JP2002348378A - Novel polyorganosilsesquioxane and process for producing the same - Google Patents
Novel polyorganosilsesquioxane and process for producing the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、耐燃焼性
及び可撓性の優れた、同じかまたは異なる種類の置換基
が交互に結合した、高規則性を有するポリオルガノシル
セスキオキサン及びその製造方法に関するものである。The present invention relates to a highly ordered polyorganosilsesquioxane having excellent heat resistance, flame resistance and flexibility, wherein the same or different types of substituents are alternately bonded. And a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のポリオルガノシルセスキオキサン
は、アルカリ触媒の存在下で、トリクロロシラン或いは
トリエトキシシランを加水分解して得られる 高い分子
量のオリゴマーを、N-メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキシド及びメチルイソプロペニルケトンのような高粘
度溶媒の中で加熱重縮合させることにより得られる[Bro
wn et al., J. Am. Chem. Soc., 82, 6194 (1960)]。
しかしながら、上記の製造方法は、加水分解と同時に縮
合反応が進行するため、前駆体(シラントリオール)では
なく、オリゴマー(Mn=1000〜3000, Mw/Mn>2)が生成する
傾向にあり、このオリゴマーを利用してアルカリ触媒下
で重合した重合体は、次のような短所がある。 1) 一般的に、分子量分布が大きく、分子量調節及び高
分子量化が困難である(Mn=20000〜30000以下)。 2) 加水分解物であるオリゴマーの構造欠陥及びランダ
ムな構造により、 三次元的網目構造を形成し易いた
め、有機溶媒に不溶である。更に、フェニルシラントリ
オールから シリコーンラダーポリマーを合成する方法
[L. J. Tyler et al., J. Am. Chem. Soc., 77, 770 (1
955), T. Takiguchiet al., J. Am. Chem. Soc., 81, 2
359 (1959), E. C. Lee et al., Polymer Journal, 29
(8), 678 (1997)]においては数平均分子量(Mn)が1,000
〜1,000,000、分子量分布(Mw/Mn)が2以下の高規則性重
合体が得られるが、シラントリオールを高純度で得るた
めには製造工程が複雑化し、かつ室温でフェニルシラン
トリオールの取り扱いが困難であり、更に、収率が極め
て低い(10〜20%以下)ので、非経済的であるという問題
があった。2. Description of the Related Art Conventional polyorganosilsesquioxanes are obtained by hydrolyzing trichlorosilane or triethoxysilane in the presence of an alkali catalyst to obtain high molecular weight oligomers such as N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide and methyl. It is obtained by heating polycondensation in a high viscosity solvent such as isopropenyl ketone [Bro
wn et al., J. Am. Chem. Soc., 82, 6194 (1960)].
However, in the above-described production method, the condensation reaction proceeds simultaneously with the hydrolysis, so that not the precursor (silanetriol), but an oligomer (Mn = 1000 to 3000, Mw / Mn> 2) tends to be generated. Polymers polymerized under the alkali catalyst using oligomers have the following disadvantages. 1) Generally, the molecular weight distribution is large, and it is difficult to control the molecular weight and increase the molecular weight (Mn = 20,000 to 30,000 or less). 2) It is insoluble in organic solvents because it is easy to form a three-dimensional network due to structural defects and random structure of the oligomer that is a hydrolyzate. Further, a method of synthesizing a silicone ladder polymer from phenylsilanetriol
[LJ Tyler et al., J. Am. Chem. Soc., 77, 770 (1
955), T. Takiguchi et al., J. Am. Chem. Soc., 81, 2
359 (1959), EC Lee et al., Polymer Journal, 29
(8), 678 (1997)] has a number average molecular weight (Mn) of 1,000.
~ 1,000,000, a highly ordered polymer having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 2 or less can be obtained, but the production process is complicated to obtain silanetriol with high purity, and it is difficult to handle phenylsilanetriol at room temperature. In addition, there is a problem that the yield is extremely low (10 to 20% or less), which is uneconomical.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、このよ
うな問題点を解消するため、取り扱いが簡便でポリマー
の主鎖に規則的にR及びR'-SiO3/2を容易に導入できる新
たな分子モデルを設計し、また、その重合方法について
検討した。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve such problems, the present inventors have made it easy to handle and easily introduce R and R'-SiO 3/2 into the main chain of a polymer. A new molecular model was designed and the polymerization method was examined.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明の構成は以下のと
おりである。 (1)本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは以下
の一般式で表される。The structure of the present invention is as follows. (1) The polyorganosilsesquioxane of the present invention is represented by the following general formula.
【化3】 (式中、R1及びR2は、水素原子、炭素数1から30のア
ルキル基、炭素数5から30の置換または非置換芳香族
基、炭素数1から30の置換または非置換アリル基、炭
素数3から30の置換または非置換環状化合物残基、炭
素数1から30の置換または非置換アシル基、ビニル
基、アミン残基、または酢酸残基をそれぞれ独立に示
し、nは1およびそれ以上の整数のうちいずれかを示
す。) (2)上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基等を例示でき、また、上記芳香族基として
は、フェニル基、ハロゲン化フェニル基等が好ましい。 (3)本発明の、上記ポリオルガノシルセスキオキサン
の製造方法は、下記の一般式で表される1,3-オルガノジ
シロキサンから製造される。Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted allyl group having 1 to 30 carbon atoms, A substituted or unsubstituted cyclic compound residue having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted acyl group having 1 to 30 carbon atoms, a vinyl group, an amine residue, or an acetic acid residue is independently shown, and n is 1 and Any of the above integers is shown.) (2) As the alkyl group, a methyl group, an ethyl group,
A propyl group and the like can be exemplified, and the aromatic group is preferably a phenyl group, a halogenated phenyl group or the like. (3) The method for producing the polyorganosilsesquioxane of the present invention is produced from 1,3-organodisiloxane represented by the following general formula.
【化4】 (式中、Xは、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、
アミノ基またはカルボキシ基を示し;Rは、水素原子、
アルキル基、酢酸残塩、ナトリウムまたはカリウムの金
属を示す。) (4)前記縮合反応は、触媒の非存在下で、または、ア
ルカリ金属の水酸化物、アミン、第4級アンモニウム
塩、およびフッ化物よりなる群から選択される少なくと
も1種の触媒の存在下で行われることを特徴とする。 (5) 上記アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化セシウム等を例
示でき、上記アミンとしては、トリエチルアミン、ジエ
チレントリアミン、m-ブチルアミン、p-ジメチルアミン
エタノール、トリエタノールアミン等が好ましい。 (6) 前記縮合触媒の濃度は、1,3-オルガノジシロキ
サンに対して0.01-20重量%の範囲であることを特徴とす
る。Embedded image (Wherein X is a hydrogen atom, a chlorine atom, a hydroxyl group,
Represents an amino group or a carboxy group; R is a hydrogen atom,
Alkyl group, acetic acid residue, sodium or potassium metal. (4) The condensation reaction is carried out in the absence of a catalyst or in the presence of at least one catalyst selected from the group consisting of an alkali metal hydroxide, an amine, a quaternary ammonium salt, and a fluoride. It is characterized in that it is performed below. (5) Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide, potassium hydroxide and cesium hydroxide. Examples of the amine include triethylamine, diethylenetriamine, m-butylamine, p-dimethylamineethanol, and triethanol. Amines and the like are preferred. (6) The concentration of the condensation catalyst is in the range of 0.01 to 20% by weight based on 1,3-organodisiloxane.
【0005】[0005]
【発明の実施の態様】本発明は、シリコーンラダーポリ
マーの構造を制御するために原料として上記[化2]の
一般式で表される1,3-オルガノジシロキサンを利用する
方法であり、また、その新たな重合方法である。本発明
において、1.3-オルガノジシロキサンは、一般的な有機
溶媒に可溶であり、更に、生成された重合体は、トルエ
ン、キシレン、ベンゼン及びクロロベンゼンのような芳
香族の炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、ジク
ロロエチレン、トリクロロエチレン、トリクロロエンタ
ンのようなハロゲン炭化水素類;テトラヒドロフラン、
1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル
のようなエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルエーテルケトン等のケトン類;また、ブチルアセ
タート、エチルアセタート、メチルアセタート等のエス
テル類とジメチルホルムアミド等のような一般的有機溶
媒に可溶である。更に、1,3-オルガノジシロキサンの濃
度は、30〜80重量%範囲で使用することが望ましい。30
重量%より低い濃度では、縮合反応が遅くて充分な反応
が進まない。その反面、80重量%より高い濃度では、反
応中にゲル化が起こる可能性がある。1,3-オルガノジシ
ロキサン溶液に添加して縮合反応を促進する触媒は、そ
の使用が自由であるが、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム及び水酸化セシウムのようなアルカリ金属水酸化
物、トリエチルアミン、ジエチレントリアミン、m-ブチ
ルアミン、p-ジメチルアミン エタノール、トリエタノ
ールアミンのようなアミン類、或いは第4級アンモニウ
ム塩類、フッ化物等を使用することが好ましい。縮合触
媒の濃度は、1,3-オルガノジシロキサンに対して0.01〜
20重量%の範囲で利用することが適合である。本発明に
よると、1,3-オルガノジシロキサン溶液を加熱して縮合
反応を進行させることができる。好ましい反応温度は50
〜350℃の範囲で反応させることができるが、より好ま
しくは100-150℃の範囲である。反応時間は、触媒を使
用した場合には、6〜50時間の範囲で調節することがで
きるが触媒を使用しない場合には、高温で長時間にかけ
て反応させる必要がある。1,3-オルガノジシロキサンの
純度が90%以上の場合には、上記の操作により充分に高
分子量の重合体が得られる。このように本発明は次の合
成例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明は、これ
らに限定されるものではない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a method of using a 1,3-organodisiloxane represented by the above general formula (2) as a raw material for controlling the structure of a silicone ladder polymer. , A new polymerization method. In the present invention, the 1.3-organodisiloxane is soluble in common organic solvents, and the resulting polymer is aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, benzene and chlorobenzene; methylene chloride , Chloroform, dichloroethylene, trichloroethylene, halogenated hydrocarbons such as trichloroentane; tetrahydrofuran,
Ethers such as 1,4-dioxane, diethyl ether, dibutyl ether; acetone, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl ether ketone; soluble in esters such as butyl acetate, ethyl acetate and methyl acetate and common organic solvents such as dimethylformamide. Further, it is desirable to use the 1,3-organodisiloxane in a concentration of 30 to 80% by weight. 30
When the concentration is lower than the weight%, the condensation reaction is slow and a sufficient reaction does not proceed. On the other hand, if the concentration is higher than 80% by weight, gelation may occur during the reaction. The catalyst which promotes the condensation reaction by being added to the 1,3-organodisiloxane solution may be used freely, but alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and cesium hydroxide, triethylamine, It is preferable to use amines such as diethylenetriamine, m-butylamine, p-dimethylamine, ethanol and triethanolamine, or quaternary ammonium salts, fluoride and the like. The concentration of the condensation catalyst is from 0.01 to 1,3-organodisiloxane.
Suitable for use in the range of 20% by weight. According to the present invention, the 1,3-organodisiloxane solution can be heated to cause the condensation reaction to proceed. The preferred reaction temperature is 50
The reaction can be carried out in the range of -350 ° C, more preferably in the range of 100-150 ° C. The reaction time can be adjusted in the range of 6 to 50 hours when a catalyst is used, but when no catalyst is used, the reaction needs to be performed at a high temperature for a long time. When the 1,3-organodisiloxane has a purity of 90% or more, a polymer having a sufficiently high molecular weight can be obtained by the above operation. Thus, the present invention will be described in more detail based on the following synthesis examples, but the present invention is not limited to these.
【0006】[0006]
【実施例】合成例1 一口の丸底フラスコ(50 ml)に滴下漏斗(10 ml)を連結
し、磁石攪拌装置を装着した後、乾燥された窒素気体を
追加させながら、火炎乾燥させた。還流コンデンサを装
着した 丸底フラスコ(50 ml)にトルエン(20ml)を装入し
て110℃で加熱した。7.8gの1,1,1-ジクロロフェニル-3,
3,3-ジメトキシメチルジシロキサン[PhCl2Si-O-Si-Me(O
Me)2] (図面1参照)を、窒素雰囲気下で1滴/1分の速度
で滴下して反応を進行させた。滴下の終った後、反応温
度を120℃まで昇温し、さらに24時間にかけて反応を進
行させた。反応の終了後、10mlの3次蒸留水を加えて10
0℃で3時間にかけて攪拌し、反応を終了させた。反応
混合溶液を過量のメタノールに滴下し、約1〜2時間にか
けて攪拌させた。生成された沈殿物を濾過し、白色粉末
の反応生成(収率:92%, 7.18g)を得た。反応生成物を、
110℃で10時間にかけて真空乾燥させ、分析試料として
使用した。生成された重合体の数平均分子量(Mn)は12,0
00、分子量分布(Mw/Mn)は1.38であった。生成された重
合体の構造分析は、1H NMRおよびIRで行った。1H NMRに
よると、Si-CH3基の化学シフトが0.15ppm、Si-OH基の化
学シフトが1.5ppm、Si-Ph基の化学シフトが7.1-7.6ppm
でそれぞれ認められた。特に、CH3/Phの積分比が31.12:
53.57であり、理論値(3:5)の比と一致した(図面2参
照)。さらに、得られたポリマーは、 IRでラダーの特徴
であるシロキサン結合(Si-O-Si)の非対照伸縮振動(理論
値:1040, 1140cm-1)が 1035.5及び1137.9cm-1にて二重
ピークで認められた(図面3参照)。上記の結果、本発明
の重合体は、化学式1の構造であることが認められた。EXAMPLES Synthesis Example 1 A dropping funnel (10 ml) was connected to a single-necked round-bottomed flask (50 ml), a magnet stirrer was attached, and the mixture was flame-dried while adding dried nitrogen gas. A round bottom flask (50 ml) equipped with a reflux condenser was charged with toluene (20 ml) and heated at 110 ° C. 7.8 g of 1,1,1-dichlorophenyl-3,
3,3-dimethoxymethyldisiloxane [PhCl 2 Si-O-Si-Me (O
Me) 2 ] (see FIG. 1) was added dropwise at a rate of 1 drop / 1 minute under a nitrogen atmosphere to allow the reaction to proceed. After the completion of the dropwise addition, the reaction temperature was raised to 120 ° C., and the reaction was allowed to proceed for another 24 hours. After completion of the reaction, 10 ml of tertiary distilled water was added to add 10 ml.
The mixture was stirred at 0 ° C. for 3 hours to complete the reaction. The reaction mixture solution was added dropwise to an excessive amount of methanol, and stirred for about 1 to 2 hours. The resulting precipitate was filtered to obtain a white powder as a reaction product (yield: 92%, 7.18 g). The reaction product is
It was vacuum dried at 110 ° C. for 10 hours and used as an analysis sample. The number average molecular weight (Mn) of the produced polymer is 12,0
The molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.38. Structural analysis of the produced polymer was performed by 1 H NMR and IR. According to 1 H NMR, the chemical shift of the Si-CH 3 group is 0.15 ppm, the chemical shift of the Si-OH group is 1.5 ppm, and the chemical shift of the Si-Ph group is 7.1-7.6 ppm.
Respectively. In particular, the CH 3 / Ph integration ratio is 31.12:
53.57, consistent with the ratio of the theoretical values (3: 5) (see FIG. 2). In addition, the obtained polymer shows that the asymmetric stretching vibration (theoretical values: 1040, 1140 cm -1 ) of the siloxane bond (Si-O-Si), which is a characteristic of the ladder in IR, is double at 1035.5 and 1137.9 cm -1 . A peak was observed (see FIG. 3). As a result, it was confirmed that the polymer of the present invention had the structure of Chemical Formula 1.
【0007】合成例2 実験装置は、合成例1と同様に装着した。還流コンデン
サを装着された丸底フラスコ(50 ml)に10mlのジメチル
スルホキシドを入れて110℃で加熱した。他に製造され
た5gの1,1,1-ジクロロメチル-3,3,3-フェニルジソジウ
メレート ジシロキサン[MeCl2Si-O-SiPh(ONa)2] (図面
4参照)をジメチルスルホキシドに溶かした溶液を、乾
燥された窒素気体を通過させながら、滴下漏斗に移して
激烈に攪拌させながら、製造された溶液を徐々に滴下(1
滴/3分)させた。 滴下の終った後、反応温度を120℃ま
で昇温し、24時間にかけて反応を進行させた。生成され
た重合体の数平均分子量(Mn)は12,000、分子量分布(Mw/
Mn)は1.38であった。反応の終了後、10mlの3次蒸留水
を加えて、乾燥された二酸化炭素ガスでバブリングさせ
ながら、さらに攪拌して3時間 反応させた。 反応混合
溶液を過量のメタノールに滴下し、約2時間にかけて攪
拌させた。生成された沈殿物を濾過し、白色粉末の反応
生成(収率:90.8%, 4.54g)を得た。 反応生成物を、110
℃で10時間にかけて真空乾燥させ、分析試料として使用
した。生成された重合体の数平均分子量(Mn)は48,000、
分子量分布(Mw/Mn)は1.51として3以下であった。生成
された重合体の構造分析は合成例1と同じであった。Synthesis Example 2 The experimental apparatus was mounted in the same manner as in Synthesis Example 1. A round bottom flask (50 ml) equipped with a reflux condenser was charged with 10 ml of dimethyl sulfoxide and heated at 110 ° C. 5 g of 1,1,1-dichloromethyl-3,3,3-phenyldisodiumemelate disiloxane [MeCl 2 Si—O—SiPh (ONa) 2 ] (see FIG. 4) produced by another method was converted to dimethyl sulfoxide. The solution dissolved in (1) was transferred to a dropping funnel while passing dry nitrogen gas through, while stirring vigorously, the produced solution was gradually dropped (1).
Drops / 3 minutes). After the addition was completed, the reaction temperature was raised to 120 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 24 hours. The number average molecular weight (Mn) of the produced polymer is 12,000, and the molecular weight distribution (Mw /
Mn) was 1.38. After completion of the reaction, 10 ml of tertiary distilled water was added, and the mixture was further stirred and reacted for 3 hours while bubbling with dried carbon dioxide gas. The reaction mixture solution was added dropwise to an excessive amount of methanol, and stirred for about 2 hours. The generated precipitate was filtered to obtain a white powder as a reaction product (yield: 90.8%, 4.54 g). The reaction product is
The sample was vacuum-dried at 10 ° C. for 10 hours and used as an analytical sample. The number average molecular weight (Mn) of the produced polymer is 48,000,
The molecular weight distribution (Mw / Mn) was 3 or less as 1.51. The structural analysis of the produced polymer was the same as in Synthesis Example 1.
【0008】合成例3 一口の丸底フラスコ(10 ml)と三口の丸底フラスコ(500m
l)に滴下漏斗を連結し、それぞれ磁石攪拌装置を装着し
た後、乾燥された窒素気体を通過させながら、火炎乾燥
させた。窒素雰囲気下で10gの1,1,1-ジクロロフェニル-
3,3,3-ジメトキシメチル ジシロキサンを80mlのトルエ
ンに溶解させた後、100 mlのフラスコに入れ、混合溶液
の温度が3℃になるまで攪拌させた後、滴下漏斗に移し
た。310 mlの蒸留水と500 mlの氷を三口の丸底フラスコ
に入れ、激烈に攪拌させながら、徐々に混合溶液を滴下
(1滴/1秒)して加水分解反応を行った。滴下の終了後、
約20-30にかけて攪拌させ、加水分解反応を終了させ
た。反応溶液を分液漏斗に移し、水層とトルエン層を分
離した後、水層は反応副生成物である塩酸を冷却した70
重量%の炭酸水素ナトリウム水溶液で pH 7になるまで中
和させた。加水分解物は、解凍法により水層から生成さ
れた沈殿物を濾過して加水分解物[Ph(OH)2Si-O-SiMe(OM
e)2] (図面5参照)を9.4g(収率:94重量%)を得た。ディ
ーン−シュタルク管(Dean-Stark tube)を装着した丸底
フラスコ(50ml)において、上記の9.4gの加水分解物を10
mlのトルエンに溶解させ、0.94mg(0.01重量%)のKOHを入
れて120℃で16時間にかけて重縮合させた。反応の終了
後、反応溶液を過量のメタノールに滴下した後、生成さ
れた沈殿物を濾過して9g(収率:95.7%)の白色粉末の反
応生成物を得た。反応生成物は110℃で10時間、真空・
乾燥させた後分析試料として使用した。生成された重合
体の数平均分子量(Mn)は78,000、分子量分布(Mw/Mn)は
1.32であった。生成された重合体の構造分析は合成例1
と同じであった。Synthesis Example 3 One-necked round bottom flask (10 ml) and three-necked round bottom flask (500 m
A dropping funnel was connected to l), and a magnetic stirrer was attached to each of them. Then, the mixture was flame-dried while passing dried nitrogen gas. Under a nitrogen atmosphere, 10 g of 1,1,1-dichlorophenyl-
After dissolving 3,3,3-dimethoxymethyldisiloxane in 80 ml of toluene, the mixture was placed in a 100 ml flask, stirred until the temperature of the mixed solution reached 3 ° C., and then transferred to a dropping funnel. Add 310 ml of distilled water and 500 ml of ice to a three-necked round bottom flask, and slowly add the mixed solution while stirring vigorously.
(1 drop / 1 second) to carry out a hydrolysis reaction. After dropping,
The mixture was stirred for about 20-30 to terminate the hydrolysis reaction. The reaction solution was transferred to a separatory funnel, and after separating the aqueous layer and the toluene layer, the aqueous layer was cooled with hydrochloric acid as a reaction by-product.
Neutralized to pH 7 with a 1% by weight aqueous sodium hydrogen carbonate solution. The hydrolyzate is obtained by filtering the precipitate generated from the aqueous layer by the thawing method and filtering the hydrolyzate [Ph (OH) 2 Si-O-SiMe (OM
e) 2 ] (see FIG. 5) to obtain 9.4 g (yield: 94% by weight). In a round bottom flask (50 ml) equipped with a Dean-Stark tube, 9.4 g of the hydrolyzate
The resultant was dissolved in ml of toluene, and 0.94 mg (0.01% by weight) of KOH was added thereto, followed by polycondensation at 120 ° C. for 16 hours. After the completion of the reaction, the reaction solution was dropped into an excessive amount of methanol, and the generated precipitate was filtered to obtain 9 g (yield: 95.7%) of a reaction product as a white powder. The reaction product is vacuum
After drying, it was used as an analytical sample. The number average molecular weight (Mn) of the produced polymer is 78,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) is
1.32. Structural analysis of the polymer produced is Synthesis Example 1.
Was the same as
【0009】[0009]
【発明の効果】本発明の製造方法により得られるポリオ
ルガノシルセスキオキサンは、耐熱性材料として有用
し、側鎖の違いによって耐熱塗布剤、光繊維の保護塗布
剤、抵抗体の塗布材料及耐熱塗料、接着剤、離形剤等に
有用な物資である。更に、半導体の保護膜、層間絶縁膜
(LSI)、レジスト 材料、新規な耐熱性フォトレジスト、
および機能性フォトニック材料として利用することがで
きる。The polyorganosilsesquioxane obtained by the production method of the present invention is useful as a heat-resistant material. The heat-resistant coating material, the protective coating material for optical fibers, the coating material for a resistor and the like are used depending on the side chain. It is a useful material for heat-resistant paints, adhesives, mold release agents, etc. In addition, semiconductor protective film, interlayer insulating film
(LSI), resist material, new heat-resistant photoresist,
And it can be used as a functional photonic material.
【図1】 1,1,1-ジクロロフェニル-3,3,3-ジメトキシ
ロキサンの1H NMRスペクトルである。FIG. 1 is a 1 H NMR spectrum of 1,1,1-dichlorophenyl-3,3,3-dimethoxyloxane.
【図2】 本発明の合成例1で製造された重合体の1H N
MRスペクトルである。FIG. 2 shows 1 HN of the polymer produced in Synthesis Example 1 of the present invention.
It is an MR spectrum.
【図3】 本発明の合成例1で製造された重合体のIRス
ペクトルである。FIG. 3 is an IR spectrum of the polymer produced in Synthesis Example 1 of the present invention.
【図4】 1,1,1-ジクロロメチル-3,3,3-フェニルジソ
ジウメートジシロキサンの1H NMRスペクトルである。FIG. 4 is a 1 H NMR spectrum of 1,1,1-dichloromethyl-3,3,3-phenyldisodiumate disiloxane.
【図5】本発明の合成例3で製造された重合体のIRスペ
クトルである。FIG. 5 is an IR spectrum of the polymer produced in Synthesis Example 3 of the present invention.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ソン サン ファン 大韓民国 ソウル ノウォン−ク ハギェ −ドン 288 ヒュンダイ 2チャ アパ ートメント 211−503 (72)発明者 スン マン ホン 大韓民国 ソウル カンナム−ク サムソ ン−ドン チュンク アパートメント 102−301 (72)発明者 ユン チャン イ 大韓民国 インチョン ブピュン−ク シ ビュン−ドン 182 14−2 (72)発明者 ソン ピョー ホン 大韓民国 ソウル トンデムン−ク フェ ギ−ドン シンヒュンダイ アパートメン ト 9−1406 Fターム(参考) 2H025 AA10 AB17 BC50 CB33 4J035 BA12 CA01N CA022 CA032 CA052 CA102 CA172 CA192 EB01 EB03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Song San Juan South Korea Seoul Nowong-hak Haye-dong 288 Hyundai 2-cha apartment 211-503 Apartment 102-301 (72) Inventor Yun Chang Yi South Korea Incheon Bupyung-ksi Byung-dong 182 14-2 (72) Inventor Song Pyong-Hong South Korea Seoul Dongdaemun-ku Fe-Gi-dong Sinhyundai Apartment 9-1406 F term (reference) 2H025 AA10 AB17 BC50 CB33 4J035 BA12 CA01N CA022 CA032 CA052 CA102 CA172 CA192 EB01 EB03
Claims (6)
ルセスキオキサン。 【化1】 (式中、R1及びR2は、水素原子、炭素数1から30のア
ルキル基、炭素数5から30の置換または非置換芳香族
基、炭素数1から30の置換または非置換アリル基、炭
素数3から30の置換または非置換環状化合物残基、炭
素数1から30の置換または非置換アシル基、ビニル
基、アミン残基、または酢酸残基をそれぞれ独立に示
し、nは1およびそれ以上の整数のうちいずれかを示
す。)1. A polyorganosilsesquioxane represented by the following general formula: Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted allyl group having 1 to 30 carbon atoms, A substituted or unsubstituted cyclic compound residue having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted acyl group having 1 to 30 carbon atoms, a vinyl group, an amine residue, or an acetic acid residue is independently shown, and n is 1 and Indicates one of the above integers.)
基、またはプロピル基であり、前記芳香族基が、フェニ
ル基、またはハロゲン化フェニル基であることを特徴と
する請求項1記載のポリオルガノシルセスキオキサン。2. The polyorgano according to claim 1, wherein the alkyl group is a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, and the aromatic group is a phenyl group or a halogenated phenyl group. Silsesquioxane.
シロキサンから請求項1記載のポリオルガノシルセスキ
オキサンの製造方法。 【化2】 (式中、Xは、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、
アミノ基またはカルボキシ基を示し;Rは、水素原子、
アルキル基、酢酸残塩、ナトリウムまたはカリウムの金
属を示す。)3. The method for producing a polyorganosilsesquioxane according to claim 1, wherein the polyorganosilsesquioxane is formed from a 1,3-organodisiloxane represented by the following general formula. Embedded image (Wherein X is a hydrogen atom, a chlorine atom, a hydroxyl group,
Represents an amino group or a carboxy group; R is a hydrogen atom,
Alkyl group, acetic acid residue, sodium or potassium metal. )
たは、アルカリ金属の水酸化物、アミン、第4級アンモ
ニウム塩、およびフッ化物よりなる群から選択される少
なくとも1種の触媒の存在下で行われることを特徴とす
る請求項3記載の製造方法。4. The condensation reaction is carried out in the absence of a catalyst or at least one catalyst selected from the group consisting of an alkali metal hydroxide, an amine, a quaternary ammonium salt, and a fluoride. The method according to claim 3, wherein the method is performed in the presence.
ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化セシウムであ
る、前記アミンが、トリエチルアミン、ジエチレントリ
アミン、m-ブチルアミン、p-ジメチルアミンエタノー
ル、またはトリエタノールアミンであることを特徴とす
る請求項3または4記載の製造方法。5. The alkali metal hydroxide is sodium hydroxide, potassium hydroxide or cesium hydroxide, and the amine is triethylamine, diethylenetriamine, m-butylamine, p-dimethylamineethanol, or triethanolamine. The method according to claim 3, wherein:
シロキサンに対して0.01-20重量%の範囲であることを特
徴とする請求項3、4または5記載の製造方法。6. The method according to claim 3, wherein the concentration of the condensation catalyst is in the range of 0.01 to 20% by weight based on 1,3-organodisiloxane.
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JP2004352758A (en) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Chisso Corp | Polymer having silsesquioxane skeleton and method for forming thin film thereof |
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-
2001
- 2001-05-18 JP JP2001149443A patent/JP2002348378A/en active Pending
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