JP2002361792A - Laminated body of polyimide/metal foil - Google Patents

Laminated body of polyimide/metal foil

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JP2002361792A
JP2002361792A JP2001167632A JP2001167632A JP2002361792A JP 2002361792 A JP2002361792 A JP 2002361792A JP 2001167632 A JP2001167632 A JP 2001167632A JP 2001167632 A JP2001167632 A JP 2001167632A JP 2002361792 A JP2002361792 A JP 2002361792A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide/metal foil laminated body in which not only curl is remarkably suppressed for the body to be smoothed, but also adhesive properties, heat resistance and strength are remarkably excellent, to provide a flexible printed wiring base with high quality and high reliability, and to improve productivity of the printed wiring base with high quality and high reliability. SOLUTION: The polyimide/metal foil laminated body (1) comprising: a polyimide layer comprising a polyimide with a repeating unit of chemical formula (I); and a metal foil layer (wherein in the chemical formula (I), R is a methyl group or an ethyl group and Z is a tetravalent aromatic group which may be substituted or at least one group selected from a group of chemical formula (II)) is provided. In addition, the flexible printed wiring base (2) comprising the polyimide/metal foil laminated body (1) is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子材料用途に幅
広く使用されているポリイミド・金属箔積層体およびそ
の製造方法に関する。その中でも特に、カールを抑え、
接着性、耐熱性、強度に優れたポリイミド・金属箔積層
体及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide / metal foil laminate widely used for electronic materials and a method for producing the same. Among them, especially curl,
The present invention relates to a polyimide / metal foil laminate excellent in adhesion, heat resistance and strength, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミド・金属箔積層体の大きな用途
として、フレキシブルプリント配線基板がある。フレキ
シブルプリント配線基板の製造方法は、銅箔にポリイミ
ド等のフィルムを接着剤を介して張り合わせたり、銅箔
にポリイミド等の前駆体溶液を塗布し乾燥させる方法が
採られている。フレキシブルプリント配線基板をこのよ
うにして製造する場合、材質の熱的挙動の相違から、カ
ール、反り等を生じ、回路のパターニングができなくな
る問題が生じていた。従来、単一の樹脂の性質のみでカ
ールを抑え、接着性、耐熱性、強度に優れたフレキシブ
ルプリント配線基板を製造することは、困難であった。
そこで、カールした基材を熱処理して平滑化させる技術
(特開昭56−23791号公報)や、銅箔上に高線膨
張性の樹脂層を形成し、その上にさらに低線膨張性の樹
脂層を形成させ、それぞれの厚みを制御して多層化する
ことによりカールを小さくする技術(特開平8−250
860号公報)等が開発されてきた。
2. Description of the Related Art A flexible printed wiring board is one of the major applications of a polyimide / metal foil laminate. As a method of manufacturing a flexible printed wiring board, a method of bonding a film of polyimide or the like to a copper foil via an adhesive, or applying a precursor solution of polyimide or the like to the copper foil and drying the copper foil is adopted. When a flexible printed wiring board is manufactured in this manner, curling, warping, and the like occur due to differences in thermal behavior of materials, and there has been a problem that circuit patterning cannot be performed. Conventionally, it has been difficult to manufacture a flexible printed circuit board that suppresses curl only by the properties of a single resin and is excellent in adhesiveness, heat resistance, and strength.
Therefore, a technique for smoothing the curled base material by heat treatment (Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-23791), a method of forming a resin layer having high linear expansion on a copper foil, and further forming a resin layer having low linear expansion on it. A technique of forming a resin layer, controlling the thickness of each resin layer, and forming a multilayer to reduce curl (Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-250
No. 860) has been developed.

【0003】しかし、これらの様な方法では、工程上で
加熱される度毎に平滑化のための後処理が必要となった
り、工程数の増加が避けられないといったように、生産
性の点で満足のいくものではなかった。上記のように、
カールを抑え、接着性、耐熱性、強度に優れたポリイミ
ド・金属箔積層体を製造することにおいては、課題が残
されていた。
[0003] However, these methods require post-processing for smoothing every time heating is performed in the process, and increase in the number of processes is unavoidable. It was not satisfactory. As described above,
A problem remains in producing a polyimide / metal foil laminate excellent in adhesiveness, heat resistance and strength while suppressing curling.

【0004】一方、化学式(III)(化5)で表される
繰り返し単位を有するポリイミドは、特公昭56−45
87号公報に示されている通りに、公知の物質である。
ところが、この物質が、フレキシブルプリント配線基板
用のポリイミドとして有用であるといった知見や、カー
ルを抑えたポリイミド・金属箔積層体を製造することに
おいて好適であるとの認識は、全くなされていなかっ
た。
On the other hand, a polyimide having a repeating unit represented by the chemical formula (III) (Formula 5) is disclosed in JP-B-56-45.
It is a known substance as shown in JP-A-87.
However, there was no finding that this substance is useful as a polyimide for a flexible printed wiring board, or that it was suitable for producing a polyimide / metal foil laminate in which curling was suppressed.

【化5】 Embedded image

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、カールを抑え、接着性、耐熱性、強度に優
れたポリイミド・金属箔積層体を製造し、提供すること
である。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to produce and provide a polyimide / metal foil laminate which suppresses curling and has excellent adhesiveness, heat resistance and strength.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を進めた結果、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミ
ノジフェニルメタン又は、3,3’−ジエチル−4,
4’−ジアミノジフェニルメタンをモノマーとするポリ
イミドを用いることにより、カールを抑え、接着性、耐
熱性、強度に優れたポリイミド・金属箔積層体が得られ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本
発明は、以下の[1]〜[7]に記載した事項により特
定される。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane or 3,3'-diethyl-4,
By using a polyimide containing 4'-diaminodiphenylmethane as a monomer, curling was suppressed, and it was found that a polyimide / metal foil laminate excellent in adhesiveness, heat resistance and strength was obtained, and the present invention was completed. . That is, the present invention is specified by the following items [1] to [7].

【0007】[1] 化学式(I)(化6)で表される
繰り返し単位を有するポリイミドを含んでなるポリイミ
ド層、及び、金属箔層とを含んでなるポリイミド・金属
箔積層体(化学式(I)中、Rは、メチル基又はエチル
基、Zは、置換されていてもよい4価の芳香族基又は、
化学式(II)(化6)からなる群より選ばれた少なく
とも1種の基である。但し、化学式(II)において、
Yは、直接結合、メチレン基、イソプロピリデン基、六
フッ素化されたイソプロピリデン基、チオ基、スルフィ
ニル基、スルホニル基、及び、オキシドからなる群より
選ばれた基を表す。rは、それぞれ独立して、炭素数1
〜4のアルキル基、又は、ハロゲン基、フェニル基を表
す。aは、0又は、1〜4の整数を表す。)。
[1] A polyimide / metal foil laminate comprising a polyimide layer containing a polyimide having a repeating unit represented by the chemical formula (I) (Formula 6) and a metal foil layer (chemical formula (I) In the formula, R represents a methyl group or an ethyl group, Z represents an optionally substituted tetravalent aromatic group, or
It is at least one group selected from the group consisting of the chemical formula (II) (Formula 6). However, in the chemical formula (II),
Y represents a group selected from the group consisting of a direct bond, a methylene group, an isopropylidene group, a hexafluorinated isopropylidene group, a thio group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and an oxide. r is each independently 1 carbon atom
Represents an alkyl group, a halogen group, or a phenyl group. a represents 0 or an integer of 1 to 4. ).

【化6】 Embedded image

【0008】[2] 化学式(III)(化7)で表さ
れる繰り返し単位を有するポリイミドを含んでなるポリ
イミド層、及び、金属箔層とを含んでなるポリイミド・
金属箔積層体。
[2] A polyimide containing a polyimide having a repeating unit represented by the chemical formula (III) (Formula 7) and a polyimide containing a metal foil layer.
Metal foil laminate.

【化7】 Embedded image

【0009】[3] 金属箔が、銅箔である、[1]又
は[2]に記載した、ポリイミド・金属箔積層体。
[3] The polyimide / metal foil laminate according to [1] or [2], wherein the metal foil is a copper foil.

【0010】[4] 3,3’−ジメチル−4,4’−
ジアミノジフェニルメタン、又は、3,3’−ジエチル
−4,4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラ
カルボン酸二無水物類を反応させて得られるポリアミド
酸溶液を金属箔上に塗布し、乾燥、イミド化させること
を特徴とする、化学式(I)(化8)で表される繰り返
し単位を有するポリイミドを含んでなるポリイミド層、
及び、前記金属箔層と含んでなるポリイミド・金属箔積
層体の製造方法(化学式(I)中、Rは、メチル基又は
エチル基、Zは、置換されていてもよい4価の芳香族基
又は、化学式(II)(化8)からなる群より選ばれた
少なくとも1種の基である。但し、化学式(II)にお
いて、Yは、直接結合、メチレン基、イソプロピリデン
基、六フッ素化されたイソプロピリデン基、チオ基、ス
ルフィニル基、スルホニル基、及び、オキシドからなる
群より選ばれた基を表す。rは、それぞれ独立して、炭
素数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン基、フェニル
基を表す。aは、0又は、1〜4の整数を表す。)。
[4] 3,3′-dimethyl-4,4′-
A polyamic acid solution obtained by reacting diaminodiphenylmethane or 3,3′-diethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane with aromatic tetracarboxylic dianhydride is coated on a metal foil, dried and imidized A polyimide layer comprising a polyimide having a repeating unit represented by the chemical formula (I) (Formula 8),
And a method for producing a polyimide / metal foil laminate comprising the metal foil layer (wherein, in the chemical formula (I), R represents a methyl group or an ethyl group, and Z represents an optionally substituted tetravalent aromatic group. Or, at least one group selected from the group consisting of the chemical formula (II) (Formula 8), provided that in the chemical formula (II), Y is a direct bond, a methylene group, an isopropylidene group, or a hexafluorinated group. Represents an isopropylidene group, a thio group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a group selected from the group consisting of oxides, r is each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen group, Represents a phenyl group, a represents 0 or an integer of 1 to 4).

【化8】 Embedded image

【0011】[5] 3,3’−ジメチル−4,4’−
ジアミノジフェニルメタンとピロメリット酸二無水物を
反応させて得られるポリアミド酸溶液を金属箔上に塗布
し、乾燥、イミド化させることを特徴とする、化学式
(III)(化9)で表される繰り返し単位を有するポ
リイミドを含んでなるポリイミド層、及び、前記金属箔
層とを含んでなるポリイミド・金属箔積層体の製造方
法。
[5] 3,3′-dimethyl-4,4′-
A polyamic acid solution obtained by reacting diaminodiphenylmethane with pyromellitic dianhydride is coated on a metal foil, dried, and imidized, and is characterized by the chemical formula (III) (Formula 9). A method for producing a polyimide / metal foil laminate comprising a polyimide layer comprising a polyimide having units and the metal foil layer.

【化9】 Embedded image

【0012】[6] 金属箔が、銅箔である、[4]又
は[5]に記載した、ポリイミド・金属箔積層体の製造
方法。
[6] The method for producing a polyimide / metal foil laminate according to [4] or [5], wherein the metal foil is a copper foil.

【0013】[1]乃至[3]の何れかに記載したポリ
イミド・金属箔積層体を含んで構成されるフレキシブル
プリント配線基板。
A flexible printed circuit board comprising the polyimide / metal foil laminate according to any one of [1] to [3].

【0014】本発明のポリイミド・金属箔積層体の製造
方法は、特に限定されないが、金属箔に該ポリイミドの
フィルムを接着剤を介して張り合わせる方法や、金属箔
に該ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を塗布
し乾燥させる方法で製造することが可能である。本発明
のポリイミド・金属箔積層体の製造方法は、金属箔にポ
リアミド酸溶液を塗布し乾燥させる方法が特に好まし
い。
The method for producing the polyimide / metal foil laminate of the present invention is not particularly limited, but a method of laminating a film of the polyimide on a metal foil via an adhesive, or a method of preparing a precursor of the polyimide on a metal foil. It can be produced by a method of applying and drying a polyamic acid solution. The method for producing a polyimide / metal foil laminate of the present invention is particularly preferably a method in which a polyamic acid solution is applied to a metal foil and dried.

【0015】本発明のポリイミド・金属箔積層体を構成
するポリイミドは、3,3’−ジメチル−4,4’−ジ
アミノジフェニルメタンか又は、3,3’−ジエチル−
4,4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物類を反応させて得られる
The polyimide constituting the polyimide / metal foil laminate of the present invention may be 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane or 3,3'-diethyl-
Obtained by reacting 4,4'-diaminodiphenylmethane with aromatic tetracarboxylic dianhydrides

【0016】このような芳香族テトラカルボン酸二無水
物は、限定されるわけではないが、例えば、ピロメリッ
ト酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)スルフィド二無水物、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水
物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
ベンゼン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェノキシ)ベンゼン二無水物、4,4’−ビス
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ビフェニル二無水
物、2,2−ビス[(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル]プロパン二無水物、2,3,6,7−ナ
フタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−
ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,
3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水
物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無
水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル
二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スル
フィド二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、1,3−ビス(2,3−ジカル
ボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4−ビス
(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水
物、及び1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物等が用いられる。これらの芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物は、単独でも二種以上を同時に用いること
も可能である。
Such aromatic tetracarboxylic dianhydrides are not limited, for example, pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3 4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride,
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,
1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenoxy)
Benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) biphenyl dianhydride, 2,2-bis [ (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-
Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3
3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-
Bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl)-
1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,3-bis (2,3-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (2,3-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride And 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and the like are used. These aromatic tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or in combination of two or more.

【0017】本発明のポリイミド・金属箔積層体を構成
するポリイミドの製造において、そしてまた該ポリイミ
ド前駆体の製造においては、必要に応じて末端封止剤を
用いることもできる。代表的な末端封止剤は、モノアミ
ン又は、ジカルボン酸無水物である。
In the production of the polyimide constituting the polyimide / metal foil laminate of the present invention, and also in the production of the polyimide precursor, an end-capping agent can be used if necessary. Typical end capping agents are monoamines or dicarboxylic anhydrides.

【0018】モノアミンとしては、例えば、アニリン、
o−トルイジン、m−トルイジン、p−トルイジン、
2,3−キシリジン、2,4−キシリジン、2,5−キ
シリジン、2,6−キシリジン、3,4−キシリジン、
3,5−キシリジン、o−クロロアニリン、m−クロロ
アニリン、p−クロロアニリン、o−ブロモアニリン、
m−ブロモアニリン、p−ブロモアニリン、o−ニトロ
アニリン、m−ニトロアニリン、p−ニトロアニリン、
o−アニシジン、m−アニシジン、p−アニシジン、o
−フェネチジン、m−フェネチジン、p−フェネチジ
ン、o−アミノフェノール、m−アミノフェノール、p
−アミノフェノール、o−アミノベンズアルデヒド、m
−アミノベンズアルデヒド、p−アミノベンズアルデヒ
ド、o−アミノベンゾニトリル、m−アミノベンゾニト
リル、p−アミノベンゾニトリル、2−アミノビフェニ
ル、3−アミノビフェニル、4−アミノビフェニル、2
−アミノフェニルフェニルエーテル、3−アミノフェニ
ルフェニルエーテル、4−アミノフェニルフェニルエー
テル、2−アミノベンゾフェノン、3−アミノベンゾフ
ェノン、4−アミノベンゾフェノン、2−アミノフェニ
ルフェニルスルフィド、3−アミノフェニルフェニルス
ルフィド、4−アミノフェニルフェニルスルフィド、2
−アミノフェニルフェニルスルホン、3−アミノフェニ
ルフェニルスルホン、4−アミノフェニルフェニルスル
ホン、α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミン、1−
アミノ−2−ナフトール、2−アミノ−1−ナフトー
ル、4−アミノ−1−ナフトール、5−アミノ−1−ナ
フトール、5−アミノ−2−ナフトール、7−アミノ−
2−ナフトール、8−アミノ−1−ナフトール、8−ア
ミノ−2−ナフトール、1−アミノアントラセン、2−
アミノアントラセン、9−アミノアントラセン、メチル
アミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、イソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチ
ルアミン、イソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ペ
ンチルアミン、ジペンチルアミン、ベンジルアミン、シ
クロプロピルアミン、シクロブチルアミン、シクロペン
チルアミン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。
Examples of the monoamine include aniline,
o-toluidine, m-toluidine, p-toluidine,
2,3-xylidine, 2,4-xylidine, 2,5-xylidine, 2,6-xylidine, 3,4-xylidine,
3,5-xylysine, o-chloroaniline, m-chloroaniline, p-chloroaniline, o-bromoaniline,
m-bromoaniline, p-bromoaniline, o-nitroaniline, m-nitroaniline, p-nitroaniline,
o-anisidine, m-anisidine, p-anisidine, o
-Phenetidine, m-phenetidine, p-phenetidine, o-aminophenol, m-aminophenol, p
-Aminophenol, o-aminobenzaldehyde, m
-Aminobenzaldehyde, p-aminobenzaldehyde, o-aminobenzonitrile, m-aminobenzonitrile, p-aminobenzonitrile, 2-aminobiphenyl, 3-aminobiphenyl, 4-aminobiphenyl,
-Aminophenylphenyl ether, 3-aminophenylphenyl ether, 4-aminophenylphenyl ether, 2-aminobenzophenone, 3-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 2-aminophenylphenyl sulfide, 3-aminophenylphenyl sulfide, -Aminophenylphenyl sulfide, 2
-Aminophenylphenylsulfone, 3-aminophenylphenylsulfone, 4-aminophenylphenylsulfone, α-naphthylamine, β-naphthylamine, 1-
Amino-2-naphthol, 2-amino-1-naphthol, 4-amino-1-naphthol, 5-amino-1-naphthol, 5-amino-2-naphthol, 7-amino-
2-naphthol, 8-amino-1-naphthol, 8-amino-2-naphthol, 1-aminoanthracene, 2-
Aminoanthracene, 9-aminoanthracene, methylamine, dimethylamine, ethylamine, diethylamine, propylamine, dipropylamine, isopropylamine, diisopropylamine, butylamine, dibutylamine, isobutylamine, diisobutylamine, pentylamine, dipentylamine, benzylamine , Cyclopropylamine, cyclobutylamine, cyclopentylamine, cyclohexylamine and the like.

【0019】ジカルボン酸無水物としては、例えば、無
水フタル酸、2,3−ベンゾフェノンジカルボン酸無水
物、3,4−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、2,
3−ジカルボキシフェニルエーテル無水物、3,4−ジ
カルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、2,3−
ビフェニルジカルボン酸無水物、3,4−ビフェニルジ
カルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェ
ニルスルホン無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフ
ェニルスルホン無水物、2,3−ジカルボキシフェニル
フェニルスルフィド無水物、3,4−ジカルボキシフェ
ニルフェニルスルフィド無水物、1,2−ナフタレンジ
カルボン酸無水物、2,3−ナフタレンジカルボン酸無
水物、1,8−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,2
−アントラセンジカルボン酸無水物、2,3−アントラ
センジカルボン酸無水物、1,9−アントラセンジカル
ボン酸無水物等が挙げられる。これらのモノアミン又
は、ジカルボン酸無水物は、その構造の一部がアミン又
は、ジカルボン酸無水物と反応性を有しない基で置換さ
れても差し支えない。
Examples of the dicarboxylic anhydride include phthalic anhydride, 2,3-benzophenone dicarboxylic anhydride, 3,4-benzophenone dicarboxylic anhydride,
3-dicarboxyphenyl ether anhydride, 3,4-dicarboxyphenyl phenyl ether anhydride, 2,3-
Biphenyl dicarboxylic anhydride, 3,4-biphenyl dicarboxylic anhydride, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl sulfone anhydride, 3,4-dicarboxyphenyl phenyl sulfone anhydride, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl sulfide anhydride 3,4-dicarboxyphenylphenyl sulfide anhydride, 1,2-naphthalenedicarboxylic anhydride, 2,3-naphthalenedicarboxylic anhydride, 1,8-naphthalenedicarboxylic anhydride, 1,2
-Anthracene dicarboxylic anhydride, 2,3-anthracene dicarboxylic anhydride, 1,9-anthracene dicarboxylic anhydride and the like. These monoamines or dicarboxylic anhydrides may have a part of their structure substituted by a group having no reactivity with amine or dicarboxylic anhydride.

【0020】本発明において、金属箔に塗布する際のポ
リアミド酸の対数粘度は、特に限定されるものではない
が、好ましい対数粘度としては、0.1〜2.0が好ま
しく、0.2〜1.9がより好ましく、0.3〜1.8
がさらに好ましく、0.4〜1.7がさらに好ましく、
0.5〜1.6がさらに好ましい。
In the present invention, the logarithmic viscosity of the polyamic acid when applied to the metal foil is not particularly limited, but the preferred logarithmic viscosity is preferably from 0.1 to 2.0, more preferably from 0.2 to 2.0. 1.9 is more preferable, and 0.3 to 1.8 is preferable.
Is more preferable, and 0.4 to 1.7 is more preferable.
0.5 to 1.6 is more preferred.

【0021】ポリアミド酸の対数粘度が低すぎると、一
般に、ポリイミド層の強度や靱性が低下して問題となる
ことがある。ポリアミド酸の対数粘度が高すぎると、一
般に、ポリアミド酸溶液の塗工性において問題となるこ
とがある。
When the logarithmic viscosity of the polyamic acid is too low, the strength and the toughness of the polyimide layer generally decrease, which may cause a problem. If the logarithmic viscosity of the polyamic acid is too high, generally, there may be a problem in the coatability of the polyamic acid solution.

【0022】本発明のポリイミド・金属箔積層体を構成
するポリイミドの製造において、そしてまた、ポリアミ
ド酸の製造においては、反応を有機溶媒中で行うことが
好ましい方法である。反応において用いられる溶媒は、
限定されるわけではないが、例えば、
In the production of the polyimide constituting the polyimide / metal foil laminate of the present invention, and also in the production of the polyamic acid, it is preferable to carry out the reaction in an organic solvent. The solvent used in the reaction is
Although not limited, for example,

【0023】(a) フェノール系溶媒である、フェノ
ール、o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、
p−クロロフェノール、o−クレゾール、m−クレゾー
ル、p−クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−
キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレ
ノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノー
ル、
(A) Phenol solvents such as phenol, o-chlorophenol, m-chlorophenol,
p-chlorophenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-
Xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol,

【0024】(b) 非プロトン性アミド系溶媒であ
る、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メ
チル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン、N−メチルカプロラクタム、ヘキサメチル
ホスホロトリアミド、
(B) N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-, which are aprotic amide solvents 2-imidazolidinone, N-methylcaprolactam, hexamethylphosphorotriamide,

【0025】(c) エーテル系溶媒である、1,2−
ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテ
ル、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン、テ
トラヒドロフラン、ビス[2−(2−メトキシエトキ
シ)エチル]エーテル、1,4−ジオキサン、
(C) 1,2-ether which is an ether solvent
Dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane, tetrahydrofuran, bis [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] ether, 1,4-dioxane,

【0026】(d) アミン系溶媒である、ピリジン、
キノリン、イソキノリン、α−ピコリン、β−ピコリ
ン、γ−ピコリン、イソホロン、ピペリジン、2,4−
ルチジン、2,6−ルチジン、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミ
ン、
(D) pyridine, which is an amine solvent,
Quinoline, isoquinoline, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, isophorone, piperidine, 2,4-
Lutidine, 2,6-lutidine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine,

【0027】(e) その他の溶媒である、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルスルホン、ジフェニルエーテル、
スルホラン、ジフェニルスルホン、テトラメチル尿素、
アニソール等が挙げられる。これらの溶媒は、単独又
は、2種以上混合して用いても差し支えない。これらの
溶媒の中でも、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミドが特に好ましい。
(E) Other solvents such as dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, diphenyl ether,
Sulfolane, diphenyl sulfone, tetramethyl urea,
And anisole. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Among these solvents, N, N-dimethylformamide, N, N
-Dimethylacetamide is particularly preferred.

【0028】本発明に用いるポリアミド酸溶液の製造に
おいては、ポリアミド酸溶液中のポリアミド酸の濃度
(ここで、濃度は、重量を基準としたものである。以
下、『重合濃度』という。)は、何等制限はない。好ま
しい重合濃度は、5から40%であり、さらに好ましく
は、10から30%である。
In the production of the polyamic acid solution used in the present invention, the concentration of the polyamic acid in the polyamic acid solution (here, the concentration is based on the weight; hereinafter, referred to as "polymerization concentration"). There are no restrictions. Preferred polymerization concentrations are from 5 to 40%, more preferably from 10 to 30%.

【0029】本発明に用いるポリアミド酸溶液の製造に
おいては、反応温度、反応時間および反応圧力には、特
に制限はなく公知の条件が適用できる。即ち、反応温度
は、およその範囲として、−10℃から100℃が好ま
しいが、更に好ましくは、氷冷温度(例えば、−2〜0
℃)付近から60℃前後の範囲であり、実施面で最も好
ましく実用的には、50〜60℃である。また、反応時
間は、使用するモノマーの種類、溶媒の種類、および反
応温度により異なるが、1〜48時間が好ましい。更に
好ましくは、2、3時間から十数時間前後であり、実施
面で最も好ましくは、4から10時間である。また更
に、反応圧力は、常圧で十分である。
In the preparation of the polyamic acid solution used in the present invention, the reaction temperature, reaction time and reaction pressure are not particularly limited, and known conditions can be applied. That is, the reaction temperature is preferably in the approximate range of −10 ° C. to 100 ° C., and more preferably the ice-cooling temperature (for example, −2 to 0).
C.) to about 60 ° C., and most preferably practically 50 to 60 ° C. in practical terms. The reaction time varies depending on the type of monomer used, the type of solvent, and the reaction temperature, but is preferably 1 to 48 hours. More preferably, it is about 2 to 3 hours to about ten and several hours, and most preferably 4 to 10 hours in practical terms. Still further, the reaction pressure is sufficient at normal pressure.

【0030】ポリアミド酸溶液を金属箔に塗布する方法
には、特に制限はなく、コンマコータ、ナイフコータ、
ロールコータ、リバースコータ、ダイコータ等公知の塗
布装置を使用することができる。ポリアミド酸溶液を塗
布した金属箔は、乾燥およびイミド化のため加熱される
が、その方法は、通常、減圧下あるいは、窒素、ヘリウ
ム、アルゴン等の不活性雰囲気下で行い、温度は、使用
する溶媒の沸点以上かつイミド化反応が進行する温度以
上であればよい。ちなみに、非プロトン性アミド系溶媒
を用いた場合は、200℃以上であればよい。更にこの
焼成処理時間は、特に限定はないが、通常2時間以上あ
れば十分である。
The method of applying the polyamic acid solution to the metal foil is not particularly limited, and may be a comma coater, a knife coater,
Known coating devices such as a roll coater, a reverse coater, and a die coater can be used. The metal foil coated with the polyamic acid solution is heated for drying and imidization, and the method is usually performed under reduced pressure or under an inert atmosphere such as nitrogen, helium, argon, etc. It may be at least the boiling point of the solvent and at least the temperature at which the imidization reaction proceeds. Incidentally, when an aprotic amide solvent is used, the temperature may be 200 ° C. or higher. Further, the firing time is not particularly limited, but usually 2 hours or more is sufficient.

【0031】本発明のポリイミド・金属箔積層体におい
て、ポリイミド層の厚さには、特に制限はないが、通常
3〜100μmの範囲が好ましく、特に5〜80μmの
範囲が好ましい。本発明に用いられる金属箔は、如何な
る金属箔でも構わないが、一般的には、銅箔やステンレ
ス箔(SUS箔)である。尚、金属箔の厚みに制限はな
いが、一般的には、好ましくは9〜150μm、より好
ましくは9〜50μmである。
In the polyimide / metal foil laminate of the present invention, the thickness of the polyimide layer is not particularly limited, but is usually preferably in the range of 3 to 100 μm, and particularly preferably in the range of 5 to 80 μm. The metal foil used in the present invention may be any metal foil, but is generally a copper foil or a stainless steel foil (SUS foil). The thickness of the metal foil is not limited, but is generally preferably 9 to 150 μm, more preferably 9 to 50 μm.

【0032】本発明のポリイミド・金属箔積層体におい
て、ポリイミドと金属箔の接着力をより強固なものとす
るために、金属箔の表面に何らかの処理を施していても
問題はない。例えば、金属箔上にその金属の酸化物の層
や合金の層を形成させたり、シラン系のカップリング剤
で表面処理を行ったり、接着性に優れた樹脂をアンカー
コート層として存在させる等の処理を施してもよい。
In the polyimide / metal foil laminate of the present invention, there is no problem even if any treatment is applied to the surface of the metal foil in order to further increase the adhesion between the polyimide and the metal foil. For example, a metal oxide layer or an alloy layer is formed on a metal foil, a surface treatment is performed with a silane coupling agent, or a resin having excellent adhesiveness is present as an anchor coat layer. Processing may be performed.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、これにより何等制限されるもので
はない。実施例中の各種試験の試験方法は、次に示すと
おりである。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. Test methods for various tests in the examples are as follows.

【0034】(イ) 対数粘度(ηinh) 対数粘度(ηinh)は、ポリアミド酸溶液(20重量
%)2.50g、即ち、ポリアミド酸として0.5g
を、溶液に用いている溶媒100mlに溶解した後、3
5℃においてウベローデ粘度計で、定法に従い測定し
た。
(A) Logarithmic viscosity (ηinh) Logarithmic viscosity (ηinh) is 2.50 g of polyamic acid solution (20% by weight), that is, 0.5 g of polyamic acid.
Was dissolved in 100 ml of the solvent used for the solution,
It was measured at 5 ° C. with an Ubbelohde viscometer according to a standard method.

【0035】(ロ) 5%重量減少温度(Td5) 5%重量減少温度(Td5)は、空気中にてDTA−T
G(マック・サイエンス社製TG−DTA2000)を
用い、昇温速度10℃/minで測定した。
(B) 5% weight loss temperature (Td5) The 5% weight loss temperature (Td5) is measured in air by DTA-T
G (TG-DTA2000, manufactured by Mac Science) was used at a heating rate of 10 ° C./min.

【0036】(ハ) ガラス転移温度(Tg)・結晶融
解温度(Tm) ガラス転移温度(Tg)・結晶融解温度(Tm)は、示
差走査熱量測定(DSC、マック・サイエンス社製DS
C3100)により昇温速度10℃/minで測定し
た。
(C) Glass transition temperature (Tg) and crystal melting temperature (Tm) The glass transition temperature (Tg) and the crystal melting temperature (Tm) are measured by differential scanning calorimetry (DSC, DS manufactured by Mac Science Co., Ltd.).
C3100) at a heating rate of 10 ° C./min.

【0037】(ニ)線膨張率 線膨張率は、TMA(マック・サイエンス社製TMA4
000S)を用い、窒素中、荷重5g、昇温速度10℃
/minで測定し、100〜200℃の領域で線膨張率
を求めた。
(D) Linear Expansion Coefficient The linear expansion coefficient is TMA (TMA4 manufactured by Mac Science).
000S) in nitrogen, a load of 5 g, and a temperature rising rate of 10 ° C.
/ Min, and the coefficient of linear expansion was determined in the range of 100 to 200 ° C.

【0038】(ホ)フィルムの機械特性(引張強度、引
張伸度及び引張弾性率) フィルムの機械特性(引張強度、引張伸度及び引張弾性
率)は、今田製作所製引張圧縮試験機を用いて測定し
た。
(E) Mechanical properties of the film (tensile strength, tensile elongation and tensile elastic modulus) The mechanical properties of the film (tensile strength, tensile elongation and tensile elastic modulus) were measured using a tensile compression tester manufactured by Imada Seisakusho. It was measured.

【0039】[実施例1]攪拌機、窒素導入管、および
温度計を備えたフラスコに、3,3’−ジメチル−4,
4’−ジアミノジフェニルメタン30.0g(0.13
3mol)、および溶媒としてN,N−ジメチルアセト
アミド150.7gを装入し、40℃で完全に溶解させ
た。この後、一度室温付近まで冷却してからピロメリッ
ト酸二無水物28.6g(0.131mol)を温度の
上昇に注意しながら装入する。このとき、系内温度は、
室温付近から55℃まで上昇する。完全に溶解状態とな
ってから60℃で6時間反応させた。反応終了後、得ら
れたポリアミド酸溶液を5μmのフィルターで加圧濾過
した。このポリアミド酸溶液は、ηinhが0.53d
l/gで、E型機械粘度が17300mPa・sであっ
た。
Example 1 A flask equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, and a thermometer was charged with 3,3′-dimethyl-4,
4′-diaminodiphenylmethane 30.0 g (0.13 g)
3mol), and 150.7 g of N, N-dimethylacetamide as a solvent were completely dissolved at 40 ° C. Thereafter, the mixture is once cooled to around room temperature, and 28.6 g (0.131 mol) of pyromellitic dianhydride is charged while paying attention to the rise in temperature. At this time, the temperature in the system is
It rises from around room temperature to 55 ° C. After completely dissolved, the reaction was carried out at 60 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the obtained polyamic acid solution was subjected to pressure filtration with a 5 μm filter. This polyamic acid solution has ηinh of 0.53 d
At 1 / g, the E-type mechanical viscosity was 17,300 mPa · s.

【0040】このポリアミド酸溶液をガラス板上に塗工
厚が0.40mmとなるように塗工し、窒素置換された
イナートオーブンにて、昇温時間45分で室温から35
0℃として乾燥・イミド化を行った。室温まで冷却した
後、ガラス板からポリイミドフィルムを剥がした。得ら
れたポリイミドフィルムは、厚みが55μmであり、目
視で確認する限り、反りは、認められなかった。このポ
リイミドフィルムについて熱分析測定を行ったところ、
Tgは、観察されず、Td5は、空気中で500℃であ
った。また、このポリイミドフィルムの線膨張率は、1
00〜200℃の領域で11ppm/Kであった。さら
に、このポリイミドフィルムの機械物性は、引張強度が
121MPa、引張弾性率が5.2GPa、伸度が3.
3%であった。測定結果をまとめて、表1に示す。
This polyamic acid solution was coated on a glass plate so as to have a coating thickness of 0.40 mm, and was heated in a nitrogen-substituted inert oven from room temperature to 35 for 45 minutes.
Drying and imidation were performed at 0 ° C. After cooling to room temperature, the polyimide film was peeled off from the glass plate. The obtained polyimide film had a thickness of 55 μm, and no warping was observed as long as it was visually confirmed. When a thermal analysis measurement was performed on this polyimide film,
No Tg was observed and Td5 was 500 ° C. in air. The linear expansion coefficient of this polyimide film is 1
It was 11 ppm / K in the range of 00 to 200 ° C. The mechanical properties of the polyimide film are as follows: tensile strength is 121 MPa, tensile modulus is 5.2 GPa, and elongation is 3.
3%. Table 1 summarizes the measurement results.

【0041】[実施例2]実施例1において用いた溶媒
のN,N−ジメチルアセトアミドをN,N−ジメチルホ
ルムアミドに変更し、それ以外は、実施例1と同様に処
理を行い、ポリアミド酸溶液を得た。このポリポリアミ
ド酸は、ηinhが0.52dl/gで、E型機械粘度
が10450mPa・sであった。このポリアミド酸溶
液をガラス板上に塗工厚が0.40mmとなるように塗
工し、窒素置換されたイナートオーブンにて、昇温時間
45分で室温から350℃として乾燥・イミド化を行っ
た。室温まで冷却した後、ガラス板からポリイミドフィ
ルムを剥がした。得られたポリイミドフィルムは、厚み
が74μmであり、目視で確認する限り、反りは、認め
られなかった。その他物性値の測定結果をまとめて、表
1に示す。
[Example 2] N, N-dimethylacetamide in the solvent used in Example 1 was changed to N, N-dimethylformamide, except that the treatment was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a polyamic acid solution. I got This polypolyamic acid had ηinh of 0.52 dl / g and E-type mechanical viscosity of 10,450 mPa · s. This polyamic acid solution is applied on a glass plate so that the coating thickness becomes 0.40 mm, and is dried and imidized in a nitrogen-substituted inert oven at a temperature rising time of 45 minutes from room temperature to 350 ° C. Was. After cooling to room temperature, the polyimide film was peeled off from the glass plate. The obtained polyimide film had a thickness of 74 μm, and no warping was observed as long as it was visually confirmed. Table 1 summarizes the measurement results of other physical property values.

【0042】[比較例1]実施例1において用いた3,
3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン
30.0g(0.133mol)を4,4’−ジアミノ
ジフェニルメタン26.1g(0.133mol)に変
更し、それ以外は、実施例1と同様に処理を行い、ポリ
アミド酸溶液を得た。このポリアミド酸は、ηinhが
0.52dl/gで、E型機械粘度が11000mPa
・sであった。このポリアミド酸溶液をガラス板上に塗
工厚が0.40mmとなるように塗工し、窒素置換され
たイナートオーブンにて、昇温時間45分で室温から3
50℃として乾燥・イミド化を行った。室温まで冷却し
た後、ガラス板からポリイミドフィルムを剥がした。得
られたポリイミドフィルムは、ガラス基板接着面方向に
著しくカールした。フィルムの厚みは、54μmであっ
た。その他物性値の測定結果をまとめて、表1に示す。
[Comparative Example 1]
30.0 g (0.133 mol) of 3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane was changed to 26.1 g (0.133 mol) of 4,4'-diaminodiphenylmethane, and otherwise the same as in Example 1 The treatment was performed to obtain a polyamic acid solution. This polyamic acid has an ηinh of 0.52 dl / g and an E-type mechanical viscosity of 11,000 mPa.
-It was s. This polyamic acid solution was coated on a glass plate so that the coating thickness became 0.40 mm, and the temperature was raised from room temperature to 3 in a nitrogen-substituted inert oven for 45 minutes.
Drying and imidation were performed at 50 ° C. After cooling to room temperature, the polyimide film was peeled off from the glass plate. The obtained polyimide film was significantly curled in the direction of the glass substrate bonding surface. The thickness of the film was 54 μm. Table 1 summarizes the measurement results of other physical property values.

【0043】[比較例2]攪拌機、窒素導入管、および
温度計を備えたフラスコに、4,4’−ジアミノベンズ
アニリド30.2g(0.133mol)、および溶媒
としてN,N−ジメチルアセトアミド330.3gを装
入し、40℃で完全に溶解させた。この後、一度室温付
近まで冷却してからピロメリット酸二無水物28.1g
(0.129mol)を温度の上昇に注意しながら装入
する。完全に溶解状態となってから60℃で6時間反応
させた。反応終了後、得られたポリアミド酸溶液を5μ
mのフィルターで加圧濾過した。このポリアミド酸は、
ηinhが1.64dl/gで、E型機械粘度が708
00mPa・sであった。このポリアミド酸溶液をガラ
ス板上に塗工厚が0.40mmとなるように塗工し、窒
素置換されたイナートオーブンにて、昇温時間45分で
室温から350℃として乾燥・イミド化を行った。室温
まで冷却した後、ガラス板からポリイミドフィルムを剥
がした。得られたポリイミドフィルムは、ガラス基板接
着面方向に著しくカールした。フィルムの厚みは、34
μmであった。その他物性値の測定結果をまとめて、表
1に示す。
Comparative Example 2 30.2 g (0.133 mol) of 4,4′-diaminobenzanilide and N, N-dimethylacetamide 330 as a solvent were placed in a flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a thermometer. 0.3 g was completely dissolved at 40 ° C. Thereafter, the mixture was cooled to near room temperature once, and then 28.1 g of pyromellitic dianhydride was obtained.
(0.129 mol) while paying attention to the rise in temperature. After completely dissolved, the reaction was carried out at 60 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the obtained polyamic acid solution was
The mixture was filtered under pressure with a filter of m. This polyamic acid is
ηinh is 1.64 dl / g and E type mechanical viscosity is 708
It was 00 mPa · s. This polyamic acid solution is applied on a glass plate so that the coating thickness becomes 0.40 mm, and is dried and imidized in a nitrogen-substituted inert oven from room temperature to 350 ° C. in a heating time of 45 minutes for 45 minutes. Was. After cooling to room temperature, the polyimide film was peeled off from the glass plate. The obtained polyimide film was significantly curled in the direction of the glass substrate bonding surface. The thickness of the film is 34
μm. Table 1 summarizes the measurement results of other physical property values.

【0044】[実施例3]実施例1において用いた3,
3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン
30.0g(0.133mol)を3,3’−ジエチル
−4,4’−ジアミノジフェニルメタン 33.8g
(0.133mol)に変更し、それ以外は、実施例1
と同様に処理を行い、ポリアミド酸溶液を得た。このポ
リアミド酸は、ηinhが0.48dl/gで、E型機
械粘度が16400mPa・sであった。このポリアミ
ド酸溶液をガラス板上に塗工厚が0.40mmとなるよ
うに塗工し、窒素置換されたイナートオーブンにて、昇
温時間45分で室温から350℃として乾燥・イミド化
を行った。室温まで冷却した後、ガラス板からポリイミ
ドフィルムを剥がした。得られたポリイミドフィルム
は、厚みが54μmであり、目視で確認する限り、反り
は、認められなかった。その他物性値の測定結果をまと
めて、表1に示す。
[Embodiment 3]
30.0 g (0.133 mol) of 3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane was converted to 33.8 g of 3,3'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane.
(0.133 mol), and the others were the same as in Example 1.
Was performed in the same manner as described above to obtain a polyamic acid solution. This polyamic acid had ηinh of 0.48 dl / g and E-type mechanical viscosity of 16,400 mPa · s. This polyamic acid solution is applied on a glass plate so that the coating thickness becomes 0.40 mm, and is dried and imidized in a nitrogen-substituted inert oven from room temperature to 350 ° C. in a heating time of 45 minutes for 45 minutes. Was. After cooling to room temperature, the polyimide film was peeled off from the glass plate. The obtained polyimide film had a thickness of 54 μm, and no warping was observed as long as it was visually confirmed. Table 1 summarizes the measurement results of other physical property values.

【0045】[実施例4]実施例1で得られたポリアミ
ド酸ワニスを厚さ25μmの銅箔上に塗工厚が0.20
mmになるように塗工し、窒素置換されたイナートオー
ブンにて、昇温時間1時間で室温から350℃とした
後、350℃で1時間焼成した。室温まで冷却して、ポ
リイミドフィルムと銅箔の積層体を得た。この積層体
は、反りは、見られず、ほぼ平滑なものであった。
Example 4 The polyamide acid varnish obtained in Example 1 was coated on a copper foil having a thickness of 25 μm to a coating thickness of 0.20.
mm, and the temperature was raised from room temperature to 350 ° C. for 1 hour in a nitrogen-substituted inert oven, followed by firing at 350 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, a laminate of a polyimide film and a copper foil was obtained. This laminate was almost smooth without any warpage.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明の効果の一つは、カールが顕著に
抑制されたポリイミド・金属箔積層体を提供することを
可能としたことである。本発明の効果の一つは、カール
が顕著に抑制されて平滑であるのみならず、接着性、耐
熱性、強度にも顕著に優れたポリイミド・金属箔積層体
を提供することを可能としたことである。本発明の効果
の一つは、カールが顕著に抑制されて平滑であるのみな
らず、接着性、耐熱性、強度にも顕著に優れたポリイミ
ド・金属箔積層体を使用することにより、高品質、か
つ、高信頼性のフレキシブルプリント配線基板を提供す
ることを可能としたことである。本発明の効果の一つ
は、カールが顕著に抑制されて平滑であるのみならず、
接着性、耐熱性、強度にも顕著に優れたポリイミド・金
属箔積層体を使用することにより、高品質、かつ、高信
頼性のフレキシブルプリント配線基板の生産性を向上す
ることを可能としたことである。
One of the effects of the present invention is that it is possible to provide a polyimide / metal foil laminate in which curling is significantly suppressed. One of the effects of the present invention is that not only the curl is remarkably suppressed and the surface is smooth, but also the adhesiveness, heat resistance, and strength have made it possible to provide a polyimide / metal foil laminate excellent in strength. That is. One of the effects of the present invention is that not only the curl is remarkably suppressed and smooth, but also the adhesiveness, heat resistance, and strength are significantly improved by using a polyimide / metal foil laminate which is remarkably excellent in strength. Another object of the present invention is to provide a highly reliable flexible printed wiring board. One of the effects of the present invention is that not only the curl is significantly suppressed but also smooth,
The use of a polyimide / metal foil laminate with remarkably excellent adhesiveness, heat resistance and strength has made it possible to improve the productivity of flexible printed wiring boards with high quality and high reliability. It is.

フロントページの続き (72)発明者 大川 祐一 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社 (72)発明者 玉井 正司 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社 Fターム(参考) 4F100 AB01B AB17B AB33B AK49A AK49K BA02 BA10A BA10B EH462 EJ082 EJ862 GB43 JJ03 JK01 JK06 JL04 4J043 PA02 PA19 PB23 PC016 QB15 QB26 RA35 SA06 SB01 TA22 TB01 UA122 UA131 UA142 UA152 UA162 UA262 UB011 UB022 UB062 UB122 UB132 UB282 UB302 UB402 VA021 VA041 XA16 XA17 XA19 YA06 ZB50 ZB58 ZB60Continued on the front page (72) Inventor Yuichi Okawa 580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Shoji Tamai 580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba F-term (Reference) 4F100 AB01B AB17B AB33B AK49A AK49K BA02 BA10A BA10B EH462 EJ082 EJ862 GB43 JJ03 JK01 JK06 JL04 4J043 PA02 PA19 PB23 PC016 QB15 QB26 RA35 SA06 SB01 TA22 TB01 UA122 UA131 UA142 UA1 UB1 UA1 UA1 ZB60

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 化学式(I)(化1)で表される繰り返
し単位を有するポリイミドを含んでなるポリイミド層、
及び、金属箔層 とを含んでなるポリイミド・金属箔積層体 (化学式(I)中、Rは、メチル基又はエチル基、Z
は、置換されていてもよい4価の芳香族基又は、化学式
(II)(化1)からなる群より選ばれた少なくとも1
種の基である。但し、化学式(II)において、Yは、
直接結合、メチレン基、イソプロピリデン基、六フッ素
化されたイソプロピリデン基、チオ基、スルフィニル
基、スルホニル基、及び、オキシドからなる群より選ば
れた基を表す。rは、それぞれ独立して、炭素数1〜4
のアルキル基、又は、ハロゲン基、フェニル基を表す。
aは、0又は、1〜4の整数を表す。)。 【化1】
1. A polyimide layer comprising a polyimide having a repeating unit represented by the chemical formula (I) (Formula 1),
And a metal foil layer comprising: a metal foil layer (where R is a methyl group or an ethyl group, Z
Is a tetravalent aromatic group which may be substituted, or at least one selected from the group consisting of the chemical formula (II) (Formula 1)
Is a seed group. However, in the chemical formula (II), Y is
Represents a group selected from the group consisting of a direct bond, a methylene group, an isopropylidene group, a hexafluorinated isopropylidene group, a thio group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and an oxide. r independently represents 1 to 4 carbon atoms
Represents an alkyl group, a halogen group, or a phenyl group.
a represents 0 or an integer of 1 to 4. ). Embedded image
【請求項2】 化学式(III)(化2)で表される繰
り返し単位を有するポリイミドを含んでなるポリイミド
層、及び、金属箔層とを含んでなるポリイミド・金属箔
積層体。 【化2】
2. A polyimide / metal foil laminate comprising: a polyimide layer containing a polyimide having a repeating unit represented by the chemical formula (III) (Formula 2); and a metal foil layer. Embedded image
【請求項3】 金属箔が、銅箔である、請求項1又は2
に記載した、ポリイミド・金属箔積層体。
3. The metal foil is a copper foil.
2. The polyimide / metal foil laminate described in 1. above.
【請求項4】 3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミ
ノジフェニルメタン、又は、3,3’−ジエチル−4,
4’−ジアミノジフェニルメタンと芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物類を反応させて得られるポリアミド酸溶液
を金属箔上に塗布し、乾燥、イミド化させることを特徴
とする、化学式(I)(化3)で表される繰り返し単位
を有するポリイミドを含んでなるポリイミド層、及び、
前記金属箔層とを含んでなるポリイミド・金属箔積層体
の製造方法(化学式(I)中、Rは、メチル基又はエチ
ル基、Zは、置換されていてもよい4価の芳香族基又
は、化学式(II)(化3)からなる群より選ばれた少
なくとも1種の基である。但し、化学式(II)におい
て、Yは、直接結合、メチレン基、イソプロピリデン
基、六フッ素化されたイソプロピリデン基、チオ基、ス
ルフィニル基、スルホニル基、及び、オキシドからなる
群より選ばれた基を表す。rは、それぞれ独立して、炭
素数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン基、フェニル
基を表す。aは、0又は、1〜4の整数を表す。)。 【化3】
4. A method according to claim 1, wherein 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane or 3,3′-diethyl-4,
A polyamic acid solution obtained by reacting 4'-diaminodiphenylmethane with aromatic tetracarboxylic dianhydride is coated on a metal foil, dried and imidized, characterized by the following chemical formula (I): A) a polyimide layer comprising a polyimide having a repeating unit represented by:
A method for producing a polyimide / metal foil laminate comprising the metal foil layer (where R is a methyl group or an ethyl group, Z is an optionally substituted tetravalent aromatic group or And at least one group selected from the group consisting of: Chemical formula (II) (Formula 3), provided that in Chemical formula (II), Y represents a direct bond, a methylene group, an isopropylidene group, or a hexafluorinated group. Represents a group selected from the group consisting of an isopropylidene group, a thio group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and an oxide, wherein r is each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen group, or a phenyl group; A represents 0 or an integer of 1 to 4). Embedded image
【請求項5】 3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミ
ノジフェニルメタンとピロメリット酸二無水物を反応さ
せて得られるポリアミド酸溶液を金属上に塗布し、乾
燥、イミド化させることを特徴とする、化学式(II
I)(化4)で表される繰り返し単位を有するポリイミ
ドを含んでなるポリイミド層、及び、前記金属箔層とを
含んでなるポリイミド・金属箔積層体の製造方法。 【化4】
5. A polyamic acid solution obtained by reacting 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane with pyromellitic dianhydride is coated on a metal, dried and imidized. The chemical formula (II
I) A method for producing a polyimide / metal foil laminate comprising a polyimide layer comprising a polyimide having a repeating unit represented by (Chemical Formula 4) and the metal foil layer. Embedded image
【請求項6】 金属箔が、銅箔である、請求項4又は5
に記載した、ポリイミド・金属箔積層体の製造方法。
6. The metal foil is a copper foil.
3. The method for producing a polyimide / metal foil laminate described in 1. above.
【請求項7】 請求項1乃至3の何れかに記載したポリ
イミド・金属箔積層体を含んで構成されるフレキシブル
プリント配線基板。
7. A flexible printed circuit board comprising the polyimide / metal foil laminate according to claim 1.
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