JP2002367385A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2002367385A
JP2002367385A JP2001172855A JP2001172855A JP2002367385A JP 2002367385 A JP2002367385 A JP 2002367385A JP 2001172855 A JP2001172855 A JP 2001172855A JP 2001172855 A JP2001172855 A JP 2001172855A JP 2002367385 A JP2002367385 A JP 2002367385A
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sense line
sense
line
gate
equalizing
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Yoshinori Takano
芳徳 高野
Kentaro Watanabe
健太郎 渡邊
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory in which the influence of switching noise is reduced and high speed access is made possible by improving an equalizing circuit. SOLUTION: A sense amplifier column 50 comprising a plurality of sense amplifiers shares a reference potential generating circuit 60. One side of the input terminal of a differential amplifier 51 of each sense amplifier main body is connected to a sense line SN, and the other side of the input terminal is connected in common to a reference sense line RSN. Current source loads 52, 61 are connected to the sense line SN and the reference sense line RSN. The sense line SN and the reference sense line RSN are connected respectively to a data line DL and a reference data line RDL through clamp circuits 53, 62. Equalizing circuits E01-E0n provided between each sense line SN and reference sense line RSN consists of two NMOS transistors QNL and QNS being connected in series. The switching noise is reduced by making the gate area of the transistor QNL of a sense line SN side greater than that of the transistor QNS of the reference sense line RSN side.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、電流引き込みの
有無又は大小によりデータ記憶を行う半導体メモリ装置
に係り、特にデータ線と参照データ線の電位を比較して
データセンスを行うセンスアンプ回路部の改良に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device which stores data depending on the presence or absence or magnitude of a current draw, and more particularly to a sense amplifier circuit for comparing data potentials of a data line and a reference data line to perform data sensing. Regarding improvement.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリ装置として、不揮発にデー
タを記憶して電気的書き換えを可能としたEEPROM
が知られている。EEPROMの中で、複数のメモリセ
ルを一括消去するタイプのものは、フラッシュメモリと
称されている。この種の半導体メモリにおいて、メモリ
セルは電流引き込みの有無又は大小によりデータを記憶
するから、電流読み出し型のセンスアンプ回路が用いら
れる。その様なセンスアンプ回路として、メモリセルか
らデータが読み出されるデータ線の電位を参照データ線
の参照電位と比較してデータ読み出しを行う方式が多く
用いられる。
2. Description of the Related Art As a semiconductor memory device, an EEPROM capable of storing data in a nonvolatile manner and electrically rewritable.
It has been known. Among EEPROMs, a type in which a plurality of memory cells are collectively erased is called a flash memory. In this type of semiconductor memory, a memory cell stores data depending on the presence or absence or magnitude of current draw, and therefore, a current read type sense amplifier circuit is used. As such a sense amplifier circuit, a method of reading data by comparing a potential of a data line from which data is read from a memory cell with a reference potential of a reference data line is often used.

【0003】図25は、その様な従来のセンスアンプ回
路の構成を示している。センスアンプ回路本体は差動ア
ンプ101により構成される。差動アンプ101の一方
の入力端子はセンス線SNに接続され、他方の入力端子
は参照センス線RSNに接続される。センス線SN及び
参照センス線RSNにはそれぞれ電流源負荷102,2
01が接続されている。センス線SN及び参照センス線
RSNはそれぞれ、分離回路(クランプ回路)105,
202を介してデータ線DL及び参照データ線RDLに
接続される。
FIG. 25 shows a configuration of such a conventional sense amplifier circuit. The sense amplifier circuit main body is constituted by a differential amplifier 101. One input terminal of the differential amplifier 101 is connected to the sense line SN, and the other input terminal is connected to the reference sense line RSN. The current source loads 102 and 2 are respectively applied to the sense line SN and the reference sense line RSN.
01 is connected. The sense line SN and the reference sense line RSN are respectively connected to an isolation circuit (clamp circuit) 105,
It is connected to the data line DL and the reference data line RDL via 202.

【0004】データ線DLには、メモリセルMCのデー
タが読み出される。具体的にフラッシュメモリが大容量
の場合、メモリセルMCのデータはローカルビット線B
Lに読み出され、これが第1のカラムゲート103を介
してメインビット線MBLに転送され、更に第2のカラ
ムゲート104を介してデータ線DLに転送されるとい
うように、多段の選択経路を通って読み出される。参照
データ線RDLには、メモリセルMCのデータ“0”,
“1”のときのセル電流の中間の電流値に設定された電
流源203が接続され、またデータ線DLとの容量バラ
ンスをとるためにダミーデータ線容量CRが接続され
る。
[0004] The data of the memory cell MC is read to the data line DL. Specifically, when the flash memory has a large capacity, the data of the memory cell MC is stored in the local bit line B
L, which is transferred to the main bit line MBL via the first column gate 103 and further transferred to the data line DL via the second column gate 104. Read through. The data “0”,
A current source 203 set to an intermediate current value of the cell current at “1” is connected, and a dummy data line capacitance CR is connected to balance the capacitance with the data line DL.

【0005】参照センス線RSN側の電流源負荷20
1、分離回路202及び参照データ線RDLの部分は、
センス線SNに転送されるセルデータの電位を検出する
ための参照電位を生成する参照電位発生回路200を構
成している。
The current source load 20 on the reference sense line RSN side
1. The separation circuit 202 and the reference data line RDL
The reference potential generation circuit 200 generates a reference potential for detecting the potential of the cell data transferred to the sense line SN.

【0006】データ線DLの負荷は大きいため、その電
位振幅を抑えてデータ検出することが高速センスのため
に必要である。このために、データ線DLの電位振幅を
抑えるクランプ回路105が設けられ、このクランプ回
路105によりデータ線DLをセンス線SNから分離し
て、センス線SNの容量を小さくしている。具体的に、
データ線DLとセンス線SNの読み出しデータ“0”,
“1”のときの電位振幅の関係は、図26に示すように
なり、センス線SNでの振幅ΔVSNは、データ線DL
の電位振幅ΔVDLの4倍程度になるようにしている。
Since the load on the data line DL is large, it is necessary to detect data while suppressing the potential amplitude for high-speed sensing. For this purpose, a clamp circuit 105 for suppressing the potential amplitude of the data line DL is provided, and the data line DL is separated from the sense line SN by the clamp circuit 105 to reduce the capacitance of the sense line SN. Specifically,
Read data “0” of the data line DL and the sense line SN,
The relationship between the potential amplitudes at the time of “1” is as shown in FIG. 26, and the amplitude ΔVSN at the sense line SN is equal to the data line DL
Is about four times the potential amplitude ΔVDL.

【0007】クランプ回路を設けることでセンス線SN
の容量は小さくなっているが、センス速度への影響は無
視できない。即ち、図26で説明したように、センス線
SNの振幅は、データ線DLのそれより4倍程度大きく
しており、またセンス線SNの容量はデータ線DLのそ
れの1/10程度であって、負荷102からみた充電す
べき電荷量の約30%近くはセンス線SNの容量充電に
当てられる。このため、センス線SNと参照センス線R
SNの容量を揃えておかないと、両者の充電速度の相違
により、結果としてデータセンスが遅れてしまう。
By providing a clamp circuit, the sense line SN
Has a small capacity, but the effect on the sensing speed cannot be ignored. That is, as described with reference to FIG. 26, the amplitude of the sense line SN is about four times larger than that of the data line DL, and the capacitance of the sense line SN is about 1/10 of that of the data line DL. Nearly 30% of the charge to be charged as seen from the load 102 is allocated to the capacitance charging of the sense line SN. Therefore, the sense line SN and the reference sense line R
If the SN capacities are not aligned, the difference in charging speed between the two will result in a delay in data sensing.

【0008】クランプ回路は、データ線を介してセルア
レイのビット線に与えられる読み出し時のドレイン電圧
を抑えるという目的もある。データ読み出し時は、電流
の有無を検出するために、ワード線からメモリセルの制
御ゲートには正の読み出し電圧を与え、ビット線から正
のドレイン電圧を与える。この電位関係は、データ
“0”書き込み時と同じであり、ドレイン電圧が高い
と、僅かな書き込み現象(ソフトライト現象)が生じ
る。これを防止するためには、メモリセルが5極管動作
しない程度にドレイン電圧を低くすることが必要であ
り、クランプ回路がその働きをする。
The clamp circuit also has a purpose of suppressing a drain voltage at the time of reading applied to a bit line of a cell array via a data line. At the time of data reading, a positive read voltage is applied from the word line to the control gate of the memory cell, and a positive drain voltage is applied from the bit line to detect the presence or absence of a current. This potential relationship is the same as when data "0" is written. When the drain voltage is high, a slight writing phenomenon (soft write phenomenon) occurs. To prevent this, it is necessary to lower the drain voltage so that the memory cell does not operate as a pentode, and the clamp circuit functions.

【0009】センス線SNと参照センス線RSNの間に
は、データセンスに先立ってセンス線SNと参照センス
線RSNの間、従ってデータ線DLと参照データ線RD
Lの間を短絡して、これらを同電位に設定するためのイ
コライズ回路106が設けられている。ここでは、イコ
ライズ回路106は、nチャネルMISFETにより構
成されている。
Prior to data sensing, between sense line SN and reference sense line RSN, between sense line SN and reference sense line RSN, and thus between data line DL and reference data line RD.
There is provided an equalizing circuit 106 for short-circuiting between L and setting them to the same potential. Here, the equalizing circuit 106 is configured by an n-channel MISFET.

【0010】イコライズ回路106は、図27に示すよ
うに、イコライズ信号EQLによって選択的にオン駆動
されて、センス線SNと参照センス線RSNを短絡す
る。このとき、イコライズ信号EQLの時間幅t1−t
0は、センス線SNと参照センス線RSNを短絡するに
必要な最適値に設定することが高速センス動作のために
必要である。イコライズ信号EQLが“L”になり、イ
コライズ動作を解除した後、センス線SNと参照センス
線RSNの間の電位差がデータ線DLと参照データ線R
DLの電位差に応じて差が拡大し、その差電圧ΔVがあ
る値でセンス出力SAoutが得られる。
As shown in FIG. 27, the equalizing circuit 106 is selectively turned on by the equalizing signal EQL to short-circuit the sense line SN and the reference sense line RSN. At this time, the time width t1-t of the equalize signal EQL
It is necessary for the high-speed sensing operation that 0 is set to an optimum value required to short-circuit the sense line SN and the reference sense line RSN. After the equalizing signal EQL becomes “L” and cancels the equalizing operation, the potential difference between the sense line SN and the reference sense line RSN becomes equal to the data line DL and the reference data line RN.
The difference is enlarged according to the potential difference of DL, and the sense output SAout is obtained at a certain value of the difference voltage ΔV.

【0011】イコライズ信号EQLの時間幅が短すぎる
と、確実なイコライズができず、誤読み出しの原因とな
り、或いはデータによってセンス線SNと参照センス線
RSNの電位差を逆転させる必要があるために、センス
動作が遅れる。イコライズ信号EQLが長すぎる場合
も、センス動作の遅れとなる。
If the time width of the equalizing signal EQL is too short, reliable equalization cannot be performed, causing erroneous reading, or since the potential difference between the sense line SN and the reference sense line RSN needs to be reversed by data, the sense Operation is delayed. If the equalizing signal EQL is too long, the sensing operation will be delayed.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のフラッ
シュメモリにおいて、イコライズ回路106について注
意すべきは、スイッチングノイズである。図28に示す
ように、イコライズ解除時、即ちイコライズ信号EQL
が“H”から“L”に変化した時に、ゲート・ソース間
及びゲート・ドレイン間の容量C1,C2によって、図
29に示すように参照センス線RSN及びセンス線SN
に大きなスイッチングノイズN1,N2が重畳する。
In the above-mentioned conventional flash memory, what should be noted about the equalizing circuit 106 is switching noise. As shown in FIG. 28, at the time of canceling the equalization, that is, the equalization signal EQL
Is changed from "H" to "L", the capacitances C1 and C2 between the gate and the source and between the gate and the drain cause the reference sense line RSN and the sense line SN as shown in FIG.
, Large switching noises N1 and N2 are superimposed.

【0013】センス線SNと参照センス線RSNが1:
1で対をなして配置され、各対にイコライズ回路が設け
られる場合には、センス線SNと参照データ線RDLの
容量が等しいとすると、スイッチングノイズN1,N2
は等しい。しかし、複数のセンス線SNが1本の参照セ
ンス線RNを共有し、各センス線SNと参照センス線の
間にイコライズ回路を設ける場合には問題である。この
とき、各センス線SNに接続されるイコライズ回路は一
つであるのに対し、参照センス線には複数のイコライズ
回路が接続されるから、図28の容量C1により参照セ
ンス線RSNにカップリングするノイズN1は、複数個
のイコライズ回路を介することで数倍になり、各センス
線SNにカップリングするノイズN2より大きいものと
なる。
The sense line SN and the reference sense line RSN are 1:
1 and an equalizing circuit is provided for each pair, assuming that the capacitances of the sense line SN and the reference data line RDL are equal, the switching noises N1 and N2
Are equal. However, there is a problem when a plurality of sense lines SN share one reference sense line RN and an equalizing circuit is provided between each sense line SN and the reference sense line. At this time, while one equalizing circuit is connected to each sense line SN, a plurality of equalizing circuits are connected to the reference sense line. The noise N1 becomes several times larger through the plurality of equalizing circuits, and becomes larger than the noise N2 coupled to each sense line SN.

【0014】しかもこれらのスイッチングノイズN1,
N2の大きさは、200mv程度にもなり、データセン
ス時のデータ線DLと参照データ線RDLの電位差の約
10倍ほどになる場合がある。この結果、センス線SN
と参照センス線RSNの電位関係に一時的に反転が生
じ、センスアンプでこれを再反転させなければならない
ため、高速センスが難しくなる。
Moreover, these switching noises N1,
The size of N2 may be as large as about 200 mv, and may be about 10 times the potential difference between the data line DL and the reference data line RDL during data sensing. As a result, the sense line SN
And the potential relationship between the reference sense line RSN and the reference sense line RSN are temporarily inverted, and must be inverted again by the sense amplifier, which makes high-speed sensing difficult.

【0015】この発明は、イコライズ回路でのスイッチ
ングノイズの影響を低減して高速アクセスを可能とした
半導体メモリ装置を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of high-speed access by reducing the influence of switching noise in an equalizing circuit.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体メ
モリ装置は、電流引き込みの有無又は大小によりデータ
を記憶するメモリセルが配列されたメモリセルアレイ
と、このメモリセルアレイの読み出しデータが転送され
る複数のセンス線と、読み出し動作時に参照電位を与え
るための参照センス線と、前記複数のセンス線と前記参
照センス線との間の電位差を検出する複数のセンスアン
プを含むセンスアンプ列と、前記複数のセンス線のそれ
ぞれと前記参照センス線との間を選択的に短絡するため
の複数のイコライズ回路とを備え、前記各イコライズ回
路は、一端がそれぞれ前記センス線と前記参照センス線
に接続され、他端が共通接続された第1及び第2のMI
SFETを有し且つ、前記センス線側の第1のMISF
ETのゲート面積が前記参照センス線側の第2のMIS
FETのゲート面積より大きく設定されていることを特
徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A semiconductor memory device according to the present invention has a memory cell array in which memory cells for storing data are arranged according to the presence or absence or magnitude of current draw, and a plurality of memory cells to which read data of the memory cell array is transferred. A sense amplifier array including a plurality of sense lines, a reference sense line for applying a reference potential during a read operation, and a plurality of sense amplifiers for detecting a potential difference between the plurality of sense lines and the reference sense line; A plurality of equalizing circuits for selectively shorting each of the sense lines and the reference sense line, and each of the equalizing circuits has one end connected to the sense line and the reference sense line, respectively. First and second MIs whose other ends are commonly connected
A first MISF on the sense line side having an SFET
The gate area of ET is the second MIS on the side of the reference sense line.
It is characterized in that it is set larger than the gate area of the FET.

【0017】参照センス線を共有してセンスアンプ列を
構成し且つ、各センス線と共通の参照センス線の間にそ
れぞれイコライズ回路を設ける場合に、イコライズ回路
をゲート面積の異なる二つのMISFETの直列接続に
より構成し、センス線側のMISFETのゲート面積を
大きくすることによって、イコライズ解除時にセンス線
に乗るスイッチングノイズと、参照センス線に乗るスイ
ッチングノイズとの大きさの差を抑圧するすることがで
きる。
In the case where a reference sense line is shared to form a sense amplifier row and an equalizing circuit is provided between each sense line and a common reference sense line, an equalizing circuit is formed by connecting two MISFETs having different gate areas in series. By making the connection, and increasing the gate area of the MISFET on the sense line side, it is possible to suppress the difference in magnitude between the switching noise on the sense line and the switching noise on the reference sense line when the equalization is released. .

【0018】具体的に例えば、参照センス線1本に対し
てセンス線がn本(nは2以上の整数)のとき、センス
線側の第1のMISFETのゲート面積は、参照センス
線側の第2のMISFETのゲート面積のn倍に設定す
る。これにより、n個のイコライズ回路を介して参照セ
ンス線に乗るスイッチングノイズと、一つのイコライズ
を介して各センス線に乗るスイッチングノイズの大きさ
を揃えることができる。以上により、高速アクセスが可
能になる。
Specifically, for example, when the number of sense lines is n (n is an integer of 2 or more) with respect to one reference sense line, the gate area of the first MISFET on the sense line side is It is set to n times the gate area of the second MISFET. This makes it possible to equalize the magnitude of the switching noise on the reference sense line via the n equalizing circuits and the magnitude of the switching noise on each sense line via the one equalizing circuit. As described above, high-speed access becomes possible.

【0019】この発明において、センスアンプ列は、具
体的には、第1の入力端子がそれぞれ前記センス線に接
続され、第2の入力端子が共通に参照センス線に接続さ
れた複数の差動アンプと、各センス線に電流を供給する
複数の第1の電流源負荷と、参照センス線に電流を供給
する第2の電流源負荷と、を備えて構成することができ
る。センスアンプ列はまた、入力端子がそれぞれセンス
線に接続された複数のインバータと、参照センス線に電
流を供給するための、ゲートとドレインが共通接続され
た第1の電流源MISFETと、各センス線に電流を供
給するための第1の電流源MISFETとカレントミラ
ーを構成する複数の第2の電流源MISFETとを備え
て構成することができる。
In the present invention, specifically, the sense amplifier array includes a plurality of differential amplifiers each having a first input terminal connected to the sense line and a second input terminal commonly connected to the reference sense line. An amplifier, a plurality of first current source loads for supplying current to each sense line, and a second current source load for supplying current to the reference sense line can be provided. The sense amplifier array also includes a plurality of inverters each having an input terminal connected to a sense line, a first current source MISFET having a gate and a drain commonly connected for supplying current to a reference sense line, and a sense amplifier. It can be configured to include a first current source MISFET for supplying current to the line and a plurality of second current source MISFETs forming a current mirror.

【0020】またこの発明において、好ましくは、各セ
ンス線はそれぞれ対応するデータ線に対して第1の分離
回路を介して接続され、参照センス線は第2の分離回路
を介して参照データ線に接続されるものとする。
In the present invention, preferably, each sense line is connected to a corresponding data line via a first separation circuit, and the reference sense line is connected to a reference data line via a second separation circuit. Shall be connected.

【0021】この発明において、各イコライズ回路を構
成する第1及び第2のMISFETは、例えばnチャネ
ル型とすることができる。或いはまた、各イコライズ回
路は、第1及び第2のMISFETがnチャネル型であ
り、これらの第1及び第2のMISFETにそれぞれ並
列にpチャネル型のMISFETが接続されて、センス
線に一端が接続された第1のCMOSトランスファゲー
トと参照センス線に一端が接続された第2のCMOSゲ
ートとの直列回路が構成されるようにしてもよい。この
場合、参照センス線1本に対してセンス線がn本(nは
2以上の整数)のときには、第1のCMOSトランスフ
ァゲートのゲート面積が第2のCMOSトランスファゲ
ートのゲート面積のn倍になるようにすればよい。また
第1及び第2のCMOSトランスファゲートの間に抵抗
を介在させること、或いは第1及び第2のCMOSトラ
ンスファゲートとセンス線及び参照センス線との間にそ
れぞれ抵抗を介在させることも、スイッチングノイズの
低減に有効である。
In the present invention, the first and second MISFETs constituting each equalizing circuit can be of, for example, an n-channel type. Alternatively, in each equalizing circuit, the first and second MISFETs are of an n-channel type, and a p-channel MISFET is connected in parallel to the first and second MISFETs respectively, and one end of the equalizing circuit is connected to the sense line. A series circuit of the connected first CMOS transfer gate and the second CMOS gate having one end connected to the reference sense line may be configured. In this case, when the number of sense lines is n (n is an integer of 2 or more) with respect to one reference sense line, the gate area of the first CMOS transfer gate is n times as large as the gate area of the second CMOS transfer gate. What is necessary is just to become. Switching resistance between the first and second CMOS transfer gates or interposition of resistance between the first and second CMOS transfer gates and the sense line and the reference sense line may also cause switching noise. It is effective in reducing the amount of slag.

【0022】この発明に係る半導体メモリ装置はまた、
電流引き込みの有無又は大小によりデータを記憶するメ
モリセルが配列されたメモリセルアレイと、このメモリ
セルアレイの読み出しデータが転送されるセンス線と、
読み出し動作時に参照電位を与えるための参照センス線
と、前記センス線と前記参照センス線との間の電位差を
検出して読み出しデータを判定するセンスアンプと、前
記センス線と前記参照センス線との間に設けられた、前
記センス線と参照センス線を選択的に短絡するためのイ
コライズ用MISFETと、このイコライズ用MISF
ETと前記センス線及び参照センス線との間に介在させ
た抵抗と、を備えたことを特徴とする。
The semiconductor memory device according to the present invention also includes:
A memory cell array in which memory cells for storing data according to the presence or absence or magnitude of current draw are arranged; a sense line to which read data of the memory cell array is transferred;
A reference sense line for applying a reference potential during a read operation; a sense amplifier that detects a potential difference between the sense line and the reference sense line to determine read data; An equalizing MISFET interposed between the sense line and the reference sense line for selectively short-circuiting the sense line and the reference sense line;
And a resistor interposed between the ET and the sense line and the reference sense line.

【0023】この様に、イコライズ用MISFETのセ
ンス線及び参照センス線との間に抵抗を介在させる方式
は、センス線と参照センス線とが1:1で対をなして配
置される場合にも、スイッチングノイズ低減の効果が期
待できる。
As described above, the system in which the resistance is interposed between the sense line and the reference sense line of the equalizing MISFET is used even when the sense line and the reference sense line are arranged in a 1: 1 pair. The effect of reducing switching noise can be expected.

【0024】この発明に係る半導体メモリ装置は更に、
電流引き込みの有無又は大小によりデータを記憶するメ
モリセルが配列されたメモリセルアレイと、このメモリ
セルアレイの読み出しデータが転送されるセンス線と、
読み出し動作時に参照電位を与えるための参照センス線
と、前記センス線と前記参照センス線との間の電位差を
検出して読み出しデータを判定するセンスアンプと、前
記センス線と前記参照センス線との間に設けられた、前
記センス線と参照センス線の間を選択的に短絡するため
のCMOSトランスファゲートからなるイコライズ回路
と、基準タイミング信号に基づいて、前記CMOSトラ
ンスファゲートのnチャネル側ゲート及びpチャネル側
ゲートを駆動するための相補関係にある第1及び第2の
イコライズ信号を同じ論理ゲート段数で発生させるタイ
ミングコントロール回路と、を備えたことを特徴とす
る。
The semiconductor memory device according to the present invention further comprises:
A memory cell array in which memory cells for storing data according to the presence or absence or magnitude of current draw are arranged; a sense line to which read data of the memory cell array is transferred;
A reference sense line for applying a reference potential during a read operation; a sense amplifier that detects a potential difference between the sense line and the reference sense line to determine read data; An equalizing circuit, which is provided between the sense line and the reference sense line, and is configured to selectively short-circuit the sense line and the reference sense line, and an n-channel side gate and a p-type gate of the CMOS transfer gate based on a reference timing signal. And a timing control circuit for generating complementary first and second equalizing signals for driving the channel-side gates with the same number of logic gate stages.

【0025】イコライズ回路をCMOSトランスファゲ
ートにより構成する場合に、nチャネル側とpチャネル
側のゲートを駆動する相補的な第1及び第2のイコライ
ズ信号にタイミングずれがあると、スイッチングノイズ
の原因となる。これに対して、第1及び第2のイコライ
ズ信号を同じ論理ゲート段数で発生させるようなタイミ
ングコントロール回路を用いることにより、スイッチン
グノイズを低減することができる。
In the case where the equalizing circuit is constituted by CMOS transfer gates, if there is a timing deviation between the complementary first and second equalizing signals for driving the gates on the n-channel side and the p-channel side, switching noise may be caused. Become. On the other hand, by using a timing control circuit that generates the first and second equalizing signals with the same number of logic gate stages, switching noise can be reduced.

【0026】具体的にタイミングコントロール回路は、
例えば、一端が第1のイコライズ信号用の第1の出力端
子に共通接続され、他端がそれぞれ電源電位と接地電位
に固定され、基準タイミング信号に基づいて相補的に駆
動されて電源電位と接地電位とを選択的に第1の出力端
子に出力する第1及び第2のCMOSトランスファゲー
トと、一端が第2のイコライズ信号用の第2の出力端子
に共通接続され、他端がそれぞれ接地電位と電源電位に
固定され、基準タイミング信号に基づいて第1及び第2
のCMOSトランスファゲートとそれぞれ同時に駆動さ
れて接地電位と電源電位を選択的に第2の出力端子に出
力する第3及び第4のCMOSトランスファゲートとを
備えて構成される。
Specifically, the timing control circuit
For example, one end is commonly connected to a first output terminal for a first equalizing signal, and the other end is fixed to a power supply potential and a ground potential, respectively, and is driven complementarily based on a reference timing signal to connect the power supply potential and the ground. First and second CMOS transfer gates for selectively outputting a potential to a first output terminal, one end of which is commonly connected to a second output terminal for a second equalizing signal, and the other end of which is connected to a ground potential, respectively. And the power supply potential, and the first and second
, And third and fourth CMOS transfer gates which are simultaneously driven and selectively output the ground potential and the power supply potential to the second output terminal.

【0027】この発明に係る半導体メモリ装置は更に、
電流引き込みの有無又は大小によりデータを記憶するメ
モリセルが配列されたメモリセルアレイと、このメモリ
セルアレイの読み出しデータが転送される複数のセンス
線と、読み出し動作時に参照電位を与えるための参照セ
ンス線と、前記複数のセンス線と前記参照センス線との
間の電位差を検出する複数のセンスアンプを含むセンス
アンプ列と、前記複数のセンス線のそれぞれの間及び、
前記複数のセンス線のそれぞれと前記参照センス線との
間を選択的に短絡するための複数のイコライズ回路と、
を備えたことを特徴とする。
The semiconductor memory device according to the present invention further comprises:
A memory cell array in which memory cells for storing data according to the presence or absence or magnitude of current drawing are arranged, a plurality of sense lines to which read data of the memory cell array is transferred, and a reference sense line for applying a reference potential during a read operation. A sense amplifier array including a plurality of sense amplifiers for detecting a potential difference between the plurality of sense lines and the reference sense line, and between each of the plurality of sense lines,
A plurality of equalizing circuits for selectively shorting each of the plurality of sense lines and the reference sense line,
It is characterized by having.

【0028】この様に、センス線と参照センス線の間の
みならず、各センス線の間にもイコライズ回路を設ける
ことにより、イコライズ回路の同時スイッチングによる
ノイズの影響を効果的に低減することができる。この場
合、イコライズ回路は従来と同様のものでよく、特に、
複数のセンス線及び参照センス線のそれぞれに同数ずつ
のイコライズ回路を接続することによって、好ましい結
果が得られる。
As described above, by providing the equalizing circuit not only between the sense line and the reference sense line but also between each sense line, it is possible to effectively reduce the influence of noise due to simultaneous switching of the equalizing circuit. it can. In this case, the equalizing circuit may be the same as the conventional one.
By connecting the same number of equalizing circuits to each of the plurality of sense lines and the reference sense lines, preferable results can be obtained.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を説明する。図1は、この発明の実施の形
態によるフラッシュメモリのブロック構成を示してい
る。メモリセルアレイ1は、ワード線WLとビット線B
Lが複数本ずつ互いに交差して配設し、各交差部にメモ
リセルMCを配置して構成される。具体的にこの実施の
形態ではメモリセルアレイ1は、図2に示すように、積
層ゲートMISFET構造のメモリセルMCをNOR型
に接続して構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a block configuration of a flash memory according to an embodiment of the present invention. The memory cell array 1 includes a word line WL and a bit line B
A plurality of Ls are arranged so as to cross each other, and a memory cell MC is arranged at each intersection. Specifically, in this embodiment, as shown in FIG. 2, the memory cell array 1 is configured by connecting memory cells MC having a stacked gate MISFET structure in a NOR type.

【0030】メモリセルアレイ1のワード線選択のため
にロウデコーダ2が設けられ、ビット線選択のためにカ
ラムデコーダ3とこれにより選択的に活性化されるカラ
ムゲート4が設けられている。アドレスは、アドレスバ
ッファ8を介してコントロール回路9に送られ、内部ロ
ウアドレス信号及び内部カラムアドレス信号がそれぞれ
ロウデコーダ2及びカラムデコーダ3に転送される。
A row decoder 2 is provided for selecting a word line of the memory cell array 1, and a column decoder 3 and a column gate 4 selectively activated thereby are provided for selecting a bit line. The address is sent to the control circuit 9 via the address buffer 8, and the internal row address signal and the internal column address signal are transferred to the row decoder 2 and the column decoder 3, respectively.

【0031】データ書き込み及び消去には、後に説明す
るように電源電位を昇圧した電位が用いられる。このた
め、コントロール回路9により動作モードに応じて制御
される昇圧回路10が設けられている。昇圧回路10の
出力はロウデコーダ2やカラムデコーダ3を介して、ワ
ード線WLやビット線BLに供給される。またメモリセ
ルアレイ1は、一括消去の単位毎にブロックに分けら
れ、各ブロックのウェル電位を制御するためにウェルデ
コーダ11が設けられている。
For writing and erasing data, a potential obtained by increasing the power supply potential is used as described later. Therefore, a booster circuit 10 controlled by the control circuit 9 according to the operation mode is provided. The output of the booster circuit 10 is supplied to the word line WL and the bit line BL via the row decoder 2 and the column decoder 3. The memory cell array 1 is divided into blocks for each unit of batch erasing, and a well decoder 11 is provided to control the well potential of each block.

【0032】この実施の形態のフラッシュメモリは、ペ
ージモード搭載であり、センスアンプ回路5は、1ペー
ジ分(例えば、128ビット分)のデータ線DLにそれ
ぞれ接続されるセンスアンプを有する。センスアンプ回
路5により読み出されたデータは、ページバッファ6に
保持され、コントロール回路9からの制御により、1ペ
ージ分のデータがランダムアクセスされ、データ出力バ
ッファ7aを介して出力されるようになっている。書き
込みデータは、データ入力バッファ7bを介してページ
バッファ6に一旦保持され、コントロール回路9の制御
によりデータ線DLに転送される。
The flash memory of this embodiment is mounted in a page mode, and the sense amplifier circuit 5 has sense amplifiers connected to data lines DL of one page (for example, 128 bits). The data read by the sense amplifier circuit 5 is held in the page buffer 6, and under the control of the control circuit 9, one page of data is randomly accessed and output via the data output buffer 7a. ing. The write data is temporarily held in the page buffer 6 via the data input buffer 7b, and is transferred to the data line DL under the control of the control circuit 9.

【0033】図3は、メモリセルMCの構造を示してい
る。メモリセルMCは、電荷蓄積層としての浮遊ゲート
24と制御ゲート26が積層されたMISFET構造を
有する不揮発性メモリセルである。p型シリコン基板2
0にn型ウェル21が形成され、n型ウェル21内にp
型ウェル22が形成されて、このp型ウェル22にメモ
リセルMCが形成されている。
FIG. 3 shows the structure of the memory cell MC. The memory cell MC is a nonvolatile memory cell having a MISFET structure in which a floating gate 24 as a charge storage layer and a control gate 26 are stacked. p-type silicon substrate 2
0, an n-type well 21 is formed.
A mold well 22 is formed, and a memory cell MC is formed in this p-type well 22.

【0034】メモリセルMCは、p型ウェル22上にゲ
ート絶縁膜23を介して多結晶シリコン膜による浮遊ゲ
ート24が形成され、更に浮遊ゲート24上に絶縁膜2
5を介して多結晶シリコン膜による制御ゲート26が形
成され、制御ゲート26に自己整合的にソース及びドレ
イン拡散層27,28が形成されて構成される。制御ゲ
ート26は、マトリクスの一方向に連続的に形成されて
ワード線WLとなる。ドレイン拡散層28はビット線B
Lに接続され、ソース拡散層27はソース線SLに接続
される。
In the memory cell MC, a floating gate 24 of a polycrystalline silicon film is formed on a p-type well 22 with a gate insulating film 23 interposed therebetween.
5, a control gate 26 of a polycrystalline silicon film is formed, and source and drain diffusion layers 27 and 28 are formed on the control gate 26 in a self-aligned manner. The control gate 26 is formed continuously in one direction of the matrix and becomes a word line WL. The drain diffusion layer 28 is a bit line B
L, and the source diffusion layer 27 is connected to the source line SL.

【0035】なおp型ウェル22は、データの一括消去
の単位(以下、これをブロックという)毎に独立に形成
される。図2は、一つのブロック内のセルアレイの一部
を示しており、ブロック内でワード線WL及びビット線
BLが互いに交差する方向に連続し、ソース線SLには
ブロック内の全メモリセルのソースが共通接続される。
従って、後に説明するように、各ブロック毎に独立のビ
ット線BLは、ローカルビット線となり、これが選択的
に上位のメインビット線に接続されることになる。
The p-type well 22 is formed independently for each unit of data erasure (hereinafter referred to as a block). FIG. 2 shows a part of a cell array in one block. In the block, word lines WL and bit lines BL are continuous in a direction crossing each other, and source lines SL are connected to source lines of all memory cells in the block. Are connected in common.
Therefore, as described later, the independent bit line BL for each block becomes a local bit line, which is selectively connected to a higher-order main bit line.

【0036】メモリセルMCの動作は、次の通りであ
る。データ書き込みは、p型ウェル22及びソース線S
Lを0Vとし、選択ワード線WLに10V程度の書き込
み電位を与え、ビット線BLにはデータ“0”,“1”
に応じて、6V,0Vを与える。“0”データが与えら
れたメモリセルでは、ドレイン、ソース間の強い横方向
電界によりホットエレクトロンが生成され、これが浮遊
ゲート24に注入される。“1”データの場合この様な
電子注入は生じない。
The operation of the memory cell MC is as follows. Data writing is performed on the p-type well 22 and the source line S
L is set to 0 V, a write potential of about 10 V is applied to the selected word line WL, and data “0” and “1” are applied to the bit line BL.
6V and 0V are applied according to In a memory cell to which “0” data is given, hot electrons are generated by a strong lateral electric field between the drain and the source, and injected into the floating gate 24. In the case of "1" data, such electron injection does not occur.

【0037】これにより、浮遊ゲートに電子が注入され
てしきい値が高くなった状態が“0”である。“1”デ
ータの場合はホットエレクトロンが生成されず、従って
浮遊ゲートに電子が注入されず、消去状態即ちしきい値
の低い“1”データ状態を保持する。
As a result, the state where electrons are injected into the floating gate to increase the threshold value is "0". In the case of "1" data, no hot electrons are generated, and therefore no electrons are injected into the floating gate, and the erased state, that is, the "1" data state with a low threshold is maintained.

【0038】データ消去は、ブロック単位で一括消去が
行われる。このとき、n型ウェル21と共に、選択され
たブロックのp型ウェル22及びソース線SLに10V
程度の電圧を印加し、また選択されたブロック内の全ワ
ード線WLに−7V程度の電圧を印加する。これによ
り、ブロック内のメモリセルのゲート絶縁膜23に大き
な電界がかかり、Fowler−Noldheim電流
(トンネル電流)により浮遊ゲートの電子がチャネル側
に放出されて、データ“1”の消去状態になる。
In data erasing, batch erasing is performed in block units. At this time, 10 V is applied to the p-type well 22 and the source line SL of the selected block together with the n-type well 21.
And a voltage of about -7 V is applied to all the word lines WL in the selected block. As a result, a large electric field is applied to the gate insulating film 23 of the memory cell in the block, and electrons of the floating gate are emitted to the channel side by the Fowler-Noldheim current (tunnel current), and the data "1" is erased.

【0039】データ読み出しは、選択ワード線に、デー
タ“0”,“1”のしきい値の中間値に設定された読み
出し電圧を与え、メモリセルの電流引き込みの有無をビ
ット線に接続されるセンスアンプで判定する。
For data reading, a read voltage set to an intermediate value between threshold values of data "0" and "1" is applied to a selected word line, and the presence or absence of a current draw of a memory cell is connected to a bit line. Judge by the sense amplifier.

【0040】図4は、カラムデコーダ3及びカラムゲー
ト4の構成を示している。前述のように、メモリセルア
レイ1の各ブロックBLKi,BLKi+1,…毎のビ
ット線BLは、例えば4本ずつ、カラムゲートトランジ
スタQN0〜QN3,QN4〜QN7,…を介してメイ
ンビット線MBL0,MBL1,…に選択的に接続され
る。カラムデコーダ3は、各ブロックのビット線選択を
行う第1のカラムデコード回路CD1と、メインビット
線選択を行う第2のカラムデコード回路CD2を有す
る。
FIG. 4 shows a configuration of the column decoder 3 and the column gate 4. As described above, the number of the bit lines BL for each block BLKi, BLKi + 1,... Of the memory cell array 1 is, for example, four, and the main bit lines MBL0, MBL1,. ... are selectively connected. The column decoder 3 has a first column decode circuit CD1 for selecting a bit line of each block and a second column decode circuit CD2 for selecting a main bit line.

【0041】第1のカラムデコード回路CD1の出力線
である第1のカラム選択線Hi,Hi+1,…によりカ
ラムゲートトランジスタQN0〜QN3,QN4〜QN
7,…のゲートが制御される。第2のカラムデコード回
路CD2の出力線である第2のカラム選択線Dによりメ
インビット線選択を行うカラムゲートトランジスタQN
21,QN22,…のゲートが制御される。以上によ
り、第1のカラム選択線Hi,Hi+1,…により活性
化されたカラムゲートトランジスタを介して、選択ブロ
ックの選択ビット線BLがメインビット線MBLに接続
され、更にメインビット線MBLが第2のカラム選択線
Dにより活性化されるカラムゲートトランジスタを介し
て、データ線DLに接続されることになる。
The column gate transistors QN0 to QN3, QN4 to QN are provided by first column selection lines Hi, Hi + 1,... Which are output lines of the first column decode circuit CD1.
The gates of 7,... Are controlled. A column gate transistor QN for selecting a main bit line by a second column selection line D which is an output line of the second column decode circuit CD2
, QN22,... Are controlled. As described above, the selected bit line BL of the selected block is connected to the main bit line MBL through the column gate transistors activated by the first column selection lines Hi, Hi + 1,..., And the main bit line MBL is connected to the second bit line. Is connected to the data line DL via the column gate transistor activated by the column selection line D.

【0042】図5は、データ線DLに接続されるセンス
アンプ回路5の要部構成を示している。この実施の形態
においては、ページモード動作を行うために、センスア
ンプ回路5には、1ページ(例えば、1ページ=8wo
rds=128bits)分のセンスアンプが配置され
るが、これら多数のセンスアンプが複数個ずつ、参照電
位発生回路を共有して構成されることがこの実施の形態
での基本的な特徴である。図5では、n個(nは2以上
の整数)のセンスアンプ本体を含む一つのセンスアンプ
列50と、このセンスアンプ列50内の各センスアンプ
が共有する参照電位発生回路60の構成を示している。
FIG. 5 shows a main configuration of the sense amplifier circuit 5 connected to the data line DL. In this embodiment, in order to perform the page mode operation, the sense amplifier circuit 5 has one page (for example, one page = 8wo).
rds = 128 bits) are arranged, and it is a basic feature of this embodiment that a large number of these sense amplifiers are configured to share a reference potential generating circuit. FIG. 5 shows a configuration of one sense amplifier row 50 including n (n is an integer of 2 or more) sense amplifier bodies and a reference potential generating circuit 60 shared by each sense amplifier in the sense amplifier row 50. ing.

【0043】センスアンプ列50の各センスアンプ本体
は、図5の場合差動アンプ51であり、差動アンプ51
の一つの入力端子はそれぞれ独立のセンス線SNに接続
され、他の入力端子は参照センス線RSNに共通接続さ
れている。各センス線SNは、それぞれゲートとドレイ
ンを接続したpチャネルMISFET(以下、PMOS
トランジスタという)QP1からなる電流源負荷52を
介して電源Vccに接続される。参照センス線RSNも
同様に、ゲートとドレインを接続したPMOSトランジ
スタQP2からなる電流源負荷61を介して電源Vcc
に接続される。
Each sense amplifier body of the sense amplifier array 50 is a differential amplifier 51 in the case of FIG.
Are connected to independent sense lines SN, and the other input terminals are commonly connected to a reference sense line RSN. Each sense line SN is a p-channel MISFET (hereinafter referred to as PMOS
It is connected to a power supply Vcc via a current source load 52 composed of a transistor QP1. Similarly, the reference sense line RSN is connected to a power supply Vcc via a current source load 61 including a PMOS transistor QP2 having a gate and a drain connected.
Connected to.

【0044】センス線SNはそれぞれ、ゲートに所定の
バイアスBIASが与えられたnチャネルMISFET
(以下、NMOSトランジスタという)QN41からな
るクランプ回路(分離回路)53を介して、データ線D
Lに接続される。参照センス線RSNも同様に、ゲート
に所定のバイアスBIASが与えられたNMOSトラン
ジスタQN42からなるクランプ回路62を介して、参
照データ線DLに接続される。これらのクランプ回路5
3,62は、従来と同様に、データ線DL,参照データ
線RDLの電位振幅を抑えて、センス線SN,参照セン
ス線RSNを大きく電位振幅させるために設けられてい
る。
Each of the sense lines SN is an n-channel MISFET whose gate is supplied with a predetermined bias BIAS.
A data line D is connected via a clamp circuit (separation circuit) 53 including a QN41 (hereinafter referred to as an NMOS transistor).
L. Similarly, the reference sense line RSN is connected to the reference data line DL via a clamp circuit 62 composed of an NMOS transistor QN42 having a gate supplied with a predetermined bias BIAS. These clamp circuits 5
The reference numerals 3 and 62 are provided for suppressing the potential amplitude of the data line DL and the reference data line RDL and increasing the potential amplitude of the sense line SN and the reference sense line RSN as in the related art.

【0045】参照データ線RDLには、データ線DLに
接続されるメモリセルMCの“0”,“1”データの電
流値の中間の電流を流す電流源63が接続される。デー
タ線DLは前述のように、多段のカラムゲートトランジ
スタを介してビット線BLに接続されるため、大きな容
量を持つ。従って参照データ線RDLには、上述のデー
タ線DLの容量と実質同じ負荷容量となるように、ダミ
ーデータ線容量CRが接続される。即ち、参照センス線
RSN、これに接続された電流源負荷61、参照センス
線RSNがクランプ回路62を介して接続された参照デ
ータ線RDLの部分が、センスアンプ列50で共有され
る参照電位発生回路60を構成している。
The reference data line RDL is connected to a current source 63 for flowing a current intermediate between the current values of “0” and “1” data of the memory cells MC connected to the data line DL. As described above, the data line DL has a large capacitance because it is connected to the bit line BL via the multi-stage column gate transistors. Therefore, the dummy data line capacitance CR is connected to the reference data line RDL so that the load capacitance is substantially the same as the capacitance of the data line DL. That is, the portion of the reference sense line RSN, the current source load 61 connected to the reference sense line RSN, and the reference data line RDL connected to the reference sense line RSN via the clamp circuit 62 are shared by the sense amplifier array 50 to generate the reference potential. The circuit 60 is constituted.

【0046】センスアンプ列50の各センス線SNと共
通の参照センス線RSNとの間には、それぞれ選択的に
短絡するためのn個のイコライズ回路E01,E02,
…,E0nからなるイコライズ回路群70が設けられて
いる。このイコライズ回路群70の具体的な構成は後述
する。
Between each sense line SN of the sense amplifier row 50 and a common reference sense line RSN, n equalizing circuits E01, E02,
, E0n are provided. A specific configuration of the equalizing circuit group 70 will be described later.

【0047】上述のようにセンスアンプ列50が参照電
位発生回路60を共有すると、参照センス線RSNに
は、複数のセンスアンプ本体が接続されるため、センス
線SNと参照センス線RSNとの容量バランスが崩れ
る。従来の技術で説明したように、高速のデータセンス
を行うためには、データ線DLと参照データ線RDLの
容量バランスと共に、センス線SNと参照センス線RS
Nの容量バランスをとることも重要である。
As described above, when the sense amplifier row 50 shares the reference potential generating circuit 60, a plurality of sense amplifier bodies are connected to the reference sense line RSN, so that the capacitance of the sense line SN and the reference sense line RSN is increased. Imbalance. As described in the related art, in order to perform high-speed data sensing, the capacitance balance between the data line DL and the reference data line RDL, the sense line SN and the reference sense line RS
It is also important to balance the capacity of N.

【0048】この点を考慮して好ましくは、図5を基本
構成として、図6に示すように、各センス線SNにダミ
ーセンス線容量CSを付加する。この様に、参照センス
線RSNに複数のセンスアンプを接続したことに伴う容
量増大に見合うように、センス線SNの容量を意図的に
大きくして、センス線SNと参照センス線RSNの容量
を実質的に同じになるようにする。
In consideration of this point, preferably, a dummy sense line capacitance CS is added to each sense line SN as shown in FIG. 6 based on FIG. As described above, the capacity of the sense line SN is intentionally increased to match the capacity increase caused by connecting a plurality of sense amplifiers to the reference sense line RSN, and the capacities of the sense line SN and the reference sense line RSN are increased. To be substantially the same.

【0049】図7は、センスアンプ列50と参照電位発
生回路60の他の構成例である。センスアンプ本体はこ
の例では、インバータ51aを用いている。センスアン
プ本体が差動アンプではないため、参照センス線RSN
に接続される電流源負荷61と、各センス線SNに接続
される電流源負荷52とは、カレントミラー回路を構成
している。即ち、電流源負荷61のPMOSトランジス
タQP2は、ゲートとドレインが共通に参照センス線R
SNに接続され、各センスアンプ本体の電流源負荷であ
るPMOSトランジスタQP1のゲートは参照センス線
RSNに接続される。
FIG. 7 shows another configuration example of the sense amplifier array 50 and the reference potential generating circuit 60. In this example, the sense amplifier body uses an inverter 51a. Since the sense amplifier itself is not a differential amplifier, the reference sense line RSN
And a current source load 52 connected to each sense line SN constitute a current mirror circuit. That is, the gate and the drain of the PMOS transistor QP2 of the current source load 61 are shared by the reference sense line R
The gate of the PMOS transistor QP1, which is connected to the SN and is the current source load of each sense amplifier body, is connected to the reference sense line RSN.

【0050】この場合も、センスアンプ列50の各セン
ス線SNと共通の参照センス線RSNとの間には、それ
ぞれ選択的に短絡するためのn個のイコライズ回路E0
1,E02,…,E0nからなるイコライズ回路群70
が設けられる。図8は、図7の構成を基本として、図6
と同様に、各センス線SNにダミーセンス線容量CSを
付加して、センス線SNと参照センス線RSNの容量を
実質的に同じになるようにしている。
Also in this case, n equalizing circuits E0 for selectively short-circuiting each of sense lines SN of sense amplifier row 50 and a common reference sense line RSN are provided.
, E0n, equalizing circuit group 70
Is provided. FIG. 8 is based on the configuration of FIG.
Similarly to the above, a dummy sense line capacitance CS is added to each sense line SN so that the capacitances of the sense line SN and the reference sense line RSN become substantially the same.

【0051】図9は、図5〜図8に示したイコライズ回
路群70の具体的な構成を示している。各イコライズ回
路E01,E02,…は、二つのNMOSトランジスタ
QN L,QNSの直列接続により構成されている。二つの
NMOSトランジスタQNL,QNSのゲートはイコライ
ズ信号EQLにより同時に制御される。ここでセンス線
SNに一端が接続されたNMOSトランジスタQN
Lは、参照センス線RSNに一端が接続されたNMOS
トランジスタQNSに比べて、ゲート面積が大きいもの
とする。具体的に例えば、参照センス線RSNがn本の
センス線SNで共有される場合には、NMOSトランジ
スタQNLのゲート面積を、NMOSトランジスタQNS
のそれのn倍にする。
FIG. 9 shows the equalizing circuit shown in FIGS.
The specific configuration of the road group 70 is shown. Each equalization time
Paths E01, E02, ... are two NMOS transistors
QN L, QNSAre connected in series. two
NMOS transistor QNL, QNSThe gate of Equali
Control signal at the same time. Here is the sense line
NMOS transistor QN having one end connected to SN
LIs an NMOS whose one end is connected to the reference sense line RSN.
Transistor QNSLarger gate area than
And Specifically, for example, when the number of reference sense lines RSN is n
When shared by the sense line SN, the NMOS transistor
Star QNLThe gate area of the NMOS transistor QNS
 N times that of

【0052】図10は、この様なイコライズ回路のレイ
アウト例を示している。二つのNMOSトランジスタQ
L,QNS のチャネル長Lを同じとした時、チャネル
幅をW2=n×W1とする。
FIG. 10 shows a layout example of such an equalizing circuit. Two NMOS transistors Q
When the channel lengths L of N L and QN S are the same, the channel width is W2 = n × W1.

【0053】この様に、各センス線SNと参照センス線
RSNから見えるイコライズ回路のトランジスタサイズ
を異ならせることにより、各センス線SNと参照センス
線RSNから見えるイコライズ回路の数の相違によるス
イッチングノイズの影響を低減することが可能になる。
図11に示すように、二つのトランジスタQNL,QNS
のゲートとそれぞれセンス線SN及び参照センス線RS
Nとの間の結合容量C2,C1は、ゲート面積の差か
ら、C2=n・C1である。一方、参照センス線RSN
に対しては、n個のイコライズ回路による容量C1が接
続されている。つまりゲートからセンス線SNへの容量
結合は、一つの大きな容量C2を介して行われるのに対
して、参照センス線RSNにはn個の小さな容量C1を
介して行われる。
As described above, by changing the transistor size of the equalizing circuit seen from each sense line SN and the reference sense line RSN, the switching noise caused by the difference in the number of equalizing circuits seen from each sense line SN and the reference sense line RSN is reduced. The effect can be reduced.
As shown in FIG. 11, two transistors QN L and QN S
And the sense line SN and the reference sense line RS, respectively.
The coupling capacitances C2 and C1 with N are C2 = n · C1 from the difference in gate area. On the other hand, the reference sense line RSN
Is connected to a capacitor C1 of n equalizing circuits. That is, the capacitive coupling from the gate to the sense line SN is performed via one large capacitance C2, whereas the reference sense line RSN is performed via n small capacitances C1.

【0054】従ってこの実施の形態によると、イコライ
ズ解除時にセンス線SNと参照センス線RSNに乗るス
イッチングノイズを略同じ大きさにすることができる。
即ち、スイッチングノイズに拘わらず、センス線SNと
参照センス線RSNの間の電位差が保持される。その結
果、従来のようにスイッチングノイズによりセンス線S
Nと参照センス線RSNの間で電位差が逆転し、データ
センスが遅れるという事態は発生せず、高速アクセスが
可能になる。なお二つのNMOSトランジスタQNS
QNLの接続ノードへのカップリングノイズは、二つの
NMOSトランジスタQNS,QNLが同時にオフになる
ため、外部には伝達されない。
Therefore, according to this embodiment, it is possible to make the switching noise on the sense line SN and the reference sense line RSN substantially equal when canceling the equalization.
That is, the potential difference between the sense line SN and the reference sense line RSN is maintained regardless of the switching noise. As a result, the switching of the sense line S
The potential difference between N and the reference sense line RSN is reversed, so that a situation in which data sensing is not delayed does not occur, and high-speed access becomes possible. Note that two NMOS transistors QN S ,
Coupling to the connection node of QN L noise, since the two NMOS transistors QN S, QN L is simultaneously turned off and is not transmitted to the outside.

【0055】なお、差動アンプ51は、図12(a)〜
(c)のように構成することができる。図12(a)
は、差動PMOSトランジスタQP21,QP22の対
と、NMOSトランジスタQN31,QN32によるカ
レントミラー負荷を持つ一つのオペアンプOPにより構
成した例である。図12(b)は、2段のオペアンプO
P1,OP2を用いた例である。図12(c)は、入力
段に二つのオペアンプOP11,OP12を併設すると
共に、これらの出力の差をとるオペアンプOP12を設
けた例である。
It should be noted that the differential amplifier 51 is shown in FIGS.
It can be configured as shown in FIG. FIG. 12 (a)
Is an example in which a pair of differential PMOS transistors QP21 and QP22 and one operational amplifier OP having a current mirror load by NMOS transistors QN31 and QN32 are used. FIG. 12B shows a two-stage operational amplifier O
This is an example using P1 and OP2. FIG. 12C shows an example in which two operational amplifiers OP11 and OP12 are provided side by side in the input stage, and an operational amplifier OP12 that takes the difference between these outputs is provided.

【0056】電流源負荷52については、図13(a)
に示すように抵抗Rを用いることもでき、或いは図13
(b)に示すように、ゲートを接地したPMOSトラン
ジスタQP1を用いることもできる。クランプ回路53
については、図14(a)に示すように、NMOSトラ
ンジスタQN41のゲートを駆動するバイアス電圧発生
回路531を設ける構成としてもよいし、図14(b)
に示すように、インバータ532によりデータ線DLの
電位を帰還してNMOSトランジスタQN41のゲート
を制御するようにした帰還型としてもよい。
FIG. 13A shows the current source load 52.
A resistor R can be used as shown in FIG.
As shown in (b), a PMOS transistor QP1 whose gate is grounded can be used. Clamp circuit 53
14A, a configuration may be adopted in which a bias voltage generation circuit 531 for driving the gate of the NMOS transistor QN41 is provided as shown in FIG.
As shown in (5), a feedback type in which the potential of the data line DL is fed back by the inverter 532 to control the gate of the NMOS transistor QN41 may be used.

【0057】図6におけるダミーセンス線容量CSは、
例えば図15に示すように、センスアンプ本体である差
動アンプ51の入力段PMOSトランジスタのゲート面
積と同じゲート面積のPMOSトランジスタを用い、こ
れを(センスアンプ数−1)個併設すればよい。図8の
場合のダミーセンス線容量CSも同様に、電流源負荷5
2のPMOSトランジスタと同じゲート面積のPMOS
トランジスタを(センスアンプ数−1)個併設すればよ
い。
The dummy sense line capacitance CS in FIG.
For example, as shown in FIG. 15, a PMOS transistor having the same gate area as the gate area of the input-stage PMOS transistor of the differential amplifier 51 as the sense amplifier body may be used and (number of sense amplifiers-1) may be provided. Similarly, the dummy sense line capacitance CS in the case of FIG.
PMOS having the same gate area as two PMOS transistors
It suffices to provide (the number of sense amplifiers-1) transistors in parallel.

【0058】図16は、この実施の形態によるフラッシ
ュメモリのページモードでの読み出し動作タイミングを
示している。ページアドレスAddを入力して、メモリ
セルを選択し、選択メモリセルデータをセンスし、その
センス結果をページバッファにラッチする。ここまでの
内部動作には、メインビット線及びローカルビット線が
つながった大きな負荷容量のデータ線の充放電を利用す
るため、例えば100nsの時間を要する。1ページ分
のデータがページバッファにラッチされた後は、ページ
内アドレスをa0,a1,a2,…のように高速に切り
換えて、対応するデータD0,D1,D2,…を出力す
る。このページ内アクセスは、大きな負荷容量の充放電
はないから、例えば25ns程度で済む。
FIG. 16 shows the read operation timing in the page mode of the flash memory according to this embodiment. A page address Add is input, a memory cell is selected, the selected memory cell data is sensed, and the sensing result is latched in a page buffer. The internal operation so far requires a time of, for example, 100 ns in order to utilize the charging and discharging of the data line having a large load capacity connected to the main bit line and the local bit line. After the data for one page is latched in the page buffer, the addresses in the page are switched at high speed as a0, a1, a2,... And the corresponding data D0, D1, D2,. This intra-page access requires only about 25 ns, for example, since there is no charge / discharge of a large load capacity.

【0059】図17は、イコライズ回路群70の他の構
成例である。図9の構成と異なり、イコライズ回路E0
1,E02,…として、NMOSトランジスタとPMO
Sトランジスタを並列接続した二つのCMOSトランス
ファゲートTGL,TGSを直列接続している。NMOS
トランジスタ側とPMOSトランジスタ側のゲートは、
相補的なイコライズ信号EQL,EQLBにより制御さ
れる。センス線SNに接続されるCMOSトランスファ
ゲートTGLのゲート面積を参照センス線RSN側のC
MOSトランスファゲートTGSをのそれのn倍とする
ことは、トランジスタ単体を用いた場合と同様である。
FIG. 17 shows another example of the configuration of the equalizing circuit group 70. Unlike the configuration of FIG. 9, the equalizing circuit E0
, E02, ..., NMOS transistor and PMO
Two CMOS transfer gate TG L connected in parallel with S transistors are connected in series TG S. NMOS
The gates of the transistor side and the PMOS transistor side are
It is controlled by complementary equalizing signals EQL and EQLB. CMOS transfer gate TG C of the gate area reference sense line RSN side of L connected to the sense line SN
To that of n times the MOS transfer gates TG S is the same as in the case of using a single transistor.

【0060】この様に二つのCMOSトランスファゲー
トTGL,TGSをイコライズ回路として用いた場合、N
MOSトランジスタとPMOSトランジスタが同時にオ
ン、オフ駆動されれば、原理上、従来技術で説明したよ
うなスイッチングノイズは発生しない。一方のイコライ
ズ信号EQLが“H”から“L”に変わるとき、他方の
イコライズ信号EQLBは“L”から“H”に変化し、
容量カップリングが相殺されるからである。しかし、イ
コライズ信号EQL,EQLBは通常、基本タイミング
信号から段数の異なるゲートを通って発生されるため、
両者のスイッチングにタイミング差が生じるので、この
様なCMOSトランスファゲートを用いた場合にも、ゲ
ート面積の異なる2個を直列接続することが有効にな
る。
[0060] Two CMOS transfer gate TG L Thus, in the case of using TG S as the equalizing circuit, N
If the MOS transistor and the PMOS transistor are simultaneously turned on and off, switching noise does not occur in principle as described in the related art. When one equalizing signal EQL changes from “H” to “L”, the other equalizing signal EQLB changes from “L” to “H”,
This is because the capacitive coupling is canceled. However, since the equalizing signals EQL and EQLB are normally generated from the basic timing signal through gates having different numbers of stages,
Since a timing difference occurs between the two switching operations, it is effective to connect two transistors having different gate areas in series even when such a CMOS transfer gate is used.

【0061】しかし、CMOSトランスファゲートTG
L,TGSを用いた場合に、イコライズ信号EQL,EQ
LBのタイミング差により別の問題が生じる。図18に
示すように、イコライズ信号EQLの“H”から“L”
への遷移に対して、イコライズ信号EQLBの“H”か
ら“L”への遷移が遅れると、CMOSトランスファゲ
ートTGL,TGSでは、NMOSトランジスタがオフに
なってもPMOSトランジスタがオフにならない期間が
発生する。
However, the CMOS transfer gate TG
L, in the case of using TG S, equalize signal EQL, EQ
Another problem arises from the LB timing differences. As shown in FIG. 18, the equalizing signal EQL changes from "H" to "L".
The transition to, a transition from "H" of the equalizing signal EQLB to "L" is delayed, the CMOS transfer gate TG L, TG S, PMOS transistor does not turn off even NMOS transistor is turned OFF period Occurs.

【0062】そうすると、図19に示すように、CMO
SトランスファゲートTGL,TGSのNMOSトランジ
スタのゲートからそれぞれ参照センス線RSN及びセン
ス線SNにスイッチングノイズa,bが乗るときに、大
きい方のトランスファゲートTGLのゲートから二つの
トランスファゲートの接続点にカップリングするn個分
のイコライズ回路からのノイズが、オフになっていない
トランスファゲートTGSのPMOSトランジスタを介
して参照センス線RSNにノイズcとして転送される。
Then, as shown in FIG.
S transfer gates TG L, TG S respectively reference sense line RSN and sense line SN to switching noise a gate of the NMOS transistor, when the b ride, connection of two transfer gates from the gate of the larger transfer gate TG L of noise from the equalizing circuit of n partial coupling to the point it is transferred as noise c in the reference sense line RSN through the PMOS transistor of the transfer gate TG S not turned off.

【0063】小さい方のトランスファゲートTGSのゲ
ートから二つのトランスファゲートの接続点にカップリ
ングするノイズも、オフになっていないトランスファゲ
ートTGLのPMOSトランジスタを介してセンス線S
Nに転送されるが、これはノイズcに比べると無視でき
る大きさである。ゲート面積が小さいことと、各センス
線SNに接続されるのは一つのイコライズ回路のみだか
らである。この結果、図18に示すように、参照センス
線RSNに乗るスイッチングノイズN11がセンス線S
Nに乗るスイッチングノイズN12よりも大きいものと
なる。
[0063] The smaller noise coupling to the connection point of two of the transfer gate from the gate of the transfer gate TG S also, sense line via the PMOS transistor of the transfer gate TG L that is not turned off S
N, which is negligible compared to noise c. This is because the gate area is small and only one equalizing circuit is connected to each sense line SN. As a result, as shown in FIG. 18, the switching noise N11 on the reference sense line RSN is
The switching noise N12 is larger than the switching noise N12.

【0064】この様なイコライズ信号EQL,EQLB
のタイミング差に起因するスイッチングノイズに対して
は、例えば図20に示すように、二つのCMOSトラン
スファゲートTGL,TGSの間に抵抗R1を接続するこ
とが有効である。これにより、図19で説明した漏れノ
イズcを小さくすることができる。
Such equalizing signals EQL, EQLB
For switching noise due to timing difference, for example, as illustrated in Figure 20, it is effective to connect a resistor R1 between the two CMOS transfer gates TG L, TG S. Thus, the leakage noise c described with reference to FIG. 19 can be reduced.

【0065】更に、図21に示すように、イコライズ回
路Eを構成する二つのトランスファゲートTGL,TG
Sとそれぞれセンス線SN,参照センス線RSNとの間
に抵抗R2,R3を挿入することも有効である。これに
より、図19で説明したイコライズ信号のタイミング差
に起因する漏れノイズcのみならず、それぞれのゲート
から直接参照センス線RSN,センス線SNのカップリ
ングするノイズa,bをも緩和することができる。
Further, as shown in FIG. 21, two transfer gates TGL and TG constituting the equalizing circuit E are provided.
It is also effective to insert resistors R2 and R3 between S and the sense line SN and the reference sense line RSN, respectively. This alleviates not only the leakage noise c due to the timing difference between the equalization signals described with reference to FIG. 19 but also the noises a and b that couple the reference sense line RSN and the sense line SN directly from each gate. it can.

【0066】図20及び図21に示した抵抗R1,R
2,R3には、拡散層抵抗、多結晶シリコン膜抵抗、ゲ
ートに定電圧を与えたMOSトランジスタ等を用い得
る。但し、これらの抵抗R1,R2,R3は、イコライ
ズ回路の機能を制限することになるので、余り大きな抵
抗値を用いることはできない。
The resistors R1 and R shown in FIGS.
As R2 and R3, a diffusion layer resistance, a polycrystalline silicon film resistance, a MOS transistor having a constant voltage applied to the gate, or the like can be used. However, since these resistors R1, R2, and R3 limit the function of the equalizing circuit, an excessively large resistance value cannot be used.

【0067】なお、図20或いは図21に示したように
抵抗を用いてスイッチングノイズの緩和を行う方式は、
CMOSトランスファゲートを用いた場合に限らず、図
9で説明したような片チャネルMOSトランジスタを二
つ直列接続する方式の場合にも適用できる。例えば、二
つのMOSトランジスタが位置的に離れて配置されて、
これが同じイコライズ信号により制御されてもタイミン
グ差が生じるというような場合には、抵抗によるノイズ
緩和を行うことが有効になる。
As shown in FIG. 20 or FIG. 21, a method of reducing switching noise by using a resistor is as follows.
The present invention can be applied not only to the case where the CMOS transfer gate is used but also to the case where two single-channel MOS transistors are connected in series as described with reference to FIG. For example, two MOS transistors are located at a distance from each other,
In the case where a timing difference occurs even if this is controlled by the same equalizing signal, it is effective to reduce noise by using a resistor.

【0068】前述したように、イコライズ回路をCMO
Sトランスファゲートにより構成した場合、PMOSト
ランジスタとNMOSトランジスタが同時にオン,オフ
駆動されれば、もともとスイッチングノイズは問題にな
らない。この点を考慮した実施の形態を次に説明する。
As described above, the equalizing circuit is implemented by the CMO
In the case of the configuration using the S transfer gate, if the PMOS transistor and the NMOS transistor are simultaneously turned on and off, the switching noise does not cause any problem. An embodiment taking this point into consideration will be described below.

【0069】図22は、センス線SNと参照センス線R
SNの間に、一つのCMOSトランジスタゲートTG1
を介在させてイコライズ回路Eを構成している。CMO
SトランスファゲートTG1のNMOSトランジスタ側
のゲートを駆動するイコライズ信号EQLと、PMOS
トランジスタ側のゲートを駆動するイコライズ信号EQ
LBを、基準タイミング信号EQLSに基づいてタイミ
ング差のない状態で発生させるために、タイミングコン
トロール回路80が用いられている。
FIG. 22 shows the relationship between the sense line SN and the reference sense line R.
One CMOS transistor gate TG1 during SN
To form the equalizing circuit E. CMO
An equalizing signal EQL for driving the gate of the S transfer gate TG1 on the NMOS transistor side;
Equalize signal EQ that drives the gate on the transistor side
A timing control circuit 80 is used to generate LB based on the reference timing signal EQLS without any timing difference.

【0070】タイミングコントロール回路80は、イコ
ライズ信号EQLを発生するための二つのCMOSトラ
ンスファゲートTG2,TG3の対と、イコライズ信号
EQLBを発生するための二つのCMOSトランスファ
ゲートTG4,TG5の対を有する。一方の対のトラン
スファゲートTG2,TG3の各一端はそれぞれ、電源
電位Vccと接地電位Vssに接続され、他端は端子N
1に共通接続されている。端子N1は、インバータバッ
ファINV1を介して、イコライズ信号EQLを出力す
る端子となる。他方の対のトランスファゲートTG4,
TG5の各一端はそれぞれ、接地電位Vssと電源電位
Vccに接続され、他端は端子N1に共通接続されてい
る。端子N2はインバータバッファINV2を介して、
イコライズ信号EQLBの出力端子となる。
The timing control circuit 80 has a pair of two CMOS transfer gates TG2 and TG3 for generating an equalize signal EQL and a pair of two CMOS transfer gates TG4 and TG5 for generating an equalize signal EQLB. One end of each of the pair of transfer gates TG2 and TG3 is connected to the power supply potential Vcc and the ground potential Vss, respectively, and the other end is connected to the terminal N.
1 are connected in common. The terminal N1 is a terminal that outputs the equalize signal EQL via the inverter buffer INV1. The other pair of transfer gates TG4,
One end of each of the TGs 5 is connected to the ground potential Vss and the power supply potential Vcc, and the other end is commonly connected to the terminal N1. Terminal N2 is connected via an inverter buffer INV2.
The output terminal for the equalize signal EQLB.

【0071】トランスファゲートTG2,TG4のNM
OSトランジスタと、トランスファゲートTG3,TG
5のPMOSトランジスタのゲートは、基準タイミング
信号EQLSをインバータINV11で反転した信号E
QLSBにより駆動される。トランスファゲートTG
2,TG4のPMOSトランジスタと、トランスファゲ
ートTG3,TG5のNMOSトランジスタのゲート
は、信号EQLSBを更にインバータINV12で反転
した信号EQLSBにより駆動される。インバータIN
V1,INV2の出力がそれぞれ、トランスファゲート
TG1のNMOSトランジスタ,PMOSトランジスタ
のゲートを駆動するイコライズ信号EQL,EQLBと
なる。
NM of transfer gates TG2 and TG4
OS transistor and transfer gates TG3, TG
The gate of the PMOS transistor 5 is a signal E obtained by inverting the reference timing signal EQLS by the inverter INV11.
Driven by QLSB. Transfer gate TG
The gates of the PMOS transistors 2 and TG4 and the gates of the NMOS transistors of the transfer gates TG3 and TG5 are driven by the signal EQLSB obtained by further inverting the signal EQLSB by the inverter INV12. Inverter IN
Outputs of V1 and INV2 become equalizing signals EQL and EQLB for driving the gates of the NMOS transistor and the PMOS transistor of the transfer gate TG1, respectively.

【0072】この様なタイミングコントロール回路80
を用いると、基準タイミング信号EQLSから同じ論理
ゲート段数をもって、相補的に“H”,“L”となるイ
コライズ信号EQL,EQLBを得ることができる。そ
の様子を図23に示す。基準タイミング信号EQLSが
立ち上がると(時刻t1)、僅かに遅れて信号EQLS
Bが“L”になる(時刻t2)。これにより、トランス
ファゲートTG2,TG4がオンからオフになり、代わ
ってトランスファゲートTG3,TG5が同時にオンに
なる。
Such a timing control circuit 80
Is used, equalizing signals EQL and EQLB complementary to "H" and "L" can be obtained from the reference timing signal EQLS with the same number of logic gate stages. This is shown in FIG. When the reference timing signal EQLS rises (time t1), the signal EQLS is slightly delayed.
B becomes "L" (time t2). Thus, the transfer gates TG2 and TG4 are turned off from on, and the transfer gates TG3 and TG5 are simultaneously turned on instead.

【0073】このとき、トランスファゲートTG3,T
G5では、PMOSトランジスタとNMOSトランジス
タのオンタイミングにずれがあるが、PMOSトランジ
スタがオンすれば、Vss,Vccがそれぞれインバー
タINV1,INV2の入力端N1,N2に供給され、
同時にイコライズ信号EQL=“H”,EQLB=
“L”になる(時刻t3)。即ち、このタイミングコン
トロール回路80では、基準タイミング信号EQLSの
立ち上がりからイコライズ信号EQLの立ち上がりまで
と、イコライズ信号EQLBの立ち下がりまでのゲート
段数に差がない。
At this time, transfer gates TG3, T
In G5, there is a difference in the on-timing of the PMOS transistor and the NMOS transistor, but when the PMOS transistor is turned on, Vss and Vcc are supplied to the input terminals N1 and N2 of the inverters INV1 and INV2, respectively.
At the same time, the equalizing signals EQL = “H”, EQLB =
It becomes “L” (time t3). That is, in the timing control circuit 80, there is no difference in the number of gate stages from the rising of the reference timing signal EQLS to the rising of the equalizing signal EQL and the falling of the equalizing signal EQLB.

【0074】イコライズ信号EQLが“H”から“L”
に遷移する時も同様である。基準タイミング信号EQL
Sが“L”になり(時刻t4)、これに少し遅れて、ト
ランスファゲートTG2,TG4が同時にオンになる
(時刻t5)。これにより、Vcc,Vssがインバー
タINV1,INV2の入力端に供給され、EQL=
“H”,EQLB=“L”になる(時刻t6)。このと
きも、タイミングずれはない。
When the equalizing signal EQL changes from “H” to “L”
The same applies to the transition to. Reference timing signal EQL
S becomes "L" (time t4), and a little later, the transfer gates TG2 and TG4 are simultaneously turned on (time t5). As a result, Vcc and Vss are supplied to the input terminals of the inverters INV1 and INV2, and EQL =
“H”, EQLB = “L” (time t6). At this time, there is no timing shift.

【0075】これにより、イコライズ回路Eのトランス
ファゲートTG1にはタイミングのずれのないイコライ
ズ信号EQL,EQLBが与えられるから、センス線S
N及び参照センス線RSNにはスイッチングノイズが乗
ることはない。なお、トランスファゲートTG2〜TG
5の駆動能力が十分大きい場合には、インバータINV
1,INV2を省いて、端子N1,N2をそのままイコ
ライズ信号EQL,EQLBの出力端子としてもよい。
As a result, equalizing signals EQL and EQLB with no timing shift are applied to transfer gate TG1 of equalizing circuit E, so that sense line S
No switching noise is applied to N and the reference sense line RSN. The transfer gates TG2 to TG
5 is sufficiently large, the inverter INV
1 and INV2 may be omitted, and the terminals N1 and N2 may be directly used as output terminals for the equalizing signals EQL and EQLB.

【0076】図24は更に、別の実施の形態のイコライ
ズ回路群70の構成を示している。この実施の形態で
は、1本の参照センス線RSNとこれを共有する複数本
のセンス線SNに接続されるイコライズ回路数を同数に
なるようにする。即ち図24では、センス線SNが4本
の場合を示しているが、参照センス線RSと各センス線
SN1〜SN4の間にそれぞれイコライズ回路E01〜
E04を設ける他、センス線SN1と他の全てのセンス
線SN2〜SN4の間にもイコライズ回路E12,E1
3,E14を設け、センス線SN2とセンス線SN3,
SN4の間にもイコライズ回路E23,E24を設け、
センス線SN3とSN4の間にもイコライズ回路E34
を設けている。
FIG. 24 shows the structure of an equalizing circuit group 70 according to another embodiment. In this embodiment, the number of equalizing circuits connected to one reference sense line RSN and a plurality of sense lines SN sharing the same is set to be the same. That is, FIG. 24 shows the case where the number of the sense lines SN is four.
In addition to providing E04, equalizing circuits E12 and E1 are also provided between sense line SN1 and all other sense lines SN2 to SN4.
3, E14 are provided, and the sense line SN2 and the sense line SN3 are provided.
Equalizing circuits E23 and E24 are also provided between SN4,
The equalizing circuit E34 is also provided between the sense lines SN3 and SN4.
Is provided.

【0077】この様に、参照センス線RS及び各センス
線SNのいずれにも、同数ずつ、具体的にこの実施の形
態の場合4個ずつのイコライズ回路を接続すれば、この
イコライズ回路群70を同時にオン,オフ制御した特、
イコライズ解除時に参照センス線RSNと各センス線S
Nに乗るスイッチングノイズは同じになる。従って、こ
のイコライズ回路群70には先の実施の形態で説明した
ようなイコライズ回路構成を用いず、従来より公知のイ
コライズ回路構成を用いても、スイッチングノイズによ
るセンス動作の遅れは生じない。
As described above, by connecting the same number of equalizing circuits to each of the reference sense line RS and each of the sense lines SN, specifically, four equalizing circuits in this embodiment, the equalizing circuit group 70 is formed. Features controlled on and off at the same time,
When equalization is released, the reference sense line RSN and each sense line S
The switching noise on N is the same. Therefore, even if the equalizing circuit configuration described in the above embodiment is not used for the equalizing circuit group 70 and a conventionally known equalizing circuit configuration is used, a delay in the sensing operation due to switching noise does not occur.

【0078】この発明は上記実施の形態に限られない。
例えば上記実施の形態では、NOR型のフラッシュメモ
リを説明したが、メモリセルが電流引き込み型であっ
て、電流検出型のセンスアンプを用いる他の各種半導体
メモリに対して同様にこの発明を適用することが可能で
ある。また実施の形態では、ページモード搭載のフラッ
シュメモリを説明したが、バーストモードの場合にも同
様に多数のセンスアンプを配置するので、この発明を適
用することは有効である。この場合、ページバッファに
ラッチされたデータは、クロック駆動されるシフトレジ
スタを備えることにより、パラレル/シリアル変換して
出力すことができる。更に、図21や図22の実施の形
態のイコライズ回路Eは、スイッチングノイズそのもの
を低減する方式であるので、ページモードやバーストモ
ード搭載ではなく、センス線と参照センス線が1:1で
対をなして用意される形式の半導体メモリにも適用が可
能である。更にまた、図21の方式は、一つのイコライ
ズ用MISFET或いは一つのイコライズ用CMOSト
ランスファゲートを用いた場合に適用しても有効であ
る。
The present invention is not limited to the above embodiment.
For example, in the above-described embodiment, the NOR type flash memory has been described. However, the present invention is similarly applied to various other semiconductor memories in which the memory cells are of a current draw type and use a current detection type sense amplifier. It is possible. Further, in the embodiment, the flash memory having the page mode is described. However, since a large number of sense amplifiers are similarly arranged in the burst mode, it is effective to apply the present invention. In this case, the data latched in the page buffer can be parallel / serial converted and output by providing a clock driven shift register. Further, since the equalizing circuit E of the embodiment shown in FIGS. 21 and 22 is a system for reducing the switching noise itself, it is not equipped with the page mode or the burst mode, but the sense line and the reference sense line are paired by 1: 1. The present invention is also applicable to a semiconductor memory of a prepared type. Furthermore, the method of FIG. 21 is also effective when applied to the case where one equalizing MISFET or one equalizing CMOS transfer gate is used.

【0079】[0079]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、イ
コライズ回路の改良により、スイッチングノイズの影響
を低減して高速アクセスを可能とした半導体メモリ装置
を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory device capable of high-speed access by reducing the influence of switching noise by improving the equalizing circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態によるフラッシュメモリ
の等価回路を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an equivalent circuit of a flash memory according to an embodiment of the present invention.

【図2】同フラッシュメモリのメモリセルアレイの等価
回路を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an equivalent circuit of a memory cell array of the flash memory.

【図3】同フラッシュメモリのメモリセル構造を示す断
面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a memory cell structure of the flash memory.

【図4】同フラッシュメモリのカラムデコーダ及びカラ
ムゲートの等価回路を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an equivalent circuit of a column decoder and a column gate of the flash memory.

【図5】同フラッシュメモリのセンスアンプ回路の要部
構成例を示す等価回路である。
FIG. 5 is an equivalent circuit showing a configuration example of a main part of a sense amplifier circuit of the flash memory.

【図6】他のセンスアンプ回路の要部構成例を示す等価
回路である。
FIG. 6 is an equivalent circuit showing a configuration example of a main part of another sense amplifier circuit.

【図7】他のセンスアンプ回路の要部構成例を示す等価
回路である。
FIG. 7 is an equivalent circuit showing a configuration example of a main part of another sense amplifier circuit.

【図8】他のセンスアンプ回路の要部構成例を示す等価
回路である。
FIG. 8 is an equivalent circuit showing a configuration example of a main part of another sense amplifier circuit.

【図9】同フラッシュメモリのイコライズ回路の構成例
を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration example of an equalizing circuit of the flash memory.

【図10】同イコライズ回路のレイアウトを示す図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing a layout of the equalizing circuit.

【図11】同イコライズ回路によるスイッチングノイズ
を説明するための図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining switching noise caused by the equalizing circuit.

【図12】図5の差動アンプの構成例を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration example of a differential amplifier in FIG. 5;

【図13】図5の電流源負荷の構成例を示す図である。13 is a diagram illustrating a configuration example of a current source load of FIG. 5;

【図14】図5のクランプ回路の構成例を示す図であ
る。
FIG. 14 is a diagram illustrating a configuration example of a clamp circuit in FIG. 5;

【図15】図5及び図7のダミーセンス線容量の構成例
を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a configuration example of a dummy sense line capacitance shown in FIGS. 5 and 7;

【図16】同実施の形態のページモードの読み出し動作
を説明するためのタイミング図である。
FIG. 16 is a timing chart for explaining a page mode read operation according to the embodiment;

【図17】イコライズ回路の他の構成例を示す図であ
る。
FIG. 17 is a diagram illustrating another configuration example of the equalizing circuit.

【図18】同イコライズ回路のスイッチングノイズを説
明するための図である。
FIG. 18 is a diagram for explaining switching noise of the equalizing circuit.

【図19】同スイッチングノイズの発生の様子を示す図
である。
FIG. 19 is a diagram showing how switching noise is generated.

【図20】図17の構成を改良したイコライズ回路の構
成例を示す図である。
20 is a diagram illustrating a configuration example of an equalizing circuit obtained by improving the configuration of FIG. 17;

【図21】図17の構成を改良したイコライズ回路の構
成例を示す図である。
21 is a diagram illustrating a configuration example of an equalizing circuit obtained by improving the configuration of FIG. 17;

【図22】他の実施の形態によるイコライズ回路の構成
例を示す図である。
FIG. 22 is a diagram illustrating a configuration example of an equalizing circuit according to another embodiment.

【図23】図22のイコライズ回路の動作を説明するた
めのタイミング図である。
FIG. 23 is a timing chart for explaining the operation of the equalizing circuit of FIG. 22;

【図24】他の実施の形態によるイコライズ回路の構成
例を示す図である。
FIG. 24 is a diagram illustrating a configuration example of an equalizing circuit according to another embodiment;

【図25】従来のセンスアンプ回路の構成を示す図であ
る。
FIG. 25 is a diagram showing a configuration of a conventional sense amplifier circuit.

【図26】データセンス時のデータ線とセンス線の電位
変化を示す図である。
FIG. 26 is a diagram showing a potential change of a data line and a sense line during data sensing.

【図27】イコライズ回路によるイコライズ動作を説明
するための図である。
FIG. 27 is a diagram for explaining an equalizing operation by the equalizing circuit.

【図28】同イコライズ回路による容量結合の様子を示
す図である。
FIG. 28 is a diagram showing a state of capacitive coupling by the equalizing circuit.

【図29】同イコライズ回路によるスイッチングノイズ
を説明するための図である。
FIG. 29 is a diagram for explaining switching noise caused by the equalizing circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリセルアレイ、2…ロウデコーダ、3…カラム
デコーダ、4…カラムゲート、5…センスアンプ回路、
6…ページバッファ、7a,7b…データバッファ、8
…アドレスバッファ、9…コントロール回路、10…昇
圧回路、11…ソースウェルデコーダ、50,50A,
50B…センスアンプ列、60…参照電位発生回路、5
1…差動アンプ、51a…インバータ、52,61…電
流源負荷、53,62…クランプ回路、63…電流源、
70…イコライズ回路群、SN…センス線、RSN…参
照センス線、DL…データ線、RDL…参照データ線、
CS…ダミーセンス線容量、CR…ダミーデータ線容
量、E,E01〜E0n…イコライズ回路、QNL,Q
S…NMOSトランジスタ、TGL,TGS…CMOS
トランスファゲート、TG1〜TG5…CMOSトラン
スファゲート。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell array, 2 ... Row decoder, 3 ... Column decoder, 4 ... Column gate, 5 ... Sense amplifier circuit,
6 page buffer, 7a, 7b data buffer, 8
... address buffer, 9 ... control circuit, 10 ... boost circuit, 11 ... source well decoder, 50, 50A,
50B: sense amplifier array, 60: reference potential generation circuit, 5
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Differential amplifier, 51a ... Inverter, 52,61 ... Current source load, 53,62 ... Clamp circuit, 63 ... Current source
70: equalizing circuit group, SN: sense line, RSN: reference sense line, DL: data line, RDL: reference data line,
CS ... dummy sense line capacity, CR ... dummy data line capacity, E, E01~E0n ... equalizing circuit, QN L, Q
N S ... NMOS transistor, TG L, TG S ... CMOS
Transfer gates, TG1 to TG5 ... CMOS transfer gates.

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Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電流引き込みの有無又は大小によりデー
タを記憶するメモリセルが配列されたメモリセルアレイ
と、 このメモリセルアレイの読み出しデータが転送される複
数のセンス線と、 読み出し動作時に参照電位を与えるための参照センス線
と、 前記複数のセンス線と前記参照センス線との間の電位差
を検出する複数のセンスアンプを含むセンスアンプ列
と、 前記複数のセンス線のそれぞれと前記参照センス線との
間を選択的に短絡するための複数のイコライズ回路とを
備え、 前記各イコライズ回路は、一端がそれぞれ前記センス線
と前記参照センス線に接続され、他端が共通接続された
第1及び第2のMISFETを有し且つ、前記センス線
側の第1のMISFETのゲート面積が前記参照センス
線側の2のMISFETのゲート面積より大きく設定さ
れていることを特徴とする半導体メモリ装置。
1. A memory cell array in which memory cells for storing data according to the presence or absence or magnitude of current draw are arranged, a plurality of sense lines to which read data of the memory cell array is transferred, and a reference potential for giving a reference potential during a read operation. A reference sense line, a sense amplifier row including a plurality of sense amplifiers for detecting a potential difference between the plurality of sense lines and the reference sense line, and between each of the plurality of sense lines and the reference sense line. And a plurality of equalizing circuits for selectively short-circuiting the first and second equalizing circuits, wherein each of the equalizing circuits has a first end connected to the sense line and the reference sense line, and a second end commonly connected to the other end. A gate surface of the second MISFET on the reference sense line side having a MISFET and having a gate area of the first MISFET on the sense line side; The semiconductor memory device characterized by being set larger.
【請求項2】 前記参照センス線1本に対して前記セン
ス線がn本(nは2以上の整数)のとき、前記第1のM
ISFETのゲート面積が前記第2のMISFETのゲ
ート面積のn倍に設定されていることを特徴とする請求
項1記載の半導体メモリ装置。
2. When the number of sense lines is n (n is an integer of 2 or more) with respect to one reference sense line, the first M
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the gate area of the ISFET is set to be n times the gate area of the second MISFET.
【請求項3】 前記センスアンプ列は、 第1の入力端子がそれぞれ前記センス線に接続され、第
2の入力端子が共通に前記参照センス線に接続された複
数の差動アンプと、 前記各センス線に電流を供給する複数の第1の電流源負
荷と、 前記参照センス線に電流を供給する第2の電流源負荷
と、 を有することを特徴とする請求項1又は2記載の半導体
メモリ装置。
3. The sense amplifier array includes: a plurality of differential amplifiers each having a first input terminal connected to the sense line, and a second input terminal commonly connected to the reference sense line; 3. The semiconductor memory according to claim 1, comprising: a plurality of first current source loads for supplying a current to a sense line; and a second current source load for supplying a current to the reference sense line. apparatus.
【請求項4】 前記センスアンプ列は、 入力端子がそれぞれ前記センス線に接続された複数のイ
ンバータと、 前記参照センス線に電流を供給するための、ゲートとド
レインが共通接続された第1の電流源MISFETと、 前記各センス線に電流を供給するための前記第1の電流
源MISFETとカレントミラーを構成する複数の第2
の電流源MISFETと、を有することを特徴とする請
求項1又は2記載の半導体メモリ装置。
4. A sense amplifier array comprising: a plurality of inverters each having an input terminal connected to the sense line; and a first inverter having a gate and a drain commonly connected for supplying current to the reference sense line. A current source MISFET; and a plurality of second current sources forming a current mirror with the first current source MISFET for supplying a current to each of the sense lines.
3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a current source MISFET.
【請求項5】 前記各センス線はそれぞれ対応するデー
タ線に対して第1の分離回路を介して接続され、前記参
照センス線は第2の分離回路を介して参照データ線に接
続されていることを特徴とする請求項1又は2記載の半
導体メモリ装置。
5. The sense line is connected to a corresponding data line via a first separation circuit, and the reference sense line is connected to a reference data line via a second separation circuit. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項6】 前記第1及び第2のMISFETは、n
チャネル型であることを特徴とする請求項1又は2記載
の半導体メモリ装置。
6. The first and second MISFETs each have an n
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is of a channel type.
【請求項7】 前記各イコライズ回路は、前記第1及び
第2のMISFETがnチャネル型であり、これらの第
1及び第2のMISFETにそれぞれ並列にpチャネル
型のMISFETが接続されて、前記センス線に一端が
接続された第1のCMOSトランスファゲートと前記参
照センス線に一端が接続された第2のCMOSゲートと
の直列回路が構成されていることを特徴とする請求項1
記載の半導体メモリ装置。
7. The equalizer circuit according to claim 1, wherein the first and second MISFETs are n-channel type, and the first and second MISFETs are connected to the p-channel type MISFET in parallel, respectively. 2. A series circuit comprising a first CMOS transfer gate having one end connected to a sense line and a second CMOS gate having one end connected to the reference sense line.
The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項8】 前記参照センス線1本に対して前記セン
ス線がn本(nは2以上の整数)のとき、前記第1のC
MOSトランスファゲートのゲート面積が前記第2のC
MOSトランスファゲートのゲート面積のn倍に設定さ
れていることを特徴とする請求項7記載の半導体メモリ
装置。
8. When the number of sense lines is n (n is an integer of 2 or more) with respect to one reference sense line, the first C
The gate area of the MOS transfer gate is the second C
8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the gate area is set to n times the gate area of the MOS transfer gate.
【請求項9】 前記第1及び第2のCMOSトランスフ
ァゲートの間に抵抗を介在させたことを特徴とする請求
項7記載の半導体メモリ装置。
9. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein a resistor is interposed between said first and second CMOS transfer gates.
【請求項10】 前記第1及び第2のCMOSトランス
ファゲートと前記センス線及び前記参照センス線との間
にそれぞれ抵抗を介在させたことを特徴とする請求項7
記載の半導体メモリ装置。
10. The semiconductor device according to claim 7, wherein a resistor is interposed between each of the first and second CMOS transfer gates and each of the sense line and the reference sense line.
The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項11】 電流引き込みの有無又は大小によりデ
ータを記憶するメモリセルが配列されたメモリセルアレ
イと、 このメモリセルアレイの読み出しデータが転送されるセ
ンス線と、 読み出し動作時に参照電位を与えるための参照センス線
と、 前記センス線と前記参照センス線との間の電位差を検出
して読み出しデータを判定するセンスアンプと、 前記センス線と前記参照センス線との間に設けられた、
前記センス線と参照センス線を選択的に短絡するための
イコライズ用MISFETと、 このイコライズ用MISFETと前記センス線及び参照
センス線との間に介在させた抵抗と、を備えたことを特
徴とする半導体メモリ装置。
11. A memory cell array in which memory cells for storing data according to the presence or absence or magnitude of current draw, a sense line to which read data of the memory cell array is transferred, and a reference for applying a reference potential during a read operation A sense line, a sense amplifier for detecting a potential difference between the sense line and the reference sense line to determine read data, and a sense amplifier provided between the sense line and the reference sense line;
An equalizing MISFET for selectively short-circuiting the sense line and the reference sense line, and a resistor interposed between the equalizing MISFET, the sense line, and the reference sense line. Semiconductor memory device.
【請求項12】 電流引き込みの有無又は大小によりデ
ータを記憶するメモリセルが配列されたメモリセルアレ
イと、 このメモリセルアレイの読み出しデータが転送されるセ
ンス線と、 読み出し動作時に参照電位を与えるための参照センス線
と、 前記センス線と前記参照センス線との間の電位差を検出
して読み出しデータを判定するセンスアンプと、 前記センス線と前記参照センス線との間に設けられた、
前記センス線と参照センス線の間を選択的に短絡するた
めのCMOSトランスファゲートからなるイコライズ回
路と、 基準タイミング信号に基づいて、前記CMOSトランス
ファゲートのnチャネル側ゲート及びpチャネル側ゲー
トを駆動するための相補関係にある第1及び第2のイコ
ライズ信号を同じ論理ゲート段数で発生させるタイミン
グコントロール回路と、を備えたことを特徴とする半導
体メモリ装置。
12. A memory cell array in which memory cells for storing data according to the presence or absence or magnitude of current draw are arranged, a sense line to which read data of this memory cell array is transferred, and a reference for applying a reference potential during a read operation. A sense line, a sense amplifier for detecting a potential difference between the sense line and the reference sense line to determine read data, and a sense amplifier provided between the sense line and the reference sense line;
An equalizing circuit including a CMOS transfer gate for selectively shorting the sense line and the reference sense line; and driving an n-channel side gate and a p-channel side gate of the CMOS transfer gate based on a reference timing signal. And a timing control circuit for generating first and second equalizing signals having a complementary relationship for the same number of logic gate stages.
【請求項13】 前記タイミングコントロール回路は、 一端が前記第1のイコライズ信号用の第1の出力端子に
共通接続され、他端がそれぞれ電源電位と接地電位に固
定され、前記基準タイミング信号に基づいて相補的に駆
動されて電源電位と接地電位とを選択的に前記第1の出
力端子に出力する第1及び第2のCMOSトランスファ
ゲートと、 一端が前記第2のイコライズ信号用の第2の出力端子に
共通接続され、他端がそれぞれ接地電位と電源電位に固
定され、前記基準タイミング信号に基づいて前記第1及
び第2のCMOSトランスファゲートとそれぞれ同時に
駆動されて接地電位と電源電位を選択的に前記第2の出
力端子に出力する第3及び第4のCMOSトランスファ
ゲートとを有することを特徴とする請求項12記載の半
導体メモリ装置。
13. The timing control circuit has one end commonly connected to a first output terminal for the first equalizing signal, and the other end fixed to a power supply potential and a ground potential, respectively, based on the reference timing signal. First and second CMOS transfer gates which are driven complementarily and selectively output a power supply potential and a ground potential to the first output terminal, one end of which is a second for the second equalizing signal. The other end is fixed to a ground potential and a power supply potential, respectively, and is driven simultaneously with the first and second CMOS transfer gates based on the reference timing signal to select a ground potential and a power supply potential. 13. The semiconductor device according to claim 12, further comprising third and fourth CMOS transfer gates for outputting to said second output terminal. Li equipment.
【請求項14】 電流引き込みの有無又は大小によりデ
ータを記憶するメモリセルが配列されたメモリセルアレ
イと、 このメモリセルアレイの読み出しデータが転送される複
数のセンス線と、 読み出し動作時に参照電位を与えるための参照センス線
と、 前記複数のセンス線と前記参照センス線との間の電位差
を検出する複数のセンスアンプを含むセンスアンプ列
と、 前記複数のセンス線のそれぞれの間及び、前記複数のセ
ンス線のそれぞれと前記参照センス線との間を選択的に
短絡するための複数のイコライズ回路と、を備えたこと
を特徴とする半導体メモリ装置。
14. A memory cell array in which memory cells for storing data according to the presence or absence or magnitude of current draw are arranged, a plurality of sense lines to which read data of the memory cell array is transferred, and a reference potential for giving a reference potential during a read operation. A plurality of sense amplifiers including a plurality of sense amplifiers for detecting a potential difference between the plurality of sense lines and the reference sense line; and a plurality of sense amplifiers between each of the plurality of sense lines and the plurality of sense lines. A semiconductor memory device, comprising: a plurality of equalizing circuits for selectively shorting each of the lines and the reference sense line.
【請求項15】 前記複数のセンス線及び参照センス線
のそれぞれに同数ずつのイコライズ回路が接続されてい
ることを特徴とする請求項14記載の半導体メモリ装
置。
15. The semiconductor memory device according to claim 14, wherein an equal number of equalizing circuits are connected to each of said plurality of sense lines and reference sense lines.
【請求項16】 前記複数のセンス線のそれぞれは、残
りのセンス線と前記イコライズ回路を介して接続され、
前記参照センス線は前記複数のセンス線のそれぞれと前
記イコライズ回路を介して接続されていることを特徴と
する請求項14記載の半導体メモリ装置。
16. Each of the plurality of sense lines is connected to the remaining sense lines via the equalizing circuit,
15. The semiconductor memory device according to claim 14, wherein said reference sense line is connected to each of said plurality of sense lines via said equalizing circuit.
【請求項17】 前記メモリセルは、電荷蓄積層と制御
ゲートが積層されたMISFET構造を持つ、電気的書
き換え可能な不揮発性メモリセルであることを特徴とす
る請求項1,11,12,14のいずれかに記載の半導
体メモリ装置。
17. The memory cell according to claim 1, wherein said memory cell is an electrically rewritable nonvolatile memory cell having a MISFET structure in which a charge storage layer and a control gate are stacked. The semiconductor memory device according to any one of the above.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009533787A (en) * 2006-03-30 2009-09-17 エヌエックスピー ビー ヴィ Electronic circuit having memory matrix and reading method for compensating bit line noise
KR100979374B1 (en) * 2007-11-30 2010-09-02 주식회사 하이닉스반도체 Phase change memory device
JP2012084225A (en) * 2012-01-30 2012-04-26 Toppan Printing Co Ltd Nonvolatile memory

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09161498A (en) * 1995-12-05 1997-06-20 Sharp Corp Semiconductor storage
JPH10208476A (en) * 1996-11-19 1998-08-07 Matsushita Electron Corp Semiconductor memory device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09161498A (en) * 1995-12-05 1997-06-20 Sharp Corp Semiconductor storage
JPH10208476A (en) * 1996-11-19 1998-08-07 Matsushita Electron Corp Semiconductor memory device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009533787A (en) * 2006-03-30 2009-09-17 エヌエックスピー ビー ヴィ Electronic circuit having memory matrix and reading method for compensating bit line noise
KR100979374B1 (en) * 2007-11-30 2010-09-02 주식회사 하이닉스반도체 Phase change memory device
JP2012084225A (en) * 2012-01-30 2012-04-26 Toppan Printing Co Ltd Nonvolatile memory

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