JP2002507747A - サンプル内の成分の三次元分布を分析する方法および装置 - Google Patents
サンプル内の成分の三次元分布を分析する方法および装置Info
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Abstract
Description
よび方法に関する。 EP-A-0767369が、近赤外放射線を使用して伝送測定を行うサンプル分析装置を
開示している。しかしながら、この装置は、サンプルの中味、代表的にはサンプ
ル内の或る特定の成分の量に関してほんの限られた情報しか提供できない。そし
て、たとえば、サンプル内の1つまたはそれ以上の成分の三次元分布に関しては
、詳細な情報を提供することができない。
特にマルチプルユニット・ペレット系錠剤またはカプセルを分析する装置および
方法であって、サンプル内の1つまたはそれ以上の成分の三次元分布に関して情
報を得ることのできる装置および方法を提供することにある。
位置決めするためのサンプル位置決めユニットと、サンプルの第1、第2の表面
の各々に少なくとも1つの電磁放射線ビームを与えるための放射線発生ユニット
と、サンプルの第1、第2の表面の各々を通して伝送された放射線から少なくと
も1つのイメージを得るための像形成ユニットと、像形成ユニットによって得ら
れたイメージを捕捉し、それに対応する信号を生成するための検知器ユニットと
、検知器ユニットから受信した信号に作用し、サンプル内の少なくとも1つの成
分の三次元分布を表す信号を生成するための分析ユニットとを包含することを特
徴とする装置を提供する。
を包含する。 或る実施態様において、サンプル位置決めユニットは、トラックを通してサン
プルを段階的に移動させるように構成される。 別の実施態様において、サンプル位置決めユニットは、トラックを通してサン
プルを連続的に移動させるように構成される。 或る実施態様において、放射線ビームのうち少なくとも1つが平行化処理され
る。 別の実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは収斂している。 さらに別の実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは発散している
。 或る実施態様において、放射線ビームのうち少なくとも1つ放射線ビームの光
学軸は、サンプルのそれぞれの表面に対して実質的に垂直である。 別の実施態様において、放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームの
光学軸は、サンプルのそれぞれの表面にたいして角をなしている。 或る実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは、サンプルのそれぞ
れの表面を実質的に完全に照射するように寸法決めしてある。 別の実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは、サンプルのそれぞ
れの表面の面積よりも小さい面積を照射するように寸法決めしてある。
とも1つの方向に放射線ビームの少なくとも1つを移動させ、サンプルのそれぞ
れの表面を実質的に完全に放射線ビームの少なくとも1つで走査するように構成
される。 好ましくは、サンプルの第1、第2の表面は、互いに反対方向に向いた面であ
る。 好ましくは、放射線ビームの少なくとも1つは可視光である。 好ましくは、放射線ビームの少なくとも1つは赤外放射線である。 より好ましくは、赤外放射線は、近赤外領域にある。 またさらに好ましくは、赤外放射線は、700〜1700ナノメーター、特に
700〜1300ナノメーターの波長に対応する範囲の周波数を有する。 好ましくは、放射線ビームの少なくとも1つはX線放射線である。 好ましくは、放射線発生ユニットは、少なくとも1つの放射線源と、少なくと
も1つの光学要素とを包含する。 好ましくは、放射線発生ユニットは、さらに、各放射線源の下流側に位置する
可動拡散器を包含する。 好ましくは、放射線発生ユニットは、さらに、各放射線源の下流側に位置する
偏光器を包含する。
びそれに付随した光学要素を包含し、放射線源の各々が、それぞれ、サンプルの
第1、第2の表面を照射する少なくとも1つの放射線ビームを与える。 或る実施態様において、放射線源の任意のものまたは各々は、レーザー、好ま
しくはダイオード・レーザーを包含する。
を包含する。 好ましくは、像形成ユニットは、サンプルの第1、第2の表面の各々を通して
伝送される少なくとも1つの放射線イメージを提供する少なくとも1つの光学要
素を包含する。 より好ましくは、像形成ユニットは、さらに、サンプルの第1、第2の表面の
各々を通して伝送される放射線を偏光させる少なくとも1つの偏光器を包含する
。 より好ましくは、像形成ユニットは、さらに、サンプルの第1、第2の表面の
各々を通して伝送される放射線から、異なった単一周波数または周波数帯の複数
のイメージを得る少なくとも1つのビーム・スプリッタを包含する。
ッタを包含し、このビーム・スプリッタは、少なくとも1つの光学要素と共に、
サンプルの第1、第2の表面の各々を通して伝送される放射線から、異なった単
一周波数または周波数帯の複数のイメージを得る。 別の実施態様において、ビーム・スプリッタは、サンプルの第1、第2の表面
の各々を通して伝送される放射線を複数の成分に分離する非周波数依存型ビーム
・スプリッタと、それぞれの成分の各々を濾波して異なった単一周波数または周
波数帯の放射線を得る複数のフィルタとを包含し、これらのビーム・スプリッタ
、フィルタは、少なくとも1つの光学要素と共に、サンプルの第1、第2の表面
の各々を通して伝送される放射線から、異なった単一周波数または周波数帯の複
数のイメージを得る。
し、この透過型回折格子は、少なくとも1つの光学要素と共に、サンプルの第1
、第2の表面の各々を通して伝送される放射線から、異なった単一周波数または
周波数帯の複数のイメージを得る。 さらに他の実施態様において、ビーム・スプリッタは、サンプルの第1、第2
の表面の各々を通して伝送される放射線を複数の成分に分離するプリズム・アレ
イと、それぞれの成分の各々を濾波して異なった単一周波数または周波数帯の放
射線を得る複数のフィルタとを包含し、これらプリズム・アレイ、フィルタは、
少なくとも1つの光学要素と共に、サンプルの第1、第2の表面の各々を通して
伝送される放射線から、異なった単一周波数または周波数帯の複数のイメージを
得る。
第2の表面の各々を通して伝送される放射線を複数の成分に分離する複数のレン
ズと、それぞれの成分の各々を濾波して異なった単一周波数または周波数帯の放
射線を得る複数のフィルタとを包含し、これらレンズ、フィルタは、少なくとも
1つの光学要素と共に、サンプルの第1、第2の表面の各々を通して伝送される
放射線から、異なった単一周波数または周波数帯の複数のイメージを得る。
次元アレイ検知器である。 他の好ましい実施態様において、各検知器は、アレイ検知器のサブアレイであ
る。 さらに好ましい実施態様において、前記または少なくとも1つの検知器は、一
次元アレイ検知器である。 或る実施態様において、検知器ユニットは、使用時に、少なくとも1つの検知
器を移動させて像形成ユニットによって得られたイメージを捕捉するように構成
される。 好ましくは、少なくとも1つの検知器は、CMOSチップ、CCDチップまた
は焦点面アレイのうちいずれかを包含する。
と、サンプルの第1、第2の表面をそれぞれ少なくとも1つの電磁放射線ビーム
で照射する段階と、サンプルの第1、第2の表面を通して伝送された放射線を像
形成する段階と、像形成された放射線を捕捉し、それに対応する信号を生成する
段階と、像形成された放射線に対応する信号に作用し、サンプル内の少なくとも
1つの成分の三次元分布を表す信号を生成する段階とを包含することを特徴とす
る方法も提供する。
。 別の実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは収斂している。 さらに別の実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは発散している
。 或る実施態様において、放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームの
光学軸は、サンプルのそれぞれの表面に対して実質的に垂直である。
光学軸は、サンプルのそれぞれの表面にたいして角をなしている。 或る実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは、サンプルのそれぞ
れの表面を実質的に完全に照射するように寸法決めしてある。 別の実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つは、サンプルのそれぞ
れの表面の面積よりも小さい面積を照射するように寸法決めしてあり、そして、
サンプルのそれぞれの表面は、この少なくとも1つの放射線ビームで走査するこ
とによってほぼ完全に照射される。
それぞれの表面の面積よりも小さい面積を照射するように寸法決めしてあり、サ
ンプルのそれぞれの表面は、サンプルを移動させて前記少なくとも1つの放射線
ビームで走査することによってほぼ完全に照射される。 好ましくは、放射線ビームの少なくとも1つのは、線形である。 好ましくは、サンプルの第1、第2の表面は、互いに反対方向に向いた面であ
る。 好ましくは、放射線は、単一周波数、単一周波数帯、複数の単一周波数または
複数の周波数帯を包含する。
である。 別の実施態様において、放射線ビームの少なくとも1つはパルス化される。 好ましくは、各パルスにおける放射線の周波数または周波数帯は異なっている
。 好ましくは、放射線ビームの少なくとも1つは可視光である。 好ましくは、放射線ビームの少なくとも1つは赤外放射線である。 好ましくは、赤外放射線は、近赤外領域にある。
、700〜1300ナノメーターの波長に対応する範囲の周波数を有する。 好ましくは、放射線ビームの少なくとも1つはX線放射線である。 好ましくは、放射線を像形成する段階は、サンプルの第1、第2の表面の各々
を通して伝送される放射線から、異なった単一周波数または周波数帯の複数のイ
メージを得る段階を包含する。
を案内するためのサンプル位置決めユニット1を包含し、このサンプルの第1、
第2のほぼ互いに反対方向に向いた表面3a、3bを位置決めするようになって
いる。このサンプル位置決めユニット1は、ベース5とトラック7(本実施態様
では、電磁放射線に対して透明である材料から形成した管状部分)とを包含し、
このトラックを通してサンプル3が、各サンプル3が分析中に移動している場合
には連続的に、各サンプルが分析中に静止している場合には段階的に送られる。
サンプル位置決めユニット1は、さらに、第1、第2のシールド・プレート12
、13を包含し、これらのシールド・プレートは、それぞれ、サンプル3の第1
、第2の表面3a、3bに隣接して配置されている。シールド・プレート12、
13は、各々、放射線が通過できる窓を構成する開口14、15を包含する。実
際には、シールド・プレート12、13における開口14、15は、サンプル3
の第1、第2の表面3a、3bよりわずかに小さい寸法となるように寸法付けて
ある。こうして、像形成ユニット23を通過するすべての放射線は、シールド・
プレート12、13の開口14、15を通過し、サンプル3の中を通り抜けざる
を得ない。したがって、シールド・プレート12、13は、開口14、15の外
のいかなる放射線をも阻止するように作用する。
発生ユニット16を包含する。本実施態様において、放射線発生ユニット16は
、所定周波数帯を有する放射線を提供するように構成されている。特に好ましい
実施態様において、放射線発生ユニット16は、狭い周波数帯、好ましくは近赤
外領域の周波数帯を有する放射線を提供するように構成されている。別の実施態
様において、放射線発生ユニット16は、単一周波数、複数の単一周波数または
複数の周波数帯(各々好ましくは狭い帯域)を包含する放射線を提供するように
構成され得る。それに加えて、放射線は連続的あるいはパルス状であってもよい
。
素18、19、20、21a、21b、21c、22a、22b、23a、23
b、23c、23dとを包含する。これらの光学要素としては、偏光器18、拡
散器19、ビーム・スプリッタ20、第1〜第3のミラー21a、21b、21
c、第1、第2のレンズ22a、22b、第1〜第4のシールド・プレート23
a、23b、23c、23dがある。これらの光学要素により、サンプル3を通
して両方向の、すなわち、第1表面3aから第2表面3bならびにその逆への伝
送測定を行えると共に、サンプル3の両面からの、すなわち、第1、第2の表面
3a、3bからの反射測定を行うことができる。本実施態様においては、偏光器
18は少なくとも1つの放射線源17の下流側に設けられ、完全に偏光させた放
射線を得られるようにしている。本実施態様においては、拡散器19(代表的に
は回転または振動する要素)は、少なくとも1つの放射線源17の下流側に配置
してあり、この少なくとも1つの放射線源17が、たとえば、レーザーである場
合に生じる可能性のあるスペックルを防ぐことができる。特に好ましい実施態様
において、放射線発生ユニット16は、さらに、放射線を像形成ユニット23に
送るための繊維束(図示せず)を包含する。特に好ましい実施態様において、少
なくとも1つの放射線源17は、アーク・ランプ、X線源、レーザー(ダイオー
ド・レーザー)または発光ダイオード(LED)のような可視光源のいずれから
なるものであってもよい。特に好ましい実施態様において、放射線発生ユニット
16は、複数の放射線源17、代表的には、発光ダイオードまたはダイオード・
レーザーのスタックを包含し、それにより、サンプル3を選択的に照射すること
ができる。この実施態様では、放射線発生ユニット16は、それぞれ、サンプル
3の第1、第2の表面の全領域に対して或る角度で送られ、この全領域をほぼ均
一に照射する平行放射線ビームを与えるように構成されている。この構成は、よ
り大きい入射角で、サンプル3が存在しないときに、放射線が像形成ユニット2
3へ、次いで、検出器ユニット25へ通ってそれを破壊するのを防ぐという利点
を与える。特に好ましい実施態様において、本装置は、さらに、サンプル3が存
在しないときに、放射線を向ける非反射型要素(図示せず)を包含する。別の実
施態様において、放射線発生ユニット16は、サンプル3の第1、第2の表面3
a、3bに対して実質的に直角の方向の平行放射線ビームを提供するように構成
することができる。さらに別の実施態様において、放射線発生ユニット16は、
収斂する放射線ビームを提供するように構成し、収斂点を、サンプル3の第1、
第2の表面3a、3bのうち、放射線を与える表面と別の表面を越えたところに
設置する。さらに別の実施態様において、放射線発生ユニット16は、発散する
放射線ビームを提供するように構成することができる。
20、ミラー21a、21b、21cおよびシールド・プレート23a、23b
、23c、23dは、検知器ユニット25がそれぞれの伝送イメージ、反射イメ
ージを捕捉するように作動可能に構成される。第1の構成において、少なくとも
1つの放射線源17は、ビーム・スプリッタ20および第1のミラー21aを通
してサンプル3の第1表面3aだけに放射線を与える。放射線は、第2のシール
ド・プレート23bによってサンプル3の第2表面3bに通るのを阻止され、サ
ンプル3の第1表面3aから反射してきた放射線は、第3のシールド・プレート
23cによって阻止される。こうして、検知器ユニット25は、第1表面3aか
ら第2表面3bへの方向にサンプル3を通して伝送される放射線のイメージを得
る。第2の構成において、少なくとも1つの放射線源17は、ビーム・スプリッ
タ20および第1のミラー21aを通してサンプル3の第1表面3aだけに放射
線を与える。放射線は、サンプル3の第2表面3bに通るのを阻止され、サンプ
ル3の第1表面3aから第2表面3bへの方向にサンプル3を通して伝送される
放射線は、第4シールド・プレート23bによって阻止される。こうして、検知
器ユニット25は、第2、第3のミラー21b、21cを経て、サンプル3の第
1表面3aから反射してきた放射線のイメージを得る。第3の構成において、少
なくとも1つの放射線源17は、ビーム・スプリッタ20を経て、サンプル3の
第2表面3bにのみ放射線を与える。放射線は、第1のシールド・プレート23
aによってサンプル3の第1表面3aに通るのを阻止され、サンプル3の第2表
面3bから反射してきた放射線は、第4シールド・プレート23dによって阻止
される。こうして、検知器ユニット25は、第2、第3のミラー21b、21c
を経て、第2表面3bから第1表面3aへの方向にサンプル3を通して伝送され
る放射線のイメージを得る。第4の構成において、少なくとも1つの放射線源1
7は、ビーム・スプリッタ20を経て、サンプル3の第2表面3bだけに放射線
を与える。放射線は、第1のシールド・プレート23aによってサンプル3の第
1表面3aに通るのを阻止され、そして、第2表面3bから第1表面3aへの方
向にサンプル3を通して伝送される放射線は、第3のシールド・プレート23c
によって阻止される。こうして、検知器ユニット25は、サンプル3の第2表面
3bから反射してきた放射線イメージを得る。使用にあたって、放射線は、選択
的に、同時あるいは交互のうち好ましい方で、サンプル3の第1、第2の表面3
a、3bに与えられ、検知器ユニット25がそれぞれの伝送、反射イメージを捕
捉することができる。
。像形成ユニット24は、サンプル3から受け取った放射線イメージを検知器ユ
ニット25に与える。図4に示すように、像形成ユニット23は、受信した放射
線を完全に偏光させる少なく1つの偏光器26と、少なくとも1つの光学要素2
7(本実施態様では、少なくとも1つのレンズ)とを包含し、検知器ユニット2
5は、像形成された放射線を捕捉する少なくとも1つの検知器29を包含する。
本実施態様において、少なくとも1つの検知器29は、二次元アレイ検知器、特
にCMOSチップ、CCDチップまたは焦点面アレイを包含する。特に好ましい
実施態様において、少なくとも1つの検知器29は、InGaAsカメラを包含する。
特に好ましい実施態様において、像形成ユニット23は、さらに、像形成された
放射線を少なくとも1つの検知器29に与える繊維束(図示せず)を包含する。
最も好適な実施態様において、繊維束内の各個々の繊維あるいは繊維群は別体の
検知器29に接続される。
三次元分布に関するさらなる情報を得るために、本装置は、複数の異なった単一
周波数または周波数帯(各々、好ましくは、狭い帯域)の放射線を使用してサン
プル3を分析するように構成される。
なった単一周波数または周波数帯の放射線を選択的に与えるように構成され得る
。実際に、これは、放射線のパルス(各々、異なった単一周波数または周波数帯
)を提供し、検出器ユニット25を各パルスでトリガするように放射線発生ユニ
ット16を構成することによって達成され得る。各それぞれの単一周波数または
周波数帯の放射線でサンプル3を照射するに際して、検知器ユニット25は、後
述するように、複数の個別のイメージを受信し、これらのイメージを分析ユニッ
ト61によって操作する。
器ユニット25に異なった単一周波数または周波数帯の2つ以上のイメージを与
えるビーム・スプリッタ31を包含し得る。2つ以上のイメージが検知器ユニッ
ト25に与えられる場合、検知器ユニット25は、各イメージを与える対応する
数の検知器29または単一の検知器29を包含する。複数の検知器29を使用す
る実施態様においては、これらの検知器29は、各々1つの検知器29を構成す
る複数のサブアレイを有する単一のチップ上に設けられる。ビーム・スプリッタ
31は多くの形態を採り得る。1つの形態において、図6に示すように、ビーム
・スプリッタ31は、少なくとも1つのレンズ27から受け取ったイメージIを
、第1の周波数または周波数帯の第1のイメージI1と、第2の周波数または周 波数帯の第2のイメージI2とに分離する周波数依存型ビーム・スプリッタ33 を包含する。別の形態においては、図7に示すように、ビーム・スプリッタ31
は、少なくとも1つのレンズ27から受け取ったイメージIを第1の周波数また
は周波数帯の第1のイメージI1を2つの均等な成分に分離する非周波数依存型 ビーム・スプリッタ35と、これらの成分の1つを濾波して第1の周波数または
周波数帯の第1イメージI1を得る第1のフィルタ37と、他の成分を濾波して 第2の周波数または周波数帯の第2のイメージI2を得る第2のフィルタ39と を包含する。さらに別の形態においては、図8に示すように、ビーム・スプリッ
タ31は、少なくとも1つのレンズ27から受け取ったイメージIを第1の周波
数または周波数帯の第1のイメージI1と第2の周波数または周波数帯の第2の イメージI2とに分離する透過型回折格子41を包含する。さらに別の形態にお いては、図9に示すように、ビーム・スプリッタ31は、少なくとも1つのレン
ズ27から受け取ったイメージIを2つの均等な成分に分離するプリズム・アレ
イ43と、成分の一方を濾波して第1の周波数または周波数帯の第1のイメージ
I1を得る第1のフィルタ45と、他の成分を濾波して第2の周波数または周波 数帯の第2のイメージI2を得る第2のフィルタ47とを包含する。またさらに 別の形態において、図10に示すように、ビーム・スプリッタ31は、それぞれ
、少なくとも1つのレンズ27から受け取ったイメージIを第1、第2、第3の
均等な成分に分離する第1、第2、第3のレンズ49、51、53と、第1成分
を濾波して第1の周波数または周波数帯の第1のイメージI1を得る第1のフィ ルタ55と、第2成分を濾波して第2の周波数または周波数帯の第2のイメージ
I2を得る第2のフィルタ57と、第3成分を濾波して第3の周波数または周波 数帯の第3のイメージI3を得る第3のフィルタ59とを包含する。
つまたはそれ以上の検知器29から受信した信号に作用して関連した情報を信号
として抽出する処理手段(図示せず)を包含する。抽出された信号は、部分的に
、サンプル3内の1つまたはそれ以上の成分、たとえば、医薬サンプル内の活性
成分または賦形剤の三次元分布を代表する1つまたはそれ以上の二次元イメージ
を表示するためのディスプレイ(図示せず)に送ることができる。たとえば、図
11、12が、それぞれ、キャリヤ・マトリックス内に均一に分布した成分を包
含する第1サンプル3の第1、第2の互いに反対方向に向いた表面3a、3bを
通して伝送される放射線から生成したイメージを示している。そして、図13、
14が、それぞれ、キャリヤ・マトリックス内に均一に分布した成分(この成分
は、サンプル3の第1表面3aに隣接して或る厚さに限定されている)を包含す
る第2サンプル3の第1、第2の互いに反対方向に向いた表面3a、3bを通し
て伝送された放射線から生成したイメージを示している。これらのイメージにお
いて、より明るい、すなわち、より強い領域が成分を表している。肉眼で明らか
なように、図14におけるイメージ(第2サンプル3の第2表面3bを通して伝
送された放射線からのもの)は、個々の明るい領域を含んでおらず、サンプル3
の表面3bに隣接して存在している成分をなんら表していない。実際、図13、
14は、サンプル内の成分の三次元分布を決定するのに、サンプルを通って単一
の方向に伝送される放射線を像形成するだけでは不充分であることを明白に立証
している。抽出された信号は、次に、それぞれのグレイスケール・ベクトルに変
換される。これらのベクトルは、抽出された信号を数学的に表しており、たとえ
ば、グレイの関数としての強度を表す棒グラフの生成に用いられる。図11〜1
4のイメージにおいて、各イメージは、8ビットのイメージであるが、解像度を
高めた場合に、各イメージが、たとえば、24ビット・イメージになることがあ
ることは了解されたい。たとえば、図15、16は、それぞれ、図13、14に
示すような第2のサンプル3からの伝送イメージに対応する棒グラフを表してい
る。サンプル3の均質性の計測手段として、一変量型または多変量型のイメージ
解析技術を棒グラフに適用してもよい。主成分分析、部分最小二乗法分析または
ニューラル・ネットワーク分析が、多変量型イメージ解析法である。このような
計測手段は、較正時に、サンプル3内の成分の三次元分布と相関させることがで
きる。これらの変換された信号は、次いで、プロセス制御のために、たとえば、
混合システムの制御やサンプル分類時に制御のために、サンプル3の製造装置に
送ることができる。この好ましい実施態様において、個々の棒グラフは、サンプ
ル3のそれぞれの表面3a、3bを通して伝送される放射線から生成した単一イ
メージから生成される。別の代替実施態様において、各伝送測定値から生成した
イメージは、実際に単一の棒グラフとして統合し、操作することができる。別の
代替実施態様においては、棒グラフは、各伝送測定値から生成した複数のイメー
ジから生成することができる。これらの棒グラフは、個別に操作したり、あるい
は、操作する前に統合したりすることができる。
して連続的に移動している)において、放射線発生ユニット16が起動して、サ
ンプル3がその前方の所定位置にあるときに各サンプル3を単一周波数または周
波数帯の放射線あるいは複数の単一周波数または周波数帯を包含する放射線で照
射する。特に好ましい実施態様においては、放射線発生ユニット16は、センサ
(図示せず)から信号を受信してそれぞれのサンプル3の所定位置を確かめてか
ら起動される。同時に、検知器ユニット25は、サンプル3から受信した放射線
のイメージを検出し、分析ユニット61が、サンプル3内の1つまたはそれ以上
の成分の三次元分布を表す関連情報を信号として抽出する。次に、これらの抽出
された信号が変換され、さらに利用される。
する第2使用モードにおいては、放射線発生ユニット16は、それぞれのサンプ
ル3がその前方の所定位置に静止しているときに、単一周波数または周波数帯の
放射線あるいは複数の単一周波数または周波数帯を含む放射線でサンプルを書写
するように起動される。さもなければ、装置は、上記の第1モードで作動する。
の第1、第2の表面3a、3bの各々のほぼ全面積を照射するように構成してあ
り、そして、二次元アレイ検知器である検知器ユニット25における少なくとも
1つの検知器29が、同じ瞬間にサンプル・イメージ全体を捕捉する。しかしな
がら、他の構成も可能であることは了解されたい。
態様と同じ放射線発生ユニット16を包含するが、少なくとも1つの検知器29
は、二次元アレイ検知器ではなくて、一次元アレイ検知器、特にCMOSチップ
、CCDチップまたは焦点面アレイである。この検知器は、一方向においてサン
プル・イメージを捕捉するに充分な長さのものであり、時間分解基準に基づいて
サンプル・イメージ全体を捕捉するように直交方向に動かされる。本実施態様に
おいては、検知器ユニット25は、使用時に放射線が通過する、前記一方向に延
びる狭いスリット65を包含するプレート63を包含する。このプレートの背後
に、少なくとも1つの検知器29が配置される。これら少なくとも1つの検知器
29、プレート63は、直交方向に一体となって動かされ、時間分解基準に基づ
いてサンプル・イメージ全体を捕捉する。
施態様と同じ検知器ユニット25を包含するが、サンプル3の第1、第2の表面
3a、3bを実質的に完全に均一に照射するように構成した放射線発生ユニット
16の代わりに、放射線発生ユニット16は、使用時にサンプル3のそれぞれの
表面3a、3bを通して直交方向に走査される、一方向の放射線ラインを生成す
るように構成されている。本実施態様においては、放射線発生ユニット16は、
ビーム・スプリッタ20の上流側に、プレート67を包含する。このプレートは
、使用時にそこを通して放射線を送るように一方向に延びている狭いスリット6
9を包含する。このプレート67は、使用時に、直交方向に動かされ、サンプル
3のそれぞれの表面3a、3bのほぼ全面積を放射線ラインで照射する。本実施
態様においては、検知器ユニット25における少なくとも1つの検知器29は、
一次元アレイ検知器、二次元アレイ検知器のいずれを包含してもよい。少なくと
も1つの検知器29が一次元アレイ検知器である場合、検知器ユニット25は上
記の第1変更態様として同じ構成を有し、検知器ユニット25におけるプレート
63は、使用時、放射線発生ユニット16におけるプレート67と一体に直交方
向に動かされ、時間分解基準に基づいてサンプル・イメージ全体を捕捉する。
しい実施態様と同じ検知器ユニット25を包含するが、放射線発生ユニット16
がサンプル3の第1、第2の表面3a、3bを実質的に完全に均一に照射するよ
うに構成してあるのではなく、一方向において放射線ラインを生成するように構
成してある。本実施態様においては、サンプル位置決めユニット1のトラック7
は、各サンプル3がこのトラックを通して放射線ラインに相対的に移動するよう
に構成されている。このようにして、サンプル3のそれぞれの表面3a、3bの
全面積が、実質的に、放射線ラインで走査される。本実施態様においては、放射
線発生ユニット16は、使用時に放射線がそれを通って送られる、一方向に延び
る狭いスリット73を包含する、ビーム・スプリッタ20の上流側に配置したプ
レート71を包含する。こうして、サンプル3がサンプル位置決めユニット1の
トラック7を通って、プレート71のスリット73を通過する放射線ラインに相
対的に移動させられるときに、時間分解基準に基づいてサンプル・イメージ全体
が捕捉される。本実施態様においては、検知器ユニット25における少なくとも
1つの検知器29は、一次元アレイ検知器または二次元アレイ検知器のいずれを
包含してもよい。少なくとも1つの検知器29が一次元アレイ検知器である場合
、検知器ユニット25は、上記の第1変更態様と同じ構成を有するが、プレート
63および検知器ユニット25の少なくとも1つの検知器29は、所定位置に固
定され、プレート63のスリット65および検知器ユニット25における少なく
とも1つの検知器29が放射線発生ユニット16のプレート71におけるスリッ
ト73と整合するようにしてある。
ット23に共通にサンプル3から放射線を与えるように構成されている。図20
に示すように、或る変更態様においては、放射線発生ユニット16は、第2、第
3のミラー21b、21cおよび第3、第4のシールド・プレート23c、23
dを省略することよって、第2表面3bから第1表面3aまでの方向においてサ
ンプル3を通って伝送された放射線およびサンプル3の第1表面3aから反射し
てきた放射線の両方と、第1表面3aから第2表面3bまでの方向においてサン
プル3を通って伝送されてきた放射線およびサンプル3の第2表面3bから反射
してきた放射線の両方を別々に与えるように構成してある。それに相応して、像
形成ユニット23は、第2表面3bから第1表面3aまでの方向においてサンプ
ル3を通して伝送された放射線およびサンプル3の第1表面3aから反射してき
た放射線を受ける第1の偏光器26aおよび少なくとも1つの第1の光学要素2
7a(本実施態様においては、少なくとも1つのレンズ)と、第1表面3aから
第2表面3bまでの方向においてサンプル3を通して伝送された放射線およびサ
ンプル3の第2表面3bから反射してきた放射線を受ける第2の偏光器26bお
よび少なくとも1つの第2の光学要素27b(再び、本実施態様においては、少
なくとも1つのレンズ)とを包含する。検知器ユニット25は、少なくとも1つ
の第1のレンズ27aによって像形成された放射線を受ける少なくとも1つの第
1の検知器29aと、少なくとも1つの第2のレンズ27bによって像形成され
た放射線を受ける少なくとも1つの第2の検知器29bとを包含する。第1の構
成において、少なくとも1つの放射線源17は、ビーム・スプリッタ20および
第1のミラー21aを経て、サンプル3の第1表面3aに放射線を与えるが、こ
の放射線は、第2のシールド・プレート23bによってサンプル3の第2表面3
bに通るのを阻止される。こうして、検知器ユニット25における少なくとも1
つの第1の検知器29aは、サンプル3の第1表面3aから反射してきた放射線
のイメージを得、検知器ユニット25における少なくとも1つの第2の検知器2
9bは、第1表面3aから第2表面3bまでの方向においてサンプル3を通して
伝送された放射線のイメージを得る。第2の構成において、少なくとも1つの放
射線源17は、ビーム・スプリッタ20を経てサンプル3の第2表面3bに放射
線を与えるが、この放射線は、第1のシールド・プレート23aによってサンプ
ル3の第1表面3aに通るのを阻止される。こうして、検知器ユニット25にお
ける少なくとも1つの第1の検知器29aは、第2表面3bから第1表面3aま
での方向においてサンプル3を通して伝送された放射線のイメージを得、そして
、検知器ユニット25における少なくとも1つの第2の検知器29bは、サンプ
ル3の第2表面3bから反射してきた放射線のイメージを得る。使用時、放射線
は、選択的に、好ましくは同時あるいは交互に、サンプル3の第1、第2の表面
3a、3bへ送られ、検知器ユニット25がそれぞれの伝送イメージ、反射イメ
ージを捕捉する。
1つの放射線源17がサンプル3の第1、第2の表面3a、3bの両方に放射線
を与えるように構成されている。或る変更態様においては、図21に示すように
、放射線発生ユニット16は、サンプル3の第1表面3aに放射線を与え、サン
プル3の第1表面3aから第2表面3bまでの方向におけるサンプル3からの伝
送測定値およびサンプルの第1表面3aからの反射測定値を獲得するように構成
した少なくとも1つの第1放射線源17aと、サンプル3の第2表面3bに放射
線を与え、サンプル3の第2表面3bから第1表面3aまでの方向におけるサン
プル3からの伝送測定値およびサンプルの第2表面3bからの反射測定値を獲得
するように構成した少なくとも1つの第2放射線源17bとを包含する。放射線
発生ユニット16は、さらに、複数の光学要素18a、18b、19a、19b
、21a、21b、22a、22b、23a、23bを包含する。これらの光学
要素の内訳は、第1、第2の偏光器18a、18b、第1、第2の拡散器19a
、19b、第1、第2のミラー21a、21b、第1、第2のレンズ22a、2
2b、第1、第2のシールド・プレート23a、23bであり、これにより、サ
ンプル3を通る両方向において伝送測定を獲得し、サンプル3の両表面3a、3
bから反射測定値を獲得することができる。以下に後述するように、少なくとも
1つの第1放射線源17a、少なくとも1つの第2放射線源17b、第1、第2
のミラー21a、21b、第1、第2のシールド・プレート23a、23bは、
検知器ユニット25が伝送イメージ、反射イメージのそれそれを捕捉できるよう
に構成してある。第1の構成において、少なくとも1つの第2放射線源17bは
、サンプル3の第2表面3bに放射線を与えず、そして、少なくとも1つの第1
放射線源17aは、サンプル3の第1表面3aに放射線を与え、サンプル3の第
1表面3aによって反射した放射線は第1のシールド・プレート23aによって
阻止される。こうして、検知器ユニット25は、第1表面3aから第2表面3b
までの方向においてサンプル3を通して伝送された放射線のイメージを得る。第
2の構成において、少なくとも1つの第2放射線源17bは、サンプル3の第2
表面3bに放射線を与えず、そして、少なくとも1つの第1放射線源17aが、
サンプル3の第1表面3aに放射線を与え、第1表面3aから第2表面3bまで
の方向においてサンプル3を通して伝送された放射線は、第2のシールド・プレ
ート23bによって阻止される。こうして、検知器ユニット25は、第1、第2
のミラー21a、21bを経て、サンプル3の第1表面3aから反射してきた放
射線のイメージを得る。第3の構成において、少なくとも1つの第1放射線源1
7aは、サンプル3の第1表面3aに放射線を与えず、そして、少なくとも1つ
の第2放射線源17bが、サンプル3の第2表面3bに放射線を与え、サンプル
3の第2表面3bから反射してきた放射線は、第2のシールド・プレート23b
によって阻止される。こうして、検知器ユニット25は、第1、第2のミラー2
1a、21bを経て、第2表面3bから第1表面3aまでの方向においてサンプ
ル3を通して伝送された放射線のイメージを得る。第4の構成において、少なく
とも1つの第1放射線源17aは、サンプル3の第1表面3aに放射線をああ得
ず、そして、少なくとも1つの第2放射線源17bは、サンプル3の第2表面3
bに放射線を与え、第2表面3bから第1表面3aまでの方向においてサンプル
3を通して伝送された放射線は、第1のシールド・プレート23aによって阻止
される。こうして、検知器ユニット25は、サンプル3の第2表面3bから反射
してきた放射線のイメージを得る。使用時、放射線は、選択的に、好ましくは同
時にまたは交互に、サンプル3の第1、第2の表面3a、3bに与えられ、検知
器ユニット25がそれぞれ伝送、反射イメージを捕捉することができる。
施態様が、特許請求の範囲に定義しているような発明の範囲から逸脱することな
く多くの異なった方法で変更できることは了解されたい。
る。
る。
る。
る。
る。
成されたイメージを示している。
成されたイメージを示している。
成されたイメージを示している。
成されたイメージを示している。
示している。
示している。
ユニットを概略的に示している。
Claims (63)
- 【請求項1】 サンプル(3)を位置決めするためのサンプル位置決めユニ
ット(1)と、サンプル(3)の第1、第2の表面の各々に少なくとも1つの電
磁放射線ビームを与えるための放射線発生ユニット(16)と、サンプル(3)
の第1、第2の表面(3a、3b)の各々を通して伝送された放射線から少なく
とも1つのイメージを得るための像形成ユニット(23)と、像形成ユニット(
23)によって得られたイメージを捕捉し、それに対応する信号を生成するため
の検知器ユニット(25)と、検知器ユニット(25)から受信した信号に作用
し、サンプル(3)内の少なくとも1つの成分の三次元分布を表す信号を生成す
るための分析ユニット(61)とを包含することを特徴とする、サンプルを分析
するための装置。 - 【請求項2】 サンプル位置決めユニット(1)が、サンプル(3)が使用
時に通過するトラック(7)を包含することを特徴とする、請求項1による装置
。 - 【請求項3】 サンプル位置決めユニット(1)が、サンプル(3)をトラ
ック(7)を通して段階的に移動させるように構成してあることを特徴とする、
請求項2による装置。 - 【請求項4】 サンプル位置決めユニット(1)が、サンプル(3)をトラ
ック(7)を通して連続的に移動させるように構成してあることを特徴とする、
請求項2による装置。 - 【請求項5】 放射線ビームの少なくとも1つを平行化処理することを特徴
とする、請求項1〜4のいずれか一項による装置。 - 【請求項6】 放射線ビームの少なくとも1つが収斂していることを特徴と
する、請求項1〜4のいずれか一項による装置。 - 【請求項7】 放射線ビームの少なくとも1つが発散していることを特徴と
する、請求項1〜4のいずれか一項による装置。 - 【請求項8】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームの光学軸
が、サンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)に対して実質的に垂直であ
ることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項による装置。 - 【請求項9】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームの光学軸
が、サンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)に対して角をなしているこ
とを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項による装置。 - 【請求項10】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームが、サ
ンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)を実質的に完全に照射するように
寸法決めしてあることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項による装置。 - 【請求項11】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームが、サ
ンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)の面積よりも小さい面積を照射す
るように寸法決めしてあることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項によ
る装置。 - 【請求項12】 放射線発生ユニット(16)が、使用時に少なくとも1つ
の方向に放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームを移動させ、サンプ
ル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)を実質的に完全に走査させるように構
成してあることを特徴とする、請求項11による装置。 - 【請求項13】 サンプル(3)の第1、第2の表面(3a、3b)が互い
に反対方向に向いた表面であることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一
項による装置。 - 【請求項14】 放射線ビームの少なくとも1つが可視光であることを特徴
とする、請求項1〜13のいずれか一項による装置。 - 【請求項15】 放射線ビームの少なくとも1つが赤外放射線であることを
特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項による装置。 - 【請求項16】 赤外放射線が近赤外線の領域にあることを特徴とする、請
求項15による装置。 - 【請求項17】 赤外放射線が、700〜1700ナノメーターの波長に対
応する範囲の周波数を有することを特徴とする、請求項16による装置。 - 【請求項18】 放射線ビームの少なくとも1つがX線放射線であることを
特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項による装置。 - 【請求項19】 放射線発生ユニット(16)が、少なくとも1つの放射線
源(17、17a、17b)と、少なくとも1つの光学要素(18、18a、1
8b、19、19a、19b、20、21a、21b、21c、22a、22b
、23a、23b、23c、23d)とを包含することを特徴とする、請求項1
〜18のいずれか一項による装置。 - 【請求項20】 放射線発生ユニット(16)が、さらに、各放射線源(1
7、17a、17b)の下流に設置した可動拡散器(19、19a、19b)を
包含することを特徴とする、請求項19による装置。 - 【請求項21】 放射線発生ユニット(16)が、さらに、各放射線源(1
7、17a、17b)の下流に設置した少なくとも1つの偏光器(18、18a
、18b)を包含することを特徴とする、請求項19または20による装置。 - 【請求項22】 放射線発生ユニット(16)が、第1放射線源(17a)
と、第2放射線源(17b)と、それらに付随する光学要素(18a、18b、
19a、19b、21a、21b、22a、22b、23a、23b)とを包含
し、各放射線源(17a、17b)が、サンプル(3)の第1、第2の表面(3
a、3b)をそれぞれ照射する少なくとも1つの放射線ビームを与えることを特
徴とする、請求項19〜21のいずれか一項による装置。 - 【請求項23】 放射線源(17、17a、17b)の任意のものあるいは
各々がレーザーからなることを特徴とする、請求項19〜22のいずれか一項に
よる装置。 - 【請求項24】 放射線源(17、17a、17b)の任意のものまたは各
々が、発光ダイオードからなることを特徴とする、請求項19〜22のいずれか
一項による装置。 - 【請求項25】 像形成ユニット(23)が、サンプル(3)の第1、第2
の表面(3a、3b)の各々を通して伝送される少なくとも1つの放射線イメー
ジを与える少なくとも1つの光学要素(27、27a、27b)を包含すること
を特徴とする、請求項1〜24のいずれか一項による装置。 - 【請求項26】 像形成ユニット(23)が、さらに、サンプル(3)の第
1、第2の表面(3a、3b)の各々を通して伝送される放射線を偏光させる少
なくとも1つの偏光器(26、26a、26b)を包含することを特徴とする、
請求項25による装置。 - 【請求項27】 像形成ユニット(23)が、さらに、サンプル(3)の第
1、第2の表面(3a、3b)の各々を通して伝送される放射線から、異なった
単一周波数または周波数帯の複数のイメージを得るための少なくとも1つのビー
ム・スプリッタ(31)を包含することを特徴とする、請求項25または26に
よる装置。 - 【請求項28】 ビーム・スプリッタ(31)が、周波数依存型ビーム・ス
プリッタ(33)を包含し、この周波数依存型ビーム・スプリッタ(33)が、
少なくとも1つの光学要素(27)と共に、サンプル(3)の第1、第2の表面
(3a、3b)の各々を通して伝送される放射線から、異なった単一周波数また
は周波数帯の複数のイメージ(I1、I2)を得ることを特徴とする、請求項27
による装置。 - 【請求項29】 ビーム・スプリッタ(31)が、非周波数依存型ビーム・
スプリッタ(35)を包含し、この非周波数依存型ビーム・スプリッタ(35)
が、サンプル(3)の第1、第2の表面(3a、3b)の各々を通して伝送され
る放射線を複数の成分に分離し、さらに、それぞれの成分の各々を濾波して異な
った単一周波数または周波数帯の放射線を得る複数のフィルタ(37、39)を
包含し、ビーム・スプリッタ(35)およびフィルタ(37、39)が、少なく
とも1つの光学要素(27)と共に、サンプル(3)の第1、第2の表面(3a
、3b)の各々を通して伝送される放射線から、異なった単一周波数または周波
数帯の複数のイメージ(I1、I2)を得ることを特徴とする、請求項27による
装置。 - 【請求項30】 ビーム・スプリッタ(31)が、透過型回折格子(41)
を包含し、この透過型回折格子(41)が、少なくとも1つの光学要素(27)
と共に、サンプル(3)の第1、第2の表面(3a、3b)の各々を通して伝送
される放射線から、異なった単一周波数または周波数帯の複数のイメージ(I1 、I2)を得ることを特徴とする、請求項27による装置。 - 【請求項31】 ビーム・スプリッタ(31)が、プリズム・アレイ(43
)を包含し、このプリズム・アレイ(43)が、サンプル(3)の第1、第2の
表面(3a、3b)の各々を通して伝送される放射線を複数の成分に分離し、さ
らに、それぞれの成分を濾波して異なった単一周波数または周波数帯の放射線を
得る複数のフィルタ(45、47)を包含し、プリズム・アレイ(43)および
フィルタ(45、47)が、少なくとも1つの光学要素(27)と共に、サンプ
ル(3)の第1、第2の表面(3a、3b)の各々を通して伝送される放射線か
ら、異なった単一周波数または周波数帯の複数のイメージ(I1、I2)を得るこ
とを特徴とする、請求項27による装置。 - 【請求項32】 ビーム・スプリッタ(31)が、複数のレンズ(49、5
1、53)を包含し、これらのレンズ(49、51、53)が、サンプル(3)
の第1、第2の表面(3a、3b)の各々を通して伝送される放射線を複数の成
分に分離し、さらに、それぞれの成分を濾波して異なった単一周波数または周波
数帯の放射線を得る複数のフィルタ(55、57、59)を包含し、レンズ(4
9、51、53)およびフィルタ(55、57、59)が、少なくとも1つの光
学要素(27)と共に、サンプル(3)の第1、第2の表面(3a、3b)の各
々を通して伝送される放射線から、異なった単一周波数または周波数帯の複数の
イメージ(I1、I2、I3)を得ることを特徴とする、請求項27による装置。 - 【請求項33】 検知器ユニット(25)が、少なくとも1つの検知器(2
9、29a、29b)を包含することを特徴とする、請求項1〜32のいずれか
一項による装置。 - 【請求項34】 単一の検知器(29)を包含することを特徴とする、請求
項33による装置。 - 【請求項35】 複数の検知器(29a、29b)を包含することを特徴と
する、請求項33による装置。 - 【請求項36】 前記検知器または少なくとも1つの検知器(29、29a
、29b)が、二次元アレイ検知器であることを特徴とする、請求項34または
35による装置。 - 【請求項37】 各検知器(29、29a、29b)が、アレイ検知器のサ
ブアレイであることを特徴とする、請求項35による装置。 - 【請求項38】 前記検知器または少なくとも1つの検知器(29、29a
、29b)が、一次元アレイ検知器であることを特徴とする、請求項34または
35による装置。 - 【請求項39】 検知器ユニット(25)が、使用時に、少なくとも1つの
検知器(29、29a、29b)を移動させて像形成ユニット(23)によって
与えられるイメージを捕捉するように構成してあることを特徴とする、請求項3
3〜38のいずれか一項による装置。 - 【請求項40】 少なくとも1つの検知器(29、29a、29b)が、C
MOSチップ、CCDチップまたは焦点面アレイのうちいずれかを包含すること
を特徴とする、請求項33〜39のいずれか一項による装置。 - 【請求項41】 サンプル(3)を用意する段階と、サンプル(3)の第1
、第2の表面(3a、3b)をそれぞれ少なくとも1つの電磁放射線ビームで照
射する段階と、サンプル(3)の第1、第2の表面(3a、3b)を通して伝送
された放射線を像形成する段階と、像形成された放射線を捕捉し、それに対応す
る信号を生成する段階と、像形成された放射線に対応する信号に作用し、サンプ
ル(3)内の少なくとも1つの成分の三次元分布を表す信号を生成する段階とを
包含することを特徴とする、サンプルを分析する方法。 - 【請求項42】 サンプル(3)が、照射中静止していることを特徴とする
、請求項41による方法。 - 【請求項43】 サンプル(3)が、照射中動いていることを特徴とする請
求項41による方法。 - 【請求項44】 放射線ビームの少なくとも1つを平行化処理することを特
徴とする、請求項41〜43のいずれか一項による方法。 - 【請求項45】 放射線ビームの少なくとも1つが収斂していることを特徴
とする、請求項41〜43のいずれか一項による方法。 - 【請求項46】 放射線ビームの少なくとも1つが発散していることを特徴
とする、請求項41〜43のいずれか一項による方法。 - 【請求項47】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームの光学
軸が、サンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)に対して実質的に垂直で
あることを特徴とする、請求項41〜46のいずれか一項による方法。 - 【請求項48】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線ビームの光学
軸が、サンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)に対して角をなしている
ことを特徴とする、請求項41〜46のいずれか一項による方法。 - 【請求項49】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線が、サンプル
(3)のそれぞれの表面(3a、3b)を実質的に完全に照射するように寸法決
めしてあることを特徴とする、請求項41〜48のいずれか一項による方法。 - 【請求項50】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線が、サンプル
(3)のそれぞれの表面(3a、3b)の面積よりも小さい面積を照射するよう
に寸法決めしてあり、そして、サンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)
が、前記少なくとも1つの放射線で走査することによって、実質的に完全に照射
されることを特徴とする、請求項41〜48のいずれか一項による方法。 - 【請求項51】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線が、サンプル
(3)のそれぞれの表面(3a、3b)の面積より小さい面積を照射するように
寸法決めしてあり、そして、サンプル(3)のそれぞれの表面(3a、3b)が
、サンプル(3)を移動させて前記少なくとも1つの放射線ビームで走査するこ
とによって実質的に完全に照射されることを特徴とする、請求項41〜48のい
ずれか一項による方法。 - 【請求項52】 前記少なくとも1つの放射線ビームが線形であることを特
徴とする、請求項50または51による方法。 - 【請求項53】 サンプル(3)の第1、第2の表面(3a、3b)が、互
いに反対方向に向いた表面であることを特徴とする、請求項41〜52のいずれ
か一項による方法。 - 【請求項54】 放射線が、単一の周波数、単一の周波数帯、複数の単一周
波数または複数の周波数帯を包含することを特徴とする、請求項41〜53のい
ずれか一項による方法。 - 【請求項55】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線が連続的であ
ることを特徴とする、請求項41〜54のいずれか一項による方法。 - 【請求項56】 放射線ビームのうち少なくとも1つの放射線が、パルス化
してあることを特徴とする、請求項41〜54のいずれか一項による方法。 - 【請求項57】 各パルスにおける放射線の周波数または周波数帯が異なっ
ていることを特徴とする、請求項56による方法。 - 【請求項58】 放射線ビームの少なくとも1つが可視光であることを特徴
とする、請求項41〜57のいずれか一項による方法。 - 【請求項59】 放射線ビームの少なくとも1つが赤外放射線であることを
特徴とする、請求項41〜57のいずれか一項による方法。 - 【請求項60】 赤外放射線が、近赤外線領域にあることを特徴とする請求
項59による方法。 - 【請求項61】 赤外放射線が、700〜1700ナノメーターの波長に対
応する範囲の周波数を有することを特徴とする、請求項60による方法。 - 【請求項62】 放射線ビームの少なくとも1つがX線放射線であることを
特徴とする、請求項41〜57のいずれか一項による方法。 - 【請求項63】 放射線を像形成する段階が、サンプル(3)の第1、第2
の表面(3a、3b)の各々を通って伝送される放射線から、異なった単一周波
数または周波数帯の複数のイメージを得る段階を包含することを特徴とする、請
求項41〜62のいずれか一項による方法。
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