KR20010034379A - 데이터 매체 광학 기록/판독 장치 - Google Patents

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KR20010034379A
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발레티에리
팔루올리비에
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트뤼옹-벵-똥 엠.쎄.
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Abstract

본 발명은 공기 갭 영역(3)을 규정하는 최소한 한 전극쌍(E1-E2)을 지지하는 거의 평편한 표면(20)을 갖는 투명 기판(2)을 포함하는 데이터 매체 광학 기록/판독 장치에 대한 것이며, 상기 공기 갭 영역의 치수는 기록 또는 판독될 데이터의 크기(dimension)와 거의 일치한다. 한 전극쌍(E1-E2 또는 E3-E4)은 그 전기장이 전극의 정렬 방향에 평행한 요소를 갖는 입사 자기파 공명기(incident magnetic wave resonator)를 구성하고, 광원(1)은 광학적 빔(F1)을 사용하여 상기 전극을 조사(illuminating)하며, 그 전기장의 한 요소가 상기 한 전극쌍의 정렬 방향에 평행하다. 이러한 조건에서, 상기 빔(F1)에 의해 여기(exciting)될 때, 전극은 상기 공기 갭(3)에 집중된 빔을 재전송한다. 상기 재전송된 빔은 이 전극의 근처에서 데이터 매체 세트를 기록/판독할 수 있게 한다.

Description

데이터 매체 광학 기록/판독 장치{Data medium optical recording/reading device}
도 1b는 자기 매체를 기록/판독하기 위한 종래의 시스템을 도시한다. 이러한 시스템에서, 레이저 광원(S1)은 렌즈(L1, L2)에 의해 기록 매체(D1)에 초점이 맞춰지는 광 빔(light beam)을 방출한다. 상기 기록 매체는 예를 들어 희토류 합금(예를 들어 테르뮴(terbium)/철 합금)과 같은 광자기 강자성 재료이다. 이러한 재료는 그 자화에 따라 수용되는 빛의 편광(polarization)에 따라 작용하는 특성을 갖는다. 이 광 빔은 정보 매체의 자화와 상호작용하여 수정될 수 있는 그 편광에 의해 기록 매체에 의해 반사될 수 있다. 기록매체에서 의해 반사된 빔은 빔 스플리터(SP1; beam splitter)에 의해 빔 스플리터(SP2)로 부분적으로 전송된다. 이 스플리터(SP2)는 광검출기(PD; Photodetector)로의 한 편광과 다른 광검출기(PP)로의 다른 편광을 전송하는 편광 스플리터이다.
기록을 위해서는, 이러한 시스템은 광원(1)에 의해 전송되는 충분한 에너지 레벨의 빔을 사용하여 국소적으로 가열하여 기록한다. 기록 매체에 적용되는 자기장(B)의 효과에 의해, 이 기록 매체는 냉각함에 따라 적용된 자기장의 방향으로 국소적으로 향해진 편광된다. 이러한 시스템에서, 정보 단위의 최소 사이즈는 회절(diffraction)에 의해 제한된다. 이는 약 λ/2(NA)와 같다.
λ는 광 빔의 파장이고 NA는 빔의 개구수이다.
정보 아이템(item)의 사이즈 즉, 기록되는 정보의 밀도는 빔의 파장에 의해 규정된다. 정보 매체 상의 빔 스포트(beam spot)의 사이즈를 줄이기 위해서는 특히 근거리장(near-field) 광학 현미경에 사용되는 형태의 기술을 사용할 수 있다.
근거리장 광학 현미경에 사용되는 대부분의 종래 기술은 회절 스포트보다 작은 사이즈의 스탑(stop)을 사용하는 것으로 구성된다. 이 스탑이 관측될 대상에 충분히 근접하게 위치되면, 획득되는 분해능은 스탑의 사이즈와 거의 같다. 이러한 원리에 근거한 근거리장 광학 현미경은 여러 팀(team)에 의해 설명 및 생산되었다(디. 더블유. 폴 등의 응용 물리학 논문 44, 652(1984)와 이. 베치그 등의 응용 물리학 논문 51, 2088(1987)).
이러한 접근 방법은 500 nm(해상도λ/10)에 속하는 조도 파장(illumination wavelength)으로 50 nm에 속하는 해상도를 보일 수 있지만, 기본적인 문제점, 즉 검출될 수 있는 광학 신호의 레벨이 매우 낮다는 문제점을 갖는다.
실제로는, 그리고 특히 완전히 평편하지 않은 표면을 모사(imaging)할 수 있기 위해서는, 도 1a에서 볼 수 있는 바와 같이 그 단부에서 얇아지도록 금속화 및 인출(drawing)되는 마이크로피펫(micropipette) 또는 광섬유의 단부에 스탑이 물리적으로 제조된다.
다양한 직경의 금속화된 전자기적 도파관으로 간주될 수 있는 이러한 근거리장 광학현미경용 프로브는 일반적으로 압전 구동기를 사용하여 이미징(imaging)되는 표면으로 이동되거나 이 표면의 근처에서 이동되며, 일정한 높이에서 스캐닝을 수행하기 위해 다양한 서보제어 신호가 생성될 수 있다.
하기의 3가지 작동모드가 가능하다.
1) 전송 모드에서의 작동
도파관은 반대측 단부에서 스탑으로부터 광원, 일반적으로 레이저에 연결된다. 도파관으로 결합되는 이 빛의 부분은 스탑까지 전파하며, 여기서 적은 부분(fraction)만이 전송된다. 적어도 부분적으로 투명한 물체의 표면이 관측되면, 종래의 광학 시스템은 물체를 투과해 전송된 빛을 집광할 수 있고 이를 광검출기로 향하게 할 수 있다. 그러므로 표면이 프로브에 의해 스캐닝되는 동안 검출된 신호는 점 대 점 이미지를 재구성하게 한다.
2) 집광 모드에서의 작동
이러한 이미징 모드는 물체를 투과하여 전송하도록 작동하는 종래의 광학 장치를 사용하여 이미징된 표면을 조사(illuminating)하는 것으로 구성된다. 이 프로브의 단부는 표면 근처의 광학적 근거리장을 집광하도록 사용된다. 그러므로 이 다음에, 프로브로 결합되는 빛은 광검출기게 의해 검출된다.
3) 반사 모드에서의 작동
앞의 두 모드의 조합으로 보일 수 있는, 이 제 3 및 최종 모드에서, 프로브는 조사 및 집광을 동시에 수행한다. 예를 들어 반투명한 요소를 갖는 광학적 시스템은 반대측의 프로브의 단부가 스탑(stop)으로부터 광원과 광검출기에 동시에 연결되게 한다. 그 다음 광섬유의 단부에 의해 반사되는 출력의 편차가 사용된다.
상기 3 개의 모드 중 어떠한 것도 하기의 두 가지 이유에서 고품질의 신호를 얻을 수 없다.
a) 도 1에 도시한 바와 같이, 그 단부 근처에서의 도파관 직경의 큰 감소는 이버네센트 영역을 규정하며, 이 이버네센트 영역은 광파가 더 이상 전파되지 않고 매우 작아지는 도파관 영역이다. 스탑을 향해 전파, 또는 스탑으로부터 방사하는 광파의 진폭은 이 영역을 통과하면서 인자 e-d/δ만큼 감쇠되며, 여기서 d는 상기 영역의 길이이고, δ는 도파관의 세부적인 구조에 따른 특성 감쇠 길이이다.
b) 스탑의 면적과, 입사 출력 밀도를 곱해 형성되는 값에 대한 집광된 또는 전송된 출력의 비로서 정의되는 스탑의 전송 효율 또는 집광 효율은 (a/λ)4(λ와 비교하여 작은 물체에 의한 회절에 대한 레이라이(Rayleigh) 법칙)에 비례하며, 여기서 a는 스탑의 반경(정의에 의해, λ와 비교하여 작음)이고 λ는 사용되는 파장이다.
실제로 사용될 수 있는 조건하에서, 이들 공액 인자는 이는 수십 mW의 차수의 조사량에 대해 10nW 정도(이를 넘으면 프로브가 파괴되는 것이 관측되는 가용 한계)인 광출력의 검출량이 되며, 이 광출력은 근거리장에서 표면과 효과적으로 상호작용한다. 5%정도의 변조에 대해, 관측되는 표면의 특성의 국소적인 편차와 관련하여, 그리고 500 nm의 파장에서, 검출기 노이즈를 무시할 수 있다는 가정하에서, 이는 1 Hz 대역폭에서 78 dB의 신호 대 노이즈 비가 되고 1 MHz 대역폭에 대해 18dB로 감소된다. 그러므로 1,000 × 1,000 픽셀을 포함하는 이미지를 얻는 것이 1초 미만에서 관찰될 수 없다.
그러므로 정보 매체의 표면에 대한 광학적, 특히 광자기적인 판독 장치로서의 이러한 근거리장 광학 현미경 프로브의 사용은 판독 모드에서 높은 데이터 전송율(10Mb/s이상)에 대해 고려될 수 없다.
이들 프로브의 단부에서의 사용가능한 출력이 매우 낮은 것은 상술한 바와 같이 국소적인 가열에 근거한 기록 방법을 사용하는데 장애가 된다.
더욱이, 설명한 프로브의 구조(광섬유 또는 피펫이 인출된 다음 금속화됨)는 개별적으로 제조되어야 한다는 것을 의미하며, 이는 재현성 문제(지금까지 보인 바와 같이, 프로브의 효율은 사이즈의 4승에 따라 변한다)를 제기한다.
본 발명은 정보 매체용 광학 기록/판독 장치에 대한 것이다. 예를 들어, 이러한 매체는 광학적 매체 또는 자기 디스크와 같은 자기 또는 광자기 매체일 수 있다.
도 1a 및 도 1b는 종래 기술의 시스템을 도시하는 도면.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 기본적 실시예의 도면.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 장치의 전극의 다양한 형태를 도시하는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 판독/기록 헤드의 한 설계도.
도 5 및 도 6은 본 발명에 따른 판독/기록 헤드의 다른 실시예의 도면.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 장치의 한 실시예의 도면.
본 발명은 상기 문제점들을 해결할 수 있다.
그러므로, 본 발명의 과제는 하기를 특징으로 하는 정보 매체용 광학적 판독/기록 장치이다.
-그 사이즈가 기록 또는 판독될 정보 아이템에 거의 상응하는 공기 갭 영역을 규정하는 최소한 한 전극쌍(E1-E2)을 지지하는 거의 평편한 면을 갖는 투명한 기판, 여기서 한 전극쌍(E1-E2, E3-E4)은 상기 한 전극쌍의 전극의 정렬 방향에 평행한 전기장 요소를 갖는 입사 전자기파에 대한 공명기를 구성함.
-광 빔으로 상기 전극을 조사하는 광원, 여기서 전기장의 요소는 상기 한 전극쌍의 정렬방향에 평행함.
본 발명의 다양한 과제 및 특징은 하기의 상세한 설명과 첨부된 도면을 참조하여 보다 명백해진다.
그러므로 본 출원인은 도 2a 내지 도 2c를 참조하여 본 발명의 시스템의 실시예를 설명한다.
이 시스템은 면(20) 상에서 교차하도록 배치된 최소한 두 전극쌍(E1-E2, E3-E4)을 지지하는 기판(2)을 포함한다. 이 전극(E1-E2)은 XX′방향으로 정렬되고 전극(E3-E4)은 YY′방향으로 정렬된다. 각각의 전극쌍은, 도 2b에 예에 따르는, 공기갭이라고 불리는 공간에 의해 분리되며, 이 공기갭은 두 전극쌍에 대해 동일한 길이g를 갖지만, 이들 두 공간은 동일한 필요는 없다. 공기갭의 폭은 수 내지 수십 나노미터 사이의 값을 가질 수 있다.
이들 전근은 광원(1)에 의해 전송된 광 빔(F1)으로 조사된다. 전극 상에 입사되는 빛의 전기장(E)의 한 요소의 방향은 XX′ 방향에 대해 평행하다.
규정된 파장을 갖는 파의 효과로 인한 공진을 얻기 위해, 한 전극쌍의 각 전극의 길이는 빔(F1)의 파장에 의존한다. 상기 공진을 얻기 위해, 전극의 길이와, 빔(F1)의 파장 사이의 관계는 기판의 재료의 성질과 주변 매체의 성질(굴절율)과, 전극이 구성되는 재료(굴절율)와, 전극의 두께 및 폭에 의존한다. 일반적으로, 규정된 기판, 공기인 주변 매체, 규정된 재료로 이루어지고 규정된 두께 및 폭을 갖는 전극에 대해, 각 전극의 길이는 대략 파장에 비례한다.
도 7a는 금으로 이루어진 전극에 대해 전극의 길이에 선형적으로 의존하여 얻어지는 공진을 허용하는 파장을 도시한다.
도 7a의 곡선은 도 7b에 도시되고 하기의 특성을 갖는 것과 같은 장치를 사용하여 얻어진 것이다.
-기판 지수: n=2,
-금으로 이루어진 전극,
-전극 폭: 50 nm,
-전극의 두께: 30 nm,
-공기갭의 폭 g: 30 nm,
-전극의 평면에 대한 빔의 입사각도: 72°,
-전극의 정렬 방향에 수직한 입사평면,
-전극의 정렬 방향에 평행한 전기장.
부가하여, 이 시스템은 하기를 포함한다.
-도 2a에서 코일로 기호적으로 도시되고 자기장을 유도할 수 있는 자기장 유도 장치(5). 이 장치는 정보 매체 상에 정보를 기록하기 위한 기록 모드로 작동하는 동안 사용됨,
-XX′-YY′ 평면에 수직이고 ZZ′축 상에 놓이는 광검출 장치(6), 이 장치는 정보 매체 상에 정보를 기록할 때 사용된다. 이 장치(6)는 빛을 집광하고 상기 ZZ′축에 대해 오프셋된 광검출장치로 보내는 장치로 대체될 수 있다.
도 2c에 도시된 바와 같이, 상기 빔(F1)은 전극을 수직 입사와 다른 입사각도로 조사한다. 이러한 방식으로, 빔의 반사(specular reflection)가 수직이 아닌 방향에서 일어나므로 광검출기(6)를 향해 이루어지지 않는다.
판독 모드에서의 작동
한 정보 매체(D1)가 전극의 평면에 평행하게 전극 근처에서 이동한다. 이 매체는 광자기 재료이거나 또는 전극과 마주하는 그 면 상에서 광자기 재료로 이루어지는 층(MO)을 가질 수 있어, 이 광자기 재료의 자화의 방향은 그 빛을 수용하는 빛의 편광에 영향을 미친다.
각각의 전극쌍(E1-E2, E3-E4)은 입사 전자기파에 의해 독립적으로 여기될 수 있는 전자기적 공진기로서 간주될 수 있다.
전극(E1-E2)에 의해 형성되는 공진기는 빔(F1)과, 상기 XX′축에 평행한 전기장의 한 구성요소에 의해 여기된다.
상기 여기의 영향에 의해, 한 전극쌍(E1, E2)은 XX′축에 거의 평행하게 편광된 전자기파를 재방출한다.
전극(E1, E2) 사이에 놓이는 공간은 XX′축을 따라 향해진 전기장이 집중되는 곳이다.
매체(D1)를 판독시, 전극 구조물은 광자기층(MO) 근처에 위치한다. 그러므로 광자기 매체의 자화로 집중된 전기장의 결합은 여기 주파수로 진동하는 편광을 매체 내에 생성한다. 국소적으로, 이 편광은 하기의 수학식을 갖는다.
유도된 쌍극자(induced dipole)는 제 2 전극쌍(E3, E4)을 여기시킬 수 있는 소스(source)로 간주되며, 이는 공진기로서도 작동하고 그 편광이 YY′방향에 거의 팽행한 파(wave)를 방출시킨다.
두 전극쌍(E1-E2, E3-E4)에 의해 방출되는 두 파는 이 전극들의 평면에 수직한 ZZ′방향에 특히 강도가 높다. 이들 두 파는 조합하여, 광검출장치(6)에 의해 수용된 타원형으로 편광된 파를 이룬다. 그러므로 후자는 광파의 편광 상태가 회절되어 분석되게 한다. 검출된 편광 상태는 정보 매체 상의 자화 판독 방향을 알수 있게 한다.
그러므로, 본 발명의 장치는 그 사이즈가 공기 갭의 사이즈의 크기(약 수십 nm)의 차수일 수 있는 자기 정보의 아이템을 읽을 수 있게 한다.
기록 모드에서의 작동
기록 모드에서의 작동에 대해, 빛이 XX′에 평행한 방향에서 선형적으로 편광되며 한 전극쌍(E1-E2)만이 사용되고, 앞서와 같이, 공기 갭(3) 내의 전기장을 집중시키는 공진기로서 작동한다고 가정한다. 상기 공기 갭 근처에 위치된 자기 정보 매체는 가열될 수 있다. 빔(F1)의 강도와 증폭에 따라, 이러한 가열을 사용하여 자기 재료의 보자력을 낮출 수 있다. 다음으로, 유도 장치(5)에 의해 생성된 충분한 자기장의 영향하에서, 보자력이 감소된 영역인 바로 이 영역은 그 자화방향이 재배열된다.
예로서, 동일한 쌍의 두 전극을 분리하는 거리(g; 공기 갭)는 약 10 nm이다. 이들 전극은 금, 은, 구리, 알루미늄 또는 이들 재료 중의 하나의 합금으로 이루어질 수 있다.
전극들은 도3a 내지 도 3c에 도시된 것과 같이 다양한 형상을 가질 수 있다.
도 3a에서, 전극들은 라운딩된 단부를 갖는 기다란 형상이다.
도 3b에서, 전극들은 삼각형이고 보다 넓은 면적을 가져 입사 광파를 보다 잘 결합할 수 있다.
도 3c에서, 전극들은 도 3a와 도 3b의 전극이 조합된 형상을 갖는다. 전극(E1, E2)은 삼각형이고 전극(E3, E4)은 기다란 형상이다.
도 3a 내지 도 3c에서의 전극의 설정은 정보가 그 표면의 평면에 대해 수직의 자화 형태로 기록되는(도 2a 참조) 정보 매체를 판독할 수 있게 한다.
도 3d는 매체의 평면에 평행한 자화 형태로 기록된 정보를 판독할 수 있게 하는 설정을 도시한다. 전극(E3-E4)의 방향(YY′)은 전극(E1, E2)을 분리하는 갭의 한 에지를 향해 놓인 영역에서 전극(E1-E4))의 방향과 교차한다.
상술한 바와 같이, 전극들은 양호하게는 광원(1)에 의해 방출된 광파에 투과성인 기판의 한 면 상에 제조된다. 이러한 기판은 전극을 지지하고 있는 면이 정보매체와 마주하는 슈(shoe)의 형태로 이루어진다. 이 슈의 형태와 정보 매체로부터의 거리는 정보매체가 빠르게 이동하면 기판과 정보매체 사이에 얇은 공기 쿠션이 형성되어 기판이 정보매체 상에 유체역학적으로 부양되도록 한다.
본 발명의 한 실시예에 따르면, 도 5에 도시된 바와 같이, 전극(E1 내지 E4) 또는 최소한 공기 갭(3)은 광자기 특성(강자기성 재료)을 갖는 재료(MO2)의 층으로 덮힌다. 이러한 장치는 모든 형태의 자기 정보를 판독할 수 있게 한다.
상술한 설명은 자기 또는 광자기 매체의 판독/기록과 관련한 것이다. 그러나, 본 발명은 다른 광학적으로 판독가능한 매체에도 적용할 수 있다. 이들은 예를 들어, 기록층을 삭마(ablation)하거나, 기록 매체의 상변화 또는 재료의 화학적 특성을 변화시키는(전자기파의 흡수에 의해) 등에 의해 기록이 이루어진다.
판독 모드에서의 작동
앞서의 경우와 마찬가지로, 정보 매체는 전극에 가깝고 전극의 평면에 평행하게 이동한다. 이 판독 장치의 기능은 정보 매체(D1)의 특성(예를 들어, 굴절 지수)의 변화를 검출하는 것이다.
이러한 방식으로 판독하기 위해, 이 장치는 단 한 전극쌍(E1-E2)만을 요구한다. 앞서와 같이, 상기 한 전극쌍은 입사 전자기파(빔(F1))와 XX′축에 평행한 그 전기장의 한 요소에 의해 여기되는 전자기적 공명기로서 간주될 수 있다. 이러한 여기의 효과로 인해, 상기 한 전극쌍(E1-E2)은 XX′축에 거의 평행하게 편광된 전자기파를 재방출한다. 매체(D1)의 특성의 국지적인 수정이 있을 때, 상기 한 전극쌍에 의해 재방출된 전자기파의 변화(modulation)가 관측된다. 그 다음 이러한 변화는 광검출 장치(6)에 의해 검출된다.
기록 모드에서의 작동
기록 기능은 상술한 바와 같이 전기장의 집중으로 인한 정보 매체의 가열에 의해 수행될 수 있다. 기록은 공기 갭(3)에서의 국지적인 전기장의 집중과 관련한 전자기적 흡수 과정(매체 상의 광화학적 작용)으로 인해 수행될 수 있다.
도 6은 전극이 그 표면의 대부분을 차지하지 않는 기판의 표면(20)이 항마모층(21)으로 최소한 부분적으로 덮혀있는 본 발명의 변형예의 단면도를 도시한다. 이러한 층의 두께는 최소한 전극의 두께와 같다. 예를 들어, 이러한 두께는 10 내지 20 nm일 수 있다.

Claims (24)

  1. 정보 매체용 광학 기록/판독 장치에 있어서,
    -그 사이즈가 기록 또는 판독될 정보 아이템의 사이즈와 거의 일치하는 공기 갭(3) 영역을 규정하는 최소한 한 전극쌍(E1-E2)을 지지하는 거의 평편한 면(20)을 갖는 투명한 기판(2)과,
    -광 빔(F1)으로 상기 전극을 조사하는 광원(1)을 포함하고,
    상기 광원의 전기장의 한 성분은 상기 한 전극쌍의 정렬 방향에 평행하며,
    상기 한 전극쌍(E1-E2)은 상기 한 전극쌍의 전극 정렬 방향에 평행한 전기장의 한 요소를 갖는 입사 전자기파에 대한 공명기를 구성하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치
  2. 제 1 항에 있어서,
    규정된 굴절율의 기판과 규정된 재료로 이루어지고 규정된 두께와 폭을 갖는 전극을 갖는 장치에 대해, 각각의 전극의 길이는 전극들과 입사 전자기파 사이의 공명조건을 만족하기 위해 상기 전자기파의 파장에 거의 비례하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    금으로 이루어진 전극에 대해, 각각의 전극의 길이는 전극들과 입사 전자기파 사이의 공명 조건을 만족하기 위해 상기 파장에 비례하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    정보 매체는 자성이고 판독은 광자기 효과에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    -십자형으로 배치되고 이 십자형의 교차부에서 그 치수가 판독되거나 또는 기록될 정보 아이템의 치수에 거의 일치하는 영역을 규정하는 서로 직각인 두 전극쌍(E1-E2, E3-E4)과,
    -상기 십자형 부분의 교차점에서 전극의 평면에 대해 거의 직각인 방향으로 위치되고 광검출 장치에 빛을 전송하는 집광 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 기록/판독 장치는 정보 매체와 상기 공기 갭(3) 영역 근처에 위치된 자기장 유도 장치(5)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 자기장 유도 장치와, 전극을 지지하는 기판은 정보 매체의 양측면 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    동일한 전극쌍의 두 개의 전극 사이의 거리는 약 십 내지 수십 나노미터인 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    동일한 전극쌍은 상기 공기 갭(3) 영역의 중심에 대해 대칭인 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  10. 제 4 항에 있어서,
    제 1 전극쌍(E1-E2)은 전자기파의 전기장의 한 요소에 평행하게 제 1 방향으로 정렬되고 제 2 전극쌍(E3-E4)은 제 2 방향으로 정렬되고, 제 1 전극쌍에 의해 규정되는 공기 갭의 한 에지를 향해 제 1 방향과 교차하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    각각의 전극은 기다란 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    각각의 전극은 거의 삼각형 형상이고 상기 공기 갭(3) 영역을 마주하는 삼각형의 한 정점을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  13. 제 4 항에 있어서,
    제 1 전극쌍(E1-E2)의 전극들은 삼각형 형상을 갖고 제 2 전극쌍(E3-E4)의 전극들은 기다란 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  14. 제 10 항 내지 제 12 항 중의 어느 한 항에 있어서,
    공기 갭(3) 영역을 마주하는 전극들의 단부는 라운딩된 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  15. 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 빔(F1)의 방향은 전극의 평면에 수직이 아닌 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  16. 제 4 항에 있어서,
    전극들 사이에 놓여 있는 공기 갭의 최소한의 부분은 광자기 효과를 갖는 재료층으로 덮혀 있는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  17. 제 4 항에 있어서,
    광검출 장치는 편광 분석기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  18. 제 1 항에 있어서,
    전극을 지지하는 기판의 면은 이들 전극에 대한 정보 매체의 이동이 기판의 면과 정보 매체 사이에서 공기 쿠션 효과를 일으키도록 하는 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 기판의 상기 면은 정보 매체의 평면에 대해 경사진 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  20. 제 1 항에 있어서,
    기판이 대부분의 면적을 점유하지 않는 기판의 표면의 최소한 부분은 최소한 전극의 두께와 동일한 두께를 가는 내마모성 재료층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 기록/판독 장치.
  21. 정보가 매체 평면에 수직으로 자화된 영역의 형태로 저장되는 정보 매체 상에 정보를 기록/판독하도록 구성되고, 이 정보매체의 자화된 영역은 판독/기록 장치 근처에 위치되는 것을 특징으로 하는 제 9 항에 따른 광학 기록/판독 장치의 사용방법.
  22. 정보가 매체 평면에 평행하게 자화된 영역의 형태로 저장되는 정보 매체 상에 정보를 기록/판독하도록 구성되고, 이 정보매체의 자화된 영역은 판독/기록 장치 근처에 위치되는 것을 특징으로 하는 제 10 항에 따른 광학 기록/판독 장치의 사용방법.
  23. 광자기 효과를 나타내는 재료층을 포함하는 정보 매체상에 정보를 판독/기록하도록 구성되고, 상기 정보 매체는 판독/기록 장치 근처에 위치되는 것을 특징으로 하는 제 4 항에 따른 광학 기록/판독 장치의 사용방법.
  24. 광학 정보 매체 상에 정보를 판독/기록하도록 구성되고, 상기 매체는 판독/기록 장치 근처에 위치되는 것을 특징으로 하는 제 1 항에 따른 광학 기록/판독 장치의 사용방법.
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