JP2002342993A - Method of manufacturing optical information recording medium - Google Patents

Method of manufacturing optical information recording medium

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JP2002342993A
JP2002342993A JP2001150759A JP2001150759A JP2002342993A JP 2002342993 A JP2002342993 A JP 2002342993A JP 2001150759 A JP2001150759 A JP 2001150759A JP 2001150759 A JP2001150759 A JP 2001150759A JP 2002342993 A JP2002342993 A JP 2002342993A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an optical information recording medium which is large in modulation degree and has stable recording and reproducing characteristics. SOLUTION: The method of manufacturing the optical information recording medium, which has a recording layer containing a solvent soluble organic compound having an absorption maximum at a wavelength of 300 to 450 nm and having >=0.07 of absorbance of a dye solid film at a recording laser wavelength on a substrate surface, a light reflecting layer and a substrate in this order and performs recording and reproducing with light of 380 to 500 nm in wavelength at a track pitch of 300 to 600 nm and a groove depth of 40 to 150 nm, has a recording layer forming process step of forming the recording layer on the substrate surface and a light reflecting layer forming process step of forming the light reflecting layer on the surface of the recording layer and is provided with an annealing process step of regulating the temperature between 10 and 40 deg.C and maintaining the temperature for 1 to 12 hours between the recording layer forming process and the light reflecting layer forming process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体、
特にヒートモードによる追記型光情報記録媒体の製造方
法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical information recording medium,
In particular, the present invention relates to a method for manufacturing a write-once optical information recording medium in a heat mode.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)が知ら
れている。この光ディスクは、追記型CD(所謂CD−
R)とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基
板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる光
反射層、さらに樹脂製の保護層(カバー層)がこの順に
積層したものである。そしてこのCD−Rへの情報の記
録は、近赤外域のレーザ光(通常は780nm付近の波
長のレーザ光)をCD−Rに照射することにより行わ
れ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇し、物理的あるいは化学的変化(例えば、ピットの
生成)によりその部分の光学的特性が変化することによ
り情報が記録される。一方、情報の読み取り(再生)も
また記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光をCD−R
に照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変
化した部位(記録部分)と変化していない部位(未記録
部分)との反射率の違いを検出することにより行われて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, an optical information recording medium (optical disk) on which information can be recorded only once by a laser beam has been known. This optical disc is a write-once CD (so-called CD-
R), a typical structure of which comprises a transparent disc-shaped substrate, a recording layer made of an organic dye, a light reflection layer made of a metal such as gold, and a protective layer (cover layer) made of a resin in this order. It is a laminate. The recording of information on the CD-R is performed by irradiating the CD-R with near-infrared laser light (usually a laser light having a wavelength around 780 nm), and the irradiated portion of the recording layer emits the light. The temperature is locally increased by absorption, and information is recorded by changing the optical characteristics of the portion due to a physical or chemical change (for example, generation of pits). On the other hand, when reading (reproducing) information, a laser beam having the same wavelength as that of the recording laser beam is also used as a CD-R.
The recording is performed by detecting a difference in reflectance between a portion where the optical characteristics of the recording layer have changed (recorded portion) and a portion where the optical characteristics have not changed (unrecorded portion).

【0003】近年、記録密度のより高い光情報記録媒体
が求められている。このような要望に対して、追記型デ
ジタル・ヴァーサタイル・ディスク(所謂DVD−R)
と称される光ディスクが提案されている(例えば、「日
経ニューメディア」別冊「DVD」、1995年発
行)。このDVD−Rは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝(プレグルーブ)がCD−Rの半
分以下(0.74〜0.8μm)という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層した
ディスク2枚を記録層を内側にして貼り合わせた構造、
あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを
記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そ
して、このDVD−Rへの情報の記録および再生は、可
視レーザ光(通常は、630nm〜680nmの範囲の
波長のレーザ光)を照射することにより行われており、
CD−Rより高密度の記録が可能である。
In recent years, an optical information recording medium having a higher recording density has been demanded. In response to such demands, write-once digital versatile discs (so-called DVD-R)
Has been proposed (for example, "Nikkei New Media" separate volume "DVD", published in 1995). This DVD-R is a transparent disk-shaped guide groove (pre-groove) for tracking the laser beam to be irradiated, which is formed with a narrow groove width of half or less (0.74 to 0.8 μm) of the CD-R. A structure in which two disks each having a recording layer containing an organic dye, a light reflection layer, and a protective layer laminated in this order on a substrate are usually laminated with the recording layer inside.
Alternatively, the disk has a structure in which a disk-shaped protective substrate having the same shape as the disk is bonded with the recording layer inside. Recording and reproduction of information on the DVD-R is performed by irradiating a visible laser beam (normally, a laser beam having a wavelength in a range of 630 nm to 680 nm).
Higher density recording is possible than CD-R.

【0004】最近、インターネット等のネットワークや
ハイビジョンTVが急速に普及している。また、HDT
V(High Definition Televis
ion)の放映開始も間近にひかえている。このような
状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができ
る大容量の記録媒体が必要とされている。DVD−Rは
現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たし
ているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であ
り、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要で
ある。このため、DVD−Rよりも更に短波長の光で高
密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒
体の開発が進められている。
[0004] Recently, networks such as the Internet and high-definition TVs have rapidly become widespread. Also, HDT
V (High Definition Televis)
ion) is about to start broadcasting. Under such circumstances, there is a need for a large-capacity recording medium capable of simply and inexpensively recording image information. At present, DVD-Rs play a sufficient role as large-capacity recording media, but demands for large-capacity and high-density are increasing, and it is also necessary to develop recording media that can meet these requirements. . For this reason, a recording medium having a larger capacity capable of performing high-density recording with light having a shorter wavelength than that of the DVD-R is being developed.

【0005】例えば、特開平4−74690号公報、特
開平7−304256号公報、特開平7−304257
号公報、特開平8−127174号公報、同11−53
758号公報、同11−334204号公報、同11−
334205号公報、同11−334206号公報、同
11−334207号公報、特開2000−43423
号公報、同2000−108513号公報、同2000
−113504号公報、同2000−149320号公
報、同2000−158818号公報、および同200
0−228028号公報には、有機色素を含む記録層を
有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層
側に向けて波長530nm以下のレーザ光を照射するこ
とにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が
開示されている。これらの方法では、ポルフィリン化合
物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色
素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル
骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等
を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色(波長4
30nm、488nm)又は青緑色(波長515nm)
のレーザ光を照射することにより情報の記録および再生
を行っている。
For example, JP-A-4-74690, JP-A-7-304256, JP-A-7-304257
JP-A-8-127174 and JP-A-11-53
758, 11-334204, 11-
334205, 11-334206, 11-334207, JP-A-2000-43423
JP 2000-108513, JP 2000-108513
-113504, 2000-149320, 2000-158818, and 200
Japanese Patent Application Laid-Open No. 0-228028 discloses that in an optical information recording medium having a recording layer containing an organic dye, information is recorded and reproduced by irradiating a laser beam having a wavelength of 530 nm or less from the recording layer side to the light reflecting layer side. Is disclosed. In these methods, an optical disk having a recording layer containing a porphyrin compound, an azo dye, a metal azo dye, a quinophthalone dye, a trimethine cyanine dye, a dicyanovinylphenyl skeleton dye, a coumarin compound, a naphthalocyanine compound, and the like, Blue (wavelength 4
30 nm, 488 nm) or bluish green (wavelength 515 nm)
The recording and reproduction of information are performed by irradiating the laser light.

【0006】一方、DVDとして相変化型の光ディスク
が知られているが、これは、記録層としてGeSbTe
等の合金層を採用し、記録層にレーザー光で瞬間的に加
熱して、結晶状態からアモルファス状態に相変化させ、
相変化により変わる反射率を利用して記録再生する方式
である。最近、この相変化型のDVDを用いて、青紫レ
ーザーにより記録再生をおこなうDVRシステムが発表
された(「ISOM2000」210〜211頁)。こ
のシステムにより、高密度化という課題に対しては一定
の成果が達成された。
[0006] On the other hand, a phase change optical disk is known as a DVD, which is a GeSbTe as a recording layer.
The recording layer is instantaneously heated with a laser beam to change its phase from a crystalline state to an amorphous state.
This is a method of recording and reproducing using a reflectance changed by a phase change. Recently, a DVR system for performing recording and reproduction using a blue-violet laser using this phase-change type DVD has been announced ("ISOM2000", pp. 210-211). This system has achieved certain results for the issue of high density.

【0007】このような光ディスクの製造は、基板表面
に記録層塗布液を塗布することによって記録層を形成
し、その上に金、銀等の金属をスパッタすることにより
光反射層を積層し、さらに基板を設けることによって行
う。あるいは、基板表面に、光反射層を積層し、その上
に記録層を形成し、さらにその上に、保護層(カバー
層)を積層して行う。記録層上に光反射層あるいはカバ
ー層を積層するに際し、記録層塗布液が残留したままの
状態で光反射層を形成すると、溶剤が残り、これが特に
短波長のレーザ照射の際、ジッタ−及び変調度が悪化
し、安定した記録再生ができないという問題があった。
In the production of such an optical disk, a recording layer is formed by applying a recording layer coating solution to a substrate surface, and a light reflecting layer is laminated thereon by sputtering a metal such as gold or silver. Further, it is performed by providing a substrate. Alternatively, a light reflection layer is laminated on the substrate surface, a recording layer is formed thereon, and a protective layer (cover layer) is further laminated thereon. When laminating the light reflecting layer or the cover layer on the recording layer, if the light reflecting layer is formed with the recording layer coating liquid remaining, the solvent remains, and this is particularly the case when irradiating a short-wavelength laser. There has been a problem that the degree of modulation deteriorates and stable recording and reproduction cannot be performed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の従来
の問題点に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達
成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、変調
度が大きく、安定した記録再生特性をもつ光情報記録媒
体の製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has as its object to achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical information recording medium having a large degree of modulation and having stable recording and reproducing characteristics.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決する手段
は以下の通りである。即ち、 <1> 基板表面に、300nmから450nmに吸収
極大をもち、記録レーザー波長での色素固体膜の吸光度
が0.07以上ある溶剤溶解性有機化合物を含有する記
録層と、光反射層と、基板とをこの順に有し、トラック
ピッチが300〜600nmで、溝深さが40nm〜1
50nmで、波長が380〜500nmの光で記録再生
する光情報記録媒体の製造方法であって、基板表面に前
記記録層を形成する記録層形成工程と、該記録層の表面
に光反射層を形成する光反射層形成工程とを有し、前記
記録層形成工程と前記反射層スパッタ工程との間に、温
度を10℃以上40℃未満とし、かつ該温度を1〜12
時間保持するアニール工程を設けたことを特徴とする光
情報記録媒体の製造方法である。
Means for solving the above problems are as follows. That is, <1> a recording layer containing a solvent-soluble organic compound having an absorption maximum from 300 nm to 450 nm on the substrate surface and having an absorbance of 0.07 or more at the recording laser wavelength of the dye solid film, and a light reflection layer. , A substrate in this order, the track pitch is 300 to 600 nm, and the groove depth is 40 nm to 1 nm.
What is claimed is: 1. A method for manufacturing an optical information recording medium for recording and reproducing with light having a wavelength of 380 to 500 nm at 50 nm, comprising: a recording layer forming step of forming the recording layer on a substrate surface; and a light reflecting layer on the surface of the recording layer. Forming a light reflecting layer to be formed, wherein the temperature is set to 10 ° C. or more and less than 40 ° C. between the recording layer forming step and the reflecting layer sputtering step;
A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising an annealing step for holding time.

【0010】<2> 基板表面に、光反射層と、300
nmから450nmに吸収極大をもち、記録レーザー波
長での色素固体膜の吸光度が0.07以上ある溶剤溶解
性有機化合物を含有する記録層と、カバー層とをこの順
に有し、トラックピッチ100〜400nmで、溝深さ
40nm〜150nmで、波長が380〜500nmの
光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、
基板表面に光反射層を形成する光反射層形成工程と、該
反射層の表面に記録層を形成する記録層形成工程と、該
記録層の表面にカバー層を形成するカバー層形成工程と
を有し、前記記録層形成工程とカバー層形成工程との間
に、温度を10℃以上40℃未満とし、かつ該温度を1
〜12時間保持するアニール工程を設けたことを特徴と
する光情報記録媒体の製造方法である。 <3> 前記溶剤溶解性有機化合物が、フタロシアニン
であることを特徴とする前記<1>または<2>に記載
の光情報記録媒体の製造方法である。
<2> A light reflecting layer and 300
a recording layer containing a solvent-soluble organic compound having an absorption maximum at from 450 nm to 450 nm and an absorbance of the dye solid film at the recording laser wavelength of 0.07 or more, and a cover layer in this order. A method for producing an optical information recording medium for recording / reproducing with light having a wavelength of 400 nm, a groove depth of 40 nm to 150 nm, and a wavelength of 380 to 500 nm,
A light reflecting layer forming step of forming a light reflecting layer on the substrate surface, a recording layer forming step of forming a recording layer on the surface of the reflecting layer, and a cover layer forming step of forming a cover layer on the surface of the recording layer. A temperature between 10 ° C. and less than 40 ° C. between the recording layer forming step and the cover layer forming step;
A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising an annealing step of holding for up to 12 hours. <3> The method for producing an optical information recording medium according to <1> or <2>, wherein the solvent-soluble organic compound is phthalocyanine.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明による光情報記録媒
体の製造方法の実施形態について説明する。先ず、本発
明の製造方法により得られる光情報記録媒体について説
明する。該光情報記録媒体は、第1の態様によると、基
板表面に、記録層と、光反射層と、基板とをこの順に有
し、必要に応じてその他の層を有してなる。以下、基板
及び各層について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention will be described. First, an optical information recording medium obtained by the manufacturing method of the present invention will be described. According to the first aspect, the optical information recording medium has a recording layer, a light reflection layer, and a substrate in this order on a substrate surface, and has other layers as necessary. Hereinafter, the substrate and each layer will be described.

【0012】<基板>基板としては、従来の光情報記録
媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意
に選択して使用することができる。具体的には、ガラ
ス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリ
オレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等
を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよ
い。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価
格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオ
レフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好まし
い。また、基板の厚さは、0.5〜1.4mmとするこ
とが好ましい。
<Substrate> As the substrate, various materials used as substrate materials for conventional optical information recording media can be arbitrarily selected and used. Specific examples include glass; acrylic resins such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; epoxy resins; amorphous polyolefin; polyester; If desired, these may be used in combination. Among the above materials, polycarbonate and amorphous polyolefin are preferable, and polycarbonate is particularly preferable, in terms of moisture resistance, dimensional stability, low cost, and the like. Further, the thickness of the substrate is preferably set to 0.5 to 1.4 mm.

【0013】基板には、トラッキング用の案内溝または
アドレス信号等の情報を表わす凹凸(プレグルーブ)が
形成されている。より高い記録密度を達成するためにC
D−RやDVD−Rに比べて、より狭いトラックピッチ
のプレグルーブが形成された基板を用いることが好まし
い。プレグルーブのトラックピッチは、300〜600
μmである。また、プレグルーブの深さ(溝深さ)は、
40〜150nmの範囲である。
A guide groove for tracking or an unevenness (pre-groove) representing information such as an address signal is formed on the substrate. C to achieve higher recording density
It is preferable to use a substrate on which pre-grooves with a narrower track pitch are formed as compared with a DR or a DVD-R. The track pitch of the pre-groove is 300-600
μm. The pregroove depth (groove depth)
It is in the range of 40 to 150 nm.

【0014】なお、後述する光反射層が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、
下塗層を形成することが好ましい。該下塗層の材料とし
ては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸
・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共
重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリ
ルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロル
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイ
ミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢
酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート等の高分子物質;シランカップリング剤
等の表面改質剤;を挙げることができる。下塗層は、上
記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製
した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、
エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に
塗布することにより形成することができる。下塗層の層
厚は、一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ま
しくは0.01〜10μmの範囲である。
On the surface of the substrate on which the light reflecting layer described later is provided, for the purpose of improving the flatness and the adhesive strength,
It is preferable to form an undercoat layer. Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylolacrylamide, styrene / vinyltoluene copolymer, and chlorinated copolymer. High molecular substances such as sulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, and polycarbonate; silane coupling Surface modifiers such as agents. The undercoat layer is prepared by dissolving or dispersing the above materials in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying the coating solution by spin coating, dip coating,
It can be formed by applying to the substrate surface by an application method such as extrusion coating. The thickness of the undercoat layer is generally in the range of 0.005 to 20 μm, preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

【0015】<記録層>記録層は、上記光反射層上に形
成され、波長380〜500nmのレーザ光により情報
の記録再生が可能で、300〜450nmに吸収極大を
持ち、記録レーザー波長での吸光度が0.07以上であ
る有機溶剤溶解性化合物を含有している。なお、「記録
レーザー波長」とは、光記録媒体に照射するレーザーの
波長をいい、DVDの場合は、635nm、650n
m、DVRの場合は、405nmである。また、「吸光
度」とは、有機溶剤溶解性化合物(A)または(B)
が、アモルファス膜状態で光の吸収する度合を表す量で
あり、吸収によってその光の強さがI0→Iになったと
き吸光度A=log10(I0/I)で与えられる。
<Recording Layer> The recording layer is formed on the light reflection layer, and can record and reproduce information with a laser beam having a wavelength of 380 to 500 nm, has an absorption maximum at 300 to 450 nm, and has a recording laser wavelength. It contains an organic solvent-soluble compound having an absorbance of 0.07 or more. The “recording laser wavelength” refers to the wavelength of the laser that irradiates the optical recording medium, and in the case of DVD, 635 nm and 650 nm.
In the case of m and DVR, it is 405 nm. The “absorbance” refers to the organic solvent-soluble compound (A) or (B)
Is the quantity representing the degree of light absorption in the amorphous film state, and is given by the absorbance A = log 10 (I 0 / I) when the light intensity changes from I 0 to I by absorption.

【0016】また、前記有機溶剤溶解性化合物は、記録
層中に50〜100質量%含有されていることが好まし
く、70〜100質量%含有されていることがより好ま
しい。50質量%未満とすると、吸収が少なくなり、記
録特性がとれなくなることがある。
The organic solvent-soluble compound is preferably contained in the recording layer in an amount of 50 to 100% by mass, more preferably 70 to 100% by mass. When the amount is less than 50% by mass, the absorption is reduced, and the recording characteristics may not be obtained.

【0017】前記有機溶剤溶解性化合物としては、フタ
ロシアニン化合物、ポリフィリン系化合物、トリアゾー
ル系化合物、アミノブタジエン系化合物、シアニン系化
合物等でこれらの少なくとも一種であることが好まし
く、フタロシアニン化合物としては、アルコキシ置換
体、スルホンアミド置換体、スルフォモイル置換体、ス
ルホン酸置換体のついてものの少なくとも一種であるこ
とが好ましい。
The organic solvent-soluble compound is preferably a phthalocyanine compound, a porphyrin compound, a triazole compound, an aminobutadiene compound, a cyanine compound or the like, and at least one of these is preferable. , Sulfonamide-substituted, sulfomoyl-substituted, and sulfonic acid-substituted ones.

【0018】また、特開平4−74690号公報、特開
平8−127174号公報、同11−53758号公
報、同11−334204号公報、同11−33420
5号公報、同11−334206号公報、同11−33
4207号公報、特開2000−43423号公報、同
2000−108513号公報、および同2000−1
58818号公報等に記載されている色素を併用するこ
とができる。さらに、上記色素には限定されず、トリア
ゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メ
ロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシ
アニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ
化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベン
ゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いられ
る。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノ
ブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロ
シアニン化合物が特に好ましい。
Also, JP-A-4-74690, JP-A-8-127174, JP-A-11-53758, JP-A-11-334204, and JP-A-11-33420.
No. 5, No. 11-334206, No. 11-33
No. 4,207, JP-A-2000-43423, JP-A-2000-108513, and JP-A-2000-1
A dye described in US Pat. No. 5,818,818 can be used in combination. Furthermore, it is not limited to the above dyes, such as triazole compounds, triazine compounds, cyanine compounds, merocyanine compounds, aminobutadiene compounds, phthalocyanine compounds, cinnamic acid compounds, viologen compounds, azo compounds, oxonol benzoxazole compounds, benzotriazole compounds and the like. Organic compounds are also preferably used. Among these compounds, a cyanine compound, an aminobutadiene compound, a benzotriazole compound, and a phthalocyanine compound are particularly preferable.

【0019】<光反射層>光反射層には、レーザ光に対
する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射
率としては、70%以上である。反射率の高い光反射性
物質としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、
V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、
Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、A
g、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、G
e、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属および半金
属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これら
の光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種
以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これ
らのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、
Ag、Au、Alおよびステンレス鋼である。特に好ま
しくは、Au、Ag、Alあるいはこれらの合金であ
り、最も好ましくは、Au、Agあるいはこれらの合金
である。
<Light Reflecting Layer> The light reflecting layer is made of a light reflecting substance having a high reflectance to laser light. The reflectance is 70% or more. Light reflective substances having high reflectivity include Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf,
V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe,
Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, A
g, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, G
Metals such as e, Te, Pb, Po, Sn, Bi, etc. and semimetals or stainless steel can be mentioned. These light reflective substances may be used alone, or may be used in combination of two or more kinds or as an alloy. Among these, preferred are Cr, Ni, Pt, Cu,
Ag, Au, Al and stainless steel. Particularly preferred are Au, Ag, Al and alloys thereof, and most preferred are Au, Ag and alloys thereof.

【0020】<接着層>接着層は、上記記録層と、後述
するカバー層との密着性を向上させるために形成される
任意の層である。接着層を構成する材料としては、光硬
化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止す
るため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このよう
な光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の
「SD−640」、「SD−347」等のUV硬化性樹
脂(UV硬化性接着剤)を挙げることができる。また、
接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、1〜1000
μmの範囲が好ましく、5〜500μmの範囲がより好
ましく、10〜100μmの範囲が特に好ましい。
<Adhesive Layer> The adhesive layer is an optional layer formed to improve the adhesion between the recording layer and a cover layer described later. As a material forming the adhesive layer, a photocurable resin is preferable, and among them, a material having a small curing shrinkage is preferable in order to prevent the disk from warping. Examples of such a photo-curable resin include UV-curable resins (UV-curable adhesives) such as “SD-640” and “SD-347” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Also,
The thickness of the adhesive layer is from 1 to 1000 to give elasticity.
The range of μm is preferred, the range of 5 to 500 μm is more preferred, and the range of 10 to 100 μm is particularly preferred.

【0021】接着層を形成する材料の他の例を挙げる。
該材料は、放射線照射により硬化可能な樹脂であって、
分子中に2個以上の放射線官能性の2重結合を有する樹
脂であり、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、
メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリ
ル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などが
あげられる。好ましくは2官能以上のアクリレート化合
物、メタクリレート化合物である。
Other examples of the material for forming the adhesive layer will be described.
The material is a resin curable by radiation irradiation,
A resin having two or more radiation-functional double bonds in the molecule, such as acrylates, acrylamides,
Examples include methacrylates, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and the like. Preferably, it is a bifunctional or more functional acrylate compound or methacrylate compound.

【0022】2官能の具体例としては、エチレングリコ
ールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレ
ート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジ
メタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート
などに代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタク
リル酸を付加させたものを用いることができる。
Specific examples of bifunctional compounds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, butanediol diacrylate, hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, and neopentyl glycol. Diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate,
Diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, and the like can be used in which acrylic acid and methacrylic acid are added to an aliphatic diol represented by, for example. it can.

【0023】また、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなど
のポリエーテルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメ
タクリレートや公知の二塩基酸、グリコールから得られ
たポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステル
メタクリレートも用いることができる。さらに、公知の
ポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させ
たポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させ
たポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレ
ートを用いてもよい。
Polyether acrylates and polyether methacrylates obtained by adding acrylic acid and methacrylic acid to polyether polyols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polytetramethylene glycol, and polyester polyols obtained from known dibasic acids and glycols Polyester acrylates and polyester methacrylates obtained by adding acrylic acid and methacrylic acid can also be used. Furthermore, a polyurethane acrylate or polyurethane methacrylate obtained by adding acrylic acid or methacrylic acid to a known polyurethane obtained by reacting a polyol or a diol with a polyisocyanate may be used.

【0024】また、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、水素化ビスフェノールA、水素化ビスフェノールF
やこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、
メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキ
レンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸ア
ルキレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリシク
ロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカ
ンジメタノールジメタクリレートなどの環状構造を有す
るものも用いることができる。
Also, bisphenol A, bisphenol F, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F
And acrylic acid to these alkylene oxide adducts,
Methacrylic acid-added products and isocyanuric acid alkylene oxide-modified diacrylates, isocyanuric acid alkylene oxide-modified dimethacrylates, tricyclodecane dimethanol diacrylates, and those having a cyclic structure such as tricyclodecane dimethanol dimethacrylate are also used. Can be.

【0025】前記放射線としては、電子線および紫外線
を使用することができる。紫外線を使用する場合には以
下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要とな
る。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳
香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源と
して通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。
254,313,865nmの波長において吸光係数の
比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、ア
セトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエー
テル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケター
ル、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチル
フェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、2−2ジエトキシアセトフェノン、Mich
ler’sケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使
用できる。芳香族ケトンの混合比率は、化合物(a)1
00重量部に対し0.5〜20重量部、好ましくは2〜
15重量部、さらに好ましくは3〜10重量部である。
紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加し
たものが市販しており、それを使用してもかまわない。
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は2
0〜200W/cmのランプを用い速度0.3m/分〜
20m/分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般
に1〜30cmであることが好ましい。
As the radiation, an electron beam and an ultraviolet ray can be used. When ultraviolet rays are used, it is necessary to add a photopolymerization initiator to the following compounds. An aromatic ketone is used as a photopolymerization initiator. Aromatic ketones produce, but are not particularly limited to, the emission spectrum of mercury lamps commonly used as ultraviolet light sources.
Those having a relatively large absorption coefficient at a wavelength of 254, 313, 865 nm are preferred. Representative examples include acetophenone, benzophenone, benzoin ethyl ether, benzyl methyl ketal, benzyl ethyl ketal, benzoin isobutyl ketone, hydroxydimethyl phenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-2 diethoxyacetophenone, and Mich.
Ler's ketone and various aromatic ketones can be used. The mixing ratio of the aromatic ketone is as follows: Compound (a) 1
0.5 to 20 parts by weight, preferably 2 to 100 parts by weight
15 parts by weight, more preferably 3 to 10 parts by weight.
An ultraviolet curable adhesive to which a photoinitiator has been added in advance is commercially available, and it may be used.
A mercury lamp is used as the ultraviolet light source. Mercury lamp 2
0.3 m / min speed using a 0-200 W / cm lamp
Used at 20 m / min. Generally, the distance between the substrate and the mercury lamp is preferably 1 to 30 cm.

【0026】電子線加速器としてはスキャニング方式、
ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が
採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得ら
れるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、
加速電圧が100〜1000kV、好ましくは150〜
300kVであり、吸収線量として0.5〜20Mra
d、好ましくは1〜10Mradである。加速電圧が1
0kV以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し10
00kVを超えると重合に使われるエネルギー効率が低
下しコスト的に好ましくない。
A scanning system is used as an electron beam accelerator.
A double scanning method or a curtain beam method can be adopted, but a curtain beam method which is relatively inexpensive and can provide a large output is preferable. As electron beam characteristics,
The acceleration voltage is 100 to 1000 kV, preferably 150 to
300 kV and an absorbed dose of 0.5 to 20 Mra
d, preferably 1 to 10 Mrad. Acceleration voltage is 1
In the case of 0 kV or less, the amount of transmitted energy is insufficient and
If it exceeds 00 kV, the energy efficiency used for polymerization decreases, which is not preferable in terms of cost.

【0027】次に光情報記録媒体の第2の態様について
説明する。第2の態様の光情報記録媒体は、基板表面
に、光反射層と、記録層と、カバー層をこの順にを有
し、必要に応じてその他の層を有してなる。本態様の光
情報記録媒体は、トラックピッチが100〜400nm
であること、及びカバー層を有することにおいて第1の
態様とは異なり、それ以外は第1の態様と同様である。
従って、カバー層のみについて説明する。
Next, a second embodiment of the optical information recording medium will be described. The optical information recording medium of the second aspect has a light reflecting layer, a recording layer, and a cover layer in this order on a substrate surface, and has other layers as necessary. The optical information recording medium of this embodiment has a track pitch of 100 to 400 nm.
, And having a cover layer, is different from the first embodiment, and otherwise is the same as the first embodiment.
Therefore, only the cover layer will be described.

【0028】<カバー層>カバー層は、光情報記録媒体
内部への水分の侵入を防ぐために形成され、透明な材質
であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネ
ート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、2
3℃50%RHでの吸湿率が5%以下の材料である。な
お、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、
該光を透過する(透過率:90%以上)ほどに透明であ
ることを意味する。
<Cover Layer> The cover layer is formed in order to prevent moisture from entering the inside of the optical information recording medium, and is not particularly limited as long as it is a transparent material, but is preferably polycarbonate, cellulose triacetate or the like. Preferably, 2
A material having a moisture absorption of 5% or less at 3 ° C. and 50% RH. Note that “transparent” means that the recording light and the reproduction light
It means that it is transparent enough to transmit the light (transmittance: 90% or more).

【0029】以上の光情報記録媒体は、光反射層と記録
層との間に、記録層の特性に応じて誘電体層または光透
過層を形成することができる。例えば、記録層との接着
性向上のための光透過層を設けてもよく、相変化型の記
録層を設けた場合には、放熱のための誘電体層を設けて
もよい。誘電体層としては、Zn、Si、Ti、Te、
Sn、Mo、Ge等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物
からなる材料を使用することが好ましく、ZnS−Si
2のようなものであってもよい。光透過層としては、
レーザー波長で90%以上の透過率があるものであれば
如何なる材料をも使用することができる。
In the above optical information recording medium, a dielectric layer or a light transmitting layer can be formed between the light reflecting layer and the recording layer according to the characteristics of the recording layer. For example, a light transmissive layer for improving adhesion to the recording layer may be provided, and when a phase change type recording layer is provided, a dielectric layer for heat dissipation may be provided. As the dielectric layer, Zn, Si, Ti, Te,
It is preferable to use a material composed of nitride, oxide, carbide, sulfide such as Sn, Mo, Ge, etc., and ZnS-Si
It may be something like O 2 . As the light transmission layer,
Any material can be used as long as it has a transmittance of 90% or more at the laser wavelength.

【0030】上記誘電体層または光透過層は、従来公知
の方法により形成することができる。誘電体層の厚さ
は、1〜100nmとすることが好ましく、光透過層の
厚さは、2〜50nmとすることが好ましい。
The dielectric layer or the light transmitting layer can be formed by a conventionally known method. The thickness of the dielectric layer is preferably 1 to 100 nm, and the thickness of the light transmitting layer is preferably 2 to 50 nm.

【0031】[光情報記録媒体の製造方法]次に、以上
の光情報記録媒体を製造する本発明の製造方法について
詳述する。まず、前記第1態様の光情報記録媒体の製造
方法について説明する。
[Method of Manufacturing Optical Information Recording Medium] Next, the manufacturing method of the present invention for manufacturing the above optical information recording medium will be described in detail. First, a method for manufacturing the optical information recording medium according to the first aspect will be described.

【0032】<記録層形成工程>記録層は、上記色素
(有機溶剤溶解性化合物等)等の記録物質を、結合剤等
と共に適当な溶剤に溶解して記録層塗布液を調製し、次
いでこの記録層塗布液を基板表面に形成された光反射層
上に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより形
成される。記録層塗布液中の記録物質の濃度は、一般に
0.01〜15質量%の範囲であり、好ましくは0.1
〜10質量%の範囲、より好ましくは0.5〜5質量%
の範囲、最も好ましくは0.5〜3質量%の範囲であ
る。また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超
音波処理、デスパー、ホモジナイザー、加温等の方法を
適用することができる。
<Recording Layer Forming Step> The recording layer is prepared by dissolving a recording material such as the above-described dye (organic solvent-soluble compound or the like) in a suitable solvent together with a binder or the like to prepare a recording layer coating solution. The recording layer is formed by applying a coating solution for the recording layer on the light reflection layer formed on the surface of the substrate to form a coating film and then drying the coating film. The concentration of the recording substance in the recording layer coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by mass, preferably 0.1 to 15% by mass.
10 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass
, Most preferably in the range of 0.5 to 3% by mass. Further, as a method for dissolving the recording material or the like, a method such as ultrasonic treatment, despar, a homogenizer, and heating can be applied.

【0033】記録層塗布液を調製する際の溶剤として
は、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等
のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、
1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化
水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;メチルシクロ
ヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノール、n−プ
ロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセ
トンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テト
ラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤;エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル等のグリコールエーテル類;等を挙げることができ
る。
Solvents for preparing the coating solution for the recording layer include esters such as butyl acetate, ethyl lactate and cellosolve acetate; methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and the like.
Ketones such as methyl isobutyl ketone; dichloromethane,
Chlorinated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane and chloroform; amides such as dimethylformamide; hydrocarbons such as methylcyclohexane; ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether and dioxane; ethanol, n-propanol, isopropanol and n-butanol diacetone Alcohols such as alcohols; fluorinated solvents such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether;

【0034】上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考
慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用す
ることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV
吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて
添加してもよい。
The above solvents can be used alone or in combination of two or more in consideration of the solubility of the recording material used. Antioxidant, UV in coating solution
Various additives such as an absorbent, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose.

【0035】結合剤を使用する場合に、結合剤の例とし
ては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロ
ジン、ゴム等の天然有機高分子物質;ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭
化水素系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系
樹脂;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル樹脂;ポリビニルアルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導
体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹
脂の初期縮合物等の合成有機高分子;等を挙げることが
できる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、
結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して0.01倍
量〜50倍量(質量比)の範囲にあり、好ましくは0.
1〜5倍量(質量比)の範囲にある。このようにして調
製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に0.01
〜10質量%の範囲にあり、好ましくは0.1〜5質量
%の範囲にある。
When a binder is used, examples of the binder include natural organic polymers such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene. ; Polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride,
Vinyl resins such as polyvinyl chloride / polyvinyl acetate copolymer; acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resin, butyral resin, rubber derivatives, phenol / formaldehyde resin And other synthetic organic polymers such as precondensates of thermosetting resins. When using a binder as the material of the recording layer,
The amount of the binder used is generally in the range of 0.01 times to 50 times (mass ratio) the recording substance, and preferably 0.1 to 50 times.
It is in the range of 1 to 5 times (mass ratio). The concentration of the recording substance in the coating solution thus prepared is generally 0.01%.
It is in the range of 10 to 10% by mass, preferably in the range of 0.1 to 5% by mass.

【0036】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記
録層の層厚は、一般に20〜500nmの範囲にあり、
好ましくは30〜300nmの範囲にあり、より好まし
くは50〜100nmの範囲にある。また、塗布温度と
しては、23〜50℃であれば特に問題はないが、好ま
しくは24〜40℃、さらに好ましくは25〜37℃で
ある。
Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method. The recording layer may be a single layer or a multilayer. The thickness of the recording layer is generally in the range of 20 to 500 nm,
Preferably it is in the range of 30 to 300 nm, more preferably in the range of 50 to 100 nm. The application temperature is not particularly limited as long as it is 23 to 50 ° C, but is preferably 24 to 40 ° C, more preferably 25 to 37 ° C.

【0037】粘度制御のため、塗布温度は23〜50℃
の範囲が好ましく、24〜40℃の範囲がより好まし
く、25〜37℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの
反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス
型の光照射器(好ましくは、UV照射器)を用いて行う
のが好ましい。パルス間隔はmsec以下が好ましく、
μsec以下がより好ましい。1パルスの照射光量は特
に制限されないが、3kW/cm2以下が好ましく、2
kW/cm2以下がより好ましい。また、照射回数は特
に制限されないが、20回以下が好ましく、10回以下
がより好ましい
For viscosity control, the coating temperature is 23 to 50 ° C.
Is more preferable, the range of 24-40 degreeC is more preferable, and the range of 25-37 degreeC is further more preferable. Irradiation of ultraviolet rays to the coating film is preferably performed using a pulsed light irradiator (preferably, a UV irradiator) to prevent the disk from warping. The pulse interval is preferably less than msec,
μsec or less is more preferable. The irradiation light amount of one pulse is not particularly limited, but is preferably 3 kW / cm 2 or less.
kW / cm 2 or less is more preferable. The number of irradiations is not particularly limited, but is preferably 20 times or less, more preferably 10 times or less.

【0038】記録層には、該記録層の耐光性を向上させ
るために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭58−1
75693号公報、同59−81194号公報、同60
−18387号公報、同60−19586号公報、同6
0−19587号公報、同60−35054号公報、同
60−36190号公報、同60−36191号公報、
同60−44554号公報、同60−44555号公
報、同60−44389号公報、同60−44390号
公報、同60−54892号公報、同60−47069
号公報、同63−209995号公報、特開平4−25
492号公報、特公平1−38680号公報、および同
6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許3503
99号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号
第1141頁等に記載のものを挙げることができる。
The recording layer may contain various anti-fading agents in order to improve the light resistance of the recording layer. Generally, a singlet oxygen quencher is used as an anti-fading agent. As a singlet oxygen quencher,
Those described in publications such as already known patent specifications can be used. A specific example thereof is disclosed in
Nos. 75693, 59-81194, 60
18387, 60-19586, 6
Nos. 0-19587, 60-35054, 60-36190, 60-36191,
Nos. 60-44554, 60-44555, 60-44389, 60-44390, 60-54892, and 60-47069.
JP, JP-A-63-209959, JP-A-4-25
Nos. 492, JP-B1-38680 and JP-A-6-26028, and German Patent 3503.
No. 99, and the Chemical Society of Japan, October 1992, p. 1141, and the like.

【0039】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通
常0.1〜50質量%の範囲であり、好ましくは、0.
5〜45質量%の範囲、更に好ましくは、3〜40質量
%の範囲、特に好ましくは5〜25質量%の範囲であ
る。
The amount of the anti-fading agent such as the singlet oxygen quencher is usually in the range of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.1 to 50% by mass, based on the amount of the compound to be recorded.
The range is 5 to 45% by mass, more preferably 3 to 40% by mass, and particularly preferably 5 to 25% by mass.

【0040】<光反射層形成工程>光反射層は、前述し
た光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプ
レーティングすることにより基板上に形成することがで
きる。光反射層の層厚は、一般的には10〜300nm
の範囲とし、50〜200nmの範囲とすることが好ま
しい。
<Light Reflecting Layer Forming Step> The light reflecting layer can be formed on the substrate by vapor deposition, sputtering or ion plating of the above-mentioned light reflecting substance. The thickness of the light reflecting layer is generally 10 to 300 nm.
And preferably in the range of 50 to 200 nm.

【0041】本発明においては、以上の記録層形成工程
と光反射層形成工程との間に、アニール工程を設ける。
以下、該アニール工程について説明する。なお、アニー
ル工程は、記録層形成工程を実行した後すぐに実行する
ことが好ましい。
In the present invention, an annealing step is provided between the recording layer forming step and the light reflecting layer forming step.
Hereinafter, the annealing step will be described. Note that the annealing step is preferably performed immediately after the recording layer forming step is performed.

【0042】<アニール工程>本工程においては、上述
のように記録層を形成した基板を、温度を10℃以上4
0℃未満とし、この温度を1〜12時間保持する。そし
て、この工程により、光情報記録媒体の変調度を大きく
することができる。これは、記録層形成工程を行った
後、スパッタすると溶剤が残り、これが特に短波長レー
ザ照射の際、ガス化し大きな穴をあけ、変調度が大きく
なったと考えられる。つまり、残留溶剤の量を適当に制
御することにより、変調度を大きくすることができる。
<Annealing Step> In this step, the substrate on which the recording layer has been formed as described above is heated to a temperature of 10 ° C. or higher.
The temperature is kept below 0 ° C. and this temperature is maintained for 1 to 12 hours. Then, by this step, the degree of modulation of the optical information recording medium can be increased. This is presumably because the solvent remained when the sputtering was performed after the recording layer forming step was performed, and this solvent was gasified, particularly when short-wavelength laser irradiation was performed, and a large hole was formed, thereby increasing the degree of modulation. That is, the modulation degree can be increased by appropriately controlling the amount of the residual solvent.

【0043】アニール工程における前記温度は、好まし
くは15〜35℃であり、より好ましくは、20〜30
℃である。また、時間は、好ましくは1〜10時間であ
り、より好ましくは、1〜8時間である。
The temperature in the annealing step is preferably 15 to 35 ° C., more preferably 20 to 30 ° C.
° C. The time is preferably 1 to 10 hours, more preferably 1 to 8 hours.

【0044】本工程において、温度が10℃未満では、
溶剤含有量が多くなり、ピットが所望の大きさよりも大
きくなりすぎる場合があり、温度が40℃以上では、溶
剤含有量が少なくなり、十分な感度を得ることができ
ず、変調度が少なくなる。
In this step, if the temperature is lower than 10 ° C.,
The solvent content increases, and the pits may be too large than desired. When the temperature is 40 ° C. or higher, the solvent content decreases, sufficient sensitivity cannot be obtained, and the degree of modulation decreases. .

【0045】また、アニール工程における前記温度の保
持時間として、1時間未満では、記録層のアモルファス
膜が安定にならないため性能がばらつき、12時間を越
えると、アモルファスの記録層が劣化し、性能が低下す
る。
If the holding time of the temperature in the annealing step is less than 1 hour, the performance of the recording layer becomes unstable because the amorphous film of the recording layer is not stable, and if the holding time exceeds 12 hours, the amorphous recording layer is deteriorated and the performance is deteriorated. descend.

【0046】次に、前記第2の態様の光情報記録媒体の
製造方法について説明する。該製造方法は、前述の第1
の態様の光情報記録媒体の製造方法において説明した
「記録層形成工程」及び「光反射層形成工程」の他、カ
バー層形成工程を有する。
Next, a method of manufacturing the optical information recording medium according to the second embodiment will be described. The manufacturing method is based on the first method described above.
In addition to the “recording layer forming step” and the “light reflecting layer forming step” described in the method for manufacturing an optical information recording medium according to the aspect, a cover layer forming step is provided.

【0047】<カバー層形成工程>カバー層は、接着層
を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液
を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布
して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチッ
クの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム(T
ACフィルム)をラミネートし、ラミネートしたTAC
フィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて、形
成される。前記TACフィルムとしては、紫外線吸収剤
を含むものが好ましい。カバー層の厚さは、0.01〜
0.2mmの範囲であり、好ましくは0.03〜0.1
mmの範囲、より好ましくは0.05〜0.095mm
の範囲である。
<Cover Layer Forming Step> The cover layer is prepared by dissolving the photocurable resin constituting the adhesive layer in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying the coating solution on the recording layer at a predetermined temperature. To form a coating film, and, for example, a cellulose triacetate film (T
AC film) and laminated TAC
It is formed by irradiating light from above the film to cure the coating film. The TAC film preferably contains an ultraviolet absorber. The thickness of the cover layer is 0.01 to
0.2 mm, preferably 0.03 to 0.1
mm, more preferably 0.05 to 0.095 mm
Range.

【0048】以上の第2の態様の光情報記録媒体の製造
方法においては、記録層形成工程とカバー層形成工程と
の間にアニール工程を設ける。アニール工程は、第1の
態様の光情報記録媒体の製造方法において説明したアニ
ール工程と同様である。
In the method for manufacturing an optical information recording medium according to the second aspect, an annealing step is provided between the recording layer forming step and the cover layer forming step. The annealing step is the same as the annealing step described in the method for manufacturing the optical information recording medium of the first embodiment.

【0049】[0049]

【実施例】(実施例1〜7)厚さ0.6mm、直径12
0mmのスパイラル状のグループ(以下の表1示す溝深
さ、トラックピッチ)を有する射出成形ポリカーボネー
ト樹脂(帝人社製ポリカーボネート商品名パンライトA
D5503)基板のグループを有する面上に、オラゾー
ルGN(フタロシアニン 吸光度0.07 cibaス
ペシャリティケミカル社製)を2,2,3,3,−テト
ラフルオロプロパノールを2%に混ぜ、2時間超音波を
行って溶解した記録層塗布液をスピンコート法により回
転数を300rpmから4000rpmまで変化させな
がら23℃50%RHの条件で塗布し記録層を形成し
た。その後、各実施例毎に、表1に示す条件で保存(温
度、時間;アニール条件と定義する。)し、その後、A
gを100nmスパッタして光反射層を形成し、UV硬
化接着剤(大日本インキ化学社製SD−640)を40
℃でスピンコート法により100〜300rpmで塗布
し、ポリカーボネート基板(0.6mm)を重ね合わ
せ、その後300rpmから4000rpmまで変化さ
せながら全面に接着剤を広げた後、UV照射ランプにて
紫外線を照射して硬化させ、サンプルを作製した。
(Examples 1 to 7) 0.6 mm in thickness and 12 in diameter
Injection-molded polycarbonate resin having a 0 mm spiral group (groove depth, track pitch shown in Table 1 below) (Teijin Corporation polycarbonate product Panlite A)
D5503) Orazole GN (phthalocyanine absorbance 0.07 Ciba Specialty Chemical Co., Ltd.) was mixed with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol at 2% on the surface having the group of substrates, and ultrasonication was performed for 2 hours. The recording layer coating solution thus dissolved was applied by a spin coating method at a temperature of 23 ° C. and 50% RH while changing the rotation speed from 300 rpm to 4000 rpm to form a recording layer. After that, for each example, it is stored under the conditions shown in Table 1 (temperature, time; defined as annealing conditions).
g was sputtered to a thickness of 100 nm to form a light reflecting layer, and a UV-curable adhesive (SD-640, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used for 40
The coating was performed at 100 ° C. by spin coating at 100 to 300 rpm, the polycarbonate substrate (0.6 mm) was overlapped, and then the adhesive was spread over the entire surface while changing from 300 rpm to 4000 rpm. And cured to produce a sample.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】(実施例8〜14)厚さ1.2mm、直径
120mmのスパイラル状のグループ(表1示す溝深
さ、トラックピッチ)を有する射出成形ポリカーボネー
ト樹脂(帝人社製ポリカーボネート商品名パンライトA
D5503)基板のグループを有する面上に、Agをス
パッタして100nmの膜厚の光反射層を形成し、その
後、オラゾールブルGN(フタロシアニン 吸光度0.
07 cibaスペシャリティケミカル社製)を2,
2,3,3,−テトラフルオロプロパノールを2%と混
ぜ2時間超音波を行って溶解した記録層塗布液をスピン
コート法により回転数を300rpmから4000rp
mまで変化させながら23℃50%RHの条件で塗布し
記録層を形成した。その後、各実施例毎に、表1に示す
条件で保存(温度、時間;アニール条件と定義する。)
し、その後、UV硬化接着剤(大日本インキ化学社製S
D−347)をスピンコート法により100〜300r
pmで塗布し、ポリカーボネートシート(ピュアエース
帝人社製膜厚70ミクロン)を重ね合わせカバー層を形
成し、その後300rpmから4000rpmまで変化
させながら全面に接着剤を広げた後、UV照射ランプに
て紫外線を照射して硬化させ、サンプルを作製した。
(Examples 8 to 14) Injection-molded polycarbonate resin having a spiral group (groove depth, track pitch shown in Table 1) having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 120 mm (polycarbonate trade name Panlite A manufactured by Teijin Limited)
D5503) A light reflecting layer having a thickness of 100 nm is formed by sputtering Ag on a surface having a group of substrates, and thereafter, isolazole GN (phthalocyanine having an absorbance of 0. 0).
07 Ciba Specialty Chemicals)
2,3,3, -Tetrafluoropropanol was mixed with 2% and subjected to ultrasonication for 2 hours to dissolve the recording layer coating solution. The rotation speed was changed from 300 rpm to 4000 rpm by spin coating.
m, and the recording layer was formed by applying under conditions of 23 ° C. and 50% RH. After that, for each example, it is stored under the conditions shown in Table 1 (temperature, time; defined as annealing conditions).
And then use a UV-curable adhesive (Dainippon Ink and Chemicals S
D-347) by spin coating at 100 to 300 r.
pm, and a polycarbonate sheet (Pure Ace Teijin Co., Ltd., 70 micron thickness) is overlaid to form a cover layer, and then the adhesive is spread over the entire surface while changing from 300 rpm to 4000 rpm. And cured to produce a sample.

【0052】<実施例15>厚さ1.2mm、直径12
0mmのスパイラル状のグループ(深さ100nm、幅
0.11μm、トラックピッチ0.3nm)を有する射
出成形ポリカーボネート樹脂(帝人社製ポリカーボネー
ト商品名パンライトAD5503)基板のグループを有
する面上に、Agをスパッタして100nmの膜厚の光
反射層を形成し、その後ZnS−SiO2膜をスパッタ
して90nmの膜厚の誘電体層を形成し、FOM−56
1(フタロシアニン 吸光度0.1 和光純薬社製)を
2%ジブチルエーテルと混ぜ2時間超音波を行って溶解
した記録層塗布液をスピンコート法により回転数を30
0rpmから4000rpmまで変化させながら23℃
50%RHの条件で塗布した。その後、25℃で1時間
保存し、その後SiO2膜をスパッタして90nmの膜
厚の光透過膜を形成し、その後UV硬化接着剤(大日本
インキ化学社製SD−347)をスピンコート法により
100〜300rpmで塗布し、ベンゾトリアゾールを
添加したポリカーボネートシート(ピュアエース帝人社
製膜厚80ミクロン)を重ね合わせカバー層を形成し、
その後300rpmから4000rpmまで変化させな
がら全面に接着剤を広げた後、UV照射ランプにて紫外
線をパルス照射して硬化させ、サンプルを作製した。
<Embodiment 15> A thickness of 1.2 mm and a diameter of 12
Ag was placed on a surface having a group of injection-molded polycarbonate resin (Polylite AD5503, manufactured by Teijin Limited) having a 0 mm spiral group (depth 100 nm, width 0.11 μm, track pitch 0.3 nm). A light reflecting layer having a thickness of 100 nm is formed by sputtering, and then a dielectric layer having a thickness of 90 nm is formed by sputtering a ZnS-SiO 2 film, and FOM-56
1 (phthalocyanine absorbance 0.1, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was mixed with 2% dibutyl ether and subjected to ultrasonication for 2 hours.
23 ° C while changing from 0 rpm to 4000 rpm
The coating was performed under the condition of 50% RH. Thereafter, the film is stored at 25 ° C. for 1 hour, and then a SiO 2 film is sputtered to form a light transmitting film having a thickness of 90 nm. A polycarbonate sheet (Pure Ace Teijin Co., Ltd., 80 μm thick) coated with benzotriazole was applied at 100 to 300 rpm to form a cover layer.
After that, the adhesive was spread over the entire surface while changing the speed from 300 rpm to 4000 rpm, and was then cured by irradiating ultraviolet rays with a UV irradiation lamp in a pulsed manner to produce a sample.

【0053】<実施例16>厚さ1.2mm、直径12
0mmのスパイラル状のグループ(深さ100nm、幅
0.11μm、トラックピッチ0.3nm)を有する射
出成形ポリカーボネート樹脂(帝人社製ポリカーボネー
ト商品名パンライトAD5503)基板のグループを有
する面上に、Agをスパッタして100nmの膜厚の光
反射層を形成し、その後、ZnS−SiO2膜をスパッ
タして90nmの膜厚の誘電体層を形成し、アミノブタ
ジエン(吸光度0.08)を2,2,3,3,−テトラ
フルオロプロパノールに2%と混ぜ2時間超音波を行っ
て溶解した記録層塗布液をスピンコート法により回転数
を300rpmから4000rpmまで変化させながら
23℃50%RHの条件で塗布し記録層を形成した。そ
の後、25℃で1時間保存し、その後、SiO2膜をス
パッタして90nmの膜厚の光透過膜を形成し、UV硬
化接着剤(大日本インキ化学社製SD−347)をスピ
ンコート法により100〜300rpmで塗布し、ベン
ゾトリアゾールを添加したポリカーボネートシート(ピ
ュアエース帝人社製膜厚80ミクロン)を重ね合わせカ
バー層を形成し、その後300rpmから4000rp
mまで変化させながら全面に接着剤を広げた後、UV照
射ランプにて紫外線をパルス照射して硬化させ、サンプ
ルを作製した。
<Example 16> Thickness: 1.2 mm, diameter: 12
Ag was placed on a surface having a group of injection-molded polycarbonate resin (polycarbonate trade name, Panlite AD5503 manufactured by Teijin Limited) having a spiral group of 0 mm (depth 100 nm, width 0.11 μm, track pitch 0.3 nm). A light reflecting layer having a thickness of 100 nm is formed by sputtering, then a ZnS-SiO 2 film is formed by sputtering to form a dielectric layer having a thickness of 90 nm, and aminobutadiene (absorbance 0.08) is added to 2,2. , 3,3, -Tetrafluoropropanol mixed with 2% and subjected to ultrasonic wave for 2 hours to dissolve the recording layer coating solution at a temperature of 23 ° C. and 50% RH while changing the rotation speed from 300 rpm to 4000 rpm by spin coating. This was applied to form a recording layer. Thereafter, the film is stored at 25 ° C. for 1 hour, and then a SiO 2 film is sputtered to form a light-transmitting film having a thickness of 90 nm, and a UV-curable adhesive (SD-347 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) is spin-coated. Is applied at 100 to 300 rpm, and a polycarbonate sheet (Pure Ace Teijin Co., Ltd., 80 μm thick) to which benzotriazole is added is laminated to form a cover layer, and then from 300 rpm to 4000 rpm.
After the adhesive was spread over the entire surface while changing to m, a pulse was irradiated with ultraviolet light from a UV irradiation lamp to be cured, thereby producing a sample.

【0054】(比較例1)アニール条件を、温度8℃、
1時間とした以外は、実施例1〜7と同様にサンプルを
作製した。
(Comparative Example 1) Annealing conditions were set at a temperature of 8 ° C.
Except for 1 hour, a sample was prepared in the same manner as in Examples 1 to 7.

【0055】(比較例2)アニール条件を、温度40
℃、1時間とした以外は、実施例1〜7と同様にサンプ
ルを作製した。
(Comparative Example 2) The annealing conditions were set to a temperature of 40
A sample was prepared in the same manner as in Examples 1 to 7, except that the temperature was changed to 1 hour.

【0056】(比較例3)アニール条件を、温度25
℃、13時間とした以外は、実施例1〜7と同様にサン
プルを作製した。
(Comparative Example 3) The annealing condition was changed to a temperature of 25.
A sample was prepared in the same manner as in Examples 1 to 7, except that the temperature was 13 ° C. and 13 hours.

【0057】(比較例4)アニール条件を、温度8℃、
1時間とした以外は、実施例8〜14と同様にサンプル
を作製した。
(Comparative Example 4) The annealing conditions were set at a temperature of 8 ° C.
Samples were prepared in the same manner as in Examples 8 to 14, except that the time was changed to 1 hour.

【0058】(比較例5)アニール条件を、温度82
℃、1時間とした以外は、実施例8〜14と同様にサン
プルを作製した。
(Comparative Example 5) The annealing condition was changed to a temperature of 82.
A sample was prepared in the same manner as in Examples 8 to 14 except that the temperature was changed to 1 hour at 1 ° C.

【0059】(比較例6)アニール条件を、温度25
℃、13時間とした以外は、実施例8〜14と同様にサ
ンプルを作製した。
(Comparative Example 6) The annealing conditions were set to 25
A sample was prepared in the same manner as in Examples 8 to 14, except that the temperature was 13 ° C. and 13 hours.

【0060】(比較例7)厚さ0.6mm、直径120
mmのスパイラル状のグループ(表1示す溝深さ、トラ
ックピッチ)を有する射出成形ポリカーボネート樹脂
(帝人社製ポリカーボネート商品名パンライトAD55
03)基板のグループを有する面上に、オラゾールブル
GN(フタロシアニン 吸光度0.07 cibaスペ
シャリティケミカル社製)を2,2,3,3,−テトラ
フルオロプロパノールに2%に混ぜ、2時間超音波を行
って溶解した記録層塗布液をスピンコート法により回転
数を300rpmから4000rpmまで変化させなが
ら23℃50%RHの条件で塗布し記録層を形成した。
その後、Agを100nmスパッタし光反射層を形成
し、UV硬化接着剤(大日本インキ化学社製SD−64
0)を40℃、スピンコート法により100〜300r
pmで塗布し、ポリカーボネート基板(0.6mm)を
重ね合わせ、その後300rpmから4000rpmま
で変化させながら全面に接着剤を広げた後、UV照射ラ
ンプにて紫外線を照射して硬化させ、サンプルを作製し
た。
Comparative Example 7 A thickness of 0.6 mm and a diameter of 120
Injection molded polycarbonate resin having a spiral group of mm (groove depth, track pitch shown in Table 1) (Panlite AD55 manufactured by Teijin Limited)
03) Orazole GN (phthalocyanine absorbance 0.07 ciba Specialty Chemical Co., Ltd.) was mixed with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol at 2% on the surface having the group of substrates, and ultrasonication was performed for 2 hours. The recording layer coating solution thus dissolved was applied by a spin coating method at a temperature of 23 ° C. and 50% RH while changing the rotation speed from 300 rpm to 4000 rpm to form a recording layer.
Thereafter, Ag was sputtered to a thickness of 100 nm to form a light reflecting layer, and a UV-curable adhesive (SD-64 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used.
0) at 40 ° C. for 100 to 300 r by spin coating.
pm, and the polycarbonate substrate (0.6 mm) was overlapped. Then, the adhesive was spread over the entire surface while changing from 300 rpm to 4000 rpm, and then cured by irradiating ultraviolet rays with a UV irradiation lamp to prepare a sample. .

【0061】(比較例8)厚さ1.2mm、直径120
mmのスパイラル状のグループ(深さ100nm、幅
0.11μm、トラックピッチ0.3nm)を有する射
出成形ポリカーボネート樹脂(帝人社製ポリカーボネー
ト商品名パンライトAD5503)基板のグループを有
する面上に、Agをスパッタして100nmの膜厚の光
反射層を形成し、その後ZnS−SiO2膜をスパッタ
して90nmの膜厚の誘電体層を形成し、FOM−56
1(フタロシアニン 吸光度0.1 和光純薬社製)を
2%ジブチルエーテルと混ぜ2時間超音波を行って溶解
した記録層塗布液をスピンコート法により回転数を30
0rpmから4000rpmまで変化させながら23℃
50%RHの条件で塗布した。その後、SiO2膜をス
パッタして90nmの膜厚の光透過膜を形成し、その
後、UV硬化接着剤(大日本インキ化学社製SD−34
7)をスピンコート法により100〜300rpmで塗
布し、ベンゾトリアゾールを添加したポリカーボネート
シート(ピュアエース帝人社製膜厚80ミクロン)を重
ね合わせ、その後300rpmから4000rpmまで
変化させながら全面に接着剤を広げた後、UV照射ラン
プにて紫外線をパルス照射して硬化させ、サンプルを作
製した。
(Comparative Example 8) Thickness 1.2 mm, diameter 120
Ag was placed on a surface having a group of injection-molded polycarbonate resin (polycarbonate trade name, Panlite AD5503, manufactured by Teijin Limited) having a spiral group (depth: 100 nm, width: 0.11 μm, track pitch: 0.3 nm). A light reflecting layer having a thickness of 100 nm is formed by sputtering, and then a dielectric layer having a thickness of 90 nm is formed by sputtering a ZnS-SiO 2 film, and FOM-56
1 (phthalocyanine absorbance 0.1, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was mixed with 2% dibutyl ether and subjected to ultrasonication for 2 hours.
23 ° C while changing from 0 rpm to 4000 rpm
The coating was performed under the condition of 50% RH. Thereafter, an SiO 2 film is sputtered to form a light transmitting film having a thickness of 90 nm, and then a UV curing adhesive (SD-34 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
7) is applied at 100 to 300 rpm by a spin coating method, and a polycarbonate sheet (Pure Ace Teijin Co., Ltd., 80 micron thickness) is added and benzotriazole is added, and then the adhesive is spread over the entire surface while changing from 300 rpm to 4000 rpm. After that, a pulse was irradiated with ultraviolet light from a UV irradiation lamp to be cured, thereby preparing a sample.

【0062】以上の実施例1〜16、及び比較例1〜8
により得られたサンプルを、405nmのレーザーを搭
載したDDU−1000(パルステック社製)を用い
て、3T−14T信号を記録し、その全体の変調度を測
定した。結果を表1に示す。表1より、上記アニール工
程を行った実施例1〜16では変調度が大きいのに対
し、アニール工程を行っていない、あるいは温度が10
℃以上40℃未満、時間が1〜12時間のアニール条件
を外れた比較例1〜8では変調度が小さい。
The above Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 8
The 3T-14T signal was recorded on the sample obtained by using DDU-1000 (manufactured by Pulstec) equipped with a 405 nm laser, and the overall degree of modulation was measured. Table 1 shows the results. From Table 1, it can be seen that in Examples 1 to 16 in which the above annealing step was performed, the degree of modulation was large, but the annealing step was not performed, or the temperature was 10
In Comparative Examples 1 to 8 in which the annealing conditions were not higher than 40 ° C. and lower than 40 ° C. for 1 to 12 hours, the degree of modulation was small.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明によると、変調度が大きく、安定
した記録再生特性をもつ光情報記録媒体の製造方法を提
供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a method of manufacturing an optical information recording medium having a large degree of modulation and having stable recording and reproducing characteristics.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D029 JC01 JC03 JC20 WB11 WB17 WC01 WD11 5D121 AA01 EE23 EE28 GG08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5D029 JC01 JC03 JC20 WB11 WB17 WC01 WD11 5D121 AA01 EE23 EE28 GG08

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板表面に、300nmから450nm
に吸収極大をもち、記録レーザー波長での色素固体膜の
吸光度が0.07以上ある溶剤溶解性有機化合物を含有
する記録層と、光反射層と、基板とをこの順に有し、ト
ラックピッチが300〜600nmで、溝深さが40n
m〜150nmで、波長が380〜500nmの光で記
録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、 基板表面に前記記録層を形成する記録層形成工程と、 該記録層の表面に光反射層を形成する光反射層形成工程
とを有し、 前記記録層形成工程と前記光反射層形成工程との間に、
温度を10℃以上40℃未満とし、かつ該温度を1〜1
2時間保持するアニール工程を設けたことを特徴とする
光情報記録媒体の製造方法。
1. The method according to claim 1, wherein the substrate surface has a thickness of 300 nm to 450 nm.
A recording layer containing a solvent-soluble organic compound having an absorption maximum of 0.07 or more at the recording laser wavelength, a light reflecting layer, and a substrate in this order, and the track pitch is 300-600nm, groove depth 40n
A method for producing an optical information recording medium for recording and reproducing with light having a wavelength of 380 to 500 nm and a wavelength of 380 to 500 nm, comprising: a recording layer forming step of forming the recording layer on a substrate surface; and light reflection on the surface of the recording layer. A light reflection layer forming step of forming a layer, between the recording layer formation step and the light reflection layer formation step,
The temperature is 10 ° C. or more and less than 40 ° C., and the temperature is 1 to 1
A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising an annealing step of holding for 2 hours.
【請求項2】 基板表面に、光反射層と、300nmか
ら450nmに吸収極大をもち、記録レーザー波長での
色素固体膜の吸光度が0.07以上ある溶剤溶解性有機
化合物を含有する記録層と、カバー層とをこの順に有
し、トラックピッチ100〜400nmで、溝深さ40
nm〜150nmで、波長が380〜500nmの光で
記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、 基板表面に光反射層を形成する光反射層形成工程と、 該反射層の表面に記録層を形成する記録層形成工程と、 該記録層の表面にカバー層を形成するカバー層形成工程
とを有し、 前記記録層形成工程とカバー層形成工程との間に、温度
を10℃以上40℃未満とし、かつ該温度を1〜12時
間保持するアニール工程を設けたことを特徴とする光情
報記録媒体の製造方法。
2. A light-reflecting layer on a substrate surface, and a recording layer containing a solvent-soluble organic compound having an absorption maximum from 300 nm to 450 nm and having an absorbance of a dye solid film of 0.07 or more at a recording laser wavelength. , A cover layer in this order, a track pitch of 100 to 400 nm, and a groove depth of 40.
A method for manufacturing an optical information recording medium for recording and reproducing with light having a wavelength of 380 to 500 nm and a wavelength of 380 to 500 nm, comprising: a light reflection layer forming step of forming a light reflection layer on a substrate surface; and recording on the surface of the reflection layer. A recording layer forming step of forming a layer, and a cover layer forming step of forming a cover layer on the surface of the recording layer, wherein a temperature of 10 ° C. or higher is provided between the recording layer forming step and the cover layer forming step. A method for producing an optical information recording medium, comprising an annealing step of maintaining the temperature at less than 40 ° C. for 1 to 12 hours.
【請求項3】 上記溶剤溶解性有機化合物が、フタロシ
アニンであることを特徴とする請求項1または2に記載
の光情報記録媒体の製造方法。
3. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the solvent-soluble organic compound is phthalocyanine.
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