JP2002333719A - Supporting body for forming pattern, paste composition and method for forming pattern by using the same - Google Patents

Supporting body for forming pattern, paste composition and method for forming pattern by using the same

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JP2002333719A
JP2002333719A JP2001137732A JP2001137732A JP2002333719A JP 2002333719 A JP2002333719 A JP 2002333719A JP 2001137732 A JP2001137732 A JP 2001137732A JP 2001137732 A JP2001137732 A JP 2001137732A JP 2002333719 A JP2002333719 A JP 2002333719A
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paste composition
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forming
paste
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Masahiro Kubota
正博 久保田
Shizuharu Watanabe
静晴 渡辺
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Murata Manufacturing Co Ltd
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  • Materials For Photolithography (AREA)
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a uniform pattern having high accuracy of the form and the dimension and large film thickness. SOLUTION: The supporting body for forming a pattern is used to form a pattern by using a paste composition to form a specified pattern and then transferring the formed pattern to an objective body. The contact angle of the supporting body with the paste composition is specified to >=30 deg.. A paste composition having >=30 Pa.s viscosity at 4 s<-1> shear rate at the drying temperature is used for the paste composition to be used to form the pattern on the supporting body.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、主として、パタ
ーン形成用支持体、ペースト組成物、及びそれを用いた
パターン形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern forming support, a paste composition, and a pattern forming method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
移動体通信機器、衛星放送受信機器、コンピュータなど
の小型化に伴い、それらに用いられる高周波電子部品の
小型化、高性能化が進められており、高周波電子部品の
配線パターンについても、高密度化及び信号伝送の高速
化への対応が強く求められるに至っている。そして、高
周波電子部品の配線パターンの高密度化や信号伝送の高
速化を達成するために、配線パターンの均一化、微細
化、厚膜化への要求が大きくなっている。
2. Description of the Related Art In recent years,
With the downsizing of mobile communication devices, satellite broadcasting receivers, computers, etc., the high-frequency electronic components used in them are being reduced in size and performance, and the wiring patterns of high-frequency electronic components are also increasing in density. In addition, there is a strong demand for high-speed signal transmission. In order to increase the density of wiring patterns of high-frequency electronic components and increase the speed of signal transmission, there is an increasing demand for uniform, finer, and thicker wiring patterns.

【0003】ところで、電子部品中の回路の形成方法と
しては、従来より、無機粉末と有機バインダーを含有す
るペースト組成物を用いて、スクリーン印刷法により焼
結基板上に厚膜配線パターンを形成し、次いで乾燥した
後、焼成する厚膜回路形成方法が広く用いられている。
しかし、この方法の場合、スクリーン版のメッシュ跡が
残り、十分に均一なパターンを形成することが困難であ
るという問題点がある。
Meanwhile, as a method of forming a circuit in an electronic component, conventionally, a thick film wiring pattern is formed on a sintered substrate by a screen printing method using a paste composition containing an inorganic powder and an organic binder. A method of forming a thick film circuit, which is dried and then fired, is widely used.
However, in the case of this method, there is a problem that it is difficult to form a sufficiently uniform pattern because a mesh mark of the screen plate remains.

【0004】なお、均一な厚膜配線パターンを形成する
方法として、ポリエチレンテレフタレート(PET)フ
ィルムなどの支持体上に、ペースト組成物を所定のパタ
ーンが形成されるようにスクリーン印刷し、パターンが
形成された支持体と焼結基板を重ねあわせて圧着するこ
とにより、焼結基板上にパターンを転写した後、焼成す
る方法が、特開昭61−34992号公報に開示されて
いる。しかし、この方法を用いた場合にも、スクリーン
印刷法により形成することが可能なパターンの幅及びピ
ッチは50μm程度が限界であり、それ以上に微細なパ
ターンを形成することは困難である。
As a method for forming a uniform thick film wiring pattern, a paste composition is screen-printed on a support such as a polyethylene terephthalate (PET) film so that a predetermined pattern is formed, and the pattern is formed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-34992 discloses a method of transferring a pattern onto a sintered substrate by superimposing and pressing the sintered substrate and the sintered substrate, followed by baking. However, even when this method is used, the width and pitch of a pattern that can be formed by the screen printing method are limited to about 50 μm, and it is difficult to form a finer pattern than that.

【0005】なお、厚膜配線パターンを微細化する方法
として、感光性有機成分を含有させたペースト組成物を
用い、支持体上に塗布された感光性ペーストを露光、現
像して所定のパターンを形成する感光性ペースト法が知
られている(特開昭63−265979号公報)。
[0005] As a method of miniaturizing a thick film wiring pattern, a predetermined pattern is formed by exposing and developing a photosensitive paste applied on a support using a paste composition containing a photosensitive organic component. A photosensitive paste method for forming is known (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-25979).

【0006】また、キャリアフィルムなどの支持体上の
厚膜配線パターンを微細化する方法として、感光性有機
成分を含有させた感光性ペースト法を用いる方法が知ら
れている(特開平4−139733号公報)。
Further, as a method of miniaturizing a thick film wiring pattern on a support such as a carrier film, a method using a photosensitive paste method containing a photosensitive organic component is known (Japanese Patent Laid-Open No. 4-139733). No.).

【0007】しかし、上記の特開昭63−265979
号公報に開示された方法や、特開平4−139733号
公報に開示された方法によっても、任意の対象に、所望
の精度を有し、かつ、膜厚の大きいパターンを形成する
ことは必ずしも容易ではなく、さらに均一性や形状精度
に優れ、膜厚の大きいパターンを形成する方法が強く求
められているのが実情である。
However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No.
It is not always easy to form a pattern having a desired accuracy and a large film thickness on an arbitrary object by the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. Hei. In fact, there is a strong demand for a method of forming a pattern having a greater film thickness that is more excellent in uniformity and shape accuracy.

【0008】また、熱放散性・信頼性などの観点から、
高周波電子部品にセラミック多層基板が広く用いられる
に至っているが、近年、セラミック多層基板に関して
も、高密度化や信号の高速化への対応が求められてお
り、パターンの均一化、微細化及び厚膜化への要求が大
きくなっている。
In addition, from the viewpoint of heat dissipation and reliability,
Ceramic multilayer substrates have been widely used for high-frequency electronic components.In recent years, ceramic multilayer substrates have also been required to cope with higher densities and higher signal speeds. The demand for film formation is increasing.

【0009】ところで、パターンを支持体上に形成し、
これを焼結基板やセラミックグリーンシートなどの被転
写体へ転写することによりパターンの形成を行うにあた
って、離型処理が施されていない支持体上に、スクリー
ン印刷法や感光性ペースト法などによりパターンを形成
しようとした場合、パターンと支持体の密着力が強すぎ
て、被転写体にパターンを確実に転写することができな
いという問題点がある。
By the way, a pattern is formed on a support,
This is transferred to a transfer substrate such as a sintered substrate or ceramic green sheet to form a pattern. On a support that has not been subjected to a release treatment, the pattern is formed by a screen printing method or a photosensitive paste method. However, there is a problem that the adhesion between the pattern and the support is too strong, and the pattern cannot be reliably transferred to the transfer target.

【0010】また、離型処理が施されていない支持体と
セラミックグリーンシートを重ねあわせて圧着した場
合、セラミックグリーンシートと支持体の間の密着力が
強くなりすぎて、セラミックグリーンシートから支持体
を剥離する際に、セラミックグリーンシートが破損する
という問題点がある。したがって、支持体には何らかの
離型処理が必要となる。
When a ceramic green sheet and a support that has not been subjected to a mold release treatment are overlaid and pressed together, the adhesion between the ceramic green sheet and the support becomes too strong, and the ceramic green sheet is removed from the support. When peeling off, there is a problem that the ceramic green sheet is damaged. Therefore, some release treatment is required for the support.

【0011】しかしながら、通常の離型処理を施した、
軽剥離性の支持体を用いた場合、スクリーン印刷法によ
りパターンを形成しようとすると、パターンの形成され
た支持体をオーブンなどに入れてペースト組成物を乾燥
させる工程で、パターン形状が保持されなくなるという
問題点がある。
However, a normal release treatment is performed,
When a light-peelable support is used, when a pattern is to be formed by a screen printing method, the pattern shape is not maintained in a step of drying the paste composition by placing the support on which the pattern is formed in an oven or the like. There is a problem.

【0012】すなわち、軽剥離性の支持体は、ペースト
組成物に対する反発力が強く、その上に形成されるパタ
ーンの形状を保持しようとすると、ペースト組成物が所
定の粘度を有していることが必要となる。しかし、パタ
ーンの形成された支持体をオーブンなどに入れてペース
ト組成物を乾燥させる工程で、パターン周辺の温度が上
昇し、パターン形状を保持するために必要な限界を超え
てペースト組成物の粘度が低下し、パターン形状が保持
されなくなるという問題点がある。
That is, the light-peelable support has a strong repulsive force against the paste composition, and the paste composition has a predetermined viscosity in order to maintain the shape of the pattern formed thereon. Is required. However, in the step of drying the paste composition by placing the support on which the pattern is formed in an oven or the like, the temperature around the pattern increases, and the viscosity of the paste composition exceeds the limit required to maintain the pattern shape. And the pattern shape is not maintained.

【0013】本願発明は、上記問題点を解決するもので
あり、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚の大
きいパターンを形成するのに有用なパターン形成用支持
体、ペースト組成物、それを用いたパターン形成方法、
該パターン形成方法を用いて作製される、高速信号化、
高密度配線化に十分に対応した回路基板及びセラミック
多層基板の形成方法を提供することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems, and provides a pattern forming support, a paste composition, and a pattern useful for forming a pattern having a uniform thickness, high shape accuracy and high dimensional accuracy, and a large film thickness. A pattern forming method using the same,
High-speed signal production using the pattern forming method,
It is an object of the present invention to provide a method of forming a circuit board and a ceramic multilayer board which sufficiently cope with high-density wiring.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本願発明(請求項1)のパターン形成用支持体は、
ペースト組成物を用いて所定のパターンを支持体上に形
成する工程と、前記支持体上に形成された前記パターン
を被転写体上に転写する工程を具備する形成方法に使用
される支持体であって、ペースト組成物に対する接触角
が30度以上になるように表面処理が施されていること
を特徴としている。
In order to achieve the above object, a support for pattern formation according to the present invention (claim 1) comprises:
A step of forming a predetermined pattern on a support using a paste composition, and a step of transferring the pattern formed on the support onto a transfer-receiving member. The surface treatment is performed so that the contact angle with the paste composition is 30 degrees or more.

【0015】ペースト組成物を用いて所定のパターンを
形成した後、形成されたパターンを被転写体上に転写す
ることによりパターンを形成するのに用いられるパター
ン形成用支持体として、ペースト組成物に対する接触角
が30度以上になるように表面処理を施したパターン形
成用支持体を用いることにより、乾燥時低ずり粘度(例
えば、乾燥温度での、ずり速度4s−1における粘度)
が大きいペースト組成物を用いた場合にも、パターン形
成用支持体の表面に、所定のパターンを確実に形成する
ことが可能になるとともに、パターン形成用支持体上に
形成されたパターンを、被転写体上に確実に転写するこ
とが可能になり、均一で、形状精度及び寸法精度が高
く、膜厚の大きいパターンを形成することが可能にな
る。
After a predetermined pattern is formed using the paste composition, the formed pattern is transferred onto a transfer-receiving member to form a pattern-forming support which is used to form a pattern. By using a pattern-forming support that has been subjected to a surface treatment so as to have a contact angle of 30 ° or more, a low shear viscosity during drying (for example, a viscosity at a drying temperature and a shear rate of 4 s −1 ) is used.
When a paste composition having a large size is used, a predetermined pattern can be reliably formed on the surface of the pattern forming support, and the pattern formed on the pattern forming support can be coated. Transfer onto a transfer body can be reliably performed, and a uniform, high-accuracy, high-dimensional accuracy and large-thickness pattern can be formed.

【0016】なお、本願発明において、「ペースト組成
物に対する接触角が30度以上になるように表面処理が
施されている」とは、パターン形成用支持体が30度以
上の接触角を有するように、所定の表面処理が施されて
いる場合はもちろん、パターン形成用支持体を構成する
材料やパターン形成用支持体の形成方法に由来して、特
別の表面処理を施さなくても、接触角が上記の範囲とな
っているようなパターン形成用支持体をも含む概念であ
る。
In the present invention, the phrase "surface-treated so that the contact angle with the paste composition is 30 degrees or more" means that the pattern-forming support has a contact angle of 30 degrees or more. In addition to the case where a predetermined surface treatment has been applied, the contact angle can be obtained without performing any special surface treatment due to the material constituting the pattern formation support and the method of forming the pattern formation support. Is a concept including a pattern forming support having the above range.

【0017】また、本願発明(請求項2)のペースト組
成物は、請求項1のパターン形成用支持体上にパターン
を形成するのに用いられるペースト組成物であって、乾
燥温度において、ずり速度4s−1における粘度が30
Pa・s以上であることを特徴としている。
The paste composition of the present invention (Claim 2) is a paste composition used for forming a pattern on the pattern-forming support of Claim 1, and has a shear rate at a drying temperature. The viscosity at 4 s -1 is 30
Pa · s or more.

【0018】ペースト組成物に対する接触角が30度以
上のパターン形成用支持体を用いてパターンを形成する
場合、乾燥時に、パターン形成用支持体上のパターンの
形状が保持されにくいが、乾燥温度において、ずり速度
4s−1における粘度が30Pa・s以上であるような
ペースト組成物を用いた場合、乾燥工程でも、パターン
が所望の形状を保つようにすることが可能になり、パタ
ーン形成用支持体の表面に、所定のパターンを確実に形
成することが可能になるとともに、パターン形成用支持
体上に形成されたパターンを、被転写体上に確実に転写
することが可能になり、均一で、形状精度及び寸法精度
が高く、膜厚の大きいパターンを形成することが可能に
なる。
When a pattern is formed using a support for pattern formation having a contact angle of 30 ° or more with the paste composition, it is difficult to maintain the shape of the pattern on the support for pattern formation during drying. When a paste composition having a viscosity of 30 Pa · s or more at a shear rate of 4 s −1 is used, the pattern can be maintained in a desired shape even in the drying step, and the pattern forming support can be used. On the surface of the, it is possible to reliably form a predetermined pattern, and it is possible to reliably transfer the pattern formed on the pattern-forming support onto the object to be transferred, It is possible to form a pattern with high shape accuracy and dimensional accuracy and a large film thickness.

【0019】言い換えると、乾燥温度において、ずり速
度4s−1における粘度が30Pa・s以上であるペー
スト組成物を用いてパターン形成用支持体上にパターン
を形成した場合、パターンとパターン形成用支持体の接
着力が大きくなりすぎる傾向があるが、ペースト組成物
に対する接触角が30度以上のパターン形成用支持体を
用いることにより、パターン形成用支持体の表面におけ
るパターンの安定性を損なうことなく、パターン形成用
支持体上に形成されたパターンを、被転写体上に確実に
転写することができるようになる。
In other words, when a pattern is formed on a substrate for pattern formation at a drying temperature using a paste composition having a viscosity of 30 Pa · s or more at a shear rate of 4 s −1 , the pattern and the substrate for pattern formation However, by using a pattern forming support having a contact angle of 30 degrees or more with the paste composition, without impairing the stability of the pattern on the surface of the pattern forming support, The pattern formed on the pattern forming support can be reliably transferred onto the transfer target.

【0020】また、請求項3のペースト組成物は、請求
項1のパターン形成用支持体上にパターンを形成するの
に用いられるペースト組成物であって、感光性有機成分
を含有していることを特徴としている。
Further, the paste composition according to the third aspect is a paste composition used for forming a pattern on the pattern forming support according to the first aspect, wherein the paste composition contains a photosensitive organic component. It is characterized by.

【0021】感光性有機成分を含有するペースト組成物
(感光性ペースト)を用いて、本願発明のパターン形成
用支持体上にパターンを形成することにより、感光性ペ
ースト法により、均一で、形状精度及び寸法精度が高
く、膜厚の大きいパターンを形成することが可能にな
る。
By forming a pattern on the pattern-forming support of the present invention by using a paste composition (photosensitive paste) containing a photosensitive organic component, a uniform and accurate shape can be obtained by the photosensitive paste method. In addition, a pattern having high dimensional accuracy and a large film thickness can be formed.

【0022】また、本願発明(請求項4)のパターン形
成方法は、請求項2又は3記載のペースト組成物を用い
て、請求項1記載のパターン形成用支持体上に所定のパ
ターンを形成する工程と、前記パターン形成用支持体上
に形成された前記パターンを被転写体上に転写する工程
とを具備することを特徴としている。
Further, according to the pattern forming method of the present invention (claim 4), a predetermined pattern is formed on the pattern forming support according to claim 1 using the paste composition according to claim 2 or 3. And a step of transferring the pattern formed on the pattern formation support onto a transfer target.

【0023】本願発明(請求項2又は3)のペースト組
成物を用いて、本願発明(請求項1)のパターン形成用
支持体上に所定のパターンを形成した後、パターン形成
用支持体上に形成されたパターンを被転写体上に転写す
ることにより、パターン形成用支持体上に形成されたパ
ターンを、被転写体上に確実に転写することが可能にな
り、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚の大き
いパターンを形成することが可能になる。
After a predetermined pattern is formed on the pattern forming support of the present invention (Claim 1) using the paste composition of the present invention (Claim 2 or 3), the pattern is formed on the pattern forming support. By transferring the formed pattern onto the transfer object, the pattern formed on the pattern forming support can be reliably transferred onto the transfer object, resulting in uniform shape accuracy and dimensions. It is possible to form a pattern with high accuracy and a large film thickness.

【0024】なお、ペースト組成物として、感光性有機
成分を含有する感光性ペーストを用いることにより、パ
ターン形成用支持体に塗布された感光性ペーストを露
光、現像して所定のパターンを形成する感光性ペースト
法により、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚
の大きいパターンを形成することが可能になる。
By using a photosensitive paste containing a photosensitive organic component as the paste composition, the photosensitive paste applied to the pattern forming support is exposed and developed to form a predetermined pattern. By the conductive paste method, it is possible to form a uniform pattern having high shape accuracy and dimensional accuracy and a large film thickness.

【0025】また、請求項5のパターン形成方法は、前
記パターン形成用支持体上に所定のパターンを形成する
工程が、前記パターン形成用支持体上に感光性有機成分
を含有するペースト(感光性ペースト)を塗布する工程
と、前記パターン形成用支持体上に塗布された感光性ペ
ーストを露光、現像して所定のパターンを形成する工程
とを具備していることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the pattern forming method, the step of forming a predetermined pattern on the pattern forming support comprises the step of forming a paste containing a photosensitive organic component on the pattern forming support. Paste) and a step of exposing and developing the photosensitive paste applied on the pattern forming support to form a predetermined pattern.

【0026】パターン形成用支持体上に所定のパターン
を形成する工程において、パターン形成用支持体上に感
光性ペーストを塗布した後、塗布された感光性ペースト
を露光、現像することにより、微細なパターンをパター
ン形成用支持体上に効率よく形成することが可能にな
る。
In the step of forming a predetermined pattern on the support for pattern formation, a photosensitive paste is applied on the support for pattern formation, and then the applied photosensitive paste is exposed and developed to form fine patterns. The pattern can be efficiently formed on the pattern forming support.

【0027】また、請求項6のパターン形成方法は、前
記被転写体が、セラミック粉末及び/又はガラス粉末を
含有する無機粉末と、有機バインダーと、可塑剤を含有
するスラリーをシート状に成形してなるセラミックグリ
ーンシートであることを特徴としている。
According to a sixth aspect of the present invention, in the pattern forming method, the object to be transferred is formed by forming a slurry containing an inorganic powder containing a ceramic powder and / or a glass powder, an organic binder, and a plasticizer into a sheet. It is characterized by being a ceramic green sheet.

【0028】被転写体が、セラミック粉末及び/又はガ
ラス粉末を含有する無機粉末と、有機バインダーと、可
塑剤を含有するスラリーをシート状に成形してなるセラ
ミックグリーンシートである場合、表面に所定のパター
ンが配設されたセラミックグリーンシートを確実に形成
することが可能になり、該セラミックグリーンシートを
用いることにより、回路基板やセラミック多層基板など
の積層電子部品を効率よく製造することが可能になる。
When the transfer object is a ceramic green sheet formed by molding a slurry containing an inorganic powder containing a ceramic powder and / or a glass powder, an organic binder, and a plasticizer into a sheet, a predetermined surface is formed on the surface. It is possible to reliably form a ceramic green sheet on which a pattern is provided, and by using the ceramic green sheet, it is possible to efficiently manufacture a multilayer electronic component such as a circuit board or a ceramic multilayer board. Become.

【0029】また、請求項7のパターン形成方法は、前
記被転写体が、セラミック粉末及び/又はガラス粉末を
含有する無機粉末と、有機バインダーと、可塑剤を含有
するスラリーをシート状に成形してなるセラミックグリ
ーンシートであって、有機バインダーと無機粉末の体積
比率が、有機バインダー量/無機粒子量≦0.25(体
積比)であることを特徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, in the pattern forming method, the object to be transferred is formed by forming a slurry containing an inorganic powder containing a ceramic powder and / or a glass powder, an organic binder, and a plasticizer into a sheet. Wherein the volume ratio of the organic binder to the inorganic powder is such that the amount of organic binder / the amount of inorganic particles ≦ 0.25 (volume ratio).

【0030】セラミックグリーンシートとして、有機バ
インダーと無機粉末の体積比率が、有機バインダー量/
無機粒子量≦0.25(体積比)のものを用いることに
より、セラミックグリーンシートを焼成する際の脱脂性
を高めることができるようになる。
As the ceramic green sheet, the volume ratio of the organic binder to the inorganic powder is determined by the ratio of the amount of the organic binder /
By using the inorganic particles having an amount of 0.25 (volume ratio), the degreasing property when firing the ceramic green sheet can be improved.

【0031】また、請求項8のパターン形成方法は、前
記被転写体が、セラミック粉末及び/又はガラス粉末を
含有する無機粉末と、有機バインダーと、可塑剤を含有
するスラリーをシート状に成形してなるセラミックグリ
ーンシートであって、可塑剤と無機粉末の体積比率が、
可塑剤量/無機粉末量≦0.15(体積比)であること
を特徴としている。
In the pattern forming method according to the present invention, the object to be transferred is formed by forming a slurry containing an inorganic powder containing a ceramic powder and / or a glass powder, an organic binder and a plasticizer into a sheet. Ceramic green sheet, wherein the volume ratio of the plasticizer and the inorganic powder is
The amount of plasticizer / the amount of inorganic powder ≦ 0.15 (volume ratio).

【0032】セラミックグリーンシートとして、可塑剤
と無機粉末の体積比率が、可塑剤量/無機粉末量≦0.
15(体積比)のものを用いた場合にも、上記請求項8
のパターン形成方法の場合と同様に、セラミックグリー
ンシートを焼成する際の脱脂性を高めることができるよ
うになる。
As the ceramic green sheet, the volume ratio of the plasticizer and the inorganic powder is such that the amount of the plasticizer / the amount of the inorganic powder ≦ 0.
In the case where a material having a volume ratio of 15 (volume ratio) is used, the above-mentioned claim 8 is also used.
As in the case of the pattern forming method, the degreasing property when firing the ceramic green sheet can be improved.

【0033】また、本願発明(請求項9)の回路基板の
製造方法は、請求項4〜8のいずれかに記載のパターン
形成方法により、基板上に所定のパターンを形成する工
程を具備することを特徴としている。
Further, a method of manufacturing a circuit board according to the present invention (claim 9) includes a step of forming a predetermined pattern on a substrate by the pattern forming method according to any one of claims 4 to 8. It is characterized by.

【0034】請求項4〜8のいずれかに記載のパターン
形成方法によって、基板上に所定のパターンを形成する
ことにより、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜
厚の大きいパターンを備えた、高速信号化、高密度配線
化に十分に対応可能な回路基板を確実に製造することが
できるようになる。
By forming a predetermined pattern on the substrate by the pattern forming method according to any one of claims 4 to 8, a pattern having uniformity, high shape accuracy and high dimensional accuracy, and a large film thickness is provided. Thus, it is possible to reliably manufacture a circuit board which can sufficiently cope with high-speed signal transmission and high-density wiring.

【0035】また、本願発明(請求項10)のセラミッ
ク多層基板の製造方法は、請求項4〜8のいずれかに記
載のパターン形成方法により、所定のパターンを形成し
たセラミックグリーンシートを積層、焼成する工程を具
備することを特徴としている。
According to the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate of the present invention (claim 10), a ceramic green sheet on which a predetermined pattern is formed is laminated and fired by the pattern forming method according to any one of claims 4 to 8. It is characterized by having a step of performing.

【0036】請求項4〜8のいずれかに記載のパターン
形成方法により、所定のパターンを形成したセラミック
グリーンシートを積層、焼成する工程を経ることによ
り、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚の大き
いパターンを備えた、高速信号化、高密度配線化に十分
に対応可能なセラミック多層基板を確実に製造すること
ができるようになる。
According to the method for forming a pattern according to any one of claims 4 to 8, a ceramic green sheet on which a predetermined pattern is formed is laminated and fired, so that the ceramic green sheet is uniform, has high shape accuracy and high dimensional accuracy. It is possible to reliably manufacture a ceramic multilayer substrate having a pattern having a large thickness and capable of sufficiently responding to high-speed signal transmission and high-density wiring.

【0037】また、本願発明(請求項11)の回路基板
は、請求項9記載の回路基板の製造方法により製造され
たものであることを特徴としている。
The circuit board according to the present invention (claim 11) is manufactured by the method for manufacturing a circuit board according to claim 9.

【0038】請求項9の方法により製造された回路基板
は、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚の大き
いパターンを備えており、高速信号化、高密度配線化に
十分に対応可能な特性を実現することができる。
The circuit board manufactured by the method according to the ninth aspect is uniform, has a high pattern accuracy and dimensional accuracy, and has a pattern with a large film thickness, and can sufficiently cope with high-speed signal and high-density wiring. Characteristics can be realized.

【0039】また、本願発明(請求項12)のセラミッ
ク多層基板は、請求項10記載のセラミック多層基板の
製造方法により製造されたものであることを特徴として
いる。
A ceramic multilayer substrate according to the present invention (claim 12) is manufactured by the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 10.

【0040】請求項10の方法により製造されたセラミ
ック多層基板は、均一で、形状精度及び寸法精度が高
く、膜厚の大きいパターンを備えており、高速信号化、
高密度配線化に十分に対応可能な特性を実現することが
できる。
The ceramic multilayer substrate manufactured by the method according to the tenth aspect is uniform, has a high pattern accuracy and high dimensional accuracy, and has a pattern with a large film thickness.
Characteristics that can sufficiently cope with high-density wiring can be realized.

【0041】以下に、本願発明についてさらに詳しく説
明する。例えば、図1に示すように、被転写体3に支持
体1上のパターン2を転写するには、圧着時に、支持体
1とパターン2の間の接着力Fよりも、パターン2と
被転写体3の間の接着力Fのほうが大きいという要件
を備えていることが必要になる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. For example, as shown in FIG. 1, to transfer the pattern 2 on the support 1 to the transfer target 3, the pressure applied to the pattern 2 may be smaller than the adhesive force F 1 between the support 1 and the pattern 2 during pressing. it becomes necessary and a requirement that the larger the adhesion force F 2 between the transfer member 3.

【0042】また、被転写体3がセラミックグリーンシ
ートである場合、セラミックグリーンシート3が破損し
ないためには、さらに、支持体1とセラミックグリーン
シート3の間の接着力Fよりも、セラミックグリーン
シート3の引張強度Fのほうが大きいという要件を備
えていることが必要になる(図1)。
When the transfer object 3 is a ceramic green sheet, in order to prevent the ceramic green sheet 3 from being damaged, the ceramic green sheet 3 is further required to have an adhesive force F 3 between the support 1 and the ceramic green sheet 3. it becomes necessary and a requirement that the larger the tensile strength F 4 of the seat 3 (FIG. 1).

【0043】図2に示すように、支持体1上に液滴4
(例えば、ペースト組成物5)を滴下したとき、液滴
(液体)4の表面張力をγ、支持体1の表面張力をγ
、液滴(液体)4と支持体1の界面張力をγSLとす
ると、図2(a)に示すように、接触角θで平衡に達す
る。
As shown in FIG. 2, the droplets 4
When, for example, the paste composition 5 is dropped, the surface tension of the droplet (liquid) 4 is γ L , and the surface tension of the support 1 is γ
S, if the interfacial tension of the droplet (liquid) 4 and the support 1 and gamma SL, as shown in FIG. 2 (a), reaches an equilibrium contact angle theta.

【0044】また、図2(b)に示すように、支持体1上
にペースト組成物5を塗布した場合、接触角θ(図2
(a))で平衡に達しようとする力Fと、支持体1上に
塗布されたペースト組成物5が原形を保持しようとする
抵抗力Fが平衡であるとき、支持体1上でペースト組
成物5が液滴状にならず、均一な層状となる(図2
(b))。
As shown in FIG. 2B, when the paste composition 5 is applied on the support 1, the contact angle θ (FIG.
the force F 5 to try to reach equilibrium (a)), when the paste composition 5 is applied on the support 1 is a resistance force F 6 to be holding the original equilibrium, on the support 1 The paste composition 5 does not form droplets but forms a uniform layer (FIG. 2).
(b)).

【0045】一方、塗布されたペースト組成物5を乾燥
させる工程で、ペースト組成物5の温度が上昇して粘度
が低下すると、抵抗力Fの上限値F60が接触角θ
(図2(a))で平衡に達しようとする力Fよりも小さ
くなるため、FとFの平衡が崩れ、ペースト組成物
5が液滴状になってしまう(図示せず)という現象が生
じる。
On the other hand, in the step of drying the paste composition 5 is applied, the temperature of the paste composition 5 is viscosity decreases increased, the upper limit value F 60 of the resistance force F 6 the contact angle θ
To become smaller than the force F 5 to try to reach equilibrium (FIG. 2 (a)), collapsed equilibrium F 5 and F 6, the paste composition 5 (not shown) would become the droplets Phenomenon occurs.

【0046】したがって、支持体1上にパターン2(ペ
ースト組成物5の塗布物)を形成して被転写体3に転写
するためには、F<F、かつ、F<F60の要件
を満たすことが必要になる。
Therefore, in order to form the pattern 2 (the coated material of the paste composition 5) on the support 1 and transfer the pattern 2 to the transfer target 3, the conditions of F 1 <F 2 and F 5 <F 60 are satisfied. You need to meet the requirements.

【0047】なお、支持体1の表面処理が十分に行われ
ているほど(表面処理が強いほど)、支持体1とパター
ン2の間の接着力Fは小さく、塗布されたペースト組
成物5が接触角θ(図2(a))で平衡に達しようとする
力Fが大きくなる。
The more the surface treatment of the support 1 is performed (the stronger the surface treatment), the smaller the adhesive force F 1 between the support 1 and the pattern 2 becomes, and the more the paste composition 5 is applied. There contact angle θ force F 5 to try to reach equilibrium (FIG. 2 (a)) increases.

【0048】また、F60はペースト組成物5の粘性に
由来するものであり、乾燥時低ずり粘度が高いほど大き
くなる傾向がある。
[0048] Further, F 60 is derived from the viscosity of the paste composition 5, the low shear viscosity tends to be large higher during drying.

【0049】すなわち、支持体上にパターンを形成して
被転写体に転写するには、支持体の表面処理とペースト
組成物の乾燥時低ずり粘度を、F<F、かつ、F
<F 60となるようにすればよい。そして、そのために
は、ペースト組成物に対する接触角が所定の範囲にある
パターン形成用支持体を用いる方法もあるが、本願発明
のように、ペースト組成物に対する接触角が30度以上
であるような支持体を使用し、かつ、通常では、F
、F>F60となるところを、乾燥時低ずり粘度
が30Pa・s以上であるようなペースト組成物を使用
することにより、F<F60の要件を満たすことが可
能になる。
That is, a pattern is formed on a support
To transfer to the transfer object, surface treatment of the support and paste
The low shear viscosity of the composition when dry1<F2And F5
<F 60What is necessary is just to make it. And for that
Has a contact angle with respect to the paste composition within a predetermined range.
Although there is a method using a support for pattern formation, the present invention
The contact angle to the paste composition is 30 degrees or more
And usually uses F1<
F2, F5> F60Low shear viscosity when dry
Using a paste composition having a viscosity of 30 Pa · s or more
By doing, F5<F60Can meet the requirements of
It will work.

【0050】上述のように、本願発明のパターン形成用
支持体及びペースト組成物を用いたパターン形成方法に
よれば、支持体上において、形成したパターンの形状
を、乾燥時(昇温時)にも確実に保持することが可能に
なり、このパターンを転写することにより、セラミック
グリーンシートなどの被転写体上に均一なパターンを形
成することが可能になる。
As described above, according to the pattern forming method using the pattern forming support and the paste composition of the present invention, the shape of the formed pattern is changed on the support during drying (when the temperature is raised). Can be reliably held, and by transferring this pattern, a uniform pattern can be formed on a transfer target such as a ceramic green sheet.

【0051】[0051]

【発明の実施の形態】まず、本願発明において使用され
るパターン形成用支持体(以下、単に「支持体」ともい
う)について説明する。本願発明において好適に用いる
ことが可能なパターン形成用支持体としては、例えば、
ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ナイ
ロンフィルム、ポリスチレンフィルムなどのフィルム状
支持体が例示される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a support for pattern formation (hereinafter simply referred to as "support") used in the present invention will be described. Examples of the pattern forming support that can be suitably used in the present invention include, for example,
Film-like supports such as polyester films, polypropylene films, nylon films, and polystyrene films are exemplified.

【0052】また、パターン形成用支持体の表面処理の
方法としては、例えば、支持体上に剥離剤を塗布する方
法やコロナ処理を行う方法などが好適に用いられる。
As the surface treatment method of the pattern forming support, for example, a method of applying a release agent on the support or a method of performing a corona treatment is suitably used.

【0053】剥離剤としては、シリコンワックス、パラ
フィンワックス、アミドワックス、テフロン(登録商
標)ワックス、カルナバワックス、ポリエチレンワック
スなどのワックス類、アミノ変性、エポキシ変性、OH
変性、COOH変性、触媒硬化型、光硬化型、熱硬化型
のシリコンオイル、シリコン樹脂、フッ素系樹脂、メラ
ミン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂などが好適に用いられる。これらの表面処
理を行うことにより、ペースト組成物に対する支持体の
接触角を制御することが可能になる。
As the release agent, waxes such as silicone wax, paraffin wax, amide wax, Teflon (registered trademark) wax, carnauba wax, polyethylene wax, amino-modified, epoxy-modified, OH
Modification, COOH modification, catalyst curing type, light curing type, heat curing type silicone oil, silicone resin, fluorine resin, melamine resin, polyolefin resin, polyester resin,
Epoxy resins and the like are preferably used. By performing these surface treatments, it is possible to control the contact angle of the support with the paste composition.

【0054】また、本願発明における表面処理の方法と
しては、例えば、シンジオタクティックポリスチレンと
ゴムを混合し、フィルム状に成形して得られたポリスチ
レンフィルムにおいて、シンジオタクティックポリスチ
レンとゴムの混合比率を変化させる方法を用いることが
可能であり、この方法によっても、ペースト組成物に対
する支持体の接触角を制御することができる。
As a surface treatment method in the present invention, for example, in a polystyrene film obtained by mixing syndiotactic polystyrene and rubber and forming a film, the mixing ratio of syndiotactic polystyrene and rubber is adjusted. It is possible to use a changing method, and this method can also control the contact angle of the support with the paste composition.

【0055】なお、ペースト組成物は粘度が高いため、
ペースト組成物そのものを用いて、ペースト組成物に対
する支持体の接触角を測定することは相当な時間を要す
る。しかし、ペースト組成物中の不溶分(無機粉末な
ど)は、ペースト組成物に対する支持体の接触角に影響
を与えない。したがって、ペースト組成物に対する支持
体の接触角を測定するには、ペースト組成物から不溶分
を除いて粘度が低くなったものに対する支持体の接触角
を測定すればよい。
Since the paste composition has a high viscosity,
Measuring the contact angle of the support with the paste composition using the paste composition itself requires a considerable amount of time. However, insoluble components (such as inorganic powder) in the paste composition do not affect the contact angle of the support with the paste composition. Therefore, in order to measure the contact angle of the support with the paste composition, the contact angle of the support with respect to the paste composition whose viscosity has been reduced by removing insoluble components may be measured.

【0056】本願発明におけるペースト組成物に対する
支持体の接触角は、20℃において、協和界面科学
(株)製自動接触角計CA−Z型を使用して、ペースト
組成物から不溶分を除いたものを、支持体上に5μl
(マイクロリットル)滴下した際に測定される接触角の
値である。
The contact angle of the support with the paste composition in the present invention was 20 ° C., and insoluble matter was removed from the paste composition using an automatic contact angle meter CA-Z manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. Put 5 μl on the support
(Microliter) It is the value of the contact angle measured when dropped.

【0057】表面処理を行うことによってペースト組成
物に対する接触角を30度以上に制御した支持体を用い
ることにより、スクリーン印刷法によるパターン形成で
は、ペースト組成物の昇温をともなう乾燥工程において
も、パターン形状を保持することができる。また、感光
性ペーストを用いた場合にも、乾燥工程で、パターン形
状が変化することを防止して、所定のパターン形状を保
持することができる。
By using a support in which the contact angle with the paste composition is controlled to 30 degrees or more by performing the surface treatment, in the pattern formation by the screen printing method, even in the drying step involving the temperature rise of the paste composition, The pattern shape can be maintained. Further, even when the photosensitive paste is used, it is possible to prevent the pattern shape from changing in the drying step, and to maintain a predetermined pattern shape.

【0058】次に、本願発明において使用されるペース
ト組成物について説明する。本願発明に使用されるペー
スト組成物は、無機粉末、有機バインダー、有機溶剤な
どを、3本ロールミルなどを使って混練もしくは混合す
ることにより得られる。本願発明のペースト組成物中の
無機粉末としては、導電性金属粉末、セラミック粉末、
ガラス粉末などを用いることができる。
Next, the paste composition used in the present invention will be described. The paste composition used in the present invention is obtained by kneading or mixing an inorganic powder, an organic binder, an organic solvent, and the like using a three-roll mill or the like. As the inorganic powder in the paste composition of the present invention, conductive metal powder, ceramic powder,
Glass powder or the like can be used.

【0059】本願発明に使用されるペースト組成物にお
いて、無機粉末として好適に用いることが可能な導電性
金属粉末としては、金、銀、銅、白金、アルミニウム、
パラジウム、ニッケル、モリブデン、タングステンなど
の単体金属粉末、上記金属の合金粉末、銅などの卑金属
粉末表面に銀などの貴金属を被覆したものなどが例示さ
れる。
In the paste composition used in the present invention, gold, silver, copper, platinum, aluminum, and the like can be used as the conductive metal powder which can be suitably used as the inorganic powder.
Examples thereof include simple metal powders such as palladium, nickel, molybdenum, and tungsten, alloy powders of the above metals, and base metal powders such as copper coated with a noble metal such as silver.

【0060】本願発明に使用されるペースト組成物にお
いて、無機粉末として用いることが可能なセラミック粉
末としては、Alなどの絶縁性セラミック粉末、
BaTiOなどの誘電体セラミック粉末、ニッケル亜
鉛フェライト、ニッケル亜鉛銅フェライトなどのフェラ
イト系粉末、RuO、PbRu、Mn・Co
・Niの複合酸化物などの高抵抗セラミック粉末、PZ
Tなどの圧電体セラミック粉末などが挙げられる。
In the paste composition used in the present invention, ceramic powders usable as inorganic powders include insulating ceramic powders such as Al 2 O 3, and the like.
Dielectric ceramic powder such as BaTiO 3 , ferrite powder such as nickel zinc ferrite, nickel zinc copper ferrite, RuO 2 , Pb 2 Ru 2 O 7 , Mn · Co
・ High resistance ceramic powder such as Ni composite oxide, PZ
And a piezoelectric ceramic powder such as T.

【0061】本願発明に使用されるペースト組成物にお
いて、無機粉末として用いることが可能なガラス粉末と
しては、SiO−PbO系、SiO−ZnO系、S
iO −B系、SiO−KO系、SiO
NaO系、SiO−PbO−B系、SiO
−ZnO−B系、SiO−Bi−B
系、SiO−KO−B系、SiO−Na
O−B系などが挙げられる。
The paste composition used in the present invention is
Glass powder that can be used as an inorganic powder
For example, SiO2-PbO-based, SiO2-ZnO-based, S
iO 2-B2O3System, SiO2-K2O-based, SiO2
Na2O-based, SiO2-PbO-B2O3System, SiO2
-ZnO-B2O3System, SiO2-Bi2O3-B2O
3System, SiO2-K2OB2O3System, SiO2-Na
2OB2O3And the like.

【0062】本願発明に使用されるペースト組成物にお
ける有機バインダーとしては、エチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロー
ス、酢酸セルロース、酪酸セルロースなどのセルロース
系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニル
ピロリドンなどのビニル系樹脂、ポリ(メタ)アクリレ
ート、ポリ(メタ)アクリルアミドなどのアクリル系樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド
系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。
The organic binder in the paste composition used in the present invention includes cellulose resins such as ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, ethyl hydroxy cellulose, hydroxypropyl cellulose, methyl cellulose, cellulose acetate and cellulose butyrate, polyvinyl alcohol and polyvinyl acetate. And vinyl resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl acetal and polyvinyl pyrrolidone, acrylic resins such as poly (meth) acrylate and poly (meth) acrylamide, polyurethane resins, polyamide resins, polyimide resins and polyester resins. .

【0063】本願発明に使用されるペースト組成物にお
ける有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、トルエ
ン、キシレン、シクロヘキサノンなどのアノン系、塩化
メチレン、3−メトキシブチルアセテート、エチレング
リコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコール
モノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコ
ールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコー
ルモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノ
アルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコー
ルモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジ
プロピレングリコール、ペンタメチレングリコールなど
のグリコール類、α―テルピネオール、もしくはβ―テ
ルピネオールなどのテルペン類などが挙げられる。使用
する際の便宜上、有機溶剤としては沸点150℃以上の
ものが望ましい。
Examples of the organic solvent in the paste composition used in the present invention include anones such as methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, cyclohexanone, methylene chloride, 3-methoxybutyl acetate, and ethylene glycol monoester. Alkyl ethers, ethylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ethers, dipropylene Glycol monoalkyl ether acetates, ethylene glycol, diethylene glycol Lumpur, propylene glycol, dipropylene glycol, glycols such as pentamethylene glycol, alpha-terpineol or the like terpenes such as β- terpineol and the like. For convenience in use, an organic solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is desirable.

【0064】本願発明において使用されるペースト組成
物には、チキソトロピック剤、ゲル化防止剤、消泡剤、
可塑剤、分散剤、染料、顔料、界面活性剤、重合禁止
剤、剥離剤などを適宜添加することができる。
The paste composition used in the present invention includes a thixotropic agent, an anti-gelling agent, an antifoaming agent,
Plasticizers, dispersants, dyes, pigments, surfactants, polymerization inhibitors, release agents and the like can be added as appropriate.

【0065】なお、ペースト組成物に添加することが可
能なチキソトロピック剤としては、一般に「増粘・ダレ
止・沈降防止剤」や「ダレ止・沈降防止剤」、「顔料湿
潤・分散・沈降防止剤」と言われているものを使用する
ことが可能で、「増粘・ダレ止・沈降防止剤」として
は、植物重合油系、ポリエーテル・エステル型界面活性
剤、水添ひまし油系、水添ひまし油系とアマイド系の混
合物、脂肪酸アマイドワックス系などが挙げられる。
The thixotropic agent that can be added to the paste composition is generally a “thickening / sagging / settling inhibitor”, a “sagging / settling inhibitor”, a “pigment wetting / dispersion / sedimentation agent”. It is possible to use what is called `` inhibitors '', and as `` thickening, sagging and sedimentation inhibitors '', vegetable polymerized oils, polyether-ester surfactants, hydrogenated castor oils, Examples thereof include a mixture of hydrogenated castor oil and amide, and a fatty acid amide wax.

【0066】また、「ダレ止・沈降防止剤」としては、
特殊脂肪酸系、硫酸エステル型・アニオン系界面活性
剤、酸化ポリエチレン系、酸化ポリエチレン系とアマイ
ド系の混合物などを使用することが可能で、「顔料湿潤
・分散・沈降防止剤」としては、脂肪酸系多価カルボン
酸、高分子ポリエステルのアミン塩、ポリエーテル・エ
ステル型アニオン系界面活性剤、高分子量ポリカルボン
酸の長鎖アミン塩、長鎖ポリアミノアマイドと高分子酸
ポリエステルの塩、長鎖ポリアミノアマイドとリン酸の
塩、特殊変性ポリアマイド系、リン酸エステル系界面活
性剤、高分子ポリエステル酸のアマイドアミン塩などを
使用することが可能である。
Further, as the “sagging / settling preventing agent”,
It is possible to use special fatty acid type, sulfate ester type / anionic type surfactant, polyethylene oxide type, a mixture of polyethylene oxide type and amide type, etc. Polycarboxylic acid, amine salt of high molecular weight polyester, polyether / ester type anionic surfactant, long chain amine salt of high molecular weight polycarboxylic acid, salt of long chain polyaminoamide and high molecular weight polyester, long chain polyaminoamide And a salt of phosphoric acid, a specially modified polyamide, a phosphate ester surfactant, an amide amine salt of a high molecular polyester acid, and the like.

【0067】また、その他、ヒドロキシエチルセルロー
ス、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アルギン酸ソーダ、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、キサ
ンタンガム、ポリビニルアルコール、ポリエーテルワレ
ン変性物、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸
エステル、モンモタロナイト、ステアリン酸アルミニウ
ム、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸アルミニウム、デキ
ストリン脂肪酸エステル、ジベンジリデンソルビトー
ル、植物油系重合油、表面処理炭酸カルシウム、有機ベ
ントナイト、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ
などの微粉末などをチキソトロピック剤として使用する
ことが可能である。
In addition, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose,
Sodium alginate, casein, sodium caseinate, xanthan gum, polyvinyl alcohol, modified polyether warren, polyacrylate, polymethacrylate, montmoronite, aluminum stearate, zinc stearate, aluminum octylate, dextrin fatty acid ester, Dibenzylidene sorbitol, vegetable oil-based polymerized oil, surface-treated calcium carbonate, organic bentonite, silica, titania, zirconia, fine powder of alumina and the like can be used as the thixotropic agent.

【0068】なお、本願発明に使用することが可能なペ
ースト組成物の、乾燥時低ずり粘度、すなわち、乾燥温
度でのずり速度4s−1における粘度は、チキソトロピ
ック剤添加量や有機溶剤量によって制御することが可能
である。本願発明に使用されるペースト組成物の乾燥温
度は、通常、50〜150℃であり、パターン形成用支
持体の耐熱温度などに応じて自由に変えることができ
る。また、本願発明における乾燥温度での、ずり速度4
−1における粘度(乾燥時低ずり粘度)は、Carri-Me
d.,Ltd(Dorking,Surrey,England)製CSLシリーズス
トレス制御式レオメータを使用して、ペースト組成物の
乾燥温度において、2cmφ、1°のコーンを用いて測定
した、ずり速度4s−1における粘度である。
The low shear viscosity during drying, that is, the viscosity at a shear rate of 4 s -1 at the drying temperature of the paste composition that can be used in the present invention depends on the amount of the thixotropic agent added and the amount of the organic solvent. It is possible to control. The drying temperature of the paste composition used in the present invention is usually 50 to 150 ° C., and can be freely changed according to the heat-resistant temperature of the support for pattern formation. In addition, the shear rate 4 at the drying temperature in the present invention.
The viscosity at s -1 (low shear viscosity when dry) was determined by Carri-Me
d., Ltd. (Dorking, Surrey, England) CSL series stress controlled rheometer at a drying temperature of the paste composition, measured using a cone of 2 cmφ and 1 °, and a viscosity at a shear rate of 4 s −1 . It is.

【0069】本願発明においては、ペースト組成物の乾
燥時低ずり粘度を30Pa・s以上とすることにより、
ペースト組成物に対する接触角が30度以上であるパタ
ーン形成用支持体上であっても、スクリーン印刷法にあ
っては、乾燥時にパターン形状を保持でき、感光性ペー
スト法にあっては、乾燥時に感光性ペースト塗布物を均
一なままとすることができる。
In the present invention, by setting the low shear viscosity of the paste composition when dried to 30 Pa · s or more,
Even on a patterning support having a contact angle to the paste composition of 30 degrees or more, in the case of the screen printing method, the pattern shape can be maintained during drying, and in the case of the photosensitive paste method, the pattern shape can be maintained during drying. The photosensitive paste coating can remain uniform.

【0070】また、本願発明に使用されるペースト組成
物に添加することが可能な可塑剤としては、ジメチルフ
タレート、ジ−n−オクチルフタレート、ビス−2−エ
チルヘキシルフタレートなどのノルマルアルキルフタレ
ート類、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジイソデ
シルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノ
ニルフタレート、エチルフタルエチルグリコレート、ブ
チルフタリルブチルグリコレートなどのフタル酸エステ
ル類、トリ−2−エチルヘキシルトリメリテート、トリ
−n−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメ
リテート、トリイソデシルトリメリテートなどのトリメ
リット酸エステル類、ジメチルアジペート、ジブチルア
ジペート、ジ−2−エチルヘキシルアジペート、ジイソ
デシルアジペート、ジブチルジグリコールアジペート、
ジ−2−エチルヘキシルアゼテート、ジメチルセバケー
ト、ジ−2−エチルヘキシルセバケート、ジ−2−エチ
ルヘキシルマレート、アセチル−トリ−(2−エチルヘ
キシル)シトレート、アセチル−トリ−n−ブチルシト
レート、アセチルトリブチルシトレートなどの脂肪酸二
塩基酸エステル類、ポリエチレングリコールベンゾエー
ト、トリエチレングリコール−ジ−(2−エチルヘキソ
エート)、ポリグリコールエーテルなどのグリコール誘
導体、グリセロールトリアセテート、グリセロールジア
セチルモノラウレートなどのグリセリン誘導体、セバシ
ン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸などからな
るポリエステル類、分子量300〜3000の低分子量
ポリエーテル、同低分子量ポリ−α−スチレン、同低分
子量ポリスチレン、トリメチルホスフェート、トリエチ
ルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリ−2−
エチルヘキシルホスフェート、トリブトキシエチルホス
フェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホ
スフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジ
フェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェ
ート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェートなど
の正リン酸エステル類、メチルアセチルリシノレートな
どのリシノール酸エステル類、ポリ−1,3−ブタンジ
オールアジペート、エポキシ化大豆油などのポリエステ
ル、エポキシ化エステル類、グリセリントリアセテー
ト、2−エチルヘキシルアセテートなどの酢酸エステル
類などが挙げられる。
Examples of the plasticizer that can be added to the paste composition used in the present invention include normal alkyl phthalates such as dimethyl phthalate, di-n-octyl phthalate and bis-2-ethylhexyl phthalate; Phthalic acid esters such as 2-ethylhexyl phthalate, diisodecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethyl phthalethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, tri-2-ethylhexyl trimellitate, tri-n-alkyltrimethyl phthalate Trimellitates such as melitate, triisononyl trimellitate, and triisodecyl trimellitate, dimethyl adipate, dibutyl adipate, di-2-ethylhexyl adipate, diisodecyl adipate Dibutyl glycol adipate,
Di-2-ethylhexyl acetate, dimethyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, di-2-ethylhexyl malate, acetyl-tri- (2-ethylhexyl) citrate, acetyl-tri-n-butyl citrate, acetyl Fatty acid dibasic acid esters such as tributyl citrate, glycol derivatives such as polyethylene glycol benzoate, triethylene glycol di- (2-ethylhexoate) and polyglycol ether; glycerin such as glycerol triacetate and glycerol diacetyl monolaurate Derivatives, polyesters composed of sebacic acid, adipic acid, azelaic acid, phthalic acid, etc., low molecular weight polyether having a molecular weight of 300 to 3000, low molecular weight poly-α-styrene, low molecular weight polystyrene Trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tri-2
Orthophosphates such as ethylhexyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, etc., and methyl acetyl ricinolate Ricinoleic acid esters, such as poly-1,3-butanediol adipate, polyesters such as epoxidized soybean oil, epoxidized esters, and acetic acid esters such as glycerin triacetate and 2-ethylhexyl acetate.

【0071】本願発明に使用されるペースト組成物にお
いて、銅、ホウ素、鉛などの多価金属成分が無機粉末中
に含まれる場合には、有機バインダ中の酸性官能基と反
応してゲル化を生じることがある。無機添加成分中の多
価金属成分と有機バインダ中の酸性官能基との反応を防
止するには、以下に挙げる3種類の添加剤のうち1種類
以上を添加することが有効である。 (1)アニオン吸着性物質 (2)沸点178℃以上のアルコール (3)脂肪酸アミド
In the paste composition used in the present invention, when a polyvalent metal component such as copper, boron and lead is contained in the inorganic powder, it reacts with acidic functional groups in the organic binder to cause gelation. May occur. In order to prevent the reaction between the polyvalent metal component in the inorganic additive component and the acidic functional group in the organic binder, it is effective to add one or more of the following three types of additives. (1) Anion-adsorbing substance (2) Alcohol with boiling point of 178 ° C or higher (3) Fatty acid amide

【0072】上記(1)のアニオン吸着性物質としては、
無機微粒子や有機微粒子の形態をとるものであってもよ
い。無機微粒子としては、ハイドロキシアパタイト、ハ
イドロタルサイト、リン酸ジルコニウム、含水酸化アン
チモンなどが好適である。また、有機微粒子としては、
アニオン交換性樹脂などを用いることが可能で、例え
ば、(a)ジビニルベンゼンと、アクリレート、メタクリ
レート又はアクリロニトリルとの共重合体を母体に、1
級、2級、3級又は4級アミノ基をイオン交換基として
導入したもの、(b)トリビニルベンゼンと、アクリレー
ト、メタクリレート又はアクリロニトリルとの共重合体
を母体に、1級、2級、3級又は4級アミノ基をイオン
交換基として導入したもの、(c)トリメチロールプロパ
ントリメタクリル酸エステルと、アクリレート、メタク
リレート又はアクリロニトリルとの共重合体を母体に、
1級、2級、3級又は4級アミノ基をイオン交換基とし
て導入したもの、(d)エチレングリコールジメタクリル
酸エステルと、アクリレート、メタクリレート又はアク
リロニトリルとの共重合体を母体に、1級、2級、3級
又は4級アミノ基をイオン交換基として導入したものな
どが挙げられる。
As the anion-adsorbing substance of the above (1),
It may be in the form of inorganic fine particles or organic fine particles. As the inorganic fine particles, hydroxyapatite, hydrotalcite, zirconium phosphate, hydrous antimony oxide, and the like are preferable. In addition, as organic fine particles,
An anion exchange resin can be used.For example, (a) a copolymer of divinylbenzene and acrylate, methacrylate or acrylonitrile is
Primary, secondary, tertiary or tertiary or tertiary or quaternary amino groups introduced as an ion exchange group; (b) a copolymer of trivinylbenzene and acrylate, methacrylate or acrylonitrile; What introduced a quaternary or quaternary amino group as an ion-exchange group, (c) trimethylolpropane trimethacrylic acid ester, and a copolymer of acrylate, methacrylate or acrylonitrile as a base,
A primary, secondary, tertiary or quaternary amino group introduced as an ion exchange group, (d) a copolymer of ethylene glycol dimethacrylate and acrylate, methacrylate or acrylonitrile as a parent, Those obtained by introducing a secondary, tertiary or quaternary amino group as an ion-exchange group are exemplified.

【0073】また、上記(2)の沸点が178℃以上のア
ルコールとしては、1価、多価いずれのアルコールを使
用することも可能である。1価のアルコールとしては、
1−オクチルアルコール、2−オクチルアルコール、ノ
ニルアルコール、デシルアルコール、1−メチルシクロ
ヘキサノール、トリメチルシクロヘキサノール、エチレ
ングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールイソアミルエーテル、エチレングリコー
ルフェニルエーテル、エチレングリコールベンジルエー
テル、トリメチルヘキサノール、テトラヒドロフルフリ
ルアルコール、クレゾール、乳酸ブチル、ベンジルアル
コール、ヒドロキシエチルアクリレート、フェネチルア
ルコール、メルカプトブタノール、ヒドロキシエチルメ
タクリレート、ヒドロキシエチルピペラジン、シクロヘ
キサノンオキシム、ヒドロキシメトキシアリルベンゼ
ン、ヒドロキシメトキシベンズアルデヒド、ヒドロキシ
メチルピペラジン、ヒドロキシプロピオニトリル、ヒド
ロキシアセトナフトン、ヒドロキシベンズアルデヒド、
ヒドロキシアセトフェノン、ヒドロキシベンゾイミダゾ
ール、フェニルフェノール、ヒドロキシ安息香酸、ヒド
ロキシベンゾフェノン、ベンゾイン、チモール、ヒドロ
キシメトキシ安息香酸、ヒドロキシメチル安息香酸、ヒ
ドロキシメチルピロン、ヒドロキシナフトエ酸、ヒドロ
キシナフトキノン、ヒドロキシノルボルネンジカルボキ
シイミド、ヒドロキシフェニル酢酸、ヒドロキシフェニ
ルグリシン、ヒドロキシフタルイミド、ヒドロキシピバ
リン酸ネオペンチルグリコールエステル、ヒドロキシプ
ロピオフェノン、ヒドロキシステアリン酸、ヒドロキシ
こはく酸イミド、ヒドロキシトルイル酸、ペンタエリス
リトールジアクリレートモノステアレートもしくはその
混合物などが挙げられる。
As the alcohol having a boiling point of 178 ° C. or higher in (2), any of monohydric and polyhydric alcohols can be used. As a monohydric alcohol,
1-octyl alcohol, 2-octyl alcohol, nonyl alcohol, decyl alcohol, 1-methylcyclohexanol, trimethylcyclohexanol, ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether,
Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isoamyl ether, ethylene glycol phenyl ether, ethylene glycol benzyl ether, trimethylhexanol, tetrahydro Furfuryl alcohol, cresol, butyl lactate, benzyl alcohol, hydroxyethyl acrylate, phenethyl alcohol, mercaptobutanol, hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl piperazine, cyclohexanone oxime, hydroxymethoxyallyl benzene, hydroxymeth Shi benzaldehyde, hydroxymethyl piperazine, hydroxypropionitrile, hydroxyacetophenone Na futon, hydroxybenzaldehyde,
Hydroxyacetophenone, hydroxybenzimidazole, phenylphenol, hydroxybenzoic acid, hydroxybenzophenone, benzoin, thymol, hydroxymethoxybenzoic acid, hydroxymethylbenzoic acid, hydroxymethylpyrone, hydroxynaphthoic acid, hydroxynaphthoquinone, hydroxynorbornenedicarboximide, hydroxyphenyl Examples include acetic acid, hydroxyphenylglycine, hydroxyphthalimide, neopentylglycol hydroxypivalate, hydroxypropiophenone, hydroxystearic acid, hydroxysuccinimide, hydroxytoluic acid, pentaerythritol diacrylate monostearate or a mixture thereof.

【0074】多価のアルコールとしては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、トリメチレングリコー
ル、ブチレングリコール、テトラメチレングリコール、
ペンタメチレングリコール、ブテンジオール、ヘキサメ
チレングリコール、ヘプタンジオール、オクタンジオー
ル、ノナンジオール、デカンジオール、ジエチレングリ
コール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコ
ール、トリプロピレングリコール、グリセリン、ヘキサ
ントリオール、ヘプタントリオール、トレイトール、エ
リトリトール、アラビトール、キシリトール、リビトー
ル、アドニトール、グルシトール、マンニトール、イジ
トール、タリトール、ガラクチトール、マリトール、ペ
ルセイトール、ボレミトールなどが挙げられる。
The polyhydric alcohols include ethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, butylene glycol, tetramethylene glycol,
Pentamethylene glycol, butenediol, hexamethylene glycol, heptanediol, octanediol, nonanediol, decanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol, glycerin, hexanetriol, heptanetriol, threitol, erythritol, Examples include arabitol, xylitol, ribitol, adonitol, glucitol, mannitol, iditol, talitol, galactitol, malitol, perseitol, bolemitol and the like.

【0075】また、上記(3)の脂肪酸アミドとしては、
酢酸アミド、酪酸アミド、プロピオン酸アミド、吉草酸
アミド、ヘキサン酸アミド、ヘプチル酸アミド、オクタ
ン酸アミド、デカン酸アミド、ノナン酸アミド、ステア
リン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミドなど
が挙げられる。
Further, the fatty acid amide of the above (3) includes:
Examples thereof include acetic amide, butyric amide, propionic amide, valeric amide, hexanoic amide, heptyl amide, octanoic amide, decanoic amide, nonanoic amide, stearic amide, oleic amide, and erucamide.

【0076】また、本願発明に使用されるペースト組成
物を感光性ペーストとするために添加される感光性有機
成分としては、公知の光重合性化合物もしくは光変性化
合物を用いることが可能であり、例えば、(1)不飽和基
などの反応性官能基を有するモノマーやオリゴマーと、
芳香族カルボニル化合物などの光ラジカル発生剤との混
合物、(2)芳香族ビスアジドとホルムアルデヒドとの縮
合体などのいわゆるジアゾ樹脂、(3)エポキシ化合物な
どの付加重合性化合物とジアリルヨウドニウム塩などの
光酸発生剤との混合物、(4)ナフトキノンジアジド系化
合物などが挙げられる。これらのうち、特に望ましいの
は、不飽和基などの反応性官能基を含有するモノマーや
オリゴマーと芳香族カルボニル化合物などの光ラジカル
発生剤の混合物である。
As the photosensitive organic component added to make the paste composition used in the present invention into a photosensitive paste, a known photopolymerizable compound or photo-modified compound can be used. For example, (1) a monomer or oligomer having a reactive functional group such as an unsaturated group,
A mixture with a photoradical generator such as an aromatic carbonyl compound, (2) a so-called diazo resin such as a condensate of an aromatic bisazide and formaldehyde, and (3) an addition polymerizable compound such as an epoxy compound and a diallyl iodonium salt. Examples thereof include a mixture with a photoacid generator, and (4) a naphthoquinonediazide compound. Among them, particularly desirable is a mixture of a monomer or oligomer containing a reactive functional group such as an unsaturated group and a photoradical generator such as an aromatic carbonyl compound.

【0077】さらには、有機バインダーに、側鎖にカル
ボキシル基を有するアクリル系共重合体を含有させた場
合、アルカリ水溶液などの水系現像液によってパターン
を形成することが可能になるため好ましい。本願発明に
おいて使用される感光性ペーストは、ネガ型、ポジ型の
いずれであってもよい。また、有機バインダーを水溶性
にして水によって現像できるようにしてもよい。
Further, it is preferable that the organic binder contains an acrylic copolymer having a carboxyl group in a side chain since a pattern can be formed with an aqueous developing solution such as an aqueous alkaline solution. The photosensitive paste used in the present invention may be either a negative type or a positive type. Further, the organic binder may be made water-soluble so that it can be developed with water.

【0078】上記の反応性官能基を含有するモノマー・
オリゴマーとしては、ヘキサンジオールトリアクリレー
ト、トリプロピレングリコールトリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ステアリルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ラウ
リルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレー
ト、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレー
ト、トリデシルアクリレート、カプロラクトンアクリレ
ート、エトキシ化ノニルフェノールアクリレート、1,
3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジ
オールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールA
ジアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソ
シアヌレートトリアクリレート、エトキシ化トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、エト
キシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメ
タクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、1,3
−ブチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビ
スフェノールAジメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジア
クリレート、エトキシ化パラクミルフェノールアクリレ
ート、エチルヘキシルカルビトールアクリレート、N−
ビニル−2−ピロリドン、イソボルニルアクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエチスリトールヘキサア
クリレートなどが挙げられる。
A monomer containing the above reactive functional group
As the oligomer, hexanediol triacrylate, tripropylene glycol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, stearyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, lauryl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, tridecyl acrylate, Caprolactone acrylate, ethoxylated nonylphenol acrylate, 1,
3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, ethoxylated bisphenol A
Diacrylate, propoxylated neopentyl glycol diacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated glyceryl triacrylate, Pentaerythritol tetraacrylate,
Ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol di Methacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 1,3
-Butylene glycol dimethacrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, isocyanuric acid EO-modified diacrylate, ethoxylated paracumylphenol acrylate, ethylhexyl carbitol acrylate, N-
Vinyl-2-pyrrolidone, isobornyl acrylate,
Examples include polypropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaethythritol hexaacrylate, and the like.

【0079】また、上記の光ラジカル発生剤としては、
ベンジル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香
酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサ
ルファイド、ベンジルジメチルケタール、2−n−ブト
キシ−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−クロロチ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,
4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオ
キサントン、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、3,3’−ジメチル−4−メト
キシベンゾフェノン、2,4−ジメチルチオキサント
ン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−
2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−
1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2
−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ
−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−
1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリ
ノプロパン−1−オン、メチルベンゾイルフォルメー
ト、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o
−エトキシカルボニル)オキシム、2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−
1−ブタノン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)
−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサ
イド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェ
ニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。
Further, as the above-mentioned photo-radical generator,
Benzyl, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, benzyl dimethyl ketal, 2-n-butoxy-4-dimethylamino Benzoate, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,
4-diisopropylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-dimethylaminoethylbenzoate,
Ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-
2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-
1,2-diphenylethan-1-one, hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2
-Hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-
1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, methylbenzoyl formate, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o
-Ethoxycarbonyl) oxime, 2-benzyl-2-
Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)-
1-butanone, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)
-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide and the like.

【0080】なお、有機バインダーに含有させる、側鎖
にカルボキシル基を有するアクリル系共重合体として
は、例えば、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合
物を共重合させることにより製造することができる。不
飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、
マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸及びこれらの無水物
などが挙げられる。また、エチレン性不飽和化合物とし
ては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアク
リル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チルなどのメタクリル酸エステル、フマル酸モノエチル
などのフマル酸エステルなどが挙げられる。また、側鎖
にカルボキシル基を有するアクリル系共重合体として
は、以下のような形態の不飽和結合を導入したものを使
用してもよい。 (1)アクリル系共重合体の側鎖のカルボキシル基に、こ
れと反応可能な、例えばエポキシ基などの官能基を有す
るアクリル系モノマーを付加したもの。 (2)側鎖のカルボキシル基の代わりにエポキシ基が導入
されてなるアクリル系共重合体に、不飽和モノカルボン
酸を反応させた後、さらに飽和又は不飽和多価カルボン
酸無水物を導入したもの。
The acrylic copolymer having a carboxyl group in the side chain to be contained in the organic binder can be produced, for example, by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid and an ethylenically unsaturated compound. As unsaturated carboxylic acids, acrylic acid, methacrylic acid,
Maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid and anhydrides thereof are exemplified. Examples of the ethylenically unsaturated compound include acrylates such as methyl acrylate and ethyl acrylate, methacrylates such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate, and fumarate esters such as monoethyl fumarate. Further, as the acrylic copolymer having a carboxyl group in the side chain, a copolymer having an unsaturated bond introduced in the following form may be used. (1) An acrylic copolymer obtained by adding an acrylic monomer having a functional group such as an epoxy group, which can react with the carboxyl group in the side chain of the acrylic copolymer. (2) After reacting an unsaturated monocarboxylic acid with an acrylic copolymer in which an epoxy group is introduced instead of a carboxyl group in a side chain, a saturated or unsaturated polycarboxylic anhydride was further introduced. thing.

【0081】次に、本願発明に使用される被転写体につ
いて説明する。本願発明に使用される被転写体として
は、アルミナ焼成基板などの焼成基板、ガラス基板、プ
リント基板、セラミックグリーンシートなどを用いるこ
とが可能である。
Next, the transfer object used in the present invention will be described. As the transfer object used in the present invention, a fired substrate such as an alumina fired substrate, a glass substrate, a printed substrate, a ceramic green sheet, or the like can be used.

【0082】セラミックグリーンシートは、例えば、セ
ラミック粉末及び/又はガラス粉末よりなる無機粉末、
可塑剤、有機バインダー、有機溶剤などを混合して得ら
れたスラリーを、ドクターブレード法などによってシー
ト上に成形し、50〜150℃の温度で乾燥することに
より得られる。
The ceramic green sheets include, for example, inorganic powders composed of ceramic powder and / or glass powder,
A slurry obtained by mixing a plasticizer, an organic binder, an organic solvent, and the like is formed on a sheet by a doctor blade method or the like, and dried at a temperature of 50 to 150 ° C.

【0083】また、セラミックグリーンシートを構成す
るセラミック粉末としては、例えば、Alなどの
絶縁性セラミック粉末、BaTiOなどの誘電体セラ
ミック粉末、ニッケル亜鉛フェライト、ニッケル亜鉛銅
フェライトなどのフェライト系粉末、RuO、Pb
Ru、Mn・Co・Niの複合酸化物などの高抵
抗セラミック粉末、PZTなどの圧電体セラミック粉末
などを用いることが可能である。
The ceramic powder constituting the ceramic green sheet includes, for example, insulating ceramic powder such as Al 2 O 3 , dielectric ceramic powder such as BaTiO 3, and ferrite based powder such as nickel zinc ferrite and nickel zinc copper ferrite. Powder, RuO 2 , Pb 2
It is possible to use a high-resistance ceramic powder such as Ru 2 O 7 or a composite oxide of Mn, Co, and Ni, and a piezoelectric ceramic powder such as PZT.

【0084】また、セラミックグリーンシートにおいて
用いることが可能なガラス粉末としては、SiO−P
bO系、SiO−ZnO系、SiO−B系、
SiO−KO系、SiO−NaO系、SiO
−PbO−B系、SiO−ZnO−B
系、SiO−Bi−B系、SiO
O−B系、SiO−NaO−B
などが挙げられる。
In the ceramic green sheet,
The glass powder that can be used is SiO 22−P
bO system, SiO2-ZnO-based, SiO2-B2O3system,
SiO2-K2O-based, SiO2-Na2O-based, SiO2
-PbO-B2O3System, SiO2-ZnO-B2O
3System, SiO2-Bi2O3-B2O3System, SiO2
K 2OB2O3System, SiO2-Na2OB2O3system
And the like.

【0085】なお、セラミックグリーンシートを構成す
る無機粉末は、結晶化ガラス粉末、あるいはガラス・セ
ラミック粉末を含むものであることが望ましい。上述の
ようにしてセラミックグリーンシートを低温焼結化する
ことにより、比抵抗の小さな銀、銅などの低融点金属か
らなる導体層と同時焼結を行うことが可能になる。
The inorganic powder constituting the ceramic green sheet desirably contains crystallized glass powder or glass-ceramic powder. By sintering the ceramic green sheet at a low temperature as described above, it is possible to perform simultaneous sintering with a conductor layer made of a low melting point metal such as silver or copper having a small specific resistance.

【0086】また、セラミックグリーンシートに用いる
ことが可能な可塑剤としては、本願発明に使用されるペ
ースト組成物に添加することが可能な上述の可塑剤と同
様のものが挙げられる。
[0086] Examples of the plasticizer that can be used for the ceramic green sheet include the same plasticizers that can be added to the paste composition used in the present invention.

【0087】また、セラミックグリーンシートに用いる
ことが可能な有機バインダーとしては、本願発明に使用
されるペースト組成物に用いることが可能な上述の有機
バインダーと同様のものが挙げられる。
The organic binder that can be used for the ceramic green sheet includes the same organic binders that can be used for the paste composition used in the present invention.

【0088】また、セラミックグリーンシートに用いる
ことが可能な有機溶剤としては、本願発明に使用される
ペースト組成物に用いることが可能な有機溶剤と同様の
ものを挙げられるが、ペースト組成物の場合とは異な
り、使用の便宜上、沸点が問題になるようなことはな
い。
Examples of the organic solvent that can be used for the ceramic green sheet include the same organic solvents that can be used for the paste composition used in the present invention. Unlike, for convenience of use, the boiling point does not matter.

【0089】また、セラミックグリーンシートは、さら
にペースト組成物に添加することが可能なものと同様の
感光性有機成分を含有させて感光性セラミックグリーン
シートとすることも可能である。また、必要に応じて、
静電防止剤、消泡剤などを添加することも可能である。
Further, the ceramic green sheet may further contain a photosensitive organic component similar to that which can be added to the paste composition to form a photosensitive ceramic green sheet. Also, if necessary,
It is also possible to add an antistatic agent, an antifoaming agent and the like.

【0090】なお、被転写体が、セラミック粉末及び/
又はガラス粉末を含有する無機粉末と、有機バインダー
と、可塑剤を含有するスラリーをシート状に成形してな
るセラミックグリーンシートである場合において、有機
バインダーと無機粉末の体積比率が、有機バインダー量
/無機粒子量≦0.25(体積比)のものを用いること
により、セラミックグリーンシートを焼成する際の脱脂
性を高めることができる。また、セラミックグリーンシ
ートにおける可塑剤と無機粉末の体積比率を、可塑剤量
/無機粉末量≦0.15(体積比)とすることによって
も、セラミックグリーンシートを焼成する際の脱脂性を
高めることができる。
The transfer object is made of ceramic powder and / or
Alternatively, in the case of a ceramic green sheet obtained by forming a slurry containing an inorganic powder containing a glass powder, an organic binder, and a plasticizer into a sheet, the volume ratio of the organic binder to the inorganic powder is determined by the amount of the organic binder / By using the inorganic particles having an amount of 0.25 (volume ratio), the degreasing property when firing the ceramic green sheet can be improved. Also, the degreasing property when firing the ceramic green sheet can be enhanced by setting the volume ratio of the plasticizer and the inorganic powder in the ceramic green sheet to the amount of the plasticizer / the amount of the inorganic powder ≦ 0.15 (volume ratio). Can be.

【0091】但し、有機バインダー量/無機粒子量≦
0.25(体積比)、もしくは、可塑剤量/無機粉末量
≦0.15(体積比)となっているセラミックグリーン
シートを用いる場合、バインダー形成用支持体からセラ
ミックグリーンシートにパターンを転写する際、パター
ン形成用支持体とセラミックグリーンシートの接着力が
強くなり、パターン形成用支持体を剥離する際にセラミ
ックグリーンシートが破壊される場合がある。しかしな
がら、本願発明のパターン形成用支持体を用いれば、有
機バインダー量/無機粒子量≦0.25(体積比)、も
しくは、可塑剤量/無機粉末量≦0.15(体積比)と
なっているセラミックグリーンシートを用いる場合であ
っても、パターン形成用支持体とセラミックグリーンシ
ートの接着力が強くなりすぎることがなく、セラミック
グリーンシートを破壊することなくパターン形成用支持
体を剥離することができる。
Here, the amount of organic binder / the amount of inorganic particles ≦
When using a ceramic green sheet in which 0.25 (volume ratio) or plasticizer amount / inorganic powder amount ≦ 0.15 (volume ratio), the pattern is transferred from the binder-forming support to the ceramic green sheet. In this case, the adhesive strength between the pattern forming support and the ceramic green sheet is increased, and the ceramic green sheet may be broken when the pattern forming support is peeled off. However, when the support for pattern formation of the present invention is used, the amount of the organic binder / the amount of the inorganic particles ≦ 0.25 (volume ratio) or the amount of the plasticizer / the amount of the inorganic powder ≦ 0.15 (volume ratio). Even if a ceramic green sheet is used, the adhesion between the pattern forming support and the ceramic green sheet does not become too strong, and the pattern forming support can be peeled without breaking the ceramic green sheet. it can.

【0092】次に、本願発明のパターン形成方法につい
て説明する。本願発明のパターン形成用支持体に本願発
明のペースト組成物を用いてパターンを形成する方法と
しては、スクリーン印刷法、感光性ペースト法などの方
法が挙げられる。その他、パターン形成用支持体に、形
成すべきパターンの形状に対応する形状の凹部を設け、
該凹部にペースト組成物をスキージなどを用いて充填す
る方法や、フォトレジストなどを使ってパターン形成用
支持体上に凸状にパターンを形成し、パターンの形成さ
れていない部分にペースト組成物を充填する方法などを
採用することも可能である。
Next, the pattern forming method of the present invention will be described. Examples of the method for forming a pattern on the pattern forming support of the present invention using the paste composition of the present invention include methods such as a screen printing method and a photosensitive paste method. In addition, the pattern forming support is provided with a concave portion having a shape corresponding to the shape of the pattern to be formed,
A method of filling the concave portion with the paste composition using a squeegee or the like, or forming a convex pattern on a pattern forming support using a photoresist or the like, and applying the paste composition to a portion where the pattern is not formed. It is also possible to adopt a filling method or the like.

【0093】以下に、感光性ペースト法によるパターン
形成方法を、図3(a),(b)及び(c)を参照しつつ、具
体的に説明する。
Hereinafter, a pattern forming method using the photosensitive paste method will be specifically described with reference to FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c).

【0094】(1)まず、スピンコーター、スクリーン印
刷、ドクターブレード法などの方法により、図3(a)に
示すように、感光性ペーストをパターン形成用支持体1
1上に塗布し、10分〜2時間、50〜150℃の温度
で乾燥して感光性ペーストによる塗膜12を形成する。
(1) First, as shown in FIG. 3A, a photosensitive paste is applied to the pattern forming support 1 by a method such as spin coater, screen printing, or doctor blade method.
1 and dried at a temperature of 50 to 150 ° C. for 10 minutes to 2 hours to form a coating film 12 of a photosensitive paste.

【0095】(2)次いで、図3(b)に示すように、パタ
ーン形成用支持体11上の塗膜12に、所望のパターン
が描画されたマスク15を介して、高圧水銀灯などから
の活性光線を、20〜5000mJ/cmの程度の露光量
で照射し、塗膜12を所定のパターンに露光する。これ
により、光線の照射された部分(露光部)13a及び1
3bは硬化し、後の現像処理によって現像されない領域
となる。
(2) Next, as shown in FIG. 3B, the coating film 12 on the pattern-forming support 11 is activated by a high-pressure mercury lamp or the like through a mask 15 on which a desired pattern is drawn. A light beam is irradiated at an exposure amount of about 20 to 5000 mJ / cm 2 to expose the coating film 12 in a predetermined pattern. Thereby, the light-irradiated portions (exposed portions) 13a and 13a
3b is cured and becomes a region that is not developed by a later development process.

【0096】(3)それから、露光部13a、13b及び
未露光部12a、12b、12cからなる塗膜12に、
炭酸ナトリウム水溶液などの汎用の水系現像液をスプレ
ーシャワーなどの方法によって作用させる。これによ
り、未露光部12a、12b、12cが水系現像液に溶
け出して(現像されて)、図3(c)に示すように、パタ
ーン形成用支持体11上にパターン13a、13bが形
成される。
(3) Then, the coating film 12 composed of the exposed portions 13a and 13b and the unexposed portions 12a, 12b and 12c is
A general-purpose aqueous developer such as an aqueous sodium carbonate solution is applied by a method such as a spray shower. As a result, the unexposed portions 12a, 12b, and 12c are dissolved (developed) in the aqueous developer, and the patterns 13a and 13b are formed on the pattern forming support 11 as shown in FIG. You.

【0097】次に、パターン形成用支持体11上に形成
されたパターン13a,13bを被転写体16に転写す
る方法を、図4(a)及び(b)を参照しつつ説明する。
Next, a method of transferring the patterns 13a and 13b formed on the pattern forming support 11 to the transfer target 16 will be described with reference to FIGS. 4 (a) and 4 (b).

【0098】(1)まず、図4(a)に示すように、支持体
11上のパターン13a、13bを、一般的な熱プレス
装置を用いて1〜200MPa、50〜150℃の条件
下で、5秒〜5分の時間をかけて被転写体16上に熱転
写する。
(1) First, as shown in FIG. 4 (a), the patterns 13a and 13b on the support 11 are formed by using a general hot press under the conditions of 1 to 200 MPa and 50 to 150 ° C. The thermal transfer is performed on the object 16 over a period of 5 seconds to 5 minutes.

【0099】(2)それから、図4(b)に示すように、被
転写体16から支持体11を剥離する。これにより、被
転写体16上にパターン13a、13bが形成される。
(2) Then, as shown in FIG. 4B, the support 11 is peeled from the transfer target 16. Thus, patterns 13a and 13b are formed on the transfer target 16.

【0100】[実施形態にかかる回路基板(チップコイ
ル)]次に、本願発明のパターン形成方法により、所定
のパターンを形成する工程を経て製造された回路基板に
ついて説明する。ここでは、回路基板としてチップコイ
ルを例にとって、図5及び図6を参照しつつ説明する。
[Circuit Board (Chip Coil) According to Embodiment] Next, a circuit board manufactured through a step of forming a predetermined pattern by the pattern forming method of the present invention will be described. Here, a chip coil will be described as an example of the circuit board with reference to FIGS.

【0101】このチップコイル21(図5)は、図6に
示すように、内部電極24a、24b、24c及び24
dがそれぞれ形成されたアルミナなどからなる絶縁体層
22a,22b、22c、22d及び22eが順次積層
された積層体(積層基板)22(図5)の側面に、外部
電極23a、23b(図5)が配設された構造を有して
いる。
As shown in FIG. 6, the chip coil 21 (FIG. 5) has internal electrodes 24a, 24b, 24c and 24c.
The external electrodes 23a, 23b (FIG. 5) are formed on the side surfaces of a laminate (laminated substrate) 22 (FIG. 5) in which insulator layers 22a, 22b, 22c, 22d, and 22e made of alumina or the like on which the respective layers d are formed are sequentially laminated. ) Is provided.

【0102】すなわち、積層基板22の内部には、コイ
ルパターンを形成する内部電極24a、24b、24c
及び24dが、絶縁体層22a−絶縁体層22b間、絶
縁体層22b−絶縁体層22c間、絶縁体層22c−絶
縁体層22d間、絶縁体層22d−絶縁体層22e間に
それぞれ設けられており、絶縁体層22a−絶縁体層2
2b間に設けられる内部電極24aは外部電極23a
(図5)に、絶縁体層22d−絶縁体層22e間に設け
られる内部電極24dは外部電極23b(図5)にそれ
ぞれ接続されている。
That is, inside the laminated substrate 22, the internal electrodes 24a, 24b, 24c
And 24d are provided between the insulator layer 22a and the insulator layer 22b, between the insulator layer 22b and the insulator layer 22c, between the insulator layer 22c and the insulator layer 22d, and between the insulator layer 22d and the insulator layer 22e. Insulator layer 22a-insulator layer 2
The internal electrodes 24a provided between the electrodes 2b are external electrodes 23a.
In FIG. 5, an internal electrode 24d provided between the insulator layer 22d and the insulator layer 22e is connected to an external electrode 23b (FIG. 5).

【0103】さらに、絶縁体層22a−絶縁体層22b
間に設けられる内部電極24aは、絶縁体層22bに形
成されたビアホール(図示せず)を介して、絶縁体層2
2b−絶縁体層22c間に設けられた内部電極24bと
電気的に接続されており、同様に、内部電極24bと内
部電極24c、及び内部電極24cと内部電極24dと
が、それぞれ絶縁体層22c、22dに形成されたビア
ホール(図示せず)を介して電気的に接続されている。
Further, the insulator layer 22a-insulator layer 22b
The internal electrode 24a provided therebetween is connected to the insulator layer 2 via a via hole (not shown) formed in the insulator layer 22b.
2b and the internal electrode 24b provided between the insulator layer 22c. Similarly, the internal electrode 24b and the internal electrode 24c, and the internal electrode 24c and the internal electrode 24d are electrically connected to the insulator layer 22c. , 22d via a via hole (not shown).

【0104】次に、このチップコイル21の製造方法に
ついて説明する。 (1)まず、無機粉末として導電性粉末を使用した感光性
導体ペーストを用い、感光性ペースト法により、本願発
明のパターン形成方法を実施して、アルミナなどの絶縁
体層(絶縁性基板)22a上に所望の導体パターンを形
成する。次いで、脱脂処理後、例えば空気中、850℃
で1時間程度焼成して、スパイラル状の内部電極24a
を形成する。
Next, a method of manufacturing the chip coil 21 will be described. (1) First, using a photosensitive conductor paste using a conductive powder as an inorganic powder, the pattern forming method of the present invention is performed by a photosensitive paste method, and an insulator layer (insulating substrate) 22a such as alumina is formed. A desired conductor pattern is formed thereon. Next, after degreasing, for example, at 850 ° C. in air.
For about one hour to form a spiral internal electrode 24a.
To form

【0105】(2)次いで、無機粉末としてガラス粉末を
使用した感光性絶縁体ペーストを用い、感光性ペースト
法により、本願発明のパターン形成方法を実施して、内
部電極24aの形成された絶縁性基板22a上に絶縁体
ペースト層を形成する。この絶縁体ペースト層には、感
光性ペースト法によって、例えば直径50μmのビアホ
ール用パターンを形成しておく。さらに、大気中、所定
温度で焼成して、ビアホール用貫通孔(図示省略)を有
する絶縁体層22bを形成する。
(2) Next, using a photosensitive insulating paste using glass powder as the inorganic powder, the pattern forming method of the present invention is carried out by the photosensitive paste method, and the insulating material on which the internal electrode 24a is formed is formed. An insulator paste layer is formed on the substrate 22a. A via hole pattern having a diameter of, for example, 50 μm is formed on the insulating paste layer by a photosensitive paste method. Further, baking is performed at a predetermined temperature in the atmosphere to form an insulator layer 22b having a through hole for a via hole (not shown).

【0106】(3)それから、ビアホール用貫通孔に導体
ペーストを充填、乾燥し、内部電極24aの一端と内部
電極24bの一端とを接続するためのビアホール(図示
省略)を形成した後、上記(1)において内部電極24a
を形成した手法と同様の手法で、スパイラル状の内部電
極24bを形成する。
(3) Then, a conductive paste is filled into the through-hole for via hole and dried to form a via hole (not shown) for connecting one end of the internal electrode 24a and one end of the internal electrode 24b. 1) In the internal electrode 24a
The spiral internal electrode 24b is formed by a method similar to the method of forming the above.

【0107】(4)次いで、同様にして、絶縁体層22
c、内部電極24c、絶縁体層22d、内部電極24d
を形成する。そして、保護用の絶縁体層22eを形成
し、さらに、外部電極23a及び23bを設けることに
よって、図5に示すような、内部電極と絶縁体層が積層
された構造を有するチップコイル21が得られる。
(4) Next, in the same manner,
c, internal electrode 24c, insulator layer 22d, internal electrode 24d
To form Then, by forming a protective insulator layer 22e and further providing external electrodes 23a and 23b, a chip coil 21 having a structure in which an internal electrode and an insulator layer are laminated as shown in FIG. 5 is obtained. Can be

【0108】上述の製造方法によれば、内部電極24
a、24b、24c及び24dを形成するのに、感光性
ペースト法を使用した、本願発明のパターン形成方法を
用いているので、均一かつ微細な導体パターンを形成す
ることができる。また、絶縁体層22b、22c、22
d及び22eを形成するのに、本願発明のパターン形成
方法を用いているので、均一な絶縁体層を形成すること
ができる。さらには、感光性ペースト法を用いて絶縁体
ペースト層にビアホール用貫通孔を形成するようにして
いるので、微細なビアホールを効率よく形成することが
できる。
According to the above-described manufacturing method, the internal electrodes 24
Since a, 24b, 24c and 24d are formed by the pattern forming method of the present invention using the photosensitive paste method, a uniform and fine conductor pattern can be formed. Also, the insulator layers 22b, 22c, 22
Since the pattern forming method of the present invention is used to form d and 22e, a uniform insulator layer can be formed. Further, since the through-holes for via holes are formed in the insulator paste layer using the photosensitive paste method, fine via holes can be efficiently formed.

【0109】このように、本願発明のパターン形成方法
によれば、均一な導体パターン、絶縁体層を形成するこ
とができるため、回路基板の信号高速化への対応が可能
になる。また、感光性ペースト法を用いているため、微
細なパターン、ビアホールを形成することが可能で、回
路基板の小型化を達成することができる。
As described above, according to the pattern forming method of the present invention, a uniform conductor pattern and an insulating layer can be formed, so that it is possible to cope with a high-speed signal of a circuit board. Further, since the photosensitive paste method is used, a fine pattern and a via hole can be formed, so that the circuit board can be downsized.

【0110】なお、本願発明のパターン形成方法は チ
ップコイルに限らず、チップコンデンサ、チップLCフ
ィルタなどの高周波回路用電子部品、あるいは、高周波
モジュール(例えば、VCO(Voltage Controlled Osc
illator)やPLL(Phase Locked Loop)など)のよう
な高周波回路基板などにも適用することが可能である。
The pattern forming method of the present invention is not limited to a chip coil, but may be a high-frequency circuit electronic component such as a chip capacitor or a chip LC filter, or a high-frequency module (for example, a VCO (Voltage Controlled Osc)).
It can be applied to a high-frequency circuit board such as an illator or a PLL (Phase Locked Loop).

【0111】[実施形態にかかるセラミック多層基板]
次に、本願発明のパターン形成方法を用いて形成された
セラミック多層基板について図7を参照しつつ説明す
る。
[Ceramic Multilayer Substrate According to Embodiment]
Next, a ceramic multilayer substrate formed by using the pattern forming method of the present invention will be described with reference to FIG.

【0112】図7に示すセラミック多層基板31は、絶
縁体層32a、32b、32c、32d、及び32e
と、誘電体層33a及び33bを積層してなる多層回路
基板である。また、セラミック多層基板31の内部に
は、内層導体パターン34a,34b,34cやビアホ
ール35によって、コンデンサパターン、コイルパター
ン、ストリップラインなどが形成されている。さらに、
セラミック多層基板31の一方主面上には、半導体IC
37、チップコンデンサなどのチップ部品38、厚膜抵
抗体39などが設けられており、表層導体パターン36
や内層導体パターン34a,34b,34cなどにそれ
ぞれ接続されている。
The ceramic multilayer substrate 31 shown in FIG. 7 has insulating layers 32a, 32b, 32c, 32d, and 32e.
And a multilayer circuit board formed by laminating dielectric layers 33a and 33b. Further, inside the ceramic multilayer substrate 31, a capacitor pattern, a coil pattern, a strip line, and the like are formed by the inner layer conductor patterns 34a, 34b, 34c and the via holes 35. further,
A semiconductor IC is provided on one main surface of the ceramic multilayer substrate 31.
37, a chip component 38 such as a chip capacitor, a thick film resistor 39, etc. are provided.
And the inner layer conductor patterns 34a, 34b, 34c, etc.

【0113】次に、このセラミック多層基板31の製造
方法について説明する。まず、無機粉末として導電性粉
末を使用した感光性導体ペーストによる感光性ペースト
法により、本願発明のパターン形成方法を実施して、所
望のパターンが形成された絶縁体セラミックグリーンシ
ート及び誘電体セラミックグリーンシートを作製する。
Next, a method of manufacturing the ceramic multilayer substrate 31 will be described. First, by performing a pattern forming method of the present invention by a photosensitive paste method using a photosensitive conductive paste using a conductive powder as an inorganic powder, an insulating ceramic green sheet and a dielectric ceramic green on which a desired pattern is formed. Make a sheet.

【0114】次いで、導体パターンやビアホールが形成
されたセラミックグリーンシートを積み重ね、圧着した
後、所定温度にて焼成する。さらに、同様に、感光性ペ
ースト法により本願発明のパターン形成方法を実施し
て、表層導体パターン36を形成した後、チップ部品3
8、半導体IC37を搭載し、厚膜抵抗体39を印刷す
る。これにより、図7に示すような構造を有するセラミ
ック多層基板31が得られる。
Next, the ceramic green sheets on which the conductor patterns and the via holes are formed are stacked, pressed and fired at a predetermined temperature. Further, similarly, after the pattern forming method of the present invention is performed by the photosensitive paste method to form the surface conductor pattern 36, the chip component 3 is formed.
8. The semiconductor IC 37 is mounted, and the thick film resistor 39 is printed. Thus, a ceramic multilayer substrate 31 having a structure as shown in FIG. 7 is obtained.

【0115】上述の製造方法によれば、内層導体パター
ン34a,34b,34cや表層導体パターン36を形
成するのに、感光性ペースト法を使用した、本願発明の
パターン形成方法を用いているので、均一かつ微細な導
体パターンを形成することができる。
According to the above-described manufacturing method, the pattern forming method of the present invention using the photosensitive paste method is used to form the inner conductor patterns 34a, 34b, 34c and the surface conductor pattern 36. A uniform and fine conductor pattern can be formed.

【0116】また、本願発明のパターン形成方法によれ
ば、均一なパターンをセラミックグリーンシート上に形
成することができるため、セラミック多層基板の信号高
速化への対応が可能になる。さらには、感光性ペースト
法を用いることにより、微細なパターンを形成すること
ができるため、セラミック多層基板の小型化を達成する
ことが可能になる。
Further, according to the pattern forming method of the present invention, since a uniform pattern can be formed on the ceramic green sheet, it is possible to cope with a high-speed signal of the ceramic multilayer substrate. Furthermore, since a fine pattern can be formed by using the photosensitive paste method, the size of the ceramic multilayer substrate can be reduced.

【0117】なお、セラミック多層基板は、チップコン
デンサ、チップLCフィルタなどの高周波回路用電子部
品に限らず、高周波モジュール(例えば、VCO(Volt
ageControlled Oscillator)やPLL(Phase Locked L
oop)など)のような高周波回路基板にも適用すること
が可能である。
The ceramic multilayer substrate is not limited to high-frequency circuit electronic components such as a chip capacitor and a chip LC filter.
ageControlled Oscillator) and PLL (Phase Locked L)
oop) etc.).

【0118】[0118]

【実施例】以下、本願発明の実施例を示して、その特徴
とするところをさらに具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below, and the features thereof will be described more specifically.

【0119】以下の各原料を混合した後、3本ロールミ
ルを用いて混練することにより、感光性導体ペーストを
作製した。 <有機バインダ>メタクリル酸/メタクリル酸メチルの
共重合割合が重量基準で25/75の共 重合体(重量平均分子量=50,000):3.2g <導体材料> 銀粉末:40.0g <反応性官能基含有モノマー> エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート:
3.2g <光重合開始剤> 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2
−モルフォリノプロパン−1−オン:0.3g 2,4−ジエチルチオキサントン:0.1g 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフ
ォリノフェニル)−1−ブタノン:0.2g <有機溶剤> エチルカルビトールアセテート:4.0g
After the following raw materials were mixed, they were kneaded using a three-roll mill to prepare a photosensitive conductor paste. <Organic binder> Copolymer having a copolymerization ratio of methacrylic acid / methyl methacrylate of 25/75 by weight (weight average molecular weight = 50,000): 3.2 g <Conductive material> Silver powder: 40.0 g <Reaction Functional Group-Containing Monomer> Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate:
3.2 g <photopolymerization initiator> 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2
-Morpholinopropan-1-one: 0.3 g 2,4-diethylthioxanthone: 0.1 g 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone: 0.2 g <organic Solvent> Ethyl carbitol acetate: 4.0 g

【0120】次いで、感光性導体ペーストの組成から銀
粉末を除いたものを調合、攪拌し、不溶分のない透明な
感光性ワニスを作製した。
Next, a composition obtained by removing the silver powder from the composition of the photosensitive conductor paste was mixed and stirred to prepare a transparent photosensitive varnish having no insoluble matter.

【0121】次いで、ホウ珪酸系ガラス粉末37.3
g、アルミナ粉末24.9g、アクリル系有機バインダ
6.2g、ジ−n−オクチルフタレート5.0g、エタ
ノール3.1g、及び、トルエン0.5gを混合して得
たスラリーを、ドクターブレード法によってシート状に
成形し、さらに100℃で乾燥させて、シート厚み30
μmのセラミックグリーンシート(セラミックグリーン
シート1)を得た。セラミックグリーンシートにおける
有機バインダーと無機粒子の比率(有機バインダー量/
無機粒子量)は0.30(体積比)、可塑剤と無機粒子
の比率(可塑剤量/無機粒子量)は0.24(体積比)
である。
Next, borosilicate glass powder 37.3
g, 24.9 g of alumina powder, 6.2 g of an acrylic organic binder, 5.0 g of di-n-octyl phthalate, 3.1 g of ethanol, and 0.5 g of toluene, and a slurry obtained by a doctor blade method. It is formed into a sheet and dried at 100 ° C.
A μm ceramic green sheet (ceramic green sheet 1) was obtained. Ratio of organic binder and inorganic particles in ceramic green sheet (organic binder amount /
The amount of inorganic particles) is 0.30 (volume ratio), and the ratio of plasticizer to inorganic particles (plasticizer amount / inorganic particle amount) is 0.24 (volume ratio).
It is.

【0122】次いで、特に表面処理を施していないポリ
エステルフィルムAと、シリコン樹脂をコーティングす
ることによって表面処理を施したポリエステルフィルム
B〜Lを用意した。ポリエステルフィルムB〜Lの表面
処理の強さは、公知の方法にて変化させている。
Next, a polyester film A not particularly subjected to surface treatment and polyester films B to L subjected to surface treatment by coating with a silicone resin were prepared. The strength of the surface treatment of the polyester films B to L is changed by a known method.

【0123】次いで、感光性導体ペーストをポリエステ
ルフィルムA〜L上にドクターブレード法によって塗布
し、その後、50℃にて1時間乾燥し、ポリエステルフ
ィルムA〜L上での感光性導体ペーストの塗布性を調べ
た。その結果を、感光性ワニスに対するポリエステルフ
ィルムA〜Lの接触角と併せて表1に示す。
Next, the photosensitive conductive paste was applied to the polyester films A to L by a doctor blade method, and then dried at 50 ° C. for 1 hour, and the coatability of the photosensitive conductive paste on the polyester films A to L was reduced. Was examined. The results are shown in Table 1 together with the contact angles of the polyester films A to L with the photosensitive varnish.

【0124】[0124]

【表1】 [Table 1]

【0125】なお、表1において、ペースト塗布性の欄
に「○」を付したものは、感光性導体ペーストが乾燥中
に液滴状にならず、均一なまま乾燥された、ペースト塗
布性が良好であったものである。また、ペースト塗布性
の欄に「×」を付したものは、感光性導体ペーストが乾
燥中に液滴状になり、不均一な状態になった、ペースト
塗布性が不良であったものである。なお、表面処理を施
していないポリエステルフィルムAの接触角は低すぎ、
測定不可能であった。
[0125] In Table 1, those marked with “○” in the column of paste applicability indicate that the photosensitive conductive paste was dried in a uniform state without being formed into droplets during drying. It was good. In addition, those marked with “x” in the column of paste applicability were those in which the photosensitive conductive paste became droplets during drying, became non-uniform, and had poor paste applicability. . In addition, the contact angle of the polyester film A without surface treatment is too low,
It could not be measured.

【0126】表1から、No.1〜7のように、感光性ワ
ニスに対する接触角が30度未満であるポリエステルフ
ィルムA〜Gを用いた場合には、ペースト塗布性が良好
であるが、No.8〜12のように、感光性ワニスに対す
る接触角が30度以上であるポリエステルフィルムH〜
Lを用いた場合には、ペースト塗布性が不良になること
がわかる。
Table 1 shows that when polyester films A to G having a contact angle to the photosensitive varnish of less than 30 degrees as shown in Nos. 1 to 7 were used, the paste coatability was good. .8 to 12, polyester film H having a contact angle with photosensitive varnish of 30 degrees or more
It can be seen that when L was used, the paste coatability was poor.

【0127】一方、上記の感光性導体ペースト(感光性
導体ペースト1)の組成に、チキソトロピック剤として
ディスパロン305(楠本化成製)を加えたものを調合
し、感光性導体ペースト1と同様の方法で混練して感光
性ペースト2〜5とした。そして、感光性導体ペースト
2〜5の、50℃における、ずり速度4s−1での粘度
(乾燥時低ずり粘度)を測定した。
On the other hand, a composition obtained by adding Dispalon 305 (manufactured by Kusumoto Kasei) as a thixotropic agent to the composition of the above-mentioned photosensitive conductor paste (photosensitive conductor paste 1) was prepared. To obtain photosensitive pastes 2 to 5. Then, the photosensitive conductive paste 2-5, at 50 ° C., the viscosity was measured at a shear rate of 4s -1 (dry low shear viscosity).

【0128】次いで、感光性導体ペースト2〜5をポリ
エステルフィルムH〜L上にドクターブレード法によっ
て塗布し、その後、50℃にて1時間乾燥し、ポリエス
テルフィルムH〜L上での感光性導体ペースト2〜5の
塗布性を測定した。感光性導体ペースト2〜5の、ディ
スパロン305添加量と乾燥時低ずり粘度と併せて表2
に示す。
Next, the photosensitive conductive pastes 2 to 5 are applied to the polyester films H to L by a doctor blade method, and then dried at 50 ° C. for 1 hour to form the photosensitive conductive pastes on the polyester films H to L. The coatability of 2 to 5 was measured. Table 2 shows the photosensitive conductor pastes 2 to 5 together with the added amount of Disparon 305 and the low shear viscosity when dried.
Shown in

【0129】[0129]

【表2】 [Table 2]

【0130】なお、表2のペースト塗布性の欄中の
「○」は、感光性導体ペーストが乾燥中に液滴状になら
ず、均一なまま乾燥されたことを示し、また、「△」
は、感光性導体ペーストが乾燥中に完全に液滴状にはな
らないものの、不均一部分も発生したことを示す。ま
た、「×」は、感光性導体ペーストが乾燥中に液滴にな
り、不均一な状態となってしまったことを示す。なお、
ディスパロン305は感光性ワニスに不溶であり、感光
性導体ペーストに対するポリエステルフィルムの接触角
には影響を与えない。
[0130] In Table 2, "O" in the column of paste applicability indicates that the photosensitive conductive paste did not form droplets during drying, but was dried in a uniform state.
Indicates that the photosensitive conductive paste did not completely become droplets during drying, but also generated non-uniform portions. Further, “x” indicates that the photosensitive conductive paste became droplets during drying, resulting in an uneven state. In addition,
Dispalon 305 is insoluble in the photosensitive varnish and does not affect the contact angle of the polyester film with the photosensitive conductive paste.

【0131】表2から、感光性導体ペースト4及び5の
ように、乾燥時低ずり粘度が30Pa・s以上の感光性
導体ペーストを用いた場合には、感光性導体ペースト塗
布物を原形にとどめようとする抵抗力が強いために、感
光性導体ペースト1に対する接触角が30度以上のポリ
エステルフィルム上においても、均一なまま乾燥される
ことがわかる。これに対して、感光性導体ペースト2及
び3のように、乾燥時低ずり粘度が30Pa・s未満の
感光性導体ペーストでは、感光性導体ペースト塗布物を
原形にとどめようとする抵抗力が弱いために、感光性導
体ペースト1に対する接触角が30度以上のポリエステ
ルフィルム上では不均一に乾燥されることがわかる。
As shown in Table 2, when a photosensitive conductive paste having a low low shear viscosity of 30 Pa · s or more is used as in the case of photosensitive conductive pastes 4 and 5, the photosensitive conductive paste applied material is kept in its original form. It can be seen that, since the resistance force to be applied is strong, even on a polyester film having a contact angle of 30 degrees or more with the photosensitive conductive paste 1, it is dried uniformly. On the other hand, in the case of the photosensitive conductor paste having a low low shear viscosity of less than 30 Pa · s as in the case of the photosensitive conductor pastes 2 and 3, the resistance to keep the applied material of the photosensitive conductor paste in the original shape is weak. Therefore, it can be seen that the polyester film having a contact angle of 30 degrees or more with the photosensitive conductive paste 1 is dried unevenly.

【0132】また、ポリエステルフィルムH上に、感光
性導体ペースト4及び5を用いて導体パターンを形成
し、ビアホールが形成されたセラミックグリーンシート
上に転写、積層した後、脱脂処理、焼成を行うことによ
り、導体パターンを備えたセラミック多層基板が得られ
た。
Further, a conductive pattern is formed on the polyester film H by using the photosensitive conductive pastes 4 and 5, transferred and laminated on a ceramic green sheet having via holes formed, and then subjected to degreasing and firing. As a result, a ceramic multilayer substrate having a conductor pattern was obtained.

【0133】また、上述のセラミックグリーンシート1
の組成において、アクリル系有機バインダ量とジ−n−
オクチルフタレート量を変化させ、有機バインダーと無
機粒子の比(有機バインダー量/無機粒子量)と、可塑
剤と無機粒子の比(可塑剤量/無機粒子量)の異なるセ
ラミックグリーンシート2〜7を作製した。
The above-mentioned ceramic green sheet 1
In the composition of the above, the amount of acrylic organic binder and di-n-
By changing the amount of octyl phthalate, the ceramic green sheets 2 to 7 having different ratios of organic binder and inorganic particles (organic binder amount / inorganic particle amount) and different ratios of plasticizer and inorganic particles (plasticizer amount / inorganic particle amount) Produced.

【0134】次いで、ポリエステルフィルムF,Gを用
いて、導体パターン付きポリエステルフィルム1、2を
作製した。
Next, using the polyester films F and G, polyester films 1 and 2 with a conductor pattern were produced.

【0135】次いで、ポリエステルフィルムH、Iを用
いて、導体パターン付きポリエステルフィルム3、4を
作製した。
Next, using the polyester films H and I, polyester films 3 and 4 with a conductor pattern were produced.

【0136】次いで、導体パターン付きポリエステルフ
ィルム1〜4をセラミックグリーンシート2〜7と重ね
合わせ、10MPa、60℃の条件下で1分間熱プレス
を行った後、ポリエステルフィルムを剥離して、導体パ
ターンをセラミックグリーンシート2〜7上へ熱転写し
た。その際のポリエステルフィルム剥離時のセラミック
グリーンシートの状態を、セラミックグリーンシート2
〜7における、有機バインダーと無機粒子の比(有機バ
インダー量/無機粒子量)及び、可塑剤と無機粒子の比
(可塑剤量/無機粒子量)と合わせて表3に示す。
Next, the polyester films 1 to 4 with a conductor pattern are superimposed on the ceramic green sheets 2 to 7 and hot-pressed under the conditions of 10 MPa and 60 ° C. for 1 minute. Was thermally transferred onto the ceramic green sheets 2 to 7. The state of the ceramic green sheet at the time of peeling the polyester film at that time is indicated by ceramic green sheet 2
Table 3 shows the ratio of the organic binder to the inorganic particles (the amount of the organic binder / the amount of the inorganic particles) and the ratio of the plasticizer to the inorganic particles (the amount of the plasticizer / the amount of the inorganic particles).

【0137】[0137]

【表3】 [Table 3]

【0138】なお、表3中の「○」は、セラミックグリ
ーンシートがポリエステルフィルム剥離時に破損しなか
ったことを示し、「×」は、セラミックグリーンシート
がポリエステルフィルム剥離時に破壊されてしまったこ
とを示す。
In Table 3, "O" indicates that the ceramic green sheet was not damaged when the polyester film was peeled off, and "X" indicates that the ceramic green sheet was broken when the polyester film was peeled off. Show.

【0139】表3に示すように、導体パターン付きポリ
エステルフィルム3,4のように、感光性ワニスに対す
る接触角が30度以上であるポリエステルフィルムを使
用した場合においては、有機バインダー量/無機粒子量
≦0.25(体積比)、もしくは可塑剤量/無機粒子量
≦0.15(体積比)であるセラミックグリーンシート
を用いた場合にも、セラミックグリーンシートに対する
ポリエステルフィルムの密着力が小さいため、ポリエス
テルフィルム剥離時にセラミックグリーンシートが破壊
されることなく、完全に導体パターンがセラミックグリ
ーンシート上に転写された。これに対し、導体パターン
付きポリエステルフィルム1,2のように、感光性ワニ
スに対する接触角が30度未満であるポリエステルフィ
ルムを使用した場合においては、有機バインダー量/無
機粒子量≦0.25(体積比)、もしくは可塑剤量/無
機粒子量≦0.15(体積比)であるセラミックグリー
ンシートを用いると、セラミックグリーンシートに対す
るポリエステルフィルムの密着力が大きいため、ポリエ
ステルフィルム剥離時にセラミックグリーンシートが破
損してしまうことが確認された。
As shown in Table 3, when a polyester film having a contact angle with a photosensitive varnish of 30 ° or more was used, such as polyester films 3 and 4 with a conductor pattern, the amount of organic binder / the amount of inorganic particles was Even when a ceramic green sheet with ≦ 0.25 (volume ratio) or plasticizer amount / inorganic particle amount ≦ 0.15 (volume ratio) is used, the adhesion of the polyester film to the ceramic green sheet is small. The conductor pattern was completely transferred onto the ceramic green sheet without breaking the ceramic green sheet when the polyester film was peeled off. On the other hand, when a polyester film having a contact angle with respect to the photosensitive varnish of less than 30 degrees, such as the polyester films 1 and 2 with a conductor pattern, is used, the amount of organic binder / the amount of inorganic particles ≦ 0.25 (volume Ratio) or a plasticizer amount / inorganic particle amount ≦ 0.15 (volume ratio), the ceramic green sheet is damaged when the polyester film is peeled off because the adhesion of the polyester film to the ceramic green sheet is large. It was confirmed that it would.

【0140】次いで、導体パターン付きポリエステルフ
ィルム3,4から導体パターンを転写したセラミックグ
リーンシート4〜7を用い、それぞれ導体パターンの形
成されていないセラミックグリーンシートと、200M
Pa、60℃の条件下に、1分間静水圧下で加圧するこ
とにより積層し、これを脱脂処理した後、900℃の温
度条件下に、空気中で焼成したところ、No.3〜7のい
ずれにおいても、L/S=15/20(μm)、厚み8
μmの導体パターン付きセラミック多層基板が得られ
た。
Next, using ceramic green sheets 4 to 7 in which conductor patterns were transferred from polyester films 3 and 4 with conductor patterns, a ceramic green sheet having no conductor pattern was formed,
The layers were laminated by pressing under hydrostatic pressure for 1 minute under the conditions of Pa and 60 ° C., and after degreasing, they were baked in air under the temperature condition of 900 ° C. In each case, L / S = 15/20 (μm), thickness 8
A ceramic multilayer substrate with a conductor pattern of μm was obtained.

【0141】なお、本願発明は、上記実施形態及び実施
例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内にお
いて、種々の応用、変形を加えることが可能である。
The present invention is not limited to the above embodiments and examples, and various applications and modifications can be made within the scope of the invention.

【0142】[0142]

【発明の効果】上述のように、本願発明(請求項1)の
パターン形成用支持体は、ペースト組成物に対する接触
角が30度以上になるように表面処理が施されているの
で、乾燥時低ずり粘度が大きいペースト組成物を用いた
場合にも、パターン形成用支持体の表面に、所定のパタ
ーンを確実に形成することが可能になるとともに、パタ
ーン形成用支持体上に形成されたパターンを、被転写体
上に確実に転写することが可能になり、均一で、形状精
度及び寸法精度が高く、膜厚の大きいパターンを形成す
ることができる。
As described above, the pattern forming support of the present invention (claim 1) is subjected to a surface treatment so that the contact angle with the paste composition becomes 30 degrees or more. Even when a paste composition having a large low shear viscosity is used, it is possible to reliably form a predetermined pattern on the surface of the pattern forming support, and to form a pattern formed on the pattern forming support. Can be reliably transferred onto a transfer target, and a uniform pattern having high shape accuracy and dimensional accuracy and a large film thickness can be formed.

【0143】また、本願発明(請求項2)のペースト組
成物は、本願発明のパターン形成用支持体上にパターン
を形成するのに用いられるペースト組成物であって、乾
燥温度において、ずり速度4s−1における粘度が30
Pa・s以上になるように構成されているので、乾燥工
程でも、パターンが所望の形状を保つようにすることが
可能になり、パターン形成用支持体の表面に、所定のパ
ターンを確実に形成することが可能になるとともに、パ
ターン形成用支持体上に形成されたパターンを、被転写
体上に確実に転写することが可能になり、均一で、形状
精度及び寸法精度が高く、膜厚の大きいパターンを形成
することができるようになる。
The paste composition of the present invention (Claim 2) is a paste composition used for forming a pattern on the pattern forming support of the present invention, and has a shear rate of 4 s at a drying temperature. Viscosity at -1 is 30
Since it is configured so as to be Pa · s or more, it becomes possible to keep the pattern in a desired shape even in the drying step, so that a predetermined pattern is reliably formed on the surface of the pattern forming support. And the pattern formed on the pattern-forming support can be reliably transferred onto the object to be transferred. A large pattern can be formed.

【0144】また、本願発明(請求項3)のペースト組
成物は、感光性有機成分を含有しているので、感光性ペ
ースト法により、均一で、形状精度及び寸法精度が高
く、膜厚の大きいパターンを効率よく形成することがで
きる。
Further, since the paste composition of the present invention (claim 3) contains a photosensitive organic component, it is uniform, has high shape accuracy and dimensional accuracy, and has a large film thickness by the photosensitive paste method. A pattern can be efficiently formed.

【0145】また、本願発明(請求項4)のパターン形
成方法は、本願発明(請求項2又は3)のペースト組成
物を用いて、本願発明(請求項1)のパターン形成用支
持体上に所定のパターンを形成した後、パターン形成用
支持体上に形成されたパターンを被転写体上に転写する
ようにしているので、パターン形成用支持体上に形成さ
れたパターンを、被転写体上に確実に転写することが可
能になり、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚
の大きいパターンを確実に形成することができる。
The pattern forming method of the present invention (Claim 4) uses the paste composition of the present invention (Claim 2 or 3) on the pattern forming support of the present invention (Claim 1). After the predetermined pattern is formed, the pattern formed on the pattern-forming support is transferred onto the transfer-receiving body, so that the pattern formed on the pattern-forming support is transferred onto the transfer-receiving body. It is possible to surely form a uniform, high-precision and dimensional accuracy and large-thickness pattern.

【0146】また、ペースト組成物として、感光性有機
成分を含有する感光性ペーストを用いるようにした場
合、感光性ペースト法により、均一で、形状精度及び寸
法精度が高く、膜厚の大きいパターンを効率よく形成す
ることができる。
In the case where a photosensitive paste containing a photosensitive organic component is used as the paste composition, a uniform pattern having high shape and dimensional accuracy and a large film thickness can be formed by the photosensitive paste method. It can be formed efficiently.

【0147】また、請求項5のパターン形成方法のよう
に、パターン形成用支持体上に所定のパターンを形成す
る工程において、パターン形成用支持体上に感光性ペー
ストを塗布した後、塗布された感光性ペーストを露光、
現像するようにした場合、微細なパターンを支持体上に
効率よく形成することができる。
Further, in the step of forming a predetermined pattern on the pattern forming support as in the pattern forming method of the fifth aspect, the photosensitive paste is applied on the pattern forming support after being applied. Expose the photosensitive paste,
When development is performed, a fine pattern can be efficiently formed on the support.

【0148】また、請求項6のパターン形成方法のよう
に、被転写体が、セラミック粉末及び/又はガラス粉末
を含有する無機粉末と、有機バインダーと、可塑剤を含
有するスラリーをシート状に成形してなるセラミックグ
リーンシートである場合、表面に所定のパターンが配設
されたセラミックグリーンシートを確実に形成すること
が可能になり、該セラミックグリーンシートを用いるこ
とにより、回路基板やセラミック多層基板などの積層電
子部品を効率よく製造することができる。
Further, as in the case of the pattern forming method of the present invention, the object to be transferred is formed into a sheet shape by slurry containing an inorganic powder containing a ceramic powder and / or a glass powder, an organic binder and a plasticizer. In the case of a ceramic green sheet, a ceramic green sheet having a predetermined pattern disposed on its surface can be reliably formed. By using the ceramic green sheet, a circuit board, a ceramic multilayer board, or the like can be formed. Can be efficiently manufactured.

【0149】また、請求項7のパターン形成方法のよう
に、セラミックグリーンシートとして、有機バインダー
と無機粉末の体積比率が、有機バインダー量/無機粒子
量≦0.25(体積比)のものを用いるようにした場
合、セラミックグリーンシートを焼成する際の脱脂性を
高めることができるようになる。
Further, as in the pattern forming method of the present invention, a ceramic green sheet having a volume ratio of organic binder / inorganic powder of organic binder / inorganic particle ≦ 0.25 (volume ratio) is used. In this case, the degreasing property when firing the ceramic green sheet can be improved.

【0150】また、請求項8のパターン形成方法のよう
に、セラミックグリーンシートとして、可塑剤と無機粉
末の体積比率が、可塑剤量/無機粉末量≦0.15(体
積比)のものを用いるようにした場合にも、上記請求項
7のパターン形成方法の場合と同様に、セラミックグリ
ーンシートを焼成する際の脱脂性を高めることができる
ようになる。
Further, as in the pattern forming method of the present invention, the ceramic green sheet is such that the volume ratio of the plasticizer and the inorganic powder is such that the amount of the plasticizer / the amount of the inorganic powder ≦ 0.15 (volume ratio). Also in this case, as in the case of the pattern forming method of claim 7, the degreasing property when firing the ceramic green sheet can be improved.

【0151】また、本願発明(請求項9)の回路基板の
製造方法のように、請求項4〜8のいずれかに記載のパ
ターン形成方法により、基板上に所定のパターンを形成
するようにした場合、均一で、形状精度及び寸法精度が
高く、膜厚の大きいパターンを備えた、高速信号化、高
密度配線化に十分に対応可能な回路基板を確実に製造す
ることができる。
Further, as in the method for manufacturing a circuit board according to the present invention (claim 9), a predetermined pattern is formed on a substrate by the pattern forming method according to any one of claims 4 to 8. In this case, it is possible to reliably manufacture a circuit board which is uniform and has a pattern with high shape accuracy and dimensional accuracy and a large film thickness, and which can sufficiently cope with high-speed signal transmission and high-density wiring.

【0152】また、本願発明(請求項10)のセラミッ
ク多層基板の製造方法のように、請求項4〜8のいずれ
かに記載のパターン形成方法により、所定のパターンを
形成したセラミックグリーンシートを積層、焼成する工
程を経てセラミック多層基板を製造することにより、均
一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚の大きいパタ
ーンを備えた、高速信号化、高密度配線化に十分に対応
可能なセラミック多層基板を確実に製造することができ
る。
Further, like the method of manufacturing a ceramic multilayer substrate according to the present invention (claim 10), ceramic green sheets having a predetermined pattern formed by the pattern forming method according to any one of claims 4 to 8 are laminated. By manufacturing a ceramic multilayer substrate through a firing process, a ceramic that is uniform, has high shape and dimensional accuracy, has a pattern with a large film thickness, and can sufficiently respond to high-speed signaling and high-density wiring A multilayer substrate can be reliably manufactured.

【0153】また、本願発明(請求項11)の回路基板
は、上記請求項9の方法により製造されたものであっ
て、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、膜厚の大き
いパターンを備えており、高速信号化、高密度配線化に
十分に対応可能な特性を実現することができる。
The circuit board according to the present invention (claim 11) is manufactured by the method according to claim 9 and has a uniform pattern with high shape precision and dimensional precision and a large film thickness. As a result, it is possible to realize characteristics that can sufficiently cope with high-speed signal transmission and high-density wiring.

【0154】また、本願発明(請求項12)のセラミッ
ク多層基板は、上記請求項10の方法により製造された
ものであって、均一で、形状精度及び寸法精度が高く、
膜厚の大きいパターンを備えており、高速信号化、高密
度配線化に十分に対応可能な特性を実現することができ
る。
The ceramic multilayer substrate of the present invention (claim 12) is manufactured by the method of claim 10 and is uniform, has high shape precision and high dimensional precision, and
Since a pattern having a large film thickness is provided, it is possible to realize characteristics that can sufficiently cope with high-speed signal transmission and high-density wiring.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

 .

【図1】パターン形成用支持体から、被転写体へのパタ
ーンの転写機構を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a mechanism for transferring a pattern from a pattern formation support to a transfer target.

【図2】(a),(b)は本願発明におけるパターン形成用
支持体上へのパターン形成機構を示す概略図である。
FIGS. 2A and 2B are schematic views showing a mechanism for forming a pattern on a pattern forming support in the present invention.

【図3】(a),(b),(c)は本願発明の一実施形態にか
かるパターン形成方法を示す概略断面図である。
FIGS. 3A, 3B and 3C are schematic sectional views showing a pattern forming method according to an embodiment of the present invention.

【図4】(a),(b)は本願発明の一実施形態にかかるパ
ターン形成方法を示す概略断面図である。
FIGS. 4A and 4B are schematic sectional views showing a pattern forming method according to an embodiment of the present invention.

【図5】本願発明の一実施形態にかかる回路基板(チッ
プコイル)を示す概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a circuit board (chip coil) according to an embodiment of the present invention.

【図6】本願発明の一実施形態にかかる回路基板(チッ
プコイル)の構成を示す分解斜視図である。
FIG. 6 is an exploded perspective view showing a configuration of a circuit board (chip coil) according to one embodiment of the present invention.

【図7】本願発明の一実施形態にかかるセラミック多層
基板を示す概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing a ceramic multilayer substrate according to one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持体 2 パターン 3 被転写体(セラミックグリーンシート) 4 液滴 5 ペースト組成物 θ 接触角 F 支持体とパターンの間の接着力 F パターンと被転写体の間の接着力 F 支持体とセラミックグリーンシートの間の接
着力 F セラミックグリーンシートの引張強度 F 接触角θで平衡に達しようとする力 F 原形を保持しようとする抵抗力 γ 液滴(液体)の表面張力 γ 支持体の表面張力 γSL 液滴(液体)と支持体の界面張力 F60 抵抗力Fの上限値 11 パターン形成用支持体 12 感光性ペーストによる塗膜 12a,12b,12C 未露光部 13a,13b 露光部(パターン) 15 マスク 16 被転写体 21 チップコイル 22 積層体(積層基板) 22a,22b、22c、22d,22e 絶縁体層 23a、23b 外部電極 24a、24b、24c,24d 内部電極 31 セラミック多層基板 32a、32b、32c、32d、32e 絶縁体層 33a,33b 誘電体層 34a,34b,34c 内層導体パターン 35 ビアホール 36 表層導体パターン 37 半導体IC 38 チップ部品 39 厚膜抵抗体
REFERENCE SIGNS LIST 1 support 2 pattern 3 transfer object (ceramic green sheet) 4 droplet 5 paste composition θ contact angle F 1 adhesive force between support and pattern F 2 adhesive force between pattern and transfer object F 3 support Adhesive force between body and ceramic green sheet F 4 Tensile strength of ceramic green sheet F 5 Force to reach equilibrium at contact angle θ F 6 Resistance to maintain original shape γ Surface of L droplet (liquid) Tension γ S Surface tension of support γ Interfacial tension between SL droplet (liquid) and support F 60 Upper limit of resistance F 6 11 Support for pattern formation 12 Coating with photosensitive paste 12a, 12b, 12C Unexposed Units 13a, 13b Exposure unit (pattern) 15 Mask 16 Transfer object 21 Chip coil 22 Laminated body (laminated substrate) 22a, 22b, 22c, 22d, 22e Insulator layer 23 a, 23b External electrode 24a, 24b, 24c, 24d Internal electrode 31 Ceramic multilayer substrate 32a, 32b, 32c, 32d, 32e Insulator layer 33a, 33b Dielectric layer 34a, 34b, 34c Inner layer conductor pattern 35 Via hole 36 Surface conductor pattern 37 Semiconductor IC 38 Chip component 39 Thick film resistor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 T Fターム(参考) 2H025 AA02 AA03 AB15 AC01 AD01 BJ06 DA33 FA29 FA35 2H096 AA26 BA05 CA05 HA07 HA30 5E343 AA23 BB24 BB72 BB76 DD02 DD03 DD56 DD62 DD76 EE42 EE52 EE58 GG08 5E346 AA15 AA32 CC16 CC32 DD13 DD44 EE21 HH26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/46 H05K 3/46 TF term (Reference) 2H025 AA02 AA03 AB15 AC01 AD01 BJ06 DA33 FA29 FA35 2H096 AA26 BA05 CA05 HA07 HA30 5E343 AA23 BB24 BB72 BB76 DD02 DD03 DD56 DD62 DD76 EE42 EE52 EE58 GG08 5E346 AA15 AA32 CC16 CC32 DD13 DD44 EE21 HH26

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ペースト組成物を用いて所定のパターンを
支持体上に形成する工程と、前記支持体上に形成された
前記パターンを被転写体上に転写する工程を具備する形
成方法に使用される支持体であって、 ペースト組成物に対する接触角が30度以上になるよう
に表面処理が施されていることを特徴とするパターン形
成用支持体。
1. A method comprising the steps of: forming a predetermined pattern on a support using a paste composition; and transferring the pattern formed on the support onto an object to be transferred. A support for forming a pattern, which has been subjected to a surface treatment so that a contact angle with respect to a paste composition is 30 degrees or more.
【請求項2】請求項1のパターン形成用支持体上にパタ
ーンを形成するのに用いられるペースト組成物であっ
て、乾燥温度において、ずり速度4s−1における粘度
が30Pa・s以上であることを特徴とするペースト組
成物。
2. A paste composition used for forming a pattern on the pattern forming support according to claim 1, wherein the viscosity at a shear rate of 4 s -1 at a drying temperature is 30 Pa · s or more. A paste composition comprising:
【請求項3】請求項1のパターン形成用支持体上にパタ
ーンを形成するのに用いられるペースト組成物であっ
て、感光性有機成分を含有していることを特徴とする請
求項2記載のペースト組成物。
3. A paste composition used for forming a pattern on the pattern-forming support according to claim 1, wherein the paste composition contains a photosensitive organic component. Paste composition.
【請求項4】請求項2又は3記載のペースト組成物を用
いて、請求項1記載のパターン形成用支持体上に所定の
パターンを形成する工程と、 前記パターン形成用支持体上に形成された前記パターン
を被転写体上に転写する工程とを具備することを特徴と
するパターン形成方法。
4. A step of forming a predetermined pattern on the pattern forming support according to claim 1 using the paste composition according to claim 2 or 3, and forming the predetermined pattern on the pattern forming support. Transferring the pattern onto an object to be transferred.
【請求項5】前記パターン形成用支持体上に所定のパタ
ーンを形成する工程が、 前記パターン形成用支持体上に感光性有機成分を含有す
るペースト(感光性ペースト)を塗布する工程と、 前記パターン形成用支持体上に塗布された感光性ペース
トを露光、現像して所定のパターンを形成する工程とを
具備していることを特徴とする請求項4記載のパターン
形成方法。
5. The step of forming a predetermined pattern on the pattern forming support, the step of applying a paste containing a photosensitive organic component (photosensitive paste) on the pattern forming support. 5. The pattern forming method according to claim 4, further comprising: exposing and developing a photosensitive paste applied on the pattern forming support to form a predetermined pattern.
【請求項6】前記被転写体が、セラミック粉末及び/又
はガラス粉末を含有する無機粉末と、有機バインダー
と、可塑剤を含有するスラリーをシート状に成形してな
るセラミックグリーンシートであることを特徴とする請
求項4又は5記載のパターン形成方法。
6. A ceramic green sheet formed by molding a slurry containing an inorganic powder containing a ceramic powder and / or a glass powder, an organic binder, and a plasticizer into a sheet. The pattern forming method according to claim 4 or 5, wherein:
【請求項7】前記被転写体が、セラミック粉末及び/又
はガラス粉末を含有する無機粉末と、有機バインダー
と、可塑剤を含有するスラリーをシート状に成形してな
るセラミックグリーンシートであって、有機バインダー
と無機粉末の体積比率が、有機バインダー量/無機粒子
量≦0.25(体積比)であることを特徴とする請求項
6記載のパターン形成方法。
7. The ceramic green sheet wherein the transferred body is formed by molding a slurry containing an inorganic powder containing ceramic powder and / or glass powder, an organic binder, and a plasticizer into a sheet shape, 7. The pattern forming method according to claim 6, wherein the volume ratio of the organic binder and the inorganic powder is such that the amount of the organic binder / the amount of the inorganic particles ≦ 0.25 (volume ratio).
【請求項8】前記被転写体が、セラミック粉末及び/又
はガラス粉末を含有する無機粉末と、有機バインダー
と、可塑剤を含有するスラリーをシート状に成形してな
るセラミックグリーンシートであって、可塑剤と無機粉
末の体積比率が、可塑剤量/無機粉末量≦0.15(体
積比)であることを特徴とする請求項6又は7記載のパ
ターン形成方法。
8. A ceramic green sheet in which the object to be transferred is formed by molding a slurry containing an inorganic powder containing ceramic powder and / or glass powder, an organic binder, and a plasticizer into a sheet, 8. The pattern forming method according to claim 6, wherein the volume ratio of the plasticizer and the inorganic powder is such that the amount of the plasticizer / the amount of the inorganic powder ≦ 0.15 (volume ratio).
【請求項9】請求項4〜8のいずれかに記載のパターン
形成方法により、基板上に所定のパターンを形成する工
程を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。
9. A method of manufacturing a circuit board, comprising a step of forming a predetermined pattern on a substrate by the pattern forming method according to claim 4.
【請求項10】請求項4〜8のいずれかに記載のパター
ン形成方法により、所定のパターンを形成したセラミッ
クグリーンシートを積層、焼成する工程を具備すること
を特徴とするセラミック多層基板の製造方法。
10. A method of manufacturing a ceramic multilayer substrate, comprising a step of laminating and firing ceramic green sheets on which a predetermined pattern has been formed by the pattern forming method according to claim 4. .
【請求項11】請求項9記載の回路基板の製造方法によ
り製造されたものであることを特徴とする回路基板。
11. A circuit board manufactured by the method for manufacturing a circuit board according to claim 9.
【請求項12】請求項10記載のセラミック多層基板の
製造方法により製造されたものであることを特徴とする
セラミック多層基板。
12. A ceramic multilayer substrate manufactured by the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 10.
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