JP2002361861A - Head chip and its manufacturing method - Google Patents

Head chip and its manufacturing method

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JP2002361861A
JP2002361861A JP2001166871A JP2001166871A JP2002361861A JP 2002361861 A JP2002361861 A JP 2002361861A JP 2001166871 A JP2001166871 A JP 2001166871A JP 2001166871 A JP2001166871 A JP 2001166871A JP 2002361861 A JP2002361861 A JP 2002361861A
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    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/10Finger type piezoelectric elements

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a head chip and its manufacturing method in which manufacturing processes are reduced by easily and surely connecting electrodes inside chambers and dummy chambers and wiring lines each other, and manufacturing costs are reduced. SOLUTION: Dummy chambers 18 and chambers 17 shorter than dummy chambers 18 are opened to a surface of a substrate 16. Moreover, a wiring pattern 81 for discrete electrodes for mutually electrically connecting discrete electrodes 20b corresponding to respective chambers 17 is set to rear end parts at the opposite side to nozzle openings of the dummy chambers 18 at both sides of each chamber 17. At the same time, a wiring pattern 80 for common electrodes which communicates with each of common electrodes 20a in the chambers 17 is set to rear end parts of the chambers 17.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、プリン
タ、ファックスなどに適用されるインクジェット式記録
装置に搭載されるヘッドチップ及びその製造方法に関す
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a head chip mounted on an ink jet recording apparatus applied to, for example, a printer, a facsimile and the like, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、インクを吐出する複数のノズ
ルを有するインクジェットヘッドを用いて被記録媒体に
文字や画像を記録するインクジェット式記録装置が知ら
れている。かかるインクジェット式記録装置では、イン
クジェットヘッドのノズルが被記録媒体に対向するよう
にヘッドホルダに設けられ、このヘッドホルダはキャリ
ッジに搭載され被記録媒体の搬送方向とは直交する方向
に走査されるようになっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known an ink jet recording apparatus for recording characters and images on a recording medium using an ink jet head having a plurality of nozzles for discharging ink. In such an ink jet type recording apparatus, a nozzle of an ink jet head is provided on a head holder so as to face a recording medium, and the head holder is mounted on a carriage and scanned in a direction orthogonal to a transport direction of the recording medium. It has become.

【0003】このようなインクジェットヘッドのヘッド
チップの一例の分解概略を図11に、また、要部断面を
図12に示す。図11及び図12に示すように、圧電セ
ラミックプレート101には、複数の溝102が並設さ
れ、各溝102は、側壁103で分離されている。各溝
102の長手方向一端部は圧電セラミックプレート10
1の一端面まで延設されており、他端部は、他端面まで
は延びておらず、深さが徐々に浅くなっている。また、
各溝102内の両側壁103の開口側表面には、長手方
向に亘って、駆動電界印加用の電極105が形成されて
いる。
FIG. 11 schematically shows an example of a head chip of such an ink jet head, and FIG. 12 shows a cross section of a main part thereof. As shown in FIGS. 11 and 12, a plurality of grooves 102 are provided in the piezoelectric ceramic plate 101, and each groove 102 is separated by a side wall 103. One end of each groove 102 in the longitudinal direction is a piezoelectric ceramic plate 10.
1 is extended to one end surface, and the other end portion does not extend to the other end surface, but gradually decreases in depth. Also,
Electrodes 105 for applying a driving electric field are formed on the opening side surfaces of both side walls 103 in each groove 102 in the longitudinal direction.

【0004】また、圧電セラミックプレート101の溝
102の開口側には、カバープレート107が接着剤1
09を介して接合されている。カバープレート107に
は、各溝102の浅くなった他端部と連通する凹部とな
る共通インク室111と、この共通インク室111の底
部から溝102とは反対方向に貫通するインク供給口1
12とを有する。
[0004] A cover plate 107 is provided with an adhesive 1 on the opening side of the groove 102 of the piezoelectric ceramic plate 101.
09. The cover plate 107 has a common ink chamber 111 serving as a concave portion communicating with the shallow other end of each groove 102, and an ink supply port 1 penetrating from the bottom of the common ink chamber 111 in a direction opposite to the groove 102.
And 12.

【0005】また、圧電セラミックプレート101とカ
バープレート107との接合体の溝102が開口してい
る端面には、ノズルプレート115が接合されており、
ノズルプレート115の各溝102に対向する位置には
ノズル開口117が形成されている。
A nozzle plate 115 is joined to an end face of the joined body of the piezoelectric ceramic plate 101 and the cover plate 107 where the groove 102 is open.
A nozzle opening 117 is formed at a position facing each groove 102 of the nozzle plate 115.

【0006】なお、圧電セラミックプレート101のノ
ズルプレート115とは反対側でカバープレート107
とは反対側の面には、配線基板120が固着されてい
る。配線基板120には、各電極105とボンディング
ワイヤ121等で接続された配線パターン122が形成
され、この配線パターン122を介して電極105に駆
動電圧を印加できるようになっている。
The cover plate 107 is located on the side of the piezoelectric ceramic plate 101 opposite to the nozzle plate 115.
The wiring board 120 is fixed to the surface on the opposite side to the above. A wiring pattern 122 connected to each electrode 105 by a bonding wire 121 or the like is formed on the wiring substrate 120, and a driving voltage can be applied to the electrode 105 via the wiring pattern 122.

【0007】このように構成されるヘッドチップでは、
インク供給口112から各溝102内にインクを充填
し、所定の溝102の両側の側壁103に電極105を
介して所定の駆動電界を作用させると、側壁103が変
形して所定の溝102内の容積が変化し、これにより、
溝102内のインクがノズル開口117から吐出する。
In the head chip configured as described above,
When ink is filled in each groove 102 from the ink supply port 112 and a predetermined driving electric field is applied to the side walls 103 on both sides of the predetermined groove 102 via the electrode 105, the side wall 103 is deformed and the inside of the predetermined groove 102 is formed. Changes the volume of the
The ink in the groove 102 is discharged from the nozzle opening 117.

【0008】例えば、図13に示すように、溝102a
に対応するノズル開口117からインクを吐出する場合
には、その溝102a内の電極105a,105bに正
の駆動電圧を印加すると共にそれぞれに対向する電極1
05c,105dを接地するようにする。これにより、
側壁103a,103bには溝102aに向かう方向の
駆動電界が作用し、これが圧電セラミックプレート10
1の分極方向と直交すれば、圧電厚みすべり効果により
側壁103a,103bが溝102a方向に変形し、溝
102a内の容積が減少して圧力が増加し、ノズル開口
117からインクが吐出する。
For example, as shown in FIG.
In the case where ink is ejected from the nozzle opening 117 corresponding to, a positive drive voltage is applied to the electrodes 105a and 105b in the groove 102a, and the electrodes 1 facing each other are applied.
05c and 105d are grounded. This allows
A driving electric field in a direction toward the groove 102a acts on the side walls 103a and 103b, and this is
If the polarization direction is orthogonal to the direction 1, the side walls 103a and 103b are deformed in the direction of the groove 102a due to the piezoelectric thickness-shear effect, the volume in the groove 102a is reduced, the pressure is increased, and ink is ejected from the nozzle opening 117.

【0009】また、このようなヘッドチップに水性イン
ク等の導電性インクを使用した場合、一つの溝102a
内の側壁103a,103bに設けられた隣り合う電極
105a,105bが導通してしまい、電位差が無くな
ることによって側壁103a,103bが変形しなくな
り、インクを吐出できないという問題がある。
When conductive ink such as aqueous ink is used for such a head chip, one groove 102a
The adjacent electrodes 105a and 105b provided on the inner side walls 103a and 103b become conductive, and the potential difference disappears, so that the side walls 103a and 103b do not deform and there is a problem that ink cannot be ejected.

【0010】このため、ノズル開口に連通してインクの
吐出に使用する溝を一つ置きとして、ノズル開口に連通
してインクの吐出に使用する溝をチャンバ、インク吐出
に使用せずにインクを充填しない溝をダミーチャンバと
する。そして、チャンバの両側壁の内面に設けられた電
極を全てのチャンバで同電位とする共通電極とすると共
にチャンバの両側壁の外面の電極をチャンバを選択的に
駆動する個別電極とすることでチャンバの両側の側壁に
電界を印加してインクを吐出させるヘッドチップが提案
されている。
For this reason, every other groove that communicates with the nozzle opening and is used for discharging ink is provided, and the groove that communicates with the nozzle opening and is used for discharging ink is used as a chamber and ink is not used for discharging ink. Unfilled grooves are used as dummy chambers. Then, the electrodes provided on the inner surfaces of both side walls of the chamber are used as common electrodes having the same potential in all chambers, and the electrodes on the outer surfaces of both side walls of the chamber are used as individual electrodes for selectively driving the chamber. There has been proposed a head chip for ejecting ink by applying an electric field to the side walls on both sides of the head chip.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ヘッドチップでは、ダミーチャンバ内の個別電極を3次
元的に引き回したり、圧電セラミックプレート上に電極
に接続される配線パターンをレーザー加工によって形成
したりしており、接続した配線が他の電極の配線パター
ンと短絡して正常な駆動ができないという問題がある。
However, in the conventional head chip, individual electrodes in the dummy chamber are routed three-dimensionally, and a wiring pattern connected to the electrodes is formed on the piezoelectric ceramic plate by laser processing. Therefore, there is a problem in that the connected wiring is short-circuited with the wiring pattern of another electrode, and normal driving cannot be performed.

【0012】また、3次元的な引き回しや、レーザー加
工では、製造時間や製造コストが増大してしまうという
問題がある。
[0012] In addition, in three-dimensional routing and laser processing, there is a problem that manufacturing time and manufacturing cost increase.

【0013】本発明はこのような事情に鑑み、チャンバ
及びダミーチャンバ内の電極と配線とを容易に且つ確実
に接続して製造工程を減少すると共に製造コストを低減
したヘッドチップ及びその製造方法を提供することを課
題とする。
In view of such circumstances, the present invention provides a head chip and a method of manufacturing the same, in which the electrodes and wiring in the chamber and the dummy chamber are easily and securely connected to reduce the number of manufacturing steps and the manufacturing cost. The task is to provide.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の第1の態様は、基板にノズル開口に連通するチャン
バとインクの充填されないダミーチャンバとを交互に並
設すると共に、各チャンバ及びダミーチャンバの両側の
側壁に電極を設け、当該チャンバ内の電極を共通電極と
すると共に各ダミーチャンバ内の電極を個別電極として
各チャンバの両側の側壁に駆動電界を印加するヘッドチ
ップにおいて、前記基板の表面には、前記ダミーチャン
バと当該ダミーチャンバより短い前記チャンバとが開口
されており、且つ前記チャンバの両側の前記ダミーチャ
ンバの前記ノズル開口とは反対側の後端部には、各チャ
ンバに対応する個別電極同士を相互に相互に導通する個
別電極用配線パターンが設けられていると共に、前記チ
ャンバの後端部には当該チャンバ内の各共通電極のそれ
ぞれに連通する共通電極用配線パターンが設けられてい
ることを特徴とするヘッドチップにある。
According to a first aspect of the present invention, a chamber communicating with a nozzle opening and a dummy chamber not filled with ink are alternately arranged side by side on a substrate. In a head chip, electrodes are provided on both side walls of a dummy chamber, electrodes in the chamber are used as common electrodes, and electrodes in each dummy chamber are used as individual electrodes to apply a driving electric field to both side walls of each chamber. The surface of the dummy chamber and the chamber that is shorter than the dummy chamber is opened, and at the rear end of the dummy chamber on both sides of the chamber opposite to the nozzle opening, each chamber has A wiring pattern for individual electrodes for mutually conducting the corresponding individual electrodes to each other is provided, and at the rear end of the chamber. In the head chip, wherein a common electrode wiring pattern communicating with each of the common electrodes of the chamber are provided.

【0015】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記基板の前記チャンバが開口する面には、当該ダ
ミーチャンバの長手方向と直交する方向に前記ダミーチ
ャンバに跨って設けられた溝を有し、前記個別電極用配
線パターンが前記溝内に設けられていることを特徴とす
るヘッドチップにある。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, on the surface of the substrate where the chamber is opened, the substrate is provided across the dummy chamber in a direction orthogonal to a longitudinal direction of the dummy chamber. A head chip having a groove, wherein the wiring pattern for an individual electrode is provided in the groove.

【0016】本発明の第3の態様は、第2の態様におい
て、前記溝の幅方向両側の縁部には、前記個別電極用配
線パターンの設けられていない段差部が設けられている
ことを特徴とするヘッドチップにある。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, a stepped portion on which the individual electrode wiring pattern is not provided is provided at both edges in the width direction of the groove. Characteristic head chip.

【0017】本発明の第4の態様は、第1〜3の何れか
の態様において、前記個別電極用配線パターン及び前記
共通電極用配線パターンには、引き出し配線が異方性導
電接着剤により接続されていることを特徴とするヘッド
チップにある。
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, a lead wiring is connected to the individual electrode wiring pattern and the common electrode wiring pattern by an anisotropic conductive adhesive. The head chip is characterized in that:

【0018】本発明の第5の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、前記個別電極用配線パターンと前記個
別電極とが一体的に形成されていることを特徴とするヘ
ッドチップにある。
According to a fifth aspect of the present invention, in the head chip according to any one of the first to fourth aspects, the individual electrode wiring pattern and the individual electrode are integrally formed. is there.

【0019】本発明の第6の態様は、第1〜5の何れか
の態様において、前記インクが導電性インクであること
を特徴とするヘッドチップにある。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a head chip according to any one of the first to fifth aspects, wherein the ink is a conductive ink.

【0020】本発明の第7の態様は、第1〜6の何れか
の態様において、前記基板が圧電セラミックプレートか
らなり、前記チャンバが前記圧電セラミックプレートに
溝を形成することにより形成されていることを特徴とす
るヘッドチップにある。
According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to sixth aspects, the substrate is formed of a piezoelectric ceramic plate, and the chamber is formed by forming a groove in the piezoelectric ceramic plate. The head chip is characterized in that:

【0021】本発明の第8の態様は、第7の態様におい
て、前記圧電セラミックプレートは前記チャンバの深さ
方向に向かって分極方向が一方向であることを特徴とす
るヘッドチップにある。
According to an eighth aspect of the present invention, in the head chip according to the seventh aspect, the piezoelectric ceramic plate has one direction of polarization in a depth direction of the chamber.

【0022】本発明の第9の態様は、基板にノズル開口
に連通するチャンバとインクの充填されないダミーチャ
ンバとを交互に並設すると共に、各チャンバ及びダミー
チャンバの両側の側壁に電極を設け、当該チャンバ内の
電極を共通電極とすると共に各ダミーチャンバ内の電極
を個別電極として各チャンバの両側の側壁に駆動電界を
印加するヘッドチップの製造方法において、前記基板の
一方面にレジスト層を形成すると共に該レジスト層に前
記ダミーチャンバの一端部となる位置に連続した第1の
開口及び前記チャンバの一端と前記第1の開口との間の
それぞれに第2の開口を形成する工程と、前記基板に前
記チャンバ及び前記ダミーチャンバを形成する工程と、
前記チャンバ及び前記ダミーチャンバの内面に前記電極
を形成すると共に前記第1の開口により露出した前記基
板上に前記個別電極と連続する個別電極用配線パターン
と前記第2の開口により露出した前記基板上に前記共通
電極と連続する共通電極用配線パターンとを形成する工
程と、前記レジスト層を除去する工程とを有することを
特徴とするヘッドチップの製造方法にある。
According to a ninth aspect of the present invention, chambers communicating with the nozzle openings and dummy chambers not filled with ink are alternately arranged on the substrate, and electrodes are provided on both side walls of each chamber and the dummy chamber. In a method of manufacturing a head chip in which an electrode in the chamber is used as a common electrode and electrodes in each dummy chamber are used as individual electrodes and a driving electric field is applied to both side walls of each chamber, a resist layer is formed on one surface of the substrate. Forming a first opening in the resist layer at a position to be one end of the dummy chamber and a second opening between the one end of the chamber and the first opening, Forming the chamber and the dummy chamber on a substrate;
The electrode is formed on the inner surfaces of the chamber and the dummy chamber, and a wiring pattern for an individual electrode which is continuous with the individual electrode on the substrate exposed through the first opening and on the substrate exposed through the second opening Forming a common electrode and a continuous wiring pattern for the common electrode, and removing the resist layer.

【0023】本発明の第10の態様は、第9の態様にお
いて、前記チャンバ及び前記ダミーチャンバを形成する
工程の後、前記ダミーチャンバの長手方向に直交し、且
つ当該ダミーチャンバに跨るように前記個別電極用配線
パターンの形成される溝を形成すると共に前記個別電極
用配線パターンを形成する工程では、前記溝内に形成す
ることを特徴とするヘッドチップの製造方法にある。
According to a tenth aspect of the present invention, in the ninth aspect, after the step of forming the chamber and the dummy chamber, the step of orthogonally intersecting the longitudinal direction of the dummy chamber and straddling the dummy chamber. In the method for manufacturing a head chip, the step of forming a groove in which the individual electrode wiring pattern is formed and the step of forming the individual electrode wiring pattern are performed in the groove.

【0024】本発明の第11の態様は、第10の態様に
おいて、前記個別電極用配線パターンを形成する工程の
後、前記溝の幅方向両側の縁部を切り欠くことにより前
記個別電極用配線パターンの削除された段差部を形成す
る工程をさらに有することを特徴とするヘッドチップの
製造方法にある。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the tenth aspect, after the step of forming the individual electrode wiring pattern, the edges of the groove in both sides in the width direction are cut out to form the individual electrode wiring pattern. A method of manufacturing a head chip, further comprising a step of forming a step portion from which a pattern is deleted.

【0025】本発明の第12の態様は、第9〜11の何
れかの態様において、前記電極、前記個別電極用配線パ
ターン及び前記個別電極用配線パターンを形成する工程
の後、前記共通電極用配線パターン及び前記個別電極用
配線パターンのそれぞれに異方性導電接着剤により引き
出し配線を接続する工程をさらに有することを特徴とす
るヘッドチップの製造方法にある。
According to a twelfth aspect of the present invention, in any one of the ninth to eleventh aspects, after the step of forming the electrode, the individual electrode wiring pattern and the individual electrode wiring pattern, The method for manufacturing a head chip further comprises a step of connecting a lead wiring to each of the wiring pattern and the wiring pattern for an individual electrode with an anisotropic conductive adhesive.

【0026】本発明の第13の態様は、第9〜12の何
れかの態様において、前記基板が前記チャンバの深さ方
向に向かって一方向の分極方向である圧電セラミックプ
レートからなることを特徴とするヘッドチップの製造方
法にある。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in any one of the ninth to twelfth aspects, the substrate is made of a piezoelectric ceramic plate whose polarization direction is one direction toward the depth direction of the chamber. And a method of manufacturing a head chip.

【0027】かかる本発明では、共通電極用配線パター
ンにより確実に共通電極の導通を図ることができると共
に、個別電極用及び共通電極用配線パターンに配線を容
易に且つ確実に接続することができる。
In the present invention, the conduction of the common electrode can be ensured by the common electrode wiring pattern, and the wiring can be easily and reliably connected to the individual electrode and common electrode wiring patterns.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を実施形態に基づ
いて詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

【0029】(実施形態1)図1は、一実施形態に係る
ヘッドチップユニットの分解斜視図であり、図2はヘッ
ドチップの分解斜視図であり、図3は、圧電セラミック
プレート配線パターン部分の斜視図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is an exploded perspective view of a head chip unit according to an embodiment, FIG. 2 is an exploded perspective view of a head chip, and FIG. 3 is a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion. It is a perspective view.

【0030】図1に示すように、本実施形態のヘッドチ
ップユニット10は、ヘッドチップ11と、このヘッド
チップ11の一方面側に設けられるベースプレート12
と、ヘッドチップ11の他方面側に設けられるヘッドカ
バー13と、ヘッドチップ11を駆動するための駆動回
路31が搭載された配線基板30とを有する。
As shown in FIG. 1, a head chip unit 10 of the present embodiment comprises a head chip 11 and a base plate 12 provided on one surface of the head chip 11.
And a head cover 13 provided on the other surface side of the head chip 11, and a wiring board 30 on which a drive circuit 31 for driving the head chip 11 is mounted.

【0031】まず、ヘッドチップ11について詳しく説
明する。図2に示すように、ヘッドチップ11を構成す
る圧電セラミックプレート16は、分極方向が厚さ方向
に向かって一方向の圧電セラミックプレート16からな
り、ノズル開口26に連通してインクを吐出する圧力室
であるチャンバ17と、インクが充填されないダミーチ
ャンバ18とが側壁19により区画されて交互に設けら
れている。
First, the head chip 11 will be described in detail. As shown in FIG. 2, the piezoelectric ceramic plate 16 constituting the head chip 11 is composed of a piezoelectric ceramic plate 16 whose polarization direction is one direction toward the thickness direction. Chambers 17, which are chambers, and dummy chambers 18 not filled with ink are alternately provided, being partitioned by side walls 19.

【0032】チャンバ17の長手方向一端部は、圧電セ
ラミックプレート16の一端面まで延設されており、他
端部は、他端面まで延びておらず、深さが徐々に浅くな
っている。
One end in the longitudinal direction of the chamber 17 extends to one end of the piezoelectric ceramic plate 16, and the other end does not extend to the other end, and the depth is gradually reduced.

【0033】また、ダミーチャンバ18は、例えば、公
知の斜め蒸着で形成される個別電極20bが該ダミーチ
ャンバー底で短絡されない任意の深さで形成されてお
り、長手方向一端部は圧電セラミックプレート16の一
端面まで延設されており、他端部も他端面まで形成され
ている。すなわち、ダミーチャンバ18は、圧電セラミ
ックプレート16の長手方向に亘って形成されている。
The dummy chamber 18 has, for example, an individual electrode 20b formed by oblique deposition in a known manner at an arbitrary depth such that it is not short-circuited at the bottom of the dummy chamber. , And the other end is also formed to the other end surface. That is, the dummy chamber 18 is formed along the longitudinal direction of the piezoelectric ceramic plate 16.

【0034】このようなチャンバ17及びダミーチャン
バ18は、圧電セラミックプレート16に円盤状のダイ
スカッターにより形成され、チャンバ17の深さが徐々
に浅くなった部分は、ダイスカッターの形状により形成
される。
The chamber 17 and the dummy chamber 18 are formed on the piezoelectric ceramic plate 16 by a disk-shaped die cutter, and the portion where the depth of the chamber 17 is gradually reduced is formed by the shape of the die cutter. .

【0035】また、チャンバ17及びダミーチャンバ1
8を区画する側壁19には、チャンバ17の内面の全面
に亘って及びダミーチャンバ18の開口側に長手方向に
亘って駆動電界印加用の電極20が形成されている。
The chamber 17 and the dummy chamber 1
An electrode 20 for applying a driving electric field is formed on a side wall 19 that partitions the chamber 8 over the entire inner surface of the chamber 17 and on the opening side of the dummy chamber 18 in the longitudinal direction.

【0036】この電極20の内、チャンバ17の内面に
設けられた電極20は、チャンバ17内のインクが水性
インク等の導電性インクの場合、導通してしまうと共に
電極材料の溶出、腐食やインクの電気分解による気泡発
生や変質などを防止するため各チャンバ17内で同電位
となる共通電極20aとなっている。
Of the electrodes 20, the electrode 20 provided on the inner surface of the chamber 17 conducts when the ink in the chamber 17 is a conductive ink such as a water-based ink. The common electrode 20a has the same potential in each chamber 17 in order to prevent the generation of bubbles and the deterioration due to the electrolysis.

【0037】また、電極20の内、ダミーチャンバ18
の開口側の長手方向に亘って設けられた電極20は、各
チャンバ17毎に独立した駆動信号を与えることができ
る個別電極20bとなっている。本実施形態では、個別
電極20bは、ダミーチャンバ18の底面には設けられ
ておらずダミーチャンバ18内で分離されている。
The dummy chamber 18 of the electrodes 20
The electrodes 20 provided in the longitudinal direction on the opening side of the individual electrodes 20 b are individual electrodes 20 b capable of providing an independent drive signal for each chamber 17. In the present embodiment, the individual electrodes 20b are not provided on the bottom surface of the dummy chamber 18 and are separated in the dummy chamber 18.

【0038】この共通電極20a及び個別電極20bか
らなる電極20は、例えば、公知の斜め蒸着により形成
することができる。
The electrode 20 composed of the common electrode 20a and the individual electrode 20b can be formed by, for example, known oblique evaporation.

【0039】さらに、圧電セラミックプレート16のチ
ャンバ17及びダミーチャンバ18が開口する表面に
は、隣り合うダミーチャンバ18の間に挟まれたチャン
バ17側の個別電極20aを相互に導通させる個別電極
用配線パターン81と、チャンバ17の浅くなった後端
部近傍にチャンバ17内の各共通電極20aと導通して
個別電極用配線パターン81に導通しないように設けら
れた共通電極用配線パターン80とが設けられている。
Further, on the surface of the piezoelectric ceramic plate 16 where the chambers 17 and the dummy chambers 18 are open, individual electrode wirings for electrically connecting the individual electrodes 20a on the chamber 17 side sandwiched between the adjacent dummy chambers 18 are provided. A pattern 81 and a common electrode wiring pattern 80 provided near the shallow rear end of the chamber 17 so as to be electrically connected to each common electrode 20a in the chamber 17 and not to the individual electrode wiring pattern 81 are provided. Has been.

【0040】この共通電極用配線パターン80及び個別
電極用配線パターン81には、配線基板30上の駆動回
路31とボンディングワイヤ28を介して接続されて、
共通電極20aは配線基板30上の図示しない配線回路
でGNDレベルで同電位とされ、個別電極20bには独
立した駆動信号が与えられるようになっている。
The common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81 are connected to the drive circuit 31 on the wiring board 30 via bonding wires 28,
The common electrode 20a is set to the same potential at the GND level by a wiring circuit (not shown) on the wiring board 30, and an independent drive signal is applied to the individual electrode 20b.

【0041】この共通電極用配線パターン80及び個別
電極用配線パターン81は、電極20を斜め蒸着により
形成する際に、表面をレジスト層、ドライフィルム等の
マスクパターンで覆うことによって電極20と同時に形
成することができる。
The common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81 are formed simultaneously with the electrode 20 by covering the surface with a mask pattern such as a resist layer or a dry film when forming the electrode 20 by oblique evaporation. can do.

【0042】このような圧電セラミックプレート16の
チャンバ17の開口する面には、インク室プレート21
が接合されている。インク室プレート21には、各チャ
ンバ17の浅くなった端部のみと連通する凹部となる共
通インク室22と、この共通インク室22の底部からチ
ャンバ17とは反対側に貫通するインク供給口23とを
有する。
The surface of the piezoelectric ceramic plate 16 where the chamber 17 opens is provided with an ink chamber plate 21.
Are joined. The ink chamber plate 21 has a common ink chamber 22 serving as a recess communicating only with the shallow end of each chamber 17, and an ink supply port 23 penetrating from the bottom of the common ink chamber 22 to the opposite side to the chamber 17. And

【0043】また、インク室プレート21の共通インク
室22と圧電セラミックプレート16との間には、各チ
ャンバ17に対向する領域に貫通孔24aの設けられた
封止板24が挟持され、共通インク室22からのインク
が貫通孔を介してチャンバ17にのみ供給され、ダミー
チャンバ内には封止板24によってインクが供給されな
いようにしている。
A sealing plate 24 having a through-hole 24a in a region facing each chamber 17 is sandwiched between the common ink chamber 22 of the ink chamber plate 21 and the piezoelectric ceramic plate 16, and the common ink chamber The ink from the chamber 22 is supplied only to the chamber 17 through the through hole, and the ink is not supplied to the inside of the dummy chamber by the sealing plate 24.

【0044】このようにダミーチャンバ18内にインク
が充填されないようにしたため、ダミーチャンバ18内
で対向する個別電極20b同士が短絡することなく、チ
ャンバ17毎に個別に駆動することができる。
As described above, since the ink is not filled in the dummy chamber 18, the individual electrodes 20b facing each other in the dummy chamber 18 can be driven individually for each chamber 17 without short-circuiting.

【0045】また、共通インク室の形成されたインク室
プレートの大きさは、圧電セラミックプレートの個別電
極接続用配線パターン及び共通電極用配線パターンが露
出するように、後端が圧電セラミックプレート16の後
端よりも短くなっている。
The size of the ink chamber plate in which the common ink chamber is formed is such that the rear end of the piezoelectric ceramic plate 16 is exposed so that the individual electrode connection wiring pattern and the common electrode wiring pattern of the piezoelectric ceramic plate are exposed. It is shorter than the rear end.

【0046】ここで、本実施形態では、各チャンバ17
は、ブラック(B)、イエロー(Y)、マゼンダ
(M)、シアン(C)の各色のインクに対応したグルー
プに分かれており、共通インク室22及びインク供給口
23は、それぞれ4つずつ設けられている。
Here, in this embodiment, each chamber 17
Are divided into groups corresponding to inks of black (B), yellow (Y), magenta (M), and cyan (C), and four common ink chambers 22 and four ink supply ports 23 are provided. Has been.

【0047】なお、インク室プレート21は、セラミッ
クプレート、金属プレートなどで形成することができる
が、圧電セラミックプレート16との接合後の変形等を
考えると、熱膨張率の近似したセラミックプレートを用
いるのが好ましい。
The ink chamber plate 21 can be formed of a ceramic plate, a metal plate, or the like. However, in consideration of deformation after bonding with the piezoelectric ceramic plate 16, a ceramic plate having an approximate coefficient of thermal expansion is used. Is preferred.

【0048】また、圧電セラミックプレート16とイン
ク室プレート21との接合体のチャンバ17及びダミー
チャンバ18が開口している端面には、ノズルプレート
25が接合されており、ノズルプレート25の各チャン
バ17に対向する位置にはノズル開口26が形成されて
おり、ノズルプレート25によってダミーチャンバ18
は封止されている。
A nozzle plate 25 is joined to an end face of the joined body of the piezoelectric ceramic plate 16 and the ink chamber plate 21 where the chamber 17 and the dummy chamber 18 are open. A nozzle opening 26 is formed at a position facing the nozzle chamber 25, and the dummy plate 18 is formed by the nozzle plate 25.
Is sealed.

【0049】本実施形態では、ノズルプレート25は、
圧電セラミックプレート16とインク室プレート21と
の接合体のチャンバ17及びダミーチャンバ18が開口
している端面の面積よりも大きくなっている。このノズ
ルプレート25は、ポリイミドフィルムなどに、例え
ば、エキシマレーザ装置を用いてノズル開口26を形成
したものである。また、図示しないが、ノズルプレート
25の被印刷物に対向する面には、インクの付着等を防
止するために撥水性を有する撥水膜が設けられている。
In this embodiment, the nozzle plate 25 is
The area of the end face where the chamber 17 and the dummy chamber 18 of the joined body of the piezoelectric ceramic plate 16 and the ink chamber plate 21 are open is larger. The nozzle plate 25 is formed by forming a nozzle opening 26 in a polyimide film or the like using, for example, an excimer laser device. Although not shown, a water-repellent film having a water-repellent property is provided on the surface of the nozzle plate 25 facing the print target in order to prevent ink from adhering.

【0050】なお、本実施形態では、圧電セラミックプ
レート16とインク室プレート21との接合体のチャン
バ17及びダミーチャンバ18が開口している端部の周
囲には、ノズル支持プレート27が配置されている。こ
のノズル支持プレート27は、ノズルプレート25の接
合体端面の外側と接合されて、ノズルプレート25を安
定して保持するためのものである。
In the present embodiment, a nozzle support plate 27 is disposed around the end of the joined body of the piezoelectric ceramic plate 16 and the ink chamber plate 21 where the chamber 17 and the dummy chamber 18 are open. I have. The nozzle support plate 27 is joined to the outside of the joined body end surface of the nozzle plate 25 to stably hold the nozzle plate 25.

【0051】このように、本実施形態では、圧電セラミ
ックプレート16のチャンバ17及びダミーチャンバ1
8が開口する表面に、隣り合うダミーチャンバ18のチ
ャンバ側の個別電極20bを導通すると共に駆動回路3
1からの駆動信号が印加されるボンディングワイヤ28
が接続される個別電極用配線パターン81と、チャンバ
17内の共通電極20aに導通して配線基板30上で同
電位とされたボンディングワイヤ28が接続される共通
電極用配線パターン80とを設けるようにしたため、三
次元加工等が不要となり、製造コストを低減することが
できる。また、共通電極用配線パターン80及び個別電
極用配線パターン81を共通電極20a及び個別電極2
0b形成時に同時に形成することができ、製造工程を減
少させて製造コストを低減することができる。
As described above, in the present embodiment, the chamber 17 of the piezoelectric ceramic plate 16 and the dummy chamber 1
8 is connected to the chamber-side individual electrode 20b of the adjacent dummy chamber 18 and the drive circuit 3
Bonding wire 28 to which the drive signal from 1 is applied
Are connected to the common electrode 20a in the chamber 17 and the common electrode wiring pattern 80 to which the bonding wires 28 connected to the same potential on the wiring board 30 are connected. This eliminates the need for three-dimensional processing and the like, and can reduce manufacturing costs. The common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81 are connected to the common electrode 20a and the individual electrode 2 respectively.
Ob can be formed at the same time as the formation of Ob, so that the number of manufacturing steps can be reduced and manufacturing cost can be reduced.

【0052】ここで、本実施形態のヘッドチップ11の
製造方法について詳細に説明する。なお、図4は、圧電
セラミックプレート配線パターン部分の製造方法を示す
斜視図である。
Here, a method for manufacturing the head chip 11 of the present embodiment will be described in detail. FIG. 4 is a perspective view showing a method of manufacturing a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion.

【0053】まず、図4(a)に示すように、圧電セラ
ミックプレート16の一方面に共通電極用配線パターン
80及び個別電極用配線パターン81となる位置にそれ
ぞれ第1の開口部91を有するレジスト層90を形成す
る。
First, as shown in FIG. 4A, a resist having a first opening 91 at a position where the common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81 are formed on one surface of the piezoelectric ceramic plate 16. A layer 90 is formed.

【0054】この第1の開口部91を有するレジスト層
90の形成方法は、特に限定されず、例えば、第1の開
口部91を有するドライフィルムを貼付してもよく、ま
たレジストを塗布後、パターニングにより第1の開口部
91を設けるようにしてもよい。
The method of forming the resist layer 90 having the first opening 91 is not particularly limited. For example, a dry film having the first opening 91 may be attached. The first opening 91 may be provided by patterning.

【0055】次に、図4(b)に示すように、圧電セラ
ミックプレート16にチャンバ17及びダミーチャンバ
18を形成する。本実施形態では、レジスト層90側か
ら円盤状のダイスカッターによって形成した。すなわ
ち、ダイスカッターによって圧電セラミックプレート1
6をレジスト層90ごと研削することにより、チャンバ
17及びダミーチャンバ18と、レジスト層90にチャ
ンバ17及びダミーチャンバ18に対応した第2の開口
部92とを形成した。
Next, as shown in FIG. 4B, a chamber 17 and a dummy chamber 18 are formed in the piezoelectric ceramic plate 16. In this embodiment, the resist layer 90 is formed by a disk-shaped die cutter from the side. That is, the piezoelectric ceramic plate 1 is
6 was ground together with the resist layer 90, thereby forming a chamber 17 and a dummy chamber 18, and a second opening 92 corresponding to the chamber 17 and the dummy chamber 18 in the resist layer 90.

【0056】次に、図4(c)に示すように、圧電セラ
ミックプレート16のレジスト層90側の露出した表面
及びレジスト層90上に電極20となる電極層95を形
成する。
Next, as shown in FIG. 4C, an electrode layer 95 serving as the electrode 20 is formed on the exposed surface of the piezoelectric ceramic plate 16 on the resist layer 90 side and on the resist layer 90.

【0057】この電極層95は、本実施形態では、例え
ば、圧電セラミックプレート16のレジスト層95側か
ら斜め蒸着することにより形成した。この斜め蒸着によ
り電極層95は、レジスト層90上の全ての領域及びレ
ジスト層90の第1の開口部91に対向する圧電セラミ
ックプレート16の露出した表面に形成される。また、
レジスト層90の第1及び第2の開口部91、92の側
面にも形成され、さらに、浅く形成されたチャンバ17
の内面の全面に亘って形成されると共にダミーチャンバ
18の開口側の側面に長手方向に亘って形成される。
In this embodiment, the electrode layer 95 is formed, for example, by obliquely vapor-depositing the piezoelectric ceramic plate 16 from the resist layer 95 side. By this oblique deposition, the electrode layer 95 is formed on the entire surface of the resist layer 90 and on the exposed surface of the piezoelectric ceramic plate 16 facing the first opening 91 of the resist layer 90. Also,
The chamber 17 is also formed on the side surfaces of the first and second openings 91 and 92 of the resist layer 90 and further formed shallowly.
And over the entire length of the inner surface of the dummy chamber 18 on the opening side of the dummy chamber 18.

【0058】その後、レジスト層90を除去(リフトオ
フ)することで、図3に示すように、チャンバ17の内
側面に残留した電極層95が共通電極20aとなり、ダ
ミーチャンバ18の内面に残留した電極層95が個別電
極20bとなる。また、レジスト層90の第1の開口部
91により露出した圧電セラミックプレート16の表面
に形成された電極層95が、共通電極用配線パターン8
0及び個別電極用配線パターン81となる。
Thereafter, by removing (lifting off) the resist layer 90, the electrode layer 95 remaining on the inner surface of the chamber 17 becomes the common electrode 20a and the electrode remaining on the inner surface of the dummy chamber 18 as shown in FIG. The layer 95 becomes the individual electrode 20b. The electrode layer 95 formed on the surface of the piezoelectric ceramic plate 16 exposed by the first opening 91 of the resist layer 90 is connected to the common electrode wiring pattern 8.
0 and the individual electrode wiring pattern 81.

【0059】このように、共通電極20a及び個別電極
20bからなる電極20と、共通電極用配線パターン8
0及び個別電極用配線パターン81とを同時に形成する
ことにより、共通電極20aと共通電極用配線パターン
80とや個別電極20bと個別電極用配線パターン81
とを容易に且つ確実に導通するように形成することがで
きる。また、隣り合うダミーチャンバ18の内面に形成
された個別電極20bの内、間に挟まれたチャンバ17
側の個別電極20bを圧電セラミックプレート16上で
容易に且つ確実に導通させることができるため、配線基
板30上の配線回路を簡便にすることができる。
As described above, the electrode 20 including the common electrode 20a and the individual electrode 20b and the common electrode wiring pattern 8
0 and the wiring pattern 81 for individual electrodes are simultaneously formed, so that the common electrode 20a and the wiring pattern 80 for common electrodes, and the individual electrode 20b and the wiring pattern 81 for individual electrodes are formed.
Can be formed so as to be easily and surely conducted. Further, of the individual electrodes 20 b formed on the inner surface of the adjacent dummy chamber 18, the chamber 17 sandwiched between
Since the individual electrodes 20b on the side can be easily and reliably conducted on the piezoelectric ceramic plate 16, the wiring circuit on the wiring board 30 can be simplified.

【0060】また、このように共通電極用配線パターン
80及び個別電極用配線パターン81をレジスト層90
によりパターニング形成することで、共通電極用配線パ
ターン80及び個別電極用配線パターン81の位置合わ
せが容易となり製造工程を簡略化することができる。
Further, as described above, the common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81 are
By patterning, the alignment of the common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81 is facilitated, and the manufacturing process can be simplified.

【0061】その後、圧電セラミックプレート16の共
通電極用配線パターン80及び個別電極用配線パターン
81の形成された側の面に封止板24を挟持するように
インク室プレート21を接合し、チャンバ17及びダミ
ーチャンバ18が開口する一端面にノズルプレート25
を接合する。次いで、ノズルプレート25の外側面、及
び圧電セラミックプレート16とインク室プレート21
との接合体にノズル支持プレート27を接合することで
ヘッドチップ11が完成する。
Thereafter, the ink chamber plate 21 is bonded to the surface of the piezoelectric ceramic plate 16 on the side where the common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81 are formed, so that the sealing plate 24 is sandwiched therebetween. And a nozzle plate 25 on one end face where the dummy chamber 18 is opened.
To join. Next, the outer surface of the nozzle plate 25, the piezoelectric ceramic plate 16 and the ink chamber plate 21
The head chip 11 is completed by joining the nozzle support plate 27 to the joined body.

【0062】以下に、このようなヘッドチップ11を用
いた本実施形態のヘッドチップユニット10について説
明する。なお、図5は、ヘッドチップユニットの製造工
程の一例を示す斜視図である。
Hereinafter, the head chip unit 10 of this embodiment using such a head chip 11 will be described. FIG. 5 is a perspective view showing an example of a manufacturing process of the head chip unit.

【0063】図1及び図5に示すように、本実施形態の
ヘッドチップユニット10は、ヘッドチップ11を構成
する圧電セラミックプレート16上に形成された共通電
極用配線パターン80及び個別電極用配線パターン81
には、ワイヤーボンディングによりボンディングワイヤ
28が接合される。
As shown in FIGS. 1 and 5, the head chip unit 10 of the present embodiment comprises a common electrode wiring pattern 80 and an individual electrode wiring pattern formed on the piezoelectric ceramic plate 16 constituting the head chip 11. 81
Is bonded to the bonding wire 28 by wire bonding.

【0064】また、圧電セラミックプレート16とイン
ク室プレート21との接合体のノズル支持プレート27
の後端側には、圧電セラミックプレート16側のアルミ
ニウム製のベースプレート12と、インク室プレート2
1側のヘッドカバー13とが組み付けられる。ベースプ
レート12とヘッドカバー13とは、ベースプレート1
2の係止孔12aにヘッドカバー13の係止シャフト1
3aを係合することにより固定され、両者で圧電セラミ
ックプレート16とインク室プレート21との接合体を
挟持する。ヘッドカバー13には、インク室プレート2
1のインク供給口23のそれぞれに連通するインク導入
路29が設けられている。
A nozzle support plate 27 of a joined body of the piezoelectric ceramic plate 16 and the ink chamber plate 21 is provided.
At the rear end side, an aluminum base plate 12 on the piezoelectric ceramic plate 16 side and an ink chamber plate 2
The head cover 13 on one side is assembled. The base plate 12 and the head cover 13 are connected to the base plate 1
2 the locking shaft 1 of the head cover 13 in the locking hole 12a.
3a are fixed by engaging with each other, and they hold the joined body of the piezoelectric ceramic plate 16 and the ink chamber plate 21 therebetween. The head cover 13 includes the ink chamber plate 2
An ink introduction path 29 communicating with each of the one ink supply ports 23 is provided.

【0065】また、図5(a)に示すように、圧電セラ
ミックプレート16の後端側に突出したベースプレート
12上には配線基板30が固着される。ここで、配線基
板30上にはヘッドチップ11を駆動するための駆動I
Cを有する駆動回路31が搭載され、駆動回路31とボ
ンディングワイヤ28とがワイヤーボンディングにより
接続される。これにより、図5(b)のヘッドチップユ
ニット10が完成する。
As shown in FIG. 5A, a wiring substrate 30 is fixed on the base plate 12 protruding from the rear end of the piezoelectric ceramic plate 16. Here, a drive I for driving the head chip 11 is provided on the wiring substrate 30.
A drive circuit 31 having C is mounted, and the drive circuit 31 and the bonding wires 28 are connected by wire bonding. Thus, the head chip unit 10 of FIG. 5B is completed.

【0066】このようなヘッドチップユニット10は、
インクカートリッジを保持するタンクホルダに組み付け
られてヘッドユニット70が形成される。
Such a head chip unit 10
The head unit 70 is formed by being assembled to a tank holder that holds the ink cartridge.

【0067】このタンクホルダの一例を図6に示す。図
6に示すタンクホルダ60は、一方面が開口した略箱形
形状をなし、インクカートリッジが着脱自在に保持可能
なものである。また、底壁上面には、インクカートリッ
ジの底部に形成された開口部であるインク供給口と連結
する連結部61が設けられている。連結部61は、例え
ば、ブラック(B)、イエロー(Y)、マゼンダ
(M)、シアン(C)の各色のインク毎に設けられてい
る。連通部61内には図示しないインク流路が形成さ
れ、その開口となる連結部61の先端には、フィルタ6
2が設けられている。また、連結部61内に形成された
インク流路は底壁の裏面側まで連通して形成され、各イ
ンク流路は、タンクホルダ60の裏面側に設けられた流
路基板63内の図示しないインク流路を介して流路基板
63の側壁に開口するヘッド連結口64に連通する。こ
のヘッド連結口64はタンクホルダ60の側面側に開口
し、当該側壁の底部には、上述したヘッドチップユニッ
ト10を保持するヘッドチップユニット保持部65が設
けられている。ヘッドチップユニット保持部65は、配
線基板30上に設けられた駆動回路31を包囲する略コ
字状に立設された包囲壁66と、包囲壁66内にあって
ヘッドチップユニット10のベースプレート12及び配
線基板30に設けられた係止孔12bと係合する係合シ
ャフト67が立設されている。
FIG. 6 shows an example of this tank holder. The tank holder 60 shown in FIG. 6 has a substantially box shape with one side opened, and is capable of detachably holding an ink cartridge. Further, on the upper surface of the bottom wall, there is provided a connecting portion 61 for connecting to an ink supply port which is an opening formed in the bottom of the ink cartridge. The connecting portion 61 is provided for each ink of each color of black (B), yellow (Y), magenta (M), and cyan (C), for example. An ink channel (not shown) is formed in the communication portion 61, and a filter 6
2 are provided. The ink flow paths formed in the connecting portion 61 are formed so as to communicate with the back side of the bottom wall, and each ink flow path is not shown in the flow path substrate 63 provided on the back side of the tank holder 60. It communicates with a head connection port 64 opened on the side wall of the flow path substrate 63 via the ink flow path. The head connection port 64 is opened on the side surface of the tank holder 60, and a head chip unit holding portion 65 for holding the above-described head chip unit 10 is provided at the bottom of the side wall. The head chip unit holding portion 65 includes a substantially U-shaped surrounding wall 66 surrounding the drive circuit 31 provided on the wiring board 30, and a base plate 12 of the head chip unit 10 in the surrounding wall 66. Further, an engaging shaft 67 that engages with the locking hole 12b provided in the wiring board 30 is provided upright.

【0068】従って、このヘッドチップユニット保持部
65にヘッドチップユニット10を搭載してヘッドユニ
ット70が完成する。このとき、ヘッドカバー13に形
成されたインク導入路29が流路基板63のヘッド連結
口64に連結される。これにより、タンクホルダ60の
連結部61を介してインクカートリッジから導入された
インクは、流路基板63内のインク流路を通ってヘッド
チップユニット10のインク導入路29に導入され、共
通インク室22及びチャンバ17内に充填される。
Therefore, the head chip unit 10 is mounted on the head chip unit holding section 65, and the head unit 70 is completed. At this time, the ink introduction path 29 formed in the head cover 13 is connected to the head connection port 64 of the flow path substrate 63. As a result, the ink introduced from the ink cartridge through the connecting portion 61 of the tank holder 60 is introduced into the ink introduction path 29 of the head chip unit 10 through the ink flow path in the flow path substrate 63, and the common ink chamber 22 and the chamber 17 are filled.

【0069】また、このように形成されたヘッドユニッ
ト70は、例えば、インクジェット式記録装置のキャリ
ッジに搭載されて使用される。この使用態様の一例の概
略を図7に示す。
The head unit 70 thus formed is used, for example, mounted on a carriage of an ink jet recording apparatus. FIG. 7 schematically shows an example of this use mode.

【0070】図7に示すように、キャリッジ71は、一
対のガイドレール72a及び72b上に軸方向に移動自
在に搭載されており、ガイドレール72の一端側に設け
られてキャリッジ駆動モータ73に連結されたプーリ7
4aと、他端側に設けられたプーリ74bとに掛け渡さ
れたタイミングベルト75を介して搬送される。キャリ
ッジ71の搬送方向と直交する方向の両側には、ガイド
レール72a及び72bに沿ってそれぞれ一対の搬送ロ
ーラ76及び77が設けられている。これらの搬送ロー
ラ76及び77は、キャリッジ71の下方に当該キャリ
ッジ71の搬送方向とは直交する方向に被記録媒体Sを
搬送するものである。
As shown in FIG. 7, the carriage 71 is mounted on a pair of guide rails 72a and 72b so as to be movable in the axial direction. The carriage 71 is provided at one end of the guide rail 72 and is connected to the carriage drive motor 73. Pulley 7
4a and a pulley 74b provided on the other end side, and are conveyed via a timing belt 75 stretched. On both sides of the carriage 71 in a direction orthogonal to the transport direction, a pair of transport rollers 76 and 77 are provided along guide rails 72a and 72b, respectively. These transport rollers 76 and 77 transport the recording medium S below the carriage 71 in a direction orthogonal to the transport direction of the carriage 71.

【0071】キャリッジ71上には、上述したヘッドユ
ニット70が搭載され、このヘッドユニット70には上
述したインクカートリッジを着脱自在に取付可能であ
る。
The above-mentioned head unit 70 is mounted on the carriage 71, and the above-mentioned ink cartridge can be detachably attached to the head unit 70.

【0072】このようなインクジェット式記録装置によ
ると、被記録媒体Sを送りつつキャリッジ71をその送
り方向とは直交方向に走査することにより、ヘッドチッ
プ11によって被記録媒体S上に文字及び画像を記録す
ることができる。
According to such an ink jet recording apparatus, the carriage 71 is scanned in the direction perpendicular to the feeding direction while feeding the recording medium S, whereby characters and images are printed on the recording medium S by the head chip 11. Can be recorded.

【0073】(実施形態2)図8は、実施形態2に係る
圧電セラミックプレート配線パターン部分16Aの斜視
図でる。
(Embodiment 2) FIG. 8 is a perspective view of a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion 16A according to Embodiment 2. FIG.

【0074】図示するように、本実施形態の圧電セラミ
ックプレート16Aには、チャンバ17が開口する面の
チャンバ17の長手方向と直交する方向にチャンバ17
の端部に跨ってジャンパ溝93が形成されている。
As shown in the figure, the piezoelectric ceramic plate 16A of the present embodiment has the chamber 17 in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the chamber 17 on the surface where the chamber 17 opens.
A jumper groove 93 is formed straddling the end of the jumper.

【0075】また、隣り合うダミーチャンバ18内の個
別電極20bの内、間に挟まれたチャンバ17側の個別
電極20bを相互に導通させる個別電極用配線パターン
81Aは、ジャンパ溝93の内面に設けられている。
The individual electrode wiring patterns 81 A for mutually connecting the individual electrodes 20 b on the chamber 17 side sandwiched between the individual electrodes 20 b in the adjacent dummy chamber 18 are provided on the inner surface of the jumper groove 93. Has been.

【0076】さらに、図示しないが、圧電セラミックプ
レート16A上の共通電極用配線パターン80及び個別
電極用配線パターン81Aには、異方性導電接着剤(A
CF)を介して駆動回路31に接続されたフレキシブル
ケーブルが接続されている。
Although not shown, the anisotropic conductive adhesive (A) is applied to the common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 81A on the piezoelectric ceramic plate 16A.
A flexible cable connected to the drive circuit 31 via the CF) is connected.

【0077】このように個別電極用配線パターン81A
をジャンパ溝93の内面に設けることによって、異方性
導電接着剤によってフレキシブルケーブルを接続して
も、フレキシブルケーブルの短絡を防止することができ
る。
As described above, the wiring patterns 81A for individual electrodes are used.
Is provided on the inner surface of the jumper groove 93, even if the flexible cable is connected by an anisotropic conductive adhesive, it is possible to prevent a short circuit of the flexible cable.

【0078】ここで、このような圧電セラミックプレー
ト16Aの製造方法について詳細に説明する。なお、図
9は、実施形態2に係る圧電セラミックプレート配線パ
ターン部分の製造方法を示すヘッドチップの斜視図であ
る。
Here, a method for manufacturing such a piezoelectric ceramic plate 16A will be described in detail. FIG. 9 is a perspective view of a head chip showing a method for manufacturing a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion according to the second embodiment.

【0079】まず、図9(a)に示すように、圧電セラ
ミックプレート16Aの共通電極用配線パターン80と
なる位置と個別電極用配線パターン81Aの一部となる
位置とに第1の開口部91Aを有するレジスト層90A
を圧電セラミックプレート16A上に設ける。
First, as shown in FIG. 9A, a first opening 91A is formed at a position on the piezoelectric ceramic plate 16A to be the common electrode wiring pattern 80 and at a position to be a part of the individual electrode wiring pattern 81A. Resist layer 90A having
Is provided on the piezoelectric ceramic plate 16A.

【0080】次に、図9(b)に示すように、圧電セラ
ミックプレート16Aにチャンバ17及びダミーチャン
バ18を形成すると共にジャンパ溝93を形成する。
Next, as shown in FIG. 9B, a chamber 17 and a dummy chamber 18 are formed in the piezoelectric ceramic plate 16A, and a jumper groove 93 is formed.

【0081】チャンバ17及びダミーチャンバ18の形
成は、上述した実施形態1と同様に円盤状のダイスカッ
ターにより形成することができ、レジスト層90Aのチ
ャンバ17及びダミーチャンバ18に対向する位置に第
2の開口部92が形成される。
The chamber 17 and the dummy chamber 18 can be formed by a disk-shaped die cutter in the same manner as in the first embodiment, and the second position is formed at a position of the resist layer 90A facing the chamber 17 and the dummy chamber 18. Opening 92 is formed.

【0082】また、ジャンパ溝93の形成も、チャンバ
17及びダミーチャンバ18と同様に円盤状のダイスカ
ッターによってレジスト層90Aを同時に研削するこに
より形成する。これによりレジスト層90Aのジャンパ
溝93に対向する位置に第3の開口部94が形成され
る。
The jumper groove 93 is also formed by simultaneously grinding the resist layer 90A with a disk-shaped die cutter as in the case of the chamber 17 and the dummy chamber 18. As a result, a third opening 94 is formed in the resist layer 90A at a position facing the jumper groove 93.

【0083】次に、図9(c)に示すように、圧電セラ
ミックプレート16Aのレジスト層90A側に露出した
表面及びレジスト層90A上に斜め蒸着により電極層9
5を形成する。
Next, as shown in FIG. 9C, the electrode layer 9 is formed by oblique deposition on the surface of the piezoelectric ceramic plate 16A exposed on the resist layer 90A side and on the resist layer 90A.
5 is formed.

【0084】この斜め蒸着による電極層95の形成で
は、レジスト層90A上の全ての領域に電極層95が形
成されると共にレジスト層90Aの第1の開口部91A
に対向する圧電セラミックプレート16Aの露出した表
面に形成される。また、上述した実施形態1と同様にチ
ャンバ17の開口側の側面に長手方向に亘ってと、ダミ
ーチャンバ18の両側面に電極層95が形成され、さら
に、ジャンパ溝93の内面に亘って電極層95が形成さ
れる。
In the formation of the electrode layer 95 by the oblique deposition, the electrode layer 95 is formed in all regions on the resist layer 90A, and the first openings 91A of the resist layer 90A are formed.
Is formed on the exposed surface of the piezoelectric ceramic plate 16A opposed to. As in the first embodiment, the electrode layer 95 is formed on the side surface on the opening side of the chamber 17 in the longitudinal direction, on both side surfaces of the dummy chamber 18, and further, on the inner surface of the jumper groove 93. Layer 95 is formed.

【0085】このとき、チャンバ17内の電極層95と
ジャンパ溝93内の電極層95は一体的に連続して形成
され、ダミーチャンバ18内の電極層95と第1の開口
部91Aの電極層95とが一体的に連続して形成され
る。
At this time, the electrode layer 95 in the chamber 17 and the electrode layer 95 in the jumper groove 93 are formed integrally and continuously, and the electrode layer 95 in the dummy chamber 18 and the electrode layer of the first opening 91A are formed. 95 are integrally formed continuously.

【0086】その後、レジスト層90Aを除去すること
により、図8に示すように、チャンバ17の内側面に残
留した電極層95が共通電極20aとなり、ダミーチャ
ンバ18の内面に残留した電極層95が個別電極20b
となると共にジャンパ溝93内の電極層95が個別電極
用配線パターン81Aとなる。
Thereafter, by removing the resist layer 90A, the electrode layer 95 remaining on the inner surface of the chamber 17 becomes the common electrode 20a and the electrode layer 95 remaining on the inner surface of the dummy chamber 18 is formed as shown in FIG. Individual electrode 20b
And the electrode layer 95 in the jumper groove 93 becomes the individual electrode wiring pattern 81A.

【0087】また、圧電セラミックプレート16Aの第
1の開口部91Aにより露出した表面に形成された電極
層95が圧電セラミックプレート16A上に残留し、共
通電極用配線パターン80となると共に個別電極用配線
パターン81Aの一部となる。
The electrode layer 95 formed on the surface exposed by the first opening 91A of the piezoelectric ceramic plate 16A remains on the piezoelectric ceramic plate 16A to form the common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring. It becomes a part of the pattern 81A.

【0088】なお、本実施形態では、ジャンパ溝93の
内面の全面に亘って個別電極用配線パターン81Aを形
成するようにしたが、これに限定されず、例えば、ジャ
ンパ溝93の幅方向両側の縁部に長手方向に亘って個別
電極用配線パターン81Aの形成されていない段差部を
設けるようにしてもよい。このような例を図10に示
す。なお、図10は、実施形態2に係る圧電セラミック
プレート配線パターン部分の他の例を示す斜視図であ
る。
In the present embodiment, the individual electrode wiring pattern 81A is formed over the entire inner surface of the jumper groove 93. However, the present invention is not limited to this. A step where the individual electrode wiring pattern 81A is not formed may be provided at the edge in the longitudinal direction. Such an example is shown in FIG. FIG. 10 is a perspective view showing another example of the piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion according to the second embodiment.

【0089】図10(a)に示す圧電セラミックプレー
ト16Bは、上述した圧電セラミックプレート16Aに
斜め蒸着により電極20、共通電極用配線パターン80
及び個別電極用配線パターン81Aを形成後、ジャンパ
溝93の縁部をジャンパ溝93の幅よりも幅広の円盤状
のダイスカッター等で研削することで、段差部93aを
設けるようにした例である。
The piezoelectric ceramic plate 16B shown in FIG. 10A is formed by obliquely depositing the electrode 20 and the common electrode wiring pattern 80 on the piezoelectric ceramic plate 16A.
After forming the individual electrode wiring pattern 81A, the edge of the jumper groove 93 is ground with a disc-shaped die cutter or the like wider than the width of the jumper groove 93 to provide a stepped portion 93a. .

【0090】この段差部93aの形成は、レジスト層9
0Aを除去前又は除去後等、個別電極用配線パターン8
1Aを形成した後であれば特に限定されない。
The step 93a is formed by the resist layer 9
Wiring pattern 8 for individual electrode before or after removing 0A
There is no particular limitation as long as it is after forming 1A.

【0091】また、図10(b)に示す圧電セラミック
プレート16Cは、ジャンパ溝93の縁部にテーパ状の
段差部93bを形成したものであり、図10(a)に示
す段差部93aと同様に個別電極用配線パターン81A
を形成した後に形成すればよい。
The piezoelectric ceramic plate 16C shown in FIG. 10B has a tapered step 93b formed at the edge of the jumper groove 93, and is similar to the step 93a shown in FIG. 10A. Wiring pattern 81A for individual electrodes
It may be formed after forming.

【0092】この段差部93a又は93bにより、共通
電極用配線パターン80及び個別電極用配線パターン8
1Aにフレキシブルケーブルを異方性導電接着剤を介し
て接続した際に、ジャンパ溝93内の個別電極用配線パ
ターン81Aと共通電極用配線パターン80に接続され
たフレキシブルケーブルとの短絡を確実に防止すること
ができる。
The step portion 93a or 93b allows the common electrode wiring pattern 80 and the individual electrode wiring pattern 8 to be formed.
When a flexible cable is connected to 1A via an anisotropic conductive adhesive, a short circuit between the individual electrode wiring pattern 81A in the jumper groove 93 and the flexible cable connected to the common electrode wiring pattern 80 is reliably prevented. can do.

【0093】(他の実施形態)以上、実施形態1及び2
について説明したが、本発明はこのような構成に限定さ
れるものではない。
(Other Embodiments) As described above, Embodiments 1 and 2
However, the present invention is not limited to such a configuration.

【0094】上述した実施形態1及び2では、圧電セラ
ミックプレート16、16A、16B及び16Cに溝を
形成することによりチャンバ17を形成したが、これに
限定されず、例えば平板状の基板に圧電セラミックから
なる側壁を並設してチャンバを画成するようにしてもよ
い。
In Embodiments 1 and 2 described above, the chamber 17 is formed by forming grooves in the piezoelectric ceramic plates 16, 16A, 16B, and 16C. However, the present invention is not limited to this. The chambers may be defined by juxtaposing side walls made of.

【0095】[0095]

【発明の効果】以上説明したように本発明では、基板上
に各チャンバに対応する個別電極同士を相互に導通する
個別電極用配線パターンと、共通電極のそれぞれに導通
する共通電極用配線パターンとを設けることにより、3
次元加工等が不要となり製造コストを低減することがで
きる。また、配線パターンを電極と同時に形成すること
により配線パターンの位置合わせが容易となると共に容
易且つ確実に配線パターンと電極との導通を図ることが
できる。
As described above, according to the present invention, a wiring pattern for an individual electrode, which electrically connects individual electrodes corresponding to respective chambers on a substrate, and a wiring pattern for a common electrode, which is electrically connected to each of the common electrodes, on the substrate. By providing
Dimensional processing and the like are not required, and manufacturing costs can be reduced. Further, by forming the wiring pattern at the same time as the electrodes, alignment of the wiring pattern becomes easy, and conduction between the wiring pattern and the electrodes can be easily and reliably achieved.

【0096】さらに、フレキシブルケーブルを異方性導
電接着剤を介して接続する際、配線パターン面と個別電
極のジャンパーパターン面が異なる平面上に配置される
ため、接続されたフレキシブルケーブルの短絡を確実に
防止することができる。
Furthermore, when the flexible cable is connected via an anisotropic conductive adhesive, the wiring pattern surface and the jumper pattern surface of the individual electrode are arranged on different planes, so that the short circuit of the connected flexible cable is ensured. Can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1に係るヘッドチップユニッ
トの分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a head chip unit according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施形態1に係るヘッドチップの斜視
図である。
FIG. 2 is a perspective view of a head chip according to Embodiment 1 of the present invention.

【図3】本発明の実施形態1に係る圧電セラミックプレ
ート配線パターン部分の斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態1に係る圧電セラミックプレ
ート配線パターン部分の製造工程を示す要部斜視図であ
る。
FIG. 4 is an essential part perspective view showing a manufacturing step of a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion according to Embodiment 1 of the present invention;

【図5】本発明の実施形態1に係るヘッドチップユニッ
トの組み立て工程を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a step of assembling the head chip unit according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施形態1に係るヘッドユニットの組
み立て工程を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view illustrating an assembling process of the head unit according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録装置の概略斜視図である。
FIG. 7 is a schematic perspective view of the ink jet recording apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施形態2に係る圧電セラミックプレ
ート配線パターン部分の斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view of a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion according to Embodiment 2 of the present invention.

【図9】本発明の実施形態2に係る圧電セラミックプレ
ート配線パターン部分の製造工程を示す要部斜視図であ
る。
FIG. 9 is an essential part perspective view showing a manufacturing step of a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion according to Embodiment 2 of the present invention;

【図10】本発明の実施形態2に係る圧電セラミックプ
レート配線パターン部分の他の例を示す要部斜視図であ
る。
FIG. 10 is a main part perspective view showing another example of a piezoelectric ceramic plate wiring pattern portion according to Embodiment 2 of the present invention.

【図11】従来技術に係るヘッドチップの概要を示す斜
視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing an outline of a head chip according to a conventional technique.

【図12】従来技術に係るヘッドチップの概要を示す断
面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating an outline of a head chip according to a conventional technique.

【図13】従来技術に係るヘッドチップの概要を示す断
面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing an outline of a head chip according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ヘッドチップユニット 11 ヘッドチップ 12 ベースプレート 13 ヘッドカバー 16,16A、16B、16C 圧電セラミックプレー
ト 17 チャンバ 18 ダミーチャンバ 19 側壁 20 電極 20a 共通電極 20b 個別電極 21 インク室プレート 22 共通インク室 23 インク供給口 24 封止板 24a 貫通孔 25 ノズルプレート 26 ノズル開口 28 ボンディングワイヤ 30 配線基板 31 駆動回路 60 タンクホルダ 70 ヘッドユニット 80 共通電極用配線パターン 81、81A 個別電極用配線パターン 90、90A レジスト層 93 ジャンパ溝 93a、93b 段差部 95 電極層
Reference Signs List 10 head chip unit 11 head chip 12 base plate 13 head cover 16, 16A, 16B, 16C piezoelectric ceramic plate 17 chamber 18 dummy chamber 19 side wall 20 electrode 20a common electrode 20b individual electrode 21 ink chamber plate 22 common ink chamber 23 ink supply port 24 sealing Stop plate 24a Through hole 25 Nozzle plate 26 Nozzle opening 28 Bonding wire 30 Wiring board 31 Drive circuit 60 Tank holder 70 Head unit 80 Common electrode wiring pattern 81, 81A Individual electrode wiring pattern 90, 90A Resist layer 93 Jumper groove 93a, 93b Step 95 Electrode layer

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板にノズル開口に連通するチャンバと
インクの充填されないダミーチャンバとを交互に並設す
ると共に、各チャンバ及びダミーチャンバの両側の側壁
に電極を設け、当該チャンバ内の電極を共通電極とする
と共に各ダミーチャンバ内の電極を個別電極として各チ
ャンバの両側の側壁に駆動電界を印加するヘッドチップ
において、 前記基板の表面には、前記ダミーチャンバと当該ダミー
チャンバより短い前記チャンバとが開口されており、且
つ前記チャンバの両側の前記ダミーチャンバの前記ノズ
ル開口とは反対側の後端部には、各チャンバに対応する
個別電極同士を相互に導通する個別電極用配線パターン
が設けられていると共に、前記チャンバの後端部には当
該チャンバ内の各共通電極のそれぞれに連通する共通電
極用配線パターンが設けられていることを特徴とするヘ
ッドチップ。
1. A chamber communicating with a nozzle opening and a dummy chamber not filled with ink are alternately arranged on a substrate, electrodes are provided on both side walls of each chamber and the dummy chamber, and the electrodes in the chamber are shared. In a head chip which applies a driving electric field to both side walls of each chamber as electrodes and electrodes in each dummy chamber as individual electrodes, the dummy chamber and the chamber shorter than the dummy chamber are formed on the surface of the substrate. At the rear end of the dummy chamber on both sides of the chamber opposite to the nozzle opening on both sides of the chamber, there are provided individual electrode wiring patterns for electrically connecting the individual electrodes corresponding to each chamber to each other. At the rear end of the chamber, a common electrode arrangement communicating with each of the common electrodes in the chamber is provided. A head chip wherein the pattern is provided.
【請求項2】 前記基板の前記チャンバが開口する面に
は、当該ダミーチャンバの長手方向と直交する方向に前
記ダミーチャンバに跨って設けられた溝を有し、前記個
別電極用配線パターンが前記溝内に設けられていること
を特徴とする請求項1に記載のヘッドチップ。
2. A surface of the substrate on which the chamber is open has a groove provided across the dummy chamber in a direction orthogonal to a longitudinal direction of the dummy chamber, and the wiring pattern for the individual electrode is formed on the surface of the substrate. 2. The head chip according to claim 1, wherein the head chip is provided in the groove.
【請求項3】 前記溝の幅方向両側の縁部には、前記個
別電極用配線パターンの設けられていない段差部が設け
られていることを特徴とする請求項2に記載のヘッドチ
ップ。
3. The head chip according to claim 2, wherein a step portion on which the individual electrode wiring pattern is not provided is provided at an edge portion on both sides in the width direction of the groove.
【請求項4】 前記個別電極用配線パターン及び前記共
通電極用配線パターンには、引き出し配線が異方性導電
接着剤により接続されていることを特徴とする請求項1
〜3の何れかに記載のヘッドチップ。
4. The wiring pattern for an individual electrode and the wiring pattern for a common electrode, wherein a lead wiring is connected by an anisotropic conductive adhesive.
4. The head chip according to any one of items 1 to 3,
【請求項5】 前記個別電極用配線パターンと前記個別
電極とが一体的に形成されていることを特徴とする請求
項1〜4の何れかに記載のヘッドチップ。
5. The head chip according to claim 1, wherein said individual electrode wiring pattern and said individual electrode are integrally formed.
【請求項6】 前記インクが導電性インクであることを
特徴とする請求項1〜5の何れかに記載のヘッドチッ
プ。
6. The head chip according to claim 1, wherein the ink is a conductive ink.
【請求項7】 前記基板が圧電セラミックプレートから
なり、前記チャンバが前記圧電セラミックプレートに溝
を形成することにより形成されていることを特徴とする
請求項1〜6の何れかに記載のヘッドチップ。
7. The head chip according to claim 1, wherein the substrate is formed of a piezoelectric ceramic plate, and the chamber is formed by forming a groove in the piezoelectric ceramic plate. .
【請求項8】 前記圧電セラミックプレートは前記チャ
ンバの深さ方向に向かって分極方向が一方向であること
を特徴とする請求項7に記載のヘッドチップ。
8. The head chip according to claim 7, wherein the polarization direction of the piezoelectric ceramic plate is one direction toward a depth direction of the chamber.
【請求項9】 基板にノズル開口に連通するチャンバと
インクの充填されないダミーチャンバとを交互に並設す
ると共に、各チャンバ及びダミーチャンバの両側の側壁
に電極を設け、当該チャンバ内の電極を共通電極とする
と共に各ダミーチャンバ内の電極を個別電極として各チ
ャンバの両側の側壁に駆動電界を印加するヘッドチップ
の製造方法において、 前記基板の一方面にレジスト層を形成すると共に該レジ
スト層に前記ダミーチャンバの一端部となる位置に連続
した第1の開口及び前記チャンバの一端と前記第1の開
口との間のそれぞれに第2の開口を形成する工程と、前
記基板に前記チャンバ及び前記ダミーチャンバを形成す
る工程と、前記チャンバ及び前記ダミーチャンバの内面
に前記電極を形成すると共に前記第1の開口により露出
した前記基板上に前記個別電極と連続する個別電極用配
線パターンと前記第2の開口により露出した前記基板上
に前記共通電極と連続する共通電極用配線パターンとを
形成する工程と、前記レジスト層を除去する工程とを有
することを特徴とするヘッドチップの製造方法。
9. A substrate, wherein chambers communicating with nozzle openings and dummy chambers not filled with ink are alternately arranged on the substrate, electrodes are provided on both side walls of each chamber and the dummy chamber, and the electrodes in the chambers are shared. A method of manufacturing a head chip in which a driving electric field is applied to both side walls of each chamber as electrodes and electrodes in each dummy chamber as individual electrodes, wherein a resist layer is formed on one surface of the substrate, and the resist layer is formed on the resist layer. Forming a first opening continuous with a position to be one end of the dummy chamber and a second opening between each end of the chamber and the first opening; and forming the chamber and the dummy in the substrate. Forming a chamber, forming the electrodes on inner surfaces of the chamber and the dummy chamber, and forming the electrodes by the first opening. Forming a wiring pattern for an individual electrode continuous with the individual electrode on the substrate and a wiring pattern for a common electrode continuous with the common electrode on the substrate exposed through the second opening; Removing the layer.
【請求項10】 前記チャンバ及び前記ダミーチャンバ
を形成する工程の後、前記ダミーチャンバの長手方向に
直交し、且つ当該ダミーチャンバに跨るように前記個別
電極用配線パターンの形成される溝を形成すると共に前
記個別電極用配線パターンを形成する工程では、前記溝
内に形成することを特徴とする請求項9に記載のヘッド
チップの製造方法。
10. After the step of forming the chamber and the dummy chamber, a groove in which the wiring pattern for the individual electrode is formed is formed so as to be orthogonal to the longitudinal direction of the dummy chamber and to straddle the dummy chamber. The method according to claim 9, wherein in the step of forming the wiring pattern for the individual electrode, the wiring pattern is formed in the groove.
【請求項11】 前記個別電極用配線パターンを形成す
る工程の後、前記溝の幅方向両側の縁部を切り欠くこと
により前記個別電極用配線パターンの削除された段差部
を形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項
10に記載のヘッドチップの製造方法。
11. After the step of forming the wiring pattern for an individual electrode, a step of forming a deleted step portion of the wiring pattern for an individual electrode by notching edges on both sides in a width direction of the groove is further provided. The method for manufacturing a head chip according to claim 10, further comprising:
【請求項12】 前記電極、前記個別電極用配線パター
ン及び前記個別電極用配線パターンを形成する工程の
後、前記共通電極用配線パターン及び前記個別電極用配
線パターンのそれぞれに異方性導電接着剤により引き出
し配線を接続する工程をさらに有することを特徴とする
請求項9〜11の何れかに記載のヘッドチップの製造方
法。
12. An anisotropic conductive adhesive is applied to each of the common electrode wiring pattern and the individual electrode wiring pattern after the step of forming the electrode, the individual electrode wiring pattern, and the individual electrode wiring pattern. 12. The method of manufacturing a head chip according to claim 9, further comprising a step of connecting a lead-out wiring by the method.
【請求項13】 前記基板が前記チャンバの深さ方向に
向かって一方向の分極方向である圧電セラミックプレー
トからなることを特徴とする請求項9〜12の何れかに
記載のヘッドチップの製造方法。
13. The method of manufacturing a head chip according to claim 9, wherein said substrate is formed of a piezoelectric ceramic plate whose polarization direction is one direction toward a depth direction of said chamber. .
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