JP2002331614A - Mold release film - Google Patents

Mold release film

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JP2002331614A
JP2002331614A JP2001138400A JP2001138400A JP2002331614A JP 2002331614 A JP2002331614 A JP 2002331614A JP 2001138400 A JP2001138400 A JP 2001138400A JP 2001138400 A JP2001138400 A JP 2001138400A JP 2002331614 A JP2002331614 A JP 2002331614A
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release layer
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold release film having excellent characteristics when used as a carrier film in a step of molding an anisotropic conductive film having adhesive properties or when used as a separator at the time of winding. SOLUTION: The mold release film comprises a mold release layer A formed on one side surface of a polyester film, and a mold release layer B provided on the other surface. The mold release film is used as the carrier film in the step of molding the anisotropic conductive film having the adhesive properties, and as the separator at the time of winding. The centerline mean roughness and a release force of each of the surfaces of the layers A and B are in specific ranges. The overall light ray permeability and the haze value of the mold release film are in specific ranges.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は離形フイルムに関
し、更に詳しくは、粘着性を有する異方性導電膜を成形
する工程でキャリアフイルムとして使用する場合、或い
は巻取り時にセパレータとして使用する場合の特性に優
れた離形フイルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a release film, and more particularly, to a release film used as a carrier film in a step of forming an anisotropic conductive film having tackiness, or used as a separator during winding. The present invention relates to a release film having excellent characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶パネルのガラス基板上のITO端子
と、フレキシブル基板やTCP(Tapecarrie
r psckage)の端子とを接続する場合や、半導
体チップをマザーボード上にフリップチップ接合する場
合のように、2つの回路素子を接着すると共にその間の
端子を電気的に接続するための材料として、接着性を有
する異方性導電膜が広く用いられている。
2. Description of the Related Art An ITO terminal on a glass substrate of a liquid crystal panel is connected to a flexible substrate or a TCP (Tapecarrie).
When connecting two circuit elements and electrically connecting the terminals between the two circuit elements as in the case of connecting to a terminal of RpScage) or in the case of flip-chip bonding a semiconductor chip on a motherboard, bonding is performed. Anisotropic conductive films having properties are widely used.

【0003】この異方性導電膜は、絶縁性接着剤中に導
電性粒子を分散させたものからなり、接続すべき素子の
端子間に異方性導電膜を挟み込み、熱圧着することによ
り、素子同士の接着と端子間の電気的接続とが同時に行
われるようにしたものである。異方性導電膜に用いられ
る導電性粒子は、高分子核体の表面が金属薄層により実
質的に被覆された粒子または金属粒子或いは両者を混合
した粒子である。
[0003] The anisotropic conductive film is formed by dispersing conductive particles in an insulating adhesive. The anisotropic conductive film is interposed between terminals of an element to be connected, and thermocompression-bonded. The bonding between the elements and the electrical connection between the terminals are performed simultaneously. The conductive particles used in the anisotropic conductive film are particles in which the surface of the polymer nucleus is substantially covered with a thin metal layer, metal particles, or particles in which both are mixed.

【0004】この異方性導電膜の製造方法は、通常エポ
キシ樹脂などの絶縁性樹脂とカップリング剤、硬化剤、
硬化促進剤を混ぜ合わせた絶縁接着剤中に導電性粒子を
混合・分散した接着剤ワニスをキャリアフイルム(セパ
レータ)上に塗布・乾燥して製造される。更に、この表
面に導電性粒子を含まない絶縁接着剤ワニスを塗布して
複層化したり、導電性粒子を含まない絶縁接着剤ワニス
をキャリアフイルム上に塗布したのちに導電性粒子のみ
を散布して製造される異方性導電膜も使用されている。
[0004] The method for producing this anisotropic conductive film generally involves the use of an insulating resin such as an epoxy resin and a coupling agent, a curing agent,
It is manufactured by applying and drying an adhesive varnish obtained by mixing and dispersing conductive particles in an insulating adhesive mixed with a curing accelerator on a carrier film (separator). Further, an insulating adhesive varnish containing no conductive particles is applied to the surface to form a multilayer, or an insulating adhesive varnish containing no conductive particles is applied on a carrier film, and then only the conductive particles are sprayed. Also, anisotropic conductive films manufactured by the method are used.

【0005】いずれにせよ、ワニスを塗布・乾燥した後
は、キャリアフイルム毎巻き取られ、適当な幅にカット
され前述の使用目的に供される。接着性を有する異方性
導電膜は、常態では粘着性を有するため使用されるキャ
リアフイルムには両面に離形層を設ける必要がある。更
に使用する際にはキャリアフイルムと異方性導電膜は引
き出したキャリアフイルムと一緒に引き出される必要が
あり、言い換えればキャリアフイルムの巻内面側と巻外
面側で異方性導電膜を剥離するときの剥離強度に差を付
ける必要がある。もしキャリアフイルムの両面とも同じ
離形処理がされているとするとキャリアフイルムを引き
出したときに異方性導電膜が巻き出すロールの方に持っ
ていかれたり、キャリアフイルムと異方性導電膜との間
に隙間が生じたりしてスムーズに引き出せない問題が発
生する。
In any case, after the varnish is applied and dried, the carrier film is wound up, cut into an appropriate width, and provided for the above-mentioned purpose of use. An anisotropic conductive film having adhesiveness has tackiness in a normal state, so that a carrier film to be used needs to be provided with release layers on both sides. Further, when used, the carrier film and the anisotropic conductive film need to be pulled out together with the drawn-out carrier film, in other words, when the anisotropic conductive film is peeled off on the inner side and the outer side of the carrier film. It is necessary to make a difference in the peel strength of the steel. If the same release treatment is performed on both sides of the carrier film, the carrier film is taken to the roll where the anisotropic conductive film unwinds when the carrier film is pulled out, or the carrier film and the anisotropic conductive film A problem arises in that a gap is formed between the parts and the parts cannot be pulled out smoothly.

【0006】また、接着性を有する異方性導電膜として
使用される時の絶縁接着性ワニスは半硬化の状態(Bス
テージ)までキャリアフイルムに塗布したのちの乾燥工
程で硬化を進める。この時通常、温度で100℃〜20
0℃、時間で1分〜30分の熱がかかるためポリエステ
ルフイルムが使用されるが、通常の透明なポリエステル
フイルムを基材とした両面離形フイルムをキャリアフイ
ルムとして用いると異方性導電膜とキャリアフイルム間
に巻き込まれた空気が抜け難いばかりか、異方性導電膜
の厚み斑や導電粒子の分散状態を確認し難いといった問
題がある。
Further, when used as an adhesive anisotropic conductive film, the insulating adhesive varnish is applied to the carrier film until it is in a semi-cured state (B stage), and then is cured in a drying step. At this time, the temperature is usually 100 ° C to 20 ° C.
A polyester film is used because heat is applied for 1 minute to 30 minutes at 0 ° C. for a time. However, when a double-sided release film based on a normal transparent polyester film is used as a carrier film, an anisotropic conductive film is formed. There is a problem that not only is it difficult for air trapped between the carrier films to escape, but it is also difficult to confirm uneven thickness of the anisotropic conductive film and the dispersed state of the conductive particles.

【0007】一方、ポリエステルフイルムをはじめとす
るプラスチックフイルムは帯電を生じやすく、導電性粒
子を含まない絶縁接着剤ワニスをキャリアフイルム上に
塗布したのちに導電性粒子のみを散布して製造される異
方性導電膜の場合、キャリアフイルムの帯電により、絶
縁接着剤ワニスの表面にも帯電斑が生じ、導電性粒子を
散布した時に均一に散布出来ないと言った不具合を生じ
る。
On the other hand, a plastic film such as a polyester film is liable to be charged, and is manufactured by applying an insulating adhesive varnish containing no conductive particles onto a carrier film and then spraying only the conductive particles. In the case of an isotropic conductive film, the charging of the carrier film causes unevenness of charge on the surface of the insulating adhesive varnish, which causes a problem that when the conductive particles are sprayed, they cannot be uniformly spread.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る従来技術の欠点を改良し、繰り出しや走行の際に帯電
が少なく、接着性を有する異方性導電膜成形する際にキ
ャリアフイルムとして用いたときに帯電障害を生じるこ
となく、また異方性導電膜とキャリアフイルムを巻き取
った時に噛み込む空気が逃げやすく、更に巻き出して接
着性を有する異方性導電膜として使用する時、異方性導
電膜がスムーズに引き出され、回路等に加熱圧着した時
は、キャリアフイルムが適度の力で剥離が可能な、ポリ
エステルの両面に剥離力の異なる離形層を設けた離形フ
イルムを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to improve the drawbacks of the prior art and to provide a carrier film for forming an anisotropic conductive film which has little charge during feeding or running and has adhesive properties. When used as an anisotropic conductive film having no sticking air when used, the air which bites easily when the carrier film is wound with the anisotropic conductive film is easily released, and further unwinds and has adhesiveness. When the anisotropic conductive film is smoothly pulled out and heated and pressed on a circuit, etc., the carrier film can be peeled with an appropriate force. To provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は本発明に
よれば、ポリエステルフイルムの片面に離形層Aを、も
う一方の面に離形層Bを設けた離形フイルムであって、
該離形フイルムは、粘着性を有する異方性導電膜を成形
する工程でキャリアフイルムとして使用され、かつ巻取
り時にセパレータとして使用され、下記式(1)〜
(6)を同時に満足すること特徴とする離形フイルムに
より達成される。 0.1≦RaA≦1.0・・・(1) 0.1≦RaB≦1.0・・・(2) 0≦Tt≦80・・・(3) 50≦Hz・・・(4) 1.5≦HB/HA≦100・・・(5) 0.15≦HA+HB≦7・・・(6) 但し、式(1)〜(6)中、RaAは離形層A表面の中
心線平均粗さ(μm)、RaBは離形層B表面の中心線
平均粗さ(μm)、Ttは離形フイルムの全光線透過率
(%)、Hzは離形フイルムのヘーズ値(%)、HA
離形層A表面の剥離力(N/25mm幅)、HBは離形
層B表面の剥離力(N/25mm幅)をそれぞれ表す。
According to the present invention, there is provided a release film having a release layer A provided on one side of a polyester film and a release layer B provided on the other side.
The release film is used as a carrier film in a step of forming an anisotropic conductive film having adhesiveness, and is used as a separator at the time of winding, and has the following formula (1)
This is achieved by a release film characterized by simultaneously satisfying (6). 0.1 ≦ Ra A ≦ 1.0 (1) 0.1 ≦ Ra B ≦ 1.0 (2) 0 ≦ Tt ≦ 80 (3) 50 ≦ Hz ( 4) 1.5 ≦ H B / H A ≦ 100 (5) 0.15 ≦ H A + H B ≦ 7 (6) However, in the formulas (1) to (6), Ra A is The center line average roughness (μm) of the release layer A surface, Ra B is the center line average roughness (μm) of the release layer B surface, Tt is the total light transmittance (%) of the release film, and Hz is the release haze value form the film (%), H a peel force of releasing layer a surface (N / 25 mm width), H B represents release force releasing layer B surface (N / 25 mm width), respectively.

【0010】また離形層A及び離形層Bの少なくとも1
層とポリエステルフイルム層の間に帯電防止層を設けた
上記に記載の離形フイルムであって、帯電防止層を設け
た側の離形層表面の表面固有抵抗値が5×104〜5×
1012Ω/□であることを特徴とする離形フイルムによ
り好ましく達成される。
At least one of the release layer A and the release layer B
The release film according to the above, wherein an antistatic layer is provided between the layer and the polyester film layer, wherein the surface specific resistance value of the surface of the release layer on the side provided with the antistatic layer is 5 × 10 4 to 5 ×.
It is preferably achieved by a release film characterized in that it is 10 12 Ω / □.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0012】(ポリエステル)本発明において、基材フ
イルムとして用いるポリエステルフイルムを構成するポ
リエステルは、芳香族ジカルボン酸を主たる酸成分と
し、脂肪族グリコールを主たるグリコール成分とするポ
リエステルである。このポリエステルは実質的に線状
で、フイルムに形成可能なものであるが、特に溶融成形
によりフイルムに形成可能なポリエステルであることが
好ましい。
(Polyester) In the present invention, the polyester constituting the polyester film used as the base film is a polyester containing an aromatic dicarboxylic acid as a main acid component and an aliphatic glycol as a main glycol component. This polyester is substantially linear and can be formed into a film, but is particularly preferably a polyester that can be formed into a film by melt molding.

【0013】ポリエステルを構成する芳香族ジカルボン
酸成分としては、例えばテレフタル酸、2,6−ナフタ
レンジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェノキシエタン
ジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン
酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、アンスラセンジカ
ルボン酸等を挙げることができる。
The aromatic dicarboxylic acid component constituting the polyester includes, for example, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, isophthalic acid, diphenoxyethane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenyl sulfone dicarboxylic acid, diphenyl Ketone dicarboxylic acid, anthracene dicarboxylic acid and the like can be mentioned.

【0014】また、ポリエステルを構成する脂肪族グリ
コール成分としては、例えばエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメ
チレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサ
メチレングリコール、デカメチレングリコール等の如き
炭素数2〜10のポリメチレングリコールあるいは1,
4−シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール
等を挙げることができる。
Examples of the aliphatic glycol component constituting the polyester include those having 2 to 10 carbon atoms such as ethylene glycol, diethylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, pentamethylene glycol, hexamethylene glycol and decamethylene glycol. Polymethylene glycol or 1,
Alicyclic diols such as 4-cyclohexanedimethanol can be mentioned.

【0015】本発明において、ポリエステルとしてはア
ルキレンテレフタレートおよび/又はアルキレン−2,
6−ナフタレートを主たる構成成分とするものが好まし
い。
In the present invention, as the polyester, alkylene terephthalate and / or alkylene-2,
Those containing 6-naphthalate as a main component are preferred.

【0016】これらポリエステルの中、特にポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレー
トはもちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の80
モル%以上がテレフタル酸および/又は2,6−ナフタ
レンジカルボン酸であり、全グリコール成分の80モル
%以上がエチレングリコールである共重合体が好まし
い。その際全酸成分の20モル%以下はテレフタル酸お
よび/又は2,6−ナフタレンジカルボン酸以外の上記
芳香族ジカルボン酸であることができ、また例えばアジ
ピン酸、セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸;シク
ロヘキサン−1,4−ジカルボン酸の如き脂環族ジカル
ボン酸等であることができる。
Among these polyesters, in particular, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, for example, 80% of all dicarboxylic acid components
A copolymer in which at least mol% is terephthalic acid and / or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and at least 80 mol% of all glycol components is ethylene glycol is preferred. In this case, 20 mol% or less of the total acid component can be the above-mentioned aromatic dicarboxylic acids other than terephthalic acid and / or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid. An alicyclic dicarboxylic acid such as cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid;

【0017】また全グリコール成分の20モル%以下は
エチレングリコール以外の上記グリコールであることが
でき、また例えばハイドロキノン、レゾルシン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン等の如き芳
香族ジオール;1,4−ジヒドロキシジメチルベンゼン
の如き芳香環を有する脂肪族ジオール;ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール等の如きポリアルキレングリコール(ポ
リオキシアルキレングリコール)等であることもでき
る。
Further, 20 mol% or less of the total glycol component can be the above-mentioned glycols other than ethylene glycol. For example, hydroquinone, resorcinol, 2,2
Aromatic diols such as -bis (4-hydroxyphenyl) propane; aliphatic diols having an aromatic ring such as 1,4-dihydroxydimethylbenzene; polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol ( Polyoxyalkylene glycol) and the like.

【0018】また、本発明におけるポリエステルには、
例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω−
ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシ
カルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分及びオ
キシカルボン酸成分の総量に対し20モル%以下で共重
合あるいは結合するものも包含される。
Further, the polyester in the present invention includes:
For example, aromatic oxyacids such as hydroxybenzoic acid, ω-
Also included are those which copolymerize or combine a component derived from an oxycarboxylic acid such as an aliphatic oxyacid such as hydroxycaproic acid at 20 mol% or less based on the total amount of the dicarboxylic acid component and the oxycarboxylic acid component.

【0019】さらに本発明におけるポリエステルには、
実質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し2
モル%以下の量で、3官能以上のポリカルボン酸又はポ
リヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエ
リスリトール等を共重合したものも包含される。
Further, the polyester in the present invention includes:
An amount in the range that is substantially linear, for example, 2 for the total acid component
Also included are those obtained by copolymerizing a tri- or higher functional polycarboxylic acid or polyhydroxy compound such as trimellitic acid or pentaerythritol in an amount of not more than mol%.

【0020】上記ポリエステルは、かつそれ自体公知の
方法で製造することができる。上記ポリエステルとして
は、o−クロロフェノール中の溶液として35℃で測定
して求めた固有粘度が0.4〜0.9dl/gのものが
好ましく、0.5〜0.7dl/gのものがさらに好ま
しく、0.55〜0.65dl/gのものが特に好まし
い。
The polyester can be produced by a method known per se. As the polyester, those having an intrinsic viscosity of 0.4 to 0.9 dl / g, preferably 0.5 to 0.7 dl / g, measured at 35 ° C. as a solution in o-chlorophenol are preferable. More preferably, it is particularly preferably 0.55 to 0.65 dl / g.

【0021】(ポリエステルフイルム)本発明の離形フ
イルムは、接着性を有する異方性導電膜成形用、更には
異方性導電膜をテープ状にしたときのセパレータとして
適し使用されるが、ポリエステルフイルムの中心線平均
粗さは0.1〜1.0μmであることが好ましい。中心
線平均粗さが0.1μm未満だと離形層表面の中心線平
均粗さRaA、RaBを0.1μm以上とすることが困難
になる。また、中心線平均粗さが1.0μmを超えると
離形層表面の中心線平均粗さRaA、RaBを1.0μm
以下とすることが困難になる。
(Polyester Film) The release film of the present invention is suitably used for forming an anisotropic conductive film having an adhesive property, and further as a separator when the anisotropic conductive film is formed into a tape. The center line average roughness of the film is preferably from 0.1 to 1.0 μm. If the center line average roughness is less than 0.1 μm, it is difficult to make the center line average roughness Ra A and Ra B of the release layer surface 0.1 μm or more. When the center line average roughness exceeds 1.0 μm, the center line average roughness Ra A and Ra B of the release layer surface is set to 1.0 μm.
It becomes difficult to:

【0022】また、本発明においてポリエステルフイル
ムの全光線透明率は0〜80%であることが好ましく、
かつヘーズ値が50%以上であることが好ましい。この
範囲を外れるとキャリアフイルム上に成形した異方性導
電膜の厚み斑や分散している導電粒子の分散状態が観察
し難くなり好ましくない。
In the present invention, the polyester film preferably has a total light transmittance of 0 to 80%.
Further, the haze value is preferably 50% or more. Outside this range, it is difficult to observe uneven thickness of the anisotropic conductive film formed on the carrier film and the dispersed state of the dispersed conductive particles, which is not preferable.

【0023】かかるポリエステルフイルムの中心線平均
粗さ、全光線透過率、及びヘーズ値を前述の範囲を同時
に満たすためには、原料のポリエステル中にフィラーや
顔料を含有させる方法(練り込み法)やポリエステルフ
イルムの表面にフィラーや顔料を含有させた樹脂塗料を
塗布する方法や、サンドブラスト法、エンボス法、エッ
チング法などがある。
In order to simultaneously satisfy the above-mentioned ranges of the center line average roughness, the total light transmittance and the haze value of such a polyester film, a method of incorporating a filler or a pigment into the raw material polyester (kneading method), There are a method of applying a resin paint containing a filler and a pigment to the surface of the polyester film, a sand blast method, an emboss method, an etching method, and the like.

【0024】本発明においては、上記の何れの方法を採
用してもよいが、本発明の離形フイルムはコストや品質
を考慮すると原料のポリエステル中にあらかじめ、フィ
ラーや顔料を含有させる練り込み法が好ましい。
In the present invention, any of the above methods may be employed. However, in consideration of cost and quality, the release film of the present invention is a kneading method in which a filler or a pigment is previously contained in the raw material polyester. Is preferred.

【0025】ポリエステル中に含有させるフィラーや顔
料としては、酸化チタン、酸化ケイ素、硫酸バリウム、
酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウ
ム、カオリン、タルク等のような無機フィラー、ポリス
チレン樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂等
のような有機フィラー、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−プロピレンターポリマー、オレフィン系
アイオノマー等のような他の樹脂フィラーが挙げられ、
これらのうち1種又は2種以上用いてもよい。また必要
に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤など
を含有することもできる。
The fillers and pigments contained in the polyester include titanium oxide, silicon oxide, barium sulfate,
Inorganic fillers such as aluminum oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, etc., organic fillers such as polystyrene resin, acrylic resin, urea resin, melamine resin, etc., polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene terpolymer, olefin ionomer And other resin fillers such as
One or more of these may be used. Further, if necessary, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a fluorescent whitening agent and the like can be contained.

【0026】ポリエステル中に含有させるフィラーや顔
料の粒径は、0.1〜6.0μmの範囲が好ましく、含
有量は2〜20重量%の範囲であることが好ましい。
The particle size of the filler or pigment contained in the polyester is preferably in the range of 0.1 to 6.0 μm, and the content is preferably in the range of 2 to 20% by weight.

【0027】本発明に用いるポリエステルフイルムは二
軸配向フイルムが好ましく、その厚さは10〜300μ
m、好ましくは25〜200μmである。二軸配向ポリ
エステルの製造法は、従来から知られている製造方法で
得ることができる。
The polyester film used in the present invention is preferably a biaxially oriented film, and its thickness is 10 to 300 μm.
m, preferably 25 to 200 μm. The method for producing the biaxially oriented polyester can be obtained by a conventionally known production method.

【0028】例えば、融点(Tm:℃)〜(Tm+7
0)℃の温度でポリエステルを溶融押出して未延伸フイ
ルムを得、この未延伸フイルムを一軸方向(縦方向又は
横方向)に(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度
(但し、Tg:ポリエステルのガラス転移温度)で2.
5倍以上、好ましくは3倍以上の倍率で延伸し、次いで
上記延伸方向と直角方向にTg〜(Tg+70)℃の温
度で2.5倍以上、好ましくは3倍以上の倍率で延伸す
るのが好ましい。さらに必要に応じて縦方向および/又
は横方向に再度延伸してもよい。このようにして全延伸
倍率は、面積延伸倍率として9倍以上が好ましく、12
〜35倍がさらに好ましく、15〜30倍が特に好まし
い。さらにまた、二軸配向フイルムは、(Tg+70)
℃〜(Tm−10)℃の温度で熱固定することができ、
例えば180〜250℃で熱固定するのが好ましい。熱
固定時間は1〜60秒が好ましい。
For example, the melting point (Tm: ° C.) to (Tm + 7
0) The polyester is melt-extruded at a temperature of 0 ° C to obtain an unstretched film, and the unstretched film is uniaxially (longitudinal or transverse) at a temperature of (Tg-10) to (Tg + 70) ° C (where Tg: polyester). Glass transition temperature).
Stretching at a magnification of 5 times or more, preferably 3 times or more, and then at a temperature of Tg to (Tg + 70) ° C. at a temperature of Tg to (Tg + 70) ° C. in a direction perpendicular to the stretching direction at a ratio of 2.5 times or more, preferably 3 times or more. preferable. Further, if necessary, the film may be stretched again in the machine direction and / or the cross direction. As described above, the total stretching ratio is preferably 9 times or more as the area stretching ratio.
It is more preferably from 35 to 35 times, particularly preferably from 15 to 30 times. Furthermore, the biaxially oriented film has (Tg + 70)
C. to (Tm-10) C.
For example, it is preferable to heat set at 180 to 250 ° C. The heat setting time is preferably 1 to 60 seconds.

【0029】(離形層)本発明においては、前述のポリ
エステルフイルムの片面に離形層Aを、もう一方の面に
離形層Bを設ける。離形層A、離形層Bは、下記式
(1)、(2)、(5)及び(6)を同時に満足するこ
とが必要である。 0.1≦RaA≦1.0・・・(1) 0.1≦RaB≦1.0・・・(2) 1.5≦HB/HA≦100・・・(5) 0.15≦HA+HB≦7・・・(6) 但し、式中、RaAは離形層A表面の中心線平均粗さ
(μm)、RaBは離形層B表面の中心線平均粗さ(μ
m)、HAは離形層A表面の剥離力(N/25mm
幅)、HBは離形層B表面の剥離力(N/25mm幅)
をそれぞれ表す。
(Release Layer) In the present invention, a release layer A is provided on one side of the above-mentioned polyester film, and a release layer B is provided on the other side. It is necessary that the release layer A and the release layer B simultaneously satisfy the following expressions (1), (2), (5) and (6). 0.1 ≦ Ra A ≦ 1.0 (1) 0.1 ≦ Ra B ≦ 1.0 (2) 1.5 ≦ H B / H A ≦ 100 (5) 0 .15 ≦ H a + H B ≦ 7 ··· (6) in the formula, the central line average roughness Ra a is releasing layer a surface ([mu] m), Ra B is a center line average of the releasing layer B surface Roughness (μ
m), HA is the peeling force of the release layer A surface (N / 25 mm
Width), the peel force of H B is releasing layer B surface (N / 25 mm width)
Respectively.

【0030】RaA、RaBが0.1μm未満であると、
離形フイルム(キャリアフイルム)に異方性導電膜を成
形後、ロール状に巻き取る際に巻き込んだ空気が抜け難
いため良好な形状でロールに巻き上げることが困難にな
る。また、RaA、RaBが1μmを超えるとキャリアフ
イルムから剥離した異方性導電膜の表面も粗くなりすぎ
て、熱圧着工程で完全に濡れ広がらず素子間の接着不良
や端子間の電気的接続不良を起こす。このような観点か
ら、RaA、RaBの下限は0.2μmであることが好ま
しく、上限は0.5μmであることが好ましい。
When Ra A and Ra B are less than 0.1 μm,
After the anisotropic conductive film is formed on the release film (carrier film), when the film is wound into a roll, it is difficult to remove the air that has been drawn in, so that it is difficult to wind up the roll in a good shape. On the other hand, if Ra A and Ra B exceed 1 μm, the surface of the anisotropic conductive film peeled off from the carrier film becomes too rough, and is not completely wet-spread in the thermocompression bonding step, resulting in poor adhesion between elements and electrical connection between terminals. Causes poor connection. From such a viewpoint, the lower limit of Ra A and Ra B is preferably 0.2 μm, and the upper limit is preferably 0.5 μm.

【0031】RaA、RaBが0.1から1μmの離形層
は、例えばポリエステルフィルム表面の中心線平均粗さ
が0.1から1μmのポリエステルフィルム表面に離形
層を設けることにより得ることができる。
The release layer having Ra A and Ra B of 0.1 to 1 μm can be obtained, for example, by providing a release layer on the polyester film surface having a center line average roughness of 0.1 to 1 μm. Can be.

【0032】本発明における離形層Aおよび離形層B
(以下併せて『離形層』と略記することがある)は、そ
の特性が前記式(1)、(2)、(5)及び(6)を満
足するものであれば特に限定されないが、例えばシリコ
ーン樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂、フッ素オイ
ル、各種ワックスその他にポリエステル樹脂、アルキッ
ド、ポリウレタン、アクリル、メラミン、ポリビニルア
セタール等の有機樹脂をシリコーンやフッ素などで変性
したもの、或いはシリコーンオイル、フッ素オイルや各
種ワックスを有機樹脂中に添加した成分の塗液を用いて
も良い。
Release Layer A and Release Layer B in the Present Invention
(Hereinafter sometimes abbreviated as "release layer") is not particularly limited as long as its properties satisfy the above formulas (1), (2), (5) and (6). For example, silicone resin, silicone oil, fluorine resin, fluorine oil, various waxes, polyester resin, alkyd, polyurethane, acrylic, melamine, polyvinyl acetal, and other organic resins modified with silicone or fluorine, or silicone oil, fluorine oil Alternatively, a coating liquid of a component obtained by adding various waxes to an organic resin may be used.

【0033】なかでも好ましくは硬化型シリコーン樹脂
が耐熱性の点で好ましく、硬化型シリコーン樹脂として
は、例えば縮合反応型のもの、付加反応型のもの、紫外
線もしくは電子線硬化型のもの等いずれの反応型のもの
も用いることができる。これらの硬化型シリコーン樹脂
は一種を単独で用いてもよいし、二種以上併用してもよ
い。各種シリコーン樹脂の硬化反応は、次のように示す
ことができる。
Among them, a curable silicone resin is preferable in terms of heat resistance. Examples of the curable silicone resin include condensation reaction type, addition reaction type, and ultraviolet or electron beam curing type. A reaction type can also be used. One of these curable silicone resins may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. The curing reaction of various silicone resins can be shown as follows.

【0034】[0034]

【化1】 Embedded image

【0035】上記縮合反応型のシリコーン樹脂として
は、例えば末端−OH基を持つポリジメチルシロキサン
と末端に−H基を持つポリジメチルシロキサン(ハイド
ロジェンシラン)を有機錫触媒(例えば有機錫アシレー
ト触媒)を用いて縮合反応させ、三次元架橋構造をつく
るものが挙げられる。
As the above-mentioned condensation-reaction type silicone resin, for example, a polydimethylsiloxane having a terminal —OH group and a polydimethylsiloxane having a terminal —H group (hydrogensilane) are used as an organic tin catalyst (eg, an organic tin acylate catalyst). To form a three-dimensional cross-linked structure.

【0036】付加反応型のシリコーン樹脂としては、例
えば末端にビニル基を導入したポリジメチルシロキサン
とハイドロジェンシランを白金触媒を用いて反応させ、
三次元架橋構進をつくるものが拳げられる。
As the addition reaction type silicone resin, for example, polydimethylsiloxane having a vinyl group introduced into a terminal and hydrogen silane are reacted using a platinum catalyst,
Those who make three-dimensional bridge construction can be fisted.

【0037】紫外線硬化型のシリコーン樹脂としては、
例えば最も基本的なタイプとして通常のシリコーンゴム
架橋と同じラジカル反応を利用するもの、アクリル基を
導入して光硬化させるもの、紫外線でオニウム塩を分解
して強酸を発生させ、これによりエポキシ環を開裂させ
て架橋させるもの、ビニルシロキサンへのチオールの付
加反応で架橋するもの等が拳げられる。電子線は紫外線
よりもエネルギーが強く、紫外線硬化の場合のように開
始剤を用いずともラジカルによる架橋反応が起こる。
As the UV-curable silicone resin,
For example, the most basic type uses the same radical reaction as ordinary silicone rubber crosslinking, the one that introduces an acrylic group and cures it, and the one that decomposes an onium salt with ultraviolet rays to generate a strong acid, thereby forming an epoxy ring. Those which are cleaved and cross-linked, those which are cross-linked by the addition reaction of thiol to vinyl siloxane, and the like can be used. Electron beams have higher energy than ultraviolet rays, and a radical crosslinking reaction occurs without using an initiator as in the case of ultraviolet curing.

【0038】硬化型シリコーン樹脂としては、その重合
度が50〜20万程度、好ましくは千〜10万程度のも
のが好ましく、これらの具体例としては信越化学工業
(株)製のKS−718、−774、−775、−77
8、−779H、−830、−835、−837、−8
38、−839、−841、−843、−847、−8
47H、X−62−2418、−2422、−212
5、−2492、−2494、−470、−2366、
−630、X−92−140、−128、KS−723
A・B、−705F、−708A、−883、−70
9、−719、東芝シリコーン(株)のTPR−670
1、−6702、−6703、−3704、−670
5、−6722、−6721、−6700、XSR−7
029、YSR−3022、YR−3286、ダウコー
ニング(株)製のDK−Q3−202、−203、−2
04、−210、−240、−3003、−205、−
3057、SFXF−2560、東レ・ダウコーニング
・シリコーン(株)製のSD−7226、−7320、
−7229、BY24−900、−171、−312、
−374、SRX−375、SYL−OFF23、SR
X−244、SEX−290、アイ・シー・アイ・ジャ
パン(株)製のSILCOLEASE425等を拳げる
ことができる。また、特開昭47−34447号公報、
特公昭52−40918号公報等に記載のシリコーン樹
脂も用いることができる。
As the curable silicone resin, those having a degree of polymerization of about 500,000 to 200,000, preferably about 1,000 to 100,000 are preferable. Specific examples thereof include KS-718 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -774, -775, -77
8, -779H, -830, -835, -837, -8
38, -839, -841, -843, -847, -8
47H, X-62-2418, -2422, -212
5, -2492, -2494, -470, -2366,
-630, X-92-140, -128, KS-723
A / B, -705F, -708A, -883, -70
9, -719, TPR-670 from Toshiba Silicone Co., Ltd.
1, -6702, -6703, -3704, -670
5, -6722, -6721, -6700, XSR-7
029, YSR-3022, YR-3286, DK-Q3-202, -203, -2 manufactured by Dow Corning Co., Ltd.
04, -210, -240, -3003, -205,-
3057, SFXF-2560, SD-7226, -7320 manufactured by Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.
-7229, BY24-900, -171, -312,
-374, SRX-375, SYL-OFF23, SR
X-244, SEX-290, and SILCOLASE 425 manufactured by ICI Japan Ltd. can be fisted. Also, JP-A-47-34447,
The silicone resin described in JP-B-52-40918 can also be used.

【0039】前記硬化型シリコーン樹脂塗膜をフイルム
表面に形成させる場合のコーティング方法としてはバー
コート法、ドクターブレード法、リバースロールコート
法またはグラビアロールコート法等の従来から知られて
いる方法が利用できる。
As a coating method for forming the curable silicone resin coating film on the film surface, a conventionally known method such as a bar coating method, a doctor blade method, a reverse roll coating method or a gravure roll coating method is used. it can.

【0040】塗膜の乾燥及び硬化(熱硬化、紫外線硬化
等)は、それぞれ個別又は同時に行なうことができる。
同時に行なうときには100℃以上で行なうことが好ま
しい乾燥及び硬化の条件としては100℃以上で30秒
以上が好ましい。乾燥温度が100℃未満及び硬化時間
が30秒未満では塗膜の硬化が不完全であり、塗膜、が
脱落しやすくなるため好ましくない。
Drying and curing (thermal curing, ultraviolet curing, etc.) of the coating film can be performed individually or simultaneously.
When performed simultaneously, it is preferable to perform the drying and curing at a temperature of 100 ° C. or higher. If the drying temperature is less than 100 ° C. and the curing time is less than 30 seconds, the curing of the coating film is incomplete, and the coating film tends to fall off, which is not preferable.

【0041】硬化型シリコーン樹脂塗膜の厚みは特に限
定されないが、0.05〜0.5μmの範囲が好まし
い。塗膜の厚みがこの範囲より薄くなると離形性能が低
下し満足すべき性能が得られないことがある。逆に塗膜
の厚みがこの範囲より厚くなるとキュアリングに時間が
かかり生産上不都合を生じることがある。
The thickness of the curable silicone resin coating is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.05 to 0.5 μm. If the thickness of the coating film is thinner than this range, the releasability will decrease and satisfactory performance may not be obtained. Conversely, if the thickness of the coating film is larger than this range, curing takes a long time, which may cause inconvenience in production.

【0042】また、本発明における離形層は、本発明の
離形フイルムを接着性を有する異方性導電膜の成形用と
して、更にはテープとして巻き取るときのセパレータと
して使用するために離形層A面側(軽く剥離できる面)
の剥離力HA(N/25mm)と離形層B面側(重く剥
離できる面)の剥離力HB(N/25mm)とが、下記
式(5)、(6)を同時に満たすことが必要である。 1.5≦HB/HA≦100・・・(5) 0.15≦HA+HB≦7・・・・(6) 式(5)は、離形層A面側と離形層B面側との剥離力比
率を規定し、式(6)においては離形層両剥離面の剥離
力レベルを規定している。
The release layer according to the present invention is used for molding the release film of the present invention for forming an anisotropic conductive film having adhesiveness, and further, for use as a separator when wound up as a tape. Layer A side (surface that can be peeled lightly)
The peel force H A (N / 25 mm) of the release layer B and the peel force H B (N / 25 mm) on the side of the release layer B (the surface that can be peeled heavily) can satisfy the following expressions (5) and (6) at the same time. is necessary. 1.5 ≦ H B / H A ≦ 100 (5) 0.15 ≦ H A + H B ≦ 7 (6) Formula (5) is obtained by comparing the release layer A surface side with the release layer. The ratio of the peeling force to the surface B is defined, and the expression (6) defines the peeling force level of both release surfaces of the release layer.

【0043】式(5)のHB/HAの値(以下『剥離力比
率』という)は、4〜70の範囲であることが好まし
い。剥離力比率が1.5未満の場合、異方性導電膜を引
き出すときにスムーズに引き出せずリール側に残ってし
まったりする不具合が生じる。一方、剥離力比率が10
0を超えると離形層B面側すなわち異方性導電膜を引き
出したときに、異方性導電膜が残っている面の剥離力が
重くなり過ぎ、その結果次に異方性導電膜を回路素子に
圧着された後に、キャリアフイルム(セパレータ)を剥
離したときにきれいに剥離できないといった不具合が生
じる。
The value of H B / H A in the formula (5) (hereinafter referred to as “peeling force ratio”) is preferably in the range of 4 to 70. When the peeling force ratio is less than 1.5, there occurs a problem that when the anisotropic conductive film is pulled out, the film is not drawn smoothly and remains on the reel side. On the other hand, when the peeling force ratio is 10
If it exceeds 0, when the release layer B side, that is, when the anisotropic conductive film is pulled out, the peeling force on the surface where the anisotropic conductive film remains becomes too heavy. When the carrier film (separator) is peeled off after being pressure-bonded to the circuit element, a problem occurs that the carrier film (separator) cannot be peeled cleanly.

【0044】また、異方性導電膜に用いる樹脂や樹脂の
硬化度、更には膜厚によって異方性導電膜の粘着力は異
なるので式(6)を満足する範囲に調製することが必要
である。剥離力のコントロールとしては、前述の離形剤
の組み合せや硬化触媒量や塗布厚みによる調整の他に、
シリコーン系離形剤については次の4つの方法の少なく
とも1つ以上を用いることもできる。
Further, since the adhesive strength of the anisotropic conductive film differs depending on the resin used for the anisotropic conductive film, the degree of curing of the resin, and the film thickness, it is necessary to adjust the anisotropic conductive film so as to satisfy the formula (6). is there. As the control of the peeling force, in addition to the above-mentioned combination of the release agent and the adjustment by the curing catalyst amount and the coating thickness,
As for the silicone release agent, at least one of the following four methods can be used.

【0045】(1)ポリジメチルシロキサンポリマー中
に下記のD単位、T単位及び/又はQ単位の構造を有す
るシリコーンレジンを配合して離型層中のメチル基の濃
度を調整し表面張力を増加させたもの。尚、このシリコ
ーンレジンの配合割合は固形分濃度で20〜60重量%
であることが好ましい。配合割合が20重量%よりも少
ないと離型層の濡れ性が不良となることがあり、60重
量%を超えると離型層が硬くなりすぎて耐削れ性が不良
となることがあるため好ましくない。
(1) A silicone resin having the following structure of D unit, T unit and / or Q unit is blended into the polydimethylsiloxane polymer to adjust the concentration of methyl group in the release layer to increase the surface tension. What let you do. The mixing ratio of this silicone resin is 20 to 60% by weight in terms of solid content.
It is preferred that If the compounding ratio is less than 20% by weight, the wettability of the release layer may be poor, and if it exceeds 60% by weight, the release layer may be too hard and the abrasion resistance may be poor, which is preferable. Absent.

【0046】[0046]

【化2】 Embedded image

【0047】但し、D単位およびT単位においてRはメ
チル基等のアルキル基またはフェニル基等の芳香族炭化
水素基を示す。
In the D unit and the T unit, R represents an alkyl group such as a methyl group or an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group.

【0048】(2)ポリジメチルシロキサンポリマー中
にシリカフィラーを配合することにより離型層中の−S
i−OH基の濃度が高くなるよう調整して表面張力を増
加させたもの。尚、このシリカフィラーは平均粒径が1
μm以下のものが好ましい。平均粒径が1μmを超える
とフイルムの曇り度(ヘーズ)が大きくなり透明性を要
求される用途に用いる際に支障となることがあったり、
加工工程でフイルムを走行させる際に離型層の削れが発
生することがあるため好ましくない。また、シリカフィ
ラーの配合割合は固形分濃度で0.1〜1重量%である
ことが好ましい。配合割合が0.1重量%よりも少ない
と所望の濡れ性が得られないことがあり、1重量%を超
えるとシリカフィラーが離型層から削れて脱落すること
があるため好ましくない。
(2) By blending a silica filler in the polydimethylsiloxane polymer, -S in the release layer
The surface tension is increased by adjusting the concentration of i-OH groups to be higher. The silica filler has an average particle size of 1
Those having a size of μm or less are preferred. If the average particle size exceeds 1 μm, the haze of the film increases, which may hinder the use of the film in applications requiring transparency.
When the film is run in the processing step, the release layer may be shaved, which is not preferable. Further, the mixing ratio of the silica filler is preferably 0.1 to 1% by weight in terms of solid content. If the compounding ratio is less than 0.1% by weight, desired wettability may not be obtained, and if it exceeds 1% by weight, the silica filler may be shaved off the release layer and fall off, which is not preferable.

【0049】(3)ポリジメチルシロキサンポリマー中
のメチル基の一部を嵩高いフェニル基で置換した変性ポ
リジメチルシロキサン。フェニル基の立体障害により、
例えばポリマー中の−Si−O−Si−結合の回りの回
転運動が抑制され、その結果離型層表面のメチル基の濃
が減少するため表面張カを増加させることができる。
尚、このフェニル基の置換割合は20〜60モル%であ
ることが好ましい。この置換割合が20モル%よりも少
ないと所望の離形性が得られないことがあり、60モル
%を超えると離型層と各種粘着剤や各種シートとの離型
性が不良となることがあるため好ましくない。
(3) Modified polydimethylsiloxane in which some of the methyl groups in the polydimethylsiloxane polymer have been replaced by bulky phenyl groups. Due to the steric hindrance of the phenyl group,
For example, the rotational movement around the -Si-O-Si- bond in the polymer is suppressed, and as a result, the concentration of methyl groups on the surface of the release layer decreases, so that the surface tension can be increased.
Incidentally, the substitution ratio of the phenyl group is preferably 20 to 60 mol%. If this substitution ratio is less than 20 mol%, the desired releasability may not be obtained, and if it exceeds 60 mol%, the releasability between the release layer and various adhesives or various sheets may be poor. It is not preferable because there is.

【0050】(4)シラノール基やメトキシ基等の反応
活性基を比較的高濃度で有するポリジメチルシロキサン
ポリマーと、分子内に水酸基を有する有機樹脂(例えば
アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等)
とを反応させて得られる変性ポリジメチルシロキサン。
この変性ポリジメチルシロキサン中のジメチルシロキサ
ン成分の割合は10〜30重量%であることが好まし
い。この割合が10重量%よりも少ないと離型性が不良
となることがあり、30重量%を超えると所望の離形性
が得られないことがあるため好ましくない。
(4) A polydimethylsiloxane polymer having a relatively high concentration of a reactive group such as a silanol group or a methoxy group, and an organic resin having a hydroxyl group in the molecule (eg, alkyd resin, polyester resin, acrylic resin, etc.)
And a modified polydimethylsiloxane obtained by reacting
The ratio of the dimethylsiloxane component in the modified polydimethylsiloxane is preferably from 10 to 30% by weight. If the proportion is less than 10% by weight, the releasability may be poor, and if it exceeds 30% by weight, the desired releasability may not be obtained.

【0051】(離形フィルム)本発明の離形フイルム
は、下記式(3)および(4)を同時に満足することが
必要である。 0≦Tt≦80・・・(3) 50≦Hz・・・(4) 但し、式(3)、〜(4)中、Ttは離形フイルムの全
光線透過率(%)、Hzは離形フイルムのヘーズ値
(%)をそれぞれ表す。
(Release Film) The release film of the present invention must satisfy the following formulas (3) and (4) at the same time. 0 ≦ Tt ≦ 80 (3) 50 ≦ Hz (4) In the formulas (3) and (4), Tt is the total light transmittance (%) of the release film, and Hz is the distance. The haze value (%) of the shape film is shown.

【0052】Ttが式(3)の範囲、かつHzが式
(4)の範囲であればキャリアフイルム上に成形した異
方性導電膜の厚み斑や分散している導電粒子の分散状態
を支障無く観察することができる。
When Tt is in the range of the formula (3) and Hz is in the range of the formula (4), the thickness unevenness of the anisotropic conductive film formed on the carrier film and the dispersed state of the dispersed conductive particles are hindered. It can be observed without.

【0053】本発明におけるTt値の上限は、導電粒子
の分散状態を更に良好な状態で観察できるようにするた
め、60であることが好ましく、20であることが特に
好ましい。Tt値の下限は、値が小さいほど好ましい
が、ポリエステルフィルムの機械的特性や製膜する際の
延伸性を良好なものとするため10であることが好まし
い。
The upper limit of the Tt value in the present invention is preferably 60, particularly preferably 20, so that the dispersion state of the conductive particles can be observed in a more favorable state. The lower limit of the Tt value is preferably as small as possible, but is preferably 10 in order to improve the mechanical properties of the polyester film and the stretchability during film formation.

【0054】本発明におけるHz値の下限は、導電粒子
の分散状態を更に良好な状態で観察できるようにするた
め、80であることが好ましく、90であることが特に
好ましい。Hz値の上限は、値が大きいほど好ましい
が、ポリエステルフィルムの機械的特性や製膜する際の
延伸性を良好なものとするため99であることが好まし
い。
The lower limit of the Hz value in the present invention is preferably 80, and particularly preferably 90, so that the dispersion state of the conductive particles can be observed in a better state. The upper limit of the Hz value is preferably as large as possible, but is preferably 99 in order to improve the mechanical properties of the polyester film and the stretchability during film formation.

【0055】このようなTt値、かつHz値の離形フイ
ルムは、例えば、全光線透明率は0〜80%であり、か
つヘーズ値が50%以上であるポリエステルフイルムに
離形層を設けることにより得ることができる。
For such a release film having a Tt value and an Hz value, for example, a release layer is provided on a polyester film having a total light transmittance of 0 to 80% and a haze value of 50% or more. Can be obtained by

【0056】(帯電防止層)本発明において、異方性導
電膜を成形させる工程さらには、異方性導電膜を使用
し、2つの回路素子間を接続するLCD組立て工程や半
導体部品実装工程において、静電気の発生は致命的ダメ
ージを与える。具体的に言えば、絶縁性接着剤ワニス上
に導電性粒子を散布する方式で異方性導電膜を製造する
場合、工程の搬送ロールと離形フイルムの摩擦で発生し
た静電気により散布した導電性粒子が均一に散布され
ず、帯電模様状に散布されてしまったり、LCD工程や
半導体部品実装工程においテープ状の異方性導電膜を引
き出した際に発生する剥離帯電などは貼り合せ時の位置
ずれや半導体素子の破損されてしまったりする。そこで
本発明においては、ポリエステルフイルムの両面に離形
層を設け前に、少なくとも一方の面に帯電防止層を設け
ることができる。本発明における帯電防止層としては、
離形層を設けた後の表面固有抵抗値が5×104〜5×
1012Ω/□であることが好ましく、5×104〜5×
109Ω/□であることが更に好ましい。
(Antistatic Layer) In the present invention, in the step of forming an anisotropic conductive film, and further in the step of assembling an LCD and connecting semiconductor parts using an anisotropic conductive film and connecting two circuit elements. The generation of static electricity causes fatal damage. Specifically, when an anisotropic conductive film is manufactured by spraying conductive particles on an insulating adhesive varnish, the conductive film sprayed by the static electricity generated by the friction between the transport roll and the release film in the process. Particles are not evenly distributed, but are scattered in a charged pattern, and peeling charging that occurs when a tape-shaped anisotropic conductive film is pulled out in the LCD process or semiconductor component mounting process is the position at the time of bonding. The semiconductor device may be misaligned or damaged. Therefore, in the present invention, an antistatic layer can be provided on at least one surface before providing a release layer on both surfaces of the polyester film. As the antistatic layer in the present invention,
The surface specific resistance value after providing the release layer is 5 × 10 4 to 5 ×
10 12 Ω / □, preferably 5 × 10 4 to 5 ×
More preferably, it is 10 9 Ω / □.

【0057】[0057]

【実施例】以下、本発明を実施例により詳述する。な
お、本発明における物性値および特性値は、下記の方法
にて測定した。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. The physical property values and characteristic values in the present invention were measured by the following methods.

【0058】(1)中心線平均粗さ(Ra) JIS B0601に準じ、小坂研究所株式会社製の商
精度表面粗さ計SE−3FATを使用して、針の半径2
μm、荷重30mgで拡大倍率20万倍、カットオフ
0.08mmの条件下にチャートを描かせ、表面粗さ曲
線からその中心線方向に測定長さLの部分を抜き取り、
この抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸
として、粗さ曲線をy=f(x)で表わしたとき、下記
式で与えられた値をμm単位で表わす。測定は、基準長
を1.25mmとして4回測定し、平均値で表わした。
(1) Center Line Average Roughness (Ra) According to JIS B0601, using a commercial precision surface roughness meter SE-3FAT manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.
μm, a load of 30 mg, a magnification of 200,000 times, a chart of 0.08 mm cut-off condition, and draw a portion of the measurement length L from the surface roughness curve in the direction of its center line,
When the roughness curve is represented by y = f (x) with the center line of the extracted portion as the X axis and the direction of the vertical magnification as the Y axis, the value given by the following equation is represented in μm. The measurement was performed four times with a reference length of 1.25 mm, and represented by an average value.

【0059】[0059]

【数1】 (Equation 1)

【0060】(2)剥離強度 フイルムの離形層面にポリエステル粘着テープ(ニット
−31B)を貼り合わせ、5kgの圧着ローラーで圧着
した後、離形層と粘着テープとの剥離カ(R10)を引張
り試験機にて測定した。
(2) Peeling strength A polyester adhesive tape (nit 31B) was adhered to the release layer surface of the film and pressed with a 5 kg pressure roller, and then the release force (R 10 ) between the release layer and the adhesive tape was removed. It was measured by a tensile tester.

【0061】(3)残留接着率 ポリエステル粘着テープ(ニット−31B)をJIS
G4305に規定する冷間圧延ステンレス板(SUS3
04)に貼り付けた後の剥離力を測定し、基礎接着力
(f0)とした。次に新しい前記ポリエステル粘着テー
プをサンプルフイルムの離形層面に5kgの圧着ローラ
ーで圧着し30秒間維持した後粘着テープを剥がした。
そして、この剥がしたポリエステル粘着テープを前記ス
テンレス板に貼り、該貼合部の剥離力を測定し残留接着
力(f)とした。得られた基礎接着力(f0)と残留接
着カ(f)とから下記式を用いて残留接着率を求めた。
(3) Residual adhesion rate The polyester adhesive tape (Knit-31B) was JIS
Cold rolled stainless steel sheet (SUS3
04) was measured for the peeling force after application, and the result was taken as the basic adhesive force (f 0 ). Next, the new polyester pressure-sensitive adhesive tape was pressed against the release layer surface of the sample film with a 5 kg pressure roller and maintained for 30 seconds, and then the pressure-sensitive adhesive tape was peeled off.
Then, the peeled polyester pressure-sensitive adhesive tape was stuck on the stainless steel plate, and the peeling force of the bonded portion was measured to obtain a residual adhesive force (f). From the obtained basic adhesive strength (f 0 ) and residual adhesive force (f), the residual adhesive rate was determined by using the following equation.

【0062】[0062]

【数2】残留接着率(%)=(f/f0)×100## EQU2 ## Residual adhesion rate (%) = (f / f 0 ) × 100

【0063】(4)表面固有抵抗値 タケダ理研社製固有抵抗測定器を使用し、測定温度23
℃、測定湿度65%RH及び45%RHの条件で印可電
圧500Vで1分後の表面固有抵抗値を測定した。
(4) Surface Specific Resistance Using a specific resistance measuring device manufactured by Takeda Riken Co., Ltd.
The surface specific resistance value was measured after 1 minute at an applied voltage of 500 V under the conditions of ° C and a measurement humidity of 65% RH and 45% RH.

【0064】(5)全光線透過率 日本精密光学製へーズメーター(波長:580nm)を
使用し、帯電防止層側を光源に向けて全光線透過率を測
定した。
(5) Total light transmittance The total light transmittance was measured using a haze meter (wavelength: 580 nm) manufactured by Nippon Seimitsu Optical Co., Ltd. with the antistatic layer side facing the light source.

【0065】(6)ヘーズ値 日本精密光学製へーズメーター(波長:580nm)を
使用し、帯電防止層側を光源に向けてヘーズ値を測定し
た。
(6) Haze value A haze value was measured using a haze meter (wavelength: 580 nm) manufactured by Nippon Seimitsu Optics with the antistatic layer side facing the light source.

【0066】(7)ガラス転移温度(Tg) 試料10mgをパーキンエルマー社製のDSC装置(示
差走査熱量計)にセットし、試料を300℃の温度で5
分間溶融した後、液体窒素中で急冷し、この急冷試料を
10℃/分で昇温してガラス転移温度(Tg)を測定し
た。
(7) Glass transition temperature (Tg) 10 mg of a sample was set in a DSC device (differential scanning calorimeter) manufactured by PerkinElmer, and the sample was heated at a temperature of 300 ° C. for 5 minutes.
After melting for 1 minute, the sample was quenched in liquid nitrogen, and the quenched sample was heated at a rate of 10 ° C./min to measure a glass transition temperature (Tg).

【0067】(8)融点(Tm) 試料10mgをパーキンエルマー社製のDSC装置(示
差走査熱量計)にセットし、試料を300℃の温度で5
分間溶融した後、液体窒素中で急冷し、この急冷試料を
10℃/分で昇温して融点(Tm)を測定した。
(8) Melting point (Tm) A sample (10 mg) was set in a DSC apparatus (differential scanning calorimeter) manufactured by PerkinElmer, and the sample was heated at a temperature of 300 ° C. for 5 minutes.
After melting for 1 minute, the sample was quenched in liquid nitrogen, and the quenched sample was heated at a rate of 10 ° C./minute to measure the melting point (Tm).

【0068】(9)導電膜表面状態 ロール状に巻いた離形フイルム(フイルム幅:1.2
m、長さ:500m)からフイルムを巻き出し、離形層
A面の上に下記組成の導電膜用塗料を塗布し、次いで1
20℃で5分間加熱して溶剤を揮発させると共に導電膜
を半硬化させて厚み20μmの導電膜を形成させ、再び
ロール状に巻き取った。このロールを20℃で24時間
保持した後、巻き出し、離形層A面上に形成された導電
膜10m2(フイルム両端部から0.1mの部分を除いた
長さ10mのサンプル)の表面状態を観察し、下記の基
準で評価した。 ○:導電膜表面に空気の巻き込みに起因する凹みが1m
2 当り平均1箇所未満。(導電膜表面状態良好) ×:導電膜表面に空気の巻き込みに起因する凹みが1m
2 当り平均1箇所以上。(導電膜表面状態不良)
(9) Surface state of conductive film Release film wound in a roll (film width: 1.2
m, length: 500 m), a film for a conductive film having the following composition is applied on the surface of the release layer A, and then
The mixture was heated at 20 ° C. for 5 minutes to evaporate the solvent and semi-cured the conductive film to form a 20 μm-thick conductive film, which was then rolled up again. After keeping the roll at 20 ° C. for 24 hours, it was unwound and the surface of the conductive film 10 m 2 (sample 10 m long excluding the portions 0.1 m from both ends of the film) formed on the release layer A surface. The state was observed and evaluated according to the following criteria. :: 1 m dent due to air entrainment on conductive film surface
Less than one place per 2 on average. (Good conductive film surface condition) ×: 1 m dent due to air entrainment on conductive film surface
2 or more places on average. (Defective conductive film surface condition)

【0069】<導電膜塗料>下記組成の粘着性樹脂組成
物を固形分濃度が30%になるように調整し、この粘着
性樹脂溶液にPMMA微粒子にAuメッキした平均粒径
5μmの導電粒子を固形分体積比で25%になるように
単分散し導電膜塗料を得た。 液状エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェルエポキシ社製)100重量部 フェノキシ樹脂 (PKHH、ユニオンカーバイド社製) 200重量部 硬化剤 (アミキュアPN−23、味の素ファインテクノ社製) 30重量部 溶剤(MEK/酢酸エチル/トルエン=1/1/1) 1200重量部
<Coating Film for Conductive Film> An adhesive resin composition having the following composition was adjusted to have a solid content of 30%, and conductive particles having an average particle size of 5 μm, which were plated with Au on PMMA fine particles, were added to the adhesive resin solution. Monodispersion was performed so that the solid content volume ratio was 25% to obtain a conductive film paint. 100 parts by weight of liquid epoxy resin (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Epoxy) 200 parts by weight of phenoxy resin (PKHH, manufactured by Union Carbide) 200 parts by weight Curing agent (Amicure PN-23, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co.) 30 parts by weight Solvent (MEK) / Ethyl acetate / toluene = 1/1/1) 1200 parts by weight

【0070】(10)導電膜剥離状態 上記(9)導電膜表面状態の評価と同様に導電膜を形成
させ25℃で48時間保持したロールからフイルムを巻
き出し、離形層B面10m2 (フイルム両端部から0.
1mの部分を除いた長さ10mのサンプル)の表面状態
を観察し、下記の基準で評価した。 ○:離形層B面上に存在する導電膜が観察されない。
(導電膜剥離状態良好) ×:離形層B面上に存在する導電膜が1箇所以上観察さ
れる。(導電膜剥離状態不良)
(10) Conductive film peeling state In the same manner as in the above (9) Evaluation of the conductive film surface state, the film was unwound from a roll formed of a conductive film and held at 25 ° C. for 48 hours, and the release layer B surface 10 m 2 ( From both ends of the film.
The surface condition of the sample (10 m long except for the 1 m portion) was observed and evaluated according to the following criteria. :: No conductive film present on the release layer B surface is observed.
(Good peeling state of conductive film) ×: One or more conductive films on surface of release layer B are observed. (Defective conductive film peeling state)

【0071】(11)総合評価 下記の基準で評価した。 ○:導電膜表面状態と導電膜剥離状態がいずれも良好
(総合評価良好) ×:導電膜表面状態と導電膜剥離状態がいずれかが不良
(総合評価不良)
(11) Comprehensive Evaluation The following criteria were used to evaluate. :: Both the conductive film surface state and the conductive film peeling state are good
(Good overall evaluation) ×: Either the conductive film surface state or the conductive film peeling state is defective (Comprehensive evaluation failure)

【0072】[実施例1]テレフタル酸及びエチレング
リコールからつくられたポリエステル(固有粘度:0.
63dl/g、Tg:79℃、Tm:253℃)90重
量%と酸化チタン(平均粒径:0.25μm)10重量
%からなる組成物を20℃に維持した回転冷却ドラム上
に溶融押出して未延伸フイルムとし、次に機械軸方向に
3.6倍延伸した後、引き続き横方向に3.9倍延伸
し、厚さ100μmの2軸延伸ポリエステルフイルムを
得た。このフイルムの片面に下記組成の離形塗料A(離
形層A用)、更に反対面に離形塗料B(離形層B用)を
順次塗布し、両面離形フイルムを得た。離形塗料の硬化
条件は150℃×30秒、離形層の厚みは両面に共に
0.2μmになるように塗布した。この離形フイルムの
特性を表1に示す。
Example 1 A polyester made from terephthalic acid and ethylene glycol (intrinsic viscosity: 0.1
63 dl / g, Tg: 79 ° C., Tm: 253 ° C.) 90% by weight and 10% by weight of titanium oxide (average particle size: 0.25 μm) are melt-extruded on a rotating cooling drum maintained at 20 ° C. The film was unstretched, then stretched 3.6 times in the machine axis direction, and subsequently stretched 3.9 times in the transverse direction to obtain a biaxially stretched polyester film having a thickness of 100 μm. A release coating A (for release layer A) having the following composition was sequentially applied to one side of the film, and a release coating B (for release layer B) having the following composition was sequentially applied to the opposite side to obtain a double-sided release film. The curing condition of the release coating was 150 ° C. × 30 seconds, and the thickness of the release layer was applied to both sides to be 0.2 μm. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0073】 <離形塗料A> KS−847H(信越化工業(株)) 100部 溶剤(トルエン/MEK=1/1) 1400部 PL−50T 2部 <離形塗料B> BY24−400(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)) 100部 溶剤(トルエン/MEK=1/1) 1400部 SRX−212(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)) 2部<Release paint A> KS-847H (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 100 parts Solvent (toluene / MEK = 1/1) 1400 parts PL-50T 2 parts <Release paint B> BY24-400 (Toray)・ Dow Corning Silicone Co., Ltd.) 100 parts Solvent (toluene / MEK = 1/1) 1400 parts SRX-212 (Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) 2 parts

【0074】[実施例2]離形塗料Bの代わりに離形塗
料C(離形層B用)を用いた以外は実施例1と同様の方
法で両面離形フイルムを作成した。この離形フイルムの
特性を表1に示す。尚、塗料Cは下記の組成のものであ
る。
Example 2 A double-sided release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that release coating C (for release layer B) was used instead of release coating B. Table 1 shows the characteristics of the release film. The paint C has the following composition.

【0075】 <離形塗料C> KS−847H(信越化工業(株))・・・ 100重量部 KS−3800(信越化工業(株))・・・ 25重量部 溶剤(MEK/トルエン=1/1)・・・・ 1400重量部 PL−50T ・・・・ 2重量部<Release coating C> KS-847H (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 100 parts by weight KS-3800 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 25 parts by weight Solvent (MEK / toluene = 1) / 1) 1400 parts by weight PL-50T 2 parts by weight

【0076】[実施例3]離形塗料Bの代わりに離形塗
料D(離形層B用)を用いた以外は実施例1と同様の方
法で両面離形フイルムを作成した。この離形フイルムの
特性を表1に示す。尚、塗料Dは下記の組成のものであ
る。
Example 3 A double-sided release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that release coating D (for release layer B) was used instead of release coating B. Table 1 shows the characteristics of the release film. The coating material D has the following composition.

【0077】 <離形塗料D> KS−847H(信越化工業(株))・・・・・・100重量部 KS−3800(信越化工業(株))・・・・・・ 50重量部 溶剤(MEK/トルエン=1/1) ・・・・・1400重量部 PL−50T ・・・・・・ 2重量部<Release paint D> KS-847H (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 100 parts by weight KS-3800 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 50 parts by weight Solvent (MEK / toluene = 1/1) ... 1400 parts by weight PL-50T ... 2 parts by weight

【0078】[実施例4]平均粒径が5.0μmのシリ
カ粒子を0.2重量%と平均粒径が0.25μmの酸化
チタン粒子を6重量%、テレフタル酸及びエチレングリ
コールからつくられたポリエステル(固有粘度:0.6
3dl/g、Tg:79℃、Tm:253℃)93.8
重量%からなるポリエステルを用いた以外、実施例1と
同じ方法で2軸延伸ポリエステルフイルムを作成し、離
形層を設け、離形フイルムを得た。この離形フイルムの
特性を表1に示す。
Example 4 0.2% by weight of silica particles having an average particle size of 5.0 μm and 6% by weight of titanium oxide particles having an average particle size of 0.25 μm were prepared from terephthalic acid and ethylene glycol. Polyester (intrinsic viscosity: 0.6
3dl / g, Tg: 79 ° C, Tm: 253 ° C) 93.8
A biaxially stretched polyester film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polyester was used in an amount of 1% by weight, and a release layer was provided to obtain a release film. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0079】[実施例5]実施例1において離形塗料B
を塗布する前に下記に示す帯電防止層を膜厚0.1μm
設け、次に離形塗料Bを設けたこと以外は実施例1同様
にして離形フイルムを得た。この離形フイルムの特性を
表1に示す。
Example 5 Release paint B in Example 1
Before coating, the antistatic layer shown below is
A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the release coating B was provided. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0080】 <帯電防止塗料> コルコートSP−2014(コルコート) 100部 テトラエチルシリケート(和光純薬) 10部 水 100部 界面活性剤 20部<Antistatic paint> Colcoat SP-2014 (Colcoat) 100 parts Tetraethyl silicate (Wako Pure Chemical Industries) 10 parts Water 100 parts Surfactant 20 parts

【0081】[比較例1]離形塗料Bの代わりに離形塗
料A(離形層B用)を用いた以外は実施例1と同様に離
形フイルムを作成した。この離形フイルムの性能を表1
に示す。
Comparative Example 1 A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that release coating A (for release layer B) was used instead of release coating B. Table 1 shows the performance of this release film.
Shown in

【0082】[比較例2]平均粒径が1.2μのシリカ
粒子を0.01重量%含有するポリエステルを用いた以
外は実施例1と同様にして離形フイルムを得た。この離
形フイルムの特性を表1に示す。
Comparative Example 2 A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polyester containing 0.01% by weight of silica particles having an average particle diameter of 1.2 μm was used. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】尚、表1の測定面で、A面は離形層Aの表
面、B面は離形層Bの表面であることを示す。
In the measurement planes shown in Table 1, surface A indicates the surface of the release layer A, and surface B indicates the surface of the release layer B.

【0085】表1及び実施例、比較例の記述から明らか
なように、本発明による離形フイルムは、粘着性を有す
る異方性導電膜を成形する工程でキャリアフイルムとし
て使用する場合、或いは巻取り時にセパレータとして使
用する場合の特性に優れたものである。
As is clear from Table 1 and the description of the examples and comparative examples, the release film according to the present invention is used as a carrier film in the step of forming an anisotropic conductive film having an adhesive property, or when it is rolled. It has excellent characteristics when used as a separator at the time of removal.

【0086】[0086]

【発明の効果】本発明によれば、粘着性を有する異方性
導電膜を成形する工程でキャリアフイルムとして使用す
る場合、或いは巻取り時にセパレータとして使用する場
合の特性に優れた離形フイルムを提供することがことが
できる。
According to the present invention, there is provided a release film having excellent properties when used as a carrier film in the step of forming an anisotropic conductive film having adhesiveness, or when used as a separator during winding. Can be provided.

フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AA17D AA17E AA20A AA21A AK01D AK01E AK42A BA03 BA04 BA05 BA07 BA10B BA10C DE01D DE01E GB90 JG01D JG01E JG03D JG03E JG04 JL14B JL14C YY00AContinued on the front page F term (reference) 4F100 AA17D AA17E AA20A AA21A AK01D AK01E AK42A BA03 BA04 BA05 BA07 BA10B BA10C DE01D DE01E GB90 JG01D JG01E JG03D JG03E JG04 JL14B JL14C YY00A

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリエステルフイルムの片面に離形層A
を、もう一方の面に離形層Bを設けた離形フイルムであ
って、該離形フイルムは、粘着性を有する異方性導電膜
を成形する工程でキャリアフイルムとして使用され、か
つ巻取り時にセパレータとして使用され、下記式(1)
〜(6)を同時に満足すること特徴とする離形フイル
ム。 0.1≦RaA≦1.0・・・(1) 0.1≦RaB≦1.0・・・(2) 0≦Tt≦80・・・(3) 50≦Hz・・・(4) 1.5≦HB/HA≦100・・・(5) 0.15≦HA+HB≦7・・・(6) 但し、式(1)〜(6)中、RaAは離形層A表面の中
心線平均粗さ(μm)、RaBは離形層B表面の中心線
平均粗さ(μm)、Ttは離形フイルムの全光線透過率
(%)、Hzは離形フイルムのヘーズ値(%)、HA
離形層A表面の剥離力(N/25mm幅)、HBは離形
層B表面の剥離力(N/25mm幅)をそれぞれ表す。
1. A release layer A on one side of a polyester film
A release film provided with a release layer B on the other surface, wherein the release film is used as a carrier film in a step of forming an anisotropic conductive film having adhesiveness, and is wound up. Sometimes used as a separator, the following formula (1)
A release film characterized by satisfying (6) at the same time. 0.1 ≦ Ra A ≦ 1.0 (1) 0.1 ≦ Ra B ≦ 1.0 (2) 0 ≦ Tt ≦ 80 (3) 50 ≦ Hz ( 4) 1.5 ≦ H B / H A ≦ 100 (5) 0.15 ≦ H A + H B ≦ 7 (6) However, in the formulas (1) to (6), Ra A is The center line average roughness (μm) of the release layer A surface, Ra B is the center line average roughness (μm) of the release layer B surface, Tt is the total light transmittance (%) of the release film, and Hz is the release haze value form the film (%), H a peel force of releasing layer a surface (N / 25 mm width), H B represents release force releasing layer B surface (N / 25 mm width), respectively.
【請求項2】 離形層A及び離形層Bの少なくとも1層
とポリエステルフイルムの間に帯電防止層を設け、帯電
防止層を設けた側の離形層表面の表面固有抵抗値が5×
104〜5×1012Ω/□である請求項1に記載の離形
フイルム。
2. An antistatic layer is provided between at least one of the release layers A and B and the polyester film, and the surface of the release layer on the side where the antistatic layer is provided has a surface resistivity of 5 ×.
2. The release film according to claim 1, wherein the release film is 10 4 to 5 × 10 12 Ω / □.
【請求項3】 ポリエステルフイルムが、平均粒径が
0.1〜0.5μmの酸化チタン粒子を0〜15wt
%、平均粒径が2〜6μmのシリカ粒子を0.2〜2w
t%を含有する請求項1または2に記載の離形フイル
ム。
3. The polyester film is prepared by adding titanium oxide particles having an average particle size of 0.1 to 0.5 μm to 0 to 15 wt.
%, Silica particles having an average particle diameter of 2 to 6 μm are 0.2 to 2 watts.
3. The release film according to claim 1, which contains t%.
【請求項4】 帯電防止層が導電性ポリマー、酸化金属
微粒子及び第4級アンモニウム塩を付加した重合体から
なる群から選ばれる少なくとも1種を含む請求項2また
は3に記載の離形フイルム。
4. The release film according to claim 2, wherein the antistatic layer contains at least one selected from the group consisting of a conductive polymer, metal oxide fine particles, and a polymer to which a quaternary ammonium salt is added.
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