JP2002501278A - 情報媒体用の光学式読取り／書込み装置 - Google Patents

情報媒体用の光学式読取り／書込み装置

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JP2002501278A JP2000528980A JP2000528980A JP2002501278A JP 2002501278 A JP2002501278 A JP 2002501278A JP 2000528980 A JP2000528980 A JP 2000528980A JP 2000528980 A JP2000528980 A JP 2000528980A JP 2002501278 A JP2002501278 A JP 2002501278A
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electrode
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Abstract

(57)【要約】 本発明は情報媒体用の光学式読取り／書込み装置に関する。この装置は、そのサイズが書込みまたは読取り対象の情報項目のサイズにほぼ対応するエアギャップ領域（３）を規定する少なくとも１対の電極（Ｅ１〜Ｅ２）を担持するほぼ平坦な面（２０）を有する透明基板（２）であって、１対の電極（Ｅ１〜Ｅ２またはＥ３〜Ｅ４）が前記１対の電極の全電極のアライメントの方向に平行なその電界の１つの成分を有する入射電磁波用の共振器を構成する透明基板と、光ビーム（Ｆ１）で前記電極を照射する光学ソース（１）であって、その電界の１つの成分が前記１対の電極のアライメントの方向に平行である光学ソースとを含む。このような条件下でビームＦ１によって励起されると、電極は、エアギャップ（３）内に電界の集中を有するビームを再放射することになる。この再放射されたビームにより、電極の近くに配置された情報媒体上での情報の読取り／書込みが可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、情報媒体用の光学式読み書き装置に関する。一例として、この媒体
は、磁気ディスクなど、光学媒体あるいは磁気または磁気光学媒体にすることが
できる。
【０００２】 図１ｂは、磁気媒体上での読取り／書込みのための従来のシステムを示してい
る。このようなシステムでは、レーザ・ソースＳ１は、記録媒体Ｄ１上にレンズ
Ｌ１およびＬ２によって集束される光ビームを放射する。これは、たとえば、希
土類の合金（たとえば、テルビウム／鉄合金）などの磁気光学強磁性材料である
。この材料は、その磁化に応じて受け取る光の偏光に作用するという特性を有す
る。光ビームは、情報媒体の磁化との相互作用によってできる限りその偏光を変
更させることにより、記録媒体によって反射される。Ｄ１によって反射されたビ
ームは、ビーム・スプリッタＳＰ１によってビーム・スプリッタＳＰ２に部分的
に経路指定される。スプリッタＳＰ２は、一方の偏光を光検出器ＰＤに経路指定
し、もう一方の偏光をもう一方の光検出器ＰＰに経路指定する偏光スプリッタで
ある。
【０００３】 記録の場合、このようなシステムでは、ソース１によって伝達される十分なエ
ネルギー・レベルのビームを使用する局部加熱によって記録する。記録媒体に加
えられた磁界Ｂの効果のため、記録媒体は、冷えるにつれて、その磁化が加えら
れた磁界の方向に局部的に配向される。
【０００４】 このようなシステムでは、情報単位の最小サイズは回折制限される。これは、
約λ／２（ＮＡ）に等しく、λは光ビームの波長であり、ＮＡはビームの開口数
である。
【０００５】 情報項目のサイズと、したがって、記録された情報の密度は、ビームの波長に
よって制限される。情報媒体上のビーム・スポットのサイズを低減するために、
特に近距離場光学顕微鏡で使用するタイプの技法を利用することは可能である。
【０００６】 近距離場光学顕微鏡で最も伝統的な技法は、回折スポットより小さいサイズの
絞りを使用することにある。観察すべき物体に十分近いところに絞りが配置され
た場合、得られる分解能は本質的に絞りのサイズと等しくなる。この原理に基づ
く近距離場光学顕微鏡については、様々なチームによって記載され、作成されて
いる（Ｄ．Ｗ．Ｐｏｈｌ他によるＡｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅ
ｒｓ ４４，６５２（１９８４年）およびＥ．Ｂｅｔｚｉｇ他によるＡｐｐｌｉ
ｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ ５１，２０８８（１９８７年）の論文
を参照）。
【０００７】 この手法により５００ｎｍ程度の照明波長の場合に５０ｎｍ程度の分解能（分
解能≒λ／１０）を実証することができたが、これには基本的な困難、すなわち
、検出できる光学信号のレベルが非常に低いという問題がある。
【０００８】 実際には、図１ａを見ると分かるように、特に完全な平面ではない表面を結像
できるようにするために、その端部で細くなるように金属化され引き延ばされた
微量ピペットまたは光ファイバの端部に絞りが物理的に作成される。
【０００９】 近距離場顕微鏡用のこのようなプローブは、可変直径の金属化電磁導波管と見
なすことができ、一般に、圧電アクチュエータを使用して結像すべき表面付近ま
で持ち出されかつ移動され、一定の高さで走査を実行できるように様々なサーボ
制御信号を生成することは可能である。
【００１０】 ３通りの動作モードが可能である。
【００１１】 １）伝達モードの動作 導波管は、反対側で絞りから光源、一般にレーザに接続される。導波管内に結
合される光の一部は絞りまで伝搬し、そこでほんの少しが伝達される。少なくと
も部分的に透明な物体の表面を観察する場合、従来の光学システムでは、その物
体を通って伝達された光を収集し、それを光検出器上に向けることができる。プ
ローブによって表面を走査している間にこのように光検出される信号により、逐
点像を再構築することができる。
【００１２】 ２）収集モードの動作 この結像モードは、物体を通る伝達により動作する従来の光学部品を使用して
結像表面を照射することにある。プローブの端部は、表面付近の光学近距離場を
収集するために使用する。このようにプローブ内に結合された光は次に光検出器
に取り込まれる。
【００１３】 ３）反射モードの動作 この第３かつ最後のモードは、前の２通りのモードの組合せと見なすことがで
き、プローブは同時に照射と収集の両方を行うように機能する。光学システム、
たとえば、半透明の構成要素を有するものにより、絞りとは反対側のプローブの
端部は、光源と光検出器に同時に接続することができる。その場合、ファイバの
端部によって反射されるパワーの変動が活用される。
【００１４】 これらの３通りのモードのいずれでも、以下の２つの理由により、高品質信号
の収集が不可能である。 ａ）図１を見ると分かるように、その端部の近くで導波管の直径が大幅に減少
していることにより、減衰領域、すなわち、光波がもはや伝搬されず、減衰して
いる導波管の一領域が規定される。したがって、絞りに向かって伝搬するかまた
はそこから発散される光波の振幅は、この領域を通過するときに、ｅ−ｄ／δの
減衰を経験することになる。この場合、ｄはその領域の長さであり、δは導波管
の詳細構造に応じた固有減衰長である。 ｂ）入射パワー密度に絞りの面積を掛けることによって形成される積に対する
収集または伝達したパワーの割合として規定される絞りの伝達または収集効率は
、（ａ／λ）４に比例する（λに比べて小さい物体による回折に関するレイリー
の法則）。この場合、ａは絞りの半径（規定上、λに比べて小さい）であり、λ
は使用する波長である。
【００１５】 実際に使用可能な条件下では、この２つの複合要因の結果、数十ｍＷ程度の照
度（それ以上でプローブの破壊が観察される使用可能な限界）の場合に１０ｎＷ
程度の光学パワーが検出され、そのパワーは近距離場で表面と効果的に相互作用
する。観察する表面の特性の局部変動に関連する変調度が５％で、波長が５００
ｎｍである場合、検出器のノイズがごくわずかであると想定すると、結果的に１
Ｈｚの帯域幅で７８ｄＢの信号対雑音比になり、それは１ＭＨｚの帯域幅の場合
に１８ｄＢに低減される。したがって、１０００×１０００ピクセルを含む画像
の取込みが１秒未満で実現可能であるとは考えられないことが分かるだろう。
【００１６】 したがって、情報媒体の表面に関する光学式、特に磁気光学式読取り装置とし
てこのような近距離場顕微鏡プローブを使用することは、読取りモードのデータ
転送速度が高い（≧１０Ｍｂ／ｓ）場合、実現可能であるとは考えられない。
【００１７】 前述のように、このようなプローブの端部で使用可能なパワーが非常に低いこ
とも、局部加熱に基づく書込み方法を使用することに対する障害になる。
【００１８】 しかも、前述のプローブの真の構造、すなわち、引き延ばされて金属化された
ピペットまたは光ファイバは、個別に製造しなければならないことを意味し、再
現性問題を提起するものである（すでに分かっているように、プローブの効率は
サイズの４乗として変動する）。
【００１９】 本発明により、これらの問題を解決することができる。
【００２０】 したがって、本発明の主題は、 −そのサイズが書込みまたは読取り対象の情報項目にほぼ対応するエアギャッ
プ領域を規定する少なくとも１対の電極（Ｅ１〜Ｅ２）を担持するほぼ平坦な面
を有する透明基板であって、１対の電極（Ｅ１〜Ｅ２またはＥ３〜Ｅ４）がその
１対の電極の全電極のアライメントの方向に平行なその電界の１つの成分を有す
る入射電磁波用の共振器を構成する透明基板と、 −光ビームで前記電極を照射する光学ソースであって、その電界の１つの成分
がその１対の電極のアライメントの方向に平行である光学ソースとを含むことを
特徴とする情報媒体用の光学式読取り／書込み装置である。
【００２１】 本発明の様々な主題および特徴は、以下の説明および添付図面でより明らかに
なるだろう。
【００２２】 したがって、図２ａから図２ｃに関連して本発明のシステムの一実施形態につ
いて説明する。
【００２３】 このシステムは、十字形に配置された少なくとも２対の電極Ｅ１〜Ｅ２および
Ｅ３〜Ｅ４を面２０上に担持する基板２を含む。電極Ｅ１〜Ｅ２はＸＸ’方向に
整列され、電極Ｅ３〜Ｅ４はＹＹ’方向に整列されている。各対の電極はエアギ
ャップという空間によって分離され、それは、図２ｂの例によれば、両方の電極
対についてほぼ同じ長さｇになっているが、この２つの空間が等しい必要はない
。エアギャップの幅は、数ナノメートルから数十ナノメートルの間の値を有する
ことができる。
【００２４】 これらの電極は、光源１によって伝達される光ビームＦ１で照射される。電極
に入射する光の電界Ｅの１つの成分の方向はＸＸ’方向に平行である。
【００２５】 波長が規定された波の効果による共振を得るため、電極対の各電極の長さはビ
ームＦ１の波長に依存する。この共振を得るため、１つの電極の長さとＦ１の波
長との関係は、基板および周囲媒体の材料の性質（屈折率）と、電極が構成され
る材料（屈折率）と、電極の厚さおよび幅に依存する。一般に、基板が規定され
、周囲媒体が空気であり、電極が規定済みの材料で作られ、その厚さおよび幅が
規定されている場合、各電極の長さは波長にほぼ比例する。
【００２６】 図７ａは、金の電極の場合に、共振が得られるようにするための波長が電極の
長さに直線的に依存することを示している。
【００２７】 図７ａの曲線は、以下の特徴を有し、図７ｂに示すような装置を使用して得ら
れたものである。 −基板の指数： ｎ＝２ −金の電極 −電極の幅： ５０ｎｍ −電極の厚さ： ３０ｎｍ −エアギャップの幅ｇ： ３０ｎｍ −電極の平面に対するビームの傾き： ７２度 −電極のアライメントの方向に垂直の入射面 −電極のアライメントの方向に平行な電界
【００２８】 さらに、このシステムは以下のものを含む。 −図２ａのコイルによって象徴的に示され、磁界を誘導可能な磁界誘導装置５
。これは、情報媒体上に情報を書き込むために書込みモードの動作中に使用され
ることになる。 −ＸＸ−ＹＹ’面に垂直のＺＺ’軸上にある光検出装置６。この装置は、情報
媒体上の情報を読み取るときに使用する。この装置６は、光を収集し、それをＺ
Ｚ’軸に対してオフセットされた光検出装置に送るための装置で置き換えること
ができる。
【００２９】 図２ｃに示すように、ビームＦ１は、垂直入射とは異なる入射角で電極を照射
する。このため、ビームの鏡面反射は垂線以外の方向に発生し、したがって、光
検出器６に向けられない。
【００３０】 読取りモードの動作 情報媒体Ｄ１は、電極の平面に平行に電極の近くに移動する。この媒体は、磁
気光学材料であるか、または電極に面するその面上に磁気光学材料の層ＭＯを有
し、したがって、磁気光学材料の磁化の配向は、それが受け取る光の偏光に影響
を及ぼす。
【００３１】 各対の電極Ｅ１〜Ｅ２およびＥ３〜Ｅ４は、入射電磁波によって独立して励起
可能な電磁共振器と見なすことができる。
【００３２】 電極Ｅ１〜Ｅ２によって形成される共振器はビームＦ１によって励起され、そ
の電界の１つの成分はＸＸ’軸に平行である。
【００３３】 この励起の効果により、その電極対Ｅ１、Ｅ２は、ＸＸ’軸にほぼ平行な偏光
の電磁波を再放射する。
【００３４】 電極Ｅ１とＥ２の間にある空間は、ＸＸ’軸に沿って配向された電界が集中す
る場所である。
【００３５】 媒体Ｄ１を読み取る場合、電極構造は磁気光学層ＭＯの近くに位置する。この
ように集中した電界と磁気光学媒体の磁化との結合により、励起周波数で発振す
る偏光が媒体内に発生することになる。局部的には、この偏光は以下の値を有す
る。
【数１】
【００３６】 誘導双極子は第２の電極対Ｅ３〜Ｅ４を励起可能なソースと見なすことができ
、この電極対も共振器として動作し、その偏光がＹＹ’方向にほぼ平行な波の放
射を引き起こす。
【００３７】 ２対の電極Ｅ１〜Ｅ２およびＥ３〜Ｅ４によって放射される２通りの波は、電
極の平面に垂直な方向ＺＺ’で特に強くなる。この２通りの波は結合し、光検出
装置６によって受け取られる楕円偏光波を引き起こす。後者によって、このよう
に回析された光波の偏光状態を分析することができる。検出された偏光状態によ
り、情報媒体上で読み取られる磁化の配向を把握することができる。
【００３８】 したがって、本発明の装置により、そのサイズをエアギャップのサイズの規模
程度（約１０ｎｍまたは数十ｎｍ）にすることができる磁化情報の項目を読み取
ることが可能になる。
【００３９】 書込みモードの動作 書込みモードの動作の場合、その光がＸＸ’に平行な方向に直線的に偏光され
るビームＦ１をソース１が放射すると想定すると、１対の電極Ｅ１〜Ｅ２だけが
使用され、前述の通り、エアギャップ３内の電界を集中させる共振器として動作
する。このエアギャップの近くに配置された磁気情報媒体は加熱される可能性が
ある。ビームＦ１の強度および増幅に応じて、この加熱により、磁気材料の保磁
力を低下させることが可能である。次に、誘導装置５によって生成された十分な
磁界の影響により、保磁力が低減された領域とこの領域では、その磁化が再配向
されている。
【００４０】 例示的な一例として、同じ対の２つの電極を分離する距離ｇ（エアギャップ）
は約１０ｎｍである。この電極は、金、銀、銅、アルミニウム、またはこれらの
材料のいずれか１つの合金で作ることができる。
【００４１】 電極は、図３ａから図３ｃに示すような様々な形状を有することができる。
【００４２】 図３ａの電極は、丸い端部を備えた細長い形状である。
【００４３】 図３ｂの電極は、三角形であり、面積がより大きいものであり、それにより、
入射光波との結合を改善することができる。
【００４４】 図３ｃの電極は、図３ａおよび図３ｂの電極の組合せである形状を有する。電
極Ｅ１およびＥ２は三角形であり、電極Ｅ３およびＥ４は細長い。
【００４５】 図３ａから図３ｃの電極構成により、（図２ａのように）その表面の平面に垂
直な磁化の形で情報が記録されている情報媒体を読み取ることが可能になる。
【００４６】 図３ｄは、媒体の平面に平行な磁化の形で記録された情報を読み取ることを可
能にする構成を示している。電極Ｅ３〜Ｅ４の方向ＹＹ’は、実質的に電極Ｅ１
とＥ２を分離するギャップの一方のエッジ寄りに位置する領域で電極Ｅ１〜Ｅ２
の方向ＸＸ’と交差する。
【００４７】 上記の通り、電極は、好ましくはソース１によって放射された光波に対して透
明である基板の１つの面上に作成されている。この基板は、電極を帯びるその面
が情報媒体に面するシューの形に作られている。このシューの形状およびその情
報媒体からの距離は、情報媒体が高速移動した結果、基板と情報媒体との間に薄
いエアクッションが作成され、したがって、基板２が情報媒体の上に流体力学的
に浮揚するようなものになっている。
【００４８】 図５に示す本発明の一実施形態によれば、電極Ｅ１〜Ｅ４または少なくともエ
アギャップ３は、磁気光学特性を有する材料（強磁性材料）の層ＭＯ２によって
覆われる。このような装置により、どのようなタイプの磁気情報を読み取ること
も可能になる。
【００４９】 上記の説明は、磁気または磁気光学媒体の読取り／書込みに関して示したもの
である。しかし、本発明は、他の光学的に読取り可能な媒体にも適用可能である
。これらは、たとえば、記録層の削摩、記録媒体の相変化、または（電磁波の吸
収による）材料の化学特性の変化などにより、書込みが達成される媒体である。
【００５０】 読取りモードの動作 前述のケースのように、情報媒体は電極に接近し、電極の平面に平行に移動す
る。読取り装置の機能は、情報媒体Ｄ１の特性（たとえば、屈折率）の変更を検
出することである。
【００５１】 このようにして読み取るために、この装置は単一の電極対Ｅ１〜Ｅ２のみを必
要とする。前述のように、この電極対は、入射電磁波（ビームＦ１）によって励
起される電磁共振器と見なすことができ、その電界の１つの成分はＸＸ’軸に平
行である。この励起の効果により、この電極対Ｅ１〜Ｅ２は、ＸＸ’軸にほぼ平
行な偏光の電磁波を再放射する。媒体Ｄ１の特性の局部変更が発生すると、その
電極対によって再放射された電磁波の変調が観察される。次にこの変調は光検出
装置６によって検出される。
【００５２】 書込みモードの動作 書込み機能は、前述のように電界が集中するので、情報媒体の加熱によって実
行することができる。また、書込みは、エアギャップ３の局部電界の集中に関連
する電磁吸収プロセス（媒体に対する光化学作用）により実行することもできる
。
【００５３】 図６は、電極が占めていない基板の表面２０が少なくとも部分的に耐摩耗層２
１によって覆われている本発明の変形形態の断面図を示している。この層の厚さ
は少なくとも電極の厚さに等しい。一例として、この厚さは１０〜２０ｎｍにす
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１ａ】 従来技術で既知のシステムを示す図である。
【図１ｂ】 従来技術で既知のシステムを示す図である。
【図２ａ】 本発明のシステムの基本的な一実施形態を示す図である。
【図２ｂ】 本発明のシステムの基本的な一実施形態を示す図である。
【図２ｃ】 本発明のシステムの基本的な一実施形態を示す図である。
【図３ａ】 本発明の装置の電極の様々な電極を示す図である。
【図３ｂ】 本発明の装置の電極の様々な電極を示す図である。
【図３ｃ】 本発明の装置の電極の様々な電極を示す図である。
【図３ｄ】 本発明の装置の電極の様々な電極を示す図である。
【図４】 本発明による読取り／書込みヘッドの一設計を示す図である。
【図５】 本発明による読取り／書込みヘッドの代替実施形態を示す図である。
【図６】 本発明による読取り／書込みヘッドの代替実施形態を示す図である。
【図７ａ】 本発明の装置の一実施形態を示す図である。
【図７ｂ】 本発明の装置の一実施形態を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ファルー オリヴィエ フランス国， 94117 アルクイユ セデ クス， アヴェニュ デュ プレジダン サルヴァドル アレンド 13番地， トム ソン−セーエスエフ プロプリエテ アン テレクテュエル， デパルトマン ブルヴ ェ内 Ｆターム(参考） 5D075 AA03 CC04 CC12 CD02 CD03 CD10 CD14 5D119 AA11 AA22 AA41 AA43 BA01 BB05 DA01 DA05 JA70

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 情報媒体用の光学式読取り／書込み装置であり、 そのサイズが書込みまたは読取り対象の情報項目のサイズにほぼ対応するエア
    ギャップ領域（３）を規定する少なくとも１対の電極（Ｅ１〜Ｅ２）を担持する
    ほぼ平坦な面（２０）を有する透明基板（２）であって、１対の電極（Ｅ１〜Ｅ
    ２またはＥ３〜Ｅ４）が前記１対の電極の全電極のアライメントの方向に平行な
    その電界の１つの成分を有する入射電磁波用の共振器を構成する透明基板と、 光ビーム（Ｆ１）で前記電極を照射する光学ソース（１）であって、その電界
    の１つの成分が前記１対の電極のアライメントの方向に平行である光学ソースと
    を含むことを特徴とする、情報媒体用の光学式読取り／書込み装置。
  2. 【請求項２】 屈折率が規定された基板と、規定済みの材料で作られ、規定
    済みの厚さおよび幅を有する電極とを有する装置の場合、電極と入射電磁波との
    共振条件を満たすように、各電極の長さが前記電磁波の波長にほぼ比例すること
    を特徴とする、請求項１に記載の装置。
  3. 【請求項３】 電極が金で作られている場合、電極と入射電磁波との共振条
    件を満たすように、各電極の長さが前記波長に比例することを特徴とする、請求
    項２に記載の装置。
  4. 【請求項４】 情報媒体が磁気媒体であり、読取りが磁気光学効果により実
    施されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
  5. 【請求項５】 十字形に配置され、その十字形の交差部で、その寸法が書込
    みまたは読取り対象の情報項目の寸法にほぼ対応する領域を規定する、直交する
    ２対の電極（Ｅ１〜Ｅ２およびＥ３〜Ｅ４）と、 十字形の交差点で電極の平面にほぼ垂直な方向に配置され、光検出装置に光を
    伝達する光収集装置とを含むことを特徴とする、請求項４に記載の装置。
  6. 【請求項６】 情報媒体および前記エアギャップ領域（３）の近くに配置さ
    れた磁界誘導装置（５）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
  7. 【請求項７】 磁界誘導装置および電極を担持する基板が情報媒体のいずれ
    の側に配置されることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
  8. 【請求項８】 同じ電極対の２つの電極間の距離が約１０ナノメートルまた
    は数十ナノメートルであることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
  9. 【請求項９】 同じ対の電極が前記エアギャップ領域（３）の中心に対して
    左右対称であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
  10. 【請求項１０】 第１の電極対（Ｅ１〜Ｅ２）が電磁波の電界の１つの成分
    に平行な第１の方向に整列され、第２の電極対が実質的に第１の電極対によって
    規定されるエアギャップの一方のエッジ寄りで第１の方向と交差する第２の方向
    に整列されることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
  11. 【請求項１１】 各電極が細長い形状を有することを特徴とする、請求項１
    に記載の装置。
  12. 【請求項１２】 各電極がほぼ三角形の形状を有し、三角形の１つの頂点が
    前記エアギャップ領域（３）に面することを特徴とする、請求項１に記載の装置
    。
  13. 【請求項１３】 第１の電極対（Ｅ１〜Ｅ２）の電極が三角形の形状を有し
    、第２の電極対（Ｅ３〜Ｅ４）の電極が細長い形状を有することを特徴とする、
    請求項４に記載の装置。
  14. 【請求項１４】 エアギャップ領域（３）に面する電極の端部が丸くなって
    いることを特徴とする、請求項１０ないし１２のいずれか一項に記載の装置。
  15. 【請求項１５】 前記光ビーム（Ｆ１）の方向が電極の平面に垂直ではない
    ことを特徴とする、請求項１および４のいずれか一項に記載の装置。
  16. 【請求項１６】 少なくとも電極間に存在するエアギャップの一部が磁気光
    学効果を有する材料の層で覆われることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
  17. 【請求項１７】 光検出装置が偏光分析器を含むことを特徴とする、請求項
    ４に記載の装置。
  18. 【請求項１８】 電極を担持する基板の面が、これらの電極に対する情報媒
    体の移動が基板の面と情報媒体との間にエアクッションを作成する効果を有する
    ような形状を有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
  19. 【請求項１９】 前記基板の前記面が情報媒体の平面に対して傾斜している
    ことを特徴とする、請求項１７に記載の装置。
  20. 【請求項２０】 電極が占めていない基板のその表面の少なくとも一部が、
    少なくとも電極の厚さに等しい厚さを有する耐摩耗材料の層を含むことを特徴と
    する、請求項１に記載の装置。
  21. 【請求項２１】 情報媒体の平面に垂直に磁化された領域の形で情報が記憶
    される情報媒体上での情報の読取り／書込みを目的とし、情報媒体の磁化領域が
    読取り／書込み装置の近くに位置することを特徴とする、請求項９に記載の装置
    の使用。
  22. 【請求項２２】 情報媒体の平面に平行に磁化された領域の形で情報が記憶
    される情報媒体上での情報の読取り／書込みを目的とし、情報媒体の磁化領域が
    読取り／書込み装置の近くに位置することを特徴とする、請求項１０に記載の装
    置の使用。
  23. 【請求項２３】 磁気光学効果を示す材料の層を含む情報媒体上での情報の
    読取り／書込みを目的とし、前記情報媒体が読取り／書込み装置の近くに位置す
    ることを特徴とする、請求項４に記載の装置の使用。
  24. 【請求項２４】 光学情報媒体上での情報の読取り／書込みを目的とし、前
    記媒体が読取り／書込み装置の近くに位置することを特徴とする、請求項１に記
    載の装置の使用。
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