JPH06345964A - Heat-resistant thermosetting resin composition, adhesive sheet, adhesive-backed polyimide film, and metal-foil-clad polyimide film - Google Patents

Heat-resistant thermosetting resin composition, adhesive sheet, adhesive-backed polyimide film, and metal-foil-clad polyimide film

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JPH06345964A
JPH06345964A JP5140402A JP14040293A JPH06345964A JP H06345964 A JPH06345964 A JP H06345964A JP 5140402 A JP5140402 A JP 5140402A JP 14040293 A JP14040293 A JP 14040293A JP H06345964 A JPH06345964 A JP H06345964A
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JP
Japan
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bis
general formula
polyimide film
represented
resin composition
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Application number
JP5140402A
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Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Suzuki
隆之 鈴木
Tatsuya Oda
達也 小田
Masashi Tanaka
正史 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a resin composition which cures at a low temp. to give a cured adhesive layer with good heat resistance and is useful as a heat-resistant adhesive by mixing a specific polyimide with a specific polymaleimide and an epoxy resin. CONSTITUTION:A polyimide containing units represented by formula I [wherein 1-40wt.% of the Ar's are represented by formula II (where R is a divalent hydrocarbon residue; R1 to R4 each is a lower alkyl or phenyl; and (l) is 5-30) and 99-60mol% thereof are represented by formula III (where Z is C(=O), SO2, O, S, (CH2)m, NHC(=O), C(CH3)2, etc.; (n) and (m) each is an integer of 1 or larger; and the benzene rings are optionally substituted) or formula IV (where R5 to R8 each is H, a 1-4C alkyl, or an alkoxy and X is CH2, C(CH3)2, O, SO2, etc.)] is mixed with a polymaleimide represented by formula V (wherein k>=2 and R9 is a 2C or higher group having a valence of (k)) and an epoxy resin to obtain the objective composition. This composition can cure at 180 deg.C or lower to give a cured adhesive layer with good heat resistance. It is useful as a heat-resistant adhesive for use in producing a flexible printed circuit board or a thin laminate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、低温で接着硬化できる
ポリイミド樹脂組成物に関する。本発明の樹脂組成物
は、印刷回路基板、TAB(Tape Automat
ed Bonding)用テープ、複合リ−ドフレ−
ム、積層材料などに用いることができる耐熱性に優れた
熱硬化性接着剤として有用である。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a polyimide resin composition which can be adhesively cured at a low temperature. The resin composition of the present invention is applied to a printed circuit board, TAB (Tape Automat).
ed Bonding) tape, composite lead frame
It is useful as a thermosetting adhesive having excellent heat resistance, which can be used for rubber, laminated materials and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子材料用の絶縁性接着剤として、アク
リル系、フェノール系、エポキシ系、ポリイミド系など
の接着剤が知られている。またホットメルト接着剤もこ
のような用途に使用されている。
2. Description of the Related Art Acrylic, phenolic, epoxy, polyimide, and other adhesives are known as insulating adhesives for electronic materials. Hot melt adhesives are also used for such applications.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする問題】ところが、アクリル
系、フェノール系及びエポキシ系の接着剤は、接着性に
優れているが、耐熱性が劣っている。ホットメルト接着
剤は、接着温度が300℃前後と高いため被着体および
加熱装置の制約を受け、ホットメルトであるため、接着
した後再び高温にさらすと接着剤が軟化し、強度を保て
ない。ポリイミド系接着剤は接着するために275℃、
5MPaという高温高圧を必要とする。本発明は、耐熱
性、接着性ともに優れ、かつ180℃以下の低温で接着
可能な熱硬化性樹脂組成物及びこの熱硬化性樹脂組成物
の接着剤としての応用製品を提供するものである。
However, acrylic, phenolic, and epoxy adhesives are excellent in adhesiveness but inferior in heat resistance. The hot-melt adhesive has a high bonding temperature of around 300 ° C and is restricted by the adherend and the heating device. Since it is a hot-melt adhesive, when it is exposed to high temperature again after bonding, the adhesive softens and maintains its strength. Absent. The polyimide adhesive is 275 ° C for bonding,
It requires high temperature and high pressure of 5 MPa. The present invention provides a thermosetting resin composition which is excellent in heat resistance and adhesiveness and can be adhered at a low temperature of 180 ° C. or lower, and an application product of the thermosetting resin composition as an adhesive.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式化6で
表される構成単位を含むポリイミド、一般式化10で表
されるポリマレイミド及びエポキシ樹脂を含有すること
を特徴とする熱硬化性樹脂組成物である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention comprises a polyimide containing a constitutional unit represented by the general formula 6, a polymaleimide represented by the general formula 10 and an epoxy resin. Resin composition.

【0005】[0005]

【化6】 (一般式化6中、Arは、一般式化7、化8又は化9で
表される基であり、一般式化7で表される基が1〜40
モル%、一般式化8又は化9で表される基が99〜60
モル%である)
[Chemical 6] (In the general formula 6, Ar is a group represented by the general formula 7, 8, or 9, and the group represented by the general formula 1 is 1 to 40.
Mol%, the group represented by the general formula 8 or 9 is 99 to 60
Mol%)

【0006】[0006]

【化7】 (一般式化7中、Rは2価の炭化水素残基を示し、
1、R2、R3、及びR4は、低級アルキル基又はフェニ
ル基を示し、lは5〜30の整数を示す)
[Chemical 7] (In the general formula 7, R represents a divalent hydrocarbon residue,
R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 represent a lower alkyl group or a phenyl group, and l represents an integer of 5 to 30).

【0007】[0007]

【化8】 (一般式化8中、Zは−C(=O)−、−SO2−、−
O−、−S−、−(CH2m−、−NHC(=O)−、
−C(CH32−、−C(CF32−、−C(=O)O
−又は結合を示し、n及びmは1以上の整数であり、複
数個のZはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、各ベ
ンゼン環の水素は置換基で適宜置換されていてもよい)
[Chemical 8] (In general formalized 8, Z is -C (= O) -, - SO 2 -, -
O -, - S -, - (CH 2) m -, - NHC (= O) -,
-C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - C (= O) O
-Or a bond, n and m are integers of 1 or more, a plurality of Zs may be the same or different, and hydrogen of each benzene ring may be appropriately substituted with a substituent).

【0008】[0008]

【化9】 (一般式化9中、R5、R6、R7、及びR8は、それぞれ
独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはアル
コキシ基を示し、これらのうち少なくとも2個以上はア
ルキル基又はアルコキシ基であり、Xは−CH2−、−
C(CH32−、−O−、−SO2−、−C(=O)
−、−NHC(=O)−を示す)
[Chemical 9] (In the general formula 9, R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent hydrogen or an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and at least two or more of them are alkyl groups. Or an alkoxy group, X is —CH 2 —, —
C (CH 3) 2 -, - O -, - SO 2 -, - C (= O)
-, -NHC (= O)-is shown)

【0009】[0009]

【化10】 (一般式化10中、kは2以上の整数であり、R9はk
価の炭素数2以上の基を示す)
[Chemical 10] (In general formula 10, k is an integer of 2 or more, and R 9 is k
Indicates a group having a valence of 2 or more carbon atoms

【0010】前記一般式化8において、ベンゼン環に結
合していてもよい置換基としては、低級アルキル基例え
ば、メチル基、エチル基、イソプロピル基など、アルコ
キシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基など、フッ素置
換アルキル基例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフ
ルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロ
ヘキシル基、パーフルオロオクチル基など及びハロゲン
元素例えば、フッ素、塩素、臭素など、があり、これら
の置換基が複数個ある場合、同一でも異なっていてもよ
い。
In the general formula 8, the substituent that may be bonded to the benzene ring is a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, Fluorine-substituted alkyl groups such as trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, etc. and halogen elements such as fluorine, chlorine, bromine, etc., and these substituents When there are two or more, they may be the same or different.

【0011】前記一般式化8で表される基が、一般式化
11
The group represented by the general formula 8 has the general formula 11

【0012】[0012]

【化11】 (一般式化11中、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立に
−SO2−、−O−、−C(=O)−又は−C(CH3
2−を示す)で表される基である場合に、後記するマレ
イミドとの組成物から得られる硬化物の耐溶剤性が優
れ、特に好ましい。
[Chemical 11] (In general formula 11, Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently —SO 2 —, —O—, —C (═O) — or —C (CH 3 ).
The group represented by (indicated by 2- ) is particularly preferable because the cured product obtained from the composition with maleimide described below has excellent solvent resistance.

【0013】本発明のポリイミドは、3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と、一
般式化12で表される化合物、一般式化13及び一般式
化14で表される化合物とを反応させて製造することが
できる。
The polyimide of the present invention is 3,3 ', 4,4.
It can be produced by reacting 4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride with the compound represented by the general formula 12 and the compounds represented by the general formulas 13 and 14.

【0014】[0014]

【化12】 (一般式化12中、R、R1、R2、R3、R4及びlは一
般式化7と同じであり、Yはアミノ基を示す)
[Chemical 12] (In general formula 12, R, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and l are the same as in general formula 7, and Y represents an amino group.)

【0015】[0015]

【化13】 (一般式化13中、Z、n及びmは一般式化8と同じで
あり、Yはアミノ基又はイソシアネート基を示し、各ベ
ンゼン環の水素は一般式化8において、ベンゼン環に結
合していてもよい置換基として例示したような置換基で
適宜置換されていてもよい)
[Chemical 13] (In the general formula 13, Z, n and m are the same as those in the general formula 8, Y represents an amino group or an isocyanate group, and hydrogen of each benzene ring is bonded to the benzene ring in the general formula 8. Optionally substituted with the substituents exemplified as the optional substituents)

【0016】[0016]

【化14】 (一般式化14中、R5、R6、R7、R8及びXは、前記
一般式化9と同じであり、Yはアミノ基又はイソシアネ
ート基を示す)
[Chemical 14] (In the general formula 14, R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and X are the same as those in the general formula 9, and Y represents an amino group or an isocyanate group.)

【0017】前記の反応において酸二無水物として、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物以外の酸二無水物を、本発明の目的を損なわな
い範囲で併用してもよい。このような酸二無水物として
は、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,
3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,
3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸
二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルオキシテト
ラカルボン酸二無水物、4,4’−〔2,2,2−トリ
フルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデン〕ビ
ス(1,2−ベンゼンジカルボン酸無水物)、エチレン
ビストリメリテート二無水物、カテコールビストリメリ
テート二無水物、レゾルシノールビストリメリテート二
無水物、ジヒドロキシベンゼンビストリメリテート二無
水物、ビスフェノールAビストリメリテートニ無水物、
テトラクロロビスフェノールAビストリメリテート二無
水物、テトラブロモビスフェノールAビストリメリテー
ト二無水物、ビフェニルビストリメリテート二無水物な
どがある。これらは、酸二無水物全量に対して50モル
%を超えないように、特に30モル%以下で使用するの
が好ましい。
In the above reaction, as an acid dianhydride,
Acid dianhydrides other than 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride may be used in combination as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the acid dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3.
3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyloxytetracarboxylic dianhydride, 4,4 '-[2,2,2-trifluoro -1- (trifluoromethyl) ethylidene] bis (1,2-benzenedicarboxylic acid anhydride), ethylene bis trimellitate dianhydride, catechol bis trimellitate dianhydride, resorcinol bis trimellitate dianhydride, dihydroxybenzene bistri anhydride Melitate dianhydride, bisphenol A bis trimellitate dianhydride,
There are tetrachlorobisphenol A bis trimellitate dianhydride, tetrabromobisphenol A bis trimellitate dianhydride, biphenyl bis trimellitate dianhydride and the like. These are preferably used in 30 mol% or less so as not to exceed 50 mol% with respect to the total amount of the acid dianhydride.

【0018】前記一般式化12で表される化合物として
は次に示すような化合物がある。ω,ω’−ビス(3−
アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、ω,ω’−
ビス(3−アミノベンジルオキシ)ポリジメチルシロキ
サン、ω,ω’−ビス(4−アミノベンジルオキシ)ポ
リジメチルシロキサン、ω,ω’−ビス〔3−(3−ア
ミノベンジルオキシ)プロピル〕ポリジメチルシロキサ
ン、ω,ω’−ビス3−(4−アミノベンジルオキシ)
プロピル〕ポリジメチルシロキサン、ω,ω’−ビス
(3−アミノプロピル)ポリジフェニルシロキサン、
ω,ω’−ビス(3−アミノベンジルオキシ)ポリジフ
ェニルシロキサン、ω,ω’−ビス(4−アミノベンジ
ルオキシ)ポリジフェニルシロキサン、ω,ω’−ビス
〔3−(3−アミノベンジルオキシ)プロピル〕ポリジ
フェニルシロキサン、ω,ω’−ビス3−(4−アミノ
ベンジルオキシ)プロピル〕ポリジフェニルシロキサ
ン。
The compounds represented by the general formula 12 include the following compounds. ω, ω'-bis (3-
Aminopropyl) polydimethylsiloxane, ω, ω'-
Bis (3-aminobenzyloxy) polydimethylsiloxane, ω, ω′-bis (4-aminobenzyloxy) polydimethylsiloxane, ω, ω′-bis [3- (3-aminobenzyloxy) propyl] polydimethylsiloxane , Ω, ω'-bis-3- (4-aminobenzyloxy)
Propyl] polydimethylsiloxane, ω, ω′-bis (3-aminopropyl) polydiphenylsiloxane,
ω, ω'-bis (3-aminobenzyloxy) polydiphenylsiloxane, ω, ω'-bis (4-aminobenzyloxy) polydiphenylsiloxane, ω, ω'-bis [3- (3-aminobenzyloxy) Propyl] polydiphenylsiloxane, ω, ω'-bis-3- (4-aminobenzyloxy) propyl] polydiphenylsiloxane.

【0019】前記した一般式化13で表される化合物の
うち、Yがアミノ基であるものとしては、次にに示すよ
うな化合物がある。
Among the compounds represented by the above general formula 13, those in which Y is an amino group include the following compounds.

【0020】4,4’−ビス(3−アミノクミル)ベン
ゼン、4,3’−ビス(3−アミノクミル)ベンゼン、
3,3’−ビス(3−アミノクミル)ベンゼン、4,
4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,
3’−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,
3’−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス
〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホ
ン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケ
トン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕
ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕エーテル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕エーテル、2,2−ビス〔4−(3−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、ビス
〔4−(3−アミノフェノキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ビス〔4−(3−アミノ
ベンゾイル)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−ア
ミノベンゾイル)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3
−アミノベンゾイル)フェニル〕ケトン、ビス〔4−
(4−アミノベンゾイル)フェニル〕ケトン、ビス〔4
−(3−アミノベンゾイル)フェニル〕エーテル、ビス
〔4−(4−アミノベンゾイル)フェニル〕エーテル、
2,2−ビス〔4−(3−アミノベンゾイル)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノベンゾ
イル)フェニル〕プロパン、ビス〔4−(3−アミノフ
ェニルスルホニル)フェニル〕エーテル、ビス〔4−
(4−アミノフェニルスルホニル)フェニル〕エーテ
ル、ビス〔3−(3−アミノフェニルスルホニル)フェ
ニル〕スルホン、ビス〔3−(3−アミノフェニルスル
ホニル)フェニル〕ケトン、2,2−ビス〔4−(3−
アミノフェニルスルホニル)フェニル〕プロパン、2,
2−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルホニル)フェ
ニル〕プロパン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)
フェニル〕エーテル、ビス〔3−(3−アミノベンゾイ
ル)フェニル〕スルホン、ビス〔3−(3−アミノベン
ゾイル)フェニル〕ケトン、ビス〔3−(3−アミノベ
ンゾイル)フェニル〕エーテル、ビス〔3−(3−アミ
ノフェニルスルホニル)フェニル〕エーテル、2,2−
ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、4,4’−ビス〔3−(4−アミノ−α,α’−ジ
メチルベンジル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン、
4,4’−ビス〔3−(4−アミノ−α,α’−ジメチ
ルベンジル)フェノキシ〕ベンゾフェノン、4,4’−
ビス〔4−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベンジ
ル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン、4,4’−ビス
〔4−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フ
ェノキシ〕ベンゾフェノン、4−〔3−(4−アミノ−
α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ〕−4’−
〔4−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フ
ェノキシ〕ジフェニルスルホン、4−〔3−(4−アミ
ノ−α,α’ジメチルベンジル)フェノキシ〕−4’−
〔4−(4アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェ
ノキシ〕ベンゾフェノン、4,4’−ビス〔3−(3ア
ミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ジフ
ェニルスルホン、4,4’−ビス〔3−(3アミノ−
α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ベンゾフェ
ノン、4,4’−ビス〔2−(4アミノ−α,α’−ジ
メチルベンジル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン、
4,4’−ビス〔2−(4アミノ−α,α’−ジメチル
ベンジル)フェノキシ〕ベンゾフェノン、3,3’−ビ
ス〔3−(4アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フ
ェノキシ〕ジフェニルスルホン、3,3’−ビス〔3−
(4アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ
ベンゾフェノン。
4,4'-bis (3-aminocumyl) benzene, 4,3'-bis (3-aminocumyl) benzene,
3,3'-bis (3-aminocumyl) benzene, 4,
4'-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,
3'-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3,
3'-bis (3-aminophenoxy) benzene, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone,
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl]
Ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2, 2-bis [4-
(4-aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4- (3-aminophenoxyphenyl) hexafluoropropane, bis [4- (4-aminophenoxyphenyl) hexafluoropropane, bis [4- (3-aminobenzoyl) Phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminobenzoyl) phenyl] sulfone, bis [4- (3
-Aminobenzoyl) phenyl] ketone, bis [4-
(4-Aminobenzoyl) phenyl] ketone, bis [4
-(3-aminobenzoyl) phenyl] ether, bis [4- (4-aminobenzoyl) phenyl] ether,
2,2-bis [4- (3-aminobenzoyl) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminobenzoyl) phenyl] propane, bis [4- (3-aminophenylsulfonyl) phenyl] ether , Screw [4-
(4-Aminophenylsulfonyl) phenyl] ether, bis [3- (3-aminophenylsulfonyl) phenyl] sulfone, bis [3- (3-aminophenylsulfonyl) phenyl] ketone, 2,2-bis [4- ( 3-
Aminophenylsulfonyl) phenyl] propane, 2,
2-bis [4- (4-aminophenylsulfonyl) phenyl] propane, bis [3- (3-aminophenoxy)
Phenyl] ether, bis [3- (3-aminobenzoyl) phenyl] sulfone, bis [3- (3-aminobenzoyl) phenyl] ketone, bis [3- (3-aminobenzoyl) phenyl] ether, bis [3- (3-Aminophenylsulfonyl) phenyl] ether, 2,2-
Bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4′-bis [3- (4-amino-α, α′-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone,
4,4'-bis [3- (4-amino-α, α'-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4'-
Bis [4- (4-amino-α, α′-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenyl sulfone, 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α′-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4- [3- (4-amino-
α, α'-Dimethylbenzyl) phenoxy] -4'-
[4- (4-amino-α, α'-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenyl sulfone, 4- [3- (4-amino-α, α'dimethylbenzyl) phenoxy] -4'-
[4- (4 amino-α,α'-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4'-bis [3- (3 amino-α,α'-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone, 4,4'- Bis [3- (3 amino-
α, α′-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4′-bis [2- (4 amino-α,α′-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone,
4,4′-bis [2- (4 amino-α,α′-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 3,3′-bis [3- (4 amino-α,α′-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone , 3,3'-bis [3-
(4 amino-α, α'-dimethylbenzyl) phenoxybenzophenone.

【0021】前記した一般式化13で表される化合物の
うち、Yがイソシアネート基であるものとしては、上記
に例示したジアミンにおいて、アミノ基をイソシアネー
ト基に代えたものを挙げることができる。以下に若干の
例を挙げる。
Among the compounds represented by the above general formula 13, those in which Y is an isocyanate group include the diamines exemplified above in which an amino group is replaced with an isocyanate group. Some examples are given below.

【0022】ジフェニルメタンジイソシアネート、トル
イレンジイソシアネート、4,4’−ビス〔3−(4−
イソシアネート−α,α’−ジメチルベンジル)フェノ
キシ〕ジフェニルケトン、4,4’−ビス〔3−(4−
イソシアネート−α,α’−ジメチルベンジル)フェノ
キシ〕ジフェニルスルホン。
Diphenylmethane diisocyanate, toluylene diisocyanate, 4,4'-bis [3- (4-
Isocyanate-α, α'-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenyl ketone, 4,4'-bis [3- (4-
Isocyanate-α, α'-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenyl sulfone.

【0023】前記した一般式化14で表される化合物の
うち、Yがアミノ基であるものとしては、次に示すよう
な化合物がある。
Among the compounds represented by the above general formula 14, those in which Y is an amino group include the following compounds.

【0024】4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’
−テトラメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
−3,3’,5,5’−テトラエチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
n−プロピルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5,5’−テトライソプロピルジフェニルメ
タン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テト
ラブチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,
3’−ジメチル−5,5’−ジエチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−5,
5’−ジイソプロピルジフェニルメタン、4,4’−ジ
アミノ−3,3’−ジエチル−5,5’−ジイソプロピ
ルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,5−ジ
メチル−3’,5’−ジエチルジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノ−3,5−ジメチル−3’,5’−ジイ
ソプロビルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3,5−ジエチル−3’,5’−ジイソプロピルジフェ
ニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,5−ジエチル−
3’,5’−ジブチルジフェニルメタン、4,4’−ジ
アミノ−3,5−ジイソプロピル−3’,5’−ジブチ
ルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−
ジイソプロピル−5,5’−ジブチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−5,
5’−ジブチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
−3,3’−ジエチル−5,5’−ジブチルジフェニル
メタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフ
ェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチ
ルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−
ジn−プロピルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
−3,3’−ジイソプロピルジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノ−3,3’−ジブチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5−トリメチルジ
フェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5−
トリエチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5−トリn−プロピルジフェニルメタン、
4,4’−ジアミノ−3,3’,5−トリイソプロピル
ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5
−トリブチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3−メチル−3’−エチルジフェニルメタン、4,4’
−ジアミノ−3−メチル−3’−イソプロピルジフェニ
ルメタン、4,4’−ジアミノ−3−エチル−3’−n
−プロピルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3
−エチル−3’−イソプロピルジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノ−3−イソプロピル−3’−ブチルジフ
ェニルメタン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス
(3,3’,5,5’−テトラメチルジフェニル)イソ
プロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,
3’,5,5’−テトラエチルジフェニル)イソプロパ
ン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,3’,
5,5’−テトラn−プロピルジフェニル)イソプロパ
ン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,3’,
5,5’−テトライソプロピルジフェニル)イソプロパ
ン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,3’,
5,5’−テトラブチルジフェニル)イソプロパン、
4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラメチ
ルジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラエチルジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラn−
プロピルジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5,5’−テトライソプロピルジフェニルエ
ーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テ
トラブチルジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5,5’−テトラメチルジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
エチルジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラn−プロピルジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
イソプロビルジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ
−3,3’,5,5’−テトラブチルジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
メチルジフェニルケトン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラエチルジフェニルケトン、4,
4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラn−プロ
ピルジフェニルケトン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトライソプロピルジフェニルケト
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
ブチルジフェニルケトン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラメチルベンズアニリド、4,
4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラエチルン
ズアニリド、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’
−テトラn−プロピルベンズアニリド、4,4’−ジア
ミノ−3,3’,5,5’−テトライソプロピルベンア
ニリド、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テ
トラブチルベンズアニリド。
4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'
-Tetramethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetraethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3', 5,5'-tetra-n-propyldiphenylmethane, 4, 4'-diamino-
3,3 ', 5,5'-tetraisopropyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3', 5,5'-tetrabutyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,
3'-dimethyl-5,5'-diethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyl-5,
5'-diisopropyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyl-5,5'-diisopropyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,5-dimethyl-3 ', 5'-diethyldiphenylmethane, 4,
4'-diamino-3,5-dimethyl-3 ', 5'-diisoprobi-diphenylmethane, 4,4'-diamino-
3,5-diethyl-3 ', 5'-diisopropyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,5-diethyl-
3 ', 5'-dibutyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,5-diisopropyl-3', 5'-dibutyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-
Diisopropyl-5,5'-dibutyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyl-5,
5'-dibutyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyl-5,5'-dibutyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino- 3,3'-diethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-
Di-n-propyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diisopropyldiphenylmethane, 4,
4'-diamino-3,3'-dibutyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3 ', 5-trimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3', 5-
Triethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-
3,3 ′, 5-tri-n-propyldiphenylmethane,
4,4'-diamino-3,3 ', 5-triisopropyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3', 5
-Tributyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-
3-methyl-3'-ethyldiphenylmethane, 4,4 '
-Diamino-3-methyl-3'-isopropyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3-ethyl-3'-n
-Propyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3
-Ethyl-3'-isopropyldiphenylmethane, 4,
4'-diamino-3-isopropyl-3'-butyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-2,2'-bis (3,3 ', 5,5'-tetramethyldiphenyl) isopropane, 4,4'-Diamino-2,2'-bis (3,3
3 ', 5,5'-tetraethyldiphenyl) isopropane, 4,4'-diamino-2,2'-bis (3,3',
5,5'-tetra-n-propyldiphenyl) isopropane, 4,4'-diamino-2,2'-bis (3,3 ',
5,5'-tetraisopropyldiphenyl) isopropane, 4,4'-diamino-2,2'-bis (3,3 ',
5,5′-tetrabutyldiphenyl) isopropane,
4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetramethyldiphenyl ether, 4,4'-diamino-3,
3 ', 5,5'-tetraethyldiphenyl ether,
4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetra n-
Propyl diphenyl ether, 4,4'-diamino-
3,3 ', 5,5'-tetraisopropyl diphenyl ether, 4,4'-diamino-3,3', 5,5'-tetrabutyl diphenyl ether, 4,4'-diamino-
3,3 ', 5,5'-tetramethyldiphenyl sulfone, 4,4'-diamino-3,3', 5,5'-tetraethyldiphenyl sulfone, 4,4'-diamino-3,
3 ', 5,5'-tetra-n-propyldiphenyl sulfone, 4,4'-diamino-3,3', 5,5'-tetraisoprobyl diphenyl sulfone, 4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetrabutyldiphenyl sulfone, 4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetramethyldiphenyl ketone, 4,4'-diamino-3,
3 ', 5,5'-tetraethyldiphenylketone, 4,
4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetra n-propyl diphenyl ketone, 4,4'-diamino-3,
3 ', 5,5'-tetraisopropyldiphenylketone, 4,4'-diamino-3,3', 5,5'-tetrabutyldiphenylketone, 4,4'-diamino-3,
3 ', 5,5'-tetramethylbenzanilide, 4,
4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetraethylnesanilide, 4,4'-diamino-3,3', 5,5 '
-Tetra n-propylbenzanilide, 4,4'-diamino-3,3 ', 5,5'-tetraisopropylbenzanilide, 4,4'-diamino-3,3', 5,5'-tetrabutylbenz Anilid.

【0025】前記した一般式化14で表される化合物の
うち、Yがイソシアネート基であるものとしては、上記
に例示したジアミンにおいて、アミノ基をイソシアネー
ト基に代えたものを挙げることができる。
Among the compounds represented by the above general formula 14, those in which Y is an isocyanate group include the diamines exemplified above in which the amino group is replaced with an isocyanate group.

【0026】一般式化13で表される化合物と他のジア
ミン又はジイソシアネート、一般式化14で表される化
合物と他のジアミン又はジイソシアネートを本発明の目
的を損なわない範囲で併用してもよい。この場合、他の
ジアミン又はジイソシアネートの量を、酸二無水物の反
応の相手の総量に対して30モル%以下とするのが好ま
しい。
The compound represented by the general formula 13 and another diamine or diisocyanate, and the compound represented by the general formula 14 and another diamine or diisocyanate may be used in combination within the range not impairing the object of the present invention. In this case, the amount of the other diamine or diisocyanate is preferably 30 mol% or less based on the total amount of the reaction partners of the acid dianhydride.

【0027】このようなジアミンとしては、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミ
ノジフェニルケトン、ジアミノジフェニルプロパン、フ
ェニレンジアミン、トルイレンジアミン、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノジフェニルヘキサフルオロプ
ロパン、ジアミノジアルキルジフェニルメタンなどが挙
げられ、またジイソシアネートとしては、上記ジアミン
のアミノ基をイソシアネート基に代えたものが挙げられ
る。
Examples of such diamines include diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, diaminodiphenyl ketone, diaminodiphenylpropane, phenylenediamine, toluylenediamine, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylhexafluoropropane, diaminodialkyldiphenylmethane, and the like. Examples of the diisocyanate include those in which the amino group of the diamine is replaced with an isocyanate group.

【0028】一般式化12で表される化合物、一般式化
13及び一般式化14で表される化合物は、一般式化1
2で表される化合物を1〜40モル%、好ましくは5〜
20モル%、一般式化13及び化14で表される化合物
の両者の合計が99〜60モル%、好ましくは、一般式
化13で表される化合物が50〜70モル%、一般式化
14で表される化合物が45〜10モル%になるように
使用する。
The compounds represented by the general formula 12 and the compounds represented by the general formula 13 and the general formula 14 are represented by the general formula 1
1 to 40 mol% of the compound represented by 2, preferably 5 to
20 mol%, the total of both compounds represented by general formulas 13 and 14 is 99 to 60 mol%, preferably 50 to 70 mol% of the compound represented by general formula 13, The compound represented by is used in an amount of 45 to 10 mol%.

【0029】一般式化6で表されるポリイミドは、酸二
無水物とジアミンとを反応させる場合、例えば、次のよ
うにして製造される。
When the acid dianhydride and diamine are reacted, the polyimide represented by the general formula 6 is produced, for example, as follows.

【0030】酸二無水物とジアミンとを有機溶媒中、必
要に応じてトリブチルアミン、トリエチルアミン、亜リ
ン酸トリフェニルなどの触媒の存在下に100℃以上、
好ましくは180℃以上に加熱して直接ポリイミドとす
る。触媒は、反応成分の総量に対して0〜15重量%使
用するのが好ましく、特に0.01〜15重量%使用す
るのが好ましい。
Acid dianhydride and diamine in an organic solvent, if necessary, in the presence of a catalyst such as tributylamine, triethylamine and triphenyl phosphite, at 100 ° C. or higher,
Preferably, it is heated to 180 ° C. or higher to directly form a polyimide. The catalyst is preferably used in an amount of 0 to 15% by weight, more preferably 0.01 to 15% by weight, based on the total amount of the reaction components.

【0031】酸二無水物とジアミンとを有機溶媒中10
0℃未満で反応させてポリイミドの前駆体であるポリア
ミド酸のワニスを製造し、この後、このワニスを加熱し
てイミド化するか、酸無水物例えば、、無水酢酸、無水
プロピオン酸、無水安息香酸など又はカルボジイミド化
合物例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの閉
環剤と必要に応じてピリジン、イソキノリン、トリメチ
ルアミン、アミノピリジン、イミダゾ−ルなどのの閉環
触媒を添加して化学閉環(イミド化)してポリイミドと
する。閉環剤及び閉環触媒は、それぞれ、酸無水物1モ
ルに対して1〜8モルの範囲内で使用するのが好まし
い。
The acid dianhydride and the diamine are mixed in an organic solvent to give 10
A varnish of polyamic acid, which is a precursor of polyimide, is produced by reacting at a temperature lower than 0 ° C., and then the varnish is heated to imidize, or an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or benzoic anhydride. Acids or carbodiimide compounds, for example, a ring-closing agent such as dicyclohexylcarbodiimide and, if necessary, a ring-closing catalyst such as pyridine, isoquinoline, trimethylamine, aminopyridine, imidazole, etc. to form a polyimide by chemical ring-closing (imidization). . The ring-closing agent and the ring-closing catalyst are preferably used in the range of 1 to 8 mol per mol of the acid anhydride.

【0032】有機溶媒としては、N−メチル−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド、1,3−ジメチル−2−
イミダゾリドンなどの非プロトン性極性溶媒、フェノ−
ル、クレゾ−ル、キシレノ−ル、p−クロルフェノ−ル
などのフェノ−ル系溶媒が使用される。この他、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノメチルエーテルアセテ−ト、メタ
ノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、トリクロロエチレン、テトラクロロ
エタンなどのうち、原料モノマ−及びポリイミド又はポ
リアミド酸を溶解するものを使用してもよく、原料モノ
マ−及びポリイミド又はポリアミド酸を溶解しないもの
であっても、溶解性を損なわない範囲で混合して用いて
もよい。
As the organic solvent, N-methyl-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, sulfolane, hexamethylphosphoric triamide, 1,3-dimethyl-2-
Aprotic polar solvent such as imidazolidone, phenol
A phenol-based solvent such as phenol, cresol, xylenol or p-chlorophenol is used. In addition, benzene, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, methanol, ethanol, isopropanol, chloride Of the methylene, chloroform, trichloroethylene, tetrachloroethane, etc., those that dissolve the raw material monomer and the polyimide or the polyamic acid may be used, or even those that do not dissolve the raw material monomer and the polyimide or the polyamic acid, the solubility You may mix and use it in the range which does not impair.

【0033】また、ポリイミド及びその前駆体であるポ
リアミド酸はの固相反応又は300℃以下での溶融反応
などによっても製造できる。
The polyimide and its precursor polyamic acid can also be produced by a solid phase reaction or a melting reaction at 300 ° C. or lower.

【0034】また、、酸二無水物とジイソシアネ−トと
を反応させ、一般式化6で表されるポリイミドを製造す
るには、前記酸二無水物とジアミンとを反応させ直接ポ
リイミドを得る方法に準じて行うことができる。ただ
し、反応温度は室温以上、特に60℃以上であれば充分
である。
In order to produce a polyimide represented by the general formula (6) by reacting an acid dianhydride with a diisocyanate, the acid dianhydride is reacted with a diamine to directly obtain a polyimide. It can be performed according to. However, it is sufficient that the reaction temperature is room temperature or higher, particularly 60 ° C. or higher.

【0035】酸二無水物とその反応の相手は、ほぼ等モ
ルずつ反応させるのがもっとも好ましいが、いずれか一
方が10モル%まで、特に好ましくは5モル%まで過剰
となっていてもよい。
Most preferably, the acid dianhydride and its reaction partner are reacted in approximately equimolar amounts, but one of them may be in excess, up to 10 mol%, particularly preferably 5 mol%.

【0036】一般式化6で表されるポリイミドに配合す
るポリマレイミドとしては、次のような化合物があり、
これらは単独又は二種以上を混合して用いられる。
As the polymaleimide to be added to the polyimide represented by the general formula 6, there are the following compounds,
These may be used alone or in combination of two or more.

【0037】N,N’−(4,4’−ジフエニルメタ
ン)ビスマレイミド、N,N’−(4,4’−ジフェニ
ルオキシ)ビスマレイミド、N,N’−p−フェニレン
ビスマレイミド、N,N’−m−フェニレンビスマレイ
ミド、N,N’−2,4−トリレンビスマレイミド、
N,N’−2,6−トリレンビスマレイミド、N,N’
−エチレンビスマレイミド、N,N’−〔4,4’−
〔2,2’−ビス(4,4’−フェノキシフェニル)イ
ソプロピリデン〕〕ビスマレイミド、N,N’−〔4,
4’−〔2,2’−ビス(4,4’−フェノキシフェニ
ル)ヘキサフルオロイソプロビリデン〕〕ビスマレイミ
ド、N,N’−〔4,4’−ビス(3,5−ジメチルフ
ェニル)メタン〕ビスマレイミド、N,N’−〔4,
4’−ビス(3,5−ジエチルフェニル)メタン〕ビス
マレイミド、N,N’−〔4,4’−(3−メチル−5
−エチルフェニル)メタン〕ビスマレイミド、N,N’
−〔4,4−ビス(3,5−ジイソプロピルフェニル)
メタン〕ビスマレイミド、化15〜化20で表されるマ
レイミド。
N, N '-(4,4'-diphenylmethane) bismaleimide, N, N'-(4,4'-diphenyloxy) bismaleimide, N, N'-p-phenylene bismaleimide, N, N '-M-phenylene bismaleimide, N, N'-2,4-tolylene bismaleimide,
N, N'-2,6-tolylene bismaleimide, N, N '
-Ethylene bismaleimide, N, N '-[4,4'-
[2,2'-bis (4,4'-phenoxyphenyl) isopropylidene]] bismaleimide, N, N '-[4
4 '-[2,2'-bis (4,4'-phenoxyphenyl) hexafluoroisopropylidene]] bismaleimide, N, N'-[4,4'-bis (3,5-dimethylphenyl) methane ] Bismaleimide, N, N '-[4,
4′-bis (3,5-diethylphenyl) methane] bismaleimide, N, N ′-[4,4 ′-(3-methyl-5)
-Ethylphenyl) methane] bismaleimide, N, N '
-[4,4-bis (3,5-diisopropylphenyl)
Methane] bismaleimide, a maleimide represented by Chemical formulas 15 to 20.

【0038】[0038]

【化15】 [Chemical 15]

【0039】[0039]

【化16】 [Chemical 16]

【0040】[0040]

【化17】 [Chemical 17]

【0041】[0041]

【化18】 [Chemical 18]

【0042】[0042]

【化19】 [Chemical 19]

【0043】[0043]

【化20】 (化18式中、rは1以上の整数である。)[Chemical 20] (In the chemical formula 18, r is an integer of 1 or more.)

【0044】また、一般式化6で表されるポリイミドに
配合するエポキシ樹脂としては、エポキシ基を1分子あ
たり平均2個以上有する次のようなエポキシ化合物があ
り、これらは、単独又は二種以上を混合して用いられ
る。ビスフェノール系エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフ
ェノール系エポキシ樹脂、フェノールノボラック系エポ
キシ樹脂、ハロゲン化フェノールノボラック系エポキシ
樹脂、アルキルフェノールノボラック系エポキシ樹脂、
ポリフェノール系エポキシ樹脂、ポリグリコール系エポ
キシ樹脂、環状脂肪族系エポキシ樹脂。
Further, as the epoxy resin to be blended with the polyimide represented by the general formula 6, there are the following epoxy compounds having an average of two or more epoxy groups per molecule, and these may be used alone or in combination of two or more. Used as a mixture. Bisphenol-based epoxy resin, halogenated bisphenol-based epoxy resin, phenol novolac-based epoxy resin, halogenated phenol novolac-based epoxy resin, alkylphenol novolac-based epoxy resin,
Polyphenol epoxy resin, polyglycol epoxy resin, cycloaliphatic epoxy resin.

【0045】一般式化6で表されるポリイミドと熱硬化
性成分すなわちポリマレイミド及びエポキシ樹脂との混
合割合は、熱硬化性成分をポリイミドに対して10〜6
0重量%とするのが好ましく、さらに好ましい混合割合
は30〜50重量%である。熱硬化性成分が10重量%
より少ないと硬化が十分でなく、60重量%より多いと
樹脂組成物がもろくなって成形できなくなる。
The mixing ratio of the polyimide represented by the general formula 6 and the thermosetting component, that is, polymaleimide and epoxy resin, is 10 to 6 with respect to the polyimide.
It is preferably 0% by weight, and more preferably 30 to 50% by weight. 10% by weight of thermosetting component
If the amount is less, the curing will not be sufficient, and if the amount is more than 60% by weight, the resin composition will become brittle and cannot be molded.

【0046】熱硬化性成分中のポリマレイミドとエポキ
シ樹脂の割合は、任意であるが、本発明の樹脂組成物を
180℃以下で硬化させるために、好ましくは、エポキ
シ樹脂を20重量%以上とし、さらに好ましくは、エポ
キシ樹脂を40〜80重量%とする。
The ratio of the polymaleimide to the epoxy resin in the thermosetting component is optional, but in order to cure the resin composition of the present invention at 180 ° C. or lower, the epoxy resin is preferably 20% by weight or more. More preferably, the epoxy resin is 40 to 80% by weight.

【0047】ポリマレイミド及びエポキシ樹脂を180
℃以下で硬化反応させるために、必要により硬化剤及び
硬化促進剤を使用する。ポリマレイミドを硬化させるた
めの硬化剤としては、次に挙げるようなジアミンがあ
る。
180 of polymaleimide and epoxy resin
If necessary, a curing agent and a curing accelerator are used in order to carry out a curing reaction at a temperature of not higher than ° C. As the curing agent for curing the polymaleimide, there are the following diamines.

【0048】4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジア
ミノジフェニルスルホン、2,2−ビス〔4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕ブタン、2,2−ビス〔3−メチル−
4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,
2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕ブタン、2,2−ビス〔3,5−ジブ
ロモ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ブタ
ン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2
−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕エーテル、ビス〔4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル〕スルホン、4,4’−カルボニ
ルビス(p−フェニレンオキシ)ジアニリン、4,4’
−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、メタフェ
ニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン。
4,4'-diaminodiphenyl ether,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-methyl-4- (4- Aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [3-methyl-
4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,
2-bis [3,5-dimethyl-4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 1,1, 1,3,3,3-hexafluoro-2,2
-Bis [3-methyl-4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4 -(3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 4,4'-carbonylbis (p-phenyleneoxy) dianiline, 4,4 '
-Bis (4-aminophenoxy) biphenyl, metaphenylenediamine, hexamethylenediamine, tetramethylenediamine.

【0049】これらのうちでは、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパンが好まし
い。必要ならば、上記ジアミンの混合物を用いてもよ
い。
Among these, 2,2-bis [4-
(4-Aminophenoxy) phenyl] propane is preferred. Mixtures of the above diamines may be used if desired.

【0050】ポリマレイミドの硬化促進剤としては、次
に挙げるようなパ−オキシド類がある。
The curing accelerators for polymaleimide include the following peroxides.

【0051】t−ブチルハイドロパーオキシド、キュメ
ンハイドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンハイ
ドロ−オキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド、t−ブ
チルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘ
キサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパ
ーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3。
T-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydro-oxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,
5-Dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (t- Butylperoxy) hexyne-3.

【0052】これらのうちではジクミルパーオキシドが
好ましい。
Of these, dicumyl peroxide is preferred.

【0053】エポキシ樹脂の硬化剤としては、ジシアン
ジアミド、ポリフェノ−ル類及び酸無水物等一般的にエ
ポキシ樹脂の硬化剤として使用されるものであればよ
く、特に限定されない。また、硬化促進剤も2−メチル
イミダゾール、2−メチル−4−エチルイミダゾール、
2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダ
ゾール等のイミダゾール類及びそれらの誘導体やジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン等のアミン類、BF3−アミン錯体
などが使用でき、特に限定されない。
The epoxy resin curing agent is not particularly limited as long as it is one generally used as an epoxy resin curing agent such as dicyandiamide, polyphenols and acid anhydrides. Further, the curing accelerator is also 2-methylimidazole, 2-methyl-4-ethylimidazole,
Imidazoles such as 2-undecylimidazole and 2-heptadecylimidazole and their derivatives, diethylamine, triethylamine, monoethanolamine,
Amines such as diethanolamine, BF 3 -amine complex and the like can be used and are not particularly limited.

【0054】本発明の樹脂組成物は、あらかじめシ−ト
状に成形しておき、シ−ト状接着剤として用いると便宜
である。また、本発明の樹脂組成物をガラス布、ガラス
マット、芳香族ポリアミド繊維布、芳香族ポリアミド繊
維マットなどにワニスとして含浸し、樹脂を半硬化させ
て繊維強化型のシ−ト状接着剤として用いることもでき
る。
It is convenient that the resin composition of the present invention is molded into a sheet beforehand and used as a sheet adhesive. Further, the resin composition of the present invention is impregnated into a glass cloth, a glass mat, an aromatic polyamide fiber cloth, an aromatic polyamide fiber mat, etc. as a varnish, and the resin is semi-cured to form a fiber-reinforced sheet adhesive. It can also be used.

【0055】本発明の樹脂組成物をワニスとし、そのま
ま被着物に塗布、乾燥し、他の被着物と加熱加圧して接
着してもよい。温度100〜250℃、圧力0.1〜1
0MPaで20分以上で加熱加圧するのが好ましい。特
に、温度150〜200℃、圧力1〜3MPaで60〜
90分間加熱加圧するのがより好ましい。
The resin composition of the present invention may be used as a varnish, which may be applied to an adherend as it is, dried, and heated and pressed to adhere to another adherend. Temperature 100-250 ° C, Pressure 0.1-1
It is preferable to heat and pressurize at 0 MPa for 20 minutes or more. Particularly, at a temperature of 150 to 200 ° C. and a pressure of 1 to 3 MPa, 60 to
It is more preferable to heat and press for 90 minutes.

【0056】本発明の樹脂組成物をワニスとし、このワ
ニスをポリイミドフィルムの片面または両面に塗布し乾
燥した接着剤層付ポリイミドフィルムは、これと金属は
くとを重ね合わせて加熱加圧してフレキシブル印刷回路
用基板、TAB用テ−プなどを製造するのに有用であ
る。また、両面接着剤層付ポリイミドフィルムを印刷回
路基板どうし又は印刷回路基板と金属はく、例えば銅は
く、アルミはく、42合金はくなどと接着し、薄膜多層
回路基板や金属複合基板などを製造できる。
The resin composition of the present invention is used as a varnish, and the varnish is applied to one side or both sides of a polyimide film and dried to obtain a polyimide film with an adhesive layer. It is useful for manufacturing printed circuit boards, TAB tapes, and the like. In addition, a polyimide film with a double-sided adhesive layer is adhered to printed circuit boards or to a printed circuit board and a metal foil, for example, a copper foil, an aluminum foil, or a 42 alloy foil, to form a thin film multilayer circuit board or a metal composite board. Can be manufactured.

【0057】本発明の接着剤ワニスを片面金属はく張り
ポリイミドフィルムの金属はくの張ってないポリイミド
フィルム面に塗布乾燥させた接着剤層付片面金属はく張
りポリイミドフィルムは、これとフレキシブル印刷回路
基板や42合金はくと加熱加圧着することにより薄膜多
層回路基板や複合リードフレームなどの製造に特に有用
である。
The adhesive varnish of the present invention is coated on one side with a metal foil, and the polyimide film is coated on the surface of the polyimide film with no metal foil stretched. It is particularly useful for manufacturing a thin film multilayer circuit board, a composite lead frame and the like by heating and pressing the circuit board and 42 alloy foil.

【0058】[0058]

【実施例】【Example】

実施例1 温度計、撹拌器、窒素導入管および冷却管を取り付けた
4口フラスコに、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル)スルフォン162g(0.375mol)と
4,4’−メチレンビス(2,6−ジイソプロピルアニ
リン)9.15g(0.025mol)及びω,ω’−
ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン
(nの平均15.6、平均分子量1592)159.2
g(0.1mol)を入れ、窒素雰囲気下でN,N−ジ
メチルホルムアミドとジエチレングリコールジメチルエ
ーテルの2/1(重量比)の混合溶媒991gを加えて
溶解した。この溶液に3,3’,4,4−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物161g(0.5mol)
を温度が30℃を越えないように注意しながら加えた。
Example 1 A four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introducing tube and a cooling tube was charged with bis (4- (3-aminophenoxy)).
162 g (0.375 mol) of phenyl) sulfone and 9.15 g (0.025 mol) of 4,4′-methylenebis (2,6-diisopropylaniline) and ω, ω′-
Bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane (n average 15.6, average molecular weight 1592) 159.2
g (0.1 mol) was added, and 991 g of a mixed solvent of N, N-dimethylformamide and diethylene glycol dimethyl ether at a ratio of 2/1 (weight ratio) was added and dissolved in a nitrogen atmosphere. To this solution was added 161 g (0.5 mol) of 3,3 ′, 4,4-benzophenonetetracarboxylic dianhydride.
Was added, taking care that the temperature does not exceed 30 ° C.

【0059】その後室温で3時間撹拌し、N,N−ジメ
チルホルムアミド330gを加えて希釈した後、無水酢
酸128g及びピリジン99gを加え、引き続き、30
℃で5時間撹拌した。得られた反応液をメタノール中に
投入して、重合体を単離した。単離した重合体を、アセ
トン中で30分間還流して精製し、減圧下で乾燥した。
Thereafter, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours, 330 g of N, N-dimethylformamide was added to dilute, 128 g of acetic anhydride and 99 g of pyridine were added, and then 30
The mixture was stirred at 0 ° C for 5 hours. The obtained reaction solution was poured into methanol to isolate the polymer. The isolated polymer was purified by refluxing in acetone for 30 minutes and dried under reduced pressure.

【0060】得られた重合体粉末20gと臭素化ビスフ
ェノール系エポキシ樹脂5g、ビスマレイミドジアミノ
ジフェニルメタン5g、ジシアンアミド0.15g、2
−エチル−4−メチルイミダゾール0.052g及びジ
クミルパーオキシド0.75gをN,N−ジメチルホル
ムアミド90gに溶解してワニスとした。
20 g of the obtained polymer powder, 5 g of brominated bisphenol epoxy resin, 5 g of bismaleimidediaminodiphenylmethane, 0.15 g of dicyanamide, 2
0.052 g of -ethyl-4-methylimidazole and 0.75 g of dicumyl peroxide were dissolved in 90 g of N, N-dimethylformamide to form a varnish.

【0061】得られたワニスをガラス板上に流延し、1
00℃で10分間乾燥後、ガラス板から引きはがし、鉄
わくに固定し、150℃で20分間乾燥し、厚み25μ
mのシートを得た。得られたシート2枚の外側に厚み3
5μmの銅はくを配し、温度180℃、圧力3MPaで
60分間加熱加圧し、両面銅張りフレキシブル積層板を
得た。
The resulting varnish was cast on a glass plate and
After drying at 00 ° C for 10 minutes, peel it from the glass plate, fix it on an iron frame, and dry at 150 ° C for 20 minutes, thickness 25μ.
m sheets were obtained. Thickness 3 on the outside of the two sheets obtained
A copper foil having a thickness of 5 μm was placed and heated and pressed at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 3 MPa for 60 minutes to obtain a double-sided copper-clad flexible laminate.

【0062】実施例2 実施例1で得られたワニスを片面銅張りポリイミドフィ
ルムのフィルム面に塗布し、100℃で10分間、続い
て150℃で20分間加熱して厚み10μmの接着剤層
を設けた。得られた接着剤層付片面銅張りポリイミドフ
ィルム2枚を接着剤層面を合わせて、温度180℃、圧
力3MPaで60分間加熱加圧し、両面銅張りフレキシ
ブル積層板とした。
Example 2 The varnish obtained in Example 1 was applied to the film surface of a single-sided copper-clad polyimide film and heated at 100 ° C. for 10 minutes and then at 150 ° C. for 20 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 10 μm. Provided. The obtained two single-sided copper-clad polyimide films with adhesive layers were bonded together with the adhesive layer surfaces and heated and pressed at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 3 MPa for 60 minutes to obtain a double-sided copper-clad flexible laminate.

【0063】実施例3 実施例1で得られたワニスを厚み75μmのポリイミド
フィルム片面に塗布して、100℃で10分間、続いて
150℃で20分間加熱して厚み20μmの接着剤層を
形成した。
Example 3 The varnish obtained in Example 1 was applied to one surface of a polyimide film having a thickness of 75 μm and heated at 100 ° C. for 10 minutes and then at 150 ° C. for 20 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 20 μm. did.

【0064】得られた接着剤層付き片面ポリイミドフィ
ルムと35μm銅はくを温度180℃シリンダー圧力
0.5MPa、速度1m/分の条件でロールラミネータ
ーにより張り合わせた。その後温度180℃の乾燥機中
で60分間硬化させ、片面銅張りポリイミドフィルムを
得た。
The obtained one-sided polyimide film with an adhesive layer and a 35 μm copper foil were laminated by a roll laminator under the conditions of a temperature of 180 ° C., a cylinder pressure of 0.5 MPa and a speed of 1 m / min. Then, it was cured for 60 minutes in a dryer at a temperature of 180 ° C. to obtain a single-sided copper-clad polyimide film.

【0065】実施例4 温度計、撹拌器、窒素導入管および冷却管を取り付けた
4口フラスコに、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル)プロパン82g(0.2mol)と4,4’
−メチレンビス(2,6−ジイソプロピルアニリン)5
4.9g(0.15mol)及びω,ω’−ビス(3−
アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン(nの平均
8.4、平均分子量880)132g(0.15mo
l)を入れ、窒素雰囲気下でN,N−ジメチルホルムア
ミドとジエチレングリコールジメチルエーテルの2/1
(重量比)の混合溶媒747gを加えて溶解した。この
溶液に3,3’,4,4−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物161g(0.5mol)を温度が30℃
を越えないように注意しながら加えた。
Example 4 Bis (4- (3-aminophenoxy)) was placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introducing tube and a cooling tube.
Phenyl) propane 82g (0.2mol) and 4,4 '
-Methylenebis (2,6-diisopropylaniline) 5
4.9 g (0.15 mol) and ω, ω'-bis (3-
Aminopropyl) polydimethylsiloxane (n average 8.4, average molecular weight 880) 132g (0.15mo
1), and under a nitrogen atmosphere, 2/1 of N, N-dimethylformamide and diethylene glycol dimethyl ether.
747 g of mixed solvent (weight ratio) was added and dissolved. To this solution was added 161 g (0.5 mol) of 3,3 ′, 4,4-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride at a temperature of 30 ° C.
It was added while being careful not to exceed the limit.

【0066】その後室温で3時間撹拌し、N,N−ジメ
チルホルムアミド249gを加えて希釈した後、無水酢
酸128g及びピリジン99gを加え、引き続き、30
℃で5時間撹拌した。得られた反応液をメタノール中に
投入して、重合体を単離した。単離した重合体を、アセ
トン中で30分間還流して精製し、減圧下で乾燥した。
Then, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours, diluted with 249 g of N, N-dimethylformamide, then added with 128 g of acetic anhydride and 99 g of pyridine, and then with 30
The mixture was stirred at 0 ° C for 5 hours. The obtained reaction solution was poured into methanol to isolate the polymer. The isolated polymer was purified by refluxing in acetone for 30 minutes and dried under reduced pressure.

【0067】得られた重合体粉末22gとビスフェノー
ル系エポキシ樹脂3g、ビスマレイミドジアミノジフェ
ニルメタン5g、ジシアンアミド0.09g、2−エチ
ル−4−メチルイミダゾール0.024g及びジクミル
パーオキシド0.75gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド90gに溶解してワニスとした。
22 g of the obtained polymer powder, 3 g of a bisphenol epoxy resin, 5 g of bismaleimidediaminodiphenylmethane, 0.09 g of dicyanamide, 0.024 g of 2-ethyl-4-methylimidazole and 0.75 g of dicumyl peroxide were added to N, A varnish was prepared by dissolving 90 g of N-dimethylformamide.

【0068】得られたワニスをガラス板上に流延し、1
00℃で10分間乾燥後、ガラス板から引きはがし、鉄
わくに固定し、150℃で20分間乾燥し、厚み25μ
mのシートを得た。得られたシート2枚の外側に厚み3
5μmの銅はくを配し、温度180℃、圧力3MPaで
60分間加熱加圧し、両面銅張りフレキシブル積層板を
得た。
The obtained varnish was cast on a glass plate, and 1
After drying at 00 ° C for 10 minutes, peel it from the glass plate, fix it on an iron frame, and dry at 150 ° C for 20 minutes, thickness 25μ.
m sheets were obtained. Thickness 3 on the outside of the two sheets obtained
A copper foil having a thickness of 5 μm was placed and heated and pressed at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 3 MPa for 60 minutes to obtain a double-sided copper-clad flexible laminate.

【0069】実施例5 実施例4で得られたワニスを片面銅張りポリイミドフィ
ルムのフィルム面に塗布し、100℃で10分間、続い
て150℃で20分間加熱して厚み10μmの接着剤層
を設けた。得られた接着剤層付片面銅張りポリイミドフ
ィルム2枚を接着剤層面を合わせて、温度180℃、圧
力3MPaで60分間加熱加圧し、両面銅張りフレキシ
ブル積層板とした。
Example 5 The varnish obtained in Example 4 was applied to the film surface of a single-sided copper-clad polyimide film and heated at 100 ° C. for 10 minutes and then at 150 ° C. for 20 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 10 μm. Provided. The obtained two single-sided copper-clad polyimide films with adhesive layers were bonded together with the adhesive layer surfaces and heated and pressed at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 3 MPa for 60 minutes to obtain a double-sided copper-clad flexible laminate.

【0070】実施例6 実施例4で得られたワニスを厚み75μmのポリイミド
フィルム片面に塗布して、100℃で10分間、続いて
150℃で20分間加熱して厚み20μmの接着剤層を
形成した。
Example 6 The varnish obtained in Example 4 was applied to one surface of a polyimide film having a thickness of 75 μm and heated at 100 ° C. for 10 minutes and then at 150 ° C. for 20 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 20 μm. did.

【0071】得られた接着剤層付き片面ポリイミドフィ
ルムと35μm銅はくを温度180℃シリンダー圧力
0.5MPa、速度1m/分の条件でロールラミネータ
ーにより張り合わせた。その後温度180℃の乾燥機中
で60分間硬化させ、片面銅張りポリイミドフィルムを
得た。
The obtained one-sided polyimide film with an adhesive layer and a 35 μm copper foil were bonded together by a roll laminator under the conditions of a temperature of 180 ° C., a cylinder pressure of 0.5 MPa and a speed of 1 m / min. Then, it was cured for 60 minutes in a dryer at a temperature of 180 ° C. to obtain a single-sided copper-clad polyimide film.

【0072】以上の各実施例で得られたフレキシブル積
層板及び片面銅張りポリイミドフィルムについて、引き
はがし強さとはんだ耐熱性(288℃のはんだ浴に1分
間浮かべた後の外観)を調べた。その結果を、表1及び
表2に示す。
The peel strength and solder heat resistance (appearance after floating in a solder bath at 288 ° C. for 1 minute) were examined for the flexible laminate and the one-sided copper-clad polyimide film obtained in each of the above examples. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0073】[0073]

【表1】 [Table 1]

【0074】[0074]

【表2】 [Table 2]

【0075】比較例1 市販のアクリル系接着シートを用いて実施例1と同様の
構成及び同条件で加熱加圧し、両面同張りフレキシブル
積層板を得た。このフレキシブル積層板の室温における
引きはがし強さは2.2kN/mであったが、150℃
における引きはがし強さは0.5kN/mに低下した。
また288℃のはんだ浴に1分間浮かべた後に、ふくれ
を生じた。
Comparative Example 1 A commercially available acrylic adhesive sheet was used and heated and pressed under the same structure and under the same conditions as in Example 1 to obtain a double-sided flexible laminate. The peel strength of this flexible laminate at room temperature was 2.2 kN / m, but it was 150 ° C.
The peeling strength in No. 1 decreased to 0.5 kN / m.
Moreover, after floating in a solder bath at 288 ° C. for 1 minute, blistering occurred.

【0076】比較例2 市販のエポキシ系接着シートを用いて実施例1と同様の
構成及び同条件で加熱加圧し、両面同張りフレキシブル
積層板を得た。このフレキシブル積層板の室温における
引きはがし強さは1.9kN/mであったが、150℃
における引きはがし強さは0.9kN/mに低下した。
また288℃のはんだ浴に1分間浮かべた後に、ふくれ
を生じた。
Comparative Example 2 A commercially available epoxy adhesive sheet was used and heated and pressed under the same structure and under the same conditions as in Example 1 to obtain a double-sided same-stretch flexible laminate. The peel strength of this flexible laminate at room temperature was 1.9 kN / m, but it was 150 ° C.
The peeling strength in No. 1 fell to 0.9 kN / m.
Moreover, after floating in a solder bath at 288 ° C. for 1 minute, blistering occurred.

【0077】比較例3 市販のポリイミド系接着シートを用いて実施例1と同様
の構成及び条件で加熱加圧したが、接着せず両面フレキ
シブル積層板を得られなかった。
Comparative Example 3 A commercially available polyimide-based adhesive sheet was used and heated and pressed under the same constitution and conditions as in Example 1, but no double-sided flexible laminated plate was obtained due to no adhesion.

【0078】[0078]

【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、接着剤
として使用するときに、180℃程度の温度で接着でき
る。従来の耐熱性接着剤と異なり、接着に高温を要せ
ず、ロールツーロールでの張り合わせも可能で、取り扱
い易い。しかも、高温まで優れた接着力を有する。ま
た、あらかじめ、シート状に加工しておくこともでき
る。さらに、溶剤に可溶であるので、あらかじめ被着体
に塗布して、他の被着体と接着させることもできる。
The thermosetting resin composition of the present invention can be adhered at a temperature of about 180 ° C. when used as an adhesive. Unlike conventional heat-resistant adhesives, it does not require high temperatures for adhesion, and roll-to-roll bonding is possible, making it easy to handle. Moreover, it has excellent adhesive strength even at high temperatures. Further, it can be processed into a sheet shape in advance. Furthermore, since it is soluble in a solvent, it can be applied to an adherend in advance and adhered to another adherend.

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年7月15日[Submission date] July 15, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0043[Correction target item name] 0043

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0043】[0043]

【化20】 (化20式中、rは1以上の整数である。)[Chemical 20] (In the chemical formula 20, r is an integer of 1 or more.)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JHX JJA JKA JKD 163/00 JFP 179/08 JGE H05K 1/03 D 7011−4E 3/38 E 7011−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Internal reference number FI Technical display location C09J 7/02 JHX JJA JKA JKD 163/00 JFP 179/08 JGE H05K 1/03 D 7011-4E 3 / 38 E 7011-4E

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式化1で表される構成単位を含むポ
リイミド、一般式化5で表されるポリマレイミド及びエ
ポキシ樹脂を含有することを特徴とする耐熱性熱硬化性
樹脂組成物。 【化1】 (一般式化1中、Arは、一般式化2、化3又は化4で
表される基であり、一般式化2で表される基が1〜40
モル%、一般式化3及び化4で表される基が99〜60
モル%である) 【化2】 (一般式化2中、Rは2価の炭化水素残基を示し、
1、R2、R3、及びR4は、低級アルキル基又はフェニ
ル基を示し、lは5〜30の整数を示す) 【化3】 (一般式化3中、Zは、−C(=O)−、−SO2−、
−O−、−S−、−(CH2m−、−NHC(=O)
−、−C(CH32−、−C(CF32−、−C(=
O)O−又は結合を示し、n及びmは1以上の整数であ
り、複数個のZはそれぞれ同一でも異なっていてもよ
く、各ベンゼン環の水素は置換基で適宜置換されていて
もよい) 【化4】 (一般式化4中、R5、R6、R7、及びR8は、それぞれ
独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはアル
コキシ基を示し、これらのうち少なくとも2個以上はア
ルキル基又はアルコキシ基であり、Xは−CH2−、−
C(CH32−、−O−、−SO2−、−C(=O)
−、−NHC(=O)−を示す) 【化5】 (一般式化5中、kは2以上の整数であり、R9はk価
の炭素数2以上の基を示す)
1. A heat-resistant thermosetting resin composition comprising a polyimide containing a constitutional unit represented by the general formula 1, a polymaleimide represented by the general formula 5, and an epoxy resin. [Chemical 1] (In General Formula 1, Ar is a group represented by General Formula 2, Chemical Formula 3, or Chemical Formula 4, and the group represented by General Formula 2 is 1 to 40.
Mol%, the groups represented by the general formulas 3 and 4 are 99 to 60
Mol%) (In the general formula 2, R represents a divalent hydrocarbon residue,
R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 represent a lower alkyl group or a phenyl group, and l represents an integer of 5 to 30) (In general formalized 3, Z is, -C (= O) -, - SO 2 -,
-O -, - S -, - (CH 2) m -, - NHC (= O)
-, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - C (=
O) represents O— or a bond, n and m are integers of 1 or more, a plurality of Zs may be the same or different, and hydrogen of each benzene ring may be appropriately substituted with a substituent. ) [Chemical 4] (In the general formula 4, R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent hydrogen or an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, at least two of which are alkyl groups. Or an alkoxy group, X is —CH 2 —, —
C (CH 3) 2 -, - O -, - SO 2 -, - C (= O)
-, -NHC (= O)-is shown) (In the general formula 5, k is an integer of 2 or more, and R 9 represents a k-valent group having 2 or more carbon atoms.)
【請求項2】 請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物をシ
−ト状にした接着剤シ−ト。
2. An adhesive sheet comprising the thermosetting resin composition according to claim 1 as a sheet.
【請求項3】 ポリイミドフィルムの片面又は両面に請
求項1記載の熱硬化性樹脂組成物からなる接着剤層を設
けた接着剤付ポリイミドフィルム。
3. An adhesive-attached polyimide film having an adhesive layer made of the thermosetting resin composition according to claim 1 on one side or both sides of a polyimide film.
【請求項4】 ポリイミドフィルムの片面に金属はくを
張り、他の面に請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物から
なる接着剤層を設けた片面金属はく張りポリイミドフィ
ルム。
4. A single-sided metal-clad polyimide film, wherein a polyimide film is provided with a metal foil on one side and an adhesive layer made of the thermosetting resin composition according to claim 1 is provided on the other side.
【請求項5】 ポリイミドフィルムの片面又は両面に請
求項1記載の樹脂組成物を接着剤として金属はくを張り
合わせてなる金属はく張りポリイミドフィルム。
5. A metal-clad polyimide film obtained by laminating a metal foil with the resin composition according to claim 1 as an adhesive on one side or both sides of a polyimide film.
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