JP2002338573A - Phthalocyanine complex - Google Patents

Phthalocyanine complex

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JP2002338573A
JP2002338573A JP2001152279A JP2001152279A JP2002338573A JP 2002338573 A JP2002338573 A JP 2002338573A JP 2001152279 A JP2001152279 A JP 2001152279A JP 2001152279 A JP2001152279 A JP 2001152279A JP 2002338573 A JP2002338573 A JP 2002338573A
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group
atom
phthalocyanine complex
complex
hydrocarbon group
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Application number
JP2001152279A
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Japanese (ja)
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Kazuo Takaoki
和夫 高沖
Hiroshi Kuribayashi
浩 栗林
Tatsuya Miyatake
達也 宮竹
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new phthalocyanine complex capable of forming a catalyst for olefin polymerization exhibiting high polymerization activity by using the complex as a cocatalyst component. SOLUTION: This phthalocyanine complex comprises a compound represented by general formula [1] (wherein M represents an atom of the group 8-10; T represents an atom of the group 14 or 15; R<1> and R<2> represent each independently hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group; X represents hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group or a hydrocarbonoxy group; m represents a valence of M) and exhibits a strongest diffraction peak to CuKα-characteristic X ray at a position larger than 15 deg. of Bragg angle (2θ±0.2 deg.) in X-ray diffraction spectrum.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィン重合用
触媒成分として有用なフタロシアニン錯体に関する。
The present invention relates to a phthalocyanine complex useful as a catalyst component for olefin polymerization.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリプロピレンやポリエチレン等のオレ
フィン重合体は、機械的性質、耐薬品性等に優れ、また
それらの特性と経済性とのバランスが優れていることに
より各種成形分野に広く用いられている。これらのオレ
フィン重合体は従来は主として三塩化チタンや四塩化チ
タンなどの第4族金属化合物を用いて得られた固体触媒
成分と、有機アルミニウム化合物に代表される第13族
金属化合物とを組み合わせた、従来型固体触媒(マルチ
サイト触媒)を用いてオレフィンを重合させることによ
って製造されてきた。
2. Description of the Related Art Olefin polymers such as polypropylene and polyethylene are widely used in various molding fields because of their excellent mechanical properties, chemical resistance, etc., and their excellent balance between properties and economic efficiency. I have. Conventionally, these olefin polymers are obtained by combining a solid catalyst component mainly obtained using a Group 4 metal compound such as titanium trichloride or titanium tetrachloride with a Group 13 metal compound represented by an organoaluminum compound. It has been produced by polymerizing olefins using a conventional solid catalyst (multi-site catalyst).

【0003】近年、古くから用いられてきた固体触媒成
分とは異なる遷移金属化合物(例えばメタロセン錯体)
とアルミノキサン等とを組み合わせた、いわゆるシング
ルサイト触媒を用いてオレフィンを重合させるオレフィ
ン重合体の製造方法が提案されている。例えば、特開昭
58−19309号公報にはビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライドとメチルアルミノキサン
を用いる方法が報告されている。また、特定のホウ素化
合物をかかる遷移金属化合物と組合わせることも報告さ
れている。例えば、特表平1−502036号公報には
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチルと
トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレートを用いる方法が報告されてい
る。これらシングルサイト触媒を用いて得られたオレフ
ィン重合体は従来型固体触媒(マルチサイト触媒)で得
られるものよりも分子量分布が狭く、また共重合体の場
合にはコモノマーがより均一に共重合されていることか
ら、従来型固体触媒を用いた場合よりも均質なオレフィ
ン重合体が得られることが知られている。
In recent years, transition metal compounds (eg, metallocene complexes) different from solid catalyst components that have been used for a long time
There has been proposed a method for producing an olefin polymer in which olefin is polymerized using a so-called single-site catalyst in which olefin is combined with aluminoxane or the like. For example, JP-A-58-19309 reports a method using bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride and methylaluminoxane. It has also been reported to combine certain boron compounds with such transition metal compounds. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-502036 discloses a method using bis (cyclopentadienyl) zirconium dimethyl and tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate. Olefin polymers obtained with these single-site catalysts have a narrower molecular weight distribution than those obtained with conventional solid catalysts (multi-site catalysts), and in the case of copolymers, the comonomers are copolymerized more uniformly. Therefore, it is known that a more homogeneous olefin polymer can be obtained than when a conventional solid catalyst is used.

【0004】このようなオレフィン重合用触媒の改良は
鋭意検討されてきており、主たる触媒成分に用いられる
金属の種類も周期律表の各族に渡り幅広く報告されてい
る。例えば、Angew.Chem.Int.Ed.
,428(1999)には第3〜13族金属のメタロ
セン錯体や非メタロセン化合物が主たる触媒成分として
有効であることが報告されている。一方、メタロセン錯
体や非メタロセン化合物と組み合わせる活性化用助触媒
成分としては第13族化合物に属するアルミノキサンや
ホウ素化合物等がその開発の中心を占めている。
[0004] Improvements in such olefin polymerization catalysts have been studied diligently, and the types of metals used as main catalyst components have been widely reported in each group of the periodic table. For example, Angew. Chem. Int. Ed. 3
8 , 428 (1999) reports that a metallocene complex of a Group 3 to 13 metal or a nonmetallocene compound is effective as a main catalyst component. On the other hand, as the co-catalyst component for activation to be combined with a metallocene complex or a non-metallocene compound, aluminoxane or boron compound belonging to Group 13 compounds occupies the center of its development.

【0005】一方、フタロシアニン錯体は、電子写真用
感光体等の分野で多用されているが、オレフィン重合の
分野で使用された例は見当たらない。
On the other hand, phthalocyanine complexes are widely used in the field of electrophotographic photoreceptors and the like, but no examples have been used in the field of olefin polymerization.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、活性
化用助触媒成分として用いることにより高重合活性を示
すオレフィン重合用触媒を形成し得る新規なフタロシア
ニン錯体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel phthalocyanine complex which can be used as an activating co-catalyst component to form an olefin polymerization catalyst having high polymerization activity.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
[1]で表される化合物よりなり、かつ、X線回折スペ
クトルにおいて、CuKα特性X線に対する最も強い回
折ピークがブラッグ角(2θ±0.2°)の15°より
大きい位置に現れるフタロシアニン錯体にかかるもので
ある。 (式中、Mは周期律表第8〜10族の原子を表し、Tは
周期律表の第14族または第15族の原子を表し、全て
のTは互いに同じであっても異なっていてもよい。R1
およびR2 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、
炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基であり、全ての
1 および全てのR2 は互いに同じであっても異なって
いてもよく、互いに環を形成していてもよい。なお、T
が第15族の原子の場合、それに結合するR2 は存在し
ない。Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、また
は炭化水素オキシ基を表し、Xが複数存在する場合はそ
れらは互いに同じであっても異なっていてもよい。mは
Mの原子価を表す。) 以下、本発明をさらに詳細に説明する。
The present invention comprises a compound represented by the following general formula [1], and in the X-ray diffraction spectrum, the strongest diffraction peak for CuKα characteristic X-ray is represented by the Bragg angle (2θ ± 2). (0.2 °) of the phthalocyanine complex appearing at a position larger than 15 °. (Wherein, M represents an atom of Groups 8 to 10 of the periodic table, T represents an atom of Groups 14 or 15 of the periodic table, and all Ts are the same or different from each other. R 1
And R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom,
It is a hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group, and all R 1 and all R 2 may be the same or different from each other, and may form a ring with each other. Note that T
Is a Group 15 atom, there is no R 2 attached to it. X represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, or a hydrocarbon oxy group. When a plurality of Xs are present, they may be the same or different. m represents the valence of M. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】上記一般式[1]におけるMは、
元素の周期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版19
89)第8〜10族の原子を表す。その具体例として
は、鉄原子、ルテニウム原子、オスミウム原子、コバル
ト原子、ロジウム原子、イリジウム原子、ニッケル原
子、パラジウム原子、白金原子が挙げられる。Mとして
特に好ましくは第9族の原子であり、最も好ましくはコ
バルト原子である。上記一般式[1]におけるmはMの
原子価を表し、例えばMがコバルト原子の場合は2また
は3が好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION M in the above general formula [1] is
Periodic Table of the Elements (IUPAC Inorganic Chemical Nomenclature Revised Edition 19)
89) represents an atom belonging to Groups 8 to 10. Specific examples thereof include an iron atom, a ruthenium atom, an osmium atom, a cobalt atom, a rhodium atom, an iridium atom, a nickel atom, a palladium atom, and a platinum atom. M is particularly preferably a Group 9 atom, and most preferably a cobalt atom. In the general formula [1], m represents a valence of M. For example, when M is a cobalt atom, 2 or 3 is preferable.

【0009】上記一般式[1]におけるTは、元素の周
期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版1989)の
第14族または第15族の原子を表し、全てのTは互い
に同じであっても異なっていてもよい。第14族原子の
具体例としては、炭素原子、ケイ素原子などが、第15
族原子の具体例としては、窒素原子、リン原子などが挙
げられる。Tとして好ましくは、炭素原子または窒素原
子であり、特に好ましくはTは窒素原子である。
T in the general formula [1] represents an atom belonging to Group 14 or Group 15 of the Periodic Table of the Elements (IUPAC revised edition of inorganic chemical nomenclature 1989), and all T are the same as each other. May also be different. Specific examples of the group 14 atom include a carbon atom and a silicon atom.
Specific examples of the group atom include a nitrogen atom and a phosphorus atom. T is preferably a carbon atom or a nitrogen atom, and particularly preferably T is a nitrogen atom.

【0010】上記一般式[1]におけるR1 およびR2
はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素
基、またはハロゲン化炭化水素基であり、全てのR1
よび全てのR2 は互いに同じであっても異なっていても
よく、互いに環を形成していてもよい。R1 およびR2
の少なくとも一つが電子吸引性基であることが好まし
く、電子吸引性基としてはハロゲン原子またはハロゲン
化炭化水素基が好ましい。
In the general formula [1], R 1 and R 2
Are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, or a halogenated hydrocarbon group, and all R 1 and all R 2 may be the same or different, and form a ring with each other It may be. R 1 and R 2
Is preferably an electron-withdrawing group, and the electron-withdrawing group is preferably a halogen atom or a halogenated hydrocarbon group.

【0011】ハロゲン原子の具体例として、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられ
る。好ましくはフッ素原子である。炭化水素基として
は、アルキル基、アリール基またはアラルキル基が好ま
しい。
Specific examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Preferably it is a fluorine atom. As the hydrocarbon group, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group is preferable.

【0012】ここでいうアルキル基としては、炭素原子
数1〜20のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、
エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブ
チル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシ
ル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル
基、n−ペンタデシル基、n−エイコシル基などが挙げ
られ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、tert−ブチル基またはイソブチル基である。
The alkyl group referred to herein is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a methyl group,
Ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl Groups, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group and the like, more preferably methyl group, ethyl group, isopropyl group, tert-butyl group or isobutyl group.

【0013】アリール基としては、炭素原子数6〜20
のアリール基が好ましく、例えばフェニル基、2−トリ
ル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル
基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6
−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル
基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−
トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニ
ル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5
−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチ
ルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル
基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニ
ル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフ
ェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェ
ニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニ
ル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル
基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アント
ラセニル基などが挙げられ、より好ましくはフェニル基
である。
The aryl group has 6 to 20 carbon atoms.
Are preferred, for example, phenyl, 2-tolyl, 3-tolyl, 4-tolyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5-xylyl, 2,6
-Xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-
Trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5
-Trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethyl Phenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, sec-butylphenyl group, tert-butylphenyl group, n-pentylphenyl group, neopentylphenyl group, n-hexylphenyl group, n- Examples thereof include an octylphenyl group, an n-decylphenyl group, an n-dodecylphenyl group, an n-tetradecylphenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group, and a phenyl group is more preferable.

【0014】アラルキル基としては、炭素原子数7〜2
0のアラルキル基が好ましく、例えばベンジル基、(2
−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)
メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3
−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフ
ェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチ
ル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,
4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチル
フェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニ
ル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メ
チル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル
基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、
(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,
3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,
3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,
3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペン
タメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチ
ル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロ
ピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチ
ル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(ter
t−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニ
ル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、
(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフ
ェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、
(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチ
ル基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、より好
ましくはベンジル基である。
The aralkyl group may have 7 to 2 carbon atoms.
An aralkyl group of 0 is preferred, for example, a benzyl group, (2
-Methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl)
Methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, (2,3
-Dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3
(4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3 6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group,
(2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,4
3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,
3,4,6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,
3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) Methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (ter
t-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group,
(N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group,
Examples thereof include a (n-tetradecylphenyl) methyl group, a naphthylmethyl group and an anthracenylmethyl group, and more preferably a benzyl group.

【0015】またハロゲン化炭化水素基としてはハロゲ
ン化アルキル基、ハロゲン化アリール基または(ハロゲ
ン化アルキル)アリール基が好ましい。
The halogenated hydrocarbon group is preferably a halogenated alkyl group, a halogenated aryl group or a (halogenated alkyl) aryl group.

【0016】ハロゲン化アルキル基としては、炭素原子
数1〜20のハロゲン化アルキル基が好ましく、例えば
フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、
ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル
基、ジブロモメチル基、ジヨードメチル基トリフルオロ
メチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、
トリヨードメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル
基、2,2,2−トリクロロエチル基、2,2,2−ト
リブロモエチル基、2,2,2−トリヨードエチル基、
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,
2,3,3,3−ペンタクロロプロピル基、2,2,
3,3,3−ペンタブロモプロピル基、2,2,3,
3,3−ペンタヨードプロピル基、2,2,2−トリフ
ルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、2,2,2
−トリクロロ−1−トリクロロメチルエチル基、2,
2,2−トリブロモ−1−トリブロモメチルエチル基、
2,2,2−トリヨード−1−トリヨードメチルエチル
基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2
−トリフルオロエチル基、1,1−ビス(トリクロロメ
チル)−2,2,2−トリクロロエチル基、1,1−ビ
ス(トリブロモメチル)−2,2,2−トリブロモエチ
ル基、1,1−ビス(トリヨードメチル)−2,2,2
−トリヨードエチル基等が挙げられる。
The halogenated alkyl group is preferably a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a bromomethyl group,
Iodomethyl group, difluoromethyl group, dichloromethyl group, dibromomethyl group, diiodomethyl group trifluoromethyl group, trichloromethyl group, tribromomethyl group,
Triiodomethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group, 2,2,2-triiodoethyl group,
2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,
2,3,3,3-pentachloropropyl group, 2,2
3,3,3-pentabromopropyl group, 2,2,3
3,3-pentaiodopropyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, 2,2,2
A trichloro-1-trichloromethylethyl group, 2,
2,2-tribromo-1-tribromomethylethyl group,
2,2,2-triiodo-1-triiodomethylethyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2
-Trifluoroethyl group, 1,1-bis (trichloromethyl) -2,2,2-trichloroethyl group, 1,1-bis (tribromomethyl) -2,2,2-tribromoethyl group, 1, 1-bis (triiodomethyl) -2,2,2
-A triiodoethyl group and the like.

【0017】ハロゲン化アリール基としては、炭素原子
数6〜20のハロゲン化アリール基が好ましく、例えば
2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4
−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−ク
ロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフ
ェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル
基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4
−ヨードフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、
3,5−ジフルオロフェニル基、2,6−ジクロロフェ
ニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2,6−ジブロ
モフェニル基、3,5−ジブロモフェニル基、2,6−
ジヨードフェニル基、3,5−ジヨードフェニル基、
2,4,6−トリフルオロフェニル基、2,4,6−ト
リクロロフェニル基、2,4,6−トリブロモフェニル
基、2,4,6−トリヨードフェニル基、ペンタフルオ
ロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタブロモ
フェニル基、ペンタヨードフェニル基等が挙げられる。
The halogenated aryl group is preferably a halogenated aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group,
-Fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4
-Iodophenyl group, 2,6-difluorophenyl group,
3,5-difluorophenyl group, 2,6-dichlorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2,6-dibromophenyl group, 3,5-dibromophenyl group, 2,6-
Diiodophenyl group, 3,5-diiodophenyl group,
2,4,6-trifluorophenyl group, 2,4,6-trichlorophenyl group, 2,4,6-tribromophenyl group, 2,4,6-triiodophenyl group, pentafluorophenyl group, pentachlorophenyl Group, pentabromophenyl group, pentaiodophenyl group and the like.

【0018】(ハロゲン化アルキル)アリール基として
は、炭素原子数7〜20の(ハロゲン化アルキル)アリ
ール基が好ましく、例えば2−(トリフルオロメチル)
フェニル基、3−(トリフルオロメチル)フェニル基、
4−(トリフルオロメチル)フェニル基、2,6−ビス
(トリフルオロメチル)フェニル基、3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェニル基、2,4,6−トリス
(トリフルオロメチル)フェニル基等が挙げられる。
The (halogenated alkyl) aryl group is preferably a (halogenated alkyl) aryl group having 7 to 20 carbon atoms, for example, 2- (trifluoromethyl) aryl.
A phenyl group, a 3- (trifluoromethyl) phenyl group,
4- (trifluoromethyl) phenyl group, 2,6-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2,4,6-tris (trifluoromethyl) phenyl group And the like.

【0019】上記一般式[1]におけるXは水素原子、
ハロゲン原子、炭化水素基、または炭化水素オキシ基を
表し、Xが複数存在する場合はそれらは互いに同じであ
っても異なっていてもよい。かかるハロゲン原子の具体
例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子などが挙げられ、好ましくは、塩素原子である。ま
たここでいう炭化水素基としては、アルキル基、アリー
ル基またはアラルキル基が好ましい。
X in the general formula [1] is a hydrogen atom,
Represents a halogen atom, a hydrocarbon group, or a hydrocarbon oxy group, and when a plurality of Xs are present, they may be the same or different. Specific examples of such a halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom is preferable. Further, as the hydrocarbon group here, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group is preferable.

【0020】ここでいうアルキル基としては、炭素原子
数1〜20のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、
エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブ
チル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシ
ル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル
基、n−ペンタデシル基、n−エイコシル基などが挙げ
られ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、tert−ブチル基またはイソブチル基である。
The alkyl group referred to herein is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, a methyl group,
Ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl Groups, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, n-eicosyl group and the like, more preferably methyl group, ethyl group, isopropyl group, tert-butyl group or isobutyl group.

【0021】アリール基としては、炭素原子数6〜20
のアリール基が好ましく、例えばフェニル基、2−トリ
ル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル
基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6
−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル
基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−
トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニ
ル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5
−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチ
ルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル
基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニ
ル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフ
ェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェ
ニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニ
ル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル
基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アント
ラセニル基などが挙げられ、より好ましくはフェニル基
である。
The aryl group has 6 to 20 carbon atoms.
Are preferred, for example, phenyl, 2-tolyl, 3-tolyl, 4-tolyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5-xylyl, 2,6
-Xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-
Trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5
-Trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethyl Phenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, sec-butylphenyl group, tert-butylphenyl group, n-pentylphenyl group, neopentylphenyl group, n-hexylphenyl group, n- Examples thereof include an octylphenyl group, an n-decylphenyl group, an n-dodecylphenyl group, an n-tetradecylphenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group, and a phenyl group is more preferable.

【0022】アラルキル基としては、炭素原子数7〜2
0のアラルキル基が好ましく、例えばベンジル基、(2
−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)
メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3
−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフ
ェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチ
ル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,
4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチル
フェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニ
ル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メ
チル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル
基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、
(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,
3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,
3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,
3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペン
タメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチ
ル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロ
ピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチ
ル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(ter
t−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニ
ル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、
(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフ
ェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、
(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチ
ル基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、より好
ましくはベンジル基である。
The aralkyl group may have 7 to 2 carbon atoms.
An aralkyl group of 0 is preferred, for example, a benzyl group, (2
-Methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl)
Methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, (2,3
-Dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3
(4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3 6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group,
(2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,4
3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,
3,4,6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,
3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) Methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (ter
t-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group,
(N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group,
Examples thereof include a (n-tetradecylphenyl) methyl group, a naphthylmethyl group and an anthracenylmethyl group, and more preferably a benzyl group.

【0023】上記一般式のXにおける炭化水素オキシ基
としては、アルコキシ基、アリールオキシ基またはアラ
ルキルオキシ基が好ましい。ここでいうアルコキシ基と
しては、炭素原子数1〜24のアルコキシ基が好まし
く、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブト
キシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペン
トキシ基、n−ヘキソキシ基、n−オクトキシ基、n−
ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ基、n−イコソキシ
基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基
またはt−ブトキシ基である。
The hydrocarbon oxy group in X in the above formula is preferably an alkoxy group, an aryloxy group or an aralkyloxy group. The alkoxy group referred to here is preferably an alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group and a t-butoxy group. , N-pentoxy group, neopentoxy group, n-hexoxy group, n-octoxy group, n-
Examples thereof include a dodeoxy group, an n-pentadeoxy group, and an n-icosoxy group, and a methoxy group, an ethoxy group, or a t-butoxy group is preferable.

【0024】またアリールオキシ基としては、炭素原子
数6〜24のアリールオキシ基が好ましく、例えばフェ
ノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノ
キシ基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフ
ェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−
ジメチルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ
基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチル
フェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、
2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−ト
リメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノ
キシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,
4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テ
トラメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチ
ルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノ
キシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ
基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキ
シ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノ
キシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシル
フェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシル
フェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフト
キシ基、アントラセノキシ基などが挙げられる。
The aryloxy group is preferably an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenoxy, 2-methylphenoxy, 3-methylphenoxy, 4-methylphenoxy, and 2,3-dimethyl. Phenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group, 2,5-
Dimethylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2,3,4-trimethylphenoxy group,
2,3,5-trimethylphenoxy group, 2,3,6-trimethylphenoxy group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethylphenoxy group, 3,
4,5-trimethylphenoxy group, 2,3,4,5-tetramethylphenoxy group, 2,3,4,6-tetramethylphenoxy group, 2,3,5,6-tetramethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group Group, ethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, n-octylphenoxy group, n-decylphenoxy Group, n-tetradecylphenoxy group, naphthoxy group, anthracenoxy group and the like.

【0025】アラルキルオキシ基としては、炭素原子数
7〜24のアラルキルオキシ基が好ましく、例えばベン
ジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、
(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェ
ニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メト
キシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、
(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−
ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフ
ェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メ
トキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキ
シ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ
基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ
基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキ
シ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチル
フェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メト
キシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−
ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニ
ル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキ
シ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オ
クチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)
メトキシ基、(n−テトラデシルフェニル)メトキシ
基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基な
どが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。
The aralkyloxy group is preferably an aralkyloxy group having 7 to 24 carbon atoms, for example, a benzyloxy group, a (2-methylphenyl) methoxy group,
(3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group,
(2,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,6-
(Dimethylphenyl) methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) A) methoxy group, a (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group,
(2,4,5-trimethylphenyl) methoxy group,
A (2,4,6-trimethylphenyl) methoxy group,
(3,4,5-trimethylphenyl) methoxy group,
(2,3,4,5-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methoxy group, (pentamethylphenyl) methoxy group, (ethylphenyl) methoxy group, (n- Propylphenyl) methoxy group, (isopropylphenyl) methoxy group, (n-
(Butylphenyl) methoxy group, (sec-butylphenyl) methoxy group, (tert-butylphenyl) methoxy group, (n-hexylphenyl) methoxy group, (n-octylphenyl) methoxy group, (n-decylphenyl)
Examples include a methoxy group, a (n-tetradecylphenyl) methoxy group, a naphthylmethoxy group and an anthracenylmethoxy group, and a benzyloxy group is preferable.

【0026】以下に、上記一般式[1]で表される化合
物の具体例を示すが、これらに限定されるものではな
い。下記具体例においてMは周期律表第8〜10族の原
子を表し、Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、
または炭化水素オキシ基を表し、mはMの原子価を表
す。
Hereinafter, specific examples of the compound represented by the general formula [1] will be shown, but the invention is not limited thereto. In the following specific examples, M represents an atom of Groups 8 to 10 of the periodic table, X represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group,
Or, m represents a valence of M.

【0027】 [0027]

【0028】本発明のフタロシアニン錯体としてより好
ましくは、下記一般式[2]で表されるフタロシアニン
錯体である。 (式中、Mは周期律表第8〜10族の原子を表し、Xは
水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、または炭化水素
オキシ基を表し、Xが複数存在する場合はそれらは互い
に同じであっても異なっていてもよい。mはMの原子価
を表す。) なお、一般式[2]におけるM、Xおよびmは前記の一
般式[1]におけると同様である。
The phthalocyanine complex of the present invention is more preferably a phthalocyanine complex represented by the following general formula [2]. (Wherein, M represents an atom of Groups 8 to 10 of the periodic table, X represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, or a hydrocarbonoxy group, and when there are a plurality of Xs, they are the same as each other. M represents the valence of M.) M, X and m in the general formula [2] are the same as in the general formula [1].

【0029】本発明のフタロシアニン錯体としては、ル
イス酸性度が高いものが好ましい。ルイス酸性度として
量子化学計算の一種である密度汎関数法により得られた
数値で規定すると、本発明のフタロシアニン錯体として
好ましくは、前記のフタロシアニン錯体であって、上記
一般式[1]または[2]におけるMの価電子軌道のp
原子軌道を主成分(線形結合で表される係数が0.4以
上)とする空分子軌道の最も低い軌道準位が、0.00
8原子単位(ハートリー)以下であるフタロシアニン錯
体である。但し前記軌道準位は、密度汎関数法の計算
(B3LYP/3−21Gレベル)により求めるものと
する。
The phthalocyanine complex of the present invention preferably has a high Lewis acidity. When the Lewis acidity is defined by a numerical value obtained by a density functional method, which is a kind of quantum chemical calculation, the phthalocyanine complex of the present invention is preferably the phthalocyanine complex described above and represented by the general formula [1] or [2]. P of the valence orbit of M in
The lowest orbital level of the empty molecular orbital whose atomic orbital is the main component (the coefficient represented by linear combination is 0.4 or more) is 0.00
A phthalocyanine complex having 8 atomic units (Hartley) or less. However, the orbital level is determined by calculation by the density functional theory (B3LYP / 3-21G level).

【0030】密度汎関数法の計算はGaussian
Inc.社製Gaussian94プログラムを用いて
IBM社のSP2などの高速計算機によって計算される
ものである。計算レベルについては計算すべきモデルや
計算機能力に合わせて選択可能である。また、各原子の
原子軌道を表す基底関数の組み合わせはGaussia
n94プログラムに多くの種類が内蔵されており、これ
も計算すべきモデルや計算機能力に合わせて選択可能で
ある。特に、価電子軌道や分極状態を表すのに適した原
子軌道については複数の基底関数を用いることが少なく
ない。さらに計算時に入力する構造パラメータについて
は実験データや他の理論化学的手法により入手した座標
を入力することも可能であり、上記のプログラムにより
構造最適化計算により求めることもできる。ここで言う
他の理論化学的手法とは量子化学的手法だけでなく、分
子力学的手法も含むものである。分子力学的手法の計算
は富士通(株)が販売しているCACheシステムなど
を用いれば可能である。
The calculation of the density functional method is based on Gaussian
Inc. It is calculated by a high-speed computer such as IBM SP2 using the Gaussian 94 program manufactured by the company. The calculation level can be selected according to the model to be calculated and the calculation function. The combination of basis functions representing the atomic orbitals of each atom is Gaussia
Many types are built in the n94 program, and these can also be selected according to the model to be calculated and the calculation function. In particular, a plurality of basis functions are often used for an atomic orbital suitable for expressing a valence orbital or a polarization state. Further, as for the structural parameters to be input at the time of calculation, it is also possible to input experimental data or coordinates obtained by other theoretical and chemical methods, and it is also possible to obtain by structural optimization calculation by the above-mentioned program. The other theoretical chemical methods mentioned here include not only quantum chemical methods but also molecular mechanical methods. The calculation of the molecular mechanical method can be performed by using a CAChe system sold by Fujitsu Limited.

【0031】該軌道準位として好ましくは、−0.1〜
0.007原子単位であり、さらに好ましくは0〜0.
006原子単位であり、特に好ましくは0.001〜
0.005原子単位の範囲である。
The orbital level is preferably from -0.1 to
0.007 atomic units, more preferably 0-0.1 atomic units.
006 atomic units, particularly preferably 0.001 to
The range is 0.005 atomic units.

【0032】上記一般式[1]で表される化合物は公知
の方法で合成することが出来る。例えば、Inorga
nic Chemistry,19,3131−313
5(1980)に記載の方法が挙げられる。またこれら
化合物は、一般に市販されているものも多い。
The compound represented by the general formula [1] can be synthesized by a known method. For example, Inorga
nic Chemistry, 19 , 3131-313
5 (1980). Many of these compounds are generally commercially available.

【0033】本発明のフタロシアニン錯体は、上記一般
式[1]で表される化合物よりなり、かつ、X線回折ス
ペクトルにおいて、CuKα特性X線に対する最も強い
回折ピークがブラッグ角(2θ±0.2°)の15°よ
り大きい位置に現れるフタロシアニン錯体である。市販
品についてX線回折スペクトルを測定すると、該ブラッ
グ角の15°より小さい位置に最も大きい回折ピークが
現れる。そのようなフタロシアニン錯体に対し、結晶転
移等をさせることにより、該ブラッグ角の15°より大
きい位置に最も強い回折ピークが現れる本発明のフタロ
シアニン錯体が製造される。
The phthalocyanine complex of the present invention is composed of the compound represented by the above general formula [1], and in the X-ray diffraction spectrum, the strongest diffraction peak with respect to CuKα characteristic X-ray has a Bragg angle (2θ ± 0.2). Phthalocyanine complex appearing at a position larger than 15 ° in (°). When the X-ray diffraction spectrum of a commercially available product is measured, the largest diffraction peak appears at a position smaller than the Bragg angle of 15 °. By subjecting such a phthalocyanine complex to crystal transition or the like, the phthalocyanine complex of the present invention in which the strongest diffraction peak appears at a position larger than 15 ° of the Bragg angle is produced.

【0034】前記の結晶転移の方法としては、磨砕等の
機械的剪断力を加える方法や、アシッドペースティング
処理等の酸処理が挙げられる。本発明のフタロシアニン
錯体の製造方法として好ましくは、上述のフタロシアニ
ン錯体を磨砕またはアシッドペースティングすることに
よる製造方法である。
Examples of the method of crystal transition include a method of applying a mechanical shearing force such as grinding, and an acid treatment such as an acid pasting treatment. The method of producing the phthalocyanine complex of the present invention is preferably a method of grinding or acid pasting the above-mentioned phthalocyanine complex.

【0035】磨砕に際しては、ボールミル、遊星ミル、
サンドグラインダー、振動ミル、アトライター等の装置
が用いられる。この際、固体のみで磨砕する乾式磨砕、
液体を加えて磨砕する湿式磨砕のいずれの方法もとるこ
とができる。また塩化ナトリウムや硫酸ナトリウム等の
水溶性無機塩を磨砕助剤として用いることもできる。磨
砕温度は、0〜200℃の範囲が好ましく、さらに好ま
しくは10〜100℃であり、特に好ましくは20〜8
0℃である。磨砕時間は、結晶転移の飽和が確認される
まで磨砕することが好ましい。結晶転移の飽和は、X線
回折や赤外スペクトル等によって判定できる。
In grinding, a ball mill, a planetary mill,
Devices such as a sand grinder, a vibration mill, and an attritor are used. At this time, dry grinding, grinding only with solids,
Any method of wet milling in which a liquid is added and milled can be used. In addition, a water-soluble inorganic salt such as sodium chloride or sodium sulfate can be used as a grinding aid. The grinding temperature is preferably in the range of 0 to 200 ° C, more preferably 10 to 100 ° C, and particularly preferably 20 to 8 ° C.
0 ° C. As for the grinding time, it is preferable to grind until saturation of crystal transition is confirmed. The saturation of the crystal transition can be determined by X-ray diffraction, infrared spectrum, or the like.

【0036】アシッドペースティングとは、まず対象化
合物を酸に溶解させるかスラリー化させて酸ペースト液
となし、その後それを水などの液体中に投入して沈殿
(以下「再沈殿」という)した固体を目的化合物として
回収する方法である。アシッドペースティングに使用す
る酸としては、硫酸、塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ
酢酸等が挙げられるが、濃硫酸が溶解度も高く、取り扱
い易いために好ましい。濃硫酸の場合、上記化合物に対
して5〜100重量倍使用することが好ましく、さらに
好ましくは15〜40重量倍である。また、再沈殿させ
る際には、中性水やアルカリ性水、もしくはこれら水と
有機溶媒との混合液を使用することができる。アルカリ
性水に使用されるアルカリとしては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
アンモニア、各種水酸化アンモニウム塩等を挙げること
ができる。また、有機溶媒としては、メタノール等のア
ルコール類、エチレングリコール、グリセリン、ポリエ
チレングリコール等のグリコール類、アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類、ジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素等が挙げられる。有機溶媒の量は通常、水に対して1
0重量倍以下、好ましくは5重量倍以下の範囲で用い
る。上記中性水、アルカリ性水、または混合液は、酸ペ
ースト液に対して、1〜100重量倍、好ましくは3〜
20重量倍の範囲で用いる。アシッドペースティングは
通常、−15℃〜100℃の範囲の処理温度で行うが、
混合溶媒を用いる場合、その沸点以下の温度で行うのが
好ましい。
The acid pasting means that an object compound is first dissolved or slurried in an acid to form an acid paste solution, which is then poured into a liquid such as water to precipitate (hereinafter, referred to as "reprecipitation"). In this method, a solid is recovered as a target compound. Examples of the acid used for the acid pasting include sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, trifluoroacetic acid and the like. Concentrated sulfuric acid is preferable because of its high solubility and easy handling. In the case of concentrated sulfuric acid, it is preferably used in an amount of 5 to 100 times by weight, more preferably 15 to 40 times by weight, based on the above compound. In reprecipitation, neutral water or alkaline water, or a mixture of these water and an organic solvent can be used. Examples of the alkali used for the alkaline water include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate,
Ammonia and various ammonium hydroxide salts can be exemplified. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, glycols such as ethylene glycol, glycerin and polyethylene glycol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and halogenated compounds such as dichloromethane and chloroform. Examples thereof include hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. The amount of the organic solvent is usually 1 to water.
It is used in a range of 0 times by weight or less, preferably 5 times by weight or less. The neutral water, the alkaline water, or the mixed solution is 1 to 100 times by weight, preferably 3 to 100 times the acid paste solution.
Use in the range of 20 weight times. Acid pasting is usually performed at a processing temperature in the range of -15 ° C to 100 ° C,
When using a mixed solvent, it is preferable to carry out the reaction at a temperature lower than the boiling point.

【0037】以上詳述した本発明のフタロシアニン錯体
は、オレフィンの重合に際して活性化用助触媒成分とし
て用いられる。本発明のフタロシアニン錯体を用いて調
整されるオレフィン重合用触媒としては、シングルサイ
ト触媒を形成する遷移金属化合物、有機アルミニウムお
よび本発明のフタロシアニン錯体を接触させて得られる
触媒が挙げられる。前記シングルサイト触媒を形成する
遷移金属化合物としては、公知のメタロセン錯体や非メ
タロセン化合物が挙げられ、具体的にはエチレンビス
(インデニル)ジルコニウムジクロライドなどである。
前記有機アルミニウムとしては公知のトリアルキルアル
ミニウムなどが挙げられ、具体的にはトリイソブチルア
ルミニウムなどである。それらの使用条件などについて
は、以下に述べる実施例の条件を例示できる。
The phthalocyanine complex of the present invention described in detail above is used as an activating co-catalyst component in olefin polymerization. Examples of the olefin polymerization catalyst prepared using the phthalocyanine complex of the present invention include a transition metal compound that forms a single-site catalyst, organoaluminum, and a catalyst obtained by contacting the phthalocyanine complex of the present invention. Examples of the transition metal compound that forms the single-site catalyst include known metallocene complexes and non-metallocene compounds, and specific examples include ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride.
Examples of the organoaluminum include known trialkylaluminums, and specifically, triisobutylaluminum and the like. With respect to the use conditions and the like, the conditions of the embodiments described below can be exemplified.

【0038】[0038]

【実施例】以下、実施例および比較例によって本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。実施例中の各項目の測定値は、下記の方
法で測定した。
The present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. The measured value of each item in the examples was measured by the following method.

【0039】(1)共重合体におけるα−オレフィン単
位含有量は、赤外分光光度計(日本分光工業社製 FT
−IR7300)を用い、エチレンとα−オレフィンの
特性吸収より検量線を用いて求め、炭素原子1000個
当たりの短鎖分岐数(SCB)として表した。
(1) The α-olefin unit content in the copolymer was measured by an infrared spectrophotometer (FT, manufactured by JASCO Corporation).
-IR7300), using a calibration curve from the characteristic absorptions of ethylene and α-olefins, and expressed as the number of short-chain branches per 1,000 carbon atoms (SCB).

【0040】(2)分子量および分子量分布:ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、下
記の条件で測定した。検量線は標準ポリスチレンを用い
て作成した。分子量分布は重量平均分子量(Mw)と数
平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)で評価した。 機種: ミリポアウオーターズ社製 150C型 カラム: TSK−GEL GMH−HT 7.5×600×2本 測定温度:140℃ 溶媒: オルトジクロロベンゼン、 測定濃度:5mg/5ml
(2) Molecular weight and molecular weight distribution: Measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions. A calibration curve was created using standard polystyrene. The molecular weight distribution was evaluated by the ratio (Mw / Mn) between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn). Model: 150C type manufactured by Millipore Waters Co., Ltd. Column: TSK-GEL GMH-HT 7.5 × 600 × 2 tubes Measurement temperature: 140 ° C. Solvent: orthodichlorobenzene, measurement concentration: 5 mg / 5 ml

【0041】(3)密度汎関数法の計算:IBM社製の
高速計算機SP2、およびGaussian Inc.
社製Gaussian94プログラムを用い、B3LY
Pと呼ばれる計算方法を用いて、各原子の原子軌道はプ
ログラムに内蔵された3−21Gと呼ばれる基底関数の
組み合わせを用い、分子力学計算により計算された平面
構造を用いて密度汎関数法により計算した。
(3) Calculation of density functional method: A high-speed computer SP2 manufactured by IBM Corporation and Gaussian Inc.
B3LY using Gaussian94 program
Using a calculation method called P, the atomic orbital of each atom is calculated by a density functional theory method using a planar structure calculated by molecular mechanics calculation using a combination of basis functions called 3-21G built in the program. did.

【0042】(4)X線回折の測定: 装置:理学電気社製 RINT2500V(縦型ゴニオ
メーター) X線出力:50kV−100mA X線管球:Cu モノクロメーター:湾曲モノクロメーター(グラファイ
ト) 検出器:シンチレーションカウンター スキャン速度:20/分(2θ) スキャン角度:5〜70deg.(2θ)
(4) Measurement of X-ray diffraction: Apparatus: RINT 2500V (vertical goniometer) manufactured by Rigaku Denki Co. X-ray output: 50 kV-100 mA X-ray tube: Cu monochromator: Curved monochromator (graphite) Detector: Scintillation counter Scan speed: 20 / min (2θ) Scan angle: 5-70 deg. (2θ)

【0043】(5)比表面積測定 島津社製ASAP2000を用いて、液体窒素温度で窒
素ガスの吸脱着を測定し、BET法により求めた。試料
の前処理は、110℃で真空排気することにより行っ
た。
(5) Measurement of Specific Surface Area Using ASAP2000 manufactured by Shimadzu Corporation, the adsorption and desorption of nitrogen gas was measured at the temperature of liquid nitrogen and determined by the BET method. The pretreatment of the sample was performed by evacuating at 110 ° C.

【0044】[実施例1] (1)錯体Aの磨砕 下記構造の錯体A 10.45gを、ジルコニア製ポッ
ト(容量45ml)にとり、ジルコニア製ボール(直径
15mm)7個を入れて、遊星ミルP−7(フリッチュ
・ジャパン製)を用いて、ディスク360回転/分の回
転速度で室温で磨砕を開始した。その後、8時間毎に1
gずつサンプリングし、X線回折パターンを測定した。
磨砕は40時間まで行った。サンプリング時にポット内
のサンプルの温度を測定したところ、34℃であった。
Example 1 (1) Grinding of Complex A 10.45 g of Complex A having the following structure was placed in a zirconia pot (capacity: 45 ml), and seven zirconia balls (diameter: 15 mm) were put into a planetary mill. Grinding was started at room temperature using a P-7 (manufactured by Fritsch Japan) at a rotation speed of the disk of 360 rpm. After that, one every eight hours
Each g was sampled, and the X-ray diffraction pattern was measured.
Grinding was performed for up to 40 hours. The temperature of the sample in the pot at the time of sampling was 34 ° C.

【0045】(錯体A):アルドリッチ社製 この錯体Aにおいて、Co原子の価電子軌道のp軌道を
主成分とする空分子軌道の最も低い軌道順位における当
該p軌道の軌道係数は0.879であり、当該軌道準位
は0.0035原子単位(ハートリー)であった。磨砕
処理0時間すなわち磨砕前の錯体Aでは、CuKαの波
長に相当するX線を線源とするX線回折パターンにおい
ては、ブラッグ角度2θ=6.3°、9.2°、12.
6°、13.3°、15.0°、15.8°、17.7
°、18.4°、18.9°、22.7°、28.5
°、29.0°、30.2°、31.9°、33.9
°、34.9°、39.0°、43.2°、45.4
°、46.6°、51.9°、58.9°に±0.2°
の誤差範囲で特異的な回折ピークが認められた。また、
主たるピークは6.3°であった。図1にX線回折パタ
ーンを示す。
(Complex A): manufactured by Aldrich In this complex A, the orbital coefficient of the p-orbital in the lowest orbital order of the empty molecular orbital whose main component is the p-orbital of the valence electron orbital of the Co atom is 0.879, and the orbital level is 0.0035 atom. It was a unit (Hartley). In the case of the milling treatment 0 hour, that is, the complex A before milling, in the X-ray diffraction pattern using the X-ray corresponding to the wavelength of CuKα as a radiation source, the Bragg angles 2θ = 6.3 °, 9.2 °, and 12.
6 °, 13.3 °, 15.0 °, 15.8 °, 17.7
°, 18.4 °, 18.9 °, 22.7 °, 28.5
°, 29.0 °, 30.2 °, 31.9 °, 33.9
°, 34.9 °, 39.0 °, 43.2 °, 45.4
± 0.2 ° to °, 46.6 °, 51.9 °, 58.9 °
A specific diffraction peak was observed within the error range of. Also,
The main peak was at 6.3 °. FIG. 1 shows an X-ray diffraction pattern.

【0046】磨砕処理8時間後のサンプルに至って、X
線回折パターンではブラッグ角度2θ=6.1°、8.
9°、12.3°、17.9°、22.2°、24.1
°、28.3°、33.2°、33.9°、34.9
°、39.1°、43.1°、52.1°、58.5°
に±0.2°の誤差範囲で特異的な回折ピークが認めら
れた。また、主たるピークは28.3°であり、28.
3°のピーク強度と6.1°のピーク強度との比(6.
1°のピーク強度/28.3°のピーク強度)は0.7
1であった。図2にX線回折パターンを示す。表1に、
磨砕処理時間、28.3°のピーク強度と6.1°のピ
ーク強度との比(6.1°のピーク強度/28.3°の
ピーク強度)を示した。
After 8 hours of grinding, the sample reached X
In the line diffraction pattern, the Bragg angle 2θ = 6.1 °, 8.
9 °, 12.3 °, 17.9 °, 22.2 °, 24.1
°, 28.3 °, 33.2 °, 33.9 °, 34.9
°, 39.1 °, 43.1 °, 52.1 °, 58.5 °
A specific diffraction peak was observed within an error range of ± 0.2 °. The main peak is at 28.3 °, and 28.
The ratio of the peak intensity at 3 ° to the peak intensity at 6.1 ° (6.
(1 ° peak intensity / 28.3 ° peak intensity) is 0.7
It was one. FIG. 2 shows an X-ray diffraction pattern. In Table 1,
The grinding time and the ratio of the peak intensity at 28.3 ° to the peak intensity at 6.1 ° (peak intensity at 6.1 ° / peak intensity at 28.3 °) were shown.

【表1】 磨砕処理を40時間行うことによって、比表面積が3
0.0m2/gから2.03m2/gに減少した。図3に
磨砕処理40時間後のサンプルのX線回折パターンを示
す。図4および5に磨砕処理前、および磨砕処理40時
間後のサンプルのTEM写真を示す。
[Table 1] By performing the grinding treatment for 40 hours, the specific surface area becomes 3
It decreased from 0.0 m 2 / g to 2.03 m 2 / g. FIG. 3 shows an X-ray diffraction pattern of the sample 40 hours after the grinding treatment. 4 and 5 show TEM photographs of the sample before the grinding treatment and 40 hours after the grinding treatment.

【0047】(2)重合 内容積 400mlの撹拌機付きオートクレーブを真空
乾燥してアルゴンで置換後、溶媒としてヘキサン 19
0ml、コモノマーとして1−ヘキセン 10mlを仕
込み、反応器を70℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を6kg/cm2 に調整しながらフィードし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム 0.25m
molを投入し、続いてエチレンビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロライド 0.2μmolを投入し、さ
らに実施例1(1)において40時間磨砕した錯体Aを
83.5mg(97.2μmol)投入して重合を開始
した。30分間重合を行った。重合の結果、6.92g
のエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。重合活
性=6.9×107 g/mol/h、SCB=11.9
0であった。Mw=88000、Mw/Mn=2.5で
あった。
(2) Polymerization An autoclave with a stirrer having an internal volume of 400 ml was vacuum-dried and purged with argon, and hexane was used as a solvent.
0 ml and 10 ml of 1-hexene as a comonomer were charged, and the reactor was heated to 70 ° C. After the temperature was raised, feed was performed while adjusting the ethylene pressure to 6 kg / cm 2 , and after the system was stabilized, triisobutylaluminum 0.25 m
mol, followed by 0.2 μmol of ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride, and 83.5 mg (97.2 μmol) of the complex A ground for 40 hours in Example 1 (1) to initiate polymerization. Started. Polymerization was performed for 30 minutes. 6.92 g as a result of polymerization
Of ethylene / 1-hexene copolymer was obtained. Polymerization activity = 6.9 × 10 7 g / mol / h, SCB = 11.9
It was 0. Mw = 88000, Mw / Mn = 2.5.

【0048】[参考例1]実施例1(2)において、4
0時間磨砕した錯体Aの代わりに未磨砕の錯体A80.
4mg(93.6μmol)を用いた以外は、実施例1
(2)の通りに重合を行った。その結果、1.08gの
エチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。重合活性
=1.1×107 g/mol/hであった。Mw=78
000、Mw/Mn=2.3であった。
Reference Example 1 In Example 1 (2), 4
Unmilled complex A80 in place of 0 hour milled complex A80.
Example 1 except that 4 mg (93.6 μmol) was used.
Polymerization was performed as in (2). As a result, 1.08 g of an ethylene / 1-hexene copolymer was obtained. Polymerization activity was 1.1 × 10 7 g / mol / h. Mw = 78
000, Mw / Mn = 2.3.

【0049】[実施例2] (1)錯体Aのアシッドペースティング処理 上記の錯体A 1.04gを、100mlの一口フラス
コにとり、氷浴で冷却した。これに濃硫酸20mlを徐
々に滴下した。その結果、内容物は濃緑色ペースト状と
なった。滴下終了後、氷浴で1時間攪拌した後、20℃
の水400mlに内容物を注ぎ込んだ。析出物をグラス
フィルター(G4)でろ過した後、水で洗液が中性とな
るまで洗浄した。その後、50℃で減圧下8時間乾燥し
た。その結果、本発明の化合物0.74gを得た。
Example 2 (1) Acid Pasting Treatment of Complex A 1.04 g of the above-mentioned Complex A was placed in a 100 ml one-necked flask and cooled in an ice bath. 20 ml of concentrated sulfuric acid was gradually added dropwise thereto. As a result, the content became a dark green paste. After dropping, the mixture was stirred in an ice bath for 1 hour,
The contents were poured into 400 ml of water. The precipitate was filtered through a glass filter (G4) and washed with water until the washing became neutral. Then, it dried at 50 degreeC under reduced pressure for 8 hours. As a result, 0.74 g of the compound of the present invention was obtained.

【0050】アシッドペースティング処理をしていない
錯体AのX線回折パターンは、実施例1(1)で説明し
た磨砕処理0時間すなわち磨砕前の錯体Aと同じであ
る。一方、アシッドペースティング処理後の錯体Aで
は、X線回折パターンではブラッグ角度2θ=6.0
°、6.2°、8.5°、9.1°、12.4°、1
8.2°、22.5°、28.3°、34.9°、4
3.2°、46.2°、58.9°に±0.2°の誤差
範囲で特異的な回折ピークが認められた。また、主たる
ピークは28.3°であり、28.3°のピーク強度と
6.2°のピーク強度との比(6.2°のピーク強度/
28.3°のピーク強度)は0.74であった。図6に
X線回折パターンを示す。図7にアシッドペースティン
グ処理後のTEM写真を示す。
The X-ray diffraction pattern of the complex A which has not been subjected to the acid pasting treatment is the same as that of the complex A before grinding, that is, the grinding time of 0 hours described in Example 1 (1). On the other hand, in the complex A after the acid pasting treatment, the Bragg angle 2θ = 6.0 in the X-ray diffraction pattern.
°, 6.2 °, 8.5 °, 9.1 °, 12.4 °, 1
8.2 °, 22.5 °, 28.3 °, 34.9 °, 4
Specific diffraction peaks were observed at 3.2 °, 46.2 °, and 58.9 ° within an error range of ± 0.2 °. The main peak is 28.3 °, and the ratio of the peak intensity at 28.3 ° to the peak intensity at 6.2 ° (peak intensity at 6.2 ° / peak intensity / 6.2 °).
Peak intensity at 28.3 °) was 0.74. FIG. 6 shows an X-ray diffraction pattern. FIG. 7 shows a TEM photograph after the acid pasting process.

【0051】(2)重合 内容積 400mlの撹拌機付きオートクレーブを真空
乾燥してアルゴンで置換後、溶媒としてヘキサン 19
0ml、コモノマーとして1−ヘキセン 10mlを仕
込み、反応器を70℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を6kg/cm2 に調整しながらフィードし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム 0.25m
molを投入し、続いてエチレンビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロライド 0.2μmolを投入し、さ
らに上記(1)においてアシッドペースティング処理し
た錯体Aを82.1mg(95.5μmol)投入して
重合を開始した。30分間重合を行った。重合の結果、
3.15gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られ
た。重合活性=3.2×107 g/mol/h、SCB
=10.91であった。Mw=72000、Mw/Mn
=2.1であった。
(2) Polymerization A 400 ml-volume autoclave with a stirrer was vacuum-dried and purged with argon.
0 ml and 10 ml of 1-hexene as a comonomer were charged, and the reactor was heated to 70 ° C. After the temperature was raised, feed was performed while adjusting the ethylene pressure to 6 kg / cm 2 , and after the system was stabilized, triisobutylaluminum 0.25 m
mol, followed by 0.2 μmol of ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride, and 82.1 mg (95.5 μmol) of the complex A subjected to the acid pasting treatment in the above (1) to initiate polymerization. . Polymerization was performed for 30 minutes. As a result of polymerization,
3.15 g of an ethylene / 1-hexene copolymer was obtained. Polymerization activity = 3.2 × 10 7 g / mol / h, SCB
= 10.91. Mw = 72000, Mw / Mn
= 2.1.

【0052】[比較例1](キシレン還流処理) (1)錯体Aのキシレン還流処理 上記の錯体A 1.10gをキシレン(o,m,p混合
物)100mlに分散させ、8時間還流処理を行った。
その後、減圧下溶媒を留去し、50℃で8時間減圧下乾
燥を行った。本処理後の錯体AのX線回折パターンでは
ブラッグ角度2θ=6.3°、9.1°、9.4°、1
2.5°、13.2°、14.9°、15.7°、1
7.6°、18.4°、18.9°、22.6°、2
3.0°、24.2°、25.3°、26.5°、2
7.6°、28.3°、29.0°、30.2°、3
1.5°、31.8°、33.8°、43.1°、4
5.3°、46.6°、51.8°に±0.2°の誤差
範囲で特異的な回折ピークが認められた。また、主たる
ピークは6.3°であり、28.3°のピーク強度と
6.3°のピーク強度との比(6.3°のピーク強度/
28.3°のピーク強度)は10.0であった。図8に
X線回折パターンを示す。図9にTEM写真を示す。
Comparative Example 1 (Xylene Reflux Treatment) (1) Xylene Reflux Treatment of Complex A 1.10 g of the above-mentioned complex A was dispersed in 100 ml of xylene (o, m, p mixture) and refluxed for 8 hours. Was.
Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure, and drying was performed at 50 ° C. for 8 hours under reduced pressure. In the X-ray diffraction pattern of complex A after this treatment, Bragg angles 2θ = 6.3 °, 9.1 °, 9.4 °, 1
2.5 °, 13.2 °, 14.9 °, 15.7 °, 1
7.6 °, 18.4 °, 18.9 °, 22.6 °, 2
3.0 °, 24.2 °, 25.3 °, 26.5 °, 2
7.6 °, 28.3 °, 29.0 °, 30.2 °, 3
1.5 °, 31.8 °, 33.8 °, 43.1 °, 4
Specific diffraction peaks were observed at 5.3 °, 46.6 °, and 51.8 ° within an error range of ± 0.2 °. The main peak is 6.3 °, and the ratio of the peak intensity at 28.3 ° to the peak intensity at 6.3 ° (peak intensity at 6.3 ° / peak intensity / 6.3 °).
Peak intensity at 28.3 °) was 10.0. FIG. 8 shows an X-ray diffraction pattern. FIG. 9 shows a TEM photograph.

【0053】(2)重合 内容積 400mlの撹拌機付きオートクレーブを真空
乾燥してアルゴンで置換後、溶媒としてヘキサン 19
0ml、コモノマーとして1−ヘキセン 10mlを仕
込み、反応器を70℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を6kg/cm2 に調整しながらフィードし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム 0.25m
molを投入し、続いてエチレンビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロライド 0.2μmolを投入し、さ
らに上記(1)においてキシレン還流処理した錯体Aを
83.5mg(97.2μmol)投入して重合を開始
した。30分間重合を行った。重合の結果、0.398
gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。重合
活性=4.0×106 g/mol/hであった。Mw=
69000、Mw/Mn=2.4であった。
(2) Polymerization A 400 ml internal volume autoclave with a stirrer was vacuum-dried and purged with argon.
0 ml and 10 ml of 1-hexene as a comonomer were charged, and the reactor was heated to 70 ° C. After the temperature was raised, feed was performed while adjusting the ethylene pressure to 6 kg / cm 2 , and after the system was stabilized, triisobutylaluminum 0.25 m
mol, then 0.2 μmol of ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride was added, and 83.5 mg (97.2 μmol) of the complex A subjected to the xylene reflux treatment in the above (1) was added to initiate polymerization. Polymerization was performed for 30 minutes. As a result of polymerization, 0.398
g of ethylene / 1-hexene copolymer was obtained. Polymerization activity was 4.0 × 10 6 g / mol / h. Mw =
69000, Mw / Mn = 2.4.

【0054】図10に、28.3°のピーク強度と6.
3°のピーク強度との比(6.3°のピーク強度/2
8.3°のピーク強度)と、重合活性の相関を示す。
FIG. 10 shows the peak intensity at 28.3 ° and 6.
Ratio to peak intensity at 3 ° (peak intensity at 6.3 ° / 2
8.3 ° peak intensity) and the polymerization activity.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、活
性化用助触媒成分として用いることにより高重合活性を
示すオレフィン重合用触媒を形成し得る新規なフタロシ
アニン錯体が提供される。
As described above in detail, according to the present invention, there is provided a novel phthalocyanine complex capable of forming an olefin polymerization catalyst having high polymerization activity by using it as an activating co-catalyst component.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、実施例で用いた錯体Aの磨砕処理前
(未処理時)のX線回折パターンである。
FIG. 1 is an X-ray diffraction pattern of a complex A used in Examples before grinding treatment (when not treated).

【図2】図2は、磨砕処理8時間後の錯体AのX線回折
パターンである。
FIG. 2 is an X-ray diffraction pattern of complex A after 8 hours of grinding.

【図3】図3は、磨砕処理40時間後の錯体AのX線回
折パターンである。
FIG. 3 is an X-ray diffraction pattern of a complex A 40 hours after a grinding treatment.

【図4】図4は、磨砕処理前(未処理時)の錯体AのT
EM写真である。
FIG. 4 shows T of complex A before grinding (when not treated).
It is an EM photograph.

【図5】図5は、磨砕処理40時間後の錯体AのTEM
写真である。
FIG. 5 is a TEM of complex A 40 hours after grinding.
It is a photograph.

【図6】図6は、実施例2(1)で行ったアシッドペー
スティング処理後の錯体AのX線回折パターンである。
FIG. 6 is an X-ray diffraction pattern of complex A after acid pasting treatment performed in Example 2 (1).

【図7】図7は、実施例2(1)で行ったアシッドペー
スティング処理後の錯体AのTEM写真である。
FIG. 7 is a TEM photograph of complex A after the acid pasting treatment performed in Example 2 (1).

【図8】図8は、比較例1で行ったキシレン還流処理後
の錯体AのX線回折パターンである。
FIG. 8 is an X-ray diffraction pattern of complex A after the xylene reflux treatment performed in Comparative Example 1.

【図9】図9は、比較例1で行ったキシレン還流処理後
の錯体AのTEM写真である。
FIG. 9 is a TEM photograph of complex A after the xylene reflux treatment performed in Comparative Example 1.

【図10】図10は、錯体AのX線回折パターンにおけ
る28.3°のピーク強度と6.3°のピーク強度との
比(6.3°のピーク強度/28.3°のピーク強度)
と、重合活性の相関を示す図である。
FIG. 10 shows the ratio of the peak intensity at 28.3 ° to the peak intensity at 6.3 ° in the X-ray diffraction pattern of complex A (peak intensity at 6.3 ° / peak intensity at 28.3 °). )
FIG. 3 is a diagram showing a correlation between the polymerization activity and the polymerization activity.

フロントページの続き (72)発明者 宮竹 達也 千葉県市原市姉崎海岸5の1 住友化学工 業株式会社内 Fターム(参考) 4C050 PA13 4J028 AA01A AB01A AC27A BA00A BA01B BB00A BB01B BC15B CB72C EB02 EB09 4J128 AA01 AB01 AC27 BA00A BA01B BB00A BB01B BC15B CB72C EB02 EB09 Continued on the front page (72) Inventor Tatsuya Miyatake 5-1, Anesaki Beach, Ichihara City, Chiba Prefecture F-term (reference) in Sumitomo Chemical Co., Ltd. 4C050 PA13 4J028 AA01A AB01A AC27A BA00A BA01B BB00A BB01B BC15B CB72C EB02 EB09 4J128 AA01 AB BA00A BA01B BB00A BB01B BC15B CB72C EB02 EB09

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式[1]で表される化合物よりな
り、かつ、X線回折スペクトルにおいて、CuKα特性
X線に対する最も強い回折ピークがブラッグ角(2θ±
0.2°)の15°より大きい位置に現れるフタロシア
ニン錯体。 (式中、Mは周期律表第8〜10族の原子を表し、Tは
周期律表の第14族または第15族の原子を表し、全て
のTは互いに同じであっても異なっていてもよい。R1
およびR2 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、
炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基であり、全ての
1 および全てのR2 は互いに同じであっても異なって
いてもよく、互いに環を形成していてもよい。なお、T
が第15族の原子の場合、それに結合するR2 は存在し
ない。Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、また
は炭化水素オキシ基を表し、Xが複数存在する場合はそ
れらは互いに同じであっても異なっていてもよい。mは
Mの原子価を表す。)
An X-ray diffraction spectrum comprising a compound represented by the following general formula [1], wherein the strongest diffraction peak with respect to CuKα characteristic X-rays is the Bragg angle (2θ ±
Phthalocyanine complex appearing at a position larger than 15 ° (0.2 °). (Wherein, M represents an atom of Groups 8 to 10 of the periodic table, T represents an atom of Groups 14 or 15 of the periodic table, and all Ts are the same or different from each other. R 1
And R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom,
It is a hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group, and all R 1 and all R 2 may be the same or different from each other, and may form a ring with each other. Note that T
Is a Group 15 atom, there is no R 2 attached to it. X represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, or a hydrocarbon oxy group. When a plurality of Xs are present, they may be the same or different. m represents the valence of M. )
【請求項2】一般式[1]におけるR1 およびR2 の少
なくとも一つが電子吸引性基である請求項1記載のフタ
ロシアニン錯体。
2. The phthalocyanine complex according to claim 1, wherein at least one of R 1 and R 2 in the general formula [1] is an electron-withdrawing group.
【請求項3】一般式[1]におけるR1 およびR2 の少
なくとも一つが、ハロゲン化炭化水素基である請求項1
記載のフタロシアニン錯体。
3. The compound according to claim 1, wherein at least one of R 1 and R 2 in the general formula [1] is a halogenated hydrocarbon group.
The phthalocyanine complex according to the above.
【請求項4】下記一般式[2]で表される化合物よりな
り、かつ、X線回折スペクトルにおいて、CuKα特性
X線に対する最も強い回折ピークがブラッグ角(2θ±
0.2°)の15°より大きい位置に現れるフタロシア
ニン錯体。 (式中、Mは周期律表第8〜10族の原子を表し、Xは
水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、または炭化水素
オキシ基を表し、Xが複数存在する場合はそれらは互い
に同じであっても異なっていてもよい。mはMの原子価
を表す。)
4. The X-ray diffraction spectrum of the compound represented by the following general formula [2], wherein the strongest diffraction peak for CuKα characteristic X-rays is the Bragg angle (2θ ±
Phthalocyanine complex appearing at a position larger than 15 ° (0.2 °). (Wherein, M represents an atom of Groups 8 to 10 of the periodic table, X represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, or a hydrocarbonoxy group, and when there are a plurality of Xs, they are the same as each other. And m represents the valence of M.)
【請求項5】Mの価電子軌道のp原子軌道を主成分(線
形結合で表される係数が0.4以上)とする空分子軌道
の最も低い軌道準位が、0.008原子単位(ハートリ
ー)以下である請求項1〜4のいずれかに記載のフタロ
シアニン錯体。
5. The lowest orbital level of an empty molecular orbital whose main component is a p atomic orbital of the valence orbital of M (coefficient represented by linear combination is 0.4 or more) is 0.008 atomic unit ( Hartley) The phthalocyanine complex according to any one of claims 1 to 4, wherein
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7220805B2 (en) * 2004-05-13 2007-05-22 Sumitomo Chemical Company, Limited Process for producing contact product; catalyst component for addition polymerization; process for producing catalyst for addition polymerization; and process for producing addition polymer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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