a casting surface or layer 44.
On the side facing the mold surface 28, a layer 34 made of a non-metallic material having deterioration resistance and having permeability is provided.
Optically connected to Next, a sensor 50 is connected to the second end of the optical fiber 48, the other end. The purpose of sensor 50 is to monitor the characteristics of the continuous casting process by examining the spectral characteristics of the light passing through optical fiber 48. In the preferred embodiment, the sensor 50 is created and arranged to monitor the infrared properties of the transmitted light and the external temperature of the casting strand as it travels down the casting surface within the mold. By monitoring this temperature, the skin thickness of the cast metal, which is a useful indicator in many respects, can be determined. The indicators include the probability that the strand will break out after exiting the bottom of the mold, the optimal strand recovery rate from the casting machine, the optimal coolant circulation rate within the mold wall,
And uniformity of shell growth. Referring now to FIG.
That each of these sensors provide information to the CPU 52 acting as a local control system for the mold wall assembly 12, the central control of the continuous casting machine 10 Communicating bi-directionally with the system 54;
And this has been shown to communicate with other subsystems to modify various performance variables of the continuous casting process. Figure 4 shows four such subsystems
Although 56, 58, 60, 62 are illustrated, this number depends approximately on the number of performance variables that it is desired to control in response to the optical monitoring values performed by sensor 50. For example, one subsystem may adjust the recovery speed of the continuous casting machine, while another subsystem may adjust the taper of the mold. In the third and fourth subsystems, the flow rate of the coolant in one or more molds is adjusted to adjust the cooling rate of the mold of the coolant, and the composition of the mold flow is changed to change the heat conductivity of the mold. Properties can be changed.

【0020】 センサー50で取得されたデータを解析するには、汎用の熱画像処理システムを
使用できる。このような画像処理システムの1つはMikron Instruments(米国ニ
ュージャージー州オークランド市)から「Imaging Pyrometer」(画像式高温計
)として販売されている。このシステムは米国特許第4,687,344号に一部開示さ
れており、その開示はここで完全に記述されているものとして包含される。
In order to analyze the data acquired by the sensor 50, a general-purpose thermal image processing system can be used. One such image processing system is sold by Mikron Instruments (Auckland, NJ, USA) as an "Imaging Pyrometer". This system is partially disclosed in U.S. Pat. No. 4,687,344, the disclosure of which is incorporated herein as if fully set forth.

【0021】 ここで図5を参照する。この発明の第2実施形態に従い構築された鋳型アセンブ
リ64には、鋳造表面66、および上記で詳細に記述されているタイプの非金属耐劣
化性材料ですべて作られている本体68が含まれる。冷却導水路70は材料の本体68
中で定義されており、上述のセンサー50と構造上同様なセンサー72は本体68の後
部に連結されている。この発明のこの実施形態では、鋳型壁全体がダイヤモンド
またはCBN材料から作られている。このような鋳型壁は現在使用されているいか
なる鋳型壁のパフォーマンスも大幅に上回ると予想されるため、この実施形態は
大きな将来性を有すると考えられる。全体的にダイヤモンドなどの材料で作られ
ているため、鋳造中はストランドからの熱伝導を金属鋳型壁よりもはるかに効率
的に行なうことができ、いかなる金属鋳型壁よりも低い摩擦係数を有し、そして
実質的に摩耗が生じることはない。
Reference is now made to FIG. A mold assembly 64 constructed in accordance with the second embodiment of the present invention includes a casting surface 66 and a body 68 made entirely of a non-metallic, degradable material of the type described in detail above. The cooling channel 70 is made of a material 68
A sensor 72, structurally similar to sensor 50 described above, is coupled to the rear of body 68. In this embodiment of the invention, the entire mold wall is made from diamond or CBN material. This embodiment is considered to have great potential since such mold walls are expected to significantly outperform any currently used mold walls. Made entirely of a material such as diamond, heat transfer from the strands during casting can be performed much more efficiently than metal mold walls and has a lower coefficient of friction than any metal mold wall And there is virtually no wear.

【0022】 図6はこの発明の別の実施形態を表している。この実施形態では、図5の実施形
態のように鋳型ライナー80がすべて高い熱伝導性を有する耐劣化性の非金属材料
から作られているため、この鋳型ライナーは連続鋳造機械の操作に際して優れた
摩耗特性および熱伝達特性を示す。図5の実施形態と同様、優良材料はダイヤモ
ンドまたはCBNで、鋳型ライナーは後述する製造工程のいずれでも、またいかな
る有効な工程によっても作成が可能である。上述のセンサー50と同様に作成され
るセンサー72は鋳型ライナー80の後部に連結される。この実施形態では、鋳型ラ
イナー80は内部冷却通路を有さないが、鋳造金属82に対面するライナーの86側が
1つまたは複数のノズル88から冷却剤散布を受ける「散布型」鋳型として作成さ
れている。このタイプの鋳型ライナーは高い熱伝導性を有するため、鋳造金属を
効率的に冷却し、均一に固化した外殻84を有する鋳造金属の形成に役立つ。また
、赤外線領域における鋳型の透過性により著しい量の熱を鋳造金属から逃がすこ
とが可能になる。この点は、ふく射による鋳型からの熱伝達がまったくない従来
の連続鋳造鋳型に比べて非常に優れている。
FIG. 6 shows another embodiment of the present invention. In this embodiment, as in the embodiment of FIG. 5, the mold liner 80 is all made of a degradable non-metallic material having high thermal conductivity, so that the mold liner is excellent for operation of a continuous casting machine. Shows wear and heat transfer characteristics. As in the embodiment of FIG. 5, the superior material is diamond or CBN, and the mold liner can be made by any of the manufacturing processes described below and by any effective process. A sensor 72, made similarly to the sensor 50 described above, is connected to the rear of the mold liner 80. In this embodiment, the mold liner 80 has no internal cooling passages, but the 86 side of the liner facing the cast metal 82
It is made as a “spray-type” mold that receives a spray of coolant from one or more nozzles 88. This type of mold liner has high thermal conductivity, which effectively cools the cast metal and helps to form a cast metal having a uniformly solidified shell 84. Also, the permeability of the mold in the infrared region allows a significant amount of heat to escape from the cast metal. This is a significant advantage over conventional continuous casting molds in which there is no heat transfer from the mold by radiation.

【0023】 ダイヤモンドや結晶性窒化ホウ素などの材料を人工的にコーティング剤として
使用する、および大量生産する方法は多数存在しており、本発明者はそれら既知
の技術をこの発明の範囲内で使用できるものと認識している。さらに、この発明
者はこの技術が急速に進歩しており、他のより効率的な技術が使用可能になった
際は、その技術により必要な構造物が作成できると予測している。以下の米国特
許公報およびPCT国際公開では、ダイヤモンドおよび結晶性窒化ホウ素などの材
料を使った人工的なコーティング技術および大量生産技術が開示されており、こ
の開示の目的に対する模範例と考えられている。以下に一覧された各文書は、こ
こで完全に記述されているものとしてこの開示に包含される。
[0023] There are many methods of artificially using and mass-producing materials such as diamond and crystalline boron nitride as coatings, and the inventors use these known techniques within the scope of this invention. We recognize that we can do it. In addition, the inventor predicts that this technology is rapidly evolving and that as other more efficient technologies become available, they can create the required structures. The following U.S. Patent Publication and PCT International Publication disclose artificial coating and mass production techniques using materials such as diamond and crystalline boron nitride, and are considered exemplary for the purposes of this disclosure: . Each of the documents listed below is hereby incorporated by reference as if fully set forth herein.

【0024】[0024]

【表1】 Most Preferred Processes for Applying the Non Metallic Wear Resistant Layer 第1実施形態は米国特許第4,490,229号に記述された工程を利用しており、この
方法では炭化水素を含むアルゴンイオンビームに基質表面を露出することにより
、ダイヤモンド状の炭素被膜を基質表面に蒸着させることができる。被膜の初期
蒸着中のイオンビーム電流密度は低い。この初期低電流状態に続き、イオンビー
ムは全出力にまで増加され、同時に第2のアルゴンイオンビームが基質表面へ向
けられる。この第2のイオンビームは、炭水化物を含む第1ビームよりはるかに高
いエネルギーレベルを有している。システムへのこのエネルギー追加により、凝
固中の原子の可動性を増し、より束縛が少ない原子を除去してダイヤモンド結合
の割合を増加するのに役立つ。
[Table 1] Most Preferred Processes for Applying the Non Metallic Wear Resistant Layer The first embodiment utilizes the process described in U.S. Pat.No.4,490,229, in which the substrate surface is exposed to an argon ion beam containing hydrocarbons. Alternatively, a diamond-like carbon coating can be deposited on the substrate surface. The ion beam current density during the initial deposition of the coating is low. Following this initial low current condition, the ion beam is increased to full power while a second argon ion beam is directed at the substrate surface. This second ion beam has a much higher energy level than the first beam containing carbohydrates. This additional energy to the system increases the mobility of atoms during solidification and helps to remove less constrained atoms and increase the percentage of diamond bonds.

【0025】 第2実施形態は米国特許第4,504,519号に記述された工程を利用しており、この
方法ではn-ブタンなどアルカンからの無線周波数プラズマ蒸着被膜を使った蒸着
槽での混合工程により、一般に平行で間隔をあけた完全に超純粋な1対の炭素電
極を使って、非晶質で炭素質のダイヤモンド状被膜が作られる。この発明による
被膜は、ほとんどがノーマルブタンを使って蒸着されており、この発明の工程に
メタン、エタン、プロパン、ヘキサンなどの他のアルカンを代用し、炭素質でダ
イヤモンド状の被膜を作ることもできる。ステンレススチールなどでできた蒸着
槽には、一般に平行、水平で垂直に間隔をあけた純粋な炭素電極が1対含まれ、
低い方に位置した電極上にはコーティングされる基質が付随している。これらの
電極は典型的に約2〜8 cmの間隔を有するが、約2.5 cmの間隔が望ましい。蒸着
槽は、一般に10×10-7トルである極限圧力まで真空にされ、次にn-ブタンなどの
アルカンで充填されて8×10-4トルにされる。その後、この真空システムは弁で
約25〜100 ミリトルの圧力に調整される。圧力を安定化した後、純炭素の電極対
に無線周波数の電流が流され、低い方の電極(基質標的)に0 Vから約-100 V、
高い方の電極には約-200 Vから約-3500 Vのバイアス電圧がかけられる。無線周
波数のプラズマ蒸着が開始され、約8〜35 Å毎分の速度で、非晶質、炭素質のダ
イヤモンド状被膜が基質上に蒸着し、厚さ最高約5μmの被膜が形成される。 第3実施形態は米国特許第4,770,940号に記述された工程を利用しており、この方
法では気体状の炭化水素を分解して隣接し合う炭素原子同士を単結合で四面体状
に配置させることにより、硬い炭素質の被膜を形成する。気体状の炭化水素は無
線周波数に維持されたプラズマ中で分解され、分解されたものが陰極の基質に蒸
着する。オプションでフッ化炭素を蒸着気体に入れてもよい。
The second embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,504,519, which employs a mixing step in a deposition chamber using a radio frequency plasma deposited coating from an alkane such as n-butane. Amorphous, carbonaceous diamond-like coatings are typically made using a pair of parallel, spaced, and ultra-pure carbon electrodes. Most of the coatings according to the present invention are deposited using normal butane, and other alkanes such as methane, ethane, propane and hexane can be used in the process of the present invention to produce carbonaceous diamond-like coatings. it can. A deposition chamber made of stainless steel or the like generally contains a pair of pure, parallel, horizontally and vertically spaced carbon electrodes,
The substrate to be coated is associated with the lower electrode. These electrodes typically have a spacing of about 2-8 cm, with a spacing of about 2.5 cm being preferred. The deposition chamber is evacuated to an extreme pressure, typically 10 × 10 -7 Torr, and then filled with an alkane such as n-butane to 8 × 10 -4 Torr. Thereafter, the vacuum system is regulated by a valve to a pressure of about 25-100 mTorr. After stabilizing the pressure, a radio frequency current is applied to the pure carbon electrode pair, and the lower electrode (substrate target) is 0 V to about -100 V
A bias voltage of about -200 V to about -3500 V is applied to the higher electrode. Radio frequency plasma deposition is initiated, and at a rate of about 8-35 ° per minute, an amorphous, carbonaceous diamond-like coating is deposited on the substrate, forming a coating up to about 5 μm thick. The third embodiment utilizes a process described in U.S. Pat.No. 4,770,940, in which a gaseous hydrocarbon is decomposed to arrange adjacent carbon atoms in a single bond and form a tetrahedron. Thereby, a hard carbonaceous film is formed. Gaseous hydrocarbons are decomposed in a plasma maintained at radio frequency, and the decomposed substances are deposited on a cathode substrate. Optionally, fluorocarbon may be included in the deposition gas.

【0026】 第4実施形態は米国特許第4,830,702号に記述された工程を利用しており、この
方法では炭化水素/水素の混合気体を超硬合金の中空陰極に通過させる(この際
中空陰極は自熱式に温度上昇する)。この混合気体は熱とプラズマの混合効果に
より分離する。中空陰極から発生するプラズマの噴流は陽極上の基質を加熱する
。ダイヤモンド被膜は強い電子照射により形成される。
The fourth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,830,702, in which a hydrocarbon / hydrogen gas mixture is passed through a hard metal hollow cathode (where the hollow cathode is The temperature rises by self-heating). This gas mixture is separated by the mixing effect of heat and plasma. The plasma jet generated from the hollow cathode heats the substrate on the anode. The diamond coating is formed by strong electron irradiation.

【0027】 第5実施形態は米国特許第4,910,041号に記述された工程を利用しており、この
方法では1つまたは2つの放電極、炭素を最低1つ含む化合物の高温または準高温
プラズマにより形成されるプラズマ領域に基質を接触させて被膜を基質状に形成
する。電極には、直線部分のあるスリットを有し、マイクロ波の電源につながれ
たシート状の電極が含まれる。代替工程では、電極間のアークで生成された高温
または準高温のプラズマを磁場で移動させることにより、プラズマ領域が形成さ
れる。この工程はエネルギー効率のよい基質面上被膜形成を可能にする。
The fifth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,910,041 in which one or two discharge electrodes are formed by a hot or quasi-hot plasma of a compound containing at least one carbon. The substrate is brought into contact with the plasma region to be formed to form a coating on the substrate. The electrodes include sheet-like electrodes having slits with straight portions and connected to a microwave power supply. In an alternative process, a plasma region is formed by moving a hot or quasi-hot plasma generated by an arc between the electrodes with a magnetic field. This step allows for energy efficient coating formation on the substrate surface.

【0028】 第6実施形態は米国特許第4,939,763号に記述された工程を利用しており、この
方法ではDCプラズマでの蒸着により、プラズマ電流0.5〜1.5 A、温度600〜800℃
で、総圧20〜30トルのメタン/水素(体積比0.8〜1:99.5〜1)を使って合成ダイ
ヤモンド被膜が形成される。
The sixth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,939,763, in which a plasma current of 0.5-1.5 A and a temperature of 600-800 ° C. are obtained by deposition with DC plasma.
Thus, a synthetic diamond coating is formed using methane / hydrogen at a total pressure of 20-30 torr (volume ratio 0.8-1: 99.5-1).

【0029】 第7実施形態は米国特許第4,948,629号に記述された工程を利用しており、この
方法では高エネルギーのレーザーパルス、および脂肪族カルボン酸か芳香族カル
ボキシル無水物を使い、温度400℃未満におけるCVDでダイヤモンド被膜が基質に
蒸着形成される。
A seventh embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,948,629, which employs a high energy laser pulse and an aliphatic or aromatic carboxylic anhydride and a temperature of 400 ° C. Under CVD, a diamond coating is deposited on the substrate.

【0030】 第8実施形態は米国特許第4,954,365号に記述された工程を利用しており、この
方法では炭素と水素を含む液体に基質を浸漬し、次に最低1回レーザーパルスを
基質に照射することにより、ダイヤモンドの薄膜が形成される。
An eighth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,954,365, in which a substrate is immersed in a liquid containing carbon and hydrogen, and then the substrate is irradiated at least once with a laser pulse. By doing so, a diamond thin film is formed.

【0031】 第9実施形態は米国特許第4,981,717号に記述された工程を利用しており、この
方法では炭化水素気体の前駆物質プラズマから核種を蒸着させることにより、ダ
イヤモンド状の被膜を蒸着させる。気体へ照射され、気体中の開始剤により吸収
されるレーザーパルスによりプラズマは生成される。その結果起る爆発でイオン
、基、分子断片、および電子からなるプラズマが生じ、これらは爆ごう圧力波に
より基質方向へ加速され、基質上に蒸着する。
The ninth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,981,717, in which a diamond-like coating is deposited by depositing nuclides from a hydrocarbon gas precursor plasma. Plasma is generated by a laser pulse that is radiated onto the gas and absorbed by the initiator in the gas. The resulting explosion produces a plasma of ions, radicals, molecular fragments, and electrons, which are accelerated by the detonating pressure wave toward the substrate and deposit on the substrate.

【0032】 第10実施形態は米国特許第4,987,007号に記述された工程を利用しており、こ
の方法および装置では、真空内のレーザーアブレータ噴流からイオンを抽出する
ことにより、基質上に材料層が形成される。基本実施形態においてこの装置は、
標的材料とこれを溶発させ溶発噴流の一部をイオン化するため材料に照射される
レーザーを有する真空槽を有する。真空槽内の加速グリッドは荷電されて上記噴
流からイオンを抽出し、またそのイオンを基質方向へ加速することにより基質上
の材料層を形成させる。この基本実施形態では、約20μm毎時の速度にてクリー
ンで核種のないシリコン基質上にダイヤモンド状の炭素被膜が蒸着する。このダ
イヤモンド状の炭素被膜は、粗さ約1Åの滑らかな表面を有する均一な厚み、1.5
〜2.5範囲の均一な屈折率、40 MΩ/cmを超える抵抗、および物理的摩耗に耐えう
る硬い表面など、非常に優れた品質を有する。機能が強化された実施形態は、真
空槽内の複数標的と、各標的から選択的にイオンを生産する機構を有する。これ
により、異なる材料またはドープ処理された材料の層を基質上に形成することが
できる。さらに、この機能強化実施形態は各層内にパターンまたは回路を形成す
る機構も有する。そのうちの1バージョンではイオンフルエンス内またはイオン
光学システム内にマスクを組み込み、このマスクのパターンを拡大して基質上に
形成することができる。別のバージョンでは、イオン光学を使ってイオンビーム
を形成し、このビームを偏向板で制御することにより、基質上に目的のパターン
を形成することができる。
A tenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 4,987,007, in which a layer of material is deposited on a substrate by extracting ions from a laser ablator jet in a vacuum. It is formed. In a basic embodiment, this device
It has a vacuum chamber with a target material and a laser that irradiates the material to ablate it and ionize a portion of the ablative jet. The acceleration grid in the vacuum chamber is charged to extract ions from the jet and accelerate the ions toward the substrate to form a layer of material on the substrate. In this basic embodiment, a diamond-like carbon coating is deposited on a clean, nuclide-free silicon substrate at a rate of about 20 μm per hour. This diamond-like carbon coating has a uniform thickness of 1.5 mm with a smooth surface
It has exceptional quality, including a uniform refractive index in the range of ~ 2.5, a resistance in excess of 40 MΩ / cm, and a hard surface that can withstand physical wear. The enhanced embodiment has multiple targets in a vacuum chamber and a mechanism for selectively producing ions from each target. This allows layers of different or doped materials to be formed on the substrate. In addition, this enhanced embodiment also has a mechanism for forming patterns or circuits in each layer. One version incorporates a mask in the ion fluence or ion optics system, and the pattern of the mask can be enlarged and formed on a substrate. In another version, an ion beam is formed using ion optics, and the beam can be controlled by a deflector to form a desired pattern on a substrate.

【0033】 第11実施形態は米国特許第5,015,528号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、流動床中に入れられる基質上の原子水素の存在中での炭素気体源の
蒸着が関与する合成ダイアモンド形成の工程が使用される。ダイヤモンドは非ダ
イヤモンド物質の蒸着によってオーバーコートすることも可能である。
An eleventh embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,015,528, in which the deposition of a carbon gas source in the presence of atomic hydrogen on a substrate placed in a fluidized bed is performed. The synthetic diamond forming process involved is used. Diamond can also be overcoated by evaporation of non-diamond material.

【0034】 第12実施形態は米国特許第5,071,677号に記述された工程を利用しており、基
質物質上のリアクターに(1)炭素、(2)水素、(3)およびハロゲンを供給する能力
を持つこの方法では、気体または混合気体を流すことによってダイヤモンド被膜
と粒子を様々な基質に析出する。反応性気体は混合気体全体の構成を炭素の比率
体積を小さく、水素の比率を高く維持するために不活性気体が事前に混合するこ
とができる。反応性気体の高エネルギー状態への前処理は、ダイヤモンドの化学
蒸着のほとんどの先行技術の工程でそうであるように、必要ではない。前処理は
必要でないので、実質的にはどの任意サイズ、形、またはそれに適用可能である
。反応性混合気体は、最初の部分を約400℃から約920℃に、更に好ましい温度で
は約800℃から約920℃にしてリアクターを通させることが好ましい。その上にダ
イヤモンドが形成されることになる基質は、好ましいダイヤモンド生成温度範囲
である約250℃から約750℃のより低い温度で維持されるリアクター中の領域に置
く。工程は、大気圧で行われるのが好まれるが、その前後の圧力でも可能である
。相当量の純粋ダイヤモンド被膜と粒子がわずか8時間で形成されている。ダイ
ヤモンド被膜と粒子の純度はラマンスペクトロスコピーとパワーX線回析テクニ
ックで検証されている。
The twelfth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,071,677 to increase the ability to supply (1) carbon, (2) hydrogen, (3) and halogen to a reactor on a substrate material. In this method, the diamond coating and particles are deposited on various substrates by flowing a gas or gas mixture. The reactive gas can be premixed with an inert gas to keep the overall volume of the gas mixture low in the specific volume of carbon and high in the ratio of hydrogen. Pretreatment of the reactive gas to a high energy state is not necessary, as is the case in most prior art steps of chemical vapor deposition of diamond. Since no pre-treatment is required, virtually any size, shape, or applicable to it. The reactive gas mixture is preferably passed through the reactor at an initial portion of from about 400 ° C to about 920 ° C, and more preferably at about 800 ° C to about 920 ° C. The substrate on which the diamond is to be formed is placed in an area in the reactor maintained at a lower temperature of the preferred diamond formation temperature range of about 250 ° C to about 750 ° C. The process is preferably performed at atmospheric pressure, but pressures before and after it are also possible. A considerable amount of pure diamond coating and particles are formed in just 8 hours. The purity of the diamond coating and particles has been verified by Raman spectroscopy and power X-ray diffraction techniques.

【0035】 第13実施形態は米国特許第5,080,753号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、シリコン基質上で平行に配置された単一結晶の結晶性窒化ホウ素の
薄被膜がレーザーアブレーション技術を使って形成される。
A thirteenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,080,753, in which a thin film of single-crystal, crystalline boron nitride, disposed in parallel on a silicon substrate, is laser-coated. Formed using ablation technology.

【0036】 第14実施形態は米国特許第5,082,359号に記述された工程を利用しており、異
基質上にダイヤモンドなどの多結晶被膜を形成するこの方法では、離散型核生成
サイトを定めるために被膜析出の前に基質の準備が行われる。基質表面に不規則
なパターンを形成して、基質を被膜析出のために準備する。被膜結晶の場所に望
まれるパターンに該当する、既定されたパターンに起伏(普通、クレーター)が
配置される。クレーターは、均一で既定寸法、既定距離に均等に配置されるのが
望ましい。クレーターは様々なテクニックで形成できるが、それには集束イオン
ビームミリング、レーザー気化またはパターンフォトレジストを使った化学また
はプラズマエッチングが含まれる。基質の準備が終了すると、被膜は多数の既知
のテクニックを用いて析出できる。この方法で製造された被膜は規則的な結晶の
表面パターン - これは実質上どの任意パターンにも配置可能 - を特徴とする。
The fourteenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,082,359, and in this method of forming a polycrystalline coating such as diamond on a foreign substrate, a discrete nucleation site is defined. Preparation of the substrate takes place before the coating deposition. The substrate is prepared for film deposition by forming an irregular pattern on the substrate surface. The undulations (usually craters) are arranged in a predetermined pattern corresponding to the desired pattern at the location of the coating crystal. It is desirable that the craters are uniformly arranged at a predetermined size and a predetermined distance. Craters can be formed by a variety of techniques, including focused ion beam milling, laser evaporation or chemical or plasma etching using patterned photoresist. Once the substrate has been prepared, the coating can be deposited using a number of known techniques. Coatings produced in this way are characterized by a regular crystalline surface pattern, which can be arranged in virtually any arbitrary pattern.

【0037】 第15実施形態は米国特許第5,096,740号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、エキシマーレーザーをホウ素原子およびオプションで窒素原子から
成るターゲットに照射し、ターゲットに向かい合うように配置された基質上に立
方窒化ホウ素を析出することを含む方法で基質上に高純度の立方窒化ホウ素被膜
が形成される。
A fifteenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,096,740, in which an excimer laser is irradiated onto a target consisting of boron atoms and optionally nitrogen atoms, and is directed against the target. A high purity cubic boron nitride coating is formed on a substrate by a method that includes depositing cubic boron nitride on a disposed substrate.

【0038】 第16実施形態は米国特許第5,154,945号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、赤外線レーザーが基質上にダイヤモンドの薄被膜を析出するために
使われる。ある実施形態においては、被膜の析出は、CH4とH2の混合気体から行
われ、混合気体は、化学蒸着槽に送られ、レーザーがコートされる基質表面上に
当てられている間、同基質表面に供給される。別の実施形態においては、煤煙の
形の純炭素がコートされる表面に送られ、炭素が焼かれてCO2になることを防ぐ
環境中でレーザービームが直接表面に当てられる。
A sixteenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,154,945, in which an infrared laser is used to deposit a thin film of diamond on a substrate. During In certain embodiments, the coating deposition is carried out from a mixed gas of CH 4 and H 2, mixed gas, which is sent to the chemical vapor deposition chamber, the laser is applied to the substrate surface to be coated, the Supplied to the substrate surface. In another embodiment, transmitted to the surface of pure carbon in the form of soot is coated, devoted to the surface laser beam directly in the environment to prevent become CO 2 burned carbon.

【0039】 第17実施形態は米国特許第5,221,411号に記述された工程を利用しており、非
ダイヤモンド基質上にダイヤモンドの薄被膜を形成するこの方法は、格子-平面
照合または格子照合の基質に炭素イオンを埋め込むことを含む。基質の埋め込ま
れた部分は、次に非ダイヤモンド基質上にダイヤモンドの薄被膜を形成するため
にアニールされる。また、この方法によって形成された非ダイヤモンドの格子-
平面照合基質上のダイヤモンド薄被膜も開示される。好ましい基質は、銅などの
ダイヤモンドに照合する格子および平面で、好ましい埋め込み方法は、イオン埋
め込み、また好ましいアニール方法はパルスレーザーアニーリングである。
The seventeenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,221,411, and this method of forming a thin film of diamond on a non-diamond substrate is useful for grating-to-plane matching or lattice matching substrates. Including implanting carbon ions. The embedded portion of the substrate is then annealed to form a thin diamond coating on the non-diamond substrate. Also, the non-diamond lattice formed by this method
A thin diamond coating on a planar reference substrate is also disclosed. Preferred substrates are lattices and planes that match diamonds such as copper, the preferred implantation method is ion implantation, and the preferred annealing method is pulsed laser annealing.

【0040】 第18実施形態は米国特許第5,221,501号に記述された工程を利用しており、ダ
イヤモンドコーティングの上に第二層が析出されると取り除かれる基質を使う、
透明のダイヤモンド薄板の製造方法が使われる。第二コーティングはダイヤモン
ドと大体同一の屈折率を持つ必要があり、セレン化亜鉛とチタンダイオクサイド
が含まれることが特に好ましい。平行の合い向かい合う基質上に二つのダイヤモ
ンド被膜が接触して単一被膜またはプレートを形成するまで同時に析出し、その
後で少なくとも二つの基質の内一部分を取り除くことによって二つの滑らかな表
面を持つダイヤモンド被膜を製造することが可能である。
The eighteenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,221,501, using a substrate that is removed when a second layer is deposited on the diamond coating.
A method of manufacturing a transparent diamond plate is used. The second coating must have a refractive index that is approximately the same as diamond, and it is particularly preferred that it contains zinc selenide and titanium diocide. A diamond coating having two smooth surfaces by depositing two diamond coatings simultaneously on parallel opposing substrates until they contact and form a single coating or plate, and then removing at least a portion of the at least two substrates. Can be manufactured.

【0041】 第19実施形態は米国特許第5,230,931号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、ダイヤモンド被膜またはI-炭素被膜がプラズマ補助化学蒸着析出の
力により対象物の表面に形成される。被膜の固さは析出中にバイアス電圧を対象
物にかけることにより強化することができる。
The nineteenth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,230,931 in which a diamond or I-carbon coating is formed on the surface of an object by the force of plasma-assisted chemical vapor deposition. Is done. The hardness of the coating can be enhanced by applying a bias voltage to the object during deposition.

【0042】 第20実施形態は米国特許第5,236,740号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、超硬タングステンカーバイドの基質をダイヤモンド層を持つコーテ
ィング用に準備するために、相当量のコバルトバインダーをそのまま残しながら
、基質の表面のタングステンカーバイドの少量を最初に取り除く工程をコーティ
ングする基質表面に施す。村上試薬が現時点で好まれる。次に、タングステンカ
ーバイドを除去する工程の施行の結果、表面に残っている残留物をすべて除去す
るための工程が基質に施される。硫酸と過酸化水素の溶液が現時点で好まれる。
ダイヤモンド被膜析出前に上記で説明されるエッチングまたは硝酸でのエッチン
グによって用意できる磨かれていない基質を使って、ダイヤモンドコートされた
超硬タングステンカーバイドツールが形成される。かなり連続的なダイヤモンド
被膜の析出は、反応性蒸着、熱補助(熱フィラメント) CVD、プラズマ強化CVD、ま
たはその他のテクニックによって達成できる。
The twentieth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,236,740, in which a substantial amount of carbide tungsten carbide substrate is prepared for coating with a diamond layer. The step of first removing a small amount of tungsten carbide on the surface of the substrate while leaving the cobalt binder intact is performed on the surface of the substrate to be coated. Murakami's reagent is currently preferred. Next, as a result of performing the step of removing tungsten carbide, the substrate is subjected to a step of removing any residue remaining on the surface. Solutions of sulfuric acid and hydrogen peroxide are presently preferred.
A diamond coated cemented tungsten carbide tool is formed using an unpolished substrate that can be prepared by etching as described above or etching with nitric acid before diamond coating. A fairly continuous deposition of a diamond coating can be achieved by reactive deposition, heat assisted (hot filament) CVD, plasma enhanced CVD, or other techniques.

【0043】 第21実施形態は米国特許第5,243,170号に記述された工程を利用しており、基
質上にダイヤモンド被膜をコーティングするこの方法には、プラズマジェット析
出方法が含まれ、析出ダイヤモンド被膜は従来の条件下で生成された立方結晶構
造とは異なる主に六角結晶構造を持ち、これによりコーティング表面の硬度およ
び滑らかさの面でツールのダイヤモンドコーティングによって得られる利点を更
に伸ばす。改善点には、プラズム生成気体として水素のみを使用、プラズマ圧が
300 トルを超えないように制御、基質表面温度を800℃から1200℃に維持、基質
表面の境界層内で少なくとも13,000℃/cmの温度勾配を作る。
The twenty-first embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,243,170, and this method of coating a diamond coating on a substrate includes a plasma jet deposition method, wherein the deposited diamond coating is conventionally used. Have a predominantly hexagonal crystal structure different from the cubic crystal structure produced under the conditions described above, thereby further extending the advantages obtained by diamond coating of the tool in terms of hardness and smoothness of the coating surface. The only improvement is that only hydrogen is used as the plasma gas,
Control not to exceed 300 torr, maintain substrate surface temperature between 800 ° C and 1200 ° C, create a temperature gradient of at least 13,000 ° C / cm in the boundary layer of the substrate surface.

【0044】 第22実施形態は米国特許第5,260,106号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、基質の主要構成要素とダイヤモンド用の焼結補強作用物の混合材料
からなる第一層を表面上に形成させ、次に前述の作用物とダイヤモンドの混合物
から成る第二層を前述の第一層上に形成させ、最後に第二層上にダイヤモンド被
膜を形成することによって、ダイヤモンド被膜は基質に強固に付着される。
The twenty-second embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,260,106, in which a first layer comprising a mixture of major components of a substrate and a sintering reinforcement for diamond is used. On the surface, then forming a second layer of the mixture of the above-described agent and diamond on the first layer, and finally forming a diamond coating on the second layer. Is firmly attached to the substrate.

【0045】 第23実施形態は米国特許第5,264,071号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、ダイヤモンドとこれが化学蒸着方法によって析出された基質との接
着強度は独立モノリシックシートの様に基質からダイヤモンドを剥がすことがで
きる程度まで減少される。接着強度は基質を磨き、基質から角を取り除き、析出
後の基質のゆっくりとした冷却、中間温度での冷却遅延またはダイヤモンドと基
質間の中間層の施行または形成によって減少できる。ダイヤモンドの独立シート
は図7の実施形態の特定使用として想定されている。
The twenty-third embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,264,071 in which the bonding strength between diamond and the substrate on which it is deposited by a chemical vapor deposition method is similar to that of a freestanding monolithic sheet. It is reduced to the extent that diamond can be peeled from the substrate. Adhesive strength can be reduced by polishing the substrate, removing corners from the substrate, slow cooling of the substrate after deposition, delayed cooling at intermediate temperatures, or the application or formation of an intermediate layer between diamond and the substrate. A separate sheet of diamond is envisioned for a particular use of the embodiment of FIG.

【0046】 第24実施形態は米国特許第5,271,890号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、炭素微粉末を基質に連続的に供給すると同時に高出力レベルのレー
ザービームで炭素微粉末を照射することによって、炭素微粉末の昇華を誘発し、
昇華された炭素微粉末を急冷して基質に析出させることによって炭素同素体のコ
ーティング被膜が基質に形成される。
The twenty-fourth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,271,890, in which a carbon fine powder is continuously supplied to a substrate while a high power level laser beam is used. To induce sublimation of the carbon fine powder,
The sublimated carbon fine powder is rapidly cooled and deposited on the substrate, whereby a coating film of carbon allotrope is formed on the substrate.

【0047】 第25実施形態は米国特許第5,273,731号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、50μm以上の厚さを持つかなり透明な多結晶ダイヤモンド被膜が生
成される。水素とメタンの混合は、非密着多結晶のかなり透明な多結晶ダイヤモ
ンド被膜を生成するためにモリブデン基質のような適切な基質に隣接する熱フィ
ラメント反応領域に運ばれる。
The twenty-fifth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,273,731, which produces a highly transparent polycrystalline diamond coating having a thickness of 50 μm or more. The mixture of hydrogen and methane is conveyed to a hot filament reaction zone adjacent to a suitable substrate, such as a molybdenum substrate, to produce a non-cohered polycrystalline, highly transparent polycrystalline diamond coating.

【0048】 第26実施形態は米国特許第5,273,788号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、炭化水素分子の層がラングミュア-ブロジェット(Langmuir-Blodge
tt)テクニックによって基質に施され、基質に影響を与えることなく表面の分子
層を分解するために表面はレーザーで照射される。分解後、炭素原子は基質表面
で再配列し、DLC被膜を形成する。
The twenty-sixth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,273,788, in which a layer of hydrocarbon molecules is formed by Langmuir-Blodge.
tt) applied to the substrate by a technique, and the surface is illuminated with a laser to break down the molecular layers on the surface without affecting the substrate. After decomposition, the carbon atoms rearrange on the substrate surface, forming a DLC coating.

【0049】 第27実施形態は米国特許第5,302,231号に記述された工程を利用しており、化
学蒸着によってダイヤモンドをダイヤモンド基質上に形成させる方法では、上昇
した温度で上記ダイヤモンド基質をまずCn Xm式の気体、そして次に CIZp式の気
体に交代に接触させる工程が含まれる。XとZはそれぞれ炭素と単結合を形成す
る。さらにXとZはZXまたは派生物を形成する反応性を持つ。Z-X結合はC-X結合よ
りも強く、またC-Z結合よりも強い。式中のn、m、l、およびpは整数である。
The twenty-seventh embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,302,231, wherein a method of forming diamond on a diamond substrate by chemical vapor deposition involves first increasing the temperature of the diamond substrate to Cn Xm at elevated temperatures. Alternately contacting the gas, and then the CIZp-type gas. X and Z each form a single bond with carbon. In addition, X and Z are reactive to form ZX or derivatives. ZX bonds are stronger than CX bonds and stronger than CZ bonds. In the formula, n, m, l, and p are integers.

【0050】 第28実施形態は米国特許第5,516,500号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、ダイヤモンド物質は二つの電極間の隙間に炭素含有物を挟むことに
よって形成される。高アンペア電流を二つの電極プレート間に流すことによって
、炭素含有物質の急速加熱が起こる。電流は少なくとも約5000℃/秒の率で炭素
含有物質の加熱を起すことができ、炭素含有物質の温度を少なくとも約1000℃に
上昇させるのにほんの一瞬しかからない。電流を止めると、炭素含有物は、次に
急冷(冷却)される。これは、大きなスチールテーブルなどのヒートシンクと接触
するように1つ以上の電極 を配置することにより行うことができる。炭素含有物
質からダイヤモンドが生成されるまで、炭素含有物質に急速加熱と急速冷却(例
えば周期で)を繰り返すことができる。アルゴン(At) 、ヘリウム(He)、または窒素
(N2)などの「シールド」(不活性または非酸化)気体の環境だと有利に工程が行
われる。この発明の実施形態において、炭素含有物質はポリスチレン (例、被膜)
またはガラス状炭素(例、被膜または粉)である。 発明の別の実施形態では、炭素
含有物質は、ポリマー、フラーレン、無定型炭素、黒鉛、またはその類似である。電
極の一つは、この上にダイヤモンドコーティングの形成が望まれる基質であるこ
とが好ましく、また基質自体は二つの電極の一つとして使用される。
The twenty-eighth embodiment utilizes a process described in US Pat. No. 5,516,500, in which a diamond material is formed by sandwiching a carbon-containing material in a gap between two electrodes. By passing a high amperage between the two electrode plates, rapid heating of the carbon-containing material occurs. The current can cause heating of the carbon-containing material at a rate of at least about 5000 ° C / sec, and only takes a moment to raise the temperature of the carbon-containing material to at least about 1000 ° C. When the current is turned off, the carbon content is then quenched (cooled). This can be done by placing one or more electrodes in contact with a heat sink such as a large steel table. The carbon-containing material can be repeatedly heated and cooled (eg, periodically) until the carbon-containing material forms diamond. Argon (At), helium (He), or nitrogen
The process is advantageously performed in a "shield" (inert or non-oxidizing) gas environment such as (N2). In embodiments of the invention, the carbon-containing material is polystyrene (eg, a coating)
Or glassy carbon (eg, coating or powder). In another embodiment of the invention, the carbon-containing material is a polymer, fullerene, amorphous carbon, graphite, or the like. One of the electrodes is preferably a substrate on which the formation of a diamond coating is desired, and the substrate itself is used as one of the two electrodes.

【0051】 第29実施形態は米国特許第5,525,815号に記述された工程を利用しており、こ
の方法では、化学蒸着により析出された連続ダイヤモンド構造は、ダイヤモンド
形成率によって制御される少なくとも2つの熱伝導ダイヤモンド層を持ち、1つ
の熱伝導ダイヤモンドは、熱フィラメントでは一時間毎に少なくとも1ミクロン
、マイクロウェーブプラズマ補助化学蒸着では一時間毎に少なくとも2〜3ミクロ
ンの高成長率で、モリブデンなどの基質上に化学蒸着槽中で高成長率を促す基質
温度で形成され、もう一つの熱伝導ダイヤモンド層は、高成長率のダイヤモンド
層よりも低い成長率および基質温度で形成されることが開示される。熱伝導が改
善された、別々の結晶柱状層であることを見分けることができない連続ダイヤモ
ンド層を得るために、高成長率と低成長率のダイヤモンド層をどの順序にでも析
出できる。
The twenty-ninth embodiment utilizes the process described in US Pat. No. 5,525,815, in which a continuous diamond structure deposited by chemical vapor deposition has at least two thermal elements controlled by the rate of diamond formation. With a conductive diamond layer, one thermally conductive diamond has a high growth rate of at least 1 micron per hour for hot filaments and at least 2-3 micron per hour for microwave plasma assisted chemical vapor deposition. It is disclosed that a thermally conductive diamond layer is formed at a lower growth rate and substrate temperature than a high growth rate diamond layer formed thereon at a substrate temperature that promotes high growth rate in a chemical vapor deposition bath. . High-growth and low-growth diamond layers can be deposited in any order to obtain a continuous diamond layer with improved thermal conductivity that cannot be distinguished as a separate crystalline columnar layer.

【0052】 第30実施形態はPCT公開公報WO95/31584(国際出願番号PCT/US95/05941に相当す
る)に記述された工程を利用しており、この方法では、紫外線エキシマーレーザ
ー、赤外線Nd :YAGレーザーおよび赤外線CO2レーザーからのエネルギーがノズル
から基質(例えばスチール)中の炭素成分(例えばカーバイド)を移動および気化す
るために基質表面に当てられる。追加の二次ソース(例えばCO2のような炭素含有
気体)および不活発シールドガス(例えばN2)もノズルから供給される。気化され
た構成要素はエネルギーと反応し、その物理的構造を複合材料として基質の裏に
拡散される複合材料の構造に変わる(例えば、炭素からダイヤモンドへ)。
The thirtieth embodiment utilizes a process described in PCT Publication WO95 / 31584 (corresponding to International Application No. PCT / US95 / 05941), and in this method, an ultraviolet excimer laser, infrared Nd: YAG Energy from a laser and an infrared CO 2 laser is applied to the substrate surface to move and vaporize carbon components (eg, carbide) in the substrate (eg, steel) from the nozzle. An additional secondary source (eg, a carbon-containing gas such as CO 2 ) and an inert shielding gas (eg, N 2 ) are also provided from the nozzle. The vaporized component reacts with the energy and changes its physical structure into a composite structure that is diffused behind the substrate as a composite (eg, from carbon to diamond).

【0053】 第31実施形態はPCT公開公報WO95/20253(国際出願番号PCT/US95/00782に相当す
る)に記述された工程を利用しており、この方法では、レーザーエネルギーが基
質中の構成(一次)要素(例えば炭素)を移動、気化および反応するために基質に当
てられ、構成要素の構成(例えば、結晶構造)を変え、基質表面に形成中のコーテ
ィング(例えば、ダイヤモンドまたはダイヤモンド状の炭素)に隣り合うように変
えられた成分を基質中に分散させる。これにより、基質のすぐ下に変換領域が作
られ、基礎である基質の構成から基質表面に形成されるコーティングの構成へと
金属的変化し、その結果、コーティングの基質への分散結合が生じる。コーティ
ング構成の製造を補強、またはコーティング構成を決定するために、追加の(二
次)類似(例えば、炭素)または非類似要素が基質表面上の反応領域に送ることが
可能である。エキシマーレーザー、Nd :YAGレーザーおよびCO2レーザーの組み合
せによりレーザーエネルギーは提供され、その出力ビームは、ノズルを通して二
次要素を反応領域に供給するのが好ましい。反応領域は、ノズルを通して供給さ
れる不活性(非反応性)シールドガス(例えば、N2)によって遮蔽される。平プラズ
マがレーザー、構成要素および二次要素によって基質表面上に作られ、平プラズ
マはオプションで基質の端のあたりにもコーティングを形成する。前処理および
コーティング形成は互いに連結して施行できる(そのままで)。あるいは、基質は
後のコーティング用にその表面を前処理して必要特徴を得ることも可能である。
どちらの場合でも、前処理によって特定の有利な金属的変化が基質に起こる。工
程(前処理およびコーティング形成)は大気温度で、基質を事前に熱することまた
真空なしに行われるのが適切である。レーザーは基質および/またはプラズマに
比例するどの適切な角度(同軸も含む)にもあてることができる。
The thirty-first embodiment utilizes the process described in PCT Publication WO95 / 20253 (corresponding to International Application No. PCT / US95 / 00782), in which the laser energy is applied to the substrate ( A primary (e.g., carbon) element is applied to a substrate to transfer, vaporize, and react, altering the composition of the component (e.g., crystal structure), and forming a coating (e.g., diamond or diamond-like carbon) on the substrate surface. The components changed to be adjacent to () are dispersed in the substrate. This creates a transduction zone just below the substrate, resulting in a metallic change from the composition of the underlying substrate to the composition of the coating formed on the substrate surface, resulting in the dispersive bonding of the coating to the substrate. Additional (secondary) similar (eg, carbon) or dissimilar elements can be sent to the reaction area on the substrate surface to enhance the manufacture of the coating configuration or to determine the coating configuration. Laser energy is provided by a combination of an excimer laser, a Nd: YAG laser and a CO 2 laser, the output beam of which preferably feeds a secondary element through a nozzle to the reaction zone. The reaction zone is shielded by an inert (non-reactive) shielding gas (eg, N 2 ) supplied through a nozzle. A flat plasma is created on the substrate surface by a laser, components and secondary components, the flat plasma optionally forming a coating also around the edge of the substrate. Pretreatment and coating formation can be performed in conjunction with each other (as is). Alternatively, the substrate can be pretreated on its surface for subsequent coating to obtain the required characteristics.
In both cases, the pretreatment results in certain advantageous metallic changes in the substrate. Suitably, the steps (pre-treatment and coating formation) are carried out at ambient temperature, without preheating the substrate and without vacuum. The laser can be directed at any suitable angle (including coaxial) that is proportional to the substrate and / or plasma.

【0054】 本発明については、多くの特徴および利点が発明の構造および機能の詳細とと
もに上に記述されているが、開示は例証説明のみであり、詳細、特に形、サイズ
、および部品の配置の面では、付属請求が記述される条件の広い一般の意味によ
って示される全範囲において発明の原理の範囲内で変更される可能性があること
が理解される必要がある。
Although many features and advantages of the invention have been described above with details of the structure and function of the invention, the disclosure is illustrative only and should not be construed as limiting the details, in particular, the shape, size, and arrangement of parts. In face, it is to be understood that the full scope of the appended claims, which may be indicated by the broader general meaning of the conditions stated, may vary within the principles of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の一実施形態に係る連続鋳造機械用鋳型の壁アセンブリの一部破断部
を有する横断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a wall assembly of a mold for a continuous casting machine having a partially broken portion according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す鋳型壁アセンブリの1部品の縦断面図。FIG. 2 is a longitudinal sectional view of one part of the mold wall assembly shown in FIG.

【図3】 図1及び図2に示されたアセンブリの好ましい特徴を示す概略図。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating preferred features of the assembly shown in FIGS. 1 and 2;

【図4】 図1〜3に示されたアセンブリの好ましい制御システムの例を示す模式図。FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a preferred control system for the assembly shown in FIGS.

【図5】 この発明の第2実施形態に係る型壁アセンブリの一部破断部を有する横断面図
FIG. 5 is a cross-sectional view of a mold wall assembly according to a second embodiment of the present invention, which has a partially broken portion.

【図6】 この発明の第3実施形態に係る型壁アセンブリの一部破断部を有する横断面図
FIG. 6 is a cross-sectional view of a mold wall assembly according to a third embodiment of the present invention, which has a partially broken portion.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB ,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ, DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD,GE,G H,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP ,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR, LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,M W,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD ,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR, TT,UA,UG,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 ノーブル・ジョン・エル アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19086 ローズ バレイ ブライアクレス ト ドライブ30 Fターム(参考) 4E004 AA10 AB02 MA01 MA05 PA05──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (81) Designated country EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE ), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY , CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP , KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW (72) Inventor Noble John El United States of America Pennsylvania 19086 Rose Valley Briake Drive 30 F term (reference) 4E004 AA10 AB02 MA01 MA05 PA05

Claims (32)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 連続鋳造機械において使用される鋳造型の壁部アセンブリであ
って、 動作中の熱を鋳型ライナーから取り除くように構成され配置された内側部分と
、前記鋳型の鋳造表面を構成する外表面とを有し、 この外表面は、高熱伝導性を有する耐劣化性の非金属材料を有し、これによっ
て、前記鋳型ライナーが良好な耐劣化性及び熱伝導性能を連続鋳造装置の動作中
に奏するように構成されている ことを特徴とする鋳造型壁部アセンブリ。
1. A casting mold wall assembly for use in a continuous casting machine, comprising: an inner portion configured and arranged to remove heat during operation from a mold liner; and a casting surface of the mold. An outer surface, the outer surface comprising a non-metallic material having high thermal conductivity, which is resistant to deterioration, so that the mold liner has good resistance to deterioration and heat conduction. A casting mold wall assembly configured to play therein.
【請求項2】 請求項1記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料は、ダイヤモンドと結晶性チッ化
ホウ素からなるグループから選択されたものであることを特徴とする鋳型壁アセ
ンブリ。
2. The mold wall assembly of claim 1, wherein said non-metallic material having high thermal conductivity is selected from the group consisting of diamond and crystalline boron nitride. Mold wall assembly.
【請求項3】 請求項1記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料は、炭素含有材料を含むものであ
ることを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
3. The mold wall assembly according to claim 1, wherein said non-metallic material having a high thermal conductivity and a deterioration-resistant material includes a carbon-containing material.
【請求項4】 請求項1記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料は、炭素の同素体を含むものであ
ることを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
4. The mold wall assembly according to claim 1, wherein the non-metallic material having high thermal conductivity and having a high thermal conductivity includes a carbon allotrope.
【請求項5】 請求項1記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料は、赤外線範囲において透過性を
有するものであることを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
5. The mold wall assembly according to claim 1, wherein said non-metallic material having high thermal conductivity is transparent in the infrared range.
【請求項6】 請求項5記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 さらに、前記材料を通して連続鋳造工程の状態を光学的に監視するための光学
式モニタリング手段を有することを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
6. The mold wall assembly according to claim 5, further comprising optical monitoring means for optically monitoring the condition of a continuous casting process through said material.
【請求項7】 請求項6記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記光学式モニタリング手段は、光ファイバを有し、この光ファイバは、前記
透過材料の前記鋳型の鋳造面と反対側の面に光学的に取着されていることを特徴
とすする光学アセンブリ。
7. The mold wall assembly of claim 6, wherein said optical monitoring means comprises an optical fiber, said optical fiber being optically attached to a surface of said transparent material opposite said casting surface of said mold. An optical assembly, wherein the optical assembly is attached to the optical assembly.
【請求項8】 請求項6記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記光学光学式モニタリング手段は、ペクトル測定手段を有し、このスペクト
ル測定手段は、前記透過材料を透過した光のスペクトル特性を測定するものであ
ることを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
8. The mold wall assembly according to claim 6, wherein said optical-optical monitoring means comprises a spectrum measuring means, wherein said spectrum measuring means measures a spectral characteristic of light transmitted through said transmission material. A mold wall assembly.
【請求項9】 請求項6記載の鋳型壁アセンブリであって、 前記光学式モニタリング手段は、前記スペクトル測定手段によって測定された
光のスペクトル特性を分析するための手段を有することを特徴とする鋳型壁アセ
ンブリ。
9. The mold wall assembly according to claim 6, wherein said optical monitoring means comprises means for analyzing a spectral characteristic of light measured by said spectrum measuring means. Wall assembly.
【請求項10】 請求項9記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記光学モニタリング手段は、さらに、 連続鋳造工程の少なくとも1つの性能変数を、前記スペクトル測定手段によっ
て測定されたスペクトル特性を分析するための手段によって実行された分析の結
果に応じて、変更する手段を有する ことを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
10. The mold wall assembly according to claim 9, wherein said optical monitoring means further comprises means for analyzing at least one performance variable of a continuous casting process with a spectral characteristic measured by said spectrum measuring means. Characterized in that it has means for changing according to the results of the analysis performed by the mold wall assembly.
【請求項11】 請求項9記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記前記スペクトル測定手段によって測定された光のスペクトル特性を分析す
るための手段は、前記鋳型壁アセンブリに隣接する鋳造ストランドの外側表面の
温度を検出するための手段を含む ことを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
11. The mold wall assembly according to claim 9, wherein the means for analyzing the spectral properties of the light measured by the spectrum measuring means comprises a temperature of an outer surface of a casting strand adjacent the mold wall assembly. A mold wall assembly comprising means for detecting
【請求項12】 請求項10記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記スペクトル測定手段によって測定された光のスペクトル特性の分析手段に
よって実行された分析に応じて前記連続鋳造の性能変数のうちの少なくとも1つ
を変更する手段は、 前記連続鋳造装置の速度の減速率を調整する手段を有するものである ことを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
12. The mold wall assembly of claim 10, wherein at least one of the continuous casting performance variables is responsive to an analysis performed by the analyzing means of the spectral characteristics of the light measured by the spectral measuring means. Means for adjusting the rate of reduction in the speed of the continuous casting apparatus. A mold wall assembly.
【請求項13】 請求項10記載の鋳型壁アセンブリにおいて、 前記スペクトル測定手段によって測定された光のスペクトル特性の分析手段に
よって実行された分析に応じて前記連続鋳造の性能変数のうちの少なくとも1つ
を変更する手段は、 前記内側部分から熱が透過する速度を調節する手段を有するものである ことを特徴とする鋳型壁アセンブリ。
13. The mold wall assembly of claim 10, wherein at least one of the performance variables of the continuous casting is responsive to an analysis performed by the analyzing means of the spectral properties of the light measured by the spectral measuring means. Means for adjusting the rate at which heat is transmitted from said inner portion.
【請求項14】 連続鋳造材料のストランドを生成する方法であって: (a) 少なくとも1つの鋳型表面が高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料か
らなる外コーティングを有する複数の鋳型表面を有する鋳型に対して、溶融金属
を導入する工程と、 (b) 前記外コーティングを通してこの溶融金属から熱を除去することによっ
てこの溶融金属を冷却する工程と、 (c) 前記ストランドを前記鋳型から動かす工程と を有することを特徴とする方法。
14. A method for producing a strand of a continuous cast material, comprising: (a) at least one mold surface having a plurality of mold surfaces having an outer coating of a degradable non-metallic material having high thermal conductivity. Introducing a molten metal to a mold; (b) cooling the molten metal by removing heat from the molten metal through the outer coating; and (c) moving the strand from the mold. A method comprising: and
【請求項15】 請求項14記載の方法において、 前記工程(a)は、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料がダイヤモンドと結晶性チッ化ホ
ウ素からなるグループから選択されたものである状態の下で行なわれるものであ
る ことを特徴とする方法。
15. The method of claim 14, wherein in step (a), the high thermal conductivity, non-deteriorating non-metallic material is selected from the group consisting of diamond and crystalline boron nitride. A method performed under conditions.
【請求項16】 請求項14記載の方法において、 前記工程(a)は、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料が、炭素含有材料を含むものであ
る状態の下で行われる ことを特徴とする方法。
16. The method according to claim 14, wherein the step (a) is performed under a condition that the high thermal conductivity non-deteriorating nonmetallic material includes a carbon-containing material. how to.
【請求項17】 請求項14記載の方法において、 前記工程(a)は、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料が、炭素の同素体を含むものであ
る状態の下で実行されるものである ことを特徴とする方法。
17. The method of claim 14, wherein step (a) is performed under conditions where the high thermal conductivity, non-degradable non-metallic material comprises a carbon allotrope. A method comprising:
【請求項18】 請求項14記載の方法において、 前記工程(a)は、 前記高熱伝導性を有する耐劣化性非金属材料が赤外線範囲において透過性を有
するものである状態の下で実行されるものである ことを特徴とする方法。
18. The method of claim 14, wherein step (a) is performed under conditions wherein the high thermal conductivity degradable non-metallic material is transparent in the infrared range. The method characterized in that:
【請求項19】 請求項18記載の方法において、 さらに、 前記材料を通して連続鋳造工程の状態を光学的に監視するための光学式モニタ
リング工程を有する ことを特徴とする方法。
19. The method according to claim 18, further comprising an optical monitoring step for optically monitoring a condition of a continuous casting process through the material.
【請求項20】 請求項19記載の方法において、 前記水晶で透明のダイアモンド部材の層を通して前記連続鋳造工程の状態を光
学的に監視する工程は、 前記透過材料の前記鋳型の鋳造面と反対側の面に光学的に取着された光ファイ
バの使用を含むものである ことを特徴とする方法。
20. The method of claim 19, wherein the step of optically monitoring the status of the continuous casting process through a layer of quartz transparent diamond member comprises: opposing a casting surface of the mold of the transparent material. The use of an optical fiber optically attached to the surface.
【請求項21】 請求項19記載の方法において、 前記光学光学式モニタリング工程は、ペクトル測定工程を有し、このスペクト
ル測定工程は、前記透過材料を透過した光のスペクトル特性を測定するものであ
る ことを特徴とする方法。
21. The method according to claim 19, wherein the optical-optical monitoring step includes a spectrum measurement step, and the spectrum measurement step measures a spectral characteristic of light transmitted through the transmission material. A method comprising:
【請求項22】 請求項21記載の方法において、 前記光学式モニタリング工程は、前記スペクトル測定工程によって測定され
た光のスペクトル特性を分析するための工程を有するものであることを特徴とす
る方法。
22. The method according to claim 21, wherein said optical monitoring step comprises a step of analyzing a spectral characteristic of the light measured by said spectrum measuring step.
【請求項23】 請求項22記載の方法において、 さらに、連続鋳造工程の少なくとも1つの性能変数を、前記スペクトル測定工
程によって測定されたスペクトル特性を分析するための工程によって実行された
分析の結果に応じて、変更する工程を有する ことを特徴とする方法。
23. The method according to claim 22, further comprising: at least one performance variable of the continuous casting step being a result of the analysis performed by the step for analyzing the spectral properties measured by the spectrum measuring step. A method according to claim 1, wherein the method includes a step of changing in response.
【請求項24】 請求項22記載の方法において、 前記前記スペクトル測定工程によって測定された光のスペクトル特性を分析する
ための工程は、 前記鋳型壁アセンブリに隣接する鋳造ストランドの外側表面の温度を検出する
ための工程を含む ことを特徴とする方法。
24. The method of claim 22, wherein analyzing the spectral characteristics of the light measured by the spectral measuring step comprises detecting a temperature of an outer surface of a casting strand adjacent the mold wall assembly. A method comprising the steps of:
【請求項25】 請求項23記載の方法において、 前記スペクトル測定工程によって測定された光のスペクトル特性の分析工程に
よって実行された分析に応じて前記連続鋳造の性能変数のうちの少なくとも1つ
を変更する工程は、 前記連続鋳造装置の速度の減速率を調整する工程を有するものであることを特
徴とする方法。
25. The method of claim 23, wherein at least one of the continuous casting performance variables is changed in response to an analysis performed by an analysis of the spectral properties of the light measured by the spectrum measurement. Performing the step of adjusting the rate of reduction of the speed of the continuous casting apparatus.
【請求項26】 請求項23記載の方法において、 前記スペクトル測定工程によって測定された光のスペクトル特性の分析工程
によって実行された分析に応じて前記連続鋳造の性能変数のうちの少なくとも1
つを変更する工程は、 前記内側部分から熱が透過する速度を調節する手段を有するものである ことを特徴とする方法。
26. The method of claim 23, wherein at least one of the performance variables of the continuous casting is responsive to an analysis performed by an analysis of the spectral properties of the light measured by the spectrum measurement.
The step of modifying one comprises means for adjusting the rate at which heat is transmitted from the inner portion.
【請求項27】 連続鋳造装置に使用される鋳型アセンブリであって、 それぞれ少なくとも1つの鋳型表面を有し、上端開口と下端開口を有する鋳造
空間を区画する複数の鋳型壁を有し、 少なくとも1つの前記鋳型壁は、高熱伝導性を有する耐劣化性の非金属材料で
形成され、これによって、前記良好な耐劣化性及び熱伝導性能を連続鋳造装置の
動作中に奏するように構成されている ことを特徴とする鋳型アセンブリ。
27. A mold assembly for use in a continuous casting apparatus, comprising: a plurality of mold walls each having at least one mold surface and defining a casting space having an upper end opening and a lower end opening; The two mold walls are formed of a degradable non-metallic material having high thermal conductivity, thereby being configured to exhibit the good degradation resistance and heat transfer performance during operation of a continuous casting apparatus. A mold assembly, characterized in that:
【請求項28】 連続鋳造材料のストランドを製造する方法であって、 (a) 複数の鋳型表面を有する鋳型に対して、溶融金属を導入する工程と、 (b) 前記鋳型表面を通した熱伝導によって前記溶融金属から熱を除去する
ことによってこの溶融金属を冷却する工程と、 (c)前記少なくとも1つの鋳型表面を通して起こるふく射熱によって前記鋳
型内に位置する溶融金属をさらに冷却する工程と を有することを特徴とする方法。
28. A method of producing a strand of continuous casting material, comprising: (a) introducing molten metal into a mold having a plurality of mold surfaces; and (b) heat passing through the mold surface. Cooling the molten metal by removing heat from the molten metal by conduction; and (c) further cooling the molten metal located within the mold by radiant heat generated through the at least one mold surface. A method comprising:
【請求項29】 請求項28記載の方法において、 前記少なくとも1つの鋳型表面は、赤外線範囲において略透過性を有する材料
を有するものである ことを特徴とする方法。
29. The method of claim 28, wherein the at least one mold surface comprises a material that is substantially transparent in the infrared range.
【請求項30】 請求項29記載の方法において、 前記材料はダイヤモンドと結晶性チッ化ホウ素からなるグループから選択され
たものである ことを特徴とする方法。
30. The method of claim 29, wherein said material is selected from the group consisting of diamond and crystalline boron nitride.
【請求項31】 連続鋳造装置で使用するための鋳型アセンブリであって、 鋳型の鋳造表面を構成する表面を有し、 この表面は、赤外線領域において少なくとも部分的にふく射を透過させるもの
であり、それにより前記鋳型は前記鋳型内に位置する溶融金属を前記表面を通し
て起こるふく射熱伝導の手段によって冷却するものである ことを特徴とする鋳型アセンブリ。
31. A mold assembly for use in a continuous casting machine, the mold assembly having a surface comprising a casting surface of the mold, the surface being at least partially transparent to radiation in the infrared region. A mold assembly wherein the mold cools the molten metal located within the mold by means of radiant heat conduction occurring through the surface.
【請求項32】 請求項31記載の鋳型アセンブリにおいて、 前記材料はダイヤモンドと結晶性チッ化ホウ素からなるグループから選択され
たものである ことを特徴とする鋳型アセンブリ。
32. The mold assembly of claim 31, wherein said material is selected from the group consisting of diamond and crystalline boron nitride.
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