JP2002327030A - Core/shell type particulate and its production method - Google Patents

Core/shell type particulate and its production method

Info

Publication number
JP2002327030A
JP2002327030A JP2001131700A JP2001131700A JP2002327030A JP 2002327030 A JP2002327030 A JP 2002327030A JP 2001131700 A JP2001131700 A JP 2001131700A JP 2001131700 A JP2001131700 A JP 2001131700A JP 2002327030 A JP2002327030 A JP 2002327030A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
core
group
shell type
particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001131700A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4809993B2 (en
Inventor
Toshiyuki Tauchi
敏之 田内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Exsymo Co Ltd
Original Assignee
Ube Nitto Kasei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Nitto Kasei Co Ltd filed Critical Ube Nitto Kasei Co Ltd
Priority to JP2001131700A priority Critical patent/JP4809993B2/en
Publication of JP2002327030A publication Critical patent/JP2002327030A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4809993B2 publication Critical patent/JP4809993B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a core/shell type particulate which can firmly bind to the upper and lower substrates with suitable temperature and pressure, fix the substrates and hold a cell gap accurately when used as a spacer for a liquid crystal display device. SOLUTION: The particulate has a silica particulate as a core (A) and a shell layer through a covalent bond to a surface of the particulate which contains a polyorganosiloxane (B) and a polymer of a hydrophobic polymerizable monomer (C). The method for producing the particulate is also provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コアシェル型微粒
子およびその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発
明は、高度の接着力と粒径精度に優れ、単独で液晶表示
装置用固着型面内スペーサとして用いた場合、適度な温
度および加圧によって上下基板に強固に接着し、該基板
を固定化すると共に、精度よくセルギャップを保持し得
る上、散布溶媒に対する耐久性に優れ、かつ液晶への溶
出が少ない有機無機複合コアシェル型微粒子、及びこの
ものを効率よく製造する方法に関するものである。
The present invention relates to core-shell type fine particles and a method for producing the same. More specifically, the present invention is excellent in high adhesive strength and particle size accuracy, and when used alone as a fixed type in-plane spacer for a liquid crystal display device, firmly adheres to the upper and lower substrates by moderate temperature and pressure, The present invention relates to an organic-inorganic composite core-shell type fine particle which can fix the substrate, accurately maintain a cell gap, has excellent durability against a spraying solvent, and has little elution to a liquid crystal, and a method for efficiently producing the same. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置の発展は目覚まし
く、時計、電卓、ノート型パソコンなどの小型の表示部
をもつものだけではなく、ワードプロセッサー、デスク
トップパソコン、テレビなどの大型の表示部をもつ機器
の表示装置などとして利用されている。この液晶表示装
置は、一般に配向層を形成した2枚の透明電極基板を、
スペーサ粒子を介して所定の間隙になるように配向配置
し、周辺をシールして液晶セルを形成し、その電極基板
の間隙に液晶材料を挾持した構造を有している。該スペ
ーサ粒子は電極基板間の間隙、すなわち液晶層の厚みを
均一に保つための機能を有しており、液晶セルの周辺シ
ール部および液晶セル内部(面内、表示部分)に使用さ
れる。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of liquid crystal display devices has been remarkable, and not only devices having small display units such as watches, calculators, notebook computers, but also devices having large display units such as word processors, desktop personal computers, and televisions. It is used as a display device. This liquid crystal display device generally comprises two transparent electrode substrates on which an alignment layer is formed,
It has a structure in which liquid crystal cells are formed by orienting at predetermined gaps via spacer particles, sealing the periphery, forming a liquid crystal cell, and sandwiching a liquid crystal material in the gap between the electrode substrates. The spacer particles have a function of keeping the gap between the electrode substrates, that is, the thickness of the liquid crystal layer uniform, and are used in the peripheral sealing portion of the liquid crystal cell and inside the liquid crystal cell (in-plane, display portion).

【0003】このような液晶表示装置の液晶層の厚さを
一定に保つための面内スペーサのうち、移動防止能を有
するいわゆる固着型スペーサとしては、熱可塑性樹脂や
エポキシ系熱硬化性樹脂などを被覆した球状接着性粒子
が一般的である。熱可塑性樹脂を被覆したスペーサは、
分散重合法など化学反応による被覆方法が行われてい
る。しかしながら、分散重合法などでは、凝集を発生す
ることなく被覆膜厚を厚くすることが困難である。その
ため、これらスペーサは主に粒子の移動を防止するため
の固定化に適しており、用いられている。また、使用時
の温度耐久性の点から、軟化点が100℃以上の熱可塑
性樹脂しか使用できない上、液晶材料や散布溶媒に対す
る耐久性に劣るなどの欠点を有している。一方、エポキ
シ系熱硬化性樹脂を被覆した接着性粒子においては、そ
の硬化に用いられるアミン系硬化剤は低温での硬化特性
に優れるものの、液晶材料に悪影響を及ぼす、例えば液
晶比抵抗を下げる原因となり使用しにくく、またフェノ
ール系や酸無水物系硬化剤では反応性が低く、150℃
以上の高温硬化が必要である。また、このようなエポキ
シ系接着性粒子においては、エポキシ樹脂系熱硬化性樹
脂の単独成分からなるタイプの接着性粒子が多く、それ
らは、液状エポキシ樹脂をエマルション化させ、表面を
部分硬化することによって作製される場合が多い。しか
し、一般的には、その部分硬化剤による処理は水溶性ア
ミンなどが用いられ、液晶比抵抗低下を起こしやすく、
さらに製法の関係から粒径のCV値(粒度分布の変動係
数)が劣る。この場合、セルギャップ以下の粒径の小粒
子は、セル内で浮いた状態となり、セルギャップを保持
する本来の目的を果たさないばかりか、逆に異物として
表示品位を低下させる原因となる。一方、比較的大きい
粒径の大粒子は平均粒径の粒子に比べて基板との接着面
積が大きくなってしまい、その結果接着斑となる。さら
に、加圧によってセルギャップまで潰されたそれらの大
粒子は、表示方向から見た大きさが肥大し、スペーサ内
部からの光抜け面積も同様に大きくなることから表示班
を起こし、小粒子同様に表示品位が低下するのを免れな
い。
Among the in-plane spacers for keeping the thickness of the liquid crystal layer of such a liquid crystal display device constant, so-called fixed spacers having a movement preventing function include thermoplastic resins and epoxy-based thermosetting resins. Is generally used. Spacer coated with thermoplastic resin,
A coating method by a chemical reaction such as a dispersion polymerization method has been used. However, it is difficult to increase the coating thickness without causing aggregation by the dispersion polymerization method or the like. Therefore, these spacers are mainly used for immobilization for preventing movement of particles, and are used. Further, from the viewpoint of temperature durability during use, only a thermoplastic resin having a softening point of 100 ° C. or higher can be used, and the liquid crystal material and the spray solvent have poor durability. On the other hand, in the adhesive particles coated with the epoxy-based thermosetting resin, the amine-based curing agent used for the curing has excellent curing properties at low temperatures, but has an adverse effect on the liquid crystal material, for example, a cause of lowering the liquid crystal specific resistance. It is difficult to use, and has low reactivity with phenolic and acid anhydride curing agents.
The above high temperature curing is necessary. Also, in such epoxy-based adhesive particles, there are many types of adhesive particles composed of a single component of an epoxy resin-based thermosetting resin, and they are capable of emulsifying a liquid epoxy resin and partially curing the surface. Often produced by. However, in general, the treatment with the partial curing agent uses a water-soluble amine or the like, and tends to cause a decrease in liquid crystal specific resistance.
Further, the CV value of the particle size (the coefficient of variation of the particle size distribution) is inferior due to the manufacturing method. In this case, small particles having a particle size equal to or smaller than the cell gap float in the cell, not only fulfilling the original purpose of maintaining the cell gap, but also conversely deteriorating the display quality as foreign matter. On the other hand, large particles having a relatively large particle size have a larger bonding area with the substrate than particles having an average particle size, resulting in adhesion unevenness. Furthermore, those large particles crushed up to the cell gap by pressurization enlarge the size seen from the display direction, and the area of light leakage from the inside of the spacer also increases, causing display clots, like small particles. Display quality is inevitable.

【0004】さらに、液晶パネルの耐熱温度は、その種
類により異なるが、一般的には80〜150℃程度であ
る。耐熱温度以上の温度をかけると、パネル自体が変形
したり、パネル構成物質が変質するなど、好ましくない
事態を招来する。したがって、液晶パネルの耐熱温度未
満の温度で、スペーサ粒子を熱処理して、固着させるこ
とが重要である。
Further, the heat-resistant temperature of a liquid crystal panel varies depending on the type thereof, but is generally about 80 to 150 ° C. When a temperature higher than the heat resistant temperature is applied, undesired situations such as deformation of the panel itself and deterioration of the panel constituent materials are caused. Therefore, it is important to heat-treat and fix the spacer particles at a temperature lower than the heat resistance temperature of the liquid crystal panel.

【0005】また、固着型スペーサとして、エポキシ基
などの接着性置換基を導入したものを被覆した粒子が知
られているが、このものは基板との接着面積が小さく、
その固着力が低いなどの欠点を有している。
[0005] Particles coated with an adhesive-substituted substituent such as an epoxy group have been known as a fixing spacer.
It has disadvantages such as a low fixing force.

【0006】他方、100℃未満の比較的低温で固着す
るスペーサとしては、例えば架橋剤および光重合開始剤
を含む熱可塑性樹脂で被覆された粒子からなる液晶表示
素子用スペーサが提案されている(特開平6−2894
02号公報)。しかしながら、このスペーサはアルコー
ル耐久性および光重合開始剤を含むことによる保存安定
性が劣るなどの欠点を有している。
On the other hand, as a spacer which is fixed at a relatively low temperature of less than 100 ° C., for example, a spacer for a liquid crystal display element comprising particles coated with a thermoplastic resin containing a crosslinking agent and a photopolymerization initiator has been proposed (see, JP-A-6-2894
02 publication). However, this spacer has disadvantages such as poor alcohol stability and poor storage stability due to the inclusion of a photopolymerization initiator.

【0007】また、固着層にエポキシ樹脂とアクリルモ
ノマーから合成されるラジカル重合性アクリレート系プ
レポリマーを使用することも考えられるが、この樹脂は
不純物としてこの合成時に使用されるアミン塩やアルカ
リ金属塩を通常総含有量で200重量ppm以上含有す
るため、これを用い作成したパネルにおいては、該不純
物が液晶に溶出し、液晶の比抵抗値を下げ、パネルの駆
動電圧を下げてしまう可能性があった。
It is also conceivable to use a radically polymerizable acrylate prepolymer synthesized from an epoxy resin and an acrylic monomer for the fixing layer, but this resin is used as an impurity for the amine salt or alkali metal salt used in the synthesis. Is usually contained in a total content of 200 ppm by weight or more, in a panel made using the same, the impurities may elute into the liquid crystal, lower the specific resistance value of the liquid crystal, and lower the driving voltage of the panel. there were.

【0008】一方、液晶表示装置においては、近年、軽
量化などを図るために、基板の薄膜化や、ガラス基板か
ら高分子フィルムへの移行が盛んに検討されている。し
かしながら、この場合、基板が柔軟化によってうねりな
どが生じ、特にSTNではセルギャップを均一に保つこ
とができず、表示品位が低下するなど、好ましくない事
態を招来するおそれがあり、上下の基板をきっちりと固
定化する必要がある。
On the other hand, in the liquid crystal display device, in recent years, in order to reduce the weight, the thinning of the substrate and the transition from a glass substrate to a polymer film have been actively studied. However, in this case, the substrate may be undulated due to its flexibility, and in particular, in the STN, the cell gap may not be kept uniform, and display quality may be degraded. It needs to be firmly fixed.

【0009】配向基板に対して付着性の良いスペーサと
して、例えば特開平8−43834号公報に開示されて
いる液晶用スペーサが知られている。しかしながら、こ
のスペーサは、粒子の基板への固定化(移動防止)を目
的としているため、上下基板双方をスペーサを介して固
定させるには、接着力が不十分であった。また、該スペ
ーサは、公知の重合法により粒子表面に移動防止成分が
被覆されており、このような方法によって、性能向上の
ために被覆層の厚みを増やそうとすると凝集が発生しや
すく、また、複数回被覆操作を試みても、製造プロセス
が増加するのに加え、凝集などのロスが生じ、コスト高
になるのを免れず、実用的ではない。
As a spacer having good adhesion to an alignment substrate, for example, a liquid crystal spacer disclosed in JP-A-8-43834 is known. However, since this spacer is intended to fix the particles to the substrate (prevent movement), the adhesive force is insufficient to fix both the upper and lower substrates via the spacer. In addition, the spacer has a particle surface coated with an anti-migration component by a known polymerization method, and by such a method, aggregation tends to occur when the thickness of the coating layer is increased in order to improve performance, and Even if the coating operation is attempted a plurality of times, the manufacturing process is increased, and a loss such as agglomeration is caused, which inevitably increases the cost, which is not practical.

【0010】そこで、スペーサと混合散布して、上下基
板を接着固定する接着性樹脂粒子が提案されている(特
開平11−326915号公報)。しかしながら、この
場合、画素上にスペーサの他に接着性樹脂粒子が散布さ
れるために、表示品位が低下する上、液晶表示装置の製
造工程において、散布工程の増加や、スペーサと接着性
樹脂粒子をそれぞれ単独で散布する技術が求められるな
ど、プロセスの改良が必要となるといった問題が生じ
る。
Therefore, an adhesive resin particle which is mixed and dispersed with a spacer to adhere and fix the upper and lower substrates has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-326915). However, in this case, since the adhesive resin particles other than the spacers are scattered on the pixels, the display quality deteriorates. There is a problem that the process needs to be improved, for example, a technique of spraying each of them is required.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、高度の接着力と粒径精度に優れ、単独で
液晶表示装置用固着型面内スペーサとして用いた場合、
適度な温度および加圧によって上下基板に強固に接着
し、該基板を固定化すると共に、精度よくセルギャップ
を保持し得る上、散布溶媒に対する耐久性に優れ、かつ
液晶への溶出が少ないコアシェル型微粒子を提供するこ
とを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Under such circumstances, the present invention is intended to provide a high-adhesion force and excellent particle size accuracy, and when used alone as a fixed-type in-plane spacer for a liquid crystal display device.
A core-shell type that firmly adheres to the upper and lower substrates by moderate temperature and pressure to fix the substrate, maintain the cell gap with high accuracy, and has excellent durability against the spraying solvent and little elution into the liquid crystal. It is intended to provide fine particles.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の優
れた機能を有するコアシェル型微粒子を開発すべく鋭意
研究を重ねた結果、シリカ微粒子をコアとし、その表面
に共有結合を介して特定の成分を含むシェル層を有する
有機無機複合コアシェル型微粒子が、その目的に適合し
得ること、そしてこのコアシェル型微粒子は、特定の工
程を施すことにより、効率よく製造し得ることを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to develop core-shell type fine particles having the above-mentioned excellent functions. As a result, silica fine particles were used as cores, and the surfaces of the silica fine particles were formed through covalent bonds. It has been found that organic-inorganic composite core-shell type fine particles having a shell layer containing a specific component can be adapted for the purpose, and that the core-shell type fine particles can be efficiently produced by performing a specific step. The present invention has been completed based on the findings.

【0013】すなわち、本発明は、(A)シリカ微粒子
をコアとし、その表面に共有結合を介して、(B)ポリ
オルガノシロキサンおよび(C)疎水性重合性モノマー
の重合物を含むシェル層を有することを特徴とするコア
シェル型微粒子を提供するものである。
That is, the present invention provides a shell layer containing (A) a polymer of (B) a polyorganosiloxane and (C) a hydrophobic polymerizable monomer via a covalent bond on the surface of silica fine particles as a core. It is intended to provide core-shell type fine particles characterized by having.

【0014】また、本発明に従えば、上記コアシェル型
微粒子は、(a)シリカ微粒子を表面処理して疎水性表
面を形成する工程、(b)表面処理された疎水性表面を
有するシリカ微粒子の表面に、液滴または半固形状の膨
潤可能なポリオルガノシロキサン層を形成させる工程、
および(c)シリカ微粒子の表面に形成されたポリオル
ガノシロキサン層の表面および内部において、疎水性重
合性モノマーを吸収させ、重合させる工程を施すことに
より、製造することができる。
Further, according to the present invention, the core-shell type fine particles include (a) a step of surface-treating the silica fine particles to form a hydrophobic surface; and (b) a step of forming the silica fine particles having the surface-treated hydrophobic surface. Forming a droplet or semi-solid swellable polyorganosiloxane layer on the surface,
And (c) a step of absorbing and polymerizing a hydrophobic polymerizable monomer on the surface and inside of the polyorganosiloxane layer formed on the surface of the silica fine particles.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明のコアシェル型微粒子は、
(A)シリカ微粒子をコアとし、その表面に共有結合を
介してシェル層を有するものであり、そしてシェル層と
して、(B)ポリオルガノシロキサンおよび(C)疎水
性重合性モノマーの重合物を含むものが設けられてい
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The core-shell type fine particles of the present invention
(A) having silica fine particles as a core and having a shell layer on the surface thereof via a covalent bond, and including, as the shell layer, a polymer of (B) a polyorganosiloxane and (C) a hydrophobic polymerizable monomer Things are provided.

【0016】本発明のコアシェル型微粒子において、コ
ア部分を構成する(A)成分のシリカ微粒子は、コア部
分を形成する母材であって、いわゆるゾルゲル法により
シリコンアルコキシドを加水分解および重縮合反応して
得られる生シリカ微粒子であってもよいし、これを焼成
してなる焼成シリカ微粒子であってもよい。この生シリ
カ微粒子および焼成シリカ微粒子の製法、性質などは、
後述する本発明のコアシェル型微粒子の製造方法におい
て詳しく説明する。
In the core-shell type fine particles of the present invention, the silica fine particles of the component (A) constituting the core portion are a base material for forming the core portion, and undergo a hydrolysis and polycondensation reaction of silicon alkoxide by a so-called sol-gel method. Raw silica fine particles obtained by the above method or calcined silica fine particles obtained by calcining the raw silica fine particles may be used. The production method and properties of the raw silica particles and calcined silica particles are as follows:
The method for producing core-shell type fine particles of the present invention described later will be described in detail.

【0017】このシリカ微粒子は、実質的に真球状であ
って、その平均粒径は0.5〜15μmの範囲が好まし
く、より好ましくは0.8〜12μm、特に好ましくは
1.0〜10μmの範囲である。また、粒度分布の変動
係数(CV値)は5%以下が好ましく、より好ましくは
2%以下である。なお、変動係数(CV値)は、下式に
より求めることができる。 CV値(%)=(粒径の標準偏差/平均粒径)×100
The silica fine particles are substantially spherical and have an average particle diameter of preferably 0.5 to 15 μm, more preferably 0.8 to 12 μm, particularly preferably 1.0 to 10 μm. Range. Further, the coefficient of variation (CV value) of the particle size distribution is preferably 5% or less, more preferably 2% or less. The coefficient of variation (CV value) can be obtained by the following equation. CV value (%) = (standard deviation of particle size / average particle size) × 100

【0018】本発明のコアシェル型微粒子は、前記コア
部分を形成するシリカ微粒子の表面に共有結合を介して
シェル層が形成されたものであるが、上記共有結合を設
けるには、例えば該シリカ微粒子を、ビニル系シランカ
ップリング剤などで表面処理し、ビニル基を導入する方
法が好ましく用いられる。
The core-shell type fine particles of the present invention are obtained by forming a shell layer via a covalent bond on the surface of the silica fine particles forming the core portion. Is subjected to a surface treatment with a vinyl silane coupling agent or the like to introduce a vinyl group.

【0019】シリカ微粒子をビニル系シランカップリン
グ剤で表面処理することにより、該ビニル系シランカッ
プリング剤のシラン部分がシリカ微粒子表面のシラノー
ル基と反応して化学結合を形成し、同時にビニル系シラ
ンカップリング剤のビニル基が、シェル層形成時に疎水
性重合性モノマー中の不飽和二重結合と反応して化学結
合を形成すると共に、場合によりポリオルガノシロキサ
ンと化学結合することにより、シリカ微粒子表面に、共
有結合を介してシェル層を密着性よく形成させることが
できる。
By subjecting the silica fine particles to a surface treatment with a vinyl silane coupling agent, the silane portion of the vinyl silane coupling agent reacts with silanol groups on the surface of the silica fine particles to form a chemical bond. The vinyl group of the coupling agent reacts with the unsaturated double bond in the hydrophobic polymerizable monomer during the formation of the shell layer to form a chemical bond, and in some cases, chemically bonds with the polyorganosiloxane to form a silica fine particle surface. In addition, the shell layer can be formed with good adhesion through a covalent bond.

【0020】ビニル系シランカップリング剤としては、
シリカ微粒子表面のシラノール基との反応性を有するシ
ラン部分(例えばアルコキシシラン基、ハロゲノシラン
基、アセトキシシラン基など)を有し、かつシェル層形
成用成分との反応性を有するビニル基を有するものであ
ればいかなるものも使用できる。ここで上記ビニル基と
は、ビニル基それ自体以外にアクリロイル基、メタクリ
ロイル基、アリル基などを包含するものとする。上記の
ビニル系シランカップリング剤の具体例としては、例え
ばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミ
ノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
ビニルトリアセトキシシラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。これら
は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせ
て用いてもよい。
As the vinyl silane coupling agent,
A silica particle having a silane moiety (e.g., an alkoxysilane group, a halogenosilane group, or an acetoxysilane group) having a reactivity with a silanol group on the surface of a silica fine particle and having a vinyl group having a reactivity with a component for forming a shell layer. Anything can be used. Here, the vinyl group includes an acryloyl group, a methacryloyl group, an allyl group and the like in addition to the vinyl group itself. Specific examples of the above-mentioned vinyl silane coupling agent include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ
Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane,
Vinyl triacetoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

【0021】本発明のコアシェル型微粒子におけるシェ
ル層は、前記したように、(B)ポリオルガノシロキサ
ンおよび(C)疎水性重合性モノマーの重合物を含む層
であり、その厚さは0.1μm以上であって、コアのシ
リカ微粒子粒径の3〜40%の範囲が好ましい。
As described above, the shell layer in the core-shell type fine particles of the present invention is a layer containing a polymer of (B) a polyorganosiloxane and (C) a hydrophobic polymerizable monomer, and has a thickness of 0.1 μm. As described above, the range of 3 to 40% of the core silica particle diameter is preferable.

【0022】さらに加熱圧着によって、コアシェル型微
粒子が実質的に円柱状になるような厚さが好ましく、シ
リカ微粒子粒径の7.2%以上であれば、計算上加熱圧
着により、加熱圧着型スペーサ半径を有し、コアのシリ
カ微粒子の粒径高さの円柱とすることができる。
Further, it is preferable that the thickness is such that the core-shell type fine particles become substantially cylindrical by thermocompression bonding. If the particle size is 7.2% or more of the silica fine particle size, the thermocompression bonding spacer is calculated by thermocompression bonding. It can be a column having a radius and a particle height of the silica fine particles of the core.

【0023】このシェル層における(B)成分のポリオ
ルガノシロキサンと(C)成分の疎水性重合性モノマー
の重合物との体積比は、1:0.5〜1:20の範囲に
あるのが、スペーサとしての接着性およびLCD製造時
におけるセミドライ散布における散布液中でのスターラ
ー耐久性などの点から好ましい。
The volume ratio of the polyorganosiloxane (B) to the polymer of the hydrophobic polymerizable monomer (C) in the shell layer is preferably in the range of 1: 0.5 to 1:20. This is preferred from the viewpoints of adhesiveness as a spacer and stirrer durability in a spraying liquid in semi-dry spraying during LCD production.

【0024】また、加熱によるシェル層の軟化温度は、
スペーサとしての加熱接着性の点から、60〜180℃
の範囲にあることが好ましい。この軟化温度が180℃
を超えると接着性を発揮するのに180℃より高い温度
が必要となり、液晶パネル自体を変形させたり、パネル
構成物質を変質させたりする場合がある。一方、軟化温
度が60℃未満では、保管中の粒子同士がくっついたり
するおそれがある。より好ましい軟化温度は70〜15
0℃の範囲である。
The softening temperature of the shell layer by heating is as follows:
60-180 ° C. from the viewpoint of heat adhesion as a spacer
Is preferably within the range. This softening temperature is 180 ° C
If the temperature exceeds 180 ° C., a temperature higher than 180 ° C. is required to exhibit the adhesiveness, and the liquid crystal panel itself may be deformed, or the constituent materials of the panel may be deteriorated. On the other hand, if the softening temperature is lower than 60 ° C., the particles during storage may stick to each other. A more preferred softening temperature is 70 to 15
It is in the range of 0 ° C.

【0025】本発明のコアシェル型微粒子においては、
シェル層中の(B)成分であるポリオルガノシロキサン
を形成させるためには、原料として一般式(I) R1 4-nSi(OR2n …(I) (式中、R1は非加水分解性基であって、炭素数1〜2
0のアルキル基、エポキシ基を有する炭素数1〜20の
アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6
〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル
基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、nは平均で2.
5以上4未満の数を示し、R1が複数ある場合、各R1
たがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2
複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異な
っていてもよい。)で表されるケイ素化合物を用い、加
水分解・縮合させるのがよい。
In the core-shell type fine particles of the present invention,
To form a polyorganosiloxane as the component (B) of the shell layer is, the general formula as a starting material (I) R 1 4-n Si (OR 2) n ... (I) ( wherein, R 1 is not A hydrolyzable group having 1 to 2 carbon atoms
0 alkyl group, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having an epoxy group, alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, 6 carbon atoms
To 20 aryl groups or aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and n is an average of 2.
The number of 5 or more and less than 4, when R 1 are a plurality, each R 1 may be different from one another identical, if OR 2 there are a plurality, each OR 2 is a mutually identical May also be different. Hydrolysis and condensation are preferably performed using the silicon compound represented by the formula (1).

【0026】上記一般式(I)において、R1のうちの
炭素数1〜20のアルキル基としては、炭素数1〜10
のものが好ましく、またこのアルキル基は直鎖状、分岐
状、環状のいずれであってもよい。このアルキル基の例
としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
などが挙げられる。エポキシ基を有する炭素数1〜20
のアルキル基としては、エポキシ基を有する炭素数1〜
10のアルキル基が好ましく、またこのアルキル基は直
鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。このエポ
キシ基を有するアルキル基の例としては、γ−グリシド
キシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基な
どが挙げられる。炭素数2〜20のアルケニル基として
は、炭素数2〜10のアルケニル基が好ましく、また、
このアルケニル基は直鎖状、分岐状のいずれであっても
よい。このアルケニル基の例としては、ビニル基、アリ
ル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基などが
挙げられる。炭素数6〜20のアリール基としては、炭
素数6〜10のものが好ましく、例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げられる。炭
素数7〜20のアラルキル基としては、炭素数7〜10
のものが好ましく、例えばベンジル基、フェネチル基、
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基などが挙げられ
る。
In the above general formula (I), the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R 1 is a group having 1 to 10 carbon atoms.
And the alkyl group may be linear, branched or cyclic. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl, cyclopentyl. Group, cyclohexyl group and the like. 1-20 carbon atoms having an epoxy group
As the alkyl group of 1 to 1 carbon atoms having an epoxy group
Preferred are 10 alkyl groups, and this alkyl group may be linear, branched, or cyclic. Examples of the alkyl group having an epoxy group include a γ-glycidoxypropyl group and a 3,4-epoxycyclohexyl group. The alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms,
The alkenyl group may be linear or branched. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a hexenyl group, an octenyl group and the like. The aryl group having 6 to 20 carbon atoms is preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group. The aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms includes 7 to 10 carbon atoms.
Are preferred, for example, benzyl group, phenethyl group,
Examples include a phenylpropyl group and a naphthylmethyl group.

【0027】一方、R2で示されるは炭素数1〜6のア
ルキルは直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよ
く、その例としては、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など
が挙げられる。
On the other hand, the alkyl having 1 to 6 carbon atoms represented by R 2 may be linear, branched or cyclic, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group and an n-propyl group. , Isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group,
sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group,
Examples include a hexyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.

【0028】nは平均で2.5以上4未満の数であり、
ここでnが平均とは、一般式(I)のケイ素化合物は、
単体であってもよいし、二種以上の混合物であってもよ
いことを意味する。すなわち、一般式(I)で表される
ケイ素化合物として、一種を単独で用いる場合、一般式
(I)のケイ素化合物は、R1Si(OR23となる。
また、二種以上組み合わせて用いる場合は、nの平均が
2.5以上4未満であればnが2〜4の範囲でいかなる
化合物の組み合わせであってもよい。
N is a number of 2.5 or more and less than 4 on average;
Here, n is an average when the silicon compound of the general formula (I) is
It means that it may be a single substance or a mixture of two or more kinds. That is, when one kind of the silicon compound represented by the general formula (I) is used alone, the silicon compound represented by the general formula (I) is R 1 Si (OR 2 ) 3 .
When two or more compounds are used in combination, any compound may be used in the range of 2 to 4 as long as the average of n is 2.5 or more and less than 4.

【0029】この(B)成分のポリオルガノシロキサン
成分の架橋度が低すぎるとアルコール耐久性(スペーサ
粒子散布溶媒耐久性)が悪くなるおそれがあり、一方架
橋度が高すぎると得られるコアシェル型微粒子を使用時
に加熱した際の流動性が悪く、十分な接着性が発揮され
ない場合がある。したがって、nは、平均で2.5より
大きく、3.2以下が好適である。R1が複数ある場
合、各R1はたがいに同一であってもよいし、異なって
いてもよく、またOR2が複数ある場合、各OR2はたが
いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。この
一般式(I)で表されるケイ素化合物の中で、一般式
(I−a) (CH2=CH−)mSi(OR24-m …(I−a) (式中、R2は前記と同じであり、OR2が複数ある場
合、各OR2はたがいに同一であっても異なっていても
よく、mは1〜3の整数を示す。)で表されるビニルア
ルコキシシラン化合物は、そのビニル基の一部若しくは
全てが疎水性重合性モノマーと共重合して、有機成分と
無機成分が化学結合により結合するため好ましい。
If the degree of crosslinking of the polyorganosiloxane component (B) is too low, the durability of alcohol (the durability of the solvent for dispersing the spacer particles) may be deteriorated. On the other hand, if the degree of crosslinking is too high, the obtained core-shell type fine particles may be obtained. Has poor flowability when heated during use, and may not exhibit sufficient adhesiveness. Therefore, n is preferably greater than 2.5 on average and 3.2 or less. When R 1 are a plurality, each R 1 may be mutually identical or different and, where OR 2 there are a plurality, each OR 2 may be the mutually the same, or different May be. In the silicon compound represented by the general formula (I), among the silicon compounds represented by the general formula (Ia) (CH 2 CHCH—) m Si (OR 2 ) 4-m (Ia) 2 is the same as described above, and when there are a plurality of OR 2 , each OR 2 may be the same or different, and m represents an integer of 1 to 3. ) The compound is preferable because part or all of the vinyl group is copolymerized with the hydrophobic polymerizable monomer and the organic component and the inorganic component are bonded by a chemical bond.

【0030】前記一般式(I)で表されるケイ素化合物
の例としては、単体で用いる場合は、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロ
ポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プ
ロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、さらには一般式(I−a)の化合物であるビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどが挙
げられる。
Examples of the silicon compound represented by the general formula (I) include, when used alone, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, ethyltrimethoxysilane. Silane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and a compound of the general formula (Ia) Vinyl trimethoxy silane, vinyl triethoxy silane and the like can be mentioned.

【0031】また、二種以上を組み合わせて用いる場合
は、上記化合物と共に、ジメチルジメトキシシラン、メ
チルフェニルジメトキシシラン、ジビニルジメトキシシ
ラン、ジビニルジエトキシシランなどの2官能性アルコ
キシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ランなどの4官能性アルコキシシランを、nが平均で
2.5以上4未満、好ましくは2.5より大きく3.2
以下になるように併用することができる。
When two or more kinds are used in combination, the above compound may be used together with a bifunctional alkoxysilane such as dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, divinyldimethoxysilane, divinyldiethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, or the like. A tetrafunctional alkoxysilane, such as silane, may be used, where n is an average of 2.5 or more and less than 4, preferably greater than 2.5 and 3.2.
It can be used together as follows.

【0032】一方、(C)成分である疎水性重合性モノ
マーの重合物を生成させるための該疎水性重合性モノマ
ーとしては、その重合物が前記(B)成分のポリオルガ
ノシロキサン成分と良好な親和性を有するものが好まし
く用いられる。該重合物がポリオルガノシロキサン成分
との親和性が悪いと相分離によって均一なシェル層が得
られにくくなる上、ポリオルガノシロキサン成分と重合
物が極端に局在化するため、コアシェル型微粒子表面に
接着力不足ヶ所やアルコール耐性不足ヶ所が生じる。
On the other hand, as the hydrophobic polymerizable monomer for producing a polymer of the hydrophobic polymerizable monomer which is the component (C), the polymer is in good agreement with the polyorganosiloxane component of the component (B). Those having affinity are preferably used. If the polymer has poor affinity for the polyorganosiloxane component, it becomes difficult to obtain a uniform shell layer due to phase separation.In addition, since the polyorganosiloxane component and the polymer are extremely localized, the surface of the core-shell type fine particles is Insufficient adhesive strength or insufficient alcohol resistance occurs.

【0033】重合物がポリオルガノシロキサン成分と良
好な親和性を有する疎水性重合性モノマーとしては、例
えば一般式(II)
Examples of the hydrophobic polymerizable monomer having a good affinity with the polyorganosiloxane component for the polymer include, for example, those represented by the general formula (II):

【0034】[0034]

【化2】 Embedded image

【0035】(式中、R3は水素原子またはメチル基、
4はエポキシ基、水酸基、メルカプト基若しくはエー
テル結合を有する炭化水素基を示す。)で表されるエチ
レン性不飽和単量体を好ましく挙げることができる。
(Wherein R 3 is a hydrogen atom or a methyl group,
R 4 represents an epoxy group, a hydroxyl group, a mercapto group or a hydrocarbon group having an ether bond. )) Are preferred.

【0036】このエチレン性不飽和単量体は、該ポリオ
ルガノシロキサン成分がビニル基を有する場合、それと
共重合し得るので、優れた親和性を発揮する。
This ethylenically unsaturated monomer, when the polyorganosiloxane component has a vinyl group, can be copolymerized with the vinyl group, thereby exhibiting excellent affinity.

【0037】前記一般式(II)で表されるエチレン性不
飽和単量体において、R4で示されるエポキシ基、水酸
基、メルカプト基若しくはエーテル結合を有する炭化水
素基としては、炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐状
のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭
素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキ
ル基を好ましく挙げることができる。
In the ethylenically unsaturated monomer represented by the general formula (II), the epoxy group, hydroxyl group, mercapto group or hydrocarbon group having an ether bond represented by R 4 has 1 to 10 carbon atoms. A linear or branched alkyl group, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms.

【0038】また、炭素数1〜10のアルキル基の例と
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、および各種のブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基などが挙げられる。炭素数
3〜10のシクロアルキル基の例としては、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、
シクロオクチル基などが、炭素数6〜10のアリール基
の例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナ
フチル基、メチルナフチル基などが、炭素数7〜10の
アラルキル基の例としては、ベンジル基、メチルベンジ
ル基、フェネチチル基、ナフチルメチル基などが挙げら
れる。
Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, various butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl and the like. Is mentioned. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group,
Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as cyclooctyl group include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and methylnaphthyl group, and examples of the aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms. Examples include a benzyl group, a methylbenzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group.

【0039】この一般式(II)で表されるエチレン性不
飽和単量体の例としては、グリシジル(メタ)アクリレ
ート、3−グリシドキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−メルカプトエチル(メタ)アクリレート、3−
メルカプトプロピル(メタ)アクリレート、2−メルカ
プトプロピル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせ
て用いてもよい。これらの中で、その重合物が熱硬化性
を有するものが好ましく、例えばエポキシ基を有するア
クリルモノマー、特にグリシジル(メタ)アクリレート
などが好適である。
Examples of the ethylenically unsaturated monomer represented by the general formula (II) include glycidyl (meth) acrylate, 3-glycidoxypropyl (meth) acrylate, 2- (3,4-epoxy) Cyclohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)
Acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-mercaptoethyl (meth) acrylate, 3-
Mercaptopropyl (meth) acrylate, 2-mercaptopropyl (meth) acrylate and the like can be mentioned.
These may be used alone or in combination of two or more. Among these, those having a thermosetting polymer are preferred, and for example, an acrylic monomer having an epoxy group, particularly glycidyl (meth) acrylate, is suitable.

【0040】本発明のコアシェル型微粒子は、真球状で
あって、1,000倍〜10,000倍の電子顕微鏡観
察において、シェル層が実質的に平滑な連続皮膜を呈し
ているものが好ましい。また、平均粒径は0.6〜20
μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.9〜17μ
m、特に好ましくは1.1〜14μmの範囲である。さ
らに、CV値は5%以下が好ましく、より好ましくは2
%以下である。
The core-shell type fine particles of the present invention preferably have a true spherical shape, and the shell layer presents a substantially smooth continuous film when observed with an electron microscope at 1,000 to 10,000 times. The average particle size is 0.6 to 20.
μm is preferable, and more preferably 0.9 to 17 μm
m, particularly preferably in the range of 1.1 to 14 μm. Further, the CV value is preferably 5% or less, more preferably 2%.
% Or less.

【0041】このような本発明のコアシェル型微粒子
は、スペーサ粒子として用いた場合、散布溶媒に対し
て、良好な耐久性を有すると共に、液晶中への不純物の
溶出が少ない。
When the core-shell type fine particles of the present invention are used as spacer particles, they have good durability against a spraying solvent and little elution of impurities into the liquid crystal.

【0042】また、従来のガラス基板よりも柔軟性のあ
る高分子フィルム基板を用いたフィルムLCDは、その
変形性の高さからスペーサの移動やセルギャップの変動
が生じやすい。さらには、その基板の帯電特性から粒子
の散布方法は乾式法ではなく、セミドライ方式のアルコ
ールリッチな散布溶媒が用いられる場合が多く、アルコ
ール耐久性が高い上、散布液中でのスターラー耐久性の
良好な接着性粒子が望まれており、本発明のコアシェル
型微粒子はこれら問題を解消する上でも好適である。
Further, in a film LCD using a polymer film substrate which is more flexible than a conventional glass substrate, movement of a spacer and fluctuation of a cell gap are liable to occur due to its high deformability. Furthermore, from the charging characteristics of the substrate, the method of spraying particles is not a dry method, but a semi-dry alcohol-rich spraying solvent is often used, and the alcohol durability is high and the stirrer durability in the spray liquid is high. Good adhesive particles are desired, and the core-shell type fine particles of the present invention are suitable for solving these problems.

【0043】次に、本発明のコアシェル型微粒子の製造
方法について説明する。本発明の方法は、(a)シリカ
微粒子を表面処理して疎水性表面を形成する工程、
(b)表面処理された疎水性表面を有するシリカ微粒子
の表面に、液滴または半固形状の膨潤可能なポリオルガ
ノシロキサン層を形成させる工程、および(c)シリカ
微粒子の表面に形成されたポリオルガノシロキサン層の
表面および内部において、疎水性重合性モノマーを吸収
させ、重合させる工程を含むものである。
Next, a method for producing the core-shell type fine particles of the present invention will be described. The method of the present invention comprises the steps of: (a) surface treating silica fine particles to form a hydrophobic surface;
(B) forming a droplet or semi-solid swellable polyorganosiloxane layer on the surface of the silica fine particle having a surface-treated hydrophobic surface; and (c) forming the polyorganosiloxane layer on the surface of the silica fine particle. The method includes a step of absorbing and polymerizing a hydrophobic polymerizable monomer on the surface and inside of the organosiloxane layer.

【0044】本発明の方法で用いられるコアとなるシリ
カ微粒子は、実質的に真球の微粒子であり、粒子同士が
実質的に合着していないものであればよく、多孔質であ
ってもよい。また、生シリカ微粒子であってもよいし、
焼成シリカ微粒子であってもよい。
The silica fine particles serving as the core used in the method of the present invention are substantially spherical fine particles, as long as the particles are not substantially coalesced, and may be porous. Good. Also, raw silica fine particles may be used,
It may be calcined silica fine particles.

【0045】生シリカ微粒子は、例えばシリコンアルコ
キシドを水、アンモニアおよびアルコールからなる混合
液中において加水分解および脱水・重縮合させること等
の手段により製造される。上記のようにして得られた生
シリカ微粒子は、シラノール基(Si−OH)が多いた
め、後述の(a)工程における疎水性表面形成処理にお
いて、ビニル系シランカップリング剤などによる表面処
理でビニル基をシリカ微粒子表面に導入することは比較
的容易であるが、有機物、水、アンモニアがかなり残存
し、強度や硬度が低い場合がある。このような場合に
は、この生シリカ微粒子を500〜1200℃程度で焼
成して、焼成シリカ微粒子とすると有機物や水は揮発
し、さらにシラノール基同士が縮合してシロキサン結合
(Si−O−Si)が増加し、強度、硬度が増加する。
従って、この焼成シリカ微粒子は強度、硬度は改善され
るが、シリカ微粒子の表面に存在する、ビニル系シラン
カップリング剤との反応活性点であるシラノール基が縮
合により消費されてかなり減少し、ビニル系シランカッ
プリング剤との反応が進行しにくくなったり、全く進行
しなくなったりする。
The raw silica fine particles are produced, for example, by means of hydrolysis, dehydration and polycondensation of a silicon alkoxide in a mixture of water, ammonia and alcohol. Since the raw silica fine particles obtained as described above have a large amount of silanol groups (Si-OH), in the hydrophobic surface forming treatment in the step (a) described later, the surface treatment with a vinyl silane coupling agent or the like causes It is relatively easy to introduce a group into the surface of the silica fine particles, but organic substances, water and ammonia may remain considerably, and the strength and hardness may be low. In such a case, when the raw silica fine particles are fired at about 500 to 1200 ° C. to form fired silica fine particles, organic substances and water are volatilized, and silanol groups are condensed to form siloxane bonds (Si—O—Si). ) Increases, and the strength and hardness increase.
Therefore, the calcined silica fine particles have improved strength and hardness, but the silanol groups present on the surface of the silica fine particles, which are active sites for reaction with the vinyl-based silane coupling agent, are consumed by condensation, and are considerably reduced. The reaction with the system silane coupling agent hardly progresses, or does not progress at all.

【0046】シリカ微粒子の焼成温度、時間、粒子の表
面積等の条件により失われるシラノール基の量にはかな
りの幅がある。例えば、焼成度が低く、表面のシラノー
ル基の量が比較的に多い焼成シリカ微粒子の場合には、
ビニル系シランカップリング剤との反応によるビニル基
の導入が比較的容易に進行するので、焼成シリカ微粒子
を直接ビニル系シランカップリング剤で表面処理するこ
とができる。
The amount of silanol groups lost depending on conditions such as the firing temperature and time of the silica fine particles and the surface area of the particles has a considerable range. For example, in the case of calcined silica fine particles having a low calcining degree and a relatively large amount of silanol groups on the surface,
Since the introduction of the vinyl group by the reaction with the vinyl-based silane coupling agent proceeds relatively easily, the calcined silica fine particles can be directly surface-treated with the vinyl-based silane coupling agent.

【0047】しかし、焼成度が高く、反応活性点である
シラノール基の量が低減している焼成シリカ微粒子をそ
のままビニル系シランカップリング剤で処理しても十分
な量のビニル基をシリカ微粒子表面に導入することがで
きず、その結果均一なシェル層を有するシリカ微粒子を
得ることができない。
However, even if the calcined silica fine particles having a high degree of calcining and having a reduced amount of silanol groups, which are reactive sites, are treated with a vinyl-based silane coupling agent as they are, a sufficient amount of vinyl groups will form on the surface of the silica fine particles. , And as a result, silica fine particles having a uniform shell layer cannot be obtained.

【0048】そこで、焼成シリカ微粒子表面のシラノー
ル基が不足する場合(すなわち、ビニル系シランカップ
リング剤が反応することによってシリカ微粒子表面に導
入されるビニル基の量が不十分となる場合)には、シリ
コンアルコキシドまたはその部分加水分解物を焼成シリ
カ微粒子と反応させて焼成シリカ微粒子の表面にシラノ
ール基を導入することにより、ビニル系シランカップリ
ング剤との反応活性点を増加させて必要量のビニル基を
導入するのが好ましい。すなわち、焼成度の高い焼成シ
リカ微粒子についてシリコンアルコキシドまたはその部
分加水分解物による処理を行うことにより、高強度・高
硬度の焼成シリカ微粒子をコアとして有利に使用するこ
とができる。もちろん、生シリカ微粒子についても、表
面にシラノール基を導入するために、シリコンアルコキ
シドまたはその部分加水分解物で表面処理してもよい。
Therefore, when the silanol groups on the surface of the calcined silica fine particles are insufficient (that is, when the amount of vinyl groups introduced into the surface of the silica fine particles by the reaction of the vinyl silane coupling agent becomes insufficient). By reacting silicon alkoxide or a partial hydrolyzate thereof with calcined silica fine particles to introduce silanol groups on the surface of the calcined silica fine particles, it is possible to increase the number of active sites for reaction with the vinyl-based silane coupling agent to increase the required amount of vinyl. It is preferred to introduce groups. That is, high-strength, high-hardness calcined silica fine particles can be advantageously used as a core by treating the calcined silica fine particles having a high degree of calcining with silicon alkoxide or a partial hydrolyzate thereof. Of course, the raw silica fine particles may be surface-treated with silicon alkoxide or a partial hydrolyzate thereof in order to introduce silanol groups on the surface.

【0049】本発明で用いることができるシリコンアル
コキシドまたはその部分加水分解物は、シリカ微粒子表
面にシラノール基が導入できるものであれば特に制限は
ない。ここで用いることができるシリコンアルコキシド
とは、一般式 Si(OR54またはSi(R6k(OR54-k (式中、R5およびR6はアルキル基またはアシル基、特
に炭素数1〜5のアルキル基または炭素数2〜6のアシ
ル基であり、kは1〜3の整数である。)で示されるも
のであり、その具体例としては、例えばテトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。
The silicon alkoxide or its partial hydrolyzate that can be used in the present invention is not particularly limited as long as a silanol group can be introduced on the surface of the silica fine particles. The silicon alkoxide that can be used herein is represented by the general formula Si (OR 5 ) 4 or Si (R 6 ) k (OR 5 ) 4-k (wherein R 5 and R 6 are an alkyl group or an acyl group, especially An alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 2 to 6 carbon atoms, and k is an integer of 1 to 3). Specific examples thereof include tetramethoxysilane and tetramethoxysilane. Ethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane and the like can be mentioned.

【0050】シリコンアルコキシドの部分加水分解物と
は、上記一般式で示されるシリコンアルコキシド中の複
数のアルコキシ基(OR5)または(OR6)の一部を加
水分解したものが挙げられる。シリコンアルコキシドま
たはその部分加水分解物による処理(以下、「シリコン
アルコキシド処理」という。)は、シリカ微粒子を、
(a)工程のビニル系シランカップリング剤などによる
表面処理と同時にまたはその前に行うことができる。
The partial hydrolyzate of silicon alkoxide is obtained by partially hydrolyzing a plurality of alkoxy groups (OR 5 ) or (OR 6 ) in the silicon alkoxide represented by the above general formula. The treatment with a silicon alkoxide or a partial hydrolyzate thereof (hereinafter, referred to as “silicon alkoxide treatment”) involves treating silica fine particles with:
It can be performed simultaneously with or before the surface treatment with the vinyl silane coupling agent in the step (a).

【0051】シリコンアルコキシド処理のためのシリコ
ンアルコキシドまたはその部分加水分解物の使用量は、
ビニル系シランカップリング剤の使用量に対するモル比
で0.5以下が好ましく、特に0.25以下が好まし
い。
The amount of silicon alkoxide or its partial hydrolyzate used for silicon alkoxide treatment is as follows:
The molar ratio to the amount of the vinyl silane coupling agent used is preferably 0.5 or less, and particularly preferably 0.25 or less.

【0052】本発明の方法においては、未処理シリカ微
粒子または上記のようにしてシリコンアルコキシド処理
されたシリカ微粒子に、下記の(a)〜(c)工程を施
すことにより、コアシェル型微粒子を製造する。
In the method of the present invention, core-shell type fine particles are produced by performing the following steps (a) to (c) on untreated silica fine particles or silica fine particles treated with silicon alkoxide as described above. .

【0053】(a)工程 この(a)工程は、前記シリカ微粒子を表面処理して疎
水性表面を形成する工程である。この工程を具体的に説
明すると、まず超音波振動等を利用して、シリカ微粒子
をメタノール、エタノール、2−プロパノール等のアル
コール溶媒または水と上記アルコールとの混合溶媒中に
分散させて分散液を得る。溶媒の重量はシリカ微粒子の
重量の5〜30倍が好適である。このようにして得られ
た分散液に、シリカ微粒子の重量に対して、通常2〜3
0倍の25〜30重量%程度の濃度のアンモニア水を添
加し、さらに、ビニル系シランカップリング剤を添加す
る。分散液の液温を20〜80℃程度に保ちつつ1〜2
4時間程度攪拌する。これにより、シリカ微粒子がビニ
ル系シランカップリング剤により表面処理され、シリカ
微粒子の表面にはビニル基が導入される。
Step (a) Step (a) is a step of forming a hydrophobic surface by treating the silica fine particles. When this step is specifically described, first, using ultrasonic vibration or the like, silica fine particles are dispersed in an alcohol solvent such as methanol, ethanol, or 2-propanol or a mixed solvent of water and the above alcohol to form a dispersion. obtain. The weight of the solvent is preferably 5 to 30 times the weight of the silica fine particles. The dispersion thus obtained is usually added in an amount of 2 to 3 with respect to the weight of the silica fine particles.
Aqueous ammonia water having a concentration of about 25 to 30% by weight of 0 times is added, and a vinyl silane coupling agent is further added. While maintaining the liquid temperature of the dispersion at about 20 to 80 ° C.,
Stir for about 4 hours. As a result, the silica fine particles are surface-treated with the vinyl-based silane coupling agent, and a vinyl group is introduced into the surface of the silica fine particles.

【0054】前述したように、ビニル系シランカップリ
ング剤での表面処理時に必要に応じて少量(ビニル系シ
ランカップリング剤に対するモル比で0.5以下)のシ
リコンアルコキシドを添加することができる。ビニル系
シランカップリング剤と加水分解速度の速いシリコンア
ルコキシドを共存させることにより、シリカ微粒子表面
に、均一なシェル層を形成するのに十分な量のビニル基
を導入することができる。
As described above, a small amount of silicon alkoxide (0.5 or less in a molar ratio to the vinyl silane coupling agent) can be added as needed during the surface treatment with the vinyl silane coupling agent. By coexisting a vinyl silane coupling agent and a silicon alkoxide having a high hydrolysis rate, a sufficient amount of vinyl groups for forming a uniform shell layer on the surface of the silica fine particles can be introduced.

【0055】(b)工程 この(b)工程は、上記(a)工程で表面処理されるこ
とにより形成されたシリカ微粒子の疎水性表面にポリオ
ルガノシロキサン層を形成する工程である。この工程を
具体的に説明すると、水性媒体中において、上記(a)
工程において表面にビニル基が導入されたシリカ微粒子
とアルカリの存在下に、前記一般式(I)で表されるケ
イ素化合物を加水分解・縮合させて、該シリカ微粒子表
面に液滴若しくは半固形状の膨潤可能なポリオルガノシ
ロキサン層を形成させる。
Step (b) The step (b) is a step of forming a polyorganosiloxane layer on the hydrophobic surface of the silica fine particles formed by the surface treatment in the step (a). This step will be specifically described in the following manner.
In the step, the silicon compound represented by the general formula (I) is hydrolyzed and condensed in the presence of a silica fine particle having a vinyl group introduced to the surface thereof and an alkali, thereby forming a droplet or semi-solid on the surface of the silica fine particle. To form a swellable polyorganosiloxane layer.

【0056】この際、アルカリとしては、アンモニアお
よび/またはアミンが用いられる。このアンモニアやア
ミンは、一般式(I)で表されるケイ素化合物の加水分
解、縮合反応の触媒である。ここで、アミンとしては、
例えばモノメチルアミン、ジメチルアミン、モノエチル
アミン、ジエチルアミン、エチレンジアミンなどを好ま
しく挙げることができる。このアンモニアやアミンは単
独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いても
よいが、毒性が少なく、除去が容易で、かつ安価なこと
から、アンモニアが好適である。
At this time, ammonia and / or amine are used as the alkali. The ammonia and the amine are catalysts for the hydrolysis and condensation reaction of the silicon compound represented by the general formula (I). Here, as the amine,
For example, monomethylamine, dimethylamine, monoethylamine, diethylamine, ethylenediamine and the like can be preferably mentioned. The ammonia and the amine may be used alone or in combination of two or more. However, ammonia is preferred because of its low toxicity, easy removal and low cost.

【0057】このアンモニアやアミンは、水溶液または
水と有機溶剤との混合溶剤溶液として用いられる。ここ
で、有機溶剤としては、水混和性のものが好ましく、例
えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ルなどの低級アルコール類、アセトン、ジメチルケト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン類、ジエチルエー
テル、ジプロピルエーテルなどのエーテル類などが挙げ
られる。
This ammonia or amine is used as an aqueous solution or a mixed solvent solution of water and an organic solvent. Here, the organic solvent is preferably a water-miscible solvent, for example, lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, acetone, dimethyl ketone, ketones such as methyl ethyl ketone, ethers such as diethyl ether and dipropyl ether. And the like.

【0058】アンモニアやアミンの使用量としては特に
制限はないが、反応開始前の水層のpHが、7.5〜1
1.0の範囲になるように選定するのが好ましい。pH
がこの範囲よりも高いと、ポリオルガノシロキサンの縮
合度が高くなり過ぎて固形状の層となり、重合性疎水性
モノマー等を膨潤・含浸するのが困難となり、pHがこ
の範囲よりも低いと、反応性が低下して効率よくポリオ
ルガノシロキサン層を形成するのが困難となる。また、
この際の反応温度は、原料のケイ素化合物の種類などに
左右されるが、一般的には0〜60℃の間で選ばれる。
The amount of ammonia or amine used is not particularly limited, but the pH of the aqueous layer before the start of the reaction is 7.5 to 1
It is preferable to select the value so as to be in the range of 1.0. pH
Is higher than this range, the degree of condensation of the polyorganosiloxane becomes too high to form a solid layer, it becomes difficult to swell and impregnate the polymerizable hydrophobic monomer, etc., when the pH is lower than this range, The reactivity decreases, and it becomes difficult to efficiently form a polyorganosiloxane layer. Also,
The reaction temperature at this time depends on the type of the silicon compound as the raw material and the like, but is generally selected between 0 and 60 ° C.

【0059】この際、ドデシル硫酸ナトリウムなどの界
面活性剤を存在させることにより、表面にポリオルガノ
シロキサン層が設けられたシリカ微粒子の合一、凝集を
低減、防止することができる。ただし、過剰量を存在さ
せると、後述の(c)工程において、重合性モノマーが
粒子内に吸収されにくくなり、膨潤(吸収)の度合いが
小さくなるため、好ましくない。
At this time, by the presence of a surfactant such as sodium dodecyl sulfate, coalescence and aggregation of silica fine particles having a polyorganosiloxane layer on the surface can be reduced or prevented. However, the presence of an excessive amount is not preferable because the polymerizable monomer is less likely to be absorbed into the particles and the degree of swelling (absorption) is reduced in the step (c) described below.

【0060】(c)工程 この(c)工程は、上記(b)工程でシリカ微粒子の表
面に形成されたポリオルガノシロキサン層の表面および
内部において、疎水性重合性モノマーを重合させる工程
である。この工程を具体的に説明すると、上記(b)工
程で得られた表面にポリオルガノシロキサン層を有する
シリカ微粒子分散液と、疎水性重合性モノマーと必要に
応じて用いられるラジカル重合開始剤を含有する水性エ
マルションと混合する。この際、該ポリオルガノシロキ
サン層は、縮合度が低い状態で被覆されているため、こ
の層内に疎水性重合性モノマーが容易に吸収される。こ
の状態で、30〜90℃程度の温度において、2〜10
時間程度加熱することにより、ポリオルガノシロキサン
層の表面および内部で疎水性重合性モノマーが重合し
て、シェル層が形成される。
Step (c) Step (c) is a step of polymerizing a hydrophobic polymerizable monomer on the surface and inside of the polyorganosiloxane layer formed on the surface of the silica fine particles in step (b). This step will be described in detail. It contains a silica fine particle dispersion having a polyorganosiloxane layer on the surface obtained in the above step (b), a hydrophobic polymerizable monomer, and a radical polymerization initiator used as required. Mix with the aqueous emulsion. At this time, since the polyorganosiloxane layer is coated in a state where the degree of condensation is low, the hydrophobic polymerizable monomer is easily absorbed in this layer. In this state, at a temperature of about 30 to 90 ° C., 2 to 10
By heating for about an hour, the hydrophobic polymerizable monomer is polymerized on the surface and inside of the polyorganosiloxane layer to form a shell layer.

【0061】上記疎水性重合性モノマーとしては、前述
の一般式(II)で表されるエチレン性不飽和単量体の中
から選ばれる少なくとも1種を用いることができる。
As the above-mentioned hydrophobic polymerizable monomer, at least one selected from the ethylenically unsaturated monomers represented by the aforementioned general formula (II) can be used.

【0062】一方、所望により用いられるラジカル重合
開始剤としては特に制限はなく、公知のもの、例えば
2,2′−アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ系重
合開始剤や、過酸化ベンゾイルなどの過酸化物が挙げら
れる。このラジカル重合開始剤の添加量は、通常疎水性
重合性モノマーに対して、0.001〜20モル%、好
ましくは0.01〜10モル%の範囲で選ばれる。
On the other hand, the radical polymerization initiator optionally used is not particularly limited, and known radical polymerization initiators, for example, azo-based polymerization initiators such as 2,2'-azobisisobutyronitrile and benzoyl peroxides such as benzoyl peroxide. Peroxides. The amount of the radical polymerization initiator to be added is usually selected in the range of 0.001 to 20 mol%, preferably 0.01 to 10 mol%, based on the hydrophobic polymerizable monomer.

【0063】また、前記疎水性重合性モノマーとラジカ
ル重合開始剤を含有する水性エマルションは、常法に従
って調製することができる。例えば水などの水性媒体中
に、疎水性重合性モノマー、ラジカル重合開始剤および
界面活性剤を、それぞれ所定量添加し、ホモジナイザー
などを用いて乳化することにより、均質なO/Wエマル
ションが得られる。
The aqueous emulsion containing the hydrophobic polymerizable monomer and the radical polymerization initiator can be prepared according to a conventional method. For example, a homogeneous O / W emulsion can be obtained by adding a predetermined amount of a hydrophobic polymerizable monomer, a radical polymerization initiator, and a surfactant to an aqueous medium such as water, and emulsifying the mixture using a homogenizer or the like. .

【0064】この際、用いる界面活性剤としては、使用
するモノマーをO/Wエマルション化するのに適したH
LB値(親水性親油性バランス値)の界面活性剤であれ
ばよく、特に制限はない。その添加量は、モノマー10
0重量部に対して、100重量部以下の範囲、より好ま
しくは50重量部以下の範囲がよい。添加量が多すぎる
とエマルションが安定化しすぎ、モノマーがポリオルガ
ノシロキサン層に吸収されにくくなる。
At this time, as a surfactant to be used, H.sub.2 suitable for forming an O / W emulsion of a monomer to be used is used.
There is no particular limitation as long as the surfactant has an LB value (hydrophilic-lipophilic balance value). The amount of the monomer added is 10
The range is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or less with respect to 0 parts by weight. If the addition amount is too large, the emulsion becomes too stable, and it becomes difficult for the monomer to be absorbed into the polyorganosiloxane layer.

【0065】重合反応終了後、常法に従い生成したコア
シェル型微粒子を充分に洗浄したのち、必要ならば分級
処理を行い、目的粒子以外の大粒子または小粒子を取り
除き、乾燥処理を行う。分級処理方法としては、特に制
限はないが、粒径により沈降速度が異なるのを利用して
分級を行う湿式分級法が好ましい。乾燥処理は、通常粒
子が接着しない温度範囲で加熱乾燥、あるいは風乾して
もよいが、効率の面で減圧乾燥法、真空乾燥法あるいは
凍結乾燥法を採用することが好ましい。このようにし
て、本発明のコアシェル型微粒子を効率よく製造するこ
とができる。
After the completion of the polymerization reaction, the core-shell type fine particles produced according to a conventional method are sufficiently washed, and if necessary, a classification treatment is performed to remove large particles or small particles other than the target particles, followed by a drying treatment. The classification method is not particularly limited, but a wet classification method in which classification is performed by utilizing the fact that the sedimentation speed varies depending on the particle size is preferable. In the drying treatment, heating drying or air drying may be usually performed in a temperature range where the particles do not adhere, but it is preferable to employ a reduced pressure drying method, a vacuum drying method or a freeze drying method in terms of efficiency. Thus, the core-shell type fine particles of the present invention can be efficiently produced.

【0066】[0066]

【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0067】実施例1 1000ミリリットル容量のプラスチック容器に、0.
1重量%のドデシル硫酸ナトリウム(SDS)イオン交
換水溶液500gとビニルトリメトキシシラン(VTM
S)50gを仕込み、溶液が透明になるまでマグネチッ
クスターラーによって高速攪拌して、溶液a−1を調製
した。
Example 1 In a plastic container having a capacity of 1000 ml, 0.1 g
500 g of a 1 wt% sodium dodecyl sulfate (SDS) ion exchange aqueous solution and vinyltrimethoxysilane (VTM)
S) 50 g was charged, and the mixture was stirred at high speed with a magnetic stirrer until the solution became transparent to prepare a solution a-1.

【0068】別に、1000ミリリットル容量のプラス
チック容器に、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキ
シシラン(MPTES)によって表面処理されたシリカ
微粒子(宇部日東化成(株)社製、商品名;ハイプレシ
カUF N3S1、平均粒径7.017μm、CV値
0.79%)25gおよびメタノール50gを仕込み、
攪拌と超音波照射により、シリカ微粒子を分散させて分
散液b−1を調製した。シードシリカ粒子のSEM写真
を図1に示した。
Separately, in a plastic container having a capacity of 1,000 milliliters, silica fine particles surface-treated with γ-methacryloxypropyltriethoxysilane (MPTES) (trade name, manufactured by Ube Nitto Kasei Co., Ltd., trade name: High Pressica UF N3S1, average particle size) 25 g of 7.017 μm diameter, CV value 0.79%) and 50 g of methanol were charged,
By stirring and ultrasonic irradiation, the silica fine particles were dispersed to prepare a dispersion liquid b-1. FIG. 1 shows an SEM photograph of the seed silica particles.

【0069】次に、前記の溶液a−1を分散液b−1に
添加し、約30分間攪拌したのち、これに25重量%ア
ンモニア水0.5ミリリットルを添加し、マグネチック
スターラーを用い、約40rpmの速度でゆっくり攪拌
した。VTMSが加水分解縮合反応して、ポリビニルシ
ルセスキオキサン(PVSO)粒子核の析出と共に、シ
リカ微粒子表面にPVSO被覆層が形成され、溶液がさ
らに白濁した。以上の操作によって、液滴状のPVSO
層を形成したシリカ微粒子分散液c−1を調製した。
Next, the solution a-1 was added to the dispersion b-1, and the mixture was stirred for about 30 minutes. Then, 0.5 ml of 25% by weight aqueous ammonia was added thereto, and a magnetic stirrer was used. The mixture was stirred slowly at a speed of about 40 rpm. The VTMS undergoes a hydrolysis-condensation reaction, and together with precipitation of polyvinylsilsesquioxane (PVSO) particle nuclei, a PVSO coating layer was formed on the surface of the silica fine particles, and the solution became more cloudy. By the above operation, the droplet-like PVSO
A silica fine particle dispersion liquid c-1 having a layer formed thereon was prepared.

【0070】一方、2000ミリリットル容量のプラス
チック容器に、アゾビスイソブチロニトリル(AIB
N)20gを溶解させたグリシジルメタクリレート(G
MA)400gおよび0.5重量%のSDSイオン交換
水溶液800gを仕込み、ホモジナイザーにより約15
000rpmで2分間攪拌してエマルション液d−1を
調製した。
On the other hand, azobisisobutyronitrile (AIB) was placed in a plastic container having a capacity of 2000 ml.
N) glycidyl methacrylate (G
MA) 400 g and 800 g of a 0.5% by weight aqueous solution of SDS ion exchange were charged and homogenized for about 15 minutes.
The mixture was stirred at 000 rpm for 2 minutes to prepare an emulsion liquid d-1.

【0071】次に、2000ミリリットル容量のセパラ
ブルフラスコに、25重量%アンモニア水を添加してか
ら30分間経過後の分散液c−1を500g入れ、攪拌
羽根にて約50rpmで攪拌しながら、そこにエマルシ
ョン液d−1を添加し、2時間室温で攪拌した。その
後、恒温槽内で70℃に昇温し、5時間攪拌を続行して
重合反応を行った。
Next, into a separable flask having a capacity of 2,000 milliliters, 500 g of the dispersion liquid c-1 after 30 minutes from the addition of 25% by weight aqueous ammonia was added, and the mixture was stirred with a stirring blade at about 50 rpm. The emulsion liquid d-1 was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Thereafter, the temperature was raised to 70 ° C. in a constant temperature bath, and stirring was continued for 5 hours to carry out a polymerization reaction.

【0072】反応終了後、いったん室温まで冷却したの
ち、遠心分離器によって粒子と溶媒を分離した。次い
で、上澄み液を捨て、さらにイオン交換水を添加して再
び粒子を分散させた。再度、遠心分離器による粒子分離
および水添加による粒子洗浄を5回繰り返したのち、ふ
るい分けによる凝集物の除去を行った。この時点では、
目的のシリカ粒子表面にPVSOとポリグリシジルメタ
クリレート(PGMA)の複合層を有する単分散の真球
状粒子以外に、PGMA単独と思われる微粒子、PVS
OとPGMAが複合されていると思われる小粒子、合着
粒子が混在している。そこで、イオン交換水での粒子の
沈降速度差を利用した湿式分級によって、上記の微小粒
子、小粒子および合着粒子を除去して目的粒子を得た。
最後に凍結乾燥により、目的粒子の乾燥粉末(粒子A−
1)を得た。ここで、得られた粒子(A−1)のSEM
観察した写真を図2に示した。SEM観察から、粒子
(A−1)は真球状で、連続皮膜を形成していることが
分かった。
After the completion of the reaction, the mixture was once cooled to room temperature, and the particles and the solvent were separated by a centrifuge. Next, the supernatant liquid was discarded, and ion-exchanged water was further added to disperse the particles again. Again, particle separation by a centrifugal separator and particle washing by addition of water were repeated 5 times, and then aggregates were removed by sieving. At this point,
In addition to monodisperse true spherical particles having a composite layer of PVSO and polyglycidyl methacrylate (PGMA) on the surface of the target silica particles, fine particles that are considered to be PGMA alone, PVS
Small particles and coalescent particles which seem to be a composite of O and PGMA are mixed. Then, the fine particles, small particles and coalesced particles were removed by wet classification utilizing the difference in sedimentation velocity of the particles in ion-exchanged water to obtain target particles.
Finally, by freeze-drying, a dry powder (particle A-
1) was obtained. Here, SEM of the obtained particles (A-1)
The observed photograph is shown in FIG. From SEM observation, it was found that the particles (A-1) were truly spherical and formed a continuous film.

【0073】一方、残余の溶液c−1については、25
%アンモニア水を1ml添加後、同様に70℃で5時間
加熱処理したのち、メタノールを用いた同様な洗浄、分
級操作を行った。この時点では、シリカ粒子表面にPV
SOを被覆した単分散の真球状粒子以外に、PVSO単
独粒子と合着粒子が混在している。そこで、粒子(A−
1)を得るのと同様な操作によってそれらを除去し、そ
の後メタノールを除去したのち、オーブンにて70℃で
3時間加熱乾燥処理することにより、粒子(B−1)を
得た。ここで、得られた粒子(B−1)のSEM観察し
た写真を図3に示した。SEM観察から、粒子(B−
1)は真球状で、連続皮膜を形成していることが分かっ
た。
On the other hand, for the remaining solution c-1, 25
After the addition of 1 ml of aqueous ammonia, the mixture was similarly heated at 70 ° C. for 5 hours, followed by the same washing and classification operations using methanol. At this point, the surface of the silica particles
In addition to monodisperse true spherical particles coated with SO, PVSO single particles and coalescent particles are mixed. Then, the particles (A-
After removing them by the same operation as that of obtaining 1) and then removing methanol, the particles were heated and dried in an oven at 70 ° C. for 3 hours to obtain particles (B-1). Here, FIG. 3 shows a photograph of the obtained particles (B-1) observed by SEM. From the SEM observation, the particles (B-
It was found that 1) had a true spherical shape and formed a continuous film.

【0074】〈評価〉粒子(A−1)および粒子(B−
1)について、走査型電子顕微鏡(SEM)写真による
粒径測定を行った結果、粒子(A−1)は、平均粒径1
1.458μm、CV値1.53%で、粒子(B−1)
は、平均粒径7.574μm、CV値1.61%であ
り、(シードシリカ微粒子:平均粒径7.017μm、
CV値0.79%)、明らかに被覆されていることが分
かった。粒子(A−1)については、PVSOとPGM
Aの体積比は、この粒径測定結果から、1.0:12.
0であると推察され、被覆厚みはシードシリカ微粒子の
粒径の31.6%であることが分かった。ポリイミドを
コーティングしたスライドガラス上に、前記粒子A−1
を散布し、これに同様にポリイミドをコーティングした
スライドガラスをコート面を向かい合わせる形で貼り合
わせ、クリップで固定したものを作成し、圧力約0.1
MPaの条件で温度条件を変化させて2時間加圧、加熱
処理した。このとき両基板が固定化が始まる接着開始温
度は90〜95℃であった。
<Evaluation> The particles (A-1) and the particles (B-
About 1), the particle size was measured by a scanning electron microscope (SEM) photograph. As a result, the particle (A-1) had an average particle size of 1
1.458 μm, CV value 1.53%, particles (B-1)
Has an average particle size of 7.574 μm and a CV value of 1.61%. (Seed silica fine particles: average particle size of 7.017 μm,
(CV value 0.79%), and it was found that it was clearly coated. For particles (A-1), PVSO and PGM
The volume ratio of A was determined to be 1.0: 12.
0, and the coating thickness was found to be 31.6% of the particle size of the seed silica fine particles. The particles A-1 were placed on a glass slide coated with polyimide.
, And a glass slide coated with the same polyimide was bonded to the coated surface in such a manner that the coated surfaces faced each other, and fixed with a clip, and a pressure of about 0.1 was applied.
Pressure and heat treatment were performed for 2 hours while changing the temperature conditions under the conditions of MPa. At this time, the bonding start temperature at which both substrates began to be fixed was 90 to 95 ° C.

【0075】実施例2 実施例1におけるPVSO被覆工程において、25重量
%アンモニア水の量を1.25ミリリットルから1.0
ミリリットルに変更した以外は、実施例1と同様の操作
を行い、PVSO層を形成したシリカ微粒子分散液c−
2を調製した。また、実施例1におけるエマルション液
d−1の調製において、AIBN5gを溶解したGMA
100gおよび0.5重量%SDSイオン交換水200
gを用い、実施例1と同様にしてエマルション液d−2
を調製した。
Example 2 In the PVSO coating step in Example 1, the amount of 25% by weight aqueous ammonia was changed from 1.25 ml to 1.0%.
The same operation as in Example 1 was performed, except that the volume was changed to milliliter, and the silica fine particle dispersion c-
2 was prepared. In preparation of the emulsion liquid d-1 in Example 1, GMA in which 5 g of AIBN was dissolved was used.
100 g and 0.5% by weight SDS ion-exchanged water 200
g-2 and emulsion liquid d-2 in the same manner as in Example 1.
Was prepared.

【0076】次に、実施例1と同様に、上記の分散液c
−2 250gにエマルション液d−2を添加し、さら
にその後、0.1重量%PVAイオン交換水溶液200
gを添加して重合反応を行った。以下、実施例1と同様
な操作を行い、粒子(A−2)および粒子(B−2)を
作成した。SEM観察から、これらの粒子は真球状で、
連続皮膜を形成していることが分かった。
Next, in the same manner as in Example 1, the dispersion c
-2 250 g of the emulsion liquid d-2 was added, and thereafter, a 0.1% by weight PVA ion exchange aqueous solution 200 was added.
g was added to carry out a polymerization reaction. Hereinafter, the same operation as in Example 1 was performed to prepare particles (A-2) and particles (B-2). From SEM observation, these particles are truly spherical,
It was found that a continuous film was formed.

【0077】〈評価〉実施例1と同様に粒径測定を行っ
た結果、PVSO被覆粒子(B−2)は、平均粒径7.
473μm、CV値1.34%で、PVSO・PGMA
被覆粒子(A−2)は、平均粒径8.762μm、CV
値1.74%であり、粒子(A−2)のシードシリカ微
粒子の粒径に対する被覆厚みは12.4%であった。ま
た、PVSOとPGMAの体積比は1:3.6であると
推察された。
<Evaluation> The particle size was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the PVSO-coated particles (B-2) had an average particle size of 7.
473 μm, CV value 1.34%, PVSO / PGMA
The coated particles (A-2) had an average particle size of 8.762 μm and a CV
The value was 1.74%, and the coating thickness of the particles (A-2) with respect to the particle diameter of the seed silica fine particles was 12.4%. Further, it was presumed that the volume ratio between PVSO and PGMA was 1: 3.6.

【0078】実施例3 実施例2において、分散液c−2 250gに、2倍重
量のエマルション液d−2を添加し、さらにその後、
0.5重量%PVAイオン交換水溶液400gを添加し
て重合反応を行った以外は、実施例2と同様にして粒子
(A−3)および粒子(B−3)を作成した。
Example 3 In Example 2, a double weight emulsion liquid d-2 was added to 250 g of the dispersion liquid c-2.
Particles (A-3) and particles (B-3) were prepared in the same manner as in Example 2, except that the polymerization reaction was carried out by adding 400 g of a 0.5% by weight aqueous PVA ion exchange solution.

【0079】〈評価〉実施例1と同様に粒径測定を行っ
た結果、PVSO被覆粒子(B−3)は、平均粒径7.
473μm、CV値1.34%で、PVSO・PGMA
被覆粒子(A−3)は、平均粒径10.881μm、C
V値1.71%であり、粒子(A−3)のシードシリカ
微粒子の粒径に対する被覆厚みは27.5%であった。
また、PVSOとPGMAの体積比は1:12.1であ
ると推察された。
<Evaluation> The particle size was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the PVSO-coated particles (B-3) had an average particle size of 7.
473 μm, CV value 1.34%, PVSO / PGMA
The coated particles (A-3) had an average particle size of 10.881 μm and C
The V value was 1.71%, and the coating thickness of the particles (A-3) with respect to the particle diameter of the seed silica fine particles was 27.5%.
Further, it was presumed that the volume ratio between PVSO and PGMA was 1: 12.1.

【0080】接着力評価 ポリイミドコーティングしたスライドガラス上に、前記
PVSO・PGMA被覆粒子(A−3)を散布し、これ
に同じスライドガラスを4cm重なるように被せて固定
したのち、このものを温度150℃、圧力約0.1MP
aの条件で2時間加圧、加熱処理した。次いで冷却後、
基板の剥離強度を図5に示す方法に従って測定した。
Evaluation of Adhesive Strength The above-mentioned PVSO / PGMA-coated particles (A-3) were scattered on a polyimide-coated slide glass, and the same slide glass was put thereon so as to overlap by 4 cm and fixed. ℃, pressure about 0.1MP
Pressurization and heat treatment were performed for 2 hours under the condition of a. Then after cooling,
The peel strength of the substrate was measured according to the method shown in FIG.

【0081】図5で示すように、接着したスライドガラ
スを10cm間隔で下から2ケ所を固定し、その中心部
を上方から加圧し、剥離する圧力を測定した。一方、散
布個数を光学顕微鏡によって3ケ所計測し、その平均を
散布個数として、単位面積当たりの散布個数を求めた。
そして、粒子1個当たりの接着力を算出した結果、粒子
の接着力は、5.65μN/個であった。
As shown in FIG. 5, the adhered slide glass was fixed at two places from the bottom at intervals of 10 cm, and the center was pressed from above, and the peeling pressure was measured. On the other hand, the number of sprays was measured at three places using an optical microscope, and the average of the numbers was used as the number of sprays to determine the number of sprays per unit area.
As a result of calculating the adhesive force per particle, the adhesive force of the particles was 5.65 μN / particle.

【0082】散布液耐久性評価 50体積%イソプロパノール水溶液中に、前記のPVS
O・PGMA被覆粒子(A−3)を添加し、攪拌、分散
させ、さらに超音波を15分間照射した。その後、1週
間放置したのち、粒子をSEMにより、表面観察すると
共に、粒径測定した結果、変化のないことが確認され
た。
Evaluation of spray liquid durability In a 50% by volume aqueous solution of isopropanol, the above-mentioned PVS was added.
O.PGMA-coated particles (A-3) were added, stirred, dispersed, and further irradiated with ultrasonic waves for 15 minutes. Then, after leaving for one week, the surface of the particles was observed by SEM, and the particle size was measured. As a result, it was confirmed that there was no change.

【0083】比較例1 実施例1におけるPVSO被覆工程において、VTMS
を添加しなかったこと以外は、実施例1と同様な操作を
行った。その結果、最終的に得られた粒子は、表面の一
部にPGMAの微小粒子状のものが付着していたもの
の、均一な被膜は形成されなかった。
Comparative Example 1 In the PVSO coating step in Example 1, VTMS
The same operation as in Example 1 was performed except that was not added. As a result, although the particles obtained finally had PGMA microparticles adhered to a part of the surface, a uniform film was not formed.

【0084】比較例2 実施例1と同様の表面処理を行ったシリカ粒子(宇部日
東化成(株)社製、商品名;ハイプレシカUF N3S
1、5.012μm、CV値0.81%)の分散液を得
るための分散媒として、メタノール1280ミリリット
ル、イオン交換水320ミリリットルとの混合溶媒に分
散安定剤としてポリビニルピロリドン(平均分子量36
万)93.3gを溶解させた溶液を用意した。そして、
2000ミリリットル容量のセパラブルフラスコにそれ
ら分散媒を仕込み、さらに表面処理シリカ粒子40gを
加え、超音波振動を与えよく分散した。
Comparative Example 2 Silica particles having the same surface treatment as in Example 1 (trade name, manufactured by Ube Nitto Kasei Co., Ltd .; trade name: High Pressica UF N3S)
1, 5.012 μm, CV value 0.81%) As a dispersion medium, a mixed solvent of 1280 ml of methanol and 320 ml of ion-exchanged water was used as a dispersion medium. As a dispersion stabilizer, polyvinylpyrrolidone (average molecular weight: 36
A solution in which 93.3 g was dissolved was prepared. And
The dispersion medium was charged into a separable flask having a capacity of 2,000 ml, and 40 g of surface-treated silica particles were further added thereto.

【0085】その後、上記容器を恒温槽内に設置し、撹
拌羽によって撹拌を行いながら、2、2’−アゾビスイ
ソブチロニトリル6.67g、スチレン60g及びメル
カプト酢酸0.467gを添加し、65℃で重合を行っ
た。8時間反応後、反応液にイオン交換水:メタノール
=8:2(体積比)の混合液を300ミリリットル注
ぎ、放冷した。その後、遠心分離機を用いて固液分離を
行い、前記、メタノールとイオン交換水の混合液によっ
て、洗浄を行った。さらに、発生したポリスチレン単独
微粒子を除去するために、樹脂被覆シリカ粒子を沈降さ
せ、上層にまだ浮遊しているポリスチレン微粒子をデカ
ンテーションによって除去した。得られた粒子のSEM
写真を図4に示した。接着性能を持たせるように、被覆
厚みを厚くするように試みたが、合着、凝集が発生する
とともに、粒子表面の被覆層が大きな凹凸状態であるこ
とが確認された。
Thereafter, the container was placed in a thermostat, and while stirring with a stirring blade, 6.67 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile, 60 g of styrene and 0.467 g of mercaptoacetic acid were added. Polymerization was carried out at 65 ° C. After reacting for 8 hours, 300 ml of a mixed solution of ion-exchanged water: methanol = 8: 2 (volume ratio) was poured into the reaction solution and allowed to cool. Thereafter, solid-liquid separation was performed using a centrifugal separator, and washing was performed with the above-mentioned mixed solution of methanol and ion-exchanged water. Further, in order to remove the generated polystyrene-only fine particles, the resin-coated silica particles were settled, and the polystyrene fine particles still floating in the upper layer were removed by decantation. SEM of the obtained particles
The photograph is shown in FIG. An attempt was made to increase the thickness of the coating so as to have an adhesion property. However, it was confirmed that coalescence and aggregation occurred, and the coating layer on the particle surface was in a large uneven state.

【0086】[0086]

【発明の効果】本発明によれば、高度の接着力と粒径精
度に優れ、単独で液晶表示装置用固着型面内スペーサと
して用いた場合、適度な温度および加圧によって上下基
板に強固に接着し、該基板を固定化すると共に、精度良
くセルギャップを保持し得る上、散布溶媒に対する耐久
性に優れ、かつ液晶への溶出が少ない有機無機複合コア
シェル型微粒子を得ることができる。
According to the present invention, when used alone as a fixed-type in-plane spacer for a liquid crystal display device, it can be firmly attached to the upper and lower substrates by an appropriate temperature and pressure. In addition to adhering and fixing the substrate, the cell gap can be accurately maintained, and the organic-inorganic composite core-shell type fine particles having excellent durability against a spraying solvent and less elution into a liquid crystal can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1で得られたMPTES処理シリカ粒子
のSEM写真図である。
FIG. 1 is a SEM photograph of MPTES-treated silica particles obtained in Example 1.

【図2】実施例1で得られたPVSO・PGMA被覆シ
リカ粒子のSEM写真図である。
FIG. 2 is an SEM photograph of PVSO / PGMA-coated silica particles obtained in Example 1.

【図3】実施例1で得られたPVSO被覆シリカ粒子の
SEM写真図である。
FIG. 3 is an SEM photograph of the PVSO-coated silica particles obtained in Example 1.

【図4】比較例2で得られたポリスチレン被覆シリカ粒
子のSEM写真である。
FIG. 4 is an SEM photograph of the polystyrene-coated silica particles obtained in Comparative Example 2.

【図5】PVSO・PGMA被覆粒子の接着力評価試験
の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of an adhesive strength evaluation test of PVSO / PGMA-coated particles.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)シリカ微粒子をコアとし、その表
面に共有結合を介して、(B)ポリオルガノシロキサン
および(C)疎水性重合性モノマーの重合物を含むシェ
ル層を有することを特徴とするコアシェル型微粒子。
(1) a shell layer containing a polymer of (B) a polyorganosiloxane and (C) a hydrophobic polymerizable monomer via a covalent bond on the surface of (A) a silica fine particle as a core; Core-shell type fine particles.
【請求項2】 真球状であり、かつ1000倍〜100
00倍の電子顕微鏡観察において、シェル層が実質的に
平滑な連続被膜を呈している請求項1に記載のコアシェ
ル型微粒子。
2. A true spherical shape, and 1000 to 100 times
2. The core-shell type fine particles according to claim 1, wherein the shell layer exhibits a substantially smooth continuous film when observed with an electron microscope at a magnification of 00 times.
【請求項3】 シリカ微粒子の平均粒径が0.5〜15
μmであり、かつ粒度分布の変動係数が5%以下である
請求項1または2に記載のコアシェル型微粒子。
3. The silica fine particles have an average particle size of 0.5 to 15.
3. The core-shell type fine particles according to claim 1, wherein the core-shell type fine particles have a particle size distribution of 5 μm or less.
【請求項4】 シェル層の厚さが0.1μm以上であ
り、かつコアのシリカ微粒子粒径の3〜40%である請
求項1ないし3のいずれか1項に記載のコアシェル型微
粒子。
4. The core-shell type fine particles according to claim 1, wherein the thickness of the shell layer is 0.1 μm or more and 3 to 40% of the particle size of the silica fine particles in the core.
【請求項5】 シェル層における(B)成分と(C)成
分の体積比が1:0.5〜1:20である請求項1ない
し4のいずれか1項に記載のコアシェル型微粒子。
5. The core-shell type fine particles according to claim 1, wherein the volume ratio of the component (B) to the component (C) in the shell layer is from 1: 0.5 to 1:20.
【請求項6】 (B)成分のポリオルガノシロキサン
が、一般式(I) R1 4-nSi(OR2n …(I) (式中、R1は非加水分解性基であって、炭素数1〜2
0のアルキル基、エポキシ基を有する炭素数1〜20の
アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6
〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル
基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、nは平均で2.
5以上4未満の数を示し、R1が複数ある場合、各R1
たがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2
複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異な
っていてもよい。)で表されるケイ素化合物の加水分解
・縮合により形成されたものである請求項1ないし5の
いずれか1項に記載のコアシェル型微粒子。
Wherein component (B) polyorganosiloxane has the general formula (I) R 1 4-n Si (OR 2) n ... (I) ( wherein, R 1 is a non-hydrolyzable group , Carbon number 1-2
0 alkyl group, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having an epoxy group, alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, 6 carbon atoms
To 20 aryl groups or aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and n is an average of 2.
The number of 5 or more and less than 4, when R 1 are a plurality, each R 1 may be different from one another identical, if OR 2 there are a plurality, each OR 2 is a mutually identical May also be different. The core-shell type fine particles according to any one of claims 1 to 5, which are formed by hydrolysis and condensation of a silicon compound represented by the formula (1).
【請求項7】 一般式(I)で表されるケイ素化合物
が、一般式(I−a) (CH2=CH−)mSi(OR24-m ・・・(I−a) (式中、R2は炭素数1〜6のアルキル基、mは1〜3
の整数を示し、OR2が複数ある場合、各OR2は互いに
同一であっても異なっていてもよい。)で表されるビニ
ルアルコキシシラン化合物である請求項6に記載のコア
シェル型微粒子。
7. The silicon compound represented by the general formula (I) is represented by the general formula (Ia): (CH 2 CHCH—) m Si (OR 2 ) 4-m (Ia) ( In the formula, R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m is 1 to 3
And when there are a plurality of OR 2 , each OR 2 may be the same or different. The core-shell type fine particles according to claim 6, which is a vinylalkoxysilane compound represented by the formula:
【請求項8】 加熱によるシェル層の軟化温度が60〜
180℃である請求項1ないし7のいずれか1項に記載
のコアシェル型接着性微粒子。
8. The shell layer has a softening temperature of 60 to 60 due to heating.
The core-shell type adhesive fine particles according to any one of claims 1 to 7, wherein the temperature is 180 ° C.
【請求項9】 疎水性重合性モノマーが、一般式(II) 【化1】 (式中、R3は水素原子またはメチル基、R4はエポキシ
基、水酸基、メルカプト基若しくはエーテル結合を有す
る炭化水素基を示す。)で表されるエチレン性不飽和単
量体である請求項1ないし8のいずれか1項に記載のコ
アシェル型接着性微粒子。
9. The hydrophobic polymerizable monomer represented by the general formula (II): (Wherein, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents an epoxy group, a hydroxyl group, a mercapto group or a hydrocarbon group having an ether bond). 9. The core-shell type adhesive fine particle according to any one of 1 to 8.
【請求項10】 (a)シリカ微粒子を表面処理して疎
水性表面を形成する工程、(b)表面処理された疎水性
表面を有するシリカ微粒子の表面に、液滴または半固形
状の膨潤可能なポリオルガノシロキサン層を形成させる
工程、および(c)シリカ微粒子の表面に形成されたポ
リオルガノシロキサン層の表面および内部において、疎
水性重合性モノマーを吸収させ、重合させる工程を含む
ことを特徴とするコアシェル型微粒子の製造方法。
(A) a step of surface-treating silica fine particles to form a hydrophobic surface, and (b) droplets or semi-solid swellable on the surface of the surface-treated silica fine particles having a hydrophobic surface. (C) absorbing and polymerizing a hydrophobic polymerizable monomer on the surface and inside of the polyorganosiloxane layer formed on the surface of the silica fine particles. Of producing core-shell type fine particles.
【請求項11】 (a)工程が、ビニル系シランカップ
リング剤により表面処理して、シリカ微粒子の表面にビ
ニル基を導入する工程である請求項10に記載のコアシ
ェル型微粒子の製造方法。
11. The method for producing core-shell type fine particles according to claim 10, wherein the step (a) is a step of introducing a vinyl group into the surface of the silica fine particles by performing a surface treatment with a vinyl silane coupling agent.
【請求項12】 疎水性重合性モノマーをO/W型エマ
ルション化し、このエマルションとポリオルガノシロキ
サン層を接触させ、該ポリオルガノシロキサン層内に疎
水性重合性モノマーを吸収させる請求項11に記載の方
法。
12. The method according to claim 11, wherein the hydrophobic polymerizable monomer is converted into an O / W emulsion, the emulsion is brought into contact with a polyorganosiloxane layer, and the hydrophobic polymerizable monomer is absorbed in the polyorganosiloxane layer. Method.
JP2001131700A 2001-04-27 2001-04-27 Core-shell type fine particles and method for producing the same Expired - Fee Related JP4809993B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001131700A JP4809993B2 (en) 2001-04-27 2001-04-27 Core-shell type fine particles and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001131700A JP4809993B2 (en) 2001-04-27 2001-04-27 Core-shell type fine particles and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002327030A true JP2002327030A (en) 2002-11-15
JP4809993B2 JP4809993B2 (en) 2011-11-09

Family

ID=18979842

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001131700A Expired - Fee Related JP4809993B2 (en) 2001-04-27 2001-04-27 Core-shell type fine particles and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4809993B2 (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006057131A (en) * 2004-08-19 2006-03-02 Univ Nagoya Plated product provided with plating layer having water repellency and its production method
JPWO2005108451A1 (en) * 2004-05-07 2008-07-31 国立大学法人京都大学 Method for producing colloidal crystal by polymer graft fine particles
US8134680B2 (en) 2007-09-26 2012-03-13 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal panel
JP2012236922A (en) * 2011-05-12 2012-12-06 Dic Corp Emulsion dispersion and method for producing the same
US8329849B2 (en) 2008-05-16 2012-12-11 Nec Corporation Organic silicon compound and material for forming silica-based fine particle
US8507095B2 (en) 2008-05-16 2013-08-13 Nec Corporation Metal oxide-based fine particle and method for manufacturing the same, and resin composition
CN104898324A (en) * 2014-03-07 2015-09-09 芝浦机械电子株式会社 Liquid collection processing device, liquid collection processing method, substrate processing device and substrate processing method
US9725561B2 (en) 2014-06-20 2017-08-08 3M Innovative Properties Company Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core and silsesquioxane polymer outer layer and methods
US9957358B2 (en) 2014-09-22 2018-05-01 3M Innovative Properties Company Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core silsesquioxane polymer outer layer, and reactive groups
US9957416B2 (en) 2014-09-22 2018-05-01 3M Innovative Properties Company Curable end-capped silsesquioxane polymer comprising reactive groups
US10066123B2 (en) 2013-12-09 2018-09-04 3M Innovative Properties Company Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
US10370564B2 (en) 2014-06-20 2019-08-06 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods
US10392538B2 (en) 2014-06-20 2019-08-27 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5971316A (en) * 1982-10-16 1984-04-23 Dainippon Ink & Chem Inc Water-dispersible coating composition
JPS61155474A (en) * 1984-12-28 1986-07-15 Kansai Paint Co Ltd Aqueous coating composition
JPH04270710A (en) * 1989-12-18 1992-09-28 Toshiba Silicone Co Ltd Thermoplastic resin and its production
JPH06289402A (en) * 1993-03-31 1994-10-18 Tokuyama Soda Co Ltd Spacer for liquid crystal display element and production of liquid crystal display element by using the same
JPH0980448A (en) * 1995-09-11 1997-03-28 Sekisui Finechem Co Ltd Spacer for liquid crystal display element and liquid crystal display element formed by using the same
JPH116902A (en) * 1997-04-04 1999-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd Reflection preventing film and picture display device using it
JP2000026692A (en) * 1998-07-08 2000-01-25 Ube Nitto Kasei Co Ltd Thermosetting resin coated particle, preparation thereof and spacer composed of same particle
JP2000143230A (en) * 1998-11-10 2000-05-23 Toshihide Haraguchi Surface-modified spherical silica particle and its production

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5971316A (en) * 1982-10-16 1984-04-23 Dainippon Ink & Chem Inc Water-dispersible coating composition
JPS61155474A (en) * 1984-12-28 1986-07-15 Kansai Paint Co Ltd Aqueous coating composition
JPH04270710A (en) * 1989-12-18 1992-09-28 Toshiba Silicone Co Ltd Thermoplastic resin and its production
JPH06289402A (en) * 1993-03-31 1994-10-18 Tokuyama Soda Co Ltd Spacer for liquid crystal display element and production of liquid crystal display element by using the same
JPH0980448A (en) * 1995-09-11 1997-03-28 Sekisui Finechem Co Ltd Spacer for liquid crystal display element and liquid crystal display element formed by using the same
JPH116902A (en) * 1997-04-04 1999-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd Reflection preventing film and picture display device using it
JP2000026692A (en) * 1998-07-08 2000-01-25 Ube Nitto Kasei Co Ltd Thermosetting resin coated particle, preparation thereof and spacer composed of same particle
JP2000143230A (en) * 1998-11-10 2000-05-23 Toshihide Haraguchi Surface-modified spherical silica particle and its production

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2005108451A1 (en) * 2004-05-07 2008-07-31 国立大学法人京都大学 Method for producing colloidal crystal by polymer graft fine particles
JP2006057131A (en) * 2004-08-19 2006-03-02 Univ Nagoya Plated product provided with plating layer having water repellency and its production method
JP4682318B2 (en) * 2004-08-19 2011-05-11 国立大学法人名古屋大学 Plating product provided with plating layer having water repellency and method for producing the same
US8134680B2 (en) 2007-09-26 2012-03-13 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal panel
US8507095B2 (en) 2008-05-16 2013-08-13 Nec Corporation Metal oxide-based fine particle and method for manufacturing the same, and resin composition
US8329849B2 (en) 2008-05-16 2012-12-11 Nec Corporation Organic silicon compound and material for forming silica-based fine particle
JP2012236922A (en) * 2011-05-12 2012-12-06 Dic Corp Emulsion dispersion and method for producing the same
US10066123B2 (en) 2013-12-09 2018-09-04 3M Innovative Properties Company Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
CN104898324A (en) * 2014-03-07 2015-09-09 芝浦机械电子株式会社 Liquid collection processing device, liquid collection processing method, substrate processing device and substrate processing method
CN104898324B (en) * 2014-03-07 2017-11-17 芝浦机械电子株式会社 Connect liquid processing device, connect liquid processing method, substrate board treatment and substrate processing method using same
US9725561B2 (en) 2014-06-20 2017-08-08 3M Innovative Properties Company Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core and silsesquioxane polymer outer layer and methods
US10370564B2 (en) 2014-06-20 2019-08-06 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods
US10392538B2 (en) 2014-06-20 2019-08-27 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods
US9957358B2 (en) 2014-09-22 2018-05-01 3M Innovative Properties Company Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core silsesquioxane polymer outer layer, and reactive groups
US9957416B2 (en) 2014-09-22 2018-05-01 3M Innovative Properties Company Curable end-capped silsesquioxane polymer comprising reactive groups

Also Published As

Publication number Publication date
JP4809993B2 (en) 2011-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW302386B (en)
JP4809993B2 (en) Core-shell type fine particles and method for producing the same
US9102836B2 (en) Anti-reflection coating composition and process for preparing the same
JP6326199B2 (en) Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film
TWI673571B (en) Light and moisture curing resin composition, adhesive for electronic parts, and adhesive for display elements
JP5362209B2 (en) Fine particle-containing composition, fine particle-containing resin composition, and production method thereof
TWI826355B (en) Adhesive compositions, hardened bodies, electronic parts and assembly parts
JP2002121536A (en) Adhesive particle and production method thereof
JP2009235238A (en) Aqueous coating composition, organic-inorganic composite coating film, metal alkoxide condensate dispersion, and production method thereof
JP2000026692A (en) Thermosetting resin coated particle, preparation thereof and spacer composed of same particle
JPH11199671A (en) Production of organic and inorganic composite particle
JP6573445B2 (en) Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film
JP2000169591A (en) Particle coated with photo-setting resin, its production and production of liquid crystal display element
JP3819983B2 (en) Resin-coated silica fine particles and method for producing the same
JP4751782B2 (en) Polymer particles
JP5927862B2 (en) SUBMICRON POLYMER PARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING INSULATION-CONTAINING CONDUCTIVE PARTICLE HAVING THE SAME
JPH10330488A (en) Production of silica-coated resin particle
JPH039154B2 (en)
JP4095293B2 (en) Method for producing polymer particles
JP3995771B2 (en) Method for producing photocurable resin-coated particles and spacer material comprising the particles
JP2003192939A (en) Resin-coated fine particle, method for producing the same and spacer for liquid crystal display device
JPS63308069A (en) Transparent material
JPH1025430A (en) Adhesive particle and production thereof
JPH10206861A (en) Production of spacer for liquid crystal display plate
JP4911843B2 (en) Organic-inorganic composite particles, production method thereof, and use thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080303

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110118

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110318

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110816

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110822

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4809993

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees