JP2002359273A - Opener for wafer transfer container - Google Patents

Opener for wafer transfer container

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JP2002359273A
JP2002359273A JP2001166762A JP2001166762A JP2002359273A JP 2002359273 A JP2002359273 A JP 2002359273A JP 2001166762 A JP2001166762 A JP 2001166762A JP 2001166762 A JP2001166762 A JP 2001166762A JP 2002359273 A JP2002359273 A JP 2002359273A
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JP
Japan
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door
opener
hoop
opening
wafer transfer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001166762A
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Japanese (ja)
Inventor
Takehide Hayashi
武秀 林
Minoru Iwabuchi
稔 岩渕
Go Onodera
郷 小野寺
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Dynamics Kk
Original Assignee
Dynamics Kk
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Publication date
Application filed by Dynamics Kk filed Critical Dynamics Kk
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  • Closures For Containers (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an opener for solving the problem of the disturbance of an air current possibly causing raising of dust by the opening operation of the door of a hoop and of containing wafers stores in the hoop. SOLUTION: The opener is provided with a fitting frame fitted to a box B for EFEM 400, a hoop-placing part 3 on which the hoop 100 is placed, a door-holding part 4 for opening/closing the door 102 of the hoop 100 and holding the door 101, a slidingly elevating part 5 for sliding the door holding part 4 and raising and lowering it and a driving part 6 which is stored below the placing part 3 and drives the slidingly elevating part 5. The opener 1 which is thus constituted constitutes the opening/closing mechanism part 7 of the door, so that raising dust when the door 101 is opened can be suppressed and controls operation, in such a way that the door is opened by successively speeding it up and the door is closed at a prescribed speed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所定径のウェハー
を密封状態で搬送するウェハー搬送容器の開閉蓋を開閉
するオープナー関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an opener for opening and closing a lid of a wafer transfer container for transferring a wafer having a predetermined diameter in a sealed state.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体工場では、ウェハーに作り込む回
路線幅の微細化に比例するように、工場の自動化(Fa
ctory Automation,FA)が進んでい
る。このFA化において、処理プロセスの工程間及び工
程内のウェハー搬送を担う機器の1つが、ウェハー搬送
容器としてのFoup(Front opening
unified pod,以下フープという)である。
2. Description of the Related Art In a semiconductor factory, factory automation (Fa) is performed in proportion to the miniaturization of the circuit line width formed on a wafer.
Entry Automation (FA) is in progress. In this FA, one of the equipments for transporting wafers between and within processing steps is a Foop (Front opening) as a wafer transport container.
unified pod (hereinafter, referred to as a hoop).

【0003】フープは、クリーンエリアの局所化を図る
ミニエンバイロメントの要請に応えるもので、フープ本
体は開閉蓋(以下、ドアともいう)により密封可能であ
って、フープ本体の内部にはウェハーのエッジを支える
サポート部が設けられ、例えば25枚の300mmウェ
ハーが所定ピッチ間隔で水平方向に配置できるようにな
っている。
A hoop responds to the demand for a mini-environment for localizing a clean area. The hoop main body can be sealed with an opening / closing lid (hereinafter, also referred to as a door), and the inside of the hoop main body has a wafer. A support portion for supporting the edge is provided, so that, for example, 25 300 mm wafers can be arranged in a horizontal direction at a predetermined pitch interval.

【0004】前記フープにより搬送されるウェハーの処
理プロセスへの受渡しは、図11に示したように、フー
プ100のドア101の自動開閉を行う複数台のオープ
ナー200,200・・・と、ウェハーを移載するロボ
ット300等を備えたEFEM(Equipment
Front End Module)400を介して行
われる。
As shown in FIG. 11, a plurality of openers 200, 200... For automatically opening and closing a door 101 of a hoop 100 and a wafer are transferred to the processing process of the wafer conveyed by the hoop. EFEM (Equipment) equipped with a robot 300 to be transferred
Front End Module) 400.

【0005】即ち、図12に示したように、前記EFE
M400は、そのボックスBを搬送路500と処理装置
600間に設置し、RGVやAGV等により搬送された
前記フープ100は前記オープナー200により、その
ドア101が開閉される。そして、フープ100内部に
収容されたウェハー700は、その有無等を走査するマ
ッピング、オリフラ位置合わせの後、ロボット300に
より処理装置600に受渡される。なお、図11の符号
「401」は、半導体工場のCIM(Computer
Integrated Manufacturing)
システムを構成するEFEM制御装置である。また、図
12の符号「402」は前記ボックスB内を高クリーン
度に保つためのファンフィルタユニット(FFU)、同
「403」は前記ボックスBの床面の長手方向に配置さ
れた走行台、「404」は前記ロボット300を取付け
て、前記走行台403に沿って移動する移動台である。
That is, as shown in FIG.
In the M400, the box B is installed between the transport path 500 and the processing device 600, and the hoop 100 transported by RGV, AGV or the like is opened and closed by the opener 200 of the hoop 100. Then, the wafer 700 accommodated in the hoop 100 is transferred to the processing apparatus 600 by the robot 300 after mapping for scanning the presence or absence of the wafer 700 and alignment of the orientation flat. Note that reference numeral “401” in FIG. 11 denotes a CIM (Computer) of a semiconductor factory.
Integrated Manufacturing)
This is an EFEM control device that constitutes the system. 12, reference numeral "402" denotes a fan filter unit (FFU) for keeping the inside of the box B at a high degree of cleanliness, and reference numeral "403" denotes a traveling platform arranged in the longitudinal direction of the floor of the box B. “404” is a moving platform to which the robot 300 is attached and moves along the traveling platform 403.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記オ
ープナー200に関し、次のような課題が顕在化してき
た。第1点は、前記フープ100のドア101の開動作
により、発塵の原因となる気流の乱れがおこり、フープ
100に収容されているウェハー700を汚すおそれが
あること、第2点は、前記処理装置600による処理
後、フープ100に収容されたウェハー700のマッピ
ングが行われておらず、処理前後のウェハー枚数の不一
致等が生じた場合に、適切、且つ、迅速な対処ができな
かったこと、第3点は、前記オープナー200により開
放されたドア101は、後述のように前記ボックスB内
において昇降されるが、その昇降に用いられる駆動源に
よっては発塵の原因になっていたこと、また昇降を駆動
源のみで行っていたため、滑らかな昇降動作の制御が困
難であったこと等である。
However, with respect to the opener 200, the following problems have become apparent. The first point is that the opening operation of the door 101 of the hoop 100 causes turbulence in the airflow which causes dust, and there is a possibility that the wafer 700 accommodated in the hoop 100 may be contaminated. After processing by the processing apparatus 600, the mapping of the wafers 700 accommodated in the hoop 100 has not been performed, and when the number of wafers before and after the processing did not match, appropriate and prompt measures could not be taken. The third point is that the door 101 opened by the opener 200 is moved up and down in the box B as described later, but it has caused dust generation depending on a drive source used for the elevation. In addition, since the lifting / lowering was performed only by the driving source, it was difficult to control a smooth lifting / lowering operation.

【0007】そこで、本発明は、これらの課題を解決で
きるオープナーを提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an opener that can solve these problems.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るオープナーは、ウェハー搬送容器から
の開閉蓋の開放は漸次速度を上げて行い、前記ウェハー
搬送容器への開閉蓋の閉鎖は所定速度で行なうことを特
徴とする(請求項1に記載の発明)。
In order to solve the above-mentioned problems, an opener according to the present invention opens an opening / closing lid from a wafer transfer container at a gradually increasing speed, and closes the opening / closing cover to the wafer transfer container. Is performed at a predetermined speed (the invention according to claim 1).

【0009】この発明によれば、ウェハー搬送容器から
の開閉蓋の開放は漸次速度を上げて行なわれるので、ウ
ェハー搬送容器内の気圧とその開閉蓋が開放されて、ウ
ェハー搬送容器が臨む空間の気圧が相違していても、除
除に圧力の均衡を図ることができる。よって、ウェハー
搬送容器内に気流が吸込まれる等で気流の乱れが生じる
ことを避けることができる。
According to the present invention, since the opening and closing of the opening / closing lid from the wafer transfer container is performed at a gradually increasing speed, the pressure in the wafer transfer container and the opening / closing cover are opened, and the space in the space where the wafer transfer container faces is opened. Even if the air pressure is different, the pressure can be balanced for removal. Therefore, it is possible to prevent the airflow from being disturbed due to the airflow being sucked into the wafer transfer container.

【0010】上記発明において、前記ウェハー搬送容器
に収容したウェハーのマッピングは、前記開閉蓋の開放
後にその開閉蓋を下降させるとき及び前記開閉蓋の閉鎖
前にその開閉蓋を上昇させるときに行なうことを特徴と
する(請求項2に記載の発明)。即ち、ウェハーの処理
の前後にマッピングを行なうので、ウェハーの枚数の不
一致等を検出することができる。
In the above invention, the mapping of the wafer accommodated in the wafer transfer container is performed when the open / close lid is lowered after the open / close lid is opened and when the open / close lid is raised before closing the open / close lid. (The invention according to claim 2). That is, since the mapping is performed before and after the processing of the wafer, it is possible to detect a mismatch in the number of wafers.

【0011】上記発明において、前記開閉蓋の開放後及
び閉鎖前にその開閉蓋を昇降させる昇降部とその駆動部
間に、バランサ機構を取付けたことを特徴とする(請求
項3に記載の発明)。この発明によれば、昇降にバラン
サ機構が介在するので、昇降部の滑らかな昇降動作が可
能となる。
In the above invention, a balancer mechanism is mounted between a lifting / lowering unit for raising / lowering the opening / closing lid and a driving unit after the opening / closing lid is opened and before the closing thereof (the invention according to claim 3). ). According to the present invention, since the balancer mechanism is interposed in the elevating operation, the elevating unit can perform a smooth elevating operation.

【0012】上記発明において、前記バランサ機構は、
チェックバルブを設けたロッドレスシリンダからなるこ
とを特徴とする(請求項4に記載の発明)。ロッドレス
シリンダは、エアの供給を必要とする駆動手段としてで
はなく、チェックバルブによりショックアブソーバのよ
うに機能するもので、発塵の原因となることはない。ま
た、前記バランサ機構は、真空エアによるロッドレスシ
リンダであってもよい(請求項5に記載の発明)。真空
エアによればエアの出入が無いので、発塵効果を高める
ことができる。
In the above invention, the balancer mechanism comprises:
A rodless cylinder provided with a check valve is provided (the invention according to claim 4). The rodless cylinder functions as a shock absorber by a check valve, not as a driving means that requires air supply, and does not cause dust generation. Further, the balancer mechanism may be a rodless cylinder using vacuum air (the invention according to claim 5). According to the vacuum air, since there is no inflow / outflow of air, the dust generation effect can be enhanced.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】上記各発明の実施の形態につい
て、図面に基づいて説明する。図1は実施形態に係るオ
ープナーの正面図、図2は同オープナーの側面図であ
る。これらの各図、前述及び後述の各図において、同一
の構成については、同一の符号を付して、重複した説明
を省略する。
Embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a front view of the opener according to the embodiment, and FIG. 2 is a side view of the opener. In these drawings and the drawings described above and below, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0014】実施形態に係るオープナー1は、前記EF
EM400用のボックスBに取付けられる取付枠2と、
フープ100を載置するフープ載置部3と、フープ10
0のドア101を開閉し、且つ、そのドア101を保持
するドア保持部4と、ドア保持部4を左右方向(図2の
図面上)にスライドさせ、且つ、昇降させる昇降部とし
てのスライド昇降部5と、前記載置部3の下方に収容さ
れ、前記スライド昇降部5を駆動する駆動部6からな
る。
The opener 1 according to the embodiment includes the EF
An attachment frame 2 attached to a box B for EM400,
A hoop placement section 3 on which the hoop 100 is placed, and a hoop 10
0, a door holding unit 4 that opens and closes the door 101, and holds the door 101; and a sliding elevating unit that slides the door holding unit 4 in the left-right direction (on the drawing in FIG. 2) and moves up and down. The slide unit 5 includes a drive unit 6 that is accommodated below the placement unit 3 and drives the slide lifting unit 5.

【0015】前記フープ載置部3には、フープ100の
位置決用のキネマティックカプリングを可能にする3つ
の突起(図示せず)が設けられている。
The hoop mounting portion 3 is provided with three projections (not shown) that enable kinematic coupling for positioning the hoop 100.

【0016】前記ドア保持部4には、フープ100のド
ア101を開閉するため、ドア101側の位置決め用孔
に挿入される位置決めピン40と、ドア101側のラッ
チキー用孔に挿入され、ドア101をラッチするラッチ
キー41が設けられている。
In order to open and close the door 101 of the hoop 100, a positioning pin 40 inserted into the positioning hole of the door 101 and a latch key hole inserted into the door Is provided.

【0017】このように構成されたオープナー1の特徴
の1つは、前記ドア101の開放の際の発塵等を抑える
ことできるように、ドアの開閉機構部を構成すると共
に、その動作を制御することである。
One of the features of the opener 1 configured as described above is to configure a door opening / closing mechanism and control its operation so as to suppress dust generation when the door 101 is opened. It is to be.

【0018】図3及び図4に示したように、前記ドア開
閉機構7は、前記スライド昇降部5に設置されるもの
で、駆動源としてモータ70を用い、その回転力をクラ
ンク71、その先端に回転可能に取付けられたローラ7
2に伝達し、そのローラ71を凹型カム73に走行させ
て、前記カム73の直線運動に変換させる。そして前記
カム73が取付けられた前記ドア保持部4を図面上、左
右方向に移動できるようにしている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the door opening / closing mechanism 7 is installed in the slide elevating unit 5, uses a motor 70 as a driving source, and uses a rotating force of a crank 71 and a tip of the crank 71. Roller 7 rotatably mounted on
2, the roller 71 is caused to travel on a concave cam 73 to convert the cam 73 into a linear motion. Then, the door holding section 4 to which the cam 73 is attached can be moved in the left-right direction in the drawing.

【0019】この場合、前記ドア101を開けるとき
は、ゆっくり開け、除除に開スピードを上げるように前
記ドア保持部4を動作させる。よって、前記ボックスB
内の気圧と前記フープ100内の気圧の均衡を除除に図
ることができ、気流の乱れを防ぐことができる。その結
果、例えばフープ100のドア101付近に塵等が付着
していても、その塵等がフープ100内に吸込まれてし
まうことを防ぎ、ウェハーの汚染を阻止できる。
In this case, when the door 101 is opened, the door holding section 4 is operated so as to slowly open and remove the door 101 so as to increase the opening speed. Therefore, the box B
The balance between the internal pressure and the internal pressure of the hoop 100 can be eliminated, and turbulence in the airflow can be prevented. As a result, for example, even if dust or the like is attached near the door 101 of the hoop 100, the dust or the like is prevented from being sucked into the hoop 100, and contamination of the wafer can be prevented.

【0020】一方、前記処理装置600により処理され
たウェハー700を前記フープ100に収容後、前記ド
ア101を閉めるときは、時間の間隔を空けずに、出来
るだけ早く閉めるように前記モータ70を動作させる。
On the other hand, when the door 101 is closed after the wafer 700 processed by the processing apparatus 600 is stored in the hoop 100, the motor 70 is operated so as to close as soon as possible without any time interval. Let it.

【0021】前記フープ100を閉める際には、前記ボ
ックスB内と前記フープ100内は等圧であるので、気
流の乱れを考慮する必要性は低い。よって、スループッ
トの向上を図ることができる。また駆動源として、モー
タ70を用いているので、ドア101の開閉スピードの
制御が容易であり、且つ、駆動源自体が発塵の原因にも
ならない。
When closing the hoop 100, the pressure inside the box B and the inside of the hoop 100 are equal, so there is little need to consider the turbulence of the air flow. Therefore, the throughput can be improved. Further, since the motor 70 is used as the driving source, the opening / closing speed of the door 101 can be easily controlled, and the driving source itself does not cause dust.

【0022】前記オープナー1の2つ目の特徴は、前記
処理装置600による処理の前後にウェハーをマッピン
グしていることである(ダブルウェハーマッピング)。
マッピングは、図5に示すように前記ドア保持部4の上
部から出没可能な一対のアーム42の先端に取付けられ
たセンサによって行われる。前記アーム42の一端は、
前記ドア保持部4に回転可能に取付けられ、モータによ
り出没可能に動作する。前記センサは、一方のアーム4
2先端に発光素子を、他方のアーム42先端に受光素子
をそれぞれ対向するように取付けた光透過型のセンサを
用いる。
The second feature of the opener 1 is that the wafer is mapped before and after the processing by the processing apparatus 600 (double wafer mapping).
The mapping is performed by a sensor attached to the tip of a pair of arms 42 that can protrude and retract from the upper part of the door holding part 4 as shown in FIG. One end of the arm 42
It is rotatably attached to the door holding unit 4 and operates so as to be able to come and go by a motor. The sensor has one arm 4
A light-transmitting sensor is used in which a light-emitting element is attached to two ends and a light-receiving element is attached to the other arm 42 so as to face each other.

【0023】図6(a)に示したように、前記ドア保持
部4がドア101を保持して右方向にスライドした後、
前記アーム42が展開され、同図(b)に示したよう
に、ドア保持部100が下降するに従い、ウェハー70
0の所定枚数の有無等を走査する。
As shown in FIG. 6A, after the door holding unit 4 holds the door 101 and slides to the right,
As the arm 42 is unfolded and the door holding unit 100 is lowered as shown in FIG.
The presence or absence of a predetermined number of zeros is scanned.

【0024】一方、処理済のウェハー700が前記ロボ
ット300により前記フープ100に収容された後は、
図7(a)に示したように前記ドア保持部4からアーム
42を展開させ、ドア保持部4を上昇させつつ、前記セ
ンサによりウェハー700を走査し、走査の終了後、ア
ーム42を収容する。
On the other hand, after the processed wafer 700 is stored in the hoop 100 by the robot 300,
As shown in FIG. 7A, the arm 42 is deployed from the door holding unit 4 and the wafer 700 is scanned by the sensor while the door holding unit 4 is being lifted. After the scanning is completed, the arm 42 is housed. .

【0025】前記ドア保持部4の昇降に伴い、前記発光
素子からの光の遮断が一定時間毎に検出され、所定収容
枚数が検出される。ウェハーのエッジが所定のサポート
部に位置せずに斜めに搬入されている場合には、光が遮
断されないことから斜め搬入の有無が検出される。また
2枚のウェハーのエッジが同一のサポート部に支持さ
れ、2重に搬入された場合には、遮断時間が長いことか
ら2重搬入の有無が検出される。よって、処理前後のウ
ェハー枚数の不一致等が検出された場合には、適切、且
つ、迅速な対処ができる。また、斜め搬入や2重搬入の
ウェハーが搬送過程や、次工程で破損する危険性を未然
に回避できる。さらに2重搬入のウェハーの処理面が搬
送過程でキズ付くことを未然に防ぐことができる。
As the door holding unit 4 moves up and down, the interruption of light from the light emitting element is detected at regular intervals, and a predetermined number of sheets is detected. When the edge of the wafer is carried obliquely without being positioned at the predetermined support portion, the presence or absence of oblique carrying is detected because the light is not blocked. When the edges of the two wafers are supported by the same support portion and loaded twice, the presence or absence of the double loading is detected because the cutoff time is long. Therefore, when a mismatch between the numbers of wafers before and after the processing is detected, appropriate and prompt measures can be taken. Further, it is possible to avoid the risk that the wafers which are carried in obliquely or doubly are damaged in the carrying process or the next process. Further, it is possible to prevent the processing surface of the double loaded wafer from being damaged in the transfer process.

【0026】上記オープナーの3つ目の特徴は、前記ド
ア昇降部5の昇降動作を円滑にさせるため、前記駆動部
6にバランサ機構8を組合わせた点である。前記駆動部
6は、先述の図4のドア開閉機構7と同様に、図8及び
図9に示したようにモータ60と、その回転力が伝達さ
れるクランク61と、そのクランク61先端に回転可能
に取付けられたローラ62と、このローラ62を回転、
摺動させつつ、モータ60の回転力を昇降力に変換させ
る凹型カム63からなる。この駆動部6の前記凹型カム
63に、ロッドレスシリンダ80のライナー部81を固
着すると共に、前記ライナー部81にヒレ82を突設し
て、このヒレ82を前記取付板2に設けた上下スライド
溝(図示せず)を介して前記スライド昇降部5に固定す
る。またロッドレスシリンダ80のエアタンクの一端に
チェックバルブ83を設けることにより、前記駆動部6
のバランサ機構としている。
A third feature of the above-mentioned opener is that a balancer mechanism 8 is combined with the drive section 6 in order to smoothly move the door up and down section 5 up and down. Similar to the door opening / closing mechanism 7 in FIG. 4 described above, the driving unit 6 includes a motor 60, a crank 61 to which the rotational force is transmitted, and a rotation at the tip of the crank 61 as shown in FIGS. A roller 62 that is mounted so as to be able to rotate,
It comprises a concave cam 63 that converts the rotational force of the motor 60 into a lifting force while sliding. A liner section 81 of a rodless cylinder 80 is fixed to the concave cam 63 of the driving section 6, and a fin 82 is projected from the liner section 81, and the fin 82 is provided on the mounting plate 2. It is fixed to the slide elevating unit 5 via a groove (not shown). By providing a check valve 83 at one end of the air tank of the rodless cylinder 80,
And a balancer mechanism.

【0027】このバランサ機構の作用を図10(a)、
(b)に基づいて説明する。図10(a)に示したよう
に、前記モータ60がオンされ、スライド昇降部5が下
降しはじめると、前記凹型カム63に固着されているラ
ンナー部81が押下げられる。このとき、前記チェック
バルブ83によって、一方向にしかエアが流れない、即
ち、シリンダ80のエアタンクにエアが入らないため、
タンク内が減圧される。よって、下降方向に対し、上方
向に力が働くことで負荷が一定となり、スライド昇降部
5の急激な下降を避けて円滑な下降に制御することがで
きる。
FIG. 10A shows the operation of the balancer mechanism.
Description will be made based on (b). As shown in FIG. 10A, when the motor 60 is turned on and the slide elevating unit 5 starts to descend, the runner 81 fixed to the concave cam 63 is pushed down. At this time, air flows only in one direction by the check valve 83, that is, air does not enter the air tank of the cylinder 80.
The pressure in the tank is reduced. Therefore, the load becomes constant by applying a force in the upward direction with respect to the descending direction, so that it is possible to control the slide elevating unit 5 to smoothly descend while avoiding a sudden fall.

【0028】一方、図10(b)のように、前記スライ
ド昇降部5が上昇しはじめると、大気圧に昇圧するエア
シリンダのエアの上方向の力により、モータ60に対す
る負荷を軽減させることができる。
On the other hand, as shown in FIG. 10B, when the slide elevating unit 5 starts to ascend, the load on the motor 60 can be reduced by the upward force of the air of the air cylinder which increases to atmospheric pressure. it can.

【0029】前記バランサ機構8によれば、前記作用効
果に加え、エアを供給するものではないため、発塵を防
ぐことができる。なお、前記ロッドレスシリンダ80に
代えて、シリンダロッドを備えた通常のエアシリンダを
用いても良いが、ロッドレスシリンダを用いることによ
り、スペース効率を高めることができる。また、この実
施形態では前記チェックバルブ83を取付けているが、
このバルブ83を設けずに、真空エアよるロッドレスシ
リンダ或いは通常のエアシリンダでもよい。真空エアに
よれば、シリンダ内のエアを常に引き出しているため、
シリンダ内部で揺動によって発生したゴミを装置内に発
塵させることはない。即ち、エアの出入が無いので、発
塵効果を高めることができる。
According to the balancer mechanism 8, since no air is supplied in addition to the above-mentioned effects, dust generation can be prevented. Note that, instead of the rodless cylinder 80, a normal air cylinder having a cylinder rod may be used, but by using a rodless cylinder, space efficiency can be improved. In this embodiment, the check valve 83 is attached.
Without providing this valve 83, a rodless cylinder using vacuum air or a normal air cylinder may be used. According to the vacuum air, the air in the cylinder is always drawn out,
Dirt generated by swinging inside the cylinder is not generated in the apparatus. That is, since no air flows in and out, the dust generation effect can be enhanced.

【0030】上記各構成のバランサ機構によれば、モー
タをアシストして比較的トルクが小さく安価なモータを
使用することができ、その機構を構成する部品をトータ
ルで安価に提供することができる。また、前記モータ6
0の種類はどのようなものでもよいが、制御性に優れた
DCモータを用いても、吊下げ負荷に対するDCモータ
のデメリットを解消することができる。
According to the balancer mechanism of each of the above structures, an inexpensive motor having a relatively small torque can be used by assisting the motor, and the components constituting the mechanism can be provided in total at low cost. The motor 6
Any kind of 0 may be used, but even if a DC motor having excellent controllability is used, the disadvantage of the DC motor with respect to a hanging load can be eliminated.

【0031】前記オープナー1は、前記CIMシステム
を構成する前記EFEM制御装置401により、次のよ
うに制御される。
The opener 1 is controlled by the EFEM control device 401 constituting the CIM system as follows.

【0032】前記制御装置401は、前記フープ100
が前記オープナー1のフープ載置部3に位置しているこ
とを検知すると、前記フープ保持部4のラッチキー41
を作動させ、ドア101をラッチする。このとき前記ロ
ボット300は、前記オープナー1に移動している。次
に、制御装置401はドア101を開放するための指令
を前記オープナー1に出力するが、当初は、前記モータ
70の回転数を低くする低回転信号を出力し、除除に回
転数を高くする高回転信号を出力し、前記ドア保持部4
を漸次速度を上げてスライドさせてドア101を開放す
る。
The control device 401 controls the hoop 100
Is detected on the hoop mounting portion 3 of the opener 1, the latch key 41 of the hoop holding portion 4 is detected.
Is operated, and the door 101 is latched. At this time, the robot 300 has moved to the opener 1. Next, the control device 401 outputs a command to open the door 101 to the opener 1. At first, the control device 401 outputs a low rotation signal for lowering the rotation speed of the motor 70, and increases the rotation speed for removal. To output a high rotation signal,
Is gradually increased and the door 101 is opened by sliding.

【0033】次に、前記制御装置401は、前記アーム
42展開用のモータに対し展開指令信号を出力した後、
前記センサの発光素子に励起信号を送るとともに、前記
スライド昇降部5を下降させるため、前記モータ60に
下降指令信号を出力し、マッピング処理を開始する。前
記スライド昇降部5が所定位置まで下降し、マッピング
処理が終了すると前記制御装置401は、前記モータ6
0に下降停止信号を出力すると共に、前記アーム42展
開用のモータに対しアーム42の収容指令信号を出力
し、前記アーム42をドア保持部4に納める。
Next, the control device 401 outputs a deployment command signal to the motor for deploying the arm 42,
In addition to sending an excitation signal to the light emitting element of the sensor, a lowering command signal is output to the motor 60 to lower the slide elevating unit 5, and the mapping process is started. When the slide elevating unit 5 is lowered to a predetermined position and the mapping process is completed, the control device 401
At the same time, a lowering stop signal is output to 0, and an accommodation command signal for the arm 42 is output to the motor for expanding the arm 42, and the arm 42 is stored in the door holding unit 4.

【0034】このように前記スライド昇降部5の下降を
停止させるが、前記バランサ構造8により、前記スライ
ド昇降部5を正確、且つ、安全に停止させることができ
る。前記ロボット300によるウェハー700の出入れ
の際に、前記ロボット300が前記ドア保持部4と干渉
するおそれがある場合には、さらにドア保持部4を下降
させる。
As described above, the descent of the slide elevating unit 5 is stopped. However, the slide elevating unit 5 can be accurately and safely stopped by the balancer structure 8. If there is a possibility that the robot 300 will interfere with the door holding unit 4 when the robot 300 moves the wafer 700 in and out, the door holding unit 4 is further lowered.

【0035】次に、前記制御装置401は、前記フープ
100内から、ロボット300によりウェハー700を
1枚毎に取出し、オリフラ位置合わせ処理、処理装置へ
の受渡処理を実行する。
Next, the control device 401 takes out the wafers 700 one by one from the hoop 100 by the robot 300, and executes the orientation flat alignment process and the delivery process to the processing device.

【0036】処理済のウェハー700が前記フープ10
0に収容されると、前記制御装置401は、前記スライ
ド昇降部5を上昇させるため、前記モータ60に上昇指
令信号を出力し、また前記アーム42展開用のモータに
対し展開指令信号を出力した後、前記アーム42のセン
サに励起信号を送るとともに、ダブルマッピング処理を
開始する。
The processed wafer 700 is placed in the hoop 10
0, the control device 401 outputs a lift command signal to the motor 60 and a deployment command signal to the motor for deploying the arm 42 in order to raise the slide lifting unit 5. Thereafter, an excitation signal is sent to the sensor of the arm 42, and a double mapping process is started.

【0037】このマッピングが終了した後、前記制御装
置401は、アーム42を収容する指令信号を出力し、
また、ドア101を閉鎖するための閉鎖指令信号を前記
モータ70に出力する。この場合、当初から回転数を高
くする高回転信号を出力し、前記ドア保持部4をスライ
ドさせてドア101を閉鎖する。
After the mapping is completed, the control device 401 outputs a command signal for accommodating the arm 42,
Further, a closing command signal for closing the door 101 is output to the motor 70. In this case, a high rotation signal for increasing the number of rotations is output from the beginning, and the door 101 is closed by sliding the door holding unit 4.

【0038】[0038]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、ウェハ
ー搬送容器の開閉蓋を開放する場合、ウェハー搬送容器
内に気流が吸込まれる等で気流の乱れが生じることを避
けることができるので、発塵を防ぐことができる。
According to the first aspect of the present invention, when the opening / closing lid of the wafer transfer container is opened, it is possible to avoid the occurrence of turbulence in the air flow due to the suction of the air flow into the wafer transfer container. Therefore, dust generation can be prevented.

【0039】請求項2に記載の発明によれば、ウェハー
の枚数の不一致等を検出することができることの他、ウ
ェハーの斜め搬入、2重搬入を検出できるので、次工程
までウェハーを破損させずに搬送できる。
According to the second aspect of the present invention, in addition to being able to detect inconsistency in the number of wafers and the like, it is also possible to detect oblique carry-in and double carry-in of the wafer, so that the wafer is not damaged until the next step. Can be transported to

【0040】請求項3に記載の発明によれば、昇降にバ
ランサ機構が介在するので、昇降部の滑らかな昇降動作
が可能となる。
According to the third aspect of the present invention, since the balancer mechanism is interposed in the elevating and lowering, the elevating unit can smoothly move up and down.

【0041】請求項4に記載の発明によれば、ロッドレ
スシリンダは、エアの供給を必要とする駆動手段として
ではなく、チェックバルブによりショックアブソーバの
ように機能するもので、発塵の原因となることはない。
また、一般のエアシリンダに比較して設置スペースを省
くことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the rodless cylinder functions as a shock absorber by a check valve, not as a driving means that requires air supply. It will not be.
Further, the installation space can be reduced as compared with a general air cylinder.

【0042】請求項5に記載の発明によれば、エアの出
入が無いので、発塵効果を高めることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, since there is no inflow and outflow of air, the dust generation effect can be enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施形態に係るオープナーの正面図、FIG. 1 is a front view of an opener according to an embodiment,

【図2】 同オープナーの側面図、FIG. 2 is a side view of the opener,

【図3】 同オープナーの側面図、FIG. 3 is a side view of the opener,

【図4】 同オープナーの要部平面図、FIG. 4 is a plan view of a main part of the opener,

【図5】 同オープナーの平面図、FIG. 5 is a plan view of the opener,

【図6】 (a)(b)同オープナーの動作説明図、FIGS. 6A and 6B are explanatory diagrams of the operation of the opener.

【図7】 (a)(b)同オープナーの動作説明図、FIGS. 7A and 7B are explanatory diagrams of the operation of the opener.

【図8】 同オープナーの構成説明図、FIG. 8 is a configuration explanatory view of the opener,

【図9】 同オープナーの要部斜視図、FIG. 9 is a perspective view of a main part of the opener,

【図10】 (a)(b)同オープナーの動作説明図、FIGS. 10A and 10B are explanatory diagrams of the operation of the opener.

【図11】 従来例の斜視図、FIG. 11 is a perspective view of a conventional example,

【図12】 従来例の正面図。FIG. 12 is a front view of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 オープナー 100 フー
プ 101 ドア 2 取付枠 3 フープ載
置部 4 ドア保持部 40 位置決めピン 41 ラッチキー 42 アーム 5 スライド昇降部 6 駆動部 60 モータ 61 クランク 62 ローラ 63 凹型カム 7 ドア開閉機構 70 モータ 71 クラン
ク 72 ローラ 73 凹型カ
ム 8 バランサ機構 80 ロッド
レスシリンダ 81 ライナー部 82 ヒレ 83 チェックバルブ 400 EFEM 600 処理装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Opener 100 Hoop 101 Door 2 Mounting frame 3 Hoop mounting part 4 Door holding part 40 Positioning pin 41 Latch key 42 Arm 5 Slide elevating part 6 Driving part 60 Motor 61 Crank 62 Roller 63 Concave cam 7 Door opening / closing mechanism 70 Motor 71 Crank 72 Roller 73 Concave cam 8 Balancer mechanism 80 Rodless cylinder 81 Liner section 82 Fin 83 Check valve 400 EFEM 600 Processing device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野寺 郷 岩手県東磐井郡川崎村門崎字萩崎4−2 Fターム(参考) 3E084 AA05 AA14 AB10 BA02 CA03 DA03 FA09 FD20 GA08 GB12 GB19 5F031 CA02 DA08 EA14 GA30 GA36 GA42 JA05 JA13 JA25 JA43 KA20 LA07 LA11 LA15 MA17 NA10 NA13 PA02 PA26  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Sato Onodera 4-2 Hagizaki, Kadozaki, Kawasaki-mura, Higashiiwai-gun, Iwate F-term (reference) 3E084 AA05 AA14 AB10 BA02 CA03 DA03 FA09 FD20 GA08 GB12 GB19 5F031 CA02 DA08 EA14 GA30 GA36 GA42 JA05 JA13 JA25 JA43 KA20 LA07 LA11 LA15 MA17 NA10 NA13 PA02 PA26

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定径のウェハーを密封状態で搬送する
ウェハー搬送容器の開閉蓋を開閉するオープナーにおい
て、前記ウェハー搬送容器からの開閉蓋の開放は漸次速
度を上げて行い、前記ウェハー搬送容器への開閉蓋の閉
鎖は所定速度で行なうことを特徴とするウェハー搬送容
器用オープナー。
1. An opener for opening and closing an opening / closing lid of a wafer transfer container for transferring a wafer of a predetermined diameter in a sealed state, wherein opening and closing of the open / close lid from the wafer transfer container is performed at a gradually increasing speed, and the wafer is transferred to the wafer transfer container. Wherein the opening / closing lid is closed at a predetermined speed.
【請求項2】 前記ウェハー搬送容器に収容したウェハ
ーのマッピングは、前記開閉蓋の開放後にその開閉蓋を
下降させるとき及び前記開閉蓋の閉鎖前にその開閉蓋を
上昇させるときに行なうことを特徴とする請求項1に記
載のウェハー搬送容器用オープナー。
2. The mapping of wafers contained in the wafer transfer container is performed when the open / close lid is lowered after the open / close lid is opened and when the open / close lid is raised before the open / close lid is closed. The opener for a wafer transfer container according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記開閉蓋の開放後及び閉鎖前にその開
閉蓋を昇降させる昇降部とその駆動部間に、バランサ機
構を取付けたことを特徴とする請求項1又は2に記載の
ウェハー搬送容器用オープナー。
3. The wafer transfer according to claim 1, wherein a balancer mechanism is mounted between a lifting / lowering unit that raises / lowers the opening / closing lid and a drive unit thereof before and after the opening / closing lid is opened. Opener for container.
【請求項4】 前記バランサ機構は、チェックバルブを
設けたロッドレスシリンダからなることを特徴とする請
求項3に記載のウェハー搬送容器用オープナー。
4. The opener for a wafer transfer container according to claim 3, wherein said balancer mechanism comprises a rodless cylinder provided with a check valve.
【請求項5】 前記バランサ機構は、真空エアによるロ
ッドレスシリンダであることを特徴とする請求項3に記
載のウェハー搬送容器用オープナー。
5. The opener for a wafer transfer container according to claim 3, wherein the balancer mechanism is a rodless cylinder using vacuum air.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007158095A (en) * 2005-12-06 2007-06-21 Right Manufacturing Co Ltd Load port
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USRE49671E1 (en) 2006-07-20 2023-09-26 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus

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