JP2002348127A - Optical element and method for moulding the same - Google Patents

Optical element and method for moulding the same

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JP2002348127A
JP2002348127A JP2001156355A JP2001156355A JP2002348127A JP 2002348127 A JP2002348127 A JP 2002348127A JP 2001156355 A JP2001156355 A JP 2001156355A JP 2001156355 A JP2001156355 A JP 2001156355A JP 2002348127 A JP2002348127 A JP 2002348127A
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JP
Japan
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glass
molding
optical element
mold
press
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JP2001156355A
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Japanese (ja)
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Sunao Miyazaki
直 宮崎
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/084Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
    • C03B11/086Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B2215/02Press-mould materials
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a blank coat capable of molding a glass having high concentrations of titanium oxide and niobium oxide such as a lead free SF glass having a high refractive index, for which an existing mold and a blank coat cannot be used due to occurrence of fusion bonding. SOLUTION: Reactivity of the glass surface is much lowered by attaching a transition metal oxide membrane on the surface of a blank. To put it concretely, the surface of the blank is coated with an oxide consisting of one (two) or more elements selectable from among Mn, Fe, Co, Ni, and (Cr).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学ガラス素子の
製造方法に関し、特にプレス成形後、磨き工程等を必要
としない光学ガラス素子及びその成形方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an optical glass element, and more particularly to an optical glass element which does not require a polishing step after press molding and a method for molding the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光学ガラスレンズは、光学機器の
レンズ構成の簡略化とレンズ部分の軽量化の両方を同時
に達成し得る非球面化の傾向にある。この非球面レンズ
の製造には、従来の光学レンズ製造方法である光学研磨
法では加工性及び量産性におとり、直接プレス成形法が
有望視されている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a tendency for optical glass lenses to have an aspherical surface that can simultaneously achieve both simplification of the lens configuration of an optical device and reduction in the weight of the lens portion. In the production of this aspherical lens, the direct press molding method is considered promising in terms of workability and mass productivity in the optical polishing method which is a conventional optical lens production method.

【0003】この直接プレス成形法というのは、あらか
じめ所望の面品質及び面精度に仕上げた非球面のモール
ド型の上で光学ガラスの塊状物を加熱、或は、あらかじ
め加熱してあるガラスの塊状物をプレス成形して、プレ
ス成形後、それ以上の研磨とか磨き工程を必要とせず光
学レンズを製造する方法である。
[0003] The direct press molding method is to heat a mass of optical glass on a non-spherical mold having been finished to a desired surface quality and surface accuracy in advance, or a mass of glass that has been heated in advance. This is a method of manufacturing an optical lens by press-molding an object, and after press-forming, does not require any further polishing or polishing step.

【0004】しかしながら、上述の光学ガラスレンズの
製造方法は、プレス成形後、得られたレンズの像形成品
質が損なわれない程度に優れていなければならない。特
に非球面レンズの場合、高い精度で成形できることが要
求される。また、量産性を考慮すると高い温度での型と
ガラスの離型性が良く、短いタクトで生産できることが
要求される。
However, the above-mentioned method for producing an optical glass lens must be excellent to such an extent that the image forming quality of the obtained lens after press molding is not impaired. Particularly, in the case of an aspherical lens, it is required that the lens can be molded with high precision. Further, in consideration of mass productivity, it is required that the mold and the glass at a high temperature have good releasability and can be produced with a short tact.

【0005】したがって、上記の製造方法で使用される
光学素子成形素材としては、高い温度でガラスに対して
化学作用が最小であること、型のガラスプレス面に擦り
傷などの損傷を受けにくいこと、型とガラスの密着力が
低いことなどが必要である。
[0005] Accordingly, the optical element molding material used in the above-mentioned manufacturing method is that the chemical action on glass at a high temperature is minimal, that the glass press surface of the mold is not easily damaged by abrasion, etc. It is necessary that the adhesion between the mold and the glass is low.

【0006】以上のような光学ガラス素子のプレス成形
に必要な条件を、ある程度満足する光学素子成形素材と
して、特公平7−45329号公報(ブランクCHコー
ト)、特公平7−45330号公報(ブランクCH&ガ
ラスコート)、特開平4−362029号公報(ボール
ブランクへのCHコート)所載のものが提案されてい
る。
As optical element molding materials satisfying the conditions necessary for press molding of optical glass elements as described above to a certain extent, Japanese Patent Publication No. 7-45329 (blank CH coat) and Japanese Patent Publication No. 7-45330 (blank) CH & Glass coat) and JP-A-4-362029 (CH coat on ball blank) have been proposed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、上述
の従来の光学素子成形素材の表面処理では、上述の条件
を全て満足するものではない。例えば、上述の表面処理
(コーティング)材料は、高い温度でガラスに対して化
学作用が最小であるが、大きな欠点として、型との摩擦
係数が高く、成形時に、型のガラスプレス面に擦り傷な
どの損傷を受けやすく、また、型とガラスの密着力が十
分には低くないため、生産タクトを短くするために比較
的高い温度で型から成形されたガラス素子を取り出そう
としても、型にレンズが強固に付着して取り出せず、無
理に取り出すと成形品が割れてしまうことがある。ま
た、型とガラスの密着力が比較的高いため、レンズの形
状によっては成形後の冷却過程で両者の熱膨張の差に起
因する熱応力のために成形品が割れることがある。ま
た、上述の従来の方法では、高屈折率鉛フリーSFガラ
スのように高濃度のTiOやNbを含有するガ
ラスには、まったく効果が無く、成形時に融着が発生す
る欠点があった。
However, the above surface treatment of the conventional optical element molding material does not satisfy all of the above conditions. For example, the surface treatment (coating) materials described above have minimal chemical action on glass at high temperatures, but have the major disadvantage that they have a high coefficient of friction with the mold, and that the glass pressed surface of the mold during molding has scratches and the like. Because the mold is easily damaged and the adhesion between the mold and the glass is not sufficiently low, even if you try to remove the glass element molded from the mold at a relatively high temperature to shorten production tact, Is strongly adhered and cannot be taken out, and if it is forcibly taken out, the molded product may be broken. Further, since the adhesion between the mold and the glass is relatively high, the molded product may be broken due to thermal stress caused by a difference in thermal expansion between the two in the cooling process after molding depending on the shape of the lens. Further, the above-described conventional method has no effect on glass containing high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 such as high-refractive-index lead-free SF glass, and has a disadvantage that fusion occurs during molding. there were.

【0008】本発明では、上記問題点に鑑み、光学ガラ
スの直接プレス法により、光学性能の良い高精度な光学
ガラス素子の成形を短いタクトで可能にするための光学
素子成形素材を提供することを目的としている。さらに
第2の本発明の目的は、高屈折率鉛フリーSFガラスの
ように高濃度のTiOやNbを含有するガラス
でも、成形時に融着が発生することなく成形できる光学
素子成形方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention provides an optical element molding material capable of molding an optical glass element having good optical performance and high accuracy by a short tact by a direct pressing method of optical glass. It is an object. Further, a second object of the present invention is to form an optical element which can be formed even in a glass containing a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 , such as a high-refractive-index lead-free SF glass, without causing fusion during molding. Is to provide a way.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するため、本出願に係る第1の発明は、ガラスよりなる
光学素子成形用素材を成形用型内に収容して加熱下でプ
レス成形することにより光学素子を製造する方法におい
て、成形素材の表面に、Mn,Fe,Co,Niより選
ばれる1種以上の元素からなる酸化物を被覆した光学素
子成形素材を成形によりプレス成形してなる、ガラス光
学素子及びその成形方法である。
In order to achieve the above-mentioned object, a first invention according to the present invention is to provide an optical element molding material made of glass in a molding die and press-mold the same under heating. In the method of manufacturing an optical element by performing, an optical element molding material in which the surface of the molding material is coated with an oxide composed of at least one element selected from Mn, Fe, Co, and Ni is press-formed by molding. A glass optical element and a molding method thereof.

【0010】上記構成において、成形素材の表面にM
n,Fe,Co,Niより選ばれる1種以上の元素から
なる酸化物を存在させることにより、ガラス表面の反応
性が著しく下がるため、型との密着力を著しく低下さ
せ、高い温度で離型することが可能となる。そのため、
製造タクトを大幅に短くすることができる。さらにガラ
スとの反応性も無い。また、反応性が無く、かつ型との
密着力が低いので、素材が型に凝着することがなくな
り、型とガラスの摩擦係数が小さくなるので、型のガラ
スプレス面に擦り傷などの損傷を受けにくくなる。ま
た、上記構成ならば、高屈折率鉛フリーSFガラスのよ
うに高濃度のTiOやNbを含有するガラスで
も、成形時に融着が発生しなくなる。高屈折率鉛フリー
SFガラスのように高濃度のTiOやNbを含
有するガラスが型と融着する原因は、TiOを例にす
ると、成形の時の雰囲気が窒素雰囲気等であるため、表
面のTi−O結合の酸素が還元されて離脱し(正孔の生
成)、格子欠陥が生成すると同時にチタンイオンが4価
から3価に変わり、このことによって、ガラス表面は極
めて活性に富む状態となるためと考えられる。本発明で
は、この活性を、Mn,Fe,Co,Niより選ばれる
1種以上の元素からなる酸化物を被成形ガラス表面にコ
ートすることで押さえることができることを見出した。
活性が押さえられる理由としては、酸素の離脱により、
生成した正孔が遷移金属イオンにトラップされ、再結合
するためと考えられる。
In the above construction, M
The presence of an oxide composed of one or more elements selected from n, Fe, Co, and Ni significantly reduces the reactivity of the glass surface, thereby significantly reducing the adhesion to the mold and releasing the mold at a high temperature. It is possible to do. for that reason,
Manufacturing tact can be significantly shortened. Furthermore, there is no reactivity with glass. In addition, since there is no reactivity and the adhesion to the mold is low, the material does not adhere to the mold, and the coefficient of friction between the mold and the glass is reduced. It is hard to receive. Further, with the above-described configuration, even in a glass containing a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 such as a high-refractive-index lead-free SF glass, fusion does not occur during molding. The reason why a glass containing a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 , such as a high refractive index lead-free SF glass, fuses with a mold is that, when TiO 2 is taken as an example, the atmosphere during molding is a nitrogen atmosphere or the like. Therefore, oxygen of the Ti—O bond on the surface is reduced and eliminated (hole generation), and lattice defects are generated, and at the same time, titanium ions are changed from tetravalent to trivalent, which makes the glass surface extremely active. It is considered that the state becomes rich. In the present invention, it has been found that this activity can be suppressed by coating the surface of the glass to be formed with an oxide comprising at least one element selected from Mn, Fe, Co, and Ni.
The reason why the activity is suppressed is that the release of oxygen
It is considered that the generated holes are trapped by the transition metal ions and recombine.

【0011】したがって、光学ガラス素子製造方法で用
いる光学素子成形素材として重要な、高い温度でガラス
に対して化学作用が最小であること、型のガラスプレス
面に擦り傷などの損傷を受けにくいこと、型とガラスの
密着力低いこと、型への汚染が無いこと、という条件を
完全に満たし、更に高屈折率鉛フリーSFガラスのよう
に高濃度のTiOやNbを含有するガラスでも
型とガラスの融着が起こらない。
Therefore, it is important as an optical element molding material used in an optical glass element manufacturing method that the chemical action on glass at a high temperature is minimal, that the glass press surface of the mold is not easily damaged by abrasion, etc. A glass that contains a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 , such as a high-refractive-index lead-free SF glass, completely satisfies the conditions that the adhesion between the mold and the glass is low and there is no contamination to the mold. No fusion between the mold and the glass.

【0012】次に、本出願に係る第2の発明は、ガラス
よりなる光学素子成形用素材を成形用型内に収容して加
熱下でプレス成形することにより光学素子を製造する方
法において、成形素材の表面に、Cr.Mn,Fe,C
o,Niより選ばれる2種以上の元素からなる酸化物を
被覆した光学素子成形素材を成形によりプレス成形して
なる、ガラス光学素子及びその成形方法である。
Next, a second invention according to the present application relates to a method for manufacturing an optical element by accommodating a material for molding an optical element made of glass in a molding die and press-molding under heating. Cr. On the surface of the material Mn, Fe, C
The present invention relates to a glass optical element formed by press-molding an optical element molding material coated with an oxide composed of two or more elements selected from o and Ni, and a molding method thereof.

【0013】上記構成において、成形素材の表面にC
r,Mn,Fe,Co.Niより選ばれる2種以上の元
素からなる酸化物を存在させることによりガラス表面の
反応性がより著しく下がるため、型との密着力を著しく
低下させ、高い温度で離型することが可能となる。その
ため、製造タクトをより大幅に短くすることができる。
さらにガラスとの反応性も無い。また、反応性が無く、
かつ型との密着力が低いので素材が型に凝着することが
なくなり、型とガラスの摩擦係数が小さくなるので、型
のガラスプレス面に擦り傷などの損傷を受けにくくな
る。
[0013] In the above configuration, the surface of the molding material is C
r, Mn, Fe, Co. The presence of an oxide composed of two or more elements selected from Ni significantly reduces the reactivity of the glass surface, so that the adhesion to the mold is significantly reduced and the mold can be released at a high temperature. . Therefore, the manufacturing tact can be significantly reduced.
Furthermore, there is no reactivity with glass. Also, there is no reactivity,
In addition, since the adhesive force with the mold is low, the material does not adhere to the mold, and the coefficient of friction between the mold and the glass is reduced, so that the glass press surface of the mold is less susceptible to damage such as scratches.

【0014】また、上記構成ならば、高屈折率鉛フリー
SFガラスのように高濃度のTiO やNbを含
有するガラスでも、成形時に融着が発生しなくなる。高
屈折率鉛フリーSFガラスのように高濃度のTiO
Nbを含有するガラスが型と融着する原因は、T
iOを例にすると、成形の時の雰囲気が窒素雰囲気等
であるため、表面のTi−O結合の酸素が還元されて離
脱し(正孔の生成)、格子欠陥が生成すると同時にチタ
ンイオンが4価から3価に変わり、このことによって、
ガラス表面は極めて活性に富む状態となるためと考えら
れる。
Further, according to the above configuration, a high refractive index lead-free material is used.
High concentration of TiO such as SF glass 2And Nb2O5Including
Even with the glass, the fusion does not occur during molding. High
High concentration of TiO such as refractive index lead-free SF glass2And
Nb2O5The cause of the fusion of the glass containing the metal with the mold is T
iO2For example, if the atmosphere during molding is a nitrogen atmosphere, etc.
Therefore, the oxygen of the Ti—O bond on the surface is reduced and released.
(Generation of holes), lattice defects are generated, and
Ion changes from tetravalent to trivalent, which
It is thought that the glass surface will be in an extremely active state
It is.

【0015】本発明では、この活性を、Cr,Mn,F
e,Co,Niより選ばれる2種以上の元素からなる酸
化物を被成形ガラス表面にコートすることで押さえるこ
とができることを見出した。活性が押さえられる理由と
しては、酸素の離脱により、生成した正孔が遷移金属イ
オンにトラップされ、再結合するためと考えられる。
In the present invention, this activity is determined by using Cr, Mn, F
It has been found that it can be suppressed by coating the surface of the glass to be molded with an oxide composed of two or more elements selected from e, Co, and Ni. It is considered that the reason why the activity is suppressed is that the generated holes are trapped by the transition metal ions and recombine by the desorption of oxygen.

【0016】したがって、光学ガラス素子製造方法で用
いる光学素子成形素材として重要な、高い温度でガラス
に対して化学作用が最小であること、型のガラスプレス
面に擦り傷などの損傷を受けにくいこと、型とガラスの
密着力が低いこと、型への汚染が無いこと、という条件
を完全に満たし、更に高屈折率鉛フリーSFガラスのよ
うに高濃度のTiOやNbを含有するガラスで
も型とガラスの融着が起こらない。
Therefore, it is important as an optical element molding material used in an optical glass element manufacturing method that the chemical action on glass at a high temperature is minimal, that the glass press surface of the mold is not easily damaged by abrasion, etc. A glass that completely satisfies the conditions that the adhesion between the mold and the glass is low and that there is no contamination to the mold, and further contains a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 such as a high refractive index lead-free SF glass. However, fusion between the mold and the glass does not occur.

【0017】本出願に係る第3の発明は、前記被覆の膜
厚が、10〜900nmであることを特徴とする前記第
1又は第2の発明に係るガラス光学素子及びその成形方
法である。
A third invention according to the present application is the glass optical element according to the first or second invention, wherein the coating has a film thickness of 10 to 900 nm, and a molding method thereof.

【0018】上記構成において、前記被覆の膜厚が10
nmより薄いと前述の効果が十分ではなく、900nm
よりも厚いと膜が剥がれ易くなったり、膜が型に残り成
形品の外観が悪くなったり、成形後に成形品から膜を除
去するのに多大な手間がかかるため、好ましくない。
In the above structure, the thickness of the coating is 10
If the thickness is smaller than 900 nm, the above-mentioned effect is not sufficient, and
If the thickness is larger than that, it is not preferable because the film is easily peeled off, the film remains in the mold and the appearance of the molded product is deteriorated, and it takes a lot of trouble to remove the film from the molded product after molding.

【0019】本出願に係る第4の発明は、前記被覆を成
形後に剥がすことを特徴とする前記第1又は第2の発明
に係るガラス光学素子及びその成形方法である。
A fourth invention according to the present application is the glass optical element according to the first or second invention, wherein the coating is peeled off after molding, and a molding method thereof.

【0020】上記構成において、成形後の成形品の表面
に、Cr,Mn,Fe,Co.Niより選ばれる1種以
上の元素からなる酸化物が存在するが、レンズの用途に
よっては、これらを剥がす必要がある。もちろん、用途
によっては、剥がす必要の無い場合もあるし、剥がさず
に前述の膜を第1層とする多層反射防止膜を設計するこ
ともできる。
In the above configuration, the surface of the molded article after the molding is coated with Cr, Mn, Fe, Co. There are oxides composed of one or more elements selected from Ni, but these need to be peeled off depending on the use of the lens. Of course, depending on the application, there is no need to peel off the film, and a multilayer antireflection film having the above-mentioned film as the first layer can be designed without peeling.

【0021】本発明に係る第5の発明は、前記第4の発
明に記載の剥がしが、化学的方法または物理的方法、或
は、2方法の併用からなることを特徴とする請求項1に
記載のガラス光学素子及びその成形方法である。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method according to the first aspect, the peeling according to the fourth aspect comprises a chemical method or a physical method, or a combination of two methods. And a method for molding the glass optical element.

【0022】成形品表面の酸化物膜を剥がすには、酸化
物を溶かす作用のある溶液、例えば、強酸(塩酸、硝
酸、硫酸)、強アルカリ(KOH、NaOH)および高
濃度の界面活性剤等に成形品を浸す化学的方法と研磨等
の物理的方法がある。又、これらを併用することでより
効率的に酸化物膜を剥がすことができる。
To remove the oxide film on the surface of the molded article, a solution having a function of dissolving the oxide, for example, a strong acid (hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid), a strong alkali (KOH, NaOH), a high-concentration surfactant or the like There are a chemical method of immersing the molded article in the mold and a physical method such as polishing. In addition, by using these together, the oxide film can be more efficiently peeled off.

【0023】本発明は、上記した構成によって、従来の
光学素子成形素材の表面処埋では実現できなかった前記
の必要条件を全て満足した光学素子成形素材を得ること
ができ、この光学素子成形素材を用いることによって、
光学ガラス素子を直接プレスして成形することが可能と
なる。
According to the present invention, it is possible to obtain an optical element molding material satisfying all the above-mentioned requirements which cannot be realized by the conventional surface treatment of the optical element molding material. By using
The optical glass element can be formed by directly pressing.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光学素子製造
方法の実施の一形態例を、図面を参照しながら説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing an optical element according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0025】直径16mmの超硬合金及び表1に示す材
料を、曲率半径が10mmの凹形状のプレス面を有する
上下の型からなる一対の光学ガラスレンズのプレス成形
用型形状に加工した。
A cemented carbide having a diameter of 16 mm and the materials shown in Table 1 were processed into a pair of optical glass lens press-forming dies having a concave pressing surface with a curvature radius of 10 mm.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】これらの型のプレス面を0.1μmのダイ
ヤモンド砥粒を用いて鏡面に研磨した。次に、この鏡面
上に、スパッタ法により、表1に示す合金膜を形成し
た。型の図を図1に示す。
The press surfaces of these molds were polished to a mirror surface using diamond particles of 0.1 μm. Next, an alloy film shown in Table 1 was formed on the mirror surface by a sputtering method. A diagram of the mold is shown in FIG.

【0028】次に、試験に用いる光学素子成形素材を製
作した。ガラスはホウケイ酸ガラスSK12(nd=
1.58313、νd=59.4、転移点Tg=550
℃、屈伏点At=588℃、組成は表2参照)及びラン
タン系ガラスLaK12(nd=1.67790、νd
=55.3、転移点Tg=554℃、屈伏点At=59
6℃、組成は表3参照)及び高屈折率鉛フリーSFガラ
ス(1)、(2)、(3)〔(1):nd=1.808
09、νd=22.8、転移点Tg=552℃、屈伏点
At=589℃、(2):nd=1.80518、νd
=25.4、転移点Tg=604℃、屈伏点At=63
0℃、(3):nd=1.80645、νd=24.
4、転移点Tg=503℃、屈伏点At=538℃、組
成は表4参照〕を用いボールレンズに加工した。
Next, an optical element molding material used for the test was manufactured. The glass is borosilicate glass SK12 (nd =
1.58313, vd = 59.4, transition point Tg = 550
° C, yield point At = 588 ° C, composition shown in Table 2) and lanthanum-based glass LaK12 (nd = 1.677790, νd
= 55.3, transition point Tg = 554 ° C, yield point At = 59
6 ° C., see Table 3 for composition) and high refractive index lead-free SF glass (1), (2), (3) [(1): nd = 1.808
09, νd = 22.8, transition point Tg = 552 ° C., yield point At = 589 ° C., (2): nd = 1.80518, νd
= 25.4, transition point Tg = 604 ° C., yield point At = 63
0 ° C., (3): nd = 1.80645, vd = 24.
4, the transition point Tg = 503 ° C., the sag point At = 538 ° C., and the composition is shown in Table 4.]

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】[0030]

【表3】 [Table 3]

【0031】[0031]

【表4】 [Table 4]

【0032】このボールレンズに各種の遷移金属酸化物
膜を蒸着により成膜した(図4参照)。また、比較とし
て炭化水素膜(CH膜)を下記方法で成膜した。成膜し
た膜を表5に示す。
Various transition metal oxide films were formed on the ball lens by vapor deposition (see FIG. 4). For comparison, a hydrocarbon film (CH film) was formed by the following method. Table 5 shows the formed films.

【0033】(比較例) 炭化水素膜(CH膜)の成
膜:炭化水素被膜の厚さは、1.5〜50nmである。
炭化水素膜の成膜方法は、プラズマ処理やイオンガン処
埋等の簡単な薄膜堆積技術を用いて形成することができ
る。該炭化水素被覆における炭素:水素の原子比は、例
えば10/6〜10/0.5である。
(Comparative Example) Deposition of a hydrocarbon film (CH film): The thickness of the hydrocarbon film is 1.5 to 50 nm.
The hydrocarbon film can be formed using a simple thin film deposition technique such as plasma processing or ion gun processing. The carbon: hydrogen atomic ratio in the hydrocarbon coating is, for example, 10/6 to 10 / 0.5.

【0034】[0034]

【表5】 [Table 5]

【0035】図3は、上記光学素子成形素材の製造に用
いられる炭化水素膜堆積装置の概略構成を示す模式図で
ある。以下、本図を参照にしながら炭化水素膜を光学素
子成形素材表面につける方法を説明する。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a hydrocarbon film deposition apparatus used for manufacturing the optical element molding material. Hereinafter, a method for applying a hydrocarbon film to the surface of the optical element molding material will be described with reference to this drawing.

【0036】図3において、112は真空槽であり、1
14は該真空槽に形成されている排気口である。該排気
口は不図示の真空排気源に接続されている。116は上
記真空槽112内ヘガスを導入するためのガス導入口で
ある。該ガス導入口は不図示のガス源に接続されてい
る。上記真空槽112内には、上部に型保持のためのド
ーム状ホルダ122、型を加熱するためのヒータ124
及び被覆厚測定のための水晶膜厚モニタ126が配置さ
れている。128は高周波印加用アンテナである。尚、
130は上記ホルダ122に保持されている型である。
上記型130の表面に炭化水素膜を付する際には、上記
排気口114から排気を行い、真空槽112内を減圧し
た後に、ガス導入口116から炭化水素ガスを、例え
ば、5×l0 −2〜5×10−4Torrとなるまで導
入し、高周波印加用アンテナ128に、例えば100〜
500Wの高周波を印加して、炭化水素プラズマを形成
する。真空槽112内に導入される炭化水素ガスとして
は、例えば、メタン、エタン、プロパン、エチレン、プ
ロピレン、アセチレンなどが例示できる。炭化水素被膜
における炭素:水素の原子比は堆積条件によって変化す
るので、所望の原子比が得られるように条件を設定し
た。
In FIG. 3, reference numeral 112 denotes a vacuum chamber,
Reference numeral 14 denotes an exhaust port formed in the vacuum chamber. The exhaust
The port is connected to a vacuum exhaust source (not shown). 116 is above
At the gas inlet for introducing gas into the vacuum chamber 112
is there. The gas inlet is connected to a gas source (not shown).
You. In the vacuum chamber 112, a mold holding mold is provided at an upper part.
Holder 122, heater 124 for heating the mold
And a quartz film thickness monitor 126 for measuring the coating thickness are provided.
Have been. 128 is a high frequency application antenna. still,
130 is a mold held by the holder 122.
When applying a hydrocarbon film to the surface of the mold 130,
Evacuation is performed from the exhaust port 114, and the pressure in the vacuum chamber 112 is reduced.
After that, the hydrocarbon gas is supplied from the gas inlet 116, for example.
If 5 × 10 -2~ 5 × 10-4Lead until Torr
And the antenna 128 for high frequency application
Applying high frequency of 500W to form hydrocarbon plasma
I do. As a hydrocarbon gas introduced into the vacuum chamber 112
Is, for example, methane, ethane, propane, ethylene,
Lopyrene, acetylene and the like can be exemplified. Hydrocarbon coating
Atomic ratio of carbon: hydrogen varies with deposition conditions
Therefore, set the conditions so that the desired atomic ratio is obtained.
Was.

【0037】次に上述のようにして得られたボールレン
ズを成形素材として、前記表1に示す型により光学素子
の成形を行った。
Next, using the ball lens obtained as described above as a molding material, an optical element was molded using the mold shown in Table 1 above.

【0038】図2は成形テストに用いた装置の概略を示
す。図2において24はチャンバー、25は上軸、26
は下軸、27はヒーターを内蔵したブロック(ヒーター
ブロック)、28はヒーターブロツク、29は上型、3
0は下型、31はガラス、32は油圧シリンダーであ
る。
FIG. 2 schematically shows the apparatus used for the molding test. In FIG. 2, 24 is a chamber, 25 is an upper shaft, 26
Is a lower shaft, 27 is a block having a built-in heater (heater block), 28 is a heater block, 29 is an upper die,
0 is a lower mold, 31 is glass, and 32 is a hydraulic cylinder.

【0039】チャンバー24を不図示の真空ポンプによ
って真空引きした後、Nガスを導入し、チャンバー2
4内をN雰囲気にした後、ヒーターブロック27、2
8により上型29、下型30を加熱し、成形するガラス
の粘度で10 ̄9d・Pa・sに対応する温度〔SK1
2:630℃,LaK12:615℃、高屈折率鉛フリ
ーSFガラス(1):645℃、(2)660℃、
(3)580℃〕になったら、油圧シリンダー32によ
り、上軸25を引き上げ、下型30の上に不図示のオ一
トハンドにより成形素材(ボールレンズ)を置いた。そ
のままの型温度で、1分問保持した後、油圧シリンダー
32により上軸25を降下させ、上型29と下型30で
ボールレンズを3,000Nの力で3分間プレスした。
その後、70℃/分で冷却を行い、上下型温度が各ガラ
スのTgよりも10℃低い温度になった時点で上型29
を上昇させ、不図示のオートハンドで下型30上の成形
品31を取り出し、続いて不図示の置換装置を通して成
形品31をチャンバー24より取り出した。再び上下型
を加熱し、上記操作を繰り返し、5,000shot成
形を行った。
After the chamber 24 was evacuated by a vacuum pump (not shown), N 2 gas was introduced,
After the inside of the heater block 4 is set to the N 2 atmosphere, the heater blocks 27 and 2
8, the upper mold 29 and the lower mold 30 are heated and the temperature [SK1] corresponding to 10 ̄9 d · Pa · s in the viscosity of the glass to be formed.
2: 630 ° C, LaK12: 615 ° C, high refractive index lead-free SF glass (1): 645 ° C, (2) 660 ° C,
(3) At 580 ° C.], the upper shaft 25 was pulled up by the hydraulic cylinder 32, and the molding material (ball lens) was placed on the lower die 30 by an automatic hand (not shown). After holding for 1 minute at the mold temperature as it was, the upper shaft 25 was lowered by the hydraulic cylinder 32, and the ball lens was pressed by the upper mold 29 and the lower mold 30 with a force of 3,000 N for 3 minutes.
Thereafter, cooling was performed at 70 ° C./min, and when the upper and lower mold temperatures became lower by 10 ° C. than the Tg of each glass, the upper mold 29 was cooled.
Was raised, and the molded product 31 on the lower die 30 was taken out by an automatic hand (not shown). Subsequently, the molded product 31 was taken out of the chamber 24 through a replacement device (not shown). The upper and lower molds were heated again, and the above operation was repeated to perform 5,000 shot molding.

【0040】5,000shotの成形結果を前記表4
に示す。本発明の実施例1〜2ですべての型で良好な成
形性が得られた。
The results of molding at 5,000 shots are shown in Table 4 above.
Shown in In Examples 1 and 2 of the present invention, good moldability was obtained in all the molds.

【0041】一方、炭化水素被覆をつけたものは、ガラ
スの密着力が高く、Tgより10℃低い温度では型から
レンズを取り出すことができず、無理に取り出したとこ
ろ、レンズが割れてしまった。また、割れたレンズに型
表面の膜が張りついてきたものもあった。Tgよりも1
00℃低い温度まで冷やしてから離型したところ離型は
問題無くするようになった(ホウケイ酸ガラスSK12
とランタン系ガラスLaK12のみ。高屈折率鉛フリー
SFガラス(1)、(2)、(3)では融着発生)が、
1000shotほどしたところでレンズに傷が認めら
れたので型を取り出して見たところ、ガラスの変形時に
おきたと思われる擦り傷が型に付いていた。また、ガラ
ス表面に何も付けないものでは更に離型性が悪く、Tg
より10℃低い温度で型を開いたところ、レンズが割れ
ると共にその一部が型に張り付いて融着した。安定に離
型する温度を求めたところTgより200℃低い温度ま
で冷却すれば良いことがわかった(ホウケイ酸ガラスS
K12とランタン系ガラスLaK12のみ。高屈折率鉛
フリーSFガラス(1)、(2)、(3)では融着発
生)が、500shotほどしたところでレンズに傷が
認められたので型を取り出して見たところ、ガラスの変
形時におきたと思われる擦り傷が型に付いていた。
On the other hand, the one coated with a hydrocarbon coating had a high glass adhesion, and the lens could not be removed from the mold at a temperature lower than Tg by 10 ° C., and when the lens was forcibly removed, the lens was broken. . In some cases, the film on the surface of the mold stuck to the broken lens. 1 than Tg
When the mold was released after cooling to a temperature lower by 00 ° C., the mold release came to be no problem (borosilicate glass SK12
And lanthanum glass LaK12 only. High refractive index lead-free SF glass (1), (2), (3) fusion occurs)
When the lens was scratched at about 1000 shots, the lens was found to be scratched. When the mold was taken out and examined, it was found that the mold had abrasions that appeared to have occurred when the glass was deformed. In addition, when the glass surface is not attached, the releasability is further deteriorated.
When the mold was opened at a temperature lower by 10 ° C., the lens cracked and a part of the lens was stuck to the mold and fused. When the temperature at which the mold was stably released was determined, it was found that cooling to 200 ° C. lower than Tg was sufficient (borosilicate glass S
Only K12 and lanthanum glass LaK12. The high refractive index lead-free SF glass (1), (2), and (3) caused fusing). After about 500 shots, the lens was found to be scratched. There was an abrasion on the mold that seemed to have occurred.

【0042】また、本発明の膜でも膜厚が10nmより
も薄いものでは、ガラス表面に何も付けないものと同じ
結果が、また、膜厚が900nmよりも厚いものでは、
成形時に膜が割れたり、型に張り付く現象が起こりNG
であった。なお、これらの結果は、前記表1に示すすべ
ての型材に共通であった。
Also, in the case of the film of the present invention, when the film thickness is smaller than 10 nm, the same result as that obtained when nothing is attached to the glass surface, and when the film thickness is larger than 900 nm,
The film breaks during molding or sticks to the mold, causing NG
Met. These results were common to all the mold members shown in Table 1 above.

【0043】以上のように本発明の酸化物膜を付けない
場合、離型性が悪化し、Tgより10℃低い温度で型を
開いて成形品を取り出すことが困難になったため、取り
出し温度をTgよりも100℃〜200℃下げる必要が
あり(ホウケイ酸ガラスSK12とランタン系ガラスL
aK12のみ。高屈折率鉛フリーSFガラス(1)、
(2)、(3)では融着発生)、タクトの大幅な悪化を
余儀なくされ、さらに成形を重ねるうちに型の劣化
(傷)を招いた。
As described above, when the oxide film of the present invention is not formed, the mold releasability deteriorates, and it becomes difficult to open the mold at a temperature lower than Tg by 10 ° C. to remove the molded product. It is necessary to lower the Tg by 100 ° C. to 200 ° C. (borosilicate glass SK12 and lanthanum glass L
aK12 only. High refractive index lead-free SF glass (1),
(2) and (3), fusion occurred), and the tact was significantly deteriorated, and the mold was deteriorated (scratched) during further molding.

【0044】また、鉛フリー高屈折率SFガラスのよう
に高濃度のTiOやNbを含む反応性が極めて
高いガラスに対しては、従来の方法では、離型温度をど
んなに下げても効果が無く、本発明の酸化物膜だけが良
好に成形できた。
For a very reactive glass containing a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 , such as a lead-free high refractive index SF glass, in the conventional method, the mold release temperature should be reduced no matter how much. No effect was obtained, and only the oxide film of the present invention was successfully formed.

【0045】なお、文中に示した酸化物膜はほんの一例
であり、例えばこれらを多層に組み合わせた酸化物膜や
同時に2種類以上の酸化物をとばした酸化物膜でも良
い。また、上記形態例では、真空蒸着法を用いて成膜し
たが、その他の方法、例えばスパッタリング、プラズマ
CVDなどの蒸着法や含侵法あるいは塗布法等の種々の
被膜形成法を適宜使用して成膜することができる。
It should be noted that the oxide films shown in the text are merely examples, and may be, for example, an oxide film obtained by combining these in a multilayer or an oxide film in which two or more kinds of oxides are simultaneously blown. Further, in the above embodiment, the film is formed by using the vacuum evaporation method. However, other methods such as sputtering, various methods of forming a film such as an evaporation method such as plasma CVD or an impregnation method or a coating method are appropriately used. A film can be formed.

【0046】また、成形品表面に付いた酸化物膜は成形
品を強アルカリ+界面活性剤に30分浸しておくことで
容易に除去できた。
The oxide film on the surface of the molded article could be easily removed by immersing the molded article in a strong alkali + surfactant for 30 minutes.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上のように、第1の本発明によれば、
ガラスよりなる光学素子成形用素材を成形用型内に収容
して加熱下でプレス成形することにより光学素子を製造
する方法において、成形素材の表面に、Mn,Fe,C
o,Niより選ばれる1種以上の元素からなる酸化物を
被覆した光学素子成形素材を成形によりプレス成形する
のでガラス光学素子及びその成形方法として理想的な方
法である。
As described above, according to the first aspect of the present invention,
In a method of manufacturing an optical element by housing an optical element molding material made of glass in a molding die and press-molding under heating, the surface of the molding material has Mn, Fe, C
Since an optical element molding material coated with an oxide composed of one or more elements selected from o and Ni is press-molded by molding, it is an ideal method as a glass optical element and a molding method therefor.

【0048】すなわち、前述した光学ガラス成形用素材
としての必要条件を全て満足した光学ガラスのプレス成
形用素材を提供したものであり、高精度な光学ガラス素
子を極めて短いタクトで大量に製造するために極めて有
効である。また、高屈折率鉛フリーSFガラスのように
高濃度のTiOやNbを含む反応性が極めて高
いガラスに対しては、従来の方法では、離型温度をどん
なに下げても効果が無く、本発明の酸化物膜だけが有効
である。
That is, the present invention provides a material for press-molding optical glass which satisfies all the above-mentioned requirements as a material for molding optical glass, and is used for producing high-precision optical glass elements in a very short tact in large quantities. It is extremely effective. In addition, with respect to a glass having a very high reactivity containing a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 , such as a high refractive index lead-free SF glass, the effect of the conventional method can be reduced even if the mold release temperature is lowered. However, only the oxide film of the present invention is effective.

【0049】次に、第2の本発明によれば、ガラスより
なる光学素子成形用素材を成形用型内に収容して加熱下
でプレス成形することにより光学素子を製造する方法に
おいて、成形素材の表面に、Cr,Mn,Fe,Co,
Niより選ばれる2種以上の元素からなる酸化物を被覆
した光学素子成形素材を成形によりプレス成形するので
ガラス光学素子及びその成形方法として理想的な方法で
ある。
Next, according to a second aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing an optical element by housing an optical element molding material made of glass in a molding die and press-molding under heating. Cr, Mn, Fe, Co,
Since an optical element molding material coated with an oxide composed of two or more elements selected from Ni is press-molded by molding, this is an ideal method as a glass optical element and a molding method therefor.

【0050】すなわち、前述した光学ガラス成形用素材
としての必要条件を全て満足した光学ガラスのプレス成
形用素材を提供したものであり、高精度な光学ガラス素
子を極めて短いタクトで大量に製造するために極めて有
効である。また、高屈折率鉛フリーSFガラスのように
高濃度のTiOやNbを含む反応性が極めて高
いガラスに対しては、従来の方法では、離型温度をどん
なに下げても効果が無く、本発明の酸化物膜だけが有効
である。
That is, the present invention provides a material for press-molding optical glass which satisfies all the above-mentioned requirements as a material for molding optical glass, and is used for producing a high-precision optical glass element in a large amount with an extremely short tact. It is extremely effective. In addition, with respect to a glass having a very high reactivity containing a high concentration of TiO 2 or Nb 2 O 5 , such as a high refractive index lead-free SF glass, the effect of the conventional method can be reduced even if the mold release temperature is lowered. However, only the oxide film of the present invention is effective.

【0051】また、第3の本発明によれば、前記被覆の
膜厚を、10〜900nmとしたので、前述の効果が良
好に得られる効果がある。
According to the third aspect of the present invention, since the thickness of the coating is set to 10 to 900 nm, there is an effect that the above-mentioned effects can be obtained well.

【0052】本出願に係る第4の発明によれば、前記被
覆を成形後に剥がすので、成形品のレンズ性能を本発明
の方式が悪化させることは無い。
According to the fourth aspect of the present invention, since the coating is peeled off after molding, the lens performance of the molded article is not deteriorated by the method of the present invention.

【0053】本発明に係る第5の発明によれば、第4項
記載の剥がしは、化学的方法または物理的方法あるい
は、2つの併用からなるので容易に剥がすことができ、
コストアップを最小限に押さえることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the peeling described in the fourth aspect can be easily peeled off because it comprises a chemical method or a physical method or a combination of the two.
Cost increase can be minimized.

【0054】以上のように本発明は、光学ガラス成形用
素材としての必要条件を全て満足した光学ガラスのプレ
ス成形用素材を提供したものであり、高屈折率鉛フリー
SFガラスを含む全ての光学ガラスから高精度な光学ガ
ラス素子を極めて短いタクトで大量に製造するために極
めて有効である。
As described above, the present invention provides a material for press-molding an optical glass which satisfies all the necessary conditions as a material for molding an optical glass. This is extremely effective for mass-producing high-precision optical glass elements from glass in a very short tact.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の第1形態例で用いた型を示す概
略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a mold used in a first embodiment of the present invention.

【図2】光学素子のプレス成形装置の概略断面図であ
る。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a press forming apparatus for an optical element.

【図3】炭化水素膜堆積装置の概略構成を示す模式図で
ある。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a hydrocarbon film deposition apparatus.

【図4】本発明の実施の第1形態例で用いた光学素子成
形素材を示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an optical element molding material used in the first embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 型母材 2 型表面保護膜 24 チャンバー 25 上軸 26 下軸 27 ヒータープロック 28 ヒータープロック 29 上型 30 下型 31 ガラス 32 油圧シリンダー 112 真空槽 114 排気口 116 ガス導入ロ 122 ドーム状ホルダ 124 ヒータ 126 水晶膜厚モニタ 128 高周波印加用アンテナ 130 光学素子成形素材 131 遷移金属酸化物膜 Reference Signs List 1 type base material 2 type surface protective film 24 chamber 25 upper shaft 26 lower shaft 27 heater block 28 heater block 29 upper die 30 lower die 31 glass 32 hydraulic cylinder 112 vacuum tank 114 exhaust port 116 gas introduction slot 122 dome shaped holder 124 heater 126 Crystal thickness monitor 128 High frequency application antenna 130 Optical element molding material 131 Transition metal oxide film

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラスよりなる光学素子成形用素材を成
形用型内に収容して加熱下でプレス成形することにより
光学素子を製造する方法において、成形素材の表面に、
Mn,Fe,Co,Niより選ばれる1種以上の元素か
らなる酸化物を被覆した光学素子成形素材を成形により
プレス成形してなる、ガラス光学素子及びその成形方
法。
1. A method for manufacturing an optical element by accommodating an optical element molding material made of glass in a molding die and press-molding it under heating, the method comprising:
A glass optical element and a method for molding the glass optical element, wherein an optical element molding material coated with an oxide comprising at least one element selected from Mn, Fe, Co, and Ni is press-molded.
【請求項2】 ガラスよりなる光学素子成形用素材を成
形用型内に収容して加熱下でプレス成形することにより
光学素子を製造する方法において、成形素材の表面に、
Cr,Mn,Fe,Co,Niより選ばれる2種以上の
元素からなる酸化物を被覆した光学素子成形素材を成形
によりプレス成形してなる、ガラス光学素子及びその成
形方法。
2. A method of manufacturing an optical element by accommodating an optical element molding material made of glass in a molding die and press-molding it under heating, the method comprising:
A glass optical element and a method for molding the glass optical element, wherein an optical element molding material coated with an oxide comprising two or more elements selected from Cr, Mn, Fe, Co, and Ni is press-molded by molding.
【請求項3】 前記被覆の膜厚が、10〜900nmで
あることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか
に記載のガラス光学素子及びその成形方法。
3. The glass optical element according to claim 1, wherein the coating has a film thickness of 10 to 900 nm.
【請求項4】 前記被覆を成形後に剥がすことを特徴と
する請求項1又は請求項2のいずれかに記載のガラス光
学素子及びその成形方法。
4. The glass optical element according to claim 1, wherein the coating is peeled off after molding.
【請求項5】 請求項4に記載の剥がしは、化学的方法
または物理的方法、或は、2方法の併用からなることを
特徴とする請求項1に記載のガラス光学素子及びその成
形方法。
5. The glass optical element according to claim 1, wherein the peeling according to claim 4 comprises a chemical method or a physical method, or a combination of two methods.
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