JP2002353069A - Capacitor - Google Patents

Capacitor

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JP2002353069A
JP2002353069A JP2001154974A JP2001154974A JP2002353069A JP 2002353069 A JP2002353069 A JP 2002353069A JP 2001154974 A JP2001154974 A JP 2001154974A JP 2001154974 A JP2001154974 A JP 2001154974A JP 2002353069 A JP2002353069 A JP 2002353069A
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JP
Japan
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capacitor
conductive film
shaft core
terminal
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001154974A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Izumi
泰博 泉
Takuya Fujimaru
琢也 藤丸
Jiro Ota
次郎 太田
Shoichi Ikebe
庄一 池邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001154974A priority Critical patent/JP2002353069A/en
Publication of JP2002353069A publication Critical patent/JP2002353069A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable capacitor by enabling desired capacitance to be obtained stably. SOLUTION: This capacitor is equipped with a substrate 1 equipped with terminals 9 at both ends and a shaft core 8 depressed around from the terminals 9, an insulating separator 11 made at the shaft core 8, and a conductive film 4 made on the surface of the substrate 4 and separated by the insulating separator 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、モデムカード、ビ
デオカメラ、デジタルスチルカメラや、ノート型パーソ
ナルコンピュータ等の小型薄型電子機器の中高圧回路
に、広く有用に使用されるコンデンサに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a capacitor widely and usefully used in medium-to-high voltage circuits of small and thin electronic devices such as a modem card, a video camera, a digital still camera, and a notebook personal computer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、中高圧回路はリード線付の円板型
中高圧磁器コンデンサが用いられてきたが、近年のデジ
タル技術の進歩によって、電子機器は小型薄型化され、
それに伴い面実装化が進み、部品のチップ化率も高まっ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a disk-type medium-voltage ceramic capacitor with a lead wire has been used for a medium-voltage circuit. However, recent advances in digital technology have made electronic devices smaller and thinner.
Along with this, surface mounting is progressing, and the chip rate of components is also increasing.

【0003】そして、このような動向にあわせて、薄型
対応で、面実装可能な積層チップタイプのコンデンサが
開発されて、使用されている。
In accordance with such a trend, a multilayer chip type capacitor which is compatible with a thin type and which can be surface-mounted has been developed and used.

【0004】ここで、従来の積層チップタイプのコンデ
ンサについて説明する。図5は従来の積層チップコンデ
ンサを示す斜視図であり、図6は従来の積層チップコン
デンサの断面図である。なお、図6は図5のA−A線断
面図である。
Here, a conventional multilayer chip type capacitor will be described. FIG. 5 is a perspective view showing a conventional multilayer chip capacitor, and FIG. 6 is a sectional view of the conventional multilayer chip capacitor. FIG. 6 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【0005】図5,6において、1は誘電体で構成され
た基体である。また、2は内部電極、3は端子電極であ
る。また、20は積層チップコンデンサである。
In FIGS. 5 and 6, reference numeral 1 denotes a base made of a dielectric material. 2 is an internal electrode, and 3 is a terminal electrode. Reference numeral 20 denotes a multilayer chip capacitor.

【0006】図5,6に示すように、積層チップコンデ
ンサ20は、直方体形状であり、基体1には、内部電極
2が形成されている。基体1は誘電体層が積層されて構
成され、内部電極2は、互いに誘電体層で分離されてい
る。また、基体1の端面で内部電極2と端子電極3は導
通する構成となっている。
As shown in FIGS. 5 and 6, a multilayer chip capacitor 20 has a rectangular parallelepiped shape, and an internal electrode 2 is formed on a base 1. The base 1 is formed by laminating dielectric layers, and the internal electrodes 2 are separated from each other by the dielectric layers. In addition, the internal electrode 2 and the terminal electrode 3 are configured to conduct at the end face of the base 1.

【0007】更に、その他の従来のコンデンサとして
は、特開平3−232211号公報や、特開平10−8
3935号公報に開示されている。これらのコンデンサ
を図7、図8に示して説明する。
Further, other conventional capacitors are disclosed in JP-A-3-23211 and JP-A-10-8.
It is disclosed in 3935 gazette. These capacitors will be described with reference to FIGS.

【0008】図7は、従来のコンデンサの断面図であ
り、図7において、4は導電膜、5は間隙、6は絶縁被
膜で構成された外装材である。また、30はコンデンサ
である。
FIG. 7 is a sectional view of a conventional capacitor. In FIG. 7, reference numeral 4 denotes a conductive film, reference numeral 5 denotes a gap, and reference numeral 6 denotes an exterior material formed of an insulating film. Reference numeral 30 denotes a capacitor.

【0009】図7に示すように、コンデンサ30は、円
柱形等の基体1の表面に導電膜4が形成され、この導電
膜4を基体1の外周にわたって、レーザートリミングす
ることで、間隙5が形成される。そして、導電膜4が一
対の電極に分離されており、外装材6で覆われた構成と
なっている。
As shown in FIG. 7, in the capacitor 30, a conductive film 4 is formed on the surface of a base 1 having a cylindrical shape or the like. The gap 5 is formed by laser trimming the conductive film 4 over the outer periphery of the base 1. It is formed. Then, the conductive film 4 is separated into a pair of electrodes, and is covered with the exterior material 6.

【0010】このコンデンサ30では、レーザートリミ
ングパターンを変えることによって、間隙5の長さを変
え、任意の静電容量を得ることが可能である。
In this capacitor 30, it is possible to change the length of the gap 5 by changing the laser trimming pattern and obtain an arbitrary capacitance.

【0011】また、図8は、従来のコンデンサの断面図
であり、図8において、7は凹部であり、40はコンデ
ンサである。
FIG. 8 is a sectional view of a conventional capacitor. In FIG. 8, reference numeral 7 denotes a concave portion, and reference numeral 40 denotes a capacitor.

【0012】図8に示すように、コンデンサ40は、円
柱状の基体1の表面に凹部7が形成され、その間の突部
の表面が間隙5をなしている。そして、間隙5を除く基
体1の表面に導電膜4を形成し、更に外装材6で覆う構
成である。また、導電膜4は、間隙5の両端側をそれぞ
れ導電ペーストに浸積して塗布されて形成される。この
とき、凹部7間の突出した部分によって、導電ペースト
を堰き止めることが可能となり、所定の間隙5が形成さ
れる。
As shown in FIG. 8, in the capacitor 40, a concave portion 7 is formed on the surface of the columnar base 1, and the surface of the protrusion between them forms the gap 5. Then, the conductive film 4 is formed on the surface of the base 1 except for the gap 5, and the conductive film 4 is further covered with the exterior material 6. The conductive film 4 is formed by immersing both ends of the gap 5 in a conductive paste and applying the conductive paste. At this time, the projecting portion between the recesses 7 allows the conductive paste to be blocked, and a predetermined gap 5 is formed.

【0013】このコンデンサ40は、ディップ塗装にお
いても、高い精度で導電膜4間の間隙5を形成すること
が可能で、外装材6の径も大きくならず、高い静電容量
値を得られると言うものである。
In the capacitor 40, the gap 5 between the conductive films 4 can be formed with high precision even in dip coating, and the diameter of the exterior material 6 does not increase, and a high capacitance value can be obtained. That's what it says.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のコンデンサは以下の課題を有していた。
However, the above-mentioned conventional capacitor has the following problems.

【0015】まず、図5,6で示した、従来の積層チッ
プコンデンサは、端子電極間に、外装材が形成されず基
体1が剥き出しであり、加えて、積層構造であるので、
基体1を構成する誘電体層と内部電極2の隙間から水分
が浸入し易く、耐湿負荷寿命試験で、早期に短絡が発生
し、信頼性に劣ると言う問題がある。また、積層構造で
あるので、プリント基体等に実装後の撓み強度が弱いと
言う問題もあった。
First, the conventional multilayer chip capacitor shown in FIGS. 5 and 6 has no exterior material formed between the terminal electrodes and the base 1 is exposed.
There is a problem that moisture easily penetrates from a gap between the dielectric layer constituting the base 1 and the internal electrode 2, and a short circuit occurs early in a moisture resistance load life test, resulting in poor reliability. In addition, there is also a problem that the bending strength after mounting on a printed substrate or the like is weak because of the laminated structure.

【0016】また、図7に示した従来のコンデンサにお
いては、絶縁被膜による外装材6の中央が厚くなると言
う問題や実装性に劣ると言う問題がある。更に、キャパ
シタンスギャップとなる間隙5が導電膜4を基体1の外
周にわたって、レーザートリミングすることで形成され
るので、トリミング開始点と終了点の完全一致をするた
めには、高精度の制御を要し、間隙5の幅を一定にする
ためには、レーザー出力と基体1の回転速度の制御を確
実に行わなければならないと言う問題もあった。
Further, the conventional capacitor shown in FIG. 7 has a problem that the center of the package 6 made of an insulating film becomes thick and a problem that the mountability is poor. Further, since the gap 5 serving as a capacitance gap is formed by laser-trimming the conductive film 4 over the outer periphery of the substrate 1, high-precision control is required to completely match the trimming start point and end point. However, in order to keep the width of the gap 5 constant, there is also a problem that the laser output and the rotation speed of the base 1 must be reliably controlled.

【0017】更に、図8に示したコンデンサでは、基体
1に凹部7を設け、その間の突部にて導電ペーストを堰
き止め、ディップ塗装による導電膜4を形成可能として
いるが、導電膜4は、間隙5の両端側をそれぞれ導電ペ
ーストに浸漬するので工程が複雑となり、凹部7間の突
部を導電ペーストが乗り越えないように浸漬するのも煩
雑である。また、間隙5の両端側をそれぞれ導電ペース
トに浸漬するため、間隙5の両側の導電膜4が波打つ形
状となる場合もある。
Further, in the capacitor shown in FIG. 8, a concave portion 7 is provided in the base 1, and the conductive paste is intercepted at the protrusion between the concave portions 7 to form the conductive film 4 by dip coating. Since both ends of the gap 5 are immersed in the conductive paste, the process becomes complicated, and it is also troublesome to immerse the projecting portions between the recesses 7 so that the conductive paste does not cross over. Further, since both ends of the gap 5 are immersed in the conductive paste, the conductive films 4 on both sides of the gap 5 may have a wavy shape.

【0018】また、外装材6が誘電体磁器基体1の外形
寸法よりも明らかにはみ出すと、実装時に問題があり、
図8に示したコンデンサによる外装材6の径増大の抑制
では、十分とは言えない。
Further, if the outer package material 6 is clearly protruded from the outer dimensions of the dielectric ceramic base 1, there is a problem at the time of mounting.
Suppressing the increase in the diameter of the exterior material 6 by the capacitor shown in FIG. 8 is not sufficient.

【0019】本発明は、上記課題を解決するものであ
り、所望の静電容量を安定して得ることが可能で、信頼
性の高いコンデンサを提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a highly reliable capacitor capable of stably obtaining a desired capacitance.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、両端に端子部と、前記端子部よりも外周に
亘って凹んだ軸芯部とを備えた基体と、前記軸芯部に形
成された絶縁分離体と、前記基体の表面に形成され、前
記絶縁分離体で分離された導電膜とを備えた構成とした
ものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a base having a terminal portion at both ends and a shaft core recessed over the outer periphery from the terminal portion; And a conductive film formed on the surface of the base and separated by the insulating separator.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】請求項1に記載の発明は、両端に
端子部と、端子部よりも外周に亘って凹んだ軸芯部とを
備えた基体と、軸芯部に形成された絶縁分離体と、基体
の表面に形成され、絶縁分離体で分離された導電膜とを
備えたことを特徴とするコンデンサであり、導電膜分離
を精度高く行うことができ、所望の静電容量を安定して
得ることができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 is a substrate having a terminal portion at both ends, a shaft core recessed over the outer periphery from the terminal portion, and an insulating member formed at the shaft core portion. A capacitor comprising a separator and a conductive film formed on the surface of the substrate and separated by an insulating separator.The capacitor can perform the conductive film separation with high accuracy and has a desired capacitance. It can be obtained stably.

【0022】請求項2に記載の発明は、請求項1におい
て、絶縁分離体が、感光性樹脂で形成されたことを特徴
とするコンデンサであり、絶縁分離体を精度高く形成す
ることができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a capacitor according to the first aspect, wherein the insulating separator is formed of a photosensitive resin, and the insulating separator can be formed with high precision.

【0023】請求項3に記載の発明は、請求項1,2に
おいて、両端の端子部間に、軸芯部を覆う外装材を備え
たことを特徴とするコンデンサであり、耐湿性を向上さ
せることができる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a capacitor according to the first or second aspect, further comprising an exterior material covering the shaft core portion between the terminal portions at both ends, thereby improving moisture resistance. be able to.

【0024】請求項4に記載の発明は、請求項3におい
て、外装材と両端の端子部が、略面一であることを特徴
とするコンデンサであり、確実に基板に接合することが
でき、実装性に優れる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a capacitor according to the third aspect, wherein the exterior material and the terminal portions at both ends are substantially flush with each other. Excellent mountability.

【0025】請求項5に記載の発明は、請求項1〜4に
おいて、端子部の導電膜の上に、端子電極を備えたこと
を特徴とするコンデンサであり、導電膜を保護すること
ができると共に、基板への接合が容易である。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a capacitor according to any one of the first to fourth aspects, wherein a terminal electrode is provided on the conductive film of the terminal portion, and the conductive film can be protected. At the same time, bonding to the substrate is easy.

【0026】以下、本発明の実施の形態について、本発
明のコンデンサについて、図面を参照しながら詳しく説
明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0027】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1におけるコンデンサを示す透視斜視図であり、図
2は本発明の実施の形態1におけるコンデンサを示す断
面図である。なお、図2は図1のA−A線断面図であ
る。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a perspective view showing a capacitor according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing the capacitor according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【0028】図1,2において、1は基体、3は端子電
極、4は導電膜、5は間隙、6は外装材である。更に、
8は軸芯部、9は端子部、10は傾斜部、11は絶縁分
離体であり、100はコンデンサを示している。なお、
θは傾斜部10と軸芯部8とがなす角度である。
In FIGS. 1 and 2, 1 is a base, 3 is a terminal electrode, 4 is a conductive film, 5 is a gap, and 6 is an exterior material. Furthermore,
Reference numeral 8 denotes a shaft core portion, 9 denotes a terminal portion, 10 denotes an inclined portion, 11 denotes an insulating separator, and 100 denotes a capacitor. In addition,
θ is the angle between the inclined portion 10 and the shaft core 8.

【0029】図1に示すように、コンデンサ100は、
端子部9間に外装材6が充填され、外形が略直方体であ
る。
As shown in FIG. 1, the capacitor 100 is
The exterior material 6 is filled between the terminal portions 9 and has a substantially rectangular parallelepiped outer shape.

【0030】更に、図2に示すように、基体1は、その
両端に端子部9、中央に軸芯部8を備えた構成であり、
軸芯部8は端子部9よりも外周に亘って凹んでいる。そ
して、この凹んだ部分に外装材6が充填される。
Further, as shown in FIG. 2, the base 1 has a terminal portion 9 at both ends and a shaft core portion 8 at the center.
The shaft core 8 is recessed over the outer periphery than the terminal 9. Then, the exterior material 6 is filled in the recessed portion.

【0031】また、軸芯部8と、両端の端子部9との間
には、それぞれ傾斜部10が形成されている。この傾斜
部10を備えることによって、外装材6が確実かつ安定
して充填でき、本発明の実施の形態1におけるコンデン
サ100においては、外装材6と基体1の間には、気泡
の抱き込みがほとんどないものとなっている。
An inclined portion 10 is formed between the shaft core portion 8 and the terminal portions 9 at both ends. By providing the inclined portion 10, the exterior material 6 can be reliably and stably filled. In the capacitor 100 according to the first embodiment of the present invention, air bubbles are trapped between the exterior material 6 and the base 1. It is almost none.

【0032】そして、この傾斜部10と軸芯部8とがな
す角度θは、90度〜150度であることが好ましい。
90度以下であると、気泡が発生し、安定した外装材6
の充填が困難である。また、150度を超えると充填さ
れる外装材6が薄くなってしまい、耐湿性の低下など、
信頼性が悪くなる。
It is preferable that the angle θ between the inclined portion 10 and the shaft core portion 8 is 90 to 150 degrees.
If the angle is less than 90 degrees, bubbles are generated and the stable exterior material 6 is formed.
Is difficult to fill. In addition, when the temperature exceeds 150 degrees, the exterior material 6 to be filled becomes thin, and the moisture resistance decreases.
The reliability becomes worse.

【0033】更に、以上のような構成を有する基体1の
表面には、導電膜4が形成され、更に、軸芯部8におい
て導電膜4は、絶縁分離体11によって間隙5を備える
ように分離されている。そして、絶縁分離体11、軸芯
部8及び傾斜部10に形成された導電膜4を覆うように
外装材6が形成されている。
Further, a conductive film 4 is formed on the surface of the substrate 1 having the above-described structure, and the conductive film 4 is separated from the shaft core portion 8 by the insulating separator 11 so as to provide the gap 5. Have been. Then, an exterior material 6 is formed to cover the conductive film 4 formed on the insulating separator 11, the shaft core portion 8, and the inclined portion 10.

【0034】また、外装材6で被覆されていない端子部
9の導電膜4の上には、導電膜4を覆うように端子電極
3が形成されている。なお、端子電極3を設けずに、端
子部9で露出している導電膜4をそのまま電極として用
いても良い。
A terminal electrode 3 is formed on the conductive film 4 of the terminal portion 9 not covered with the exterior material 6 so as to cover the conductive film 4. Note that the conductive film 4 exposed at the terminal portion 9 may be used as an electrode without providing the terminal electrode 3.

【0035】また、外装材6と端子部9は略面一であ
り、外形が略直方体となり、チップコンデンサとしての
実装性に優れるものである。また、コンデンサ100の
外形は略直方体であることが実装性に優れるので好まし
いが、チップコンデンサとしての実装性を阻害しない範
囲で、円柱状、多角形状であってもよい。
Further, the exterior member 6 and the terminal portion 9 are substantially flush with each other, and have a substantially rectangular parallelepiped outer shape, and are excellent in mountability as a chip capacitor. The external shape of the capacitor 100 is preferably a substantially rectangular parallelepiped because it is excellent in mountability, but may be a columnar shape or a polygonal shape as long as the mountability as a chip capacitor is not hindered.

【0036】更に、コンデンサ100の各構成について
詳しく説明する。
Further, each configuration of the capacitor 100 will be described in detail.

【0037】まず、基体1は、チタン酸ストロンチウ
ム、チタン酸カルシウム等の誘電体材料の主成分に、酸
化ビスマス、酸化チタン、酸化マンガン等の添加剤やそ
の他焼成助剤等を混合して、これを焼成した誘電体セラ
ミックスで構成される。
First, the base 1 is prepared by mixing additives such as bismuth oxide, titanium oxide and manganese oxide and other sintering aids with a main component of a dielectric material such as strontium titanate and calcium titanate. Is composed of dielectric ceramics obtained by firing

【0038】また、基体1は中央の軸芯部8がその両端
の端子部9よりも外周に亘って凹んでいる形状であり、
軸芯部8と端子部9との間に傾斜部10を備えている。
Further, the base 1 has a shape in which the central shaft core portion 8 is depressed over the outer periphery than the terminal portions 9 at both ends thereof,
An inclined part 10 is provided between the shaft core part 8 and the terminal part 9.

【0039】この基体1の形成方法としては、金型に上
記した誘電体材料を装填して所定形状に形成し、これを
焼成することによって形成される。或いは、焼成された
略直方体のベース基体の中央を削って軸芯部8及び傾斜
部10を形成してもよい。
As a method of forming the base 1, the above-described dielectric material is charged into a mold, formed into a predetermined shape, and fired. Alternatively, the shaft core 8 and the inclined portion 10 may be formed by cutting the center of the fired substantially rectangular parallelepiped base body.

【0040】ここで、図3(a)は本発明の実施の形態
1におけるコンデンサを示す断面図であり、図1のB−
B線断面図である。図3(a)に示すように、軸芯部8
の断面形状は、端子部9と相似形状となっている。即
ち、本発明の実施の形態1において端子部9の断面形状
は略四角形であり、軸芯部8の断面形状もその相似形状
である略四角形となっている。
FIG. 3A is a sectional view showing a capacitor according to the first embodiment of the present invention.
It is a B sectional view. As shown in FIG.
Is similar in shape to the terminal portion 9. That is, in the first embodiment of the present invention, the cross-sectional shape of the terminal portion 9 is substantially rectangular, and the cross-sectional shape of the shaft core portion 8 is also substantially rectangular, which is a similar shape.

【0041】なお、図3(b),(c)は本発明の実施
の形態1におけるコンデンサの他の例を示す断面図であ
り、図3(b),(c)に示すように、軸芯部8の形状
を円形や6角形等として、端子部9の断面形状と異なら
せてもよい。
FIGS. 3B and 3C are cross-sectional views showing another example of the capacitor according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIGS. The shape of the core 8 may be circular, hexagonal, or the like, and may be different from the cross-sectional shape of the terminal 9.

【0042】また、端子部9の断面形状は略四角形であ
ることが実装性に優れるので好ましいが、チップコンデ
ンサの実装性を阻害しない範囲で、円柱状、三角形、五
角形等の多角形状であってもよい。
The cross-sectional shape of the terminal portion 9 is preferably a substantially square shape because of its excellent mountability. Is also good.

【0043】更に、基体1の表面に形成される導電膜4
としては、Ag,Cu,Ni,Znの中から選ばれる少
なくとも1種以上の金属を用いることができる。この中
でも、Agは、Q値が高いと言う理由で特に好ましい。
また、導電膜4を無電解メッキにて形成する場合には、
Cuを用いることが好ましい。
Further, the conductive film 4 formed on the surface of the substrate 1
As the material, at least one metal selected from Ag, Cu, Ni, and Zn can be used. Among them, Ag is particularly preferable because it has a high Q value.
When the conductive film 4 is formed by electroless plating,
It is preferable to use Cu.

【0044】また、外装材6としては、絶縁性を有する
材料を用いられ、ガラス、絶縁性樹脂等を用いることが
できる。この中でも、絶縁性樹脂が加工適正、低価格で
あり好ましく、更に、熱硬化型のエポキシ樹脂が強度、
耐湿性に優れているので特に好ましい。
As the exterior material 6, a material having an insulating property is used, and glass, an insulating resin or the like can be used. Among them, insulating resin is suitable for processing and low cost, and furthermore, thermosetting epoxy resin has strength,
It is particularly preferable because of its excellent moisture resistance.

【0045】また、端子電極3は、実装時の半田付け性
を向上させ、導電膜4を保護することができる。この端
子電極3としては、Ni,Sn,半田の中から選ばれる
少なくとも1種以上の材料を用いることができる。この
中でも、Ni層上にSnまたは半田を形成した電極は、
半田付性および耐熱性が向上すると言う理由で特に好ま
しい。
The terminal electrodes 3 can improve the solderability at the time of mounting and protect the conductive film 4. As the terminal electrode 3, at least one or more materials selected from Ni, Sn, and solder can be used. Among them, an electrode in which Sn or solder is formed on a Ni layer is:
Particularly preferred is that the solderability and heat resistance are improved.

【0046】そして、導電膜4としてAgを用い、その
上にNi層、更にSnまたは半田を形成した端子電極3
を用いることで、Q値を高くすることが可能であり、半
田付性および耐熱性を向上させることができる。
Then, the terminal electrode 3 is formed by using Ag as the conductive film 4 and further forming a Ni layer thereon and further forming Sn or solder.
By using, the Q value can be increased, and the solderability and heat resistance can be improved.

【0047】更に、絶縁分離体11は、絶縁性材料が用
いられ、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウ
レタン系樹脂等の絶縁性樹脂や、アルミナ、フォルス
テ、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の絶
縁性セラミック、鉛系ガラス、亜鉛系ガラス等の絶縁ガ
ラスが用いられる。
Further, the insulating separator 11 is made of an insulating material, for example, an insulating resin such as an epoxy resin, an acrylic resin, or a urethane resin, alumina, forster, barium titanate, strontium titanate, or the like. Insulating glass such as insulating ceramic, lead-based glass, and zinc-based glass are used.

【0048】これらの中でも、絶縁性の感光性樹脂は、
絶縁分離体11のパターニングを行い易いので好まし
い。更に、無電解メッキにより導電膜4を形成する場
合、これら絶縁性の感光性樹脂の中でも、特に、無電解
メッキが付着しないタイプの絶縁性の感光性樹脂を用い
ることが好ましい。
Among these, the insulating photosensitive resin is
This is preferable because the patterning of the insulating separator 11 can be easily performed. Further, when the conductive film 4 is formed by electroless plating, among these insulating photosensitive resins, it is particularly preferable to use an insulating photosensitive resin to which electroless plating does not adhere.

【0049】次に、本発明のコンデンサの製造方法につ
いて説明する。
Next, a method for manufacturing the capacitor of the present invention will be described.

【0050】まず、金型に上記した誘電体材料を装填
し、成形した後、これを焼成する。そして、焼成された
略直方体のベース基体1の中央を外周に亘って削ること
によって、両端の端子部9よりも外周に亘って凹んでい
る軸芯部8を形成する。
First, the above-mentioned dielectric material is charged into a mold, molded, and then fired. Then, by shaving the center of the fired substantially rectangular parallelepiped base body 1 over the outer periphery, a shaft core portion 8 that is recessed over the outer periphery from the terminal portions 9 at both ends is formed.

【0051】また、両端の端子部9よりも外周に亘って
凹んでいる軸芯部8を備えるように予め金型を形成し、
この金型で誘電体材料を加圧成形し、これを焼成して基
体1を形成してもよい。このように形成することで、基
体1を削る工程を無くすことができる。
Further, a mold is formed in advance so as to have the shaft core portion 8 which is recessed over the outer periphery than the terminal portions 9 at both ends.
The base material 1 may be formed by pressing a dielectric material with this mold and firing it. By forming in this manner, the step of shaving the base 1 can be eliminated.

【0052】次に、この基体1に絶縁分離体11を形成
する。絶縁分離体11の形成方法としては、感光性樹脂
を塗布し、露光及び現像を行って、所定幅の間隙5を有
するようパターニングする。或いは、絶縁性材料を絶縁
分離体11の形状になるように基体1に直接塗布形成し
てもよい。
Next, an insulating separator 11 is formed on the base 1. As a method for forming the insulating separator 11, a photosensitive resin is applied, exposed and developed, and patterned to have a gap 5 having a predetermined width. Alternatively, an insulating material may be directly applied to the base 1 so as to have the shape of the insulating separator 11.

【0053】また、導電膜4の形成方法としては、導電
ペーストに浸積して塗布するいわゆるディップ塗装や、
印刷法、電着法、鍍金法、蒸着法等の成膜方法を用いる
ことができる。
The conductive film 4 may be formed by so-called dip coating in which the conductive film 4 is dipped and applied.
A film forming method such as a printing method, an electrodeposition method, a plating method, and an evaporation method can be used.

【0054】そして、絶縁分離体11に無電解メッキが
付着しないタイプの感光性樹脂を用いた場合では、導電
膜4としてCuを用い、これを無電解メッキすること
で、絶縁分離体11にはCu導電膜4が形成されず、基
体1の表面にのみCu導電膜4が形成され、Cu導電膜
4は絶縁分離体11で確実に分離することができる。
When a photosensitive resin of a type to which electroless plating does not adhere to the insulating separator 11 is used, Cu is used as the conductive film 4 and this is subjected to electroless plating to provide the insulating separator 11 with The Cu conductive film 4 is not formed, but the Cu conductive film 4 is formed only on the surface of the base 1, and the Cu conductive film 4 can be reliably separated by the insulating separator 11.

【0055】更に、絶縁分離体11を含む基体1の表面
全面に、種々の成膜方法によって一旦導電膜4を形成し
た後、絶縁分離体11の表面の導電膜4のみを研磨、レ
ーザートリミング、物理的或いは化学的エッチング等の
方法によって除去してもよい。この中でも、レーザート
リミングは高精度であり好ましい。従来、レーザートリ
ミングによって、基体1の表面に形成された導電膜4に
間隙5を形成する際には、レーザーの熱が基体1にも達
し、基体1の材料を熱変性させ、特性を劣化させてしま
う可能性があったが、絶縁分離体11を備えることによ
って、レーザーの熱による基体1の特性劣化を防ぐこと
ができる。
Further, the conductive film 4 is formed on the entire surface of the substrate 1 including the insulating separator 11 by various film forming methods, and then only the conductive film 4 on the surface of the insulating separator 11 is polished, laser trimmed, It may be removed by a method such as physical or chemical etching. Among them, laser trimming is preferable because of its high accuracy. Conventionally, when the gap 5 is formed in the conductive film 4 formed on the surface of the substrate 1 by laser trimming, the heat of the laser reaches the substrate 1 and the material of the substrate 1 is thermally denatured to deteriorate the characteristics. However, the provision of the insulating separator 11 can prevent the characteristics of the substrate 1 from deteriorating due to the heat of the laser.

【0056】更に、絶縁分離体11、軸芯部8及び傾斜
部10に形成された導電膜4を覆うように、上記した絶
縁性を有する材料を用いて外装材6を充填する。
Further, the exterior material 6 is filled with the above-mentioned insulating material so as to cover the insulating separator 11, the shaft core portion 8 and the conductive film 4 formed on the inclined portion 10.

【0057】次に、端子部9の導電膜4に対して、導電
膜4を覆うように端子電極3を形成する。
Next, a terminal electrode 3 is formed on the conductive film 4 of the terminal portion 9 so as to cover the conductive film 4.

【0058】そして、本発明の実施の形態1におけるコ
ンデンサ100は、外形が略直方体となり、チップコン
デンサとしての実装性に優れる。
The capacitor 100 according to the first embodiment of the present invention has a substantially rectangular parallelepiped outer shape, and is excellent in mountability as a chip capacitor.

【0059】(実施の形態2)図4は、本発明の実施の
形態2におけるコンデンサを示す断面図である。図4に
おいて、110はコンデンサ、Aは端子部9の高さであ
り、Bは軸芯部8の高さである。
(Embodiment 2) FIG. 4 is a sectional view showing a capacitor according to Embodiment 2 of the present invention. In FIG. 4, reference numeral 110 denotes a capacitor, A denotes the height of the terminal portion 9, and B denotes the height of the shaft core portion 8.

【0060】なお、図4では、図1,2で説明した部分
と同じものには同じ符号を付している。そして、本実施
の形態2においては、コンデンサ110を構成する各部
は、実施の形態1で説明したものと同様であり、詳しい
説明は省略する。
In FIG. 4, the same components as those described in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals. Then, in the second embodiment, the components constituting the capacitor 110 are the same as those described in the first embodiment, and a detailed description will be omitted.

【0061】コンデンサ110の基体1は、その機械的
強度、諸特性を維持するために以下のような構成となっ
ている。
The base 1 of the capacitor 110 has the following configuration in order to maintain its mechanical strength and various characteristics.

【0062】即ち、端子部9の高さAと、軸芯部8の高
さBとの寸法比は、B/A=0.5〜0.85である。
つまり、端子部9の高さAと、軸芯部8の高さBの比
が、A:B=1:0.5〜0.85の範囲にある。
That is, the dimensional ratio of the height A of the terminal portion 9 to the height B of the shaft core portion 8 is B / A = 0.5 to 0.85.
That is, the ratio of the height A of the terminal portion 9 to the height B of the shaft core portion 8 is in the range of A: B = 1: 0.5 to 0.85.

【0063】この値が、0.5未満であると、機械的強
度が不足して、コンデンサ製品として品質を維持するこ
とができない。
If this value is less than 0.5, the mechanical strength is insufficient and the quality cannot be maintained as a capacitor product.

【0064】また、この値が、0.85を超えると、充
填される外装材6の厚みが不足し、耐湿性の低下など、
信頼性が悪くなる。
When this value exceeds 0.85, the thickness of the exterior material 6 to be filled becomes insufficient, and the moisture resistance decreases.
The reliability becomes worse.

【0065】なお、本実施の形態2において、コンデン
サ110は傾斜部10を有していない基体1で説明した
が、実施の形態1で説明したコンデンサ100のように
傾斜部10を備えていても良いことは言うまでもない。
In the second embodiment, the capacitor 110 has been described with the base 1 having no inclined portion 10. However, the capacitor 110 may have the inclined portion 10 like the capacitor 100 described in the first embodiment. Needless to say, it's good.

【0066】更に、本実施の形態2におけるコンデンサ
の製造方法は、実施の形態1で説明した製造方法と同様
であり、説明は省略する。
Further, the method of manufacturing the capacitor according to the second embodiment is the same as that described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0067】[0067]

【実施例】次に、本発明のコンデンサについて実施例、
比較例により本発明を詳細に説明する。なお、本発明は
以下の実施例等により、なんら限定されるものではな
い。
EXAMPLES Next, examples of the capacitor of the present invention will be described.
The present invention will be described in detail with reference to comparative examples. The present invention is not limited at all by the following examples and the like.

【0068】(実施例1)主成分であるチタン酸ストロ
ンチウム、チタン酸カルシウム粉末及び添加剤である酸
化ビスマス、酸化チタン、酸化マンガンの各粉末を電子
天秤で所定量を秤量し、ボールミル中に水とともに投入
して所定時間混合し、その後乾燥してベース粉末を得
た。
Example 1 A predetermined amount of each of strontium titanate and calcium titanate powders as main components and bismuth oxide, titanium oxide and manganese oxide powders as additives was weighed by an electronic balance, and water was poured into a ball mill. And mixed for a predetermined time, and then dried to obtain a base powder.

【0069】次に、ベース粉末を通常の窯業手法で造粒
し、所定量を型に入れ押し固めて、焼成炉にて1300
〜1400℃、2時間の条件で焼成して、図1,2に示
すようなセラミック基体1を得た。なお、傾斜部10と
軸芯部8とがなす角度θは95度である。
Next, the base powder is granulated by a usual ceramic technique, a predetermined amount is put into a mold, and is compacted.
By firing at 1400 ° C. for 2 hours, a ceramic substrate 1 as shown in FIGS. 1 and 2 was obtained. The angle θ between the inclined portion 10 and the shaft core 8 is 95 degrees.

【0070】そして、誘電体セラミックスの焼成体であ
るセラミック基体1の表面に無電解メッキが付着しない
タイプの感光性樹脂を塗布し乾燥した。次に、絶縁分離
体11を設ける部分の感光性樹脂に、紫外線を照射して
感光硬化させ、更に、感光性樹脂の残りの未硬化部分を
アルカリ水溶液等で除去し、所定幅の間隙5を有するよ
うパターニングして絶縁分離体11を形成した。
Then, a photosensitive resin of a type to which electroless plating does not adhere was applied to the surface of the ceramic substrate 1 which is a fired body of dielectric ceramics, and dried. Next, the photosensitive resin in the portion where the insulating separator 11 is provided is irradiated with ultraviolet rays to be photosensitive and cured, and the remaining uncured portion of the photosensitive resin is removed with an alkaline aqueous solution or the like. The insulating separator 11 was formed by patterning to have.

【0071】その後、セラミック基体1の表面処理、及
び、無電解メッキの活性処理を行い無電解メッキを施
し、Cuからなる導電膜4を形成した。この時、絶縁分
離体11には、無電解メッキによるCu導電膜4は形成
されることなく、基体1の表面にのみCu導電膜4が形
成され、Cu導電膜4は絶縁分離体11で確実に分離さ
れていた。
Thereafter, the surface treatment of the ceramic substrate 1 and the activation treatment of the electroless plating were performed, and the electroless plating was performed to form the conductive film 4 made of Cu. At this time, the Cu conductive film 4 is formed only on the surface of the base 1 without forming the Cu conductive film 4 by electroless plating on the insulating separator 11, and the Cu conductive film 4 is securely formed by the insulating separator 11. Had been separated.

【0072】次に、熱硬化型のエポキシ樹脂を塗布して
外装材6を形成した。
Next, an exterior material 6 was formed by applying a thermosetting epoxy resin.

【0073】更に、露出している導電膜4上に、電解N
i鍍金を施し、更にその上にSnまたは半田の電解鍍金
を施して、本実施例1のチップ型セラミックコンデンサ
を完成させた(試作数:n=15)。
Further, electrolytic N
The i-plating was performed, and the Sn or solder electrolytic plating was further performed thereon to complete the chip-type ceramic capacitor of the first embodiment (the number of prototypes: n = 15).

【0074】(比較例1)実施例1と同様な組成、形成
方法によって、基体1を一旦作成し、基体1を研磨して
傾斜部10と軸芯部8とがなす角度θが85度である基
体1を得た。また、この基体1を実施例1と同様に加工
して、比較例1のチップ型セラミックコンデンサを完成
させた(試作数:n=15)。
(Comparative Example 1) A substrate 1 was once prepared by the same composition and forming method as in Example 1, and the substrate 1 was polished and the angle θ between the inclined portion 10 and the shaft core 8 was 85 degrees. A certain base 1 was obtained. The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 1 to complete a chip-type ceramic capacitor of Comparative Example 1 (the number of prototypes: n = 15).

【0075】(比較例2)実施例1とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、傾斜部10と軸芯部8とがなす角度θが90度であ
る基体1を得た。また、この基体1を実施例1と同様に
加工して、比較例2のチップ型セラミックコンデンサを
完成させた(試作数:n=15)。
(Comparative Example 2) A substrate in which the angle θ formed between the inclined portion 10 and the shaft core portion 8 was 90 degrees by the same composition and forming method as in Example 1 except that only the mold in which the base powder was placed was changed. 1 was obtained. The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 1 to complete a chip-type ceramic capacitor of Comparative Example 2 (the number of prototypes: n = 15).

【0076】(実施例2)実施例1とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、傾斜部10と軸芯部8とがなす角度θが150度で
ある基体1を得た。また、この基体1を実施例1と同様
に加工して、実施例2のチップ型セラミックコンデンサ
を完成させた(試作数:n=15)。
(Example 2) A substrate in which the angle θ between the inclined portion 10 and the shaft core portion 8 is 150 degrees by the same composition and forming method as in Example 1 except that only the mold in which the base powder is put is changed. 1 was obtained. The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 1 to complete the chip-type ceramic capacitor of Example 2 (the number of prototypes: n = 15).

【0077】(比較例3)実施例1とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、傾斜部10と軸芯部8とがなす角度θが160度で
ある基体1を得た。また、この基体1を実施例1と同様
に加工して、比較例3のチップ型セラミックコンデンサ
を完成させた(試作数:n=15)。
(Comparative Example 3) A substrate in which the angle θ formed by the inclined portion 10 and the shaft core portion 8 was 160 degrees by the same composition and forming method as in Example 1 except that only the mold in which the base powder was placed was changed. 1 was obtained. The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 1 to complete a chip-type ceramic capacitor of Comparative Example 3 (the number of prototypes: n = 15).

【0078】次に、作成した実施例1,2及び比較例1
〜3のチップ型セラミックコンデンサについて次の評価
を行った。
Next, the produced Examples 1 and 2 and Comparative Example 1
The following evaluations were performed on the chip-type ceramic capacitors of Nos. 1 to 3.

【0079】まず、外装材6の気泡発生の有無を確認し
た。評価方法は、傾斜面に垂直に切断した後研磨して、
傾斜部断面を顕微鏡にて観察した(n=5)。更に、耐
電圧平均値を測定した。耐電圧(BDV)は菊水電子製
耐圧計を使用して空気中で直流破壊電圧を測定し(n=
10)、その平均値を算出した。この結果を(表1)に
示す。
First, the presence or absence of bubbles in the exterior material 6 was checked. The evaluation method is to polish after cutting perpendicular to the inclined surface,
The cross section of the inclined portion was observed with a microscope (n = 5). Furthermore, the withstand voltage average value was measured. The withstand voltage (BDV) was measured by measuring the DC breakdown voltage in air using a Kikusui Electronics pressure gauge (n =
10), and the average value was calculated. The results are shown in (Table 1).

【0080】[0080]

【表1】 [Table 1]

【0081】(表1)から明らかなように、傾斜部10
と軸芯部8とがなす角度θが90〜150の範囲であれ
ば、気泡の発生を抑制することが出来ると共に、耐電圧
性も良好であった。
As is clear from Table 1, the inclined portion 10
If the angle θ between the shaft core portion 8 and the shaft core portion 8 is in the range of 90 to 150, the generation of bubbles can be suppressed, and the withstand voltage was also good.

【0082】(実施例3)実施例1とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、図4に示すセラミックの基体1を得た。なお、端子
部9の高さA(2.5mm)と、軸芯部8の高さB
(1.3mm)の比は、A:B=1:0.52である。
Example 3 A ceramic substrate 1 shown in FIG. 4 was obtained by the same composition and forming method as in Example 1 except that only the mold in which the base powder was placed was changed. The height A of the terminal 9 (2.5 mm) and the height B of the shaft core 8
The ratio (1.3 mm) is A: B = 1: 0.52.

【0083】そして、所定幅の間隙5を有するようパタ
ーニングして絶縁分離体11を形成した。その後、セラ
ミック基体1の表面処理、及び、無電解メッキの活性処
理を行い無電解メッキを施し、Cuからなる導電膜4を
形成した。
Then, patterning was performed so as to have a gap 5 having a predetermined width, thereby forming an insulating separator 11. Thereafter, the surface treatment of the ceramic substrate 1 and the activation treatment of the electroless plating were performed, and the electroless plating was performed to form the conductive film 4 made of Cu.

【0084】次に、熱硬化型のエポキシ樹脂を塗布して
外装材6を形成した。
Next, an exterior material 6 was formed by applying a thermosetting epoxy resin.

【0085】更に、露出している導電膜4上に、電解N
i鍍金を施して更にその上にSnまたは半田の電解鍍金
を施して本実施例3のチップ型セラミックコンデンサを
完成させた(試作数:n=20)。
Further, electrolytic N
The i-plating was performed, and the Sn or solder electrolytic plating was further performed thereon to complete the chip type ceramic capacitor of the third embodiment (the number of prototypes: n = 20).

【0086】(比較例4)実施例3とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、端子部9の高さA(2.5mm)と、軸芯部8の高
さB(1.0mm)の比が、A:B=1:0.4である
基体1を得た。また、この基体1を実施例3と同様に加
工して、比較例4のチップ型セラミックコンデンサを完
成させた(試作数:n=20)。
(Comparative Example 4) The height A (2.5 mm) of the terminal portion 9 and the height A substrate 1 having a height B (1.0 mm) ratio of A: B = 1: 0.4 was obtained. The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 3 to complete the chip-type ceramic capacitor of Comparative Example 4 (the number of prototypes: n = 20).

【0087】(実施例4)実施例3とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、端子部9の高さA(2.5mm)と、軸芯部8の高
さB(2.1mm)の比が、A:B=1:0.84であ
る基体1を得た。また、この基体1を実施例3と同様に
加工して、実施例4のチップ型セラミックコンデンサを
完成させた(試作数:n=20)。
(Example 4) The height A (2.5 mm) of the terminal part 9 and the height of the shaft core part 8 were changed by the same composition and forming method as in Example 3 except that only the mold in which the base powder was put was changed. A substrate 1 having a height B (2.1 mm) ratio of A: B = 1: 0.84 was obtained. The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 3 to complete the chip-type ceramic capacitor of Example 4 (the number of prototypes: n = 20).

【0088】(比較例5)実施例3とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、端子部9の高さA(2.5mm)と、軸芯部8の高
さB(2.3mm)の比が、A:B=1:0.92であ
る基体1を得た。また、この基体1を実施例3と同様に
加工して、比較例5のチップ型セラミックコンデンサを
完成させた(試作数:n=20)。
(Comparative Example 5) The height A (2.5 mm) of the terminal portion 9 and the height of the shaft core portion 8 were changed by the same composition and forming method as in Example 3 except that only the mold in which the base powder was put was changed. A substrate 1 having a height B (2.3 mm) ratio of A: B = 1: 0.92 was obtained. The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 3 to complete a chip-type ceramic capacitor of Comparative Example 5 (the number of prototypes: n = 20).

【0089】次に、作成した実施例3,4及び比較例
4,5のチップ型セラミックコンデンサについて次の評
価を行った。
Next, the chip-type ceramic capacitors of Examples 3 and 4 and Comparative Examples 4 and 5 were evaluated as follows.

【0090】まず、耐電圧平均値を測定した。耐電圧
(BDV)は菊水電子製耐圧計を使用して空気中で直流
破壊電圧を測定し(n=10)、その平均値を算出し
た。また、ショートした部位の特定も行った。更に、た
わみ強度を測定した。たわみ強度は、JIS C642
9付属書2に基づき、プリント基板のランド部にクリー
ム半田を塗着し、リフロー工程により、各チップ型セラ
ミックコンデンサを半田付けし、所定の治具を使用し、
チップ型セラミックコンデンサをプリント基板ごとたわ
み応力を加えて、チップ型セラミックコンデンサが破壊
するまでのたわみの寸法を測定し(n=10)、その平
均値を算出した。
First, the withstand voltage average value was measured. The withstand voltage (BDV) was obtained by measuring the DC breakdown voltage in air using a Kikusui Electronics pressure gauge (n = 10), and calculating the average value. In addition, the short-circuited part was specified. Further, the flexural strength was measured. The flexural strength is JIS C642
9 Based on Annex 2, apply cream solder to the land of the printed circuit board, solder each chip type ceramic capacitor by reflow process, and use a predetermined jig.
A bending stress was applied to the chip-type ceramic capacitor together with the printed circuit board until the chip-type ceramic capacitor was broken (n = 10), and the average value was calculated.

【0091】これらの結果を(表2)に示す。The results are shown in (Table 2).

【0092】[0092]

【表2】 [Table 2]

【0093】(表2)から明らかなように、端子部9の
高さAと、軸芯部8の高さBの比が、A:B=1:0.
5〜0.85の範囲であれば、機械的強度及び耐電圧も
維持可能であった。
As is clear from Table 2, the ratio of the height A of the terminal portion 9 to the height B of the shaft core portion 8 is A: B = 1: 0.
Within the range of 5 to 0.85, the mechanical strength and the withstand voltage could be maintained.

【0094】また、耐電圧、たわみ強度については、平
均値に加え、最小値を記載している。更に、B/Aが大
きくなると、ショート部位は間隙5から外装材6表面へ
と移行した。
As for the withstand voltage and the bending strength, the minimum value is described in addition to the average value. Furthermore, when B / A became large, the short-circuited part moved from the gap 5 to the surface of the exterior material 6.

【0095】(実施例5)実施例1とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、図1,2に示すようなセラミック基体1を得た。
Example 5 A ceramic substrate 1 as shown in FIGS. 1 and 2 was obtained by the same composition and forming method as in Example 1 except that only the mold in which the base powder was placed was changed.

【0096】そして、所定幅の間隙5を有するようパタ
ーニングして絶縁分離体11を形成した。その後、セラ
ミック基体1の表面処理、及び、無電解メッキの活性処
理を行い無電解メッキを施し、Cuからなる導電膜4を
形成した。
Then, patterning was performed so as to have a gap 5 having a predetermined width, thereby forming an insulating separator 11. Thereafter, the surface treatment of the ceramic substrate 1 and the activation treatment of the electroless plating were performed, and the electroless plating was performed to form the conductive film 4 made of Cu.

【0097】次に、熱硬化型のエポキシ樹脂を塗布して
外装材6を形成した。
Next, an exterior material 6 was formed by applying a thermosetting epoxy resin.

【0098】更に、露出している導電膜4上に、Ni鍍
金を施して更にその上にSnまたは半田の電解鍍金を施
して本実施例5のチップ型セラミックコンデンサを完成
させた(試作数:n=120)。
Further, the exposed conductive film 4 was plated with Ni, and further, electrolytic plating of Sn or solder was further performed thereon to complete the chip-type ceramic capacitor of Example 5 (the number of prototypes: n = 120).

【0099】(比較例6)実施例5とベース粉末を入れ
る型のみを変え、その他は同様な組成、形成方法によっ
て、図7に示すようなセラミック基体1を得た。また、
この基体1を実施例5と同様に加工して、比較例6のチ
ップ型セラミックコンデンサを完成させた(試作数:n
=120)。
Comparative Example 6 A ceramic substrate 1 as shown in FIG. 7 was obtained by the same composition and forming method as in Example 5 except that only the mold in which the base powder was placed was changed. Also,
The substrate 1 was processed in the same manner as in Example 5 to complete the chip-type ceramic capacitor of Comparative Example 6 (the number of prototypes: n).
= 120).

【0100】なお、実施例5及び比較例6の外形寸法、
端子部9、軸芯部8の寸法、傾斜部10と軸芯部8とが
なす角度θを(表3)にまとめて示す。
Note that the outer dimensions of Example 5 and Comparative Example 6
Table 3 summarizes the dimensions of the terminal portion 9 and the shaft core 8, and the angle θ between the inclined portion 10 and the shaft core 8.

【0101】[0101]

【表3】 [Table 3]

【0102】なお、実施例5のチップ型セラミックコン
デンサにおいては、端子部9の断面形状、軸芯部8の断
面形状が共に略長方形であり、(表3)に示すように、
寸法はそれぞれ、端子部9=幅3.2mm×高さ2.5
mm、軸芯部8=幅2.2mm×高さ1.5mmとなっ
ている。そして、端子部9の高さ(2.5mm)と、軸
芯部8の高さ(1.5mm)の比は1:0.6、端子部
9の幅(3.2mm)と、軸芯部8の幅(2.2mm)
の比は1:0.69であり、本発明による1:0.5〜
0.85の範囲を満たすものである。また、傾斜部10
は軸芯部8(長さ2.3mm)とその両端にある端子部
9(長さ各0.6mm)間の幅0.5mm内で傾斜する
ものである。
In the chip type ceramic capacitor of the fifth embodiment, the cross-sectional shape of the terminal portion 9 and the cross-sectional shape of the shaft core portion 8 are both substantially rectangular, as shown in Table 3.
The dimensions are respectively terminal part 9 = width 3.2 mm × height 2.5
mm, shaft core 8 = 2.2 mm width x 1.5 mm height. The ratio of the height (2.5 mm) of the terminal portion 9 to the height (1.5 mm) of the shaft core portion 8 is 1: 0.6, the width of the terminal portion 9 (3.2 mm), and Width of part 8 (2.2 mm)
Is 1: 0.69, according to the invention from 1: 0.5 to
It satisfies the range of 0.85. Also, the inclined portion 10
Is inclined within 0.5 mm in width between the shaft core 8 (2.3 mm in length) and the terminal portions 9 (0.6 mm in length) at both ends thereof.

【0103】次に、作成した実施例5及び比較例6のチ
ップ型セラミックコンデンサについて次の評価を行っ
た。
Next, the chip type ceramic capacitors of Example 5 and Comparative Example 6 were evaluated as follows.

【0104】まず、耐電圧を測定した。耐電圧(BD
V)は菊水電子製耐圧計を使用して空気中で直流破壊電
圧を測定した(n=10)。静電容量(Cap)および
Q値はYHP製LCRメータ4284Aを使用して1V
/1MHzの信号電圧下で測定した(n=10)。
First, the withstand voltage was measured. Withstand voltage (BD
V) The DC breakdown voltage was measured in air using a Kikusui Electronics pressure gauge (n = 10). Capacitance (Cap) and Q value were measured at 1 V using an LCR meter 4284A made by YHP.
The measurement was performed under a signal voltage of / 1 MHz (n = 10).

【0105】この結果を(表4)に示す。The results are shown in (Table 4).

【0106】[0106]

【表4】 [Table 4]

【0107】更に、プリント基板のランド部にクリーム
半田を塗着し、リフロー工程により、各チップ型セラミ
ックコンデンサを半田付けし、その接続状態を評価した
(n=100)。
Further, cream solder was applied to the lands of the printed circuit board, and each chip-type ceramic capacitor was soldered by a reflow process, and the connection state was evaluated (n = 100).

【0108】この結果を(表5)に示す。The results are shown in (Table 5).

【0109】[0109]

【表5】 [Table 5]

【0110】(表4),(表5)から明らかなように、
本発明のコンデンサは、電気特性も良好であり、実装性
にも優れるものであった。
As apparent from (Table 4) and (Table 5),
The capacitor of the present invention has good electric characteristics and excellent mountability.

【0111】[0111]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、所望の
静電容量を安定して得ることが可能で、信頼性の高いコ
ンデンサを提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to stably obtain a desired capacitance and to provide a highly reliable capacitor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1におけるコンデンサを示
す透視斜視図
FIG. 1 is a perspective view showing a capacitor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1におけるコンデンサを示
す断面図
FIG. 2 is a sectional view showing a capacitor according to the first embodiment of the present invention.

【図3】(a)本発明の実施の形態1におけるコンデン
サを示す断面図 (b),(c)本発明の実施の形態1におけるコンデン
サの他の例を示す断面図
3A is a cross-sectional view illustrating a capacitor according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating another example of the capacitor according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態2におけるコンデンサを示
す断面図
FIG. 4 is a sectional view showing a capacitor according to a second embodiment of the present invention.

【図5】従来の積層チップコンデンサを示す斜視図FIG. 5 is a perspective view showing a conventional multilayer chip capacitor.

【図6】従来の積層チップコンデンサの断面図FIG. 6 is a sectional view of a conventional multilayer chip capacitor.

【図7】従来のコンデンサの断面図FIG. 7 is a sectional view of a conventional capacitor.

【図8】従来のコンデンサの断面図FIG. 8 is a sectional view of a conventional capacitor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基体 2 内部電極 3 端子電極 4 導電膜 5 間隙 6 外装材 7 凹部 8 軸芯部 9 端子部 10 傾斜部 11 絶縁分離体 20 積層チップコンデンサ 30,40,100,110 コンデンサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 Internal electrode 3 Terminal electrode 4 Conductive film 5 Gap 6 Exterior material 7 Concave part 8 Shaft core part 9 Terminal part 10 Inclined part 11 Insulating separator 20 Multilayer chip capacitor 30,40,100,110 capacitor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 次郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 池邉 庄一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E082 AA01 BB04 EE23  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Jiro Ota 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F term (reference) 5E082 AA01 BB04 EE23

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】両端に端子部と、前記端子部よりも外周に
亘って凹んだ軸芯部とを備えた基体と、前記軸芯部に形
成された絶縁分離体と、前記基体の表面に形成され、前
記絶縁分離体で分離された導電膜とを備えたことを特徴
とするコンデンサ。
A base provided with terminal portions at both ends and a shaft core portion depressed over the outer periphery of the terminal portion; an insulating separator formed on the shaft core portion; And a conductive film formed by the insulating separator.
【請求項2】前記絶縁分離体が、感光性樹脂で形成され
たことを特徴とする請求項1記載のコンデンサ。
2. The capacitor according to claim 1, wherein said insulating separator is made of a photosensitive resin.
【請求項3】前記両端の端子部間に、前記軸芯部を覆う
外装材を備えたことを特徴とする請求項1,2いずれか
1記載のコンデンサ。
3. The capacitor according to claim 1, further comprising an exterior material covering the shaft core between the terminal portions at both ends.
【請求項4】前記外装材と前記両端の端子部が、略面一
であることを特徴とする請求項3記載のコンデンサ。
4. The capacitor according to claim 3, wherein said exterior material and said terminal portions at both ends are substantially flush with each other.
【請求項5】前記端子部の導電膜の上に、端子電極を備
えたことを特徴とする請求項1〜4いずれか1記載のコ
ンデンサ。
5. The capacitor according to claim 1, wherein a terminal electrode is provided on the conductive film of the terminal portion.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016031270A1 (en) * 2014-08-27 2016-03-03 株式会社村田製作所 Electricity storage device

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