JP2002345779A - 核スピントモグラフィ装置およびその作動方法 - Google Patents
核スピントモグラフィ装置およびその作動方法Info
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- A61B5/7257—Details of waveform analysis characterised by using transforms using Fourier transforms
Abstract
対応付けを簡単に行い得るように、情報を最大限利用す
る。 【解決手段】 高周波パルスおよび勾配パルスの適当な
組み合わせ(パルスシーケンス)によりそれぞれのエコ
ー時点で第1または第2のスピン集団の磁化が互いに平
行、垂直および逆平行となり、フーリエ変換後に、3つ
の複素像S0、S1、S2が得られ、これらの像が第1お
よび第2のスピン集団の位置に関係する陽子密度から構
成され、システムに起因する位置に関係するエボリュー
ション位相φ0のほかにB0磁界不均等性に基づいてそれ
ぞれ異なるエボリューション位相φを有する核スピント
モグラフィ装置において、3つの複素像から第1または
第2のスピン集団の純粋な像を算出するために、φ0の
補正の後にφの補正と、続いて第1または第2のスピン
集団の対応付けとが行われる。
Description
で患者の検査のために応用されるような核スピントモグ
ラフィ(KST、同義語:磁気共鳴トモグラフィ)に関
する。特に本発明は、3点Dixon法に基づいてアル
ゴリズムが大きい磁界不均等性にもかかわらず異なる化
学シフトを有するスピン集団からの像情報の分離を可能
にする核スピントモグラフィ装置ならびにこのような装
置の作動方法に関する。
いコントラスト分解能により優れている医学的診断のた
めの断層撮像方法である。軟組織の優れた表示に基づい
て核スピントモグラフィは、X線コンピュータトモグラ
フィをはるかに凌駕する方法に発展している。核スピン
トモグラフィは現在、分のオーダーの測定時間の際に優
れた像質を可能にするスピンエコーシーケンスおよび勾
配エコーシーケンスの応用に基づいている。
おける患者の組織を表示する際、化学シフトの影響に起
因するアーティファクトが生ずる。化学シフトとは、核
が位置している化学結合の形式に関係して共鳴振動数が
磁界強度に比例してわずかにシフトする特性をいう。人
体内のその濃度に基づいて主として自由水および脂肪の
水素核が像に寄与する。それらの相対的な共鳴振動数差
は約3ppm(100万分の1)である。この振動数差
はデータ取得の間に能動的な勾配(“読出し勾配”また
は“振動数コーディング勾配”)方向の両スピン種の像
の相対的なシフトを生じる。シフトの大きさは画素あた
りの読出し帯域幅に、またそれによってなかんずく視野
(FOV)およびマトリックスの大きさに関係する。
(すなわち純粋な水像または純粋な脂肪像から)より良
く取得される。従って、それぞれスピン集団の信号成分
が抑制され、こうして両方の互いに化学的にシフトされ
たスピン集団が発生される核スピントモグラフィ装置お
よびこのような装置の作動方法を提供することは本発明
の課題である。
e Proton Spectroscopic Im
aging”、Radiology,第153巻、19
84、第189〜194頁に、2つのエコー(勾配エコ
ーまたはスピンエコー)により脂肪像および水像の分離
が達成される方法が提案された。脂肪および水の像情報
を分離するためのDixonのアンディアにはここで提
案されるアルゴリズムの理解のために必要なかぎりでの
み立ち入られるものとする。
の分離の基礎は脂肪陽子と水陽子との間の化学シフトで
ある。これは上述のように陽子種の異なる歳差運動振動
数に通ずる。対称なスピンエコー実験では、化学シフト
により(または磁界不均等性によっても)生ぜしめられ
た位相が再び再焦点合わせをされる。脂肪磁化および水
磁化はエコー時点で理想的には互いに平行している。い
ま意図的にこの条件が、エコー時点で脂肪磁化および水
磁化が互いに垂直または逆平行になるように、変更され
る。これは、例えば再焦点合わせを時間ΔT=π/2Δ
ω(逆平行)、またはΔT=π/4Δω(互いに垂直)
だけずらすことによって達成される(Δωは化学シフト
に基づく脂肪陽子および水陽子の円振動数の差であ
る)。もちろん前記の相対的な磁化方法付けは適当な勾
配エコー実験によっても発生される。いまこれらの3つ
の状況が実現されるならば、すなわちいま相応の位相エ
ボリューション時間を有する像が撮像されるならば、ロ
ーカルに位相関係0°、90°、180°を有するスピ
ン種が準備される。フーリエ変換を実行するならば、水
および脂肪の位置に関係する陽子密度(W(r)および
F(r))から成る3つの複素像が得られる。 S0=(W(r)+F(r))exp(iφ0(r)) S1=(W(r)+iF(r))exp(iφ0(r)+
φ(r)/2)) S2=(W(r)−F(r))exp(iφ0(r)+φ
(r)))
なわち互いに0°の角度を有するとき、の磁化である。
S1は90°、S2は180°の際の磁化である。φ0は
励起コイルのB1不均等性に基づいて、またはスペクト
ロメータ内の信号通過時間により最初の像内に生ぜしめ
られている、システムに起因する位置に関係する位相で
ある。
な方向付けの像ならびに逆平行な方向付けの像のみが、
磁界不均等性を考慮に入れることなしに、使用された。
後続の発表物では、関連する画素範囲の位相連続化(位
相アンラッピング)のためのアルゴリズムが開発され
た。このアルゴリズムにより確かに初めて磁界不均等性
を考慮に入れられたが、小さいSN比を有する範囲にわ
たる領域増大により誤りを生じやすかった。位相情報が
信号情報なしの像範囲にわたって外挿された位相アンラ
ッピングアルゴリズムは同じく誤りを生じやすいことが
判明している。初めて(上記のように)平行、逆平行お
よび垂直の磁化ベクトルに基づいて脂肪と水との画素毎
の対応付けを可能にし、ローカルの領域増大に基づいて
後からの補正を可能にする方法は解決のための良い端緒
である。しかしながら、これらは与えられる情報が最大
限に利用されないという欠点を有する。
は、2つのスピン集団(例えば脂肪および水)の対応付
けを簡単な仕方で行い得るように、自由になる情報を最
大限利用する方法を提供することである。
れば、独立請求項の特徴により解決される。従属請求項
は本発明の中心的な考え方を実施する。
80°像が撮像されている3点Dixon法である。標
準的な3点Dixon法は0°、180°、360°を
利用する。90°像の重要性は後で判明する。勾配エコ
ーシーケンスでは(スピンエコーと異なり)0°像の撮
像は可能でないので、その代わりに磁化位相位置n×3
60°+0°/+90°/+180°を有する像に遡及
される。
(固定の)エボリューション時間内で不均等性に関係す
るか、すなわちどのようにS0、S1、S2に対する上の
式が導き出されるかがもう一度示される。
(水)の陽子密度はW(r)であり、第2の種(脂肪)
の陽子密度はF(r)である。両方の構成要素の歳差運
動振動数の差はΔωCSである。システムに起因する現象
に基づいて(時間的に一定な)位相オフセットφ
0(r)が存在する。さらに基本磁石磁界が基準点に比
べてΔB(r)だけずらされている(磁石磁界の不均等
性)。両方の信号成分(スピン集団1および2)はそれ
らの位相エボリューションを別々に考察される。
エボリューションは φ1(r)=φ0(r)+γΔB(r)t として記述される。ここでγは核(この場合には水素)
の磁気回転比である。
=γΔB(r)π/ΔωCSとして S2(r)=(W(r)−F(r))exp(iφ0(r))exp(iγΔB (r)π/ΔωCS) =(W(r)−F(r))exp(iφ0(r))exp(iφ0( r))
にφ(r)は所与の(固定の)有効エボリューション時
間の際の基本磁界(B0)不均等性の影響を表す(例え
ばt1 80°=π/ΔωCSまたはt90°=π/2ΔωCS、
ここでtは歳差運動継続時間、ΔωCSは両方のスピン集
団の歳差運動振動数の差を表す)。
するために、像データからφ0(r)もφ(r)も求め
ることである。S0+S2またはS0−S2から次いで純粋
な水像または純粋な脂肪像が計算される。
にわたる位相の連続化である(位相アンラッピング)。
すなわち、像情報から連続的な変数φ(r)が複素指数
関数の周期性に基づいて180°までしか正確に決定さ
れ得ない。しかし一義的な対応付けのためには360°
の精度が必要である。
定の際に異なる化学シフトを有する2つのスピン集団の
像を提供する核スピントモグラフィ装置であって、スピ
ンエコーパルスシーケンスまたは勾配エコーパルスシー
ケンスを発生し検査すべき対象物に入射する装置を備
え、高周波パルスおよび勾配パルスの適当な組み合わせ
(パルスシーケンス)によりそれぞれのエコー時点で第
1または第2のスピン集団の磁化が互いに平行、垂直お
よび逆平行となり、フーリエ変換後に、3つの複素像S
0、S1、S2が得られ、これらの像が第1および第2の
スピン集団の位置に関係する陽子密度から構成され、シ
ステムに起因する位置に関係するエボリューション位相
φ0のほかにB0磁界不均等性に基づいてそれぞれ異なる
エボリューション位相φを有する核スピントモグラフィ
装置において、3つの複素像から第1または第2のスピ
ン集団の純粋な像を算出するために、φ0の補正の後に
φの補正と、続いて第1または第2のスピン集団の対応
付けとが行われることを特徴とする核スピントモグラフ
ィ装置が請求される。
フィ測定の際に異なる化学シフトを有する2つのスピン
集団の像を提供する方法であって、スピンエコーパルス
シーケンスまたは勾配エコーパルスシーケンスを発生し
検査すべき対象物に入射し、高周波パルスおよび勾配パ
ルスの適当な組み合わせ(パルスシーケンス)によりそ
れぞれのエコー時点で第1または第2のスピン集団の磁
化が互いに平行、垂直および逆平行となるステップと、
フーリエ変換の後に、3つの複素S0、S1、S 2が得ら
れ、これらの像が第1および第2のスピン集団の位置に
関係する陽子密度から構成され、システムに起因する位
置に関係するエボリューション位相φ0のほかにB0磁界
不均等性に基づいてそれぞれ異なるエボリューション位
相φを有するステップとを有する方法において、異なる
位相φ/2またはφに基づいて、最初にφ0の補正が、
次いでφの補正が、最後にそれぞれのスピン集団の対応
付けが行われることを特徴とする異なる化学シフトを有
する2つのスピン集団の像を提供する方法が請求され
る。
ことが提案される。 1.φ0(r)の補正 2.φ(r)の補正 3.脂肪および水の対応付け
ッシュ(´)により、φ0(r)およびφ(r)補正さ
れた像は二重ダッシュ(″)により示されている。
数φ0が補正される。φ0補正は一重に行われる。位相カ
ードは0°像を直接に悪い(S0)として与える。複素
平面内の回転により3つのデータセットの各々が相応に
補正される。 S′0=(W(r)+F(r)) S′1=(W(r)+iF(r))exp(iφ(r)
/2)) S′2=(W(r)−F(r))exp(iφ(r))
数のコイル(チャネル)によるマルチチャネル撮像の際
には、しばしばコイルの位相応答の偏差する空間的な分
布が存在するので、加算された0°像/90°像/18
0°像による正確なφ0補正はもはや可能でない。従っ
て、別々のφ0補正が各個のチャネルに対して、すなわ
ち加算前でフーリエ変換後に、別々のφ0補正が各個の
チャネルに対して行われると有意義である。
遡及される。振幅係数の正負符号は二乗により消去され
る。 S′2 2=(W(r)−F(r))2exp(i2φ
(r))
に基づいて付加的定数n×2πまで位置に関係して決定
される2倍にされた不均等性位相2φを与える。すなわ
ち、2倍にされた位相角度は間隔〔−π,π〕内に位置
する。いま、位相を連続化すること、すなわちこの値範
囲を〔−∞,∞〕に広げることが大事である。
ード点から出発して連続化された位相の領域がノイズレ
ベルまでではなく、多数のディスジャンクト(disj
unct)な領域が順次に連続的に低下するレベルまで
増大されることにより、既存の位相アンラッピングアル
ゴリズムと本質的に相違する新しい形式の位相アンラッ
ピングアルゴリズムに基づいている。それにより、高い
振幅の範囲内で良好に定められた位相情報が最大限に利
用される。続くステップで最後に脂肪‐水対応付けの一
貫性が確かめられる。すなわち既存のアルゴリズムと異
なり、関連する像情報の各範囲をノイズの下まで増大さ
せる必要性はない。
アルゴリズムは実際の2倍にされた不均等性位相2φを
決定しようと試みる。根拠は、隣接する画素間にπより
も大きい位相跳躍が起こらず、基本磁界が過度に不均等
でないという仮定である。この根拠の上に、高い信号振
幅を有する画素から出発して隣接画素との比較により、
位相跳躍が起こらない領域を大きくすることが試みられ
る。2つの画素の間にπよりも大きい位相跳躍が生ずる
と直ちに、これが位相の“ラップアラウンド”として解
釈される。2πの倍数の加算または減算によりこのよう
な位相跳躍が消去され、また各領域内で位相2φが連続
化される。
する一連のディスジャンクト(disjunct)な領
域を含んでいるカードである。しかしながら領域間の位
相関係はこの時点では一義的に定められておらず、ここ
ではπの倍数の位相跳躍が依然として可能である。すぐ
次のステップで初めてこの点が解かれ、また同時に脂肪
および水の一義的な対応付けが行われる。
性は以下において図面を参照して実施例により一層詳細
に説明される。
発生する核スピントモグラフィ装置の概要図を示す。こ
の核スピントモグラフィ装置の構成は従来のトモグラフ
ィ装置の構成に相当する。基本磁界磁石1が例えば人体
の検査すべき部分のような対象物の検査範囲内の核スピ
ンの偏向または方向付けをするための時間的に一定の強
い磁界を発生する。核スピン共鳴の測定に必要な基本磁
石磁界の高い均等性は、人体の検査すべき部分が入れら
れる球状の測定ボリュームM内に定められている。均等
性の要求を支援するために、また特に時間的に不変の影
響を消去するために、適当な個所に強磁性材料から成る
いわゆるシム板が取付けられている。時間的に変化する
影響はシム電流源15により駆動されるシムコイル2に
より消去される。
成る例えば円筒状の勾配コイルシステム3が入れられて
いる。各部分巻線は増幅器14からデカルト座標系のそ
れぞれの方向に直線状の磁界を発生するための電流を供
給される。勾配コイルシステム3の第1の部分巻線はx
方向に勾配Gxを、第2の部分巻線はy方向に勾配Gy
を、第3の部分巻線はz方向に勾配Gzを発生する。各
増幅器14は、シーケンス制御装置18により勾配パル
スを時間的に正しく発生するべく駆動されるディジタル
‐アナログ変換器DACを含んでいる。
はマルチチャネル撮像の際には多数の高周波アンテナ4
が位置し、これらのアンテナが高周波電力増幅器30か
ら発せられた高周波パルスを、検査すべき対象物または
対象物の検査すべき範囲の核の励起および核スピンの方
向付けを行うための交番磁界に変換する。各アンテナは
一般に実部分および虚部分に対する固有のADCパスを
有する。それぞれの高周波アンテナ4により、歳差運動
する核スピンから出発する交番磁界(すなわち一般に1
つまたは多数の高周波パルスと1つまたは多数の勾配パ
ルスとから成るパルスシーケンスに起因する核スピン信
号)が電圧に変換され、この電圧は増幅器7を介して高
周波システム22の高周波受信チャネル8に供給され
る。高周波システム22はさらに送信チャネル9を含ん
でおり、そのなかで核磁気共鳴を励起するための高周波
パルスが発生される。それぞれの高周波パルスは設備コ
ンピュータ20により予め定められたパルスシーケンス
に基づいてシーケンス制御装置18内でディジタル的に
複素数の列として表される。この数列は実部分および虚
部分としてそれぞれ入力端12を経て高周波システム2
2内のディジタル‐アナログ変換器DACに、これから
送信チャネル9に供給される。送信チャネル9内でパル
スシーケンスは高周波搬送波信号に変調され、その基本
周波数は測定ボリューム内の核スピンの共鳴振動数に相
当する。
切換装置6を介して行われる。高周波アンテナ4は核ス
ピンを励起するための高周波パルスを測定ボリュームM
内に入射し、その結果としてのエコー信号を検出する。
このようにして得られた核共鳴信号は高周波システム2
2の受信チャネル8内で位相判別して復調され、それぞ
れのアナログ‐ディジタル変換器を介して測定信号の実
部分および虚部分に変換される像コンピュータ17によ
り、こうして得られた測定データから像が再構成され
る。測定データ像データおよび制御プログラムの管理は
像コンピュータ17または設備コンピュータ20を介し
て行われる。制御プログラムによる設定に基づいてシー
ケンス制御装置18がそれぞれ所望のパルスシーケンス
の発生およびk空間の相応の走査を制御する。特にシー
ケンス制御装置18は勾配の時間的に正しいスイッチン
グ、定められた位相および振幅を有する高周波パルスの
送信ならびに核共鳴信号の受信を制御する。高周波シス
テム22およびシーケンス制御装置18に対する時間基
準はシンセサイザ19から与えられる。核スピン像を発
生するための制御プログラムの選択ならびに発生された
核スピン像の表示は、キーボードならびに1つまたは複
数の像ディスプレイ装置を含んでいるターミナル21を
介して行われる。なお、図1において、5は対象物(患
者)が載せられる対象物台、11は高周波システム22
の出力端である。
としてディスジャンクトな(アンラップされた)領域の
位相カードを与える(すなわち連続化された位相情報お
よび、どの領域に画素が対応付けられているかの対応付
け)本発明によるアルゴリズムが説明される。
ータ17により得られる、複素数の二次元のアレイの形
態のS2像である。同じく像コンピュータ17により実
行される、S0像に基づくφ0補正の後に、位相カードの
計算のためにS2像のみが必要とされる。アルゴリズム
の終了後に初めて、脂肪像および水像の計算または脂肪
‐水対応付けのために像コンピュータまたは設備コンピ
ュータ内で必要とされるのと同じく、S0像およびS1像
が必要とされる。
るために、像コンピュータ17内に存在している2つの
FIFOメモリ−ソフトウェア側で実行されるキューQ
1、Q2が使用される。
イ、いわゆる位相カード(φカード)内に書込まれる。
これらのカードの各点に対してさらに、正しい位相が既
に計算されているかどうかを既述するフラグが存在して
いる。
て対応付けられている領域を含んでおり、またはまだ領
域への対応付けが行われていない場合には零を含んでい
る自然数の二次元のアレイ(いわゆる領域カード)内で
行われる。
ら零を含んでおり、位相カード内のフラグはすべての画
素に対して“位相がまだ計算されていない”に立ってお
り、Q1、Q2は空であり、現在のキュー(すなわち作
業キュー)はQ1である。
開始時にまだ要素が作業キュー内に含まれていないの
で、ステップS2で最初に第1のシード点が見出されな
ければならない。
る5×5‐画素ROI内で最小の中央の像点強度が探索
される。これが係数2による乗算の後にノイズ限界とみ
なされる。すぐ次のステップとして、より大きい振幅を
有するすべての像点に対してヒストグラムが作成され
る。順次に増大プロセス内でデクレメントされる強度閾
値Lj、j=1,2,…、は、各ステップにより例えば
像点の10%が追加的に閾値の上側に位置するというル
ールから生ずる。レベルがノイズ限界の下側に到達する
と直ちに、零が増大限界として利用される。
ていなくてよいが、それは上記の方法により計算される
強度閾値Ljを超過しなければならない(開始時:j=
1)。>Ljの振幅を有する画素のもとでは、固有の振
幅と8つの隣接画素の振幅との和が最大であるものが選
ばれる。こうして1つの点が見出されると、これにステ
ップS3で1つの領域(初めは1)が対応付けられる。
ステップS4で領域カウンタNが1だけインクレメント
される。シード点の位相が位相カード内に記入され、フ
ラグが相応に“計算された”として標識される。ステッ
プS6でこのシード点が作業キュー内にシフトされる。
ード点)を含んでいるので、ステップS7でこのシード
点Eが作業キューから取り出され、またステップS8
で、ステップ8の最初の到達の際にすべてまだ処理され
ていないEのすべての隣接画素が、それらの振幅が上記
の方法により特定の最小限界Lj+1を超過すると仮定し
て、作業キュー内に書込まれる。その際に付言すべきこ
ととして、各画素は8つの隣接画素(上、下、左、右、
左上、右上、左下、右下)を有する。しかしながらアル
ゴリズムは4つの隣接画素(上、下、左、右)によって
も機能する。
び位相情報が存在しているので、ステップS9の後にス
テップS12が続き、このステップS12で、Lj+1よ
りも大きい振幅を有するEの隣接画素がそもそも存在す
るかどうかが質問される。Eがこのような隣接画素を有
していない場合、Eは現在のレベルLj+1の領域の境界
を標識する。従ってステップS13で非現在キュー内に
記入される。すぐ次のステップは再びS1である。
がまだ領域に対応付けられていないこと、またはEに対
してまだ位相情報が存在しないことがあり得る。従って
ステップシ10で、既に処理されたEのすべての隣接画
素が考察される。これらの隣接画素は種々の領域に対応
付けられていてよい。Eはいま、付属の隣接画素の振幅
の和が最大である領域に対応付けられ、また領域カード
内への書込みが行われる。ステップS11でいまこの領
域の隣接画素により位相連続化(位相アンラッピング)
が実行され、既に処理された隣接画素の位相が現在の画
素のそれと比較される。
算によりπよりも小さい位相差を得るために、必要なn
が決定される。nに対して1よりも大きい値が結果とし
て得られた場合、隣接画素の振幅により重み付けされ、
最も確率の高い値がとられる。
の振幅までのすべての画素が1つまたは多数のディスジ
ャンクトな位相連続化された領域に対応付けられる。し
かし予め定められた振幅範囲内にシード点がもはや見出
され得ないならば、ステップS14でキューが切換えら
れ、ステップS15で増大閾値Ljが下げられる(j=
j+1)。新しい作業キュー内には画素が位置してい
る。詳細には、最後の増大レベルの際に境界として識別
された画素が位置している。いま新しい領域が(新しい
シード点を経て)大きくされる前に、最初に既に存在す
る領域が縁からさらに大きくされることが確かめられて
いる。その後に初めて、減ぜられた強度閾値でステップ
S2で再び、その後のステップで再び新しい領域を形成
する新しいシード点が探索される。
れると、すなわちj>wになると、すべての像点が捕捉
され、アルゴリズムが終了されている(ステップS1
6)。
象的に説明される。最初の反復の際には水位が高く、い
くつかの頂上のみが突出している。高い振幅および位相
の高い精度を有するこれらの小さい島が処理される、す
なわち位相連続化される。すぐ次の反復の際(キューの
切換)、水位が低下し、島は大きくなり、また先行の反
復の“ストランド”から出発して引き続いて処理され
る。このようにして、小さい強度を有する画素を越える
範囲が大きくされることが防止される。水位の低下の後
に“古い”島がストランドから大きくされるだけでな
く、新たに姿を表した島も捕捉される。
うに、連続化された位相を有する一連のディスジャンク
トな領域(例えばAおよびB)を含んでいるカードであ
る。しかしながら領域間の位相関係はまだ一義的に定め
られていない。ここではπの倍数だけの位相跳躍が依然
として可能である。すぐ次のステップで初めてこの点が
解かれ、同時に脂肪および水の一義的な対応付けが行わ
れる。
両方の磁化成分のどれが水に対応付けられているかどれ
が脂肪に対応付けられているかの決定が可能でないこと
は明らかである。確かに、脂肪陽子の磁化がより遅く歳
差運動をすることは知られており、水陽子の回転座標系
内のその回転方向は知られている。しかし0°および1
80°における瞬間撮像から回転方向を導き出すことは
できない。そのためには、その中間に位置する角度(例
えば90°)における像が必要とされる。
なわちシード画素)に対してはまだπに正確に決定し得
ない。しかし全領域がこの点から広げられるので、この
全領域に対してこの不確実さが与えられている。180
°像はπの倍数までしか正確に補正されない。しかしπ
の位相誤りは、exp(iπ)=−1であるから、まさ
に符号の切換に相当し、このことは脂肪および水の交換
を招くであろう。こうして、S2′像(すなわち補正さ
れた180°像)に基づいて得られる位相カードはπの
倍数を加算されなければならない(すなわちφ(r)+
nπ)。各領域に対して個別にnが決定されなければな
らない。
80°像)の符号を一義的に決定するためには、nが偶
数か奇数かを知れば十分である。この情報はS1′(す
なわちφ0補正された90°像)から得られる。しかし
ながらS1′の位相はπ/2の倍数までしか知られてい
ない。位相補正はここで φ(r)/2+nπ/2 だけの回転により行われる。
フセット(0、π/2、π、3π/2(n=0、1、
2、3))を生じる。
像に基づいて計算された90°データセット S1′T=(WT+iFT)eiφT/2 (すなわち、φ補正なし、しかしφ0補正ありで期待す
べき90°像)を画素ごとに比較することである。イン
デックスTは、必要とされる量W(r)、F(r)およ
びφ(r)が直接的な測定によっては得られず、計算に
よって得られることを示す。
のからの最小の偏差を有するものが正しいと解釈され
る。 1.n=0; S2′が−φだけ補正される;S1′Tが位相φ/2+0
×π/2を得る;
/2+1×π/2を得る;
φ/2+2×π/2を得る;
φ/2+3×π/2を得る;
領域に対して選ぶべきかの決定は、測定された90°像
S1′との比較により行われる。そのために最初に1つ
の領域の各画素に対して正確に、偏差Wn=((Re
(S1′T)−Re(S1′))2)+((Im(S1′T)
−Im(S1′))2)が最小であるn∈〔0,1,2,
3〕が決定される。どのnをすべての領域に対して選ぶ
べきかの後続の決定に対しては、脂肪も水も含んでいる
画素のみが考慮に入れられる。それは||S0|−|S1
||も||S0|−|S2||も決定された閾値(例えば
画素振幅の10%、5%)の上に位置し、また|S2|
が同じく決定された閾値(例えば振幅|S0|の10
%)の上に位置し、また|S2|が同じく決定された閾
値(例えば振幅|S0|の10%)の上に位置する場合
である。各n∈〔0,1,2,3〕に対していま領域の
内側で、このnが最適であった画素の振幅の和が求めら
れる。和が最も大きい重みを得るnは最も確率が高いも
のとみなされる。複素平面内での回転によりいま像
S2′内の各領域が求められた位相係数により補正され
る。S2″=S2′e-1(φ+nπ)。S0′およびS2″の加
算によりいま純粋な水像が得られ、それらの減算により
純粋な脂肪像が得られる。
の領域内で、水および脂肪の有意義な識別を可能にする
少数の画素しか見出されない恐れがある。このことはこ
れらの領域の内側の脂肪および水の誤りのある対応付け
に通じ得る。この場合には下記の方策がある: −1つの領域内の脂肪および水の一義的かつ有意義な対
応付けに対する規範は ・上に定められた規範による十分に相違する割合を有す
る十分な量の脂肪および水内の決定された最小数の画素
を含んでいること、 ・最も確率の高いnの重みが決定された閾値だけ2番目
に確率の高いnの重みの上側に位置していることにあ
る。 −この規範が満足されていない場合、可能なかぎり高い
振幅を有する可能なかぎり長い境界線が延びている隣接
領域(ΣAiが最大である。ここでΣAiは現在の領域と
隣接領域との間の境界を形成する画素の振幅の和)が探
索されることによって、隣接領域との合一に努められ
る。 −共通の連続化された位相を得るためには、境界線の各
画素に対して、πのどの倍数が加算されなければならな
いかが決定されなければならない。その後に再び画素振
幅による重み付けを解して、どのkが最も確率が高いか
が決定される(なぜならばもちろん、両方の領域が正し
くアンラッピングされているかぎり、ただ1つのkが正
しいkであり得るからである)。各々の場合に強調され
るべきこととして、再び“情報の最大化”の原理が応用
される。 −両方の領域は場合によってはkπだけの現在の領域の
位相シフトの後に合一され得る。両方の領域のすべての
脂肪‐水情報を考慮に入れて、いま上記の進め方によ
り、いま脂肪‐水対応付けのために十分な情報が存在し
ているかどうかが評価される。まだ十分な情報が存在し
ていない場合には、その他の領域からも情報が取り入れ
られなければならない。
フィ像の処理は終了されている。S 0″およびS2″の加
算は純粋な水像を与え、それらの減算は純粋な脂肪像を
与える。その結果としての像のSN比は2つの平均化に
より得られるSN比に相当する。原理的には、3つの平
均化に相当するSN比を得るために、90°像もe-i (
φ/2+n×π/2)だけの位相補正の後に、脂肪像または水
像の計算に入れられ得る。
接画素への位相差の大きさは考慮に入れられなかった。
しかし、このことは、それによって危険なく強い不均等
性を有する点を越えて大きくされることを意味する。こ
のことは、しばしばローカルに強い位相特性しかないと
しても増大の際に伝搬する誤った対応付けに通じる。こ
のことを防止するために、画素は、現在処理される隣接
画素への位相差が閾値(例えば90°)よりも小さいと
きにのみ、作業キュー内に受け入れられる。画素はそれ
によって完全に増大プロセスから排除されていない。な
ぜならば、他の隣接画素から増大されると直ちに、規範
が新たにチェックされるからである。
すべきであろう。本発明によるアルゴリズムはある意味
でSN比に依存している。もしSN比が非常に小さく、
また一定の位相の補正の際にも不均等位相の補正の際に
も画素ごとに処理されるならば、問題が生じる。しか
し、より粗いラスター上の位相カードの情報で十分であ
るので、個々の画素の位相がその8つの隣接画素を利用
して計算されることによって、アルゴリズムの開始前に
平均化(補間)を実行することは目的にかなっている。
それによりSN比に、アルゴリズムをより安定にする或
る係数が得られる。アルゴリズムが計算に用いる位相を
決定するために、画素の原位相が用いられるのではな
く、3×3画素ラスターにわたる平均値が形成される。
位相カードが相応に粗いラスターにより計算された後
に、それによってS1′像およびS2′像が補正される。
平滑化は位相カードの計算のためにしか使用されず、発
生される脂肪像および水像の分解能は変化しない。
す図。
Claims (32)
- 【請求項1】 核スピントモグラフィ測定の際に異なる
化学シフトを有する2つのスピン集団の像を提供する核
スピントモグラフィ装置であって、スピンエコーパルス
シーケンスまたは勾配エコーパルスシーケンスを発生し
検査すべき対象物に入射する装置を備え、高周波パルス
および勾配パルスの適当な組み合わせ(パルスシーケン
ス)によりそれぞれのエコー時点で第1または第2のス
ピン集団の磁化が互いに平行、垂直および逆平行とな
り、フーリエ変換後に、3つの複素像S0、S1、S2が
得られ、これらの像が第1および第2のスピン集団の位
置に関係する陽子密度から構成され、システムに起因す
る位置に関係するエボリューション位相φ0のほかにB0
磁界不均等性に基づいてそれぞれ異なるエボリューショ
ン位相φを有する核スピントモグラフィ装置において、
3つの複素像から第1または第2のスピン集団の純粋な
像を算出するために、φ0の補正の後にφの補正と、続
いて第1または第2のスピン集団の対応付けとが行われ
ることを特徴とする核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項2】 φ0補正された像S0′、S1′または
S2′を得るために、φ 0補正が複素平面内の3つの像S
0、S1、S2の−φ0だけの回転により行われることを特
徴とする請求項1記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項3】 複数個のコイルによるマルチチャネル撮
像の際に、加算前でフーリエ変換後に、別々のφ0補正
が各個のチャネルに対して行われることを特徴とする請
求項1または2記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項4】像コンピュータ(17)または設備コンピ
ュータ(20)内でφ補正のために、隣接する画素間に
特定の位相値よりも大きい位相跳躍が起こらないという
仮定から出発して、かつ強度閾値としての最小値を超過
する信号振幅を有する画素から出発して、隣接画素との
順次の比較および位相連続化(位相アンラッピング)に
より、位相跳躍が起こらない画素の領域が発生されるこ
とを特徴とする請求項1ないし3の1つに記載の核スピ
ントモグラフィ装置。 - 【請求項5】 1つの画素が、現在処理される隣接画素
への位相差が予め定められた閾値の下に位置するときに
のみ、領域の拡張の際に考慮に入れられることを特徴と
する請求項1ないし4の1つに記載の核スピントモグラ
フィ装置。 - 【請求項6】 強度閾値の順次の低下に対する閾値が自
動的なノイズレベル推定と強度ヒストグラムとに基づい
て決定されることを特徴とする請求項1ないし5の1つ
に記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項7】 最初に高い信号振幅を有する範囲内での
み処理され、徐々に順次により小さい振幅の範囲が捕捉
されることを特徴とする請求項4ないし6の1つに記載
の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項8】 最初に多数のディスジャンクトな位相連
続化された領域が発生され、その領域に対して後にその
つどの最も確率の高い位相オフセットの一義的な決定が
行われることを特徴とする請求項1ないし7の1つに記
載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項9】 それぞれの領域の最も確率の高い位相オ
フセットの決定が、測定されφ0補正された90°像
S1′と計算されφ0補正された90°像S1′Tとの画素
毎の数学的比較に基づいて実行されることを特徴とする
請求項8記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項10】像コンピュータ(17)または設備コン
ピュータ(20)において、画素毎の比較の際に、十分
な量の脂肪および十分な量の水含むが等分に含まない最
小数の画素が考慮に入れられることを特徴とする請求項
9記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項11】 最も確率の高い位相オフセットとして
最多数の画素を有する位相オフセットが決定され、二番
目に確率の高い位相オフセットを有する画素の数が特定
の閾値だけ最も確率の高い位相オフセットを有する画素
の数の下に位置しなければならないことを特徴とする請
求項10記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項12】 請求項10または11の規範が満足さ
れていない場合、ディスジャンクトな領域が成長プロセ
スの終了後に隣接領域にそれぞれの境界線に関する情報
に関係して統合され、全位相連続化された領域を形成す
ることを特徴とする請求項11記載の核スピントモグラ
フィ装置。 - 【請求項13】 それぞれの領域の位相オフセットの知
識に基づいて、φおよびφ0補正された180°像S2″
を得るために、φ0補正された180°像S2′が複素平
面内の回転によりφ補正されることを特徴とする請求項
1ないし12の1つに記載の核スピントモグラフィ装
置。 - 【請求項14】 S0′とS2″との加算により第1のス
ピン集団の純粋な像が得られ、またはS0′とS2″との
減算により第2のスピン集団の純粋な像が得られること
を特徴とする請求項13記載の核スピントモグラフィ装
置。 - 【請求項15】 位相補正された像S0′、S2″を決
定するために、アルゴリズムを計算した位相値がより粗
い画素ラスターにわたって補間され、平滑化された像が
発生されることを特徴とする請求項1ないし14の1つ
に記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項16】 第1のスピン集団が水を、第2のスピ
ン集団が脂肪を表すことを特徴とする請求項1ないし1
5の1つに記載の核スピントモグラフィ装置。 - 【請求項17】 核スピントモグラフィ測定の際に異な
る化学シフトを有する2つのスピン集団の像を提供する
方法であって、スピンエコーパルスシーケンスまたは勾
配エコーパルスシーケンスを発生し検査すべき対象物に
入射し、高周波パルスおよび勾配パルスの適当な組み合
わせ(パルスシーケンス)によりそれぞれのエコー時点
で第1または第2のスピン集団の磁化が互いに平行、垂
直および逆平行となるステップと、 −フーリエ変換後に、3つの複素像S0、S1、S2が得
られ、これらの像が第1および第2のスピン集団の位置
に関係する陽子密度から構成され、システムに起因する
位置に関係するエボリューション位相φ0のほかにB0磁
界不均等性に基づいてそれぞれ異なるエボリューション
位相φを有するステップとを有する方法において、 異なる位相φ/2またはφに基づいて −最初にφ0の補正が、 −次いでφの補正が、 −最後にそれぞれのスピン集団の対応付けが行われる ことを特徴とする異なる化学シフトを有する2つのスピ
ン集団の像を提供する方法。 - 【請求項18】 φ0補正が複素平面内の3つの像S0、
S1、S2の−φ0だけの回転により行われ、φ0補正され
た像S0′、S1′、S2′が得られることを特徴とする
請求項17記載の方法。 - 【請求項19】 複数個のコイルによるマルチチャネル
撮像の際に、加算前でフーリエ変換後に、別々のφ0補
正が各個のチャネルに対して行われることを特徴とする
請求項17または18記載の方法。 - 【請求項20】像コンピュータ(17)または設備コン
ピュータ(20)内でφ補正のために、隣接する画素の
間に特定の位相値よりも大きい位相跳躍が起こらないと
いう仮定から出発して、かつ強度閾値としての最小値を
超過する信号振幅を有する画素から出発して、隣接画素
との順次の比較および位相連続化(位相アンラッピン
グ)により、位相跳躍が起こらない画素の領域が発生さ
れることを特徴とする請求項17ないし19の1つに記
載の方法。 - 【請求項21】 1つの画素が、現在処理される隣接画
素への位相差が予め定められた閾値の下に位置するとき
にのみ、領域の拡張の際に考慮に入れられることを特徴
とする請求項17ないし20の1つに記載の方法。 - 【請求項22】 強度閾値の順次の低下に対する閾値が
自動的なノイズレベル推定と強度ヒストグラムとに基づ
いて決定されることを特徴とする請求項17ないし21
の1つに記載の方法。 - 【請求項23】 最初に高い信号振幅を有する範囲内で
のみ処理され、徐々に順次により小さい振幅の範囲が捕
捉されることを特徴とする請求項20ないし22の1つ
に記載の方法。 - 【請求項24】 最初に多数のディスジャンクトな位相
連続化された領域が発生され、その領域に対して後にそ
のつどの最も確率の高い位相オフセットの一義的な決定
が行われることを特徴とする請求項17ないし23の1
つに記載の方法。 - 【請求項25】 それぞれの領域の最も確率の高い位相
オフセットの決定が、測定されφ0補正された90°像
S1′と計算されφ0補正された90°像S1′ Tとの画素
ごとの数学的比較に基づいて実行されることを特徴とす
る請求項24記載の方法。 - 【請求項26】像コンピュータ(17)または設備コン
ピュータ(20)内で、画素ごとの比較の際に、十分な
量の脂肪および十分な量の水を含むが等分に含まない最
小数の画素が考慮に入れられることが確かめられること
を特徴とする請求項25記載の方法。 - 【請求項27】 最も確率の高い位相オフセットとして
最多数の画素を有する相オフセットが決定され、二番目
に確率の高い位相オフセットを有する画素の数が特定の
閾値だけ最も確率の高い位相オフセットを有する画素の
数の下に位置しなければならないことを特徴とする請求
項26記載の方法。 - 【請求項28】 請求項10または11の規範が満足さ
れていない場合、ディスジャンクトな領域が成長プロセ
スの終了後に隣接領域にそれぞれの境界線に関する情報
に関係して統合されて、全位相連続化された領域を形成
することを特徴とする請求項27記載の方法。 - 【請求項29】 それぞれの領域の位相オフセットの知
識に基づいて、φおよびφ0補正された180°像S2″
を得るために、φ0補正された180°像S2′が複素平
面内の回転によりφ補正されることを特徴とする請求項
17ないし28の1つに記載の方法。 - 【請求項30】 S0′とS2″との加算により第1のス
ピン集団の純粋な像が得られ、またはS0′とS2″との
減算により第2のスピン集団の純粋な像が得られること
を特徴とする請求項29記載の方法。 - 【請求項31】 位相補正された像S0′、S2″を決定
するために、アルゴリズムを計算した位相値がより粗い
画素ラスターにわたって補間され、平滑化された像が発
生されることを特徴とする請求項17ないし30の1つ
に記載の方法。 - 【請求項32】 第1のスピン集団が水を、第2のスピ
ン集団が脂肪を表すことを特徴とする請求項17ないし
31の1つに記載の方法。
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