JP2002333611A - Liquid crystal display device and manufacturing method therefor - Google Patents

Liquid crystal display device and manufacturing method therefor

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JP2002333611A
JP2002333611A JP2001136040A JP2001136040A JP2002333611A JP 2002333611 A JP2002333611 A JP 2002333611A JP 2001136040 A JP2001136040 A JP 2001136040A JP 2001136040 A JP2001136040 A JP 2001136040A JP 2002333611 A JP2002333611 A JP 2002333611A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
sealing material
ultraviolet
pixel electrode
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Application number
JP2001136040A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Inoue
浩治 井上
Hideki Matsukawa
秀樹 松川
Hideo Koseki
秀夫 小関
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to cure a UV curing sealing material and enhance substrate bonding accuracy in a vacuum when a liquid crystal display panel is formed using a dripping system. SOLUTION: In the constituting which is provided with an array substrate 11a and a counter substrate 1a and wherein the UV curing sealing material 13 is applied on any one substrate of the array substrate 11a and the counter substrate 1a, a desired quantity of a liquid crystal 14 is dripped into the part enclosed by the UV curing sealing material 13 and both substrates 1a and 11a are bonded together in a vacuum, a colored film 6 is formed between a pixel electrode 8 and a switching active element 3 and an electrically conducting means 7 for conducting the pixel electrode 8 to the switching active element 3 is formed at the colored film 6. Alignment operation is not needed and the stage can be simplified by adopting such a color filter-on-array structure. The UV curing sealing material 13 can be irradiated with UV from the counter substrate 1a without using a light shielding film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、特に、液晶表示
装置のカラー化を目的として、画素電極を駆動するため
のスイッチング素子がアレイ基板に形成され、このアレ
イ基板または対向基板の表面にカラーフィルタを設けた
液晶表示装置およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention particularly relates to a color liquid crystal display device, in which switching elements for driving pixel electrodes are formed on an array substrate. And a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の薄膜トランジスタ(Thin F
ilm Transister、以下「TFT」と称す
る)型の液晶表示装置(以下「液晶パネル」と称する)
の断面構成を、図7に示す。このTFT型液晶パネル3
1eは、アレイ基板11eと、カラーフィルタ基板1e
とを有する。このうちカラーフィルタ基板1eは、ガラ
ス基板2a上に遮光膜4と、カラーフィルタ6R,6
G,6Bと、透明電極10とが形成されている。一方ア
レイ基板11eは、ガラス基板2b上に信号線および走
査線が共に形成される能動素子3a,3bと、透明電極
8とが形成されている。これらカラーフィルタ基板1e
とアレイ基板11eとの相対向する面には、配向膜9
a,9bが形成されている。そして、ガラス基板1e,
11eの周辺部がシール材13で固着され、球状のスペ
ーサ15を介して液晶14が充填されることで、液晶パ
ネル31eが形成されている。なお、液晶パネル31e
の用途に応じて、パネル表裏面に偏光板が貼り付けられ
る。
2. Description of the Related Art Conventional thin film transistors (Thin F)
ilm Transistor (hereinafter referred to as “TFT”) type liquid crystal display device (hereinafter referred to as “liquid crystal panel”)
7 is shown in FIG. This TFT type liquid crystal panel 3
1e is an array substrate 11e and a color filter substrate 1e.
And The color filter substrate 1e includes a light shielding film 4 and color filters 6R, 6R on a glass substrate 2a.
G, 6B and the transparent electrode 10 are formed. On the other hand, the array substrate 11e has active elements 3a and 3b on which a signal line and a scanning line are both formed on a glass substrate 2b, and a transparent electrode 8. These color filter substrates 1e
The alignment film 9 is provided on the opposite surface of the substrate and the array substrate 11e.
a, 9b are formed. Then, the glass substrate 1e,
A liquid crystal panel 31e is formed by fixing the periphery of 11e with a sealing material 13 and filling the liquid crystal 14 with a spherical spacer 15 interposed therebetween. The liquid crystal panel 31e
A polarizing plate is attached to the front and back surfaces of the panel according to the purpose of the above.

【0003】なお、図7に示すように、液晶表示素子の
製造方法で液晶セルの中に液晶を注入する方法には、注
入方式と滴下方式が考えられており、前者の注入方式は
一般的に量産で扱われ、真空中で毛細管現象と圧力差に
より空セルの開口部から液晶を充填するものである。す
なわち、図8(a)に示すように、まず、真空槽51d
に予め液晶14をバット52にいれ、その上にシール材
13で基板を貼り合わせた液晶セル31dを配置し、真
空槽51d内の大気53を真空ポンプ54で排出する。
この時、液晶セル31d内も真空状態となる。次に、液
晶セル31dを降下させ、注入口55を液晶に浸した
後、真空槽51dを大気開放することにより、真空状態
の液晶セル31d内に、大気との圧力差により、注入口
55より、液晶14が液晶セル31d内に注入される。
As shown in FIG. 7, a method of injecting liquid crystal into a liquid crystal cell in a method of manufacturing a liquid crystal display element includes an injection method and a dropping method. The former injection method is generally used. The liquid crystal is filled from the opening of an empty cell by capillary action and pressure difference in a vacuum. That is, as shown in FIG.
The liquid crystal 14 is placed in the vat 52 in advance, and a liquid crystal cell 31d in which a substrate is bonded with the sealing material 13 is arranged thereon. The atmosphere 53 in the vacuum chamber 51d is exhausted by the vacuum pump 54.
At this time, the inside of the liquid crystal cell 31d is also in a vacuum state. Next, the liquid crystal cell 31d is lowered, the injection port 55 is immersed in the liquid crystal, and then the vacuum chamber 51d is opened to the atmosphere. The liquid crystal 14 is injected into the liquid crystal cell 31d.

【0004】一方、後者の滴下方式はあらかじめ基板上
に液晶を滴下したものを真空中で2枚の基板を貼り合わ
せるものである。すなわち、図8(b)に示すように、
まず、アレイまたは、カラーフィルタ基板のいずれか一
方の基板11bのパネル周辺部にシール材13uを形成
し、液晶14を所望量滴下した後、定板56b上に真空
チャックする。一方、対向側の基板1bを、上定板56
aに真空チャックする。次に、真空槽51c内の大気を
真空ポンプ54により排出する。なお、真空槽51c内
の真空度以上に基板チャックの真空度の方が高いので、
基板1bは落下せず、上定板56aに固着されている。
この後、上下基板をアライメントした後、上定板56a
を降下させ、上下基板を貼り合わせる。
On the other hand, the latter dripping method is a method in which liquid crystal is dropped on a substrate in advance and two substrates are bonded in a vacuum. That is, as shown in FIG.
First, a sealing material 13u is formed on the periphery of the panel of either the array or the color filter substrate 11b, and a desired amount of liquid crystal 14 is dropped, and then vacuum chucked on the plate 56b. On the other hand, the substrate 1b on the opposite side is
Vacuum chuck a. Next, the air in the vacuum chamber 51c is exhausted by the vacuum pump 54. Since the vacuum degree of the substrate chuck is higher than the vacuum degree in the vacuum chamber 51c,
The substrate 1b does not fall and is fixed to the upper plate 56a.
Then, after aligning the upper and lower substrates, the upper plate 56a
And the upper and lower substrates are bonded together.

【0005】近年、モニタ、TV向けを主に液晶パネル
の大型化が進んでいるが、小型液晶パネルに比べ、大型
液晶パネルを形成するためには、前者の注入方式では、
真空引きおよび真空開放後の液晶注入時間が非常に長く
なり、スループットが悪くなっている。液晶パネルのサ
イズによっては、十数時間以上かかる場合がある。
In recent years, the size of liquid crystal panels mainly for monitors and TVs has been increasing. However, in order to form large liquid crystal panels as compared with small liquid crystal panels, the former injection method requires:
The liquid crystal injection time after evacuation and evacuation becomes very long, and the throughput is deteriorated. It may take more than ten hours depending on the size of the liquid crystal panel.

【0006】一方、後者の滴下工法においては、基板上
に必要量の液晶を滴下し真空中で貼り合わせ、液晶パネ
ル周辺部に形成された感光性硬化型シール材に紫外線照
射することにより固着することにより液晶パネルを形成
することができるため、スループットが非常に良い。
On the other hand, in the latter dripping method, a required amount of liquid crystal is dropped on a substrate, bonded in a vacuum, and fixed by irradiating ultraviolet rays to a photosensitive curable sealing material formed around the liquid crystal panel. In this way, a liquid crystal panel can be formed, so that the throughput is very good.

【0007】上記のように、注入方式に比べ、滴下方式
が生産性の面から優れているため、滴下方式の開発が盛
んになってきている。
As described above, since the dropping method is superior to the injection method from the viewpoint of productivity, the dropping method has been actively developed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、滴下方式を用
いる場合、以下のような2つの課題が生じている。すな
わち、パネル形成時の、(1)紫外線硬化型シール材へ
の紫外線照射方法、(2)真空中での基板貼合せ精度の
2つの課題である。
However, when the dropping method is used, the following two problems occur. That is, there are two problems of (1) a method of irradiating an ultraviolet-curable sealing material with ultraviolet light during panel formation, and (2) a precision of bonding a substrate in a vacuum.

【0009】まず、第1課題のパネル形成時における紫
外線硬化型シール材への紫外線照射の課題であるが、近
年、液晶パネルの表示エリア外周辺部の狭額縁化が要求
されており、これを実現するためには、図9に示すよう
に、カラーフィルタの額縁部の遮光膜4上にシール13
uを形成する設計が必要である(従来の広額縁設計で
は、カラーフィルタ額縁遮光膜4の外側にシール13u
を配置することができた)のに対し、滴下工法において
は、感光性硬化型シール13uを用いることが必須であ
るため、パネル形成する際、紫外線硬化型シール13u
の硬化ができないというものである。
First, the first problem is the problem of irradiating the ultraviolet-curable sealing material with ultraviolet rays at the time of forming the panel. In recent years, it has been required to narrow the frame around the display area outside the display area of the liquid crystal panel. In order to realize this, as shown in FIG. 9, a seal 13 is formed on the light shielding film 4 at the frame of the color filter.
u is required to be formed (in the conventional wide frame design, a seal 13u is formed outside the color filter frame light shielding film 4).
On the other hand, in the dropping method, it is essential to use the photosensitive curable seal 13u. Therefore, when forming the panel, the ultraviolet curable seal 13u is used.
Cannot be cured.

【0010】すなわち、カラーフィルタ基板1e側から
紫外線を照射する場合はカラーフィルタの周辺遮光膜4
が紫外線を遮断する。一方、その反対側のアレイ基板1
1e側から紫外線を照射する場合も、金属膜であるアレ
イ配線3が紫外線を遮断することになり紫外線硬化型で
あるシール材13uを硬化させることができない。ま
た、両側から同時に紫外線を照射する場合においても、
カラーフィルタ基板1e側は、周辺部の遮光膜4、反対
側のアレイ基板11eは、アレイ配線3と、共に紫外線
を遮光される部分があり、紫外線硬化型シール13uを
全周すべてを硬化をすることができない。
That is, when ultraviolet rays are irradiated from the color filter substrate 1e side, the peripheral light-shielding film 4
Block UV light. On the other hand, the array substrate 1 on the opposite side
Even when ultraviolet rays are irradiated from the 1e side, the array wiring 3 which is a metal film blocks the ultraviolet rays, so that the ultraviolet curing type sealing material 13u cannot be cured. Also, when irradiating ultraviolet rays simultaneously from both sides,
The color filter substrate 1e side has a light-shielding film 4 in the peripheral portion, and the array substrate 11e on the opposite side has a portion that shields ultraviolet rays together with the array wiring 3, and cures the ultraviolet curable seal 13u all around. Can not do.

【0011】また、第2課題のパネル形成時の真空中で
の基板貼り合せ精度の問題である。
The second problem is the accuracy of bonding substrates in a vacuum at the time of forming a panel.

【0012】一般にTFT液晶パネルにおいては、アレ
イ基板とカラーフィルタ基板とを組み合わせる工程にお
いて、位置合わせ精度の問題が生じる。このため、パタ
ン設計の段階において、この位置合わせ誤差を見込み、
カラーフィルタ上に形成されている遮光膜のパタン幅を
広くし、位置ずれにより表示上の不良が発生しない設計
をしている。このため、遮光膜のパタン幅を広い設計の
ため、画素開口率が小さくなり、液晶パネルの表示品位
が暗いものとなっている。
Generally, in a TFT liquid crystal panel, a problem of alignment accuracy occurs in a process of combining an array substrate and a color filter substrate. Therefore, in the pattern design stage, this alignment error is expected,
The pattern width of the light-shielding film formed on the color filter is widened so that a display defect does not occur due to misalignment. For this reason, the pattern width of the light-shielding film is designed to be wide, so that the pixel aperture ratio becomes small, and the display quality of the liquid crystal panel becomes dark.

【0013】また、近年液晶パネルの表示品位を向上さ
せるため、画素サイズを小さくする高精細化が進んでい
る。これに対して、従来アレイ設計でこのアレイ配線を
隠すために設計された対向側のカラーフィルタ基板上の
遮光膜線幅設計で単純に画素サイズを小さくするだけで
は、液晶パネルの開口率が小さくなり、更に暗いものに
なっているのが現状である。
Further, in recent years, in order to improve the display quality of a liquid crystal panel, the definition of a pixel has been reduced to a higher definition. On the other hand, simply reducing the pixel size by designing the line width of the light-shielding film on the color filter substrate on the opposite side designed to hide this array wiring in the conventional array design reduces the aperture ratio of the liquid crystal panel. At present, it is even darker.

【0014】このため、近年液晶パネルの高輝度化実現
のため、画素の高開口化技術が開発され、パネル製造設
備においての高精度アライメント技術がそのひとつであ
るが、更なるアレイメント精度向上は望めず、これ以上
の高開口化は困難な状況になっている。
Therefore, in recent years, a technique for increasing the aperture of pixels has been developed in order to realize a higher brightness of a liquid crystal panel, and one of such techniques is a high-precision alignment technique in panel manufacturing equipment. Unexpectedly, it is difficult to further increase the aperture.

【0015】このように大気圧での貼り合わせ装置にお
いても、アライメント精度向上が望めない現状で、真空
中で基板貼り合わせを行う滴下工法の場合、真空中での
基板の支持、基板の貼り合わせの方法の点で、従来の大
気圧の状態で貼り合わせる場合に比べ課題も大きいのが
現状である。
[0015] As described above, even in a bonding apparatus at atmospheric pressure, improvement in alignment accuracy cannot be expected, and in the case of a dropping method in which substrates are bonded in a vacuum, the substrate is supported and bonded in a vacuum. In terms of the method described above, there is currently a greater problem than the conventional method of bonding under atmospheric pressure.

【0016】したがって、この発明の目的は、液晶パネ
ルを形成する際、滴下方式を用いる場合、紫外線硬化型
シール材の硬化が可能で、真空中での基板貼り合わせ精
度を向上できる液晶表示装置およびその製造方法を提供
することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which can cure a UV-curable sealing material when a liquid crystal panel is formed by using a dropping method and can improve the accuracy of bonding substrates in a vacuum. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method thereof.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るためにこの発明の請求項1記載の液晶表示装置は、滴
下工法に用いる基板をアレイ基板上にカラーフィルタを
形成して組立時にアライメントを不要としたカラーフィ
ルタオンアレイ構造にするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a substrate used in a dropping method; a color filter formed on an array substrate; Is a color filter-on-array structure that eliminates the need.

【0018】すなわち、画素電極および前記画素電極を
駆動するスイッチング能動素子を形成したアレイ基板
と、前記画素電極の対向電極を形成した対向基板とを備
え、前記アレイ基板と前記対向基板のいずれか一方の基
板上に紫外線硬化型シール材を塗布し、この紫外線硬化
型シール材で囲われた部分に所望量の液晶を滴下し、前
記両基板を真空中で貼り合わせた液晶表示装置であっ
て、前記画素電極およびスイッチング能動素子間に着色
膜が形成され、この着色膜に前記画素電極とスイッチン
グ能動素子とを導通するための電気的導通手段が形成さ
れている。
That is, an array substrate on which a pixel electrode and a switching active element for driving the pixel electrode are formed, and a counter substrate on which a counter electrode of the pixel electrode is formed, wherein one of the array substrate and the counter substrate is provided. A liquid crystal display device in which an ultraviolet-curable sealing material is applied on the substrate, a desired amount of liquid crystal is dropped on a portion surrounded by the ultraviolet-curing sealing material, and the two substrates are bonded together in a vacuum. A coloring film is formed between the pixel electrode and the switching active element, and an electrical conduction unit for conducting the pixel electrode and the switching active element is formed on the coloring film.

【0019】また、紫外線硬化型シール材に対応する対
向基板上の位置にないように着色膜およびブラックマト
リクスが配置されている。
Further, the colored film and the black matrix are arranged so as not to be located on the counter substrate corresponding to the ultraviolet-curable sealing material.

【0020】このように、画素電極およびスイッチング
能動素子間に着色膜が形成され、この着色膜に画素電極
とスイッチング能動素子とを導通するための電気的導通
手段が形成されたカラーフィルタオンアレイ構造にする
ことにより、着色膜が形成されたアレイ基板と全面に対
向電極が形成された対向基板とのアライメントが不要と
なり、基板を組み立てる際の位置ずれ不良が無くなると
共に、アライメント作業が不要となって、工程を簡略化
できる。また、両基板を組み合わせる際の位置合わせ精
度の問題が生じないため、この位置合わせ誤差を見込ま
なくてもよいパタン設計ができ、遮光膜のパタン幅を更
に狭くした究極の超高開口化が実現できる。
As described above, the color filter on array structure in which the colored film is formed between the pixel electrode and the switching active element, and the conductive film for electrically connecting the pixel electrode and the switching active element is formed in the colored film. This eliminates the need for alignment between the array substrate on which the colored film is formed and the counter substrate on which the counter electrode is formed over the entire surface, eliminating misalignment defects when assembling the substrate and eliminating the need for alignment work. , The process can be simplified. Also, since there is no problem of alignment accuracy when combining both substrates, it is possible to design a pattern that does not require this alignment error, and achieve the ultimate ultra-high aperture by further narrowing the pattern width of the light shielding film. it can.

【0021】また、カラーフィルタオンアレイ基板の対
向側の対向基板はITOのみが形成されている場合、お
よびパネル周辺の額縁ブラックマトリクスが合わせて形
成されている場合においても、対向基板から紫外線硬化
型シール材に遮光膜なしに紫外線を照射することがで
き、シール材を確実に硬化させることができる。このた
め、高精細化が実現できるだけでなく、スループットの
良い液晶パネルの製造プロセスが構築できる。
In the case where only the ITO is formed on the counter substrate on the side opposite to the color filter on-array substrate and the case where the frame black matrix around the panel is also formed, the ultraviolet curable type is formed from the counter substrate. The sealing material can be irradiated with ultraviolet rays without a light-shielding film, and the sealing material can be surely cured. Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【0022】請求項2記載の液晶表示装置は、画素電極
および前記画素電極を駆動するスイッチング能動素子を
形成したアレイ基板と、カラーフィルタ上に前記画素電
極の対向電極を形成した対向基板とを備え、前記アレイ
基板と前記対向基板のいずれか一方の基板上に紫外線硬
化型シール材を塗布し、この紫外線硬化型シール材で囲
われた部分に所望量の液晶を滴下し、前記両基板を真空
中で貼り合わせた液晶表示装置であって、前記紫外線硬
化型シール材に対応する前記対向基板上の位置にないよ
うに前記カラーフィルタおよびブラックマトリクスを配
置した。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: an array substrate on which a pixel electrode and a switching active element for driving the pixel electrode are formed; and a counter substrate on which a counter electrode of the pixel electrode is formed on a color filter. A UV-curable sealing material is applied on one of the array substrate and the counter substrate, and a desired amount of liquid crystal is dropped on a portion surrounded by the UV-curable sealing material. Wherein the color filter and the black matrix are arranged so as not to be located on the counter substrate corresponding to the ultraviolet-curable sealing material.

【0023】このように、紫外線硬化型シール材に対応
する対向基板上の位置にないようにカラーフィルタおよ
びブラックマトリクスを配置したので、対向基板から紫
外線硬化型シール材に遮光膜なしに紫外線を照射するこ
とができ、シール材を確実に硬化させることができる。
このため、高精細化が実現できるだけでなく、スループ
ットの良い液晶パネルの製造プロセスが構築できる。
As described above, since the color filter and the black matrix are arranged so as not to be located on the counter substrate corresponding to the ultraviolet-curable sealing material, the ultraviolet ray is irradiated from the counter substrate to the ultraviolet-curing sealing material without a light shielding film. And the sealing material can be surely cured.
Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【0024】請求項3記載の液晶表示装置の製造方法
は、アレイ基板の画素電極およびスイッチング能動素子
間に形成した着色膜に前記画素電極とスイッチング能動
素子とを導通するための電気的導通手段を形成する工程
と、前記画素電極の対向電極を対向基板に形成する工程
と、前記アレイ基板と前記対向基板のいずれか一方の基
板上に紫外線硬化型シール材を塗布し、この紫外線硬化
型シール材で囲われた部分に所望量の液晶を滴下し、前
記両基板を真空中で貼り合わせる工程と、前記紫外線硬
化型シール材を前記対向基板側から照射し硬化する工程
とを含む。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein the colored film formed between the pixel electrode and the switching active element on the array substrate is provided with an electric conduction means for conducting the pixel electrode and the switching active element. Forming, a step of forming a counter electrode of the pixel electrode on a counter substrate, and applying a UV-curable seal material on one of the array substrate and the counter substrate, A step of dropping a desired amount of liquid crystal onto a portion surrounded by a circle and bonding the two substrates in a vacuum, and a step of irradiating the ultraviolet-curable sealing material from the counter substrate side and curing the same.

【0025】このように、アレイ基板の画素電極および
スイッチング能動素子間に形成した着色膜に画素電極と
スイッチング能動素子とを導通するための電気的導通手
段を形成するので、請求項1と同様にアライメント作業
が不要となって、工程を簡略化でき、また遮光膜のパタ
ン幅を更に狭くした究極の超高開口化が実現できる。
As described above, the colored film formed between the pixel electrode and the switching active element on the array substrate is provided with the electrical conduction means for conducting the pixel electrode and the switching active element. This eliminates the need for alignment work, thereby simplifying the process, and achieving the ultimate ultra-high aperture with the pattern width of the light-shielding film further reduced.

【0026】また、紫外線硬化型シール材を画素電極の
対向電極のみが形成された対向基板側から照射し硬化す
るので、紫外線硬化型シール材に遮光膜なしに紫外線を
照射することができ、シール材を確実に硬化させること
ができる。このため、高精細化が実現できるだけでな
く、スループットの良い液晶パネルの製造プロセスが構
築できる。
Also, since the ultraviolet-curable sealing material is irradiated and cured from the side of the counter substrate on which only the counter electrode of the pixel electrode is formed, the ultraviolet-curable sealing material can be irradiated with ultraviolet light without a light-shielding film. The material can be reliably cured. Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【0027】請求項4記載の液晶表示装置の製造方法
は、画素電極およびスイッチング能動素子をアレイ基板
に形成する工程と、対向基板のカラーフィルタ上に前記
画素電極の対向電極を形成する工程と、前記アレイ基板
と前記対向基板のいずれか一方の基板上に紫外線硬化型
シール材を塗布し、この紫外線硬化型シール材で囲われ
た部分に所望量の液晶を滴下し、前記両基板を真空中で
貼り合わせる工程とを含み、前記紫外線硬化型シール材
に対応する前記対向基板上の位置にないように前記カラ
ーフィルタおよびブラックマトリクスを配置し、前記紫
外線硬化型シール材を前記対向基板側から照射し硬化す
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: forming a pixel electrode and a switching active element on an array substrate; and forming a counter electrode of the pixel electrode on a color filter of the counter substrate. A UV-curable sealing material is applied on one of the array substrate and the counter substrate, and a desired amount of liquid crystal is dropped on a portion surrounded by the UV-curable sealing material. Bonding the color filter and the black matrix so as not to be at a position on the counter substrate corresponding to the ultraviolet-curable seal material, and irradiating the ultraviolet-curable seal material from the counter substrate side. And harden.

【0028】このように、紫外線硬化型シール材に対応
する対向基板上の位置にないようにカラーフィルタおよ
びブラックマトリクスを配置し、紫外線硬化型シール材
を対向基板側から照射し硬化するので、請求項2と同様
に紫外線硬化型シール材に遮光膜なしに紫外線を照射す
ることができ、シール材を確実に硬化させることができ
る。このため、高精細化が実現できるだけでなく、スル
ープットの良い液晶パネルの製造プロセスが構築でき
る。
As described above, the color filter and the black matrix are arranged so as not to be located on the counter substrate corresponding to the ultraviolet-curable seal material, and the ultraviolet-curable seal material is irradiated from the counter substrate side and cured. As in the item 2, the ultraviolet-curable sealing material can be irradiated with ultraviolet rays without a light-shielding film, and the sealing material can be surely cured. Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】この発明の第1の実施の形態を図
1〜図3に基づいて説明する。図1はこの発明の第1の
実施の形態のカラーフィルタオンアレイ基板を用いた液
晶表示装置の断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display device using a color filter on array substrate according to a first embodiment of the present invention.

【0030】図1に示すように、この液晶表示素子31
aは、画素電極8および画素電極8を駆動するスイッチ
ング能動素子3を形成したアレイ基板11aと、画素電
極8の対向電極10を形成した対向基板1aとを備え、
アレイ基板11aと対向基板1aのいずれか一方の基板
上に紫外線硬化型シール材13uを塗布し、この紫外線
硬化型シール材13uで囲われた部分に所望量の液晶1
4を滴下し、両基板1a,11aを真空中で貼り合わせ
た構成である。また、画素電極8およびスイッチング能
動素子3間に着色膜6が形成され、この着色膜6に画素
電極8とスイッチング能動素子3とを導通するための電
気的導通手段(コンタクトホール)7が形成されてい
る。
As shown in FIG. 1, the liquid crystal display element 31
a includes an array substrate 11a on which a pixel electrode 8 and a switching active element 3 for driving the pixel electrode 8 are formed, and a counter substrate 1a on which a counter electrode 10 of the pixel electrode 8 is formed;
An ultraviolet-curable sealing material 13u is applied on one of the array substrate 11a and the counter substrate 1a, and a desired amount of the liquid crystal 1 is applied to a portion surrounded by the ultraviolet-curing sealing material 13u.
4 is dropped, and both substrates 1a and 11a are bonded together in a vacuum. Further, a coloring film 6 is formed between the pixel electrode 8 and the switching active element 3, and an electrical conduction means (contact hole) 7 for conducting the pixel electrode 8 and the switching active element 3 is formed in the coloring film 6. ing.

【0031】図2,3はこの発明の第1の実施の形態に
おいてカラーフィルタが形成されたアレイ基板の形成工
程を示す基板断面図である。
FIGS. 2 and 3 are cross-sectional views showing a process of forming an array substrate on which a color filter is formed in the first embodiment of the present invention.

【0032】カラーフィルタが形成されたアレイ基板1
1aの形成に際しては、まず、図2(a)に示すよう
に、ガラス基板2b上に、スイッチング能動素子3を、
一般的な半導体薄膜成膜と、絶縁膜成膜と、フォトリソ
法によるエッチングとを繰り返すことにより形成する。
さらに、同図(b)に示すように、能動素子3を形成し
たガラス基板2b上に有機顔料を分散したブラックレジ
ストを形成し、フォトリソ法により遮光膜4を所要パタ
ーン形状に形成する。このフォトリソに用いる露光機と
しては、プロキシミティ露光装置が生産性の上からは、
好適である。ただし、パタニング精度を向上させるため
には、ミラープロジェクション露光装置を用いてもよ
い。また、上記のブラックレジストは、その成膜後の材
料特性として、電気抵抗率が1012Ω・cm以上、誘電
率4以下、OD値3以上のものが好適である。次に、同
図(c)に示すように、遮光膜4が形成されたガラス基
板2b上に顔料分散の感光性着色樹脂6を形成し、同図
(d)に示すように、ガラス基板2b表面からマスクを
用いて、紫外線17で露光し、その後現像することによ
り、図3(e)に示すように、感光性着色樹脂6を所要
パタン形状に形成できる。さらに、これを繰り返すこと
により、RGBが形成される。今回、遮光膜4の形成
後、RGBを形成したが、遮光膜4およびRGBの形成
順は、いずれの順でもよい。また、コンタクトホール部
7aを形成する。
Array substrate 1 on which color filters are formed
When forming 1a, first, as shown in FIG. 2A, a switching active element 3 is placed on a glass substrate 2b.
It is formed by repeating a general semiconductor thin film formation, an insulation film formation, and etching by a photolithography method.
Further, as shown in FIG. 3B, a black resist in which an organic pigment is dispersed is formed on the glass substrate 2b on which the active elements 3 are formed, and the light-shielding film 4 is formed in a required pattern shape by a photolithography method. As an exposure machine used for this photolithography, a proximity exposure apparatus is used from the viewpoint of productivity.
It is suitable. However, in order to improve the patterning accuracy, a mirror projection exposure apparatus may be used. The black resist preferably has an electrical resistivity of 10 12 Ω · cm or more, a dielectric constant of 4 or less, and an OD value of 3 or more as the material properties after the film formation. Next, as shown in FIG. 4C, a photosensitive colored resin 6 in which a pigment is dispersed is formed on the glass substrate 2b on which the light-shielding film 4 is formed, and as shown in FIG. The photosensitive colored resin 6 can be formed in a required pattern shape as shown in FIG. 3E by exposing from the surface with ultraviolet rays 17 using a mask and then developing. Further, by repeating this, RGB is formed. In this case, RGB was formed after the formation of the light shielding film 4, but the order of forming the light shielding film 4 and the RGB may be any order. Further, a contact hole 7a is formed.

【0033】更に、この後、場合によっては同図(f)
に示すようにRGB着色層6R,6G,6B上に平坦化
膜5を形成する。この平坦化膜5としては、アクリル系
の感光性タイプの樹脂が好適である。この場合、上記の
ようにしてコンタクトホール部7aに形成された平坦化
膜5に、フォトリソ法によりコンタクトホール7を形成
する。最後に、同図(g)に示すようにITOスパッタ
により全面に透明電極を形成し、その上でフォトリソ法
によって画素電極8をパタニングすることにより、コン
タクトホール7を介して能動素子3と電気的に導通され
た画素電極8を形成することができる。これにより、カ
ラーフィルタオンアレイ基板11aが形成される。
Thereafter, as shown in FIG.
The flattening film 5 is formed on the RGB colored layers 6R, 6G, 6B as shown in FIG. As the flattening film 5, an acrylic photosensitive type resin is preferable. In this case, the contact holes 7 are formed in the planarization film 5 formed in the contact hole portions 7a by the photolithography method as described above. Finally, as shown in FIG. 2G, a transparent electrode is formed on the entire surface by ITO sputtering, and then the pixel electrode 8 is patterned by the photolithography method, thereby electrically connecting the active element 3 through the contact hole 7. Can be formed. Thereby, the color filter on array substrate 11a is formed.

【0034】上記のようにして製造されたカラーフィル
タオンアレイ基板11aを用いたTFT型液晶パネルを
製造する際には、図1に示すように、上記のカラーフィ
ルタオンアレイ基板11aとガラス基板2aの上に透明
電極10が形成された対向基板1aとの相対向する面に
配向膜9a,9bをそれぞれ形成する。
When manufacturing a TFT type liquid crystal panel using the color filter on array substrate 11a manufactured as described above, as shown in FIG. 1, the color filter on array substrate 11a and the glass substrate 2a are used. The alignment films 9a and 9b are formed on the surface opposite to the counter substrate 1a on which the transparent electrode 10 is formed.

【0035】この後、滴下方式で液晶パネルを形成す
る。液晶パネル工程では、カラーフィルタオンアレイ基
板11b上に配向膜9bを表示エリア部に形成した後、
ラビング処理、球状のスペーサ15の散布を行う。
Thereafter, a liquid crystal panel is formed by a dropping method. In the liquid crystal panel process, after forming the alignment film 9b on the display area portion on the color filter on array substrate 11b,
Rubbing treatment and dispersion of spherical spacers 15 are performed.

【0036】一方、対向電極10を形成した対向基板1
bにも配向膜9aを表示エリア部に形成した後、ラビン
グ処理を行い、次に、スクリーン印刷方式または、描画
方式により表示エリア周辺部に感光性シール材13uを
形成する。更に、その感光性シール材13uで囲われた
部分に液晶14を所望量滴下する。
On the other hand, the counter substrate 1 on which the counter electrode 10 is formed
After forming the alignment film 9a also on the display area b, a rubbing process is performed, and then a photosensitive sealing material 13u is formed around the display area by a screen printing method or a drawing method. Further, a desired amount of liquid crystal 14 is dropped on a portion surrounded by the photosensitive sealing material 13u.

【0037】この後、図8(b)に示した滴下方式と同
様に、定板56bに感光性シール材13uおよび液晶1
4を滴下した対向基板1aを固定し、一方、上定板56
aにカラーフィルタオンアレイ基板11aを固定した
後、真空槽51c内の大気を真空ポンプ54により排
出、真空状態で両基板1a,11aの位置をアライメン
トした後、上定板を降下させ両基板1a,11aを貼り
合わせるものである。最後に、対向基板1a側から紫外
線を照射することにより、感光性シール材13uを硬化
させ、両基板1a,11aを固着させるものである。す
なわち、紫外線硬化型シール材13uが形成された部分
には紫外線を遮断する膜が形成されていないためシール
材13uは、紫外線により硬化される。
After that, similarly to the dropping method shown in FIG. 8B, the photosensitive sealing material 13u and the liquid crystal 1
4 is fixed, and the upper plate 56 is fixed.
After the color filter on-array substrate 11a is fixed to a, the atmosphere in the vacuum chamber 51c is evacuated by the vacuum pump 54, and the positions of the substrates 1a, 11a are aligned in a vacuum state. , 11a. Finally, the photosensitive sealing material 13u is cured by irradiating ultraviolet rays from the counter substrate 1a side, and the substrates 1a and 11a are fixed. That is, since a film that blocks ultraviolet light is not formed in the portion where the ultraviolet-curable seal material 13u is formed, the seal material 13u is cured by ultraviolet light.

【0038】また今回は、対向基板1aはITOのみが
形成された場合について説明したが、対向基板にパネル
周辺部の額縁ブラックマトリクスが形成された場合にお
いても紫外線硬化型シール材13uが形成された部分
に、この額縁ブラックマトリクスを形成しない設計にす
ることによりシール材13uは紫外線により硬化される
ものである。
Also, in this embodiment, the case where only the ITO is formed on the opposing substrate 1a has been described. However, even when the frame black matrix around the panel is formed on the opposing substrate, the ultraviolet curable sealing material 13u is formed. By designing the frame black matrix not to be formed in the portion, the sealing material 13u is cured by ultraviolet rays.

【0039】なお、カラーフィルタオンアレイ基板11
aに感光性シール材13uおよび液晶14を滴下して定
板56bに固定し、上定板56aに対向基板1bを固定
してもよい。また、液晶は、両基板を貼り合わせる際に
パネル内に均一に拡散するものである。
The color filter on array substrate 11
Alternatively, the photosensitive sealing material 13u and the liquid crystal 14 may be dropped and fixed to the plate 56b, and the counter substrate 1b may be fixed to the upper plate 56a. The liquid crystal is uniformly diffused into the panel when the two substrates are bonded.

【0040】このように、従来の真空注入方式で形成し
た液晶パネルは、液晶を注入するための注入口があるの
に対し、この実施の形態の滴下方式で形成した液晶パネ
ルにおいては、シール部に注入口がないのが特徴であ
る。
As described above, the liquid crystal panel formed by the conventional vacuum injection method has an injection port for injecting liquid crystal, whereas the liquid crystal panel formed by the dropping method of this embodiment has a sealing portion. The feature is that there is no inlet.

【0041】この発明の第2の実施の形態を図4〜図6
に基づいて説明する。図4はこの発明の第2の実施の形
態でカラーフィルタ基板を用いた液晶表示装置の平面図
である。
FIGS. 4 to 6 show a second embodiment of the present invention.
It will be described based on. FIG. 4 is a plan view of a liquid crystal display device using a color filter substrate according to a second embodiment of the present invention.

【0042】図4に示すように、液晶表示素子31b
は、画素電極および画素電極を駆動するスイッチング能
動素子3を形成したアレイ基板11cと、カラーフィル
タ6上に画素電極の対向電極を形成した対向基板1cと
を備え、アレイ基板11cと対向基板1cのいずれか一
方の基板上に紫外線硬化型シール材13uを塗布し、こ
の紫外線硬化型シール材13uで囲われた部分に所望量
の液晶を滴下し、両基板1c,11cを真空中で貼り合
わせた構成である。また、紫外線硬化型シール材13u
に対応する対向基板1c上の位置にないようにカラーフ
ィルタ6およびブラックマトリクスを配置した。この場
合、アレイ基板11cに額縁部の遮光膜4が形成されて
いる。
As shown in FIG. 4, the liquid crystal display element 31b
Comprises an array substrate 11c on which a pixel electrode and a switching active element 3 for driving the pixel electrode are formed, and a counter substrate 1c on which a counter electrode of the pixel electrode is formed on the color filter 6, and includes an array substrate 11c and a counter substrate 1c. An ultraviolet-curable sealing material 13u is applied on one of the substrates, a desired amount of liquid crystal is dropped on a portion surrounded by the ultraviolet-curing sealing material 13u, and the substrates 1c and 11c are bonded together in a vacuum. Configuration. Further, an ultraviolet-curable sealing material 13u
The color filter 6 and the black matrix are arranged so as not to be located on the opposing substrate 1c corresponding to. In this case, the light shielding film 4 in the frame portion is formed on the array substrate 11c.

【0043】図5,6はこの発明の第2の実施の形態の
液晶表示装置のアレイ基板およびカラーフィルタ基板の
形成工程を示す基板平面図である。遮光膜4が形成され
たアレイ基板11cの形成は、図5(a)から(b)に
示すように行われる。
FIGS. 5 and 6 are plan views showing the steps of forming an array substrate and a color filter substrate of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. The formation of the array substrate 11c on which the light shielding film 4 is formed is performed as shown in FIGS.

【0044】すなわち、同図(a)に示すように、ガラ
ス基板2b上に、アレイ配線およびスイッチング能動素
子3を形成する。さらに、同図(b)に示すように、ア
レイ配線および能動素子3を形成したガラス基板2b上
に有機顔料を分散したブラックレジストを形成し、フォ
トリソ法により遮光膜4を所要パターン形状に形成す
る。
That is, as shown in FIG. 1A, an array wiring and a switching active element 3 are formed on a glass substrate 2b. Further, as shown in FIG. 3B, a black resist in which an organic pigment is dispersed is formed on the glass substrate 2b on which the array wiring and the active elements 3 are formed, and the light-shielding film 4 is formed in a required pattern by a photolithography method. .

【0045】一方、同図(b)に示すように、カラーフ
ィルタ基板1cの形成は、まず、ガラス基板2a上に顔
料分散の感光性着色樹脂6を形成し、ガラス基板2a表
面からマスクを用いて、紫外線17で露光、現像するこ
とにより、着色膜6Rを所要パタン形状に形成できる。
さらに、これを繰り返すことにより、RGBが形成され
る。
On the other hand, as shown in FIG. 4B, the color filter substrate 1c is formed by first forming a pigment-dispersed photosensitive colored resin 6 on a glass substrate 2a and using a mask from the surface of the glass substrate 2a. The colored film 6R can be formed in a required pattern by exposing and developing with the ultraviolet rays 17.
Further, by repeating this, RGB is formed.

【0046】次に、遮光膜4として有機顔料を分散した
ブラックレジストを形成、裏面露光することにより、先
に形成したRGB膜をマスクとして、RGB間に遮光膜
4を形成する。この際、紫外線硬化型シール材13uを
形成する部分には、遮光膜4を形成しない設計にする。
更に、ITOスパッタにより全面に透明電極を形成する
ことにより、カラーフィルタ基板1cが形成される。
Next, a black resist in which an organic pigment is dispersed is formed as the light-shielding film 4, and the back surface is exposed to form the light-shielding film 4 between the RGB using the previously formed RGB film as a mask. At this time, a design is adopted in which the light-shielding film 4 is not formed in the portion where the ultraviolet-curable sealing material 13u is formed.
Further, the color filter substrate 1c is formed by forming a transparent electrode on the entire surface by ITO sputtering.

【0047】また、図6(c)に示すように、滴下方式
で液晶パネルを形成する。すなわち、対向基板1cとア
レイ基板11cとを合せて配向膜形成、ラビング処理
し、いずれか一方の基板にスペーサ形成、いずれか一方
の基板に感光性シール材13uを形成した後、液晶を所
望量滴下し、図8(b)に示した滴下方式と同様に、真
空中で両基板1c,11cを貼り合わせ、感光性シール
材13uに対向基板(カラーフィルタが形成された)1
c側から紫外線を照射することにより、シール材13u
を硬化し、両基板1c,11cを固着するものである。
As shown in FIG. 6C, a liquid crystal panel is formed by a dropping method. That is, after aligning the opposite substrate 1c and the array substrate 11c to form an alignment film and performing a rubbing process, forming a spacer on one of the substrates, forming a photosensitive sealing material 13u on one of the substrates, and then forming a desired amount of liquid crystal. The two substrates 1c and 11c are stuck together in a vacuum in the same manner as in the dropping method shown in FIG. 8B, and the opposing substrate (on which a color filter is formed) 1 is formed on the photosensitive sealing material 13u.
By irradiating ultraviolet rays from the c side, the sealing material 13u
To fix the two substrates 1c and 11c.

【0048】最後に、同図(d)に示すように、19に
示す破線に沿って切断することにより、所望の液晶パネ
ルが得られるものである。
Finally, as shown in FIG. 4D, a desired liquid crystal panel can be obtained by cutting along the broken line 19.

【0049】但し、場合によっては、図5(b)に示し
たアレイ基板11c上に形成した遮光膜4は形成しなく
てもかまわない。更に、同図(b)に示したカラーフィ
ルタ基板1cの遮光膜4についても形成しなくても可能
である。
However, in some cases, the light-shielding film 4 formed on the array substrate 11c shown in FIG. 5B may not be formed. Further, the light-shielding film 4 of the color filter substrate 1c shown in FIG.

【0050】以上のように、実施の形態1および2で形
成された対向基板1aおよびカラーフィルタ基板1cに
ついては、紫外線硬化型シール材13uが形成される部
分には、遮光膜4が形成されていないため、それぞれこ
れらの基板側から紫外線を照射することにより、紫外線
硬化型シール13uを硬化することができた。
As described above, with respect to the counter substrate 1a and the color filter substrate 1c formed in the first and second embodiments, the light-shielding film 4 is formed at the portion where the ultraviolet-curable sealing material 13u is formed. Therefore, the ultraviolet curable seal 13u could be cured by irradiating ultraviolet rays from these substrate sides.

【0051】また、紫外線を液晶パネルの対向基板側か
ら照射する際、液晶に直接紫外線を照射すると表示特性
の低下を起こすため、液晶が封入された部分には、マス
クを配置し、遮光してもよい。
Further, when irradiating ultraviolet rays from the opposite substrate side of the liquid crystal panel, direct irradiation of the liquid crystal with ultraviolet rays causes deterioration of display characteristics. Therefore, a mask is arranged at a portion where the liquid crystal is sealed, and light is shielded from light. Is also good.

【0052】[0052]

【発明の効果】この発明の請求項1記載の液晶表示装置
によれば、画素電極およびスイッチング能動素子間に着
色膜が形成され、この着色膜に画素電極とスイッチング
能動素子とを導通するための電気的導通手段が形成され
ることで、滴下工法に用いるアレイ基板上に着色膜を形
成したカラーフィルタオンアレイ構造にすることによ
り、組立時に着色膜が形成されたアレイ基板と全面に対
向電極が形成された対向基板とのアライメントが不要と
なり、基板を組み立てる際の位置ずれ不良が無くなると
共に、アライメント作業が不要となって、工程を簡略化
できる。また、両基板を組み合わせる際の位置合わせ精
度の問題が生じないため、この位置合わせ誤差を見込ま
なくてもよいパタン設計ができ、遮光膜のパタン幅を更
に狭くした究極の超高開口化が実現できる。
According to the liquid crystal display device of the first aspect of the present invention, a colored film is formed between the pixel electrode and the switching active element, and the colored film is used to conduct the pixel electrode and the switching active element. By forming the electrical conduction means, a color filter is formed on the array substrate used for the dropping method, thereby forming a color filter on array structure. Alignment with the formed opposing substrate is not required, so that there is no displacement error when assembling the substrate, and no alignment work is required, thereby simplifying the process. Also, since there is no problem of alignment accuracy when combining both substrates, it is possible to design a pattern that does not require this alignment error, and achieve the ultimate ultra-high aperture by further narrowing the pattern width of the light shielding film. it can.

【0053】また、カラーフィルタオンアレイ基板の対
向側の対向基板はITOのみが形成されている場合、お
よびパネル周辺の額縁ブラックマトリクスが合わせて形
成されている場合においても、対向基板基板から紫外線
硬化型シール材に遮光膜なしに紫外線を照射することが
でき、シール材を確実に硬化させることができる。この
ため、高精細化が実現できるだけでなく、スループット
の良い液晶パネルの製造プロセスが構築できる。
In the case where only the ITO is formed on the counter substrate on the side opposite to the color filter on-array substrate and the case where the frame black matrix around the panel is formed together, the counter substrate is cured by ultraviolet rays. The mold sealing material can be irradiated with ultraviolet light without a light-shielding film, and the sealing material can be surely cured. Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【0054】この発明の請求項2記載の液晶表示装置に
よれば、紫外線硬化型シール材に対応する対向基板上の
位置にないようにカラーフィルタおよびブラックマトリ
クスを配置したので、対向基板から紫外線硬化型シール
材に遮光膜なしに紫外線を照射することができ、シール
材を確実に硬化させることができる。このため、高精細
化が実現できるだけでなく、スループットの良い液晶パ
ネルの製造プロセスが構築できる。
According to the liquid crystal display device of the second aspect of the present invention, the color filter and the black matrix are arranged so as not to be located on the opposite substrate corresponding to the ultraviolet-curable sealing material. The mold sealing material can be irradiated with ultraviolet light without a light-shielding film, and the sealing material can be surely cured. Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【0055】この発明の請求項3記載の液晶表示装置の
製造方法によれば、アレイ基板の画素電極およびスイッ
チング能動素子間に形成した着色膜に画素電極とスイッ
チング能動素子とを導通するための電気的導通手段を形
成するので、請求項1と同様にアライメント作業が不要
となって、工程を簡略化でき、また遮光膜のパタン幅を
更に狭くした究極の超高開口化が実現できる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the third aspect of the present invention, the electrical connection between the pixel electrode of the array substrate and the colored active film formed between the switching active element for electrically connecting the pixel electrode and the switching active element. Since the conductive means is formed, the alignment work is not required as in the first aspect, the process can be simplified, and the ultimate ultra-high aperture with the pattern width of the light shielding film further reduced can be realized.

【0056】また、紫外線硬化型シール材を画素電極の
対向電極のみが形成された対向基板側から照射し硬化す
るので、紫外線硬化型シール材に遮光膜なしに紫外線を
照射することができ、シール材を確実に硬化させること
ができる。このため、高精細化が実現できるだけでな
く、スループットの良い液晶パネルの製造プロセスが構
築できる。
Further, since the ultraviolet-curable sealing material is irradiated and cured from the side of the counter substrate on which only the counter electrode of the pixel electrode is formed, the ultraviolet-curable sealing material can be irradiated with ultraviolet rays without a light-shielding film. The material can be reliably cured. Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【0057】この発明の請求項4記載の液晶表示装置の
製造方法によれば、紫外線硬化型シール材に対応する対
向基板上の位置にないようにカラーフィルタおよびブラ
ックマトリクスを配置し、紫外線硬化型シール材を対向
基板側から照射し硬化するので、請求項2と同様に紫外
線硬化型シール材に遮光膜なしに紫外線を照射すること
ができ、シール材を確実に硬化させることができる。こ
のため、高精細化が実現できるだけでなく、スループッ
トの良い液晶パネルの製造プロセスが構築できる。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the fourth aspect of the present invention, the color filter and the black matrix are arranged so as not to be located on the opposite substrate corresponding to the ultraviolet-curable sealing material. Since the sealing material is irradiated and cured from the counter substrate side, the ultraviolet-curable sealing material can be irradiated with ultraviolet rays without a light-shielding film in the same manner as in claim 2, and the sealing material can be surely cured. Therefore, not only high definition can be realized, but also a liquid crystal panel manufacturing process with high throughput can be constructed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施の形態のカラーフィルタ
オンアレイ基板を用いた液晶表示装置の断面図
FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display device using a color filter on array substrate according to a first embodiment of the present invention;

【図2】この発明の第1の実施の形態のカラーフィルタ
オンアレイ基板の製造プロセスを示す工程毎の断面図
FIG. 2 is a sectional view of each step showing a manufacturing process of the color filter on array substrate according to the first embodiment of the present invention;

【図3】図2の後の製造プロセスを示す工程毎の断面図FIG. 3 is a sectional view of each step showing a manufacturing process after FIG. 2;

【図4】この発明の第2の実施の形態のカラーフィルタ
基板を用いた液晶表示装置の平面図
FIG. 4 is a plan view of a liquid crystal display device using a color filter substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図5】この発明の第2の実施の形態の液晶表示装置の
アレイ基板およびカラーフィルタ基板の製造プロセスを
示す工程毎の平面図
FIG. 5 is a plan view of each step showing a manufacturing process of an array substrate and a color filter substrate of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】図5の後の製造プロセスを示す工程毎の平面図6 is a plan view of each step showing a manufacturing process after FIG. 5;

【図7】従来例を示した液晶表示装置の断面図FIG. 7 is a sectional view of a liquid crystal display device showing a conventional example.

【図8】注入方式および滴下方式の液晶をパネル内に充
填する方法を示した構成図
FIG. 8 is a configuration diagram showing a method for filling a panel with liquid crystal of an injection type and a dropping type.

【図9】従来例の液晶表示装置のパネル工程でのシール
材の位置を示した平面図
FIG. 9 is a plan view showing a position of a sealing material in a panel process of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a 対向基板 3 スイッチング能動素子 4 遮光膜 5 平坦化膜 6 着色膜 7 コンタクトホール 8 画素電極 9a,9b 配向膜 10 対向電極 11a カラーフィルタオンアレイ基板 13u 紫外線硬化型シール材 14 液晶 15 スペーサ 16 フォトマスク 31 液晶表示素子 51 真空槽 52 液晶バット 53 大気 54 真空ポンプ 55 注入口 56 定板 Reference Signs List 1a Counter substrate 3 Switching active element 4 Shielding film 5 Flattening film 6 Coloring film 7 Contact hole 8 Pixel electrode 9a, 9b Alignment film 10 Counter electrode 11a Color filter on array substrate 13u UV curable sealing material 14 Liquid crystal 15 Spacer 16 Photo mask 31 liquid crystal display element 51 vacuum chamber 52 liquid crystal bat 53 atmosphere 54 vacuum pump 55 inlet 56 plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小関 秀夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA11 BA45 BA47 BB02 BB44 2H089 LA07 LA41 NA25 QA12 TA01 TA09 TA12 TA13 2H091 FA35Y FB04 GA01 GA08 GA13 LA12 2H092 GA29 JA24 JA46 MA13 MA17 NA27 PA01 PA03 PA08 PA09 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Hideo Koseki 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 2H048 BA11 BA45 BA47 BB02 BB44 2H089 LA07 LA41 NA25 QA12 TA01 TA09 TA12 TA13 2H091 FA35Y FB04 GA01 GA08 GA13 LA12 2H092 GA29 JA24 JA46 MA13 MA17 NA27 PA01 PA03 PA08 PA09

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 画素電極および前記画素電極を駆動する
スイッチング能動素子を形成したアレイ基板と、前記画
素電極の対向電極を形成した対向基板とを備え、前記ア
レイ基板と前記対向基板のいずれか一方の基板上に紫外
線硬化型シール材を塗布し、この紫外線硬化型シール材
で囲われた部分に所望量の液晶を滴下し、前記両基板を
真空中で貼り合わせた液晶表示装置であって、前記画素
電極およびスイッチング能動素子間に着色膜が形成さ
れ、この着色膜に前記画素電極とスイッチング能動素子
とを導通するための電気的導通手段が形成され、前記紫
外線硬化型シール材に対応する前記対向基板上の位置に
ないように前記着色膜およびブラックマトリクスを配置
したことを特徴とする液晶表示装置。
1. An array substrate on which a pixel electrode and a switching active element for driving the pixel electrode are formed, and a counter substrate on which a counter electrode of the pixel electrode is formed, wherein one of the array substrate and the counter substrate is provided. A liquid crystal display device in which an ultraviolet-curable sealing material is applied on the substrate, a desired amount of liquid crystal is dropped on a portion surrounded by the ultraviolet-curing sealing material, and the two substrates are bonded together in a vacuum. A coloring film is formed between the pixel electrode and the switching active element, and an electrical conduction means for conducting the pixel electrode and the switching active element is formed on the coloring film. A liquid crystal display device, wherein the colored film and the black matrix are arranged so as not to be located on a counter substrate.
【請求項2】 画素電極および前記画素電極を駆動する
スイッチング能動素子を形成したアレイ基板と、カラー
フィルタ上に前記画素電極の対向電極を形成した対向基
板とを備え、前記アレイ基板と前記対向基板のいずれか
一方の基板上に紫外線硬化型シール材を塗布し、この紫
外線硬化型シール材で囲われた部分に所望量の液晶を滴
下し、前記両基板を真空中で貼り合わせた液晶表示装置
であって、前記紫外線硬化型シール材に対応する前記対
向基板上の位置にないように前記カラーフィルタおよび
ブラックマトリクスを配置したことを特徴とする液晶表
示装置。
2. An array substrate on which pixel electrodes and switching active elements for driving the pixel electrodes are formed, and a counter substrate on which a counter electrode of the pixel electrodes are formed on a color filter, wherein the array substrate and the counter substrate are provided. A liquid crystal display device in which an ultraviolet-curable sealing material is applied on one of the substrates, a desired amount of liquid crystal is dropped on a portion surrounded by the ultraviolet-curing sealing material, and the two substrates are bonded together in a vacuum. Wherein the color filter and the black matrix are arranged so as not to be located on the counter substrate corresponding to the ultraviolet-curable sealing material.
【請求項3】 アレイ基板の画素電極およびスイッチン
グ能動素子間に形成した着色膜に前記画素電極とスイッ
チング能動素子とを導通するための電気的導通手段を形
成する工程と、前記画素電極の対向電極を対向基板に形
成する工程と、前記アレイ基板と前記対向基板のいずれ
か一方の基板上に紫外線硬化型シール材を塗布し、この
紫外線硬化型シール材で囲われた部分に所望量の液晶を
滴下し、前記両基板を真空中で貼り合わせる工程と、前
記紫外線硬化型シール材を前記対向基板側から照射し硬
化する工程とを含む液晶表示装置の製造方法。
3. A step of forming, on a colored film formed between a pixel electrode and a switching active element of the array substrate, an electric conduction means for conducting the pixel electrode and the switching active element, and a counter electrode of the pixel electrode. Forming an opposite substrate, and applying an ultraviolet-curable sealing material on one of the array substrate and the counter substrate, and applying a desired amount of liquid crystal to a portion surrounded by the ultraviolet-curing sealing material. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of dropping and bonding the two substrates in a vacuum; and a step of irradiating and curing the ultraviolet-curable sealing material from the counter substrate side.
【請求項4】 画素電極およびスイッチング能動素子を
アレイ基板に形成する工程と、対向基板のカラーフィル
タ上に前記画素電極の対向電極を形成する工程と、前記
アレイ基板と前記対向基板のいずれか一方の基板上に紫
外線硬化型シール材を塗布し、この紫外線硬化型シール
材で囲われた部分に所望量の液晶を滴下し、前記両基板
を真空中で貼り合わせる工程とを含み、前記紫外線硬化
型シール材に対応する前記対向基板上の位置にないよう
に前記カラーフィルタおよびブラックマトリクスを配置
し、前記紫外線硬化型シール材を前記対向基板側から照
射し硬化することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
4. A step of forming a pixel electrode and a switching active element on an array substrate, a step of forming a counter electrode of the pixel electrode on a color filter of a counter substrate, and one of the array substrate and the counter substrate. Applying a UV-curable sealing material on the substrate, dropping a desired amount of liquid crystal onto a portion surrounded by the UV-curable sealing material, and bonding the two substrates together in a vacuum. A liquid crystal display device, wherein the color filter and the black matrix are arranged so as not to be located on the counter substrate corresponding to a mold sealing material, and the ultraviolet curing sealing material is irradiated from the counter substrate side and cured. Manufacturing method.
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