JP2002359085A - Organic el panel and method for manufacturing it - Google Patents

Organic el panel and method for manufacturing it

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JP2002359085A
JP2002359085A JP2001163848A JP2001163848A JP2002359085A JP 2002359085 A JP2002359085 A JP 2002359085A JP 2001163848 A JP2001163848 A JP 2001163848A JP 2001163848 A JP2001163848 A JP 2001163848A JP 2002359085 A JP2002359085 A JP 2002359085A
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adhesive
light
organic
support substrate
forming
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JP2001163848A
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Hitoshi Wakai
仁資 若井
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Nippon Seiki Co Ltd
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Nippon Seiki Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL panel capable of airtightly dispose a sealing member and a supporting base by sufficiently hardening an adhesive, even if a metallic material having low resistivity is used for wiring parts to electrically connect first and second electrodes to an external power source to apply a voltage, and a method for manufacturing it. SOLUTION: This organic EL panel 1 is equipped with the wiring parts (a first wiring part, a second wiring part) 8a, 8b of a metallic material having low resistivity for electrically connecting first and second electrodes (a transparent electrode, a back plate) 3, 6 to the external power source, respectively. It is also equipped with lead-in parts 8c, 8d formed in a region facing the adhesive 9 in the wiring parts (the first wiring part, the second wiring part) 8a, 8b to lead light irradiated on the adhesive 9 to the adhesive 9.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL(エレク
トロルミネッセンス)パネルに関し、特に電極と外部電
源とを電気的に接続する配線部に抵抗率の低い金属材料
を用いてなる有機ELパネル及びその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) panel, and more particularly to an organic EL panel using a metal material having a low resistivity in a wiring portion for electrically connecting an electrode and an external power supply, and an organic EL panel using the same. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機EL素子を用いた有機ELパネルと
しては、ガラス材料からなる透光性の支持基板上に、陽
極となるITO(Indium Tin Oxide)
等からなる透明電極と、正孔注入層,正孔輸送層,発光
層及び電子輸送層等からなる有機層と、陰極となるアル
ミニウム(Al)等からなる非透光性の背面電極と、を
順次積層形成して構成されるものが知られており、前記
透明電極と前記背面電極との間に、数十ボルトの直流電
源を電気的に接続して両電極間に電流を供給することに
より、前記有機層が発光して、その発光を前記支持基板
を通して外部へ照射するものであり、その発光部は、前
記透明電極のパターンにより定めるのが一般的である。
2. Description of the Related Art As an organic EL panel using an organic EL element, an ITO (Indium Tin Oxide) serving as an anode is provided on a translucent supporting substrate made of a glass material.
And a non-transparent back electrode made of aluminum (Al) or the like, which serves as a cathode, and a transparent electrode made of an organic material such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer. It is known to be configured by sequentially forming a laminate, between the transparent electrode and the back electrode, by electrically connecting a DC power supply of several tens of volts to supply a current between the two electrodes. The organic layer emits light, and the emitted light is radiated to the outside through the support substrate. The light emitting portion is generally determined by the pattern of the transparent electrode.

【0003】ところで、斯かる有機ELパネルにおいて
前記透明電極は、ITO等の透過率が高い導電材料が用
いられるが、このような材料は比較的抵抗率が高いため
に、外部電源と前記第1,第2電極とをそれぞれ電気的
に接続する配線部に用いた場合、配線途中で電圧降下現
象が生じてしまい、これを補うために駆動電圧が高くな
るという問題があった。
In such an organic EL panel, a conductive material having a high transmittance such as ITO is used for the transparent electrode. However, since such a material has a relatively high resistivity, an external power source and the first power source are required. , The second electrode and the second electrode are used in a wiring portion for electrically connecting each other, a voltage drop phenomenon occurs in the middle of the wiring, and there is a problem that a driving voltage is increased to compensate for this.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような問題を解決
するものとして、例えば特開平13−15268号公報
に開示されるものが知られており、透明導電材料からな
る陽極は表示にかかる形状の表示部と電圧印加のための
端子部とを有し、前記両部間に抵抗率の低い金属材料か
らなる金属層(補助通電層)を形成することを特徴とす
る。
As a means for solving such a problem, for example, one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 13-15268 is known. It has a display portion and a terminal portion for voltage application, and a metal layer (auxiliary conductive layer) made of a metal material having a low resistivity is formed between the two portions.

【0005】しかしながら、斯かる構成の有機ELパネ
ルにおいては、支持基板上に形成される有機層の劣化を
防止するために、例えばガラス材料からなる封止部材を
例えば紫外線硬化性樹脂からなる接着剤を介して前記支
持基板に気密的に配設するために紫外線を前記接着剤に
照射する際に、前記金属層が前記紫外線を遮断し、前記
金属層と対向する領域にある前記接着剤が十分に硬化せ
ず、前記封止部材と前記支持基板との気密性が低下する
という問題があった。
However, in the organic EL panel having such a structure, in order to prevent the organic layer formed on the supporting substrate from being deteriorated, a sealing member made of, for example, a glass material is replaced with an adhesive made of, for example, an ultraviolet curable resin. When irradiating the adhesive with ultraviolet light for airtightly disposing the support substrate via the, the metal layer blocks the ultraviolet light, and the adhesive in a region opposed to the metal layer is sufficient. And the hermeticity between the sealing member and the support substrate is reduced.

【0006】本発明は、このような問題に鑑み、電圧印
加のために外部電源と第1,第2電極とを電気的に接続
する配線部として抵抗率の低い金属材料を用いる場合で
あっても、接着剤を十分に硬化させ、封止部材と支持基
板とを気密的に配設することが可能な有機ELパネル及
びその製造方法を提供することを目的とする。
In view of such a problem, the present invention is directed to a case where a metal material having a low resistivity is used as a wiring portion for electrically connecting an external power supply and first and second electrodes for applying a voltage. Another object of the present invention is to provide an organic EL panel capable of sufficiently curing an adhesive and allowing an airtight arrangement of a sealing member and a support substrate, and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、少なくとも発光層を有する有機層を第1
電極と第2電極とで挟持した積層体を透光性の支持基板
上に配設し、前記積層体を気密的に覆うように光反応性
接着剤を介して前記支持基板に封止部材を配設してなる
有機ELパネルであって、抵抗率の低い金属材料からな
り前記第1,第2電極と外部電源とをそれぞれ電気的に
接続する配線部と、この配線部の前記接着剤と対向する
領域に形成され前記接着剤に照射される光を前記接着剤
へ導く導入部と、を備えてなることを特徴とする。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, at least an organic layer having a light emitting layer is firstly formed.
A laminate sandwiched between the electrode and the second electrode is disposed on a light-transmitting support substrate, and a sealing member is attached to the support substrate via a photoreactive adhesive so as to airtightly cover the laminate. An organic EL panel disposed, comprising: a wiring portion made of a metal material having a low resistivity and electrically connecting the first and second electrodes to an external power source; and the adhesive of the wiring portion. And an introduction part formed in the facing region and guiding light irradiated to the adhesive to the adhesive.

【0008】また、少なくとも発光層を有する有機層を
第1電極と第2電極とで挟持した積層体を透光性の支持
基板上に配設し、前記積層体を気密的に覆うように光反
応性接着剤を介して前記支持基板に封止部材を配設して
なる有機ELパネルであって、透光性の導電材料からな
るベース部上に抵抗率の低い金属材料からなる金属層を
形成することにより前記第1,第2電極と外部電源とを
それぞれ電気的に接続する配線部と、この配線部の前記
接着剤と対向する領域に形成され前記接着剤に照射され
る光を前記接着剤へ導く導入部と、を備えてなることを
特徴とする。
In addition, a laminate in which an organic layer having at least a light-emitting layer is sandwiched between a first electrode and a second electrode is disposed on a light-transmitting support substrate, and light is applied so as to hermetically cover the laminate. An organic EL panel in which a sealing member is provided on the support substrate via a reactive adhesive, wherein a metal layer made of a metal material having a low resistivity is formed on a base made of a light-transmitting conductive material. Forming a wiring portion for electrically connecting the first and second electrodes to an external power source; and forming a wiring formed in a region of the wiring portion facing the adhesive and irradiating the adhesive. And an introduction portion for leading to the adhesive.

【0009】また、前記導入部は、少なくとも1つ以上
の開口部を有するスリット部からなることを特徴とす
る。
Further, the introduction section is characterized by comprising a slit section having at least one opening.

【0010】また、透光性の支持基板上に抵抗率の低い
金属材料からなる第1,第2の配線部を形成する工程
と、前記第1,第2の配線部に前記支持基板方向から照
射される光を導入する導入部を形成する工程と、前記支
持基板上に前記第1の配線部と電気的に接続される第1
電極及び少なくとも発光層を有する有機層及び前記第2
の配線部と電気的に接続される第2電極を順次積層形成
する工程と、前記支持基板及び前記導入部上に前記有機
層を封止する封止部材を光反応性接着剤を介して配設す
る工程と、光を照射することで前記接着剤を硬化させて
前記封止部材を気密的に配設する工程と、を有すること
を特徴とする。
A step of forming first and second wiring portions made of a metal material having a low resistivity on a light-transmitting support substrate; and forming the first and second wiring portions on the first and second wiring portions from the direction of the support substrate. Forming an introduction portion for introducing the irradiated light; and forming a first electrically connected to the first wiring portion on the support substrate.
An electrode and an organic layer having at least a light emitting layer;
A step of sequentially forming a second electrode electrically connected to the wiring portion, and disposing a sealing member for sealing the organic layer on the support substrate and the introduction portion via a photoreactive adhesive. And a step of irradiating light to cure the adhesive and airtightly dispose the sealing member.

【0011】また、透光性の支持基板上に透光性の導電
材料からなる第1電極及び第1,第2のベース部を形成
する工程と、前記第1,第2のベース部上に抵抗率の低
い金属材料からなる第1,第2の金属層を形成して第
1,第2の配線部を形成する工程と、前記第1,第2の
金属層に前記支持基板方向から照射される光を導入する
導入部を形成する工程と、前記第1電極上に少なくとも
発光層を有する有機層及び前記第2の配線部と電気的に
接続される第2電極を順次積層形成する工程と、前記支
持基板及び前記導入部上に前記有機層を封止する封止部
材を光反応性接着剤を介して配設する工程と、光を照射
することで前記接着剤を硬化させて前記封止部材を気密
的に配設する工程と、を有することを特徴とする。
A step of forming a first electrode and a first and a second base made of a light-transmitting conductive material on a light-transmitting support substrate; and forming the first electrode and the second base on the first and second bases. Forming first and second metal layers made of a metal material having a low resistivity to form first and second wiring portions; and irradiating the first and second metal layers from the support substrate direction. Forming an introduction portion for introducing light to be emitted, and sequentially forming an organic layer having at least a light emitting layer on the first electrode and a second electrode electrically connected to the second wiring portion. And a step of disposing a sealing member for sealing the organic layer on the support substrate and the introduction portion via a photoreactive adhesive, and curing the adhesive by irradiating light. And a step of hermetically disposing the sealing member.

【0012】また、前記導入部を形成する工程として、
少なくとも1つ以上の開口部を有するスリット部を設け
る工程を有することを特徴とする。
Further, as a step of forming the introduction portion,
A step of providing a slit having at least one or more openings.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づき説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0014】図1において、有機ELパネル1は、ガラ
ス基板(支持基板)2と、透明電極(第1電極)3と、
絶縁層4と、有機層5と、背面電極(第2電極)6と、
封止部材7と、第1の配線部8aと、第2の配線部8b
とから構成されている。
In FIG. 1, an organic EL panel 1 includes a glass substrate (supporting substrate) 2, a transparent electrode (first electrode) 3,
An insulating layer 4, an organic layer 5, a back electrode (second electrode) 6,
Sealing member 7, first wiring portion 8a, and second wiring portion 8b
It is composed of

【0015】ガラス基板2は、長方形形状からなる透光
性の支持基板である。
The glass substrate 2 is a light-transmitting support substrate having a rectangular shape.

【0016】透明電極3は、ガラス基板2上にITO等
の透光性の導電材料を蒸着法やスパッタリング法等の手
段によって膜厚50〜200nmの層状に形成し、フォ
トリソグラフィー法等によって所定の表示意匠に応じて
パターニングしてなるものである。透明電極3は、後で
詳述する第1の配線部8aと重なる部分を有し、第1の
配線部8aと電気的に接続される。
The transparent electrode 3 is formed by forming a light-transmitting conductive material such as ITO on the glass substrate 2 into a layer having a thickness of 50 to 200 nm by a method such as a vapor deposition method or a sputtering method, and by a photolithography method or the like. It is formed by patterning according to the display design. The transparent electrode 3 has a portion that overlaps with a first wiring portion 8a described later in detail, and is electrically connected to the first wiring portion 8a.

【0017】絶縁層4は、例えばポリイミド系等の絶縁
材料からなり、フォトリソグラフィー法等の手段によっ
て形成される。絶縁層4は、発光領域の輪郭を鮮明に表
示するため、透明電極3の表示部分の周縁と若干重なる
ように形成され、また、透明電極3と背面電極6との絶
縁を確保するために透明電極3と第2の配線部8bとの
間を埋めるように配設される。
The insulating layer 4 is made of, for example, a polyimide-based insulating material and is formed by a means such as a photolithography method. The insulating layer 4 is formed so as to slightly overlap the periphery of the display portion of the transparent electrode 3 in order to clearly display the outline of the light emitting region, and is transparent in order to ensure insulation between the transparent electrode 3 and the back electrode 6. It is arranged so as to fill the space between the electrode 3 and the second wiring portion 8b.

【0018】有機層5は、少なくとも発光層を有するも
のであればよいが、本発明の実施の形態においては、正
孔注入層,正孔輸送層,発光層及び電子輸送層を蒸着法
やスパッタリング法等の手段によって順次積層形成し、
膜厚100〜300nmの層状となるものである。ま
た、有機層5は、透明電極3の表示部分の形成箇所に対
応するように所定の大きさをもって配設される。
The organic layer 5 may have at least a light emitting layer. In the embodiment of the present invention, the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer are formed by vapor deposition or sputtering. Layered sequentially by means such as the method,
It is a layer having a thickness of 100 to 300 nm. Further, the organic layer 5 is provided with a predetermined size so as to correspond to a position where the display portion of the transparent electrode 3 is formed.

【0019】背面電極6は、アルミニウム(Al)やア
ルミリチウム(Al:Li)、マグネシウム銀(Mg:
Ag)等の金属導電材料を蒸着法等の手段によって膜厚
50〜200nmの層状に形成され、後で詳述する第2
の配線部8bと電気的に接続される。
The back electrode 6 is made of aluminum (Al), aluminum lithium (Al: Li), magnesium silver (Mg:
Ag) or another metal conductive material is formed into a layer having a thickness of 50 to 200 nm by a method such as a vapor deposition method.
Electrically connected to the wiring portion 8b.

【0020】以上のように、ガラス基板2上に透明電極
3と絶縁層4と有機層5と背面電極6とを順次積層して
積層体が得られる。
As described above, a laminated body is obtained by sequentially laminating the transparent electrode 3, the insulating layer 4, the organic layer 5, and the back electrode 6 on the glass substrate 2.

【0021】封止部材7は、例えばガラス材料からなる
平板部材に凹部をサンドブラスト、切削及びエッチング
等の適宜方法で形成してなるものである。封止部材7
は、前記凹部を取り囲むようにして形成される支持部を
例えば紫外線硬化性エポキシ樹脂からなる接着剤を介し
ガラス基板2上に気密的に配設することで、封止部材7
とガラス基板2とで積層体8を封止する。封止部材7
は、透明電極3の第1の配線部8a及び第2の配線部8
bが外部に露出するようにガラス基板2よりも若干小さ
めに構成されている。
The sealing member 7 is formed by forming a concave portion on a flat plate member made of, for example, a glass material by an appropriate method such as sandblasting, cutting and etching. Sealing member 7
The sealing member 7 is provided by hermetically arranging a supporting portion formed so as to surround the concave portion on the glass substrate 2 via an adhesive made of, for example, an ultraviolet curable epoxy resin.
And the glass substrate 2 seal the laminate 8. Sealing member 7
Are the first wiring portion 8a and the second wiring portion 8 of the transparent electrode 3.
It is configured to be slightly smaller than the glass substrate 2 so that b is exposed to the outside.

【0022】第1の配線部8aは、クロム(Cr)等の
抵抗率の低い金属材料を蒸着法、スパッタリング法等の
手段によって膜厚200〜300nmの層状に形成し、
フォトリソグラフィー法等の手段によって所定のパター
ニングを行ってなるもので、透明電極3と電気的に接続
されると共に前記積層体に電圧を印可するために外部電
源(図示しない)と電気的に接続される。第1の配線部
8aは、接着剤9と対向する領域に少なくとも1つ以上
の開口部を有するスリット部からなりガラス基板2の方
向から照射される光を接着剤9へ導くための導入部8c
を有する(図2(a))。導入部8cはフォトリソグラ
フィー法等の手段によって形成される。また、照射され
る光を接着剤9全体へ導くために、導入部8cの前記開
口部は複数形成されることが望ましい。
The first wiring portion 8a is formed by forming a metal material having a low resistivity, such as chromium (Cr), into a layer having a thickness of 200 to 300 nm by a method such as an evaporation method or a sputtering method.
It is formed by performing predetermined patterning by means such as a photolithography method, and is electrically connected to the transparent electrode 3 and electrically connected to an external power supply (not shown) for applying a voltage to the laminate. You. The first wiring portion 8a includes a slit portion having at least one opening in a region facing the adhesive 9, and an introduction portion 8c for guiding light emitted from the direction of the glass substrate 2 to the adhesive 9.
(FIG. 2A). The introduction portion 8c is formed by a means such as a photolithography method. In order to guide the irradiated light to the entire adhesive 9, a plurality of the openings of the introduction portion 8c are desirably formed.

【0023】第2の配線部8bは、クロム(Cr)等の
抵抗率の低い金属材料を蒸着法、スパッタリング法等の
手段によって膜厚200〜300nmの層状に形成し、
フォトリソグラフィー法等の手段によって所定のパター
ニングを行ってなるもので、背面電極6と電気的に接続
されると共に前記積層体に電圧を印可するために前記外
部電源と電気的に接続される。第2の配線部8bは、接
着剤9と対向する領域に少なくとも1つ以上の開口部を
有するスリット部からなりガラス基板2の方向から照射
される光を接着剤9へ導くための導入部8dを有する
(図2(b))。導入部8dはフォトリソグラフィー法
等の手段によって形成される。また、照射される光を接
着剤9全体へ導くために、導入部8dの前記開口部は複
数形成されることが望ましい。
The second wiring portion 8b is formed by forming a metal material having a low resistivity, such as chromium (Cr), into a layer having a thickness of 200 to 300 nm by a method such as an evaporation method or a sputtering method.
It is formed by performing predetermined patterning by means such as a photolithography method, and is electrically connected to the back electrode 6 and electrically connected to the external power supply to apply a voltage to the laminate. The second wiring portion 8b includes a slit portion having at least one opening in a region facing the adhesive 9, and an introduction portion 8d for guiding light emitted from the direction of the glass substrate 2 to the adhesive 9. (FIG. 2B). The introduction portion 8d is formed by means such as a photolithography method. In order to guide the irradiated light to the entire adhesive 9, it is desirable that a plurality of the openings of the introduction portion 8d be formed.

【0024】次に、図3を用いて有機ELパネル1の製
造方法を説明する。
Next, a method of manufacturing the organic EL panel 1 will be described with reference to FIG.

【0025】先ず、蒸着法もしくはスパッタリング法等
の手段によって、ガラス基板2上に層状の金属層8を形
成する(図3(a))。
First, a layered metal layer 8 is formed on the glass substrate 2 by means such as a vapor deposition method or a sputtering method (FIG. 3A).

【0026】次に、フォトリソグラフィー法等によっ
て、金属層8を所定の形状にパターニングを行い、第1
の配線部8aと第2の配線部8bとを形成する(図3
(b))。このとき、第1の配線部8a及び第2の配線
部8bには、それぞれ導入部8c,8dが形成される。
Next, the metal layer 8 is patterned into a predetermined shape by photolithography or the like.
The wiring portion 8a and the second wiring portion 8b are formed (see FIG. 3).
(B)). At this time, introduction parts 8c and 8d are formed in the first wiring part 8a and the second wiring part 8b, respectively.

【0027】次に、蒸着法もしくはスパッタリング法等
の手段によって、ガラス基板2及び第1の配線部8a及
び第2の配線部8b上に層状の透明電極3を形成する
(図3(c))。
Next, the layered transparent electrode 3 is formed on the glass substrate 2 and the first wiring portion 8a and the second wiring portion 8b by means such as a vapor deposition method or a sputtering method (FIG. 3C). .

【0028】次に、フォトリソグラフィー法等によっ
て、透明電極3を所定の表示意匠に応じてパターニング
を行う(図3(d))。このとき、透明電極3は第1の
配線部8aと重なる部分を有すると共に第2の配線部8
bとの間には隙間を有するようにパターニングされる。
Next, the transparent electrode 3 is patterned according to a predetermined display design by photolithography or the like (FIG. 3D). At this time, the transparent electrode 3 has a portion overlapping with the first wiring portion 8a and the second wiring portion 8a.
The pattern is formed so as to have a gap between it and b.

【0029】次に、フォトリソグラフィー法等によって
絶縁層4をガラス基板2,透明電極3,第1の配線部8
a及び第2の配線部8b上に形成する。さらに、有機層
5及び背面電極6を順次積層形成し、所定の発光形状の
積層体を得る(図3(e))。このとき、絶縁層4は、
透明電極3と第2の配線部8bとの絶縁及び背面電極6
と第1の配線部8aとの絶縁を確保するように形成され
る。また、背面電極6は、第2の配線部8bと電気的に
接続されるように形成される。
Next, the insulating layer 4 is formed on the glass substrate 2, the transparent electrode 3, the first wiring portion 8 by photolithography or the like.
a and the second wiring portion 8b. Further, the organic layer 5 and the back electrode 6 are sequentially laminated to form a laminate having a predetermined light emitting shape (FIG. 3E). At this time, the insulating layer 4
Insulation between transparent electrode 3 and second wiring portion 8b and back electrode 6
And the first wiring portion 8a are formed so as to ensure insulation. The back electrode 6 is formed so as to be electrically connected to the second wiring portion 8b.

【0030】次に、封止部材7を、前記積層体を取り囲
むようにガラス基板2,第1の配線部8a及び第2の配
線部8b上に光反応性接着剤からなる接着剤9を介して
配設すると共に、光を照射して接着剤9を硬化させ、ガ
ラス基板2,第1の配線部8a及び第2の配線部8bと
封止部材7とを気密的に接着することで有機ELパネル
1を得る(図3(f))。このとき、封止部材7及び接
着剤9は第1の配線部8aの導入部8c及び第2の配線
部8bの導入部8dと対向するように配設される。
Next, the sealing member 7 is placed on the glass substrate 2, the first wiring portion 8a, and the second wiring portion 8b with an adhesive 9 made of a photo-reactive adhesive so as to surround the laminate. The glass substrate 2, the first wiring portion 8a and the second wiring portion 8b, and the sealing member 7 are hermetically bonded to each other by irradiating light to cure the adhesive 9, and An EL panel 1 is obtained (FIG. 3F). At this time, the sealing member 7 and the adhesive 9 are disposed so as to face the introduction part 8c of the first wiring part 8a and the introduction part 8d of the second wiring part 8b.

【0031】斯かる有機ELパネル1は、第1の配線部
8a及び第2の配線部8bの接着剤9と対向する領域
に、照射される光を接着剤9に導く導入部8c,8dを
それぞれ形成することにより、配線部として抵抗率の低
い金属材料を用いる場合であっても、接着剤を硬化させ
る光を接着剤9に照射することができ、接着剤9を十分
に硬化させることにより封止部材7とガラス基板2とを
気密的に配設することが可能となる。
In the organic EL panel 1, introduction portions 8 c and 8 d for guiding irradiated light to the adhesive 9 are formed in regions of the first wiring portion 8 a and the second wiring portion 8 b facing the adhesive 9. By forming each, even when a metal material having a low resistivity is used for the wiring portion, light for curing the adhesive can be applied to the adhesive 9, and by sufficiently curing the adhesive 9, It is possible to arrange the sealing member 7 and the glass substrate 2 in an airtight manner.

【0032】特に、導入部8c,8dを少なくとも1つ
以上の開口部を有するスリット部とする場合、前記配線
部の強度を保つと共に接着剤9全体により効率的に光を
照射することができ、接着剤9をより効率的に硬化させ
ることにより封止部材7とガラス基板2との気密性をよ
り向上させることが可能となる。
In particular, when the introduction portions 8c and 8d are slit portions having at least one or more openings, the strength of the wiring portion can be maintained and light can be more efficiently irradiated to the entire adhesive 9. By curing the adhesive 9 more efficiently, the airtightness between the sealing member 7 and the glass substrate 2 can be further improved.

【0033】次に、図4を用いて、本発明の他の実施の
形態について説明するが、前述した実施の形態と同一も
しくは相当箇所には、同一符号を付してその詳細な説明
は省く。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4. The same or corresponding portions as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. .

【0034】図4において、有機ELパネル10は、ガ
ラス基板(支持基板)2と、透明電極(第1電極)11
aと、絶縁層4と、有機層5と、背面電極(第2電極)
6と、封止部材7と、第1の配線部12aと、第2の配
線部12bとから構成されている。
In FIG. 4, an organic EL panel 10 includes a glass substrate (support substrate) 2 and a transparent electrode (first electrode) 11.
a, insulating layer 4, organic layer 5, back electrode (second electrode)
6, a sealing member 7, a first wiring portion 12a, and a second wiring portion 12b.

【0035】透明電極11aは、ガラス基板2上にIT
O等の透光性の導電材料を蒸着法やスパッタリング法等
の手段によって膜厚50〜200nmの層状に形成し、
フォトリソグラフィー法等によって所定の表示意匠に応
じてパターニングしてなるものであり、表示部分外の領
域は、後で詳述する第1の配線部12aを構成する第1
のベース部となるものである。
The transparent electrode 11a is provided on the glass substrate 2 by IT.
A light-transmitting conductive material such as O is formed into a layer with a thickness of 50 to 200 nm by a method such as an evaporation method or a sputtering method,
It is formed by patterning according to a predetermined display design by a photolithography method or the like, and a region outside the display portion is a first wiring portion 12a which will be described later in detail.
It is a base part of.

【0036】第1の配線部12aは、透明電極11aの
表示部分外の領域上にクロム(Cr)等の抵抗率の低い
金属材料からなる膜厚200〜300nmの第1の金属
層13aを積層して形成されるもので、第1の配線部1
2aは透明電極11aと電気的に接続されると共に透明
電極11a,有機層5及び背面電極6からなる積層体に
電圧を印可するために外部電源(図示しない)と電気的
に接続される。第1の配線部12aは、第1の金属層1
3aの接着剤9と対向する領域に、少なくとも1つ以上
の開口部を有するスリット部からなり、ガラス基板2の
方向から照射される光を接着剤9へ導くための導入部1
3cを有する(図5(a))。導入部13cはフォトリ
ソグラフィー法等の手段によって形成される。また、照
射される光を接着剤9全体へ導くために、導入部13c
の前記開口部は複数形成されることが望ましい。
The first wiring portion 12a has a 200-300 nm-thick first metal layer 13a made of a low-resistivity metal material such as chromium (Cr) on a region outside the display portion of the transparent electrode 11a. The first wiring portion 1
2a is electrically connected to the transparent electrode 11a, and is also electrically connected to an external power supply (not shown) for applying a voltage to the laminate including the transparent electrode 11a, the organic layer 5, and the back electrode 6. The first wiring portion 12a is formed of the first metal layer 1
3a, a slit portion having at least one or more openings in a region opposed to the adhesive 9 and an introduction portion 1 for guiding light emitted from the direction of the glass substrate 2 to the adhesive 9;
3c (FIG. 5A). The introduction portion 13c is formed by means such as a photolithography method. In order to guide the irradiated light to the entire adhesive 9, the introduction portion 13c
It is preferable that a plurality of the openings are formed.

【0037】第2の配線部12bは、透光性の導電材料
からなる膜厚50〜200nmの第2のベース部11b
上にクロム(Cr)等の抵抗率の低い金属材料からなる
膜厚200〜300nmの第2の金属層13bを積層し
て形成されるもので、背面電極6と電気的に接続される
と共に前記積層体に電圧を印可するために前記外部電源
と電気的に接続される。第2の配線部12bは、第2の
金属層13bの接着剤9と対向する領域に、少なくとも
1つ以上の開口部を有するスリット部からなりガラス基
板2の方向から照射される光を接着剤9へ導くための導
入部13dを有する(図5(b))。導入部13dはフ
ォトリソグラフィー法等の手段によって形成される。ま
た、照射される光を接着剤9全体へ導くために、導入部
13dの前記開口部は複数形成されることが望ましい。
The second wiring portion 12b is made of a light-transmitting conductive material and has a thickness of 50 to 200 nm.
A second metal layer 13b having a thickness of 200 to 300 nm and made of a metal material having a low resistivity such as chromium (Cr) is laminated on the second metal layer 13b. It is electrically connected to the external power supply to apply a voltage to the laminate. The second wiring portion 12b is formed of a slit portion having at least one or more openings in a region of the second metal layer 13b facing the adhesive 9, and emits light irradiated from the direction of the glass substrate 2 to the adhesive. 9 (see FIG. 5B). The introduction portion 13d is formed by a means such as a photolithography method. In order to guide the irradiated light to the entire adhesive 9, it is preferable that a plurality of the openings of the introduction portion 13d are formed.

【0038】次に、図6を用いて有機ELパネル10の
製造方法を説明する。
Next, a method of manufacturing the organic EL panel 10 will be described with reference to FIG.

【0039】先ず、蒸着法もしくはスパッタリング法等
の手段によって、ガラス基板2上に層状の透明電極層1
1を形成する(図6(a))。
First, a layered transparent electrode layer 1 is formed on a glass substrate 2 by means such as a vapor deposition method or a sputtering method.
1 is formed (FIG. 6A).

【0040】次に、蒸着法もしくはスパッタリング法等
の手段によって、透明電極層11上に層状の金属層13
を形成する(図6(b))。
Next, a layered metal layer 13 is formed on the transparent electrode layer 11 by means such as a vapor deposition method or a sputtering method.
Is formed (FIG. 6B).

【0041】次に、フォトリソグラフィー法等によっ
て、金属層13を所定の形状にパターニングを行い、第
1の金属層13aと第2の金属層13bとを形成する
(図6(c))。このとき、第1の金属層13aと第2
の金属層13bとには、それぞれ導入部13c,13d
が形成される。
Next, the first metal layer 13a and the second metal layer 13b are formed by patterning the metal layer 13 into a predetermined shape by photolithography or the like (FIG. 6C). At this time, the first metal layer 13a and the second
And the metal layers 13b are respectively provided with introduction portions 13c and 13d.
Is formed.

【0042】次に、フォトリソグラフィー法等によっ
て、透明電極層11を所定の表示意匠に応じてパターニ
ングを行う。透明電極層11は、前記第1のベース部と
一体形成される透明電極11aと、第2のベース部11
bとに分割形成される(図6(d))。このとき、透明
電極11aの発光部分外の領域と第1の金属層13aと
によって第1の配線部12aが形成され、第2のベース
部11bと第2の金属層13aによって第2の配線部1
2bが形成される。
Next, the transparent electrode layer 11 is patterned according to a predetermined display design by a photolithography method or the like. The transparent electrode layer 11 includes a transparent electrode 11a formed integrally with the first base, and a second base 11
b (see FIG. 6D). At this time, the first wiring portion 12a is formed by the region outside the light emitting portion of the transparent electrode 11a and the first metal layer 13a, and the second wiring portion 12a is formed by the second base portion 11b and the second metal layer 13a. 1
2b is formed.

【0043】次に、フォトリソグラフィー法等によって
絶縁層4をガラス基板2,透明電極11a,第1の金属
層13a及び第2の金属層13b上に形成する。さら
に、有機層5及び背面電極6を順次積層形成し、所定の
発光形状の積層体を得る(図6(e))。このとき、絶
縁層4は、透明電極11aと第2の配線部12bとの絶
縁及び背面電極6と第1の配線部12aとの絶縁を確保
するように形成される。また、背面電極6は、第2の配
線部12bと電気的に接続されるように形成される。
Next, the insulating layer 4 is formed on the glass substrate 2, the transparent electrode 11a, the first metal layer 13a and the second metal layer 13b by photolithography or the like. Further, the organic layer 5 and the back electrode 6 are sequentially laminated to form a laminate having a predetermined light emission shape (FIG. 6E). At this time, the insulating layer 4 is formed so as to ensure insulation between the transparent electrode 11a and the second wiring portion 12b and insulation between the back electrode 6 and the first wiring portion 12a. The back electrode 6 is formed so as to be electrically connected to the second wiring portion 12b.

【0044】次に、封止部材7を、前記積層体を取り囲
むようにガラス基板2,第1の金属層13a及び第2の
金属層13b上に光反応性接着剤からなる接着剤9を介
して配設すると共に、光を照射して接着剤9を硬化さ
せ、ガラス基板2,第1の配線部12a及び第2の配線
部12bと封止部材7とを気密的に接着することで有機
ELパネル10を得る(図6(f))。このとき、封止
部材7及び接着剤9は第1の金属層13aの導入部13
c及び第2の金属層13bの導入部13dと対向するよ
うに配設される。
Next, the sealing member 7 is placed on the glass substrate 2, the first metal layer 13a and the second metal layer 13b via the adhesive 9 made of a photoreactive adhesive so as to surround the laminate. The adhesive 9 is cured by irradiating light, and the glass substrate 2, the first wiring portion 12 a and the second wiring portion 12 b, and the sealing member 7 are air-tightly bonded to each other to form an organic material. An EL panel 10 is obtained (FIG. 6F). At this time, the sealing member 7 and the adhesive 9 are applied to the introduction portion 13 of the first metal layer 13a.
It is arranged so as to face the introduction portion 13d of the second metal layer 13b.

【0045】斯かる有機ELパネル10は、第1の配線
部12aを構成する第1の金属層13a及び第2の配線
部12bを構成する第2の金属層13bの接着剤9と対
向する領域に、照射される光を接着剤9に導く導入部1
3c,13dをそれぞれ形成することにより、透光性の
導電材料からなるベース部上に抵抗率の低い金属材料か
らなる金属層を積層することによって配線部を形成する
場合であっても、接着剤を硬化させる光を接着剤9に照
射することができ、接着剤9を十分に硬化させることに
より封止部材7とガラス基板2とを気密的に配設するこ
とが可能となる。
The organic EL panel 10 has a region opposed to the adhesive 9 of the first metal layer 13a forming the first wiring portion 12a and the second metal layer 13b forming the second wiring portion 12b. Introducing part 1 for guiding the irradiated light to the adhesive 9
Even when the wiring portion is formed by laminating a metal layer made of a metal material having a low resistivity on a base portion made of a light-transmitting conductive material by forming each of 3c and 13d, an adhesive is used. Can be applied to the adhesive 9, and the sealing member 7 and the glass substrate 2 can be disposed in an airtight manner by sufficiently curing the adhesive 9.

【0046】特に、導入部13c,13dを少なくとも
1つ以上の開口部を有するスリット部とする場合、前記
配線部の強度を保つと共に接着剤9全体により効率的に
光を照射することができ、接着剤9をより効率的に硬化
させることにより封止部材7とガラス基板2との気密性
をより向上させることが可能となる。
In particular, when the introduction portions 13c and 13d are formed as slits having at least one opening, the strength of the wiring portion can be maintained and the entire adhesive 9 can be efficiently irradiated with light. By curing the adhesive 9 more efficiently, the airtightness between the sealing member 7 and the glass substrate 2 can be further improved.

【0047】尚、本発明の実施の形態において、導入部
8c,8d及び導入部13c,13dを構成するスリッ
ト部が有する開口部は長方形形状となる構成であった
が、前記開口部は光が接着剤全体に照射される形状であ
れば良く、円形、楕円形等の形状となる構成であっても
良い。
In the embodiment of the present invention, the openings of the slits forming the introduction portions 8c and 8d and the introduction portions 13c and 13d have a rectangular shape. The shape may be any shape as long as it irradiates the entire adhesive, and may be a configuration such as a circle or an ellipse.

【0048】また、本発明の実施の形態において、導入
部8c,8b及び導入部13c,13dは少なくとも1
つ以上の開口部を有するスリット部となる構成であった
が、請求項1,請求項2,請求項4,及び請求項5に記
載の本発明においては、導入部の構成は本発明の実施の
形態に限定されるものではない。
In the embodiment of the present invention, at least one of the introduction parts 8c and 8b and the introduction parts 13c and 13d
Although the slit portion has at least one opening, in the present invention according to claim 1, claim 2, claim 4, or claim 5, the configuration of the introduction portion is the same as that of the present invention. However, the present invention is not limited to this.

【0049】また、本発明の実施の形態において、第1
の配線部8a及び13a,第2の配線部8b及び13b
はガラス基板2上の異なる側面に形成される構成であっ
たが、第1の配線部と第2の配線部とは1つの側面に集
中的に形成される構成であっても良い。
In the embodiment of the present invention, the first
Wiring portions 8a and 13a, second wiring portions 8b and 13b
Is formed on different side surfaces on the glass substrate 2, but the first wiring portion and the second wiring portion may be formed intensively on one side surface.

【0050】また、本発明の実施の形態において、透明
電極11aは透明電極と第1の配線部を構成する第1の
ベース部とを一体形成してなる構成であったが、請求項
2,請求項3,請求項5及び請求項6に記載の本発明に
おいては、前記透明電極と前記第1のベース部とは、そ
れぞれ分割形成される構成であっても良い。
Further, in the embodiment of the present invention, the transparent electrode 11a has a structure in which the transparent electrode and the first base portion forming the first wiring portion are integrally formed. In the third, fifth, and sixth aspects of the present invention, the transparent electrode and the first base may be separately formed.

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明は、少なくとも発光層を有する有
機層を第1電極と第2電極とで挟持した積層体を透光性
の支持基板上に配設し、前記積層体を気密的に覆うよう
に光反応性接着剤を介して前記支持基板に封止部材を配
設してなる有機ELパネルであって、抵抗率の低い金属
材料からなり前記第1,第2電極と外部電源とをそれぞ
れ電気的に接続する配線部と、この配線部の前記接着剤
と対向する領域に形成され前記接着剤に照射される光を
前記接着剤へ導く導入部と、を備えてなることを特徴と
するものであり、電圧印加のために外部電源と第1,第
2電極とを電気的に接続する配線部として、抵抗率の低
い金属材料を用いる場合であっても、接着剤を十分に硬
化させ、封止部材と支持基板とを気密的に配設すること
が可能となる。
According to the present invention, a laminate in which at least an organic layer having a light emitting layer is sandwiched between a first electrode and a second electrode is disposed on a light-transmitting support substrate, and the laminate is hermetically sealed. An organic EL panel in which a sealing member is disposed on the support substrate via a photoreactive adhesive so as to cover the first and second electrodes, and an external power supply made of a metal material having a low resistivity. And an introduction portion formed in a region of the wiring portion facing the adhesive and guiding light irradiated to the adhesive to the adhesive. Even when a metal material having a low resistivity is used as a wiring portion for electrically connecting an external power supply and the first and second electrodes for applying a voltage, the adhesive can be sufficiently applied. After curing, the sealing member and the supporting substrate can be arranged in an airtight manner.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態である有機ELパネルを
示す模式断面図。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an organic EL panel according to an embodiment of the present invention.

【図2】 同上の有機ELパネルの配線部を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a wiring portion of the organic EL panel according to the first embodiment.

【図3】 同上の有機ELパネルの製造方法を示す模式
断面図。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing the organic EL panel according to the first embodiment.

【図4】 本発明の他の実施の形態である有機ELパネ
ルを示す模式断面図。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an organic EL panel according to another embodiment of the present invention.

【図5】 同上の有機ELパネルの配線部を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a wiring portion of the organic EL panel according to the embodiment.

【図6】 同上の有機ELパネルの製造方法を示す模式
断面図。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a method for manufacturing the organic EL panel according to the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,10 有機ELパネル 2 ガラス基板(支持基板) 3,11a 透明電極(第1電極) 4 絶縁層 5 有機層 6 背面電極(第2電極) 7 封止部材 8a,12a 第1の配線部 8b,12b 第2の配線部 8c,8d,13c,13d 導入部 9 接着剤 11b 第2のベース部 13a 第1の金属層 13b 第2の金属層 1, 10 Organic EL panel 2 Glass substrate (supporting substrate) 3, 11a Transparent electrode (first electrode) 4 Insulating layer 5 Organic layer 6 Back electrode (second electrode) 7 Sealing member 8a, 12a First wiring section 8b , 12b Second wiring portion 8c, 8d, 13c, 13d Introduction portion 9 Adhesive 11b Second base portion 13a First metal layer 13b Second metal layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも発光層を有する有機層を第1
電極と第2電極とで挟持した積層体を透光性の支持基板
上に配設し、前記積層体を気密的に覆うように光反応性
接着剤を介して前記支持基板に封止部材を配設してなる
有機ELパネルであって、抵抗率の低い金属材料からな
り前記第1,第2電極と外部電源とをそれぞれ電気的に
接続する配線部と、この配線部の前記接着剤と対向する
領域に形成され前記接着剤に照射される光を前記接着剤
へ導く導入部と、を備えてなることを特徴とする有機E
Lパネル。
An organic layer having at least a light emitting layer is a first layer.
A laminate sandwiched between the electrode and the second electrode is disposed on a light-transmitting support substrate, and a sealing member is attached to the support substrate via a photoreactive adhesive so as to airtightly cover the laminate. An organic EL panel disposed, comprising: a wiring portion made of a metal material having a low resistivity and electrically connecting the first and second electrodes to an external power source; and the adhesive of the wiring portion. And an introduction portion formed in an opposed region and guiding light irradiated to the adhesive to the adhesive.
L panel.
【請求項2】 少なくとも発光層を有する有機層を第1
電極と第2電極とで挟持した積層体を透光性の支持基板
上に配設し、前記積層体を気密的に覆うように光反応性
接着剤を介して前記支持基板に封止部材を配設してなる
有機ELパネルであって、透光性の導電材料からなるベ
ース部上に抵抗率の低い金属材料からなる金属層を形成
することにより前記第1,第2電極と外部電源とをそれ
ぞれ電気的に接続する配線部と、この配線部の前記接着
剤と対向する領域に形成され前記接着剤に照射される光
を前記接着剤へ導く導入部と、を備えてなることを特徴
とする有機ELパネル。
2. An organic layer having at least a light emitting layer is a first layer.
A laminate sandwiched between the electrode and the second electrode is disposed on a light-transmitting support substrate, and a sealing member is attached to the support substrate via a photoreactive adhesive so as to airtightly cover the laminate. An organic EL panel provided, wherein the first and second electrodes and an external power supply are formed by forming a metal layer made of a metal material having a low resistivity on a base part made of a translucent conductive material. And an introduction portion formed in a region of the wiring portion facing the adhesive and guiding light irradiated to the adhesive to the adhesive. Organic EL panel.
【請求項3】 前記導入部は、少なくとも1つ以上の開
口部を有するスリット部からなることを特徴とする請求
項1または請求項2の何れかに記載の有機ELパネル。
3. The organic EL panel according to claim 1, wherein the introduction section includes a slit having at least one opening.
【請求項4】 透光性の支持基板上に抵抗率の低い金属
材料からなる第1,第2の配線部を形成する工程と、前
記第1,第2の配線部に前記支持基板方向から照射され
る光を導入する導入部を形成する工程と、前記支持基板
上に前記第1の配線部と電気的に接続される第1電極及
び少なくとも発光層を有する有機層及び前記第2の配線
部と電気的に接続される第2電極を順次積層形成する工
程と、前記支持基板及び前記導入部上に前記有機層を封
止する封止部材を光反応性接着剤を介して配設する工程
と、光を照射することで前記接着剤を硬化させて前記封
止部材を気密的に配設する工程と、を有することを特徴
とする有機ELパネルの製造方法。
4. A step of forming first and second wiring portions made of a metal material having a low resistivity on a light-transmitting support substrate, and forming the first and second wiring portions on the first and second wiring portions from the support substrate direction. Forming an introduction portion for introducing the irradiated light, an organic layer having at least a light emitting layer and a first electrode electrically connected to the first wiring portion on the support substrate, and the second wiring A step of sequentially forming a second electrode electrically connected to the portion, and disposing a sealing member for sealing the organic layer on the support substrate and the introduction portion via a photoreactive adhesive. A method of manufacturing an organic EL panel, comprising: a step of irradiating light to cure the adhesive to hermetically dispose the sealing member.
【請求項5】 透光性の支持基板上に透光性の導電材料
からなる第1電極及び第1,第2のベース部を形成する
工程と、前記第1,第2のベース部上に抵抗率の低い金
属材料からなる第1,第2の金属層を形成して第1,第
2の配線部を形成する工程と、前記第1,第2の金属層
に前記支持基板方向から照射される光を導入する導入部
を形成する工程と、前記第1電極上に少なくとも発光層
を有する有機層及び前記第2の配線部と電気的に接続さ
れる第2電極を順次積層形成する工程と、前記支持基板
及び前記導入部上に前記有機層を封止する封止部材を光
反応性接着剤を介して配設する工程と、光を照射するこ
とで前記接着剤を硬化させて前記封止部材を気密的に配
設する工程と、を有することを特徴とする有機ELパネ
ルの製造方法。
5. A step of forming a first electrode and first and second base portions made of a light-transmitting conductive material on a light-transmitting support substrate, and forming the first and second base portions on the first and second base portions. Forming first and second metal layers made of a metal material having a low resistivity to form first and second wiring portions; and irradiating the first and second metal layers from the support substrate direction. Forming an introduction portion for introducing light to be emitted, and sequentially forming an organic layer having at least a light emitting layer on the first electrode and a second electrode electrically connected to the second wiring portion. And a step of disposing a sealing member for sealing the organic layer on the support substrate and the introduction portion via a photoreactive adhesive, and curing the adhesive by irradiating light. And a step of hermetically disposing a sealing member.
【請求項6】 前記導入部を形成する工程として、少な
くとも1つ以上の開口部を有するスリット部を設ける工
程を有することを特徴とする請求項4または請求項5の
何れかに記載の有機ELパネルの製造方法。
6. The organic EL according to claim 4, wherein the step of forming the introduction section includes the step of providing a slit having at least one opening. Panel manufacturing method.
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