JP2002319189A - Method and device for sticking substrate for optical disk - Google Patents

Method and device for sticking substrate for optical disk

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JP2002319189A
JP2002319189A JP2001124349A JP2001124349A JP2002319189A JP 2002319189 A JP2002319189 A JP 2002319189A JP 2001124349 A JP2001124349 A JP 2001124349A JP 2001124349 A JP2001124349 A JP 2001124349A JP 2002319189 A JP2002319189 A JP 2002319189A
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adhesive
rotation speed
substrates
holding
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JP2001124349A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuto Nakajima
和人 中島
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the distribution of film thickness uniform, when two substrates for an optical disk are stuck. SOLUTION: An adhesive 8 is applied on one surface of one substrate 2 of two substrates 2 and 3, while the substrate 2 is rotated at a first rotary speed. A film 65 of the uncured adhesive is formed on the one surface of the one substrate 2 by rotating the one substrate 2 at a second speed higher than the first speed to diffuse the adhesive 8. The other substrate 3 is joined to the one surface of the one substrate 2 in the vacuum atmosphere. The adhesive 8 is cured to fix the two substrates 2 and 3 to each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、2枚の基板を接合
して固着する光ディスク用の基板の貼り合わせ方法及び
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for bonding substrates for an optical disk for bonding and fixing two substrates.

【0002】[0002]

【従来の技術】図9及び図10に示すように、記録・再
生型の光ディスク1は、ポリカーボネイト等の樹脂から
なる円盤状の第1及び第2基板2,3と、これらを接合
固着している接着剤層4とからなる。また、第1基板2
には色素膜5及び反射膜6からなる記録層7が形成され
ている。
2. Description of the Related Art As shown in FIGS. 9 and 10, a recording / reproducing type optical disc 1 has first and second disc-shaped substrates 2 and 3 made of a resin such as polycarbonate, which are bonded and fixed. Adhesive layer 4. Also, the first substrate 2
Is formed with a recording layer 7 composed of a dye film 5 and a reflection film 6.

【0003】従来、上記第1基板2と第2基板3の貼り
合わせ方法として、図11に示す方法が知られている。
以下、この貼り合わせ方法を説明する。
Conventionally, a method shown in FIG. 11 has been known as a method of bonding the first substrate 2 and the second substrate 3 together.
Hereinafter, this bonding method will be described.

【0004】まず、図11(A)に示すように、第1基
板2を矢印Aで示すように回転させつつ、紫外線反応硬
化型接着剤8をノズル11から供給し、第1基板2上に
環状に塗布する。次に、図11(B)に示すように、第
1基板2に対して矢印Bで示すように第2基板3を下降
させ、第2基板3を接着剤8を介して第1基板2上に載
置する。さらに、図11(C)に示すように、第1基板
2と第2基板3とを矢印Cで示すように高速回転させ
る。この回転により、第1及び第2基板2,3間に接着
剤8が拡散し、第1及び第2基板2,3と中間層である
未硬化の接着剤層4とからなる光ディスク1が形成され
る。最後に、図11(D)に示すように、紫外線発生装
置11により紫外光13を光ディスク1に照射する。こ
の紫外光13の照射により接着剤層4が硬化し、第1基
板2と第2基板3が固着される。なお、第2基板3に接
着剤を塗布してもよい。また、紫外光13は光ディスク
1の両面から照射しても片面から照射してもよい。
[0004] First, as shown in FIG. 11 (A), while the first substrate 2 is rotated as shown by the arrow A, an ultraviolet-ray reactive curable adhesive 8 is supplied from the nozzle 11, and the first substrate 2 is placed on the first substrate 2. Apply in a ring. Next, as shown in FIG. 11B, the second substrate 3 is lowered with respect to the first substrate 2 as shown by an arrow B, and the second substrate 3 is placed on the first substrate 2 with an adhesive 8. Place on. Further, as shown in FIG. 11C, the first substrate 2 and the second substrate 3 are rotated at a high speed as indicated by an arrow C. Due to this rotation, the adhesive 8 is diffused between the first and second substrates 2 and 3, and the optical disc 1 composed of the first and second substrates 2 and 3 and the uncured adhesive layer 4 as an intermediate layer is formed. Is done. Finally, as shown in FIG. 11D, the optical disc 1 is irradiated with ultraviolet light 13 by the ultraviolet ray generator 11. The irradiation of the ultraviolet light 13 cures the adhesive layer 4, and the first substrate 2 and the second substrate 3 are fixed. Note that an adhesive may be applied to the second substrate 3. The ultraviolet light 13 may be irradiated from both sides of the optical disc 1 or from one side.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の基板の貼り
合わせ方法は、以下の問題がある。第1に、記録・再生
型の光ディスク1は、図9及び図10に示すように片面
から大略厚み方向に照射に照射するレーザ光14によ
り、正確にかつ安定して情報を書込及び読込可能である
必要がある。この正確かつ安定した書込及び読込を実現
するには、ディスク面15の傾き量θを高精度に確保し
て、情報記録再生範囲16でのレーザ光14の入射及び
反射の阻害や強度低下を防止する必要がある。そして、
傾き量θを高精度に確保するには、接着剤層4の膜厚分
布を均一化して第1基板2と第2基板3の傾きを抑制す
ること、及び接着剤層4の硬化時の条件等に起因する光
ディスク1の反りを抑制することが極めて重要である。
The above-mentioned conventional method of bonding substrates has the following problems. First, as shown in FIGS. 9 and 10, the recording / reproducing type optical disc 1 can write and read information accurately and stably by a laser beam 14 irradiating irradiation from one side in a substantially thickness direction. Needs to be In order to realize this accurate and stable writing and reading, the inclination amount θ of the disk surface 15 is secured with high accuracy to prevent the incidence and reflection of the laser beam 14 in the information recording / reproducing range 16 and to reduce the intensity. Need to be prevented. And
In order to secure the inclination amount θ with high accuracy, the film thickness distribution of the adhesive layer 4 is made uniform to suppress the inclination of the first substrate 2 and the second substrate 3, and the conditions at the time of curing the adhesive layer 4 It is extremely important to suppress the warp of the optical disc 1 due to the above-mentioned factors.

【0006】しかし、遠心力のみにより接着剤8を流動
拡散させる従来の方法では、特に光ディスク1の中央付
近において接着剤層4の厚みが著しく薄くなり、均一な
膜厚分布が得られない。この上記光ディスク1の中央付
近において接着剤層4の厚みが薄くなる現象について図
12を参照して説明する。第1基板2と第2基板3とを
接着剤8を介して貼り合わせた状態であって矢印Cで示
す回転を開始する前は、接着剤8は第2基板3の自重1
7とニュートン流動により、中央方向18と外周方向1
9に徐々に拡散する。この拡散の速度は第1及び第2基
板2,3の中央部分における隙間21aと、外周部分に
おける隙間21bとの平均値の3乗に比例すると考えら
れる。この状態から、矢印Cで示すように光ディスク1
を高速回転させると、接着剤8は遠心力22により直径
方向に向けて急速に流動する。この流動の速度は角速度
(Rω)に比例すると考えられるが、光ディスク1の
中央付近に塗布されたある一定体積の接着剤は上記直径
方向への拡散と共に流動抵抗が増大し、拡散速度が減少
する。すなわち、一定時間における拡散面積の増大と、
該拡散による第2基板3の第1基板2への接近が直径方
向における接着剤8の膜厚の変動を加速させているもの
と考えられる。その結果、矢印C方向の回転を停止した
とき、光ディスク1の中央付近における接着剤層4の膜
厚が、外周部分における接着剤層4の膜厚よりも小さく
なる減少が生じる。
However, in the conventional method in which the adhesive 8 flows and diffuses only by the centrifugal force, the thickness of the adhesive layer 4 becomes extremely thin especially near the center of the optical disc 1, and a uniform film thickness distribution cannot be obtained. The phenomenon in which the thickness of the adhesive layer 4 is reduced near the center of the optical disc 1 will be described with reference to FIG. In a state where the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded via the adhesive 8 and before the rotation indicated by an arrow C is started, the adhesive 8
7 and Newtonian flow, central direction 18 and outer peripheral direction 1
It gradually diffuses to 9. It is considered that the speed of this diffusion is proportional to the third power of the average value of the gap 21a in the central portion of the first and second substrates 2 and 3 and the gap 21b in the outer peripheral portion. From this state, as shown by the arrow C, the optical disk 1
When is rotated at a high speed, the adhesive 8 flows rapidly in the diameter direction due to the centrifugal force 22. The velocity of this flow is considered to be proportional to the angular velocity (Rω 2 ). However, the adhesive having a certain volume applied near the center of the optical disc 1 increases the flow resistance as the diameter of the adhesive spreads, and the diffusion rate decreases. I do. That is, the diffusion area increases in a certain time,
It is considered that the approach of the second substrate 3 to the first substrate 2 due to the diffusion accelerates the fluctuation of the thickness of the adhesive 8 in the diameter direction. As a result, when the rotation in the direction of arrow C is stopped, the film thickness of the adhesive layer 4 near the center of the optical disk 1 decreases to be smaller than the film thickness of the adhesive layer 4 at the outer peripheral portion.

【0007】また、上記従来の方法では、未硬化の接着
剤層4を形成した光ディスク1を位置決め配置した状態
で、紫外光を照射して接着剤層4を硬化させるだけであ
るので、図9に示すように貼り合わせた光ディスク1の
半径方向23及び円周方向24の反り25が発生し、情
報記録再生範囲16における反り25の量を低減するの
は困難である。
In the above-mentioned conventional method, the adhesive layer 4 is only cured by irradiating ultraviolet light in a state where the optical disk 1 on which the uncured adhesive layer 4 is formed is positioned and arranged. As shown in (1), a warp 25 occurs in the radial direction 23 and the circumferential direction 24 of the bonded optical disks 1, and it is difficult to reduce the amount of the warp 25 in the information recording / reproducing range 16.

【0008】第2に、図10に示すように、上記記録層
7に剥離によるピンホール27が存在したり、記録層7
近傍の接着剤層4に気泡28が存在すると、光ディスク
1の品質低下を招き、この品質低下が著しい場合には光
ディスクとして機能しない場合もある。しかし、上記従
来の方法では、第1及び第2基板2,3間で遠心力によ
り接着剤8を流動拡散させるため、接着剤8の流動抵抗
により記録層7の剥離してピンホール27が発生しやす
い。また、上記従来の方法では、大気圧中で第1及び第
2基板2,3を貼り合わせるため、接着剤層4に気泡2
8が残留しやすい。
Second, as shown in FIG. 10, a pinhole 27 due to peeling exists in the recording layer 7 or the recording layer 7
If bubbles 28 are present in the adhesive layer 4 in the vicinity, the quality of the optical disc 1 is degraded. If the quality degrades significantly, the optical disc 1 may not function as an optical disc. However, in the above-described conventional method, the adhesive 8 flows and diffuses between the first and second substrates 2 and 3 by centrifugal force. It's easy to do. Further, in the above-mentioned conventional method, the first and second substrates 2 and 3 are bonded together at atmospheric pressure.
8 tends to remain.

【0009】そこで、本発明は、光ディスク用の2枚の
基板の貼り合わせ方法において、膜厚分布の均一化と反
り防止によりディスク面の傾き量を高精度で確保するこ
と、及びピンホールや気泡の発生防止による情報の書込
及び読込可能の正確性及び安定性の向上を課題としてい
る。
Accordingly, the present invention provides a method of bonding two substrates for an optical disk, wherein the uniformity of the film thickness distribution and the prevention of warpage ensure the amount of tilt of the disk surface with high accuracy, and the use of pinholes and bubbles It is an object of the present invention to improve the accuracy and stability of writing and reading of information by preventing occurrence of the information.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、第1の発明は、少なくとも一方が記録層を備える光
ディスク用の2枚の基板を接着剤により貼り合わせる方
法であって、上記2枚の基板の一方の基板を第1の回転
速度で回転させつつ、その一面に接着剤を塗布し、上記
一方の基板を上記第1の回転速度より高速である第2の
回転速度で回転させて接着剤を拡散させ、上記一方の基
板の一面に未硬化の接着剤の膜を形成し、上記一方の基
板の一面に他方の基板を接合し、上記接着剤を硬化させ
て上記2枚の基板を固着させる、光ディスク用の基板の
貼り合わせ方法を提供する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of bonding two substrates for an optical disk, each having at least one of them having a recording layer, with an adhesive. While rotating one of the substrates at a first rotation speed, an adhesive is applied to one surface thereof, and the one substrate is rotated at a second rotation speed higher than the first rotation speed. The adhesive is diffused, an uncured adhesive film is formed on one surface of the one substrate, the other substrate is joined to one surface of the one substrate, and the adhesive is cured to form the two substrates. To provide a method for attaching an optical disk substrate to which a substrate is fixed.

【0011】本発明の基板の貼り合わせ方法では、一方
の基板を第1の回転速度で回転させつつ接着剤を塗布し
た後、第1の回転速度よりも高速である第2の回転速度
で回転させて、接着剤の膜を形成する。よって、2枚の
基板を貼り合わせた後にこれらを回転させて接着剤を拡
散させる従来の方法と比較して、基板の中央付近におけ
る接着剤の厚みの薄化を抑制し、接着剤の膜厚分布を均
一化することができる。また、2枚の基板を接合する前
に接着剤を拡散させるため記録層に作用する負荷を低減
することができ、記録層の剥離に起因するピンホールの
発生を防止することができる。
In the method for bonding substrates according to the present invention, after applying an adhesive while rotating one of the substrates at a first rotational speed, the substrate is rotated at a second rotational speed higher than the first rotational speed. Then, a film of the adhesive is formed. Therefore, compared to the conventional method in which the two substrates are bonded and then rotated to rotate the adhesive, the thinning of the adhesive near the center of the substrate is suppressed, and the thickness of the adhesive is reduced. The distribution can be made uniform. In addition, since the adhesive is diffused before joining the two substrates, the load acting on the recording layer can be reduced, and the occurrence of pinholes due to the separation of the recording layer can be prevented.

【0012】上記第1の回転速度での接着剤の塗布完了
後、予め定めた第1の時間だけ上記第1の回転速度を維
持した後、上記一方の基板の回転速度を上記第2の回転
速度まで加速させることが好ましい。
After the application of the adhesive at the first rotation speed is completed, the first rotation speed is maintained for a predetermined first time, and then the rotation speed of the one substrate is reduced to the second rotation speed. It is preferred to accelerate to speed.

【0013】基板の回転速度をこのように制御すること
により、第2の回転速度での回転開始当初の接着剤の拡
散がより均一となるので、接着剤の膜厚分布をより均一
化することができる。
By controlling the rotation speed of the substrate in this way, the diffusion of the adhesive at the beginning of the rotation at the second rotation speed becomes more uniform, so that the film thickness distribution of the adhesive is made more uniform. Can be.

【0014】また、上記第1の時間の経過後、上記第1
の回転速度よりも高速であって上記第2の回転速度より
も低速である第3の速度まで、上記一方の基板の回転速
度を加速させ、予め定めた第2の所定時間だけ上記第3
の回転速度を維持し、上記第2の所定時間の経過後、上
記一方の基板の回転速度を上記第2の回転速度まで加速
させることが好ましい。
After the lapse of the first time, the first time
The rotation speed of the one substrate is accelerated to a third speed that is higher than the rotation speed of the first substrate and lower than the second rotation speed, and the third substrate is accelerated for a second predetermined time.
It is preferable that the rotation speed of the one substrate is maintained and the rotation speed of the one substrate is accelerated to the second rotation speed after the lapse of the second predetermined time.

【0015】接着剤供給後の基板の回転速度を段階的に
加速することにより、接着剤の拡散がより均一となり、
接着剤の膜厚分布をより一層均一化することができる。
By gradually increasing the rotation speed of the substrate after supplying the adhesive, the diffusion of the adhesive becomes more uniform,
The film thickness distribution of the adhesive can be made more uniform.

【0016】上記第1の回転速度は30rpm以上60
rpm以下であり、上記第2の回転速度は3000rp
m以上4000rpm以下であり、上記第3の回転速度
は1000rpm以上2000rpm以下であることが
好ましい。
[0016] The first rotation speed is not less than 30 rpm and not more than 60 rpm.
rpm or less, and the second rotation speed is 3000 rpm
m or more and 4000 rpm or less, and the third rotation speed is preferably 1000 rpm or more and 2000 rpm or less.

【0017】第2の発明は、少なくとも一方が記録層を
備える光ディスク用の2枚の基板を接着剤により貼り合
わせる方法であって、一方の基板の一面に未硬化の接着
剤の膜を形成し、真空雰囲気中で、上記一方の基板の一
面に他方の基板を接合し、接着剤を硬化させて上記2枚
の基板を固着させる、光ディスク用の基板の貼り合わせ
方法を提供する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of bonding at least one of two substrates for an optical disk having a recording layer with an adhesive, wherein an uncured adhesive film is formed on one surface of one of the substrates. A method of bonding a substrate for an optical disk, comprising bonding one substrate to one surface of the one substrate in a vacuum atmosphere, and curing the adhesive to fix the two substrates.

【0018】第2の発明の基板の貼り合わせ方法では、
真空雰囲気中で、予め接着剤の膜を形成した一方の基板
に他方の基板を接合するため、接着剤中の気泡の残留を
効果的に防止することがきる。また、2枚の基板を貼り
合わせた後は、これらを回転させることなく接着剤を硬
化させるため、記録層に作用する負荷を低減してピンホ
ールの発生を防止することができる。
In the method for bonding substrates according to the second invention,
Since the other substrate is bonded to the one substrate on which the adhesive film is formed in advance in a vacuum atmosphere, it is possible to effectively prevent air bubbles from remaining in the adhesive. Further, after the two substrates are bonded, the adhesive is cured without rotating them, so that the load acting on the recording layer can be reduced and the occurrence of pinholes can be prevented.

【0019】上記一方の基板の一面に他方の基板を接合
する際に、上記一方の基板のスタンパ溝に対応する部分
を、弾性体により他方の基板に対して押え付けることが
好ましい。
When the other substrate is joined to one surface of the one substrate, it is preferable that a portion corresponding to the stamper groove of the one substrate is pressed against the other substrate by an elastic body.

【0020】スタンパ溝の近傍は基板成形時に発生する
バリが残留していることか゛多い。しかし、一方の基板
のスタンパ溝に対応する部分を、弾性体により他方の基
板に押し付けることにより、バリが押え付けられるた
め、基板の反りの発生を防止することができる。
In many cases, burrs generated during the molding of the substrate remain in the vicinity of the stamper groove. However, since the portion corresponding to the stamper groove of one substrate is pressed against the other substrate by the elastic body, the burrs are pressed, so that the occurrence of the warpage of the substrate can be prevented.

【0021】上記弾性体の硬さはショア硬さで3°〜8
°、特に5°であることが好ましい。
The hardness of the elastic body is 3 ° to 8 in Shore hardness.
°, particularly preferably 5 °.

【0022】第3の発明は、少なくとも一方が記録層を
備える光ディスク用の2枚の基板を接着剤により貼り合
わせる方法であって、上記2枚の基板のうち一方の基板
を第1の回転速度で回転させつつ、その一面に接着剤を
塗布し、上記一方の基板を上記第1の回転速度より高速
である第2の回転速度で回転させて接着剤を拡散させ、
上記一方の基板の一面に未硬化の接着剤の膜を形成し、
真空雰囲気中で、上記一方の基板の一面に他方の基板を
接合し、接着剤を硬化させて上記2枚の基板を固着させ
る、光ディスク用の基板の貼り合わせ方法を提供する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of bonding two substrates for an optical disk, at least one of which has a recording layer, with an adhesive, wherein one of the two substrates has a first rotational speed. While rotating in, the adhesive is applied to one surface, the one substrate is rotated at a second rotation speed that is higher than the first rotation speed to diffuse the adhesive,
Forming an uncured adhesive film on one surface of the one substrate,
Provided is a method of bonding substrates for an optical disk, in which one substrate is bonded to one surface of the one substrate in a vacuum atmosphere, and an adhesive is cured to fix the two substrates.

【0023】具体的には、上記接着剤は紫外線反応硬化
型接着剤であり、上記一方の基板の一面に上記他方の基
板を接合した後、紫外光を照射して上記接着剤を硬化し
て上記2枚の基板を固着させる。
More specifically, the adhesive is a UV-curable adhesive. After bonding the other substrate to one surface of the one substrate, the adhesive is cured by irradiating ultraviolet light. The two substrates are fixed.

【0024】第4の発明は、光ディスク用の基板に接着
剤の膜を形成するための接着剤膜形成装置であって、そ
の上面に基板を保持する保持機構と、この保持機構を回
転駆動し、上記基板を水平面において回転させる回転駆
動機構と、上記保持機構に保持された基板に接着剤を供
給する接着剤供給機構とを備え、上記回転駆動機構によ
り保持機構を第1の回転速度で回転させつつ、接着剤供
給機構により基板の一面に接着剤を塗布した後、上記回
転駆動機構により保持機構を上記第1の回転速度より高
速である第2の回転速度で回転させて接着剤を拡散さ
せ、上記一方の基板の一面に未硬化の接着剤の膜を形成
する、接着剤膜形成装置を提供する。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an adhesive film forming apparatus for forming an adhesive film on a substrate for an optical disk, comprising: a holding mechanism for holding the substrate on an upper surface thereof; A rotation driving mechanism for rotating the substrate in a horizontal plane, and an adhesive supply mechanism for supplying an adhesive to the substrate held by the holding mechanism, wherein the rotation driving mechanism rotates the holding mechanism at a first rotation speed. While applying the adhesive to one surface of the substrate by the adhesive supply mechanism, the holding mechanism is rotated by the rotation drive mechanism at a second rotation speed higher than the first rotation speed to diffuse the adhesive. And an adhesive film forming apparatus for forming an uncured adhesive film on one surface of the one substrate.

【0025】第5の発明は、光ディスク用の2枚の基板
を接合するための接合装置であって、密閉可能な容器
と、この容器内を真空排気する真空吸引機構と、上記容
器内に配置され、一方に未硬化の接着剤の膜が形成され
た2枚の基板の一方を、これらが互いに対向するように
保持する保持部と、上記容器外に配置された大気圧作用
部とを備え、上記容器内の2枚の基板が互いに接近及び
離反する方向にそれぞれ移動可能である、第1及び第2
の保持機構と、上記第1及び第2の保持機構をそれぞれ
容器に対して固定する第1及び第2の固定機構とを備
え、上記容器内を真空排気機構により真空排気後に上記
第1及び第2の固定機構による固定を解除し、上記大気
圧作用部に作用する大気圧により、第1及び第2の保持
機構の保持を互いに接近させ、第1及び第2の保持機構
の保持部に保持された2枚の基板を接合する、接合装置
を提供する。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a bonding apparatus for bonding two substrates for an optical disk, comprising a sealable container, a vacuum suction mechanism for evacuating the container, and a vacuum suction mechanism disposed in the container. A holding unit for holding one of the two substrates, on each of which an uncured adhesive film is formed, so that they face each other; and an atmospheric pressure operating unit disposed outside the container. A first substrate and a second substrate, wherein two substrates in the container are movable toward and away from each other, respectively.
And a first and a second fixing mechanism for fixing the first and second holding mechanisms to the container, respectively. The first and second fixing mechanisms are evacuated by the evacuation mechanism in the container. The first and second holding mechanisms are released from each other by the atmospheric pressure acting on the above-mentioned atmospheric pressure acting part, and the holding by the first and second holding mechanisms is released. Provided is a joining device for joining two substrates that have been made.

【0026】第6の発明は、少なくとも一方が記録層を
備える光ディスク用の2枚の基板を紫外光硬化型の接着
剤により貼り合わせる貼り合わせ装置であって、その上
面に基板を保持する保持機構と、この保持機構を回転駆
動し、上記基板を水平面において回転させる回転駆動機
構と、上記保持機構に保持された基板の一面に接着剤を
供給する接着剤供給機構とを備え、上記回転駆動機構に
より保持機構を第1の回転速度で回転させつつ、接着剤
供給機構により基板の一面に接着剤を塗布した後、上記
回転駆動機構により保持機構を上記第1の回転速度より
高速である第2の回転速度で回転させて、上記基板の一
面に接着剤の膜を形成する、接着剤膜形成装置と、密閉
可能な容器と、この容器内を真空排気する真空吸引機構
と、上記容器内に配置され、一方に未硬化の接着剤の膜
が形成された2枚の基板の一方を、これらが互いに対向
するように保持する保持部と、上記容器外に配置された
大気圧作用部とを備え、上記容器内の2枚の基板が互い
に接近及び離反する方向にそれぞれ移動可能である、第
1及び第2の保持機構と、上記第1及び第2の保持機構
をそれぞれ容器に対して固定する第1及び第2の固定機
構とを備え、上記容器内を真空排気機構により真空排気
後に上記第1及び第2の固定機構による固定を解除し、
上記大気圧作用部に作用する大気圧により、第1及び第
2の保持機構の保持を互いに接近させ、第1及び第2の
保持機構の保持部に保持された2枚の基板を接着剤によ
り接合する、基板接合装置と、この基板接合装置により
貼り合わせた2枚の基板に紫外光を照射し、接着剤を硬
化させる紫外線発生装置とを備える光ディスク用の基板
の貼り合わせ装置を提供する。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a bonding apparatus for bonding at least one of two substrates for an optical disk having a recording layer with an ultraviolet-curable adhesive, and a holding mechanism for holding the substrate on an upper surface thereof. A rotation drive mechanism for rotating the holding mechanism and rotating the substrate in a horizontal plane; and an adhesive supply mechanism for supplying an adhesive to one surface of the substrate held by the holding mechanism. After the adhesive is applied to one surface of the substrate by the adhesive supply mechanism while rotating the holding mechanism at the first rotation speed, the rotation driving mechanism drives the holding mechanism to rotate the holding mechanism at a speed higher than the first rotation speed. An adhesive film forming device that forms an adhesive film on one surface of the substrate by rotating at a rotational speed of, a sealable container, a vacuum suction mechanism for evacuating the container, and And a holding unit for holding one of the two substrates, on each of which an uncured adhesive film is formed, so that they face each other, and an atmospheric pressure operating unit disposed outside the container. A first and a second holding mechanism, wherein the two substrates in the container are movable toward and away from each other, and the first and second holding mechanisms are fixed to the container, respectively. A first and a second fixing mechanism, and after the inside of the container is evacuated by a vacuum evacuation mechanism, the fixing by the first and second fixing mechanisms is released,
The holding of the first and second holding mechanisms is brought close to each other by the atmospheric pressure acting on the atmospheric pressure action section, and the two substrates held by the holding sections of the first and second holding mechanisms are bonded with an adhesive. Provided is an apparatus for bonding substrates for optical discs, comprising: a substrate bonding apparatus for bonding; and an ultraviolet light generator for irradiating ultraviolet light to two substrates bonded by the substrate bonding apparatus to cure an adhesive.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】次に、図面に示す本発明の実施形
態を詳細に説明する。なお、光ディスク1を構成する第
1及び第2基板2,3、並びに紫外光反応硬化型接着剤
8(接着剤層4)は、図9及び図10に図示した従来の
ものと同一である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention shown in the drawings will be described in detail. Note that the first and second substrates 2 and 3 constituting the optical disc 1 and the ultraviolet light reaction-curable adhesive 8 (adhesive layer 4) are the same as the conventional one shown in FIG. 9 and FIG.

【0028】まず、図1を参照して、光ディスク用の基
板の貼り合わせ方法を概略的に説明する。この貼り合わ
せ方法は、接着剤膜形成工程31、接合工程32、及び
接着剤硬化工程33を備えている。また、接着剤膜形成
工程31から接合工程32への基板搬送工程34a、及
び接合工程32から接着剤硬化工程33への基板搬送工
程34bとを備えている。
First, a method for bonding a substrate for an optical disk will be schematically described with reference to FIG. This bonding method includes an adhesive film forming step 31, a bonding step 32, and an adhesive curing step 33. In addition, a substrate transfer step 34a from the adhesive film forming step 31 to the bonding step 32 and a substrate transfer step 34b from the bonding step 32 to the adhesive curing step 33 are provided.

【0029】上記接着剤膜形成工程31では、第1基板
2をその軸線L回りに水平面において回転させつつ接着
剤4の塗布と拡散を行い、第1基板2の一面に未硬化の
接着剤の膜を形成する。この接着剤膜形成工程31は、
図2に示す接着剤膜形成装置35により行う。
In the adhesive film forming step 31, the adhesive 4 is applied and diffused while rotating the first substrate 2 about the axis L in a horizontal plane, and the uncured adhesive is applied to one surface of the first substrate 2. Form a film. This adhesive film forming step 31 includes:
This is performed by the adhesive film forming apparatus 35 shown in FIG.

【0030】上記接合工程32では、真空容器69中で
上記未硬化の接着剤の膜を形成した第1基板2の一面に
対して第2基板3を接合する。この接合工程32は図3
に示す接合装置36により行う。
In the bonding step 32, the second substrate 3 is bonded to one surface of the first substrate 2 on which the uncured adhesive film is formed in the vacuum vessel 69. This joining step 32 is shown in FIG.
Is performed by the joining device 36 shown in FIG.

【0031】上記接着剤硬化工程33では、光ディスク
1の一方の面側から紫外線発生装置100により紫外光
101を照射して、第1及び第2基板2,3間の接着剤
を硬化させ、第1及び第2基板2,3を固着させる。な
お、図において光ディスク1の下面側から紫外光を照射
してもよいし、光ディスク1の上下両側から紫外光を照
射してもよい。
In the adhesive curing step 33, ultraviolet light 101 is irradiated from one surface side of the optical disk 1 by the ultraviolet ray generator 100 to cure the adhesive between the first and second substrates 2 and 3, The first and second substrates 2 and 3 are fixed. In the figure, ultraviolet light may be irradiated from the lower surface side of the optical disk 1 or ultraviolet light may be irradiated from both upper and lower sides of the optical disk 1.

【0032】次に、図2に示す接着剤膜形成装置35に
ついて説明する。接着剤膜形成装置35は、基板が載置
される円板状の載置部41aと、この載置部41aから
下方に延びる軸部41bとを有する高張力アルミニウム
製のスピンプレート(保持機構)41を備えている。載
置部41aには基板の中央の孔に挿入される位置決め突
起42が設けられている。載置部41aにはその上面で
開口する複数の吸着孔43が設けられており、各吸着孔
43は軸部41bに形成されたエア流路44の一端側に
連通している。また、エア流路44の他端側は3ポート
2位置型の電磁弁45を介して大気と真空吸引ポンプ4
7のいずれか一方に連通される。電磁弁45が第1位置
45Aにあれば吸着孔43はエア流路44及び電磁弁4
5を介して大気に連通されるが、第2位置45Bにあれ
ば吸着孔43はエア流路44及び電磁弁45を介して真
空吸引ポンプ47に連通される。従って、載置部41a
に載置された基板は位置決め突起42により位置決めさ
れ、真空吸引ポンプ47の吸引により吸着保持される。
Next, the adhesive film forming apparatus 35 shown in FIG. 2 will be described. The adhesive film forming device 35 is a spin plate (holding mechanism) made of high-tensile aluminum having a disk-shaped mounting portion 41a on which a substrate is mounted and a shaft portion 41b extending downward from the mounting portion 41a. 41 are provided. The mounting portion 41a is provided with a positioning projection 42 that is inserted into the center hole of the substrate. The mounting portion 41a is provided with a plurality of suction holes 43 opened on the upper surface thereof, and each suction hole 43 communicates with one end of an air flow path 44 formed in the shaft portion 41b. The other end of the air flow path 44 is connected to the atmosphere and a vacuum suction pump 4 through a three-port two-position solenoid valve 45.
7 is communicated. If the solenoid valve 45 is at the first position 45A, the suction hole 43 will be in the air flow path 44 and the solenoid valve 4
The suction hole 43 is connected to the vacuum suction pump 47 via the air flow path 44 and the electromagnetic valve 45 if the suction hole 43 is located at the second position 45B. Therefore, the mounting portion 41a
The substrate placed on the substrate is positioned by the positioning protrusion 42 and is suction-held by suction of the vacuum suction pump 47.

【0033】スピンプレート41の軸部41bにはギア
48Aが固定されており、このギア48Aはモータ49
の出力軸49aに固定されたギア48Bに係合してい
る。従って、モータ49が作動するとスピンプレート4
1が回転し、矢印Dで示すように載置部41aに吸着保
持された基板がその軸線L回りに水平面内で回転する。
ギア48A,48B及びモータ49が本発明における回
転駆動機構を構成している。
A gear 48A is fixed to the shaft portion 41b of the spin plate 41, and the gear 48A
Is engaged with a gear 48B fixed to the output shaft 49a. Therefore, when the motor 49 operates, the spin plate 4
1 rotates, and the substrate sucked and held by the mounting portion 41a rotates around its axis L in a horizontal plane as shown by an arrow D.
The gears 48A and 48B and the motor 49 constitute a rotation drive mechanism in the present invention.

【0034】載置部41aに保持された基板に接着剤8
を供給するための接着剤供給機構50が設けられてい
る。この接着剤供給機構50は、載置部41aの上方に
配設されたノズル52、接着剤8を貯蔵した密閉状態の
タンク53、及びタンク53にガス(本実施形態では窒
素ガス)を供給するガス供給源54を備えている。ガス
供給源54から管路55aを介してタンク53内にガス
が供給されると、供給されたガスの量に対応する量の接
着剤8が管路55bを経てノズル52に供給され、ノズ
ル52から載置部41a上の基板へ吐出される。上記ノ
ズル52は載置部41a(基板)の径方向に進退可能な
エアシリンダ57のロッド57aの先端に取り付けられ
ている。従って、エアエアシリンダ57によりノズル5
2の載置部41aの径方向の位置を調節することができ
る。
The adhesive 8 is applied to the substrate held by the mounting portion 41a.
An adhesive supply mechanism 50 for supplying the adhesive is provided. The adhesive supply mechanism 50 supplies a gas (nitrogen gas in the present embodiment) to the nozzle 52 disposed above the mounting portion 41a, a closed tank 53 storing the adhesive 8, and the tank 53. A gas supply source 54 is provided. When gas is supplied from the gas supply source 54 into the tank 53 via the pipe 55a, an amount of the adhesive 8 corresponding to the amount of the supplied gas is supplied to the nozzle 52 via the pipe 55b. Is discharged onto the substrate on the mounting portion 41a. The nozzle 52 is attached to the distal end of a rod 57a of an air cylinder 57 that can advance and retreat in the radial direction of the mounting portion 41a (substrate). Therefore, the nozzle 5 is controlled by the air-air cylinder 57.
The radial position of the second mounting portion 41a can be adjusted.

【0035】スピンプレート41の載置部41aの周囲
には、接着飛散防止用のフード58により取り囲まれて
いる。フード58の上方にはノズル52を載置部41a
上の基板に臨ませるための大径開口58aが設けられ、
フード58の下方には軸部41bを挿通するための小径
開口58bが設けられている。また、フード58はエア
シリンダ59により垂直方向の位置を調節可能である。
The mounting portion 41a of the spin plate 41 is surrounded by a hood 58 for preventing scattering of the adhesive. The nozzle 52 is placed above the hood 58 with the mounting portion 41a.
A large-diameter opening 58a for facing the upper substrate is provided,
Below the hood 58, a small-diameter opening 58b for inserting the shaft portion 41b is provided. The position of the hood 58 in the vertical direction can be adjusted by an air cylinder 59.

【0036】接着剤供給機構50のコントローラ60
は、エアシリンダ57,59、電磁弁45、真空吸引ポ
ンプ47、モータ49、及びガス供給源54の動作を制
御する。
Controller 60 of adhesive supply mechanism 50
Controls the operations of the air cylinders 57 and 59, the solenoid valve 45, the vacuum suction pump 47, the motor 49, and the gas supply source.

【0037】次に、接着剤膜形成装置35の動作(接着
剤膜形成工程33)について説明する。まず、第1基板
2を載置部41aに載置し、吸着孔43を介して作用す
る真空吸引ポンプ47の吸引力により載置部41a上に
吸着保持する。このとき第1基板2は記録層7側の面が
上側を向くように載置部41a上に載置されている。次
に、モータ49によりスピンプレート41を30〜60
rpm程度の低速で回転させつつノズル52から接着剤
8を吐出し、スピンプレート41が1回転する間に、図
4において符号61で示すようにスタンパ溝62の周囲
に円環状に接着剤8を塗布する。
Next, the operation of the adhesive film forming apparatus 35 (adhesive film forming step 33) will be described. First, the first substrate 2 is mounted on the mounting portion 41a, and is suction-held on the mounting portion 41a by the suction force of the vacuum suction pump 47 acting through the suction hole 43. At this time, the first substrate 2 is mounted on the mounting portion 41a such that the surface on the recording layer 7 side faces upward. Next, the spin plate 41 is moved from 30 to 60 by the motor 49.
The adhesive 8 is discharged from the nozzle 52 while being rotated at a low speed of about rpm, and while the spin plate 41 makes one rotation, the adhesive 8 is annularly formed around the stamper groove 62 as shown by reference numeral 61 in FIG. Apply.

【0038】上記接着剤8の塗布完了後、図5において
時刻t0〜時刻t1で示すように、例えば2〜3秒程度
の予め定めた所定時間(第1の時間)だけ上記接着剤塗
布時の回転速度を維持する。次に、図5において時刻t
1〜時刻t2で示すように例えば0.5秒程度でスピン
プレート41の回転速度を上記30〜60rpm程度か
ら1000〜2000rpm程度(この例では1500
rpm)の回転速度(第3の回転速度)まで加速させ
る。このスピンプレート41の回転速度上昇により、環
状に塗布された接着剤8が図4において矢印63で示す
第1基板2の中央方向及び矢印64で示す外周方向に拡
散する。
After the application of the adhesive 8 is completed, as shown at time t0 to time t1 in FIG. 5, for a predetermined time (first time) of, for example, about 2 to 3 seconds, the time of the adhesive application is reduced. Maintain the rotation speed. Next, in FIG.
As shown at 1 to time t2, for example, the rotation speed of the spin plate 41 is increased from about 30 to 60 rpm to about 1000 to 2000 rpm in about 0.5 seconds (in this example, 1500 to 1500 rpm).
(rpm) (a third rotation speed). Due to the increase in the rotation speed of the spin plate 41, the adhesive 8 applied in a ring shape diffuses in the center direction of the first substrate 2 indicated by an arrow 63 in FIG.

【0039】時刻t2から時刻t3で示すように、上記
1000〜2000rpm程度の回転速度は予め定めた
所定時間(第2の時間)だけ維持する。次に、時刻t3
から時刻t4で示すように、例えば0.5秒程度でスピ
ンプレート41を上記1000〜2000rpm程度か
ら3000〜4000rpm(この例では3500rp
m)の回転速度(第2の回転速度)まで加速させる。こ
のスピンプレート41の再加速により上記矢印63,6
4で示す第1基板2上での接着剤8の拡散がさらに進行
する。時刻t4から時刻t5で示すように、上記300
0〜4000rpm程度の回転速度は例えば1秒程度の
時間だけ維持される。その後、時刻t5から時刻t6で
示すように、スピンプレート41の回転速度を減速し、
例えば1秒程度の時間で回転を停止する。この回転終了
時には第1基板2の記録層7側の面に未硬化の接着剤8
の膜65(図3参照)が形成される。
As shown from time t2 to time t3, the rotation speed of about 1000 to 2000 rpm is maintained for a predetermined time (second time). Next, at time t3
From time t4 to time t4, the spin plate 41 is moved from the above-mentioned about 1000 to 2000 rpm to 3000 to 4000 rpm (3500 rpm in this example).
m) to the rotation speed (second rotation speed). Due to the re-acceleration of the spin plate 41, the arrows 63, 6
The diffusion of the adhesive 8 on the first substrate 2 indicated by 4 further proceeds. From time t4 to time t5, the above 300
The rotation speed of about 0 to 4000 rpm is maintained for, for example, about one second. Thereafter, as shown from time t5 to time t6, the rotation speed of the spin plate 41 is reduced,
For example, the rotation is stopped in about one second. At the end of the rotation, the uncured adhesive 8 is applied to the surface of the first substrate 2 on the recording layer 7 side.
Is formed (see FIG. 3).

【0040】上記のように接着剤膜形成装置35では、
第1基板2を30〜60rpm程度の回転速度で回転さ
せつつ接着剤8を塗布し、この回転速度を所定時間維持
した後、第1基板2を高速で回転させて接着剤8の膜6
5を形成する。よって、2枚の基板を貼り合わせた後に
これらを回転させて接着剤を拡散させる従来の方法と比
較して、基板の中央付近における接着剤の厚みの薄化を
抑制し、接着剤の膜厚分布を均一化することができる。
また、2枚の基板を接合する前に接着剤を拡散させるた
め、記録層7に作用する負荷を低減することができ、記
録層7の剥離に起因するピンホールの発生を防止するこ
とができる。
As described above, in the adhesive film forming apparatus 35,
The adhesive 8 is applied while rotating the first substrate 2 at a rotation speed of about 30 to 60 rpm, and after maintaining the rotation speed for a predetermined time, the first substrate 2 is rotated at a high speed to rotate the film 6 of the adhesive 8.
5 is formed. Therefore, compared to the conventional method in which the two substrates are bonded and then rotated to rotate the adhesive, the thinning of the adhesive near the center of the substrate is suppressed, and the thickness of the adhesive is reduced. The distribution can be made uniform.
Further, since the adhesive is diffused before joining the two substrates, the load acting on the recording layer 7 can be reduced, and the occurrence of pinholes due to the separation of the recording layer 7 can be prevented. .

【0041】また、接着剤塗布時の回転速度(30〜6
0rpm)から最大の回転速度(3000〜4000r
pm)に加速するまでの間に、中間の回転速度(100
0〜2000rpm)を設け、この中間の回転速度を所
定時間維持するように第1基板2の回転速度を制御して
いるため、最大の回転速度での回転開始当初の接着剤の
拡散がより均一となり、接着剤8の膜厚分布をより均一
化することができる。
The rotation speed (30 to 6) at the time of applying the adhesive is used.
0rpm) to the maximum rotation speed (3000-4000r)
pm), the intermediate rotation speed (100
0 to 2000 rpm), and the rotation speed of the first substrate 2 is controlled so as to maintain the intermediate rotation speed for a predetermined time. Therefore, the diffusion of the adhesive at the start of rotation at the maximum rotation speed is more uniform. Thus, the film thickness distribution of the adhesive 8 can be made more uniform.

【0042】スピンプレート41の回転速度の制御は上
記のものに限定されず、接着剤塗布後、その回転速度を
ある程度の時間維持した後、回転速度を加速するもので
あればよい。例えば、図5(B)や図5(C)で示すよ
うにスピンプレート41の回転速度を制御してもよい。
The control of the rotation speed of the spin plate 41 is not limited to the above, and any method may be used as long as the rotation speed is maintained after maintaining the rotation speed for a certain time after the application of the adhesive. For example, the rotation speed of the spin plate 41 may be controlled as shown in FIGS. 5B and 5C.

【0043】図5(B)では、接着剤塗布時の回転速度
(30〜60rpm)を2〜3秒程度維持した後(時刻
t0から時刻1)、1秒程度で3000〜4000rp
mまで加速する(時刻t1から時刻t2)。そして、こ
の回転速度を1秒程度維持した後(時刻t2から時刻t
3)、0.5秒程度の時間で1000〜2000rpm
まで減速する(時刻t3から時刻t4)。そして、この
回転速度を1秒程度維持した後(時刻t4から時刻t
5)、0.5秒程度の時間で減速して回転を停止する。
In FIG. 5B, after the rotation speed (30 to 60 rpm) at the time of applying the adhesive is maintained for about 2 to 3 seconds (from time t0 to time 1), 3000 to 4000 rpm is obtained for about 1 second.
m (time t1 to time t2). After the rotation speed is maintained for about 1 second (from time t2 to time t2).
3), 1000 to 2000 rpm in about 0.5 seconds
(From time t3 to time t4). Then, after maintaining this rotation speed for about 1 second (from time t4 to time t4).
5) The rotation is stopped by decelerating in about 0.5 seconds.

【0044】図5(C)では、接着剤塗布時の回転速度
(30〜60rpm)を2〜3秒程度維持した後(時刻
t0から時刻t1)、1秒程度で3000〜4000r
pmまで加速する(時刻t1から時刻t2)。そして、
この回転速度を1秒程度維持した後(時刻t2から時刻
t3)、1秒程度で減速して回転を停止する。
In FIG. 5C, after the rotation speed (30 to 60 rpm) at the time of applying the adhesive is maintained for about 2 to 3 seconds (from time t0 to time t1), 3000 to 4000 rpm is obtained for about 1 second.
pm (from time t1 to time t2). And
After maintaining this rotation speed for about one second (from time t2 to time t3), the rotation is reduced and stopped in about one second.

【0045】次に、図3に示す接合装置36について説
明する。接合装置36は、上側容器67と下側容器68
とからなる真空容器69を備えている。上側容器67に
は駆動シャフト70と駆動プレート71を介してエアシ
リンダ72のロッド72aが連結されており、エアシリ
ング72の作動により図3に示す上昇位置と、図6に示
す降下位置に昇降可能である。降下位置では上側容器6
7と下側容器68とにより密閉空間73が形成される。
下側容器68の上面には密閉空間73をシールするため
のシールゴム74が取り付けられている。
Next, the joining device 36 shown in FIG. 3 will be described. The joining device 36 includes an upper container 67 and a lower container 68.
Is provided. A rod 72a of an air cylinder 72 is connected to the upper container 67 via a drive shaft 70 and a drive plate 71, and can be moved up and down to a raised position shown in FIG. 3 and a lowered position shown in FIG. It is. Upper container 6 in the lowered position
The closed space 73 is formed by the container 7 and the lower container 68.
A seal rubber 74 for sealing the closed space 73 is attached to the upper surface of the lower container 68.

【0046】下側容器68には密閉空間73内を真空排
気するためのポート75が設けられている。このポート
75は、3ポート2位置型の電磁弁76を介して大気と
真空吸引ポンプ77のいずれか一方に連通される。電磁
弁76が第1位置76Aにあれば密閉空間73内はポー
ト75及び電磁弁76を介して大気に連通されるが、第
2位置76Bにあればポート75及び電磁弁76を介し
て真空吸引ポンプ77に連通される。また、上記密閉空
間73内の真空度を測定するための真空度計78が設け
られている。
The lower container 68 is provided with a port 75 for evacuating the closed space 73. This port 75 is connected to either the atmosphere or a vacuum suction pump 77 via a three-port two-position solenoid valve 76. When the solenoid valve 76 is at the first position 76A, the inside of the sealed space 73 is communicated with the atmosphere via the port 75 and the solenoid valve 76, but when at the second position 76B, vacuum suction is performed through the port 75 and the solenoid valve 76. It is connected to a pump 77. Further, a vacuum gauge 78 for measuring the degree of vacuum in the closed space 73 is provided.

【0047】上側容器67の内部には高張力アルミニウ
ム製の上側吸着ブロック(保持機構)81の保持部81
aが配置されている。保持部81aには上方に延びる軸
部81bが連結されており、この軸部81bは上側容器
67に形成された挿通孔67aを通って上側容器67の
外部に突出している。挿通孔67aには密閉空間73を
シールするためのシールゴム83Aが取り付けられてい
る。上側容器67から突出する軸部81bの端部には水
平方向延びるリンク板84Aの一端が連結されている。
このリンク板84Aの他端には上側容器67に固定され
たエアシリンダ(固定機構)86のロッド86aが連結
されている。上記上側吸着ブロック81の上側容器67
から突出した部分及びリンク板84Aが本発明における
大気圧作用部を構成している。また、保持部81aには
基板を位置決めするための櫛歯状突起87Aが設けられ
ている。
A holding portion 81 of an upper suction block (holding mechanism) 81 made of high-strength aluminum is provided inside the upper container 67.
a is arranged. A shaft portion 81b extending upward is connected to the holding portion 81a, and the shaft portion 81b projects outside the upper container 67 through an insertion hole 67a formed in the upper container 67. A seal rubber 83A for sealing the sealed space 73 is attached to the insertion hole 67a. One end of a horizontally extending link plate 84A is connected to an end of the shaft portion 81b protruding from the upper container 67.
The other end of the link plate 84A is connected to a rod 86a of an air cylinder (fixing mechanism) 86 fixed to the upper container 67. Upper container 67 of the upper suction block 81
And the link plate 84A constitute the atmospheric pressure acting portion in the present invention. The holding portion 81a is provided with a comb-like projection 87A for positioning the substrate.

【0048】図8(A)に示すように、上側吸着ブロッ
ク81の下面側には基板のスタンパ溝62と対応する位
置に、ウレタンゴム製の環状の弾性体89が装着されて
いる。この弾性体89の硬度はショア硬さで3°〜8°
程度、好ましくは5°である。また、弾性体89の寸法
は、例えば幅8mm、厚さ3mmで、上側吸着ブロック
81の下面から0.05〜1mm程度突出している。
As shown in FIG. 8A, an annular elastic body 89 made of urethane rubber is mounted on the lower surface side of the upper suction block 81 at a position corresponding to the stamper groove 62 of the substrate. The hardness of this elastic body 89 is 3 ° to 8 ° in Shore hardness.
Degree, preferably 5 °. The size of the elastic body 89 is, for example, 8 mm in width and 3 mm in thickness, and protrudes from the lower surface of the upper suction block 81 by about 0.05 to 1 mm.

【0049】上側吸着ブロック81と同様に、下側容器
68の内部には高張力アルミニウム製の下側吸着ブロッ
ク82の保持部82aが配設されている。保持部82a
には下方に延びる軸部82bが連結されており、この軸
部82bは下側容器68に形成された挿通孔68aを通
って下側容器68の外部に突出している。挿通孔68a
にはシールゴム83Bが取り付けられている。下側容器
68から突出する軸部82bの端部には水平方向に延び
るリンク板84Bの一端が連結されている。このリング
板84Bの他端には下側容器68に固定されたエアシリ
ンダ90のロッド90aが連結されている。また、保持
部82aには基板を位置決めするための櫛歯状突起87
Bが設けられている。
Similarly to the upper suction block 81, a holding portion 82a of a lower suction block 82 made of high-strength aluminum is provided inside the lower container 68. Holder 82a
Is connected to a shaft 82b extending downward, and the shaft 82b projects outside the lower container 68 through an insertion hole 68a formed in the lower container 68. Insertion hole 68a
Is provided with a seal rubber 83B. One end of a link plate 84B extending in the horizontal direction is connected to an end of the shaft portion 82b protruding from the lower container 68. The other end of the ring plate 84B is connected to a rod 90a of an air cylinder 90 fixed to the lower container 68. The holding portion 82a has a comb-like projection 87 for positioning the substrate.
B is provided.

【0050】上記上側及び下側吸着ブロック81,82
は、それぞ上側及び下側容器67,68に対して上下動
可能であり、この上下動により上側及び下側吸着ブロッ
ク81,82の保持部81a,82aが互いに近接及び
離反する方向に移動する。
The upper and lower suction blocks 81, 82
Can move up and down with respect to the upper and lower containers 67 and 68, respectively, and the up and down movement causes the holding portions 81a and 82a of the upper and lower suction blocks 81 and 82 to move toward and away from each other. .

【0051】上記上側及び下側吸着ブロック81,82
の保持部81a,82aには複数の吸着孔81c,82
cが設けられており、各吸着孔81c,82cは軸部8
1b,82bに形成されたエア流路81d,82dの一
端側に連通している。また、エア流路81d,82dの
他端側は3ポート2位置型の電磁弁92,93を介して
大気と真空吸引ポンプ94のいずれか一方に連通され
る。電磁弁92,93が第1位置92A,93Aにあれ
ば吸着孔81c,82cはエア流路81d,82d及び
電磁弁92,93を介して大気に連通されるが、第2位
置92B,93Bにあれば吸着孔81c,82cはエア
流路81d,82d及び電磁弁92,93を介して真空
吸引ポンプ94に連通される。従って、保持部81a,
82a上の基板は位置決め突起87A,87Bにより位
置決めされ、真空吸引ポンプ94の吸引力により吸着保
持される。
The upper and lower suction blocks 81, 82
The holding portions 81a, 82a have a plurality of suction holes 81c, 82c.
c are provided, and each of the suction holes 81 c and 82 c is
It communicates with one end side of air flow paths 81d and 82d formed in 1b and 82b. The other ends of the air passages 81d and 82d are communicated with either the atmosphere or a vacuum suction pump 94 via three-port two-position solenoid valves 92 and 93. When the solenoid valves 92 and 93 are located at the first positions 92A and 93A, the suction holes 81c and 82c are communicated with the atmosphere via the air flow paths 81d and 82d and the solenoid valves 92 and 93, but are moved to the second positions 92B and 93B. If so, the suction holes 81c and 82c are communicated with the vacuum suction pump 94 via the air flow paths 81d and 82d and the solenoid valves 92 and 93. Therefore, the holding portions 81a,
The substrate on 82a is positioned by positioning projections 87A and 87B, and is suction-held by the suction force of vacuum suction pump 94.

【0052】接合装置36のコントローラ95は、エア
シリンダ72,86,90、電磁弁92,93,76
B、及び真空吸引ポンプ77,94の動作を制御する。
The controller 95 of the joining device 36 includes air cylinders 72, 86, 90, solenoid valves 92, 93, 76.
B and the operation of the vacuum suction pumps 77 and 94 are controlled.

【0053】次に、接合装置36の動作(接合工程3
2)について説明する。まず、図3に示すように真空容
器69の上側容器67を上方位置として真空容器69を
開放した状態で、上記接着剤膜形成装置35により未硬
化の接着剤の膜65を形成済みの第1基板2を真空容器
69内に搬入し、上側吸着ブロック81の保持部81a
に吸着保持する。また、第2基板3を真空容器69内に
搬入し、下側吸着ブロック82の保持部82aに吸着保
持する。具体的には、第1及び第2基板2,3を保持部
81a,81bに配置して、電磁弁92,93を第2位
置92B,93Bに切り換え、真空吸引ポンプ94の吸
引力で吸着する。
Next, the operation of the joining device 36 (joining step 3)
2) will be described. First, as shown in FIG. 3, in a state where the upper container 67 of the vacuum container 69 is at the upper position and the vacuum container 69 is opened, the first uncured adhesive film 65 is formed by the adhesive film forming device 35. The substrate 2 is carried into the vacuum container 69, and the holding portion 81a of the upper suction block 81 is held.
Hold by suction. Further, the second substrate 3 is carried into the vacuum container 69 and is suction-held by the holding portion 82 a of the lower suction block 82. Specifically, the first and second substrates 2 and 3 are disposed on the holding portions 81a and 81b, the electromagnetic valves 92 and 93 are switched to the second positions 92B and 93B, and the suction is performed by the suction force of the vacuum suction pump 94. .

【0054】次に、図6に示すようにシリンダ72で上
側容器67を下方位置に移動させて真空容器69を閉鎖
する。その後、電磁弁76を第1位置76Aから第2位
置76Bに切り換えて、密閉空間73内を真空吸引ポン
プ77により真空排気する。このとき上側及び下側吸着
ブロック81,82の保持部81a,82aは負圧下に
あり、軸部81b,82bの真空容器69から突出した
部分及びリンク板84A,84Bには大気圧が作用す
る。従って、この圧力差により、上側及び下側吸着ブロ
ック81,82には、図3及び図6において矢印E1,
E2で示すように、互いに接近する方向の力が作用す
る。しかし、作動状態にあるエアシリンダ86,90が
この力に抗しているので、上側及び下側吸着ブロック8
1,82は上側及び下側容器67,68に対して移動せ
ず、保持部81a,81bに吸着保持された第1及び第
2基板2,3は間隔をあけて対向した状態を維持してい
る。上記圧力差による力E1,E2に抗するためには、
エアシリンダ86,90を少なくとも1気圧以上の圧力
に保持しておく必要がある。
Next, as shown in FIG. 6, the upper container 67 is moved to the lower position by the cylinder 72, and the vacuum container 69 is closed. Thereafter, the electromagnetic valve 76 is switched from the first position 76A to the second position 76B, and the inside of the sealed space 73 is evacuated by the vacuum suction pump 77. At this time, the holding portions 81a and 82a of the upper and lower suction blocks 81 and 82 are under negative pressure, and the atmospheric pressure acts on the portions of the shaft portions 81b and 82b protruding from the vacuum container 69 and the link plates 84A and 84B. Therefore, due to this pressure difference, the upper and lower suction blocks 81 and 82 have arrows E1 and E1 in FIGS.
As indicated by E2, forces approaching each other act. However, since the air cylinders 86, 90 in the operating state resist this force, the upper and lower suction blocks 8
The first and second substrates 1 and 82 do not move with respect to the upper and lower containers 67 and 68, and the first and second substrates 2 and 3 held by suction by the holding units 81a and 81b maintain a state where they face each other with an interval. I have. In order to resist the forces E1 and E2 due to the pressure difference,
It is necessary to keep the air cylinders 86, 90 at a pressure of at least one atmosphere.

【0055】次に、上記真空度計78で計測された密閉
空間73内の真空度が所定の値に達すると、エアシリン
ダ86,90を非作動状態に切り換えて、上記力E1,
E2に対する保持を解除する。その結果、図7に示すよ
うに、上側及び下側吸着ブロック81,82が圧力差に
より密閉空間73側へ引き込まれて保持部81a,81
bが互いに接近する方向に移動し、第2基板3が第1基
板2に対して押し付けられる。なお、エアシリンダ8
6,90のうちいずれか一方のみを非作動状態として、
上記力E1,E2のいずれか一方に対する保持のみを解
除してもよい。このように、接合装置36では、真空雰
囲気にある密閉空間73内で、予め接着剤8の膜65を
形成した第1基板2に第2基板3を接合するため、接着
剤中の気泡の残留を効果的に防止することができる。
Next, when the degree of vacuum in the closed space 73 measured by the vacuum gauge 78 reaches a predetermined value, the air cylinders 86 and 90 are switched to a non-operating state, and the forces E1,
Release the hold on E2. As a result, as shown in FIG. 7, the upper and lower suction blocks 81, 82 are drawn toward the closed space 73 by the pressure difference, and are held by the holding portions 81a, 81.
b move toward each other, and the second substrate 3 is pressed against the first substrate 2. The air cylinder 8
Only one of 6, 90 is deactivated,
Only the holding of one of the forces E1 and E2 may be released. As described above, in the bonding device 36, since the second substrate 3 is bonded to the first substrate 2 on which the film 65 of the adhesive 8 has been formed in advance in the sealed space 73 in a vacuum atmosphere, air bubbles in the adhesive remain. Can be effectively prevented.

【0056】スタンパ溝62の近傍には基板成形時に発
生するバリが残留していることか゛多い。しかし、上側
吸着ブロック81の保持部81aに弾性体89を装着し
ているため、第1及び第2基板2,3の接合時には、図
8(A)及び図8(B)に示すように第1基板2のスタ
ンパ溝62の部分が第2基板2のスタンパ溝62の部分
に押し付けられる。そのため、第1基板2や第2基板3
のスタンパ溝62にバリが存在していた場合でも、この
バリは他方の基板に押し付けられて潰れる。よって、バ
リが存在することによる第1及び第2基板2,3の反り
の発生を防止することができる、
In many cases, burrs generated during the molding of the substrate remain in the vicinity of the stamper groove 62. However, since the elastic body 89 is mounted on the holding portion 81a of the upper suction block 81, when the first and second substrates 2 and 3 are joined, as shown in FIG. 8A and FIG. The stamper groove 62 of the first substrate 2 is pressed against the stamper groove 62 of the second substrate 2. Therefore, the first substrate 2 and the second substrate 3
Even when burrs are present in the stamper groove 62, the burrs are pressed against the other substrate and crushed. Therefore, it is possible to prevent the first and second substrates 2 and 3 from warping due to the presence of burrs.

【0057】上記第1及び第2基板2,3の接合完了
後、電磁弁76を第1位置76Aに切り換えて密閉空間
73内を大気開放する。また、電磁弁92を第1位置9
2Aに切り換えて上側吸着ブロック81による第1基板
2の吸着保持を解除する。この状態で、エアシリンダ7
2により上側容器67を上昇位置に移動させて真空容器
69を開放する。さらに、電磁弁76を第1位置76A
に切り換えて下側吸着ブロック82による第2基板3の
吸着保持を解除し、第1及び第2基板2,3と未硬化の
接着剤層4からなる光ディスク1を接合装置36から搬
出する。
After the joining of the first and second substrates 2 and 3 is completed, the electromagnetic valve 76 is switched to the first position 76A to open the closed space 73 to the atmosphere. Also, the solenoid valve 92 is moved to the first position 9.
Switching to 2A, the suction holding of the first substrate 2 by the upper suction block 81 is released. In this state, the air cylinder 7
The upper container 67 is moved to the raised position by 2 to open the vacuum container 69. Further, the solenoid valve 76 is moved to the first position 76A.
To release the suction holding of the second substrate 3 by the lower suction block 82, and unload the optical disk 1 including the first and second substrates 2 and 3 and the uncured adhesive layer 4 from the bonding device 36.

【0058】上記接合装置36から搬出された光ディス
ク1に紫外線発生装置100により紫外光101を照射
して第1及び第2基板2,3間の接着剤を硬化させる。
その結果、第1及び第2基板2,3が固着され、光ディ
スク1が完成する。このように接合装置36において真
空雰囲気中で第1及び第2基板2,3を貼り合わせた後
は、これらを回転させることなく接着剤を硬化させるた
め、記録層7に作用する負荷を低減してピンホールの発
生を防止することができる。
The optical disk 1 carried out of the bonding device 36 is irradiated with ultraviolet light 101 by the ultraviolet light generator 100 to cure the adhesive between the first and second substrates 2 and 3.
As a result, the first and second substrates 2 and 3 are fixed, and the optical disc 1 is completed. After the first and second substrates 2 and 3 are bonded in a vacuum atmosphere in the bonding device 36 in this manner, the adhesive is cured without rotating them, so that the load acting on the recording layer 7 is reduced. Pinholes can be prevented.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の方法及び装置では、基板を回転させるとにより接着剤
を拡散させて一方の基板の一面に接着剤の膜を形成す
る。よって、2枚の基板を貼り合わせた後にこれらを回
転させて接着剤を拡散させる従来の方法と比較して、基
板の中央付近における接着剤の厚みの薄化を抑制し、接
着剤の膜厚分布を均一化することができる。また、一方
の基板のスタンパ溝に対応する部分を、弾性体により他
方の基板に押し付けることにより、バリが押え付けられ
るため、基板の反りの発生を防止することができる。こ
れら膜厚分布の均一化と、反りの抑制により、光ディス
クのディスク面の傾き角度を高精度で維持することがで
きる。
As is apparent from the above description, in the method and apparatus of the present invention, the adhesive is diffused by rotating the substrate to form an adhesive film on one surface of one of the substrates. Therefore, compared to the conventional method in which the two substrates are bonded and then rotated to rotate the adhesive, the thinning of the adhesive near the center of the substrate is suppressed, and the thickness of the adhesive is reduced. The distribution can be made uniform. Further, since the portion corresponding to the stamper groove of one substrate is pressed against the other substrate by the elastic body, the burrs are pressed, so that the occurrence of the warpage of the substrate can be prevented. By making these film thickness distributions uniform and suppressing warpage, the tilt angle of the disk surface of the optical disk can be maintained with high accuracy.

【0060】また、2枚の基板を接合する前に接着剤を
拡散させ、かつ2枚の基板を貼り合わせた後は、これら
を回転させることなく接着剤を硬化させるため、記録層
に作用する負荷を低減することができ、記録層の剥離に
起因するピンホールの剥離を防止することができる。
Further, before bonding the two substrates, the adhesive is diffused, and after bonding the two substrates, the adhesive is cured without rotating them, so that it acts on the recording layer. The load can be reduced, and peeling of the pinhole due to peeling of the recording layer can be prevented.

【0061】さらに、真空排気した状態で2枚の基板を
接合するため、接着剤中の気泡の残留を効果的に防止す
ることができる。
Further, since the two substrates are joined in a state of being evacuated, the bubbles in the adhesive can be effectively prevented from remaining.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施形態に係る光ディスク用基板の
貼り合わせ方法を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a method for bonding an optical disk substrate according to an embodiment of the present invention.

【図2】 接着剤膜形成装置を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view showing an adhesive film forming apparatus.

【図3】 接合装置を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing a joining device.

【図4】 接着剤の供給及び膜形成を説明するための基
板の平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a substrate for explaining supply of an adhesive and film formation.

【図5】 (A),(B),(C)は接着剤膜形成装置
における回転数制御の例を示す線図である。
FIGS. 5A, 5B, and 5C are diagrams illustrating an example of rotation speed control in an adhesive film forming apparatus.

【図6】 上側真空容器と下側真空容器が閉鎖された状
態を示す接合装置の部分断面図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view of the joining device showing a state where the upper vacuum container and the lower vacuum container are closed.

【図7】 第1及び第2基板が接合された状態を示す接
合装置の部分断面図である。
FIG. 7 is a partial cross-sectional view of the bonding apparatus showing a state where the first and second substrates are bonded.

【図8】 (A)は接合前の第1及び第2基板を示す接
合装置の部分拡大断面図、(B)は接合後の第1及び第
2基板を示す接合装置の部分拡大断面図である。
FIG. 8A is a partially enlarged cross-sectional view of the joining device showing the first and second substrates before joining, and FIG. 8B is a partially enlarged sectional view of the joining device showing the first and second substrates after joining. is there.

【図9】 記録・再生型の光ディスクを示す斜視図であ
る。
FIG. 9 is a perspective view showing a recording / reproducing optical disk.

【図10】 図9の部分Xの拡大断面図である。FIG. 10 is an enlarged sectional view of a portion X in FIG. 9;

【図11】 (A),(B),(C),(D)は従来の
基板の貼り合わせ方法を示す概略図である。
FIGS. 11A, 11B, 11C, and 11D are schematic views showing a conventional method of bonding substrates.

【図12】 接着剤層の膜厚分布の不均一化を説明する
ための光ディスクの断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view of the optical disc for explaining non-uniformity of the film thickness distribution of the adhesive layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ディスク 2 第1基板 3 第2基板 4 接着剤層 5 色素膜 6 反射膜 7 記録層 8 接着剤 25 反り 27 ピンホール 28 気泡 35 接着剤膜形成装置 36 接合装置 41 スピンプレート 42 位置決め突起 43 吸着孔 44 エア流路 50 接着剤供給機構 52 ノズル 54 ガス供給源 58 フード 62 スタンパ溝 65 膜 67 上側容器 68 下側容器 69 真空容器 73 密閉空間 81 上側吸着ブロック 82 下側吸着ブロック 89 弾性体 L 軸線 Reference Signs List 1 optical disk 2 first substrate 3 second substrate 4 adhesive layer 5 dye film 6 reflective film 7 recording layer 8 adhesive 25 warp 27 pinhole 28 bubble 35 adhesive film forming device 36 bonding device 41 spin plate 42 positioning protrusion 43 suction Hole 44 Air flow path 50 Adhesive supply mechanism 52 Nozzle 54 Gas supply source 58 Food 62 Stamper groove 65 Membrane 67 Upper container 68 Lower container 69 Vacuum container 73 Sealed space 81 Upper suction block 82 Lower suction block 89 Elastic body L axis

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B05D 7/24 301 B05D 7/24 301P B29C 65/54 B29C 65/54 // B29K 101:10 B29K 101:10 B29L 11:00 B29L 11:00 17:00 17:00 Fターム(参考) 4D075 AC41 AC64 AC92 AC94 BB05Z BB42Z BB46Z BB56Y BB56Z CA12 CA48 DA08 DB48 DC27 EA21 EA35 4F042 AA02 AA10 AB01 BA05 BA25 BA27 DB41 EB08 EB29 4F211 AA28 AA44 AG03 AH79 TA03 TC04 TC09 TD11 TH24 TJ22 TJ29 TN45 TN63 TQ01 TW34 5D121 AA07 EE22 EE23 EE24 FF03 FF04 FF09 FF11 FF18 JJ03 JJ09 . Front page continued (51) Int.Cl 7 identification marks FI Theme coat Bu (Reference) B05D 7/24 301 B05D 7/24 301P B29C 65/54 B29C 65/54 // B29K 101: 10 B29K 101: 10 B29L 11 : 00 B29L 11:00 17:00 17:00 F term (reference) 4D075 AC41 AC64 AC92 AC94 BB05Z BB42Z BB46Z BB56Y BB56Z CA12 CA48 DA08 DB48 DC27 EA21 EA35 4F042 AA02 AA10 AB01 BA05 BA25 BA27 DB41 EB08 A03A03A03A03A03A03A TC04 TC09 TD11 TH24 TJ22 TJ29 TN45 TN63 TQ01 TW34 5D121 AA07 EE22 EE23 EE24 FF03 FF04 FF09 FF11 FF18 JJ03 JJ09

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一方が記録層を備える光ディ
スク用の2枚の基板を接着剤により貼り合わせる方法で
あって、 上記2枚の基板の一方の基板を第1の回転速度で回転さ
せつつ、その一面に接着剤を塗布し、 上記一方の基板を上記第1の回転速度より高速である第
2の回転速度で回転させて接着剤を拡散させ、上記一方
の基板の一面に未硬化の接着剤の膜を形成し、 上記一方の基板の一面に他方の基板を接合し、 上記接着剤を硬化させて上記2枚の基板を固着させる、 光ディスク用の基板の貼り合わせ方法。
1. A method of bonding at least one of two substrates for an optical disk having a recording layer with an adhesive, wherein one of the two substrates is rotated at a first rotation speed. An adhesive is applied to one surface thereof, and the one substrate is rotated at a second rotation speed that is higher than the first rotation speed to diffuse the adhesive, and the uncured adhesive is bonded to one surface of the one substrate. A method of bonding a substrate for an optical disk, comprising forming a film of an agent, bonding the other substrate to one surface of the one substrate, and curing the adhesive to fix the two substrates.
【請求項2】 上記第1の回転速度での接着剤の塗布完
了後、予め定めた第1の時間だけ上記第1の回転速度を
維持した後、上記一方の基板の回転速度を上記第2の回
転速度まで加速させる、請求項1に記載の方法
2. After the application of the adhesive at the first rotation speed is completed, after maintaining the first rotation speed for a predetermined first time, the rotation speed of the one substrate is changed to the second rotation speed. 2. The method according to claim 1, wherein the rotation speed is increased to the rotation speed.
【請求項3】 上記第1の時間の経過後、上記第1の回
転速度よりも高速であって上記第2の回転速度よりも低
速である第3の速度まで、上記一方の基板の回転速度を
加速させ、 予め定めた第2の所定時間だけ上記第3の回転速度を維
持し、 上記第2の所定時間の経過後、上記一方の基板の回転速
度を上記第2の回転速度まで加速させる、請求項2に記
載の方法。
3. After the lapse of the first time, the rotation speed of the one substrate is increased to a third speed that is higher than the first rotation speed and lower than the second rotation speed. Is accelerated, and the third rotation speed is maintained for a predetermined second predetermined time. After the second predetermined time has elapsed, the rotation speed of the one substrate is accelerated to the second rotation speed. The method of claim 2.
【請求項4】 上記第1の回転速度は30rpm以上6
0rpm以下であり、 上記第2の回転速度は3000rpm以上4000rp
m以下であり、 上記第3の回転速度は1000rpm以上2000rp
m以下である、請求項3に記載の方法。
4. The first rotation speed is not less than 30 rpm and not more than 6 rpm.
0 rpm or less, and the second rotation speed is 3000 rpm or more and 4000 rpm or less.
m or less, and the third rotation speed is not less than 1000 rpm and not more than 2000 rpm.
4. The method of claim 3, wherein m is less than or equal to m.
【請求項5】 少なくとも一方が記録層を備える光ディ
スク用の2枚の基板を接着剤により貼り合わせる方法で
あって、 一方の基板の一面に未硬化の接着剤の膜を形成し、 真空雰囲気中で、上記一方の基板の一面に他方の基板を
接合し、 接着剤を硬化させて上記2枚の基板を固着させる、 光ディスク用の基板の貼り合わせ方法。
5. A method of bonding at least one of two substrates for an optical disk having a recording layer with an adhesive, comprising: forming an uncured adhesive film on one surface of one of the substrates; And bonding the other substrate to one surface of the one substrate and curing the adhesive to fix the two substrates together.
【請求項6】 上記一方の基板の一面に他方の基板を接
合する際に、上記一方の基板のスタンパ溝に対応する部
分を、弾性体により他方の基板に対して押え付ける、請
求項5に記載の方法。
6. The method according to claim 5, wherein, when the other substrate is joined to one surface of the one substrate, a portion corresponding to a stamper groove of the one substrate is pressed against the other substrate by an elastic body. The described method.
【請求項7】 上記弾性体の硬さはショア硬さで3°〜
8°である、請求項6に記載の方法。
7. The elastic body has a Shore hardness of 3 ° or more.
7. The method of claim 6, wherein the angle is 8 degrees.
【請求項8】 少なくとも一方が記録層を備える光ディ
スク用の2枚の基板を接着剤により貼り合わせる方法で
あって、 上記2枚の基板のうち一方の基板を第1の回転速度で回
転させつつ、その一面に接着剤を塗布し、 上記一方の基板を上記第1の回転速度より高速である第
2の回転速度で回転させて接着剤を拡散させ、上記一方
の基板の一面に未硬化の接着剤の膜を形成し、 真空雰囲気中で、上記一方の基板の一面に他方の基板を
接合し、 接着剤を硬化させて上記2枚の基板を固着させる、 光ディスク用の基板の貼り合わせ方法。
8. A method in which at least one of two substrates for an optical disk having a recording layer is bonded with an adhesive, wherein one of the two substrates is rotated at a first rotation speed. Applying an adhesive to one surface thereof, rotating the one substrate at a second rotation speed higher than the first rotation speed to diffuse the adhesive, and curing the uncured one surface of the one substrate. Forming a film of an adhesive, bonding the other substrate to one surface of the one substrate in a vacuum atmosphere, and curing the adhesive to fix the two substrates together; .
【請求項9】 上記接着剤は紫外線反応硬化型接着剤で
あり、上記一方の基板の一面に上記他方の基板を接合し
た後、紫外光を照射して上記接着剤を硬化して上記2枚
の基板を固着させる、請求項8に記載の方法。
9. The adhesive is an ultraviolet-ray-curable adhesive. After bonding the other substrate to one surface of the one substrate, the adhesive is cured by irradiating ultraviolet light to form the two substrates. The method according to claim 8, wherein the substrate is fixed.
【請求項10】 光ディスク用の基板に接着剤の膜を形
成するための接着剤膜形成装置であって、 その上面に基板を保持する保持機構と、 この保持機構を回転駆動し、上記基板を水平面において
回転させる回転駆動機構と、 上記保持機構に保持された基板に接着剤を供給する接着
剤供給機構とを備え、 上記回転駆動機構により保持機構を第1の回転速度で回
転させつつ、接着剤供給機構により基板の一面に接着剤
を塗布した後、 上記回転駆動機構により保持機構を上記第1の回転速度
より高速である第2の回転速度で回転させて接着剤を拡
散させ、上記一方の基板の一面に未硬化の接着剤の膜を
形成する、接着剤膜形成装置。
10. An adhesive film forming apparatus for forming an adhesive film on a substrate for an optical disk, comprising: a holding mechanism for holding the substrate on an upper surface thereof; A rotation drive mechanism for rotating in a horizontal plane; and an adhesive supply mechanism for supplying an adhesive to the substrate held by the holding mechanism, wherein the rotation drive mechanism rotates the holding mechanism at a first rotation speed to form an adhesive. After applying an adhesive to one surface of the substrate by the agent supply mechanism, the holding mechanism is rotated by the rotation drive mechanism at a second rotation speed higher than the first rotation speed to diffuse the adhesive, An adhesive film forming apparatus for forming an uncured adhesive film on one surface of a substrate.
【請求項11】 上記第1の回転速度での接着剤の塗布
完了後、予め定めた第1の時間だけ上記第1の回転速度
を維持した後、上記基板の回転速度を上記第2の回転速
度まで加速させる、請求項10に記載の装置。
11. After the application of the adhesive at the first rotation speed is completed, the rotation speed of the substrate is maintained at the second rotation speed after maintaining the first rotation speed for a predetermined first time. The device according to claim 10, wherein the device is accelerated to a speed.
【請求項12】 上記第1の時間の経過後、上記第1の
回転速度よりも高速であって上記第2の回転速度よりも
低速である第3の速度まで、上記基板の回転速度を加速
させ、 予め定めた第2の所定時間だけ上記第3の回転速度を維
持し、 上記第2の所定時間の経過後、上記基板の回転速度を上
記第2の回転速度まで加速させる、請求項11に記載の
装置。
12. After a lapse of the first time, the rotation speed of the substrate is accelerated to a third speed that is higher than the first rotation speed and lower than the second rotation speed. 12. The method according to claim 11, wherein the third rotation speed is maintained for a second predetermined time, and the rotation speed of the substrate is accelerated to the second rotation speed after the second predetermined time has elapsed. An apparatus according to claim 1.
【請求項13】光ディスク用の2枚の基板を接合するた
めの接合装置であって、 密閉可能な容器と、 この容器内を真空排気する真空吸引機構と、 上記容器内に配置され、一方に未硬化の接着剤の膜が形
成された2枚の基板の一方を、これらが互いに対向する
ように保持する保持部と、上記容器外に配置された大気
圧作用部とを備え、上記容器内の2枚の基板が互いに接
近及び離反する方向にそれぞれ移動可能である、第1及
び第2の保持機構と、 上記第1及び第2の保持機構をそれぞれ容器に対して固
定する第1及び第2の固定機構とを備え、 上記容器内を真空排気機構により真空排気後に上記第1
及び第2の固定機構による固定を解除し、上記大気圧作
用部に作用する大気圧により、第1及び第2の保持機構
の保持を互いに接近させ、第1及び第2の保持機構の保
持部に保持された2枚の基板を接合する、接合装置。
13. A joining apparatus for joining two substrates for an optical disk, comprising: a sealable container; a vacuum suction mechanism for evacuating the container; and a vacuum suction mechanism disposed in the container. A holding unit for holding one of the two substrates on which the uncured adhesive film is formed so as to face each other; and an atmospheric pressure operating unit disposed outside the container, A first and a second holding mechanism, in which the two substrates are movable in directions of approaching and separating from each other, and a first and a second holding mechanism for fixing the first and the second holding mechanism to the container, respectively. A second fixing mechanism, and the first container is evacuated by the evacuation mechanism to the first container.
The fixing by the second fixing mechanism is released, and the holding of the first and second holding mechanisms is brought close to each other by the atmospheric pressure acting on the above-mentioned atmospheric pressure action part, and the holding parts of the first and second holding mechanisms are released. A joining device for joining two substrates held in the apparatus.
【請求項14】 上記第1及び第2の保持機構のうち、
少なくとも一方が上記基板のスタンパ溝に対応する部分
に弾性体を備える、請求項13に記載の装置。
14. The first and second holding mechanisms,
14. The apparatus according to claim 13, wherein at least one of the substrates includes an elastic body at a portion corresponding to the stamper groove.
【請求項15】 少なくとも一方が記録層を備える光デ
ィスク用の2枚の基板を紫外光硬化型の接着剤により貼
り合わせる貼り合わせ装置でって、 その上面に基板を保持する保持機構と、この保持機構を
回転駆動し、上記基板を水平面において回転させる回転
駆動機構と、上記保持機構に保持された基板の一面に接
着剤を供給する接着剤供給機構とを備え、上記回転駆動
機構により保持機構を第1の回転速度で回転させつつ、
接着剤供給機構により基板の一面に接着剤を塗布した
後、上記回転駆動機構により保持機構を上記第1の回転
速度より高速である第2の回転速度で回転させて、上記
基板の一面に接着剤の膜を形成する、接着剤膜形成装置
と、 密閉可能な容器と、この容器内を真空排気する真空吸引
機構と、上記容器内に配置され、一方に未硬化の接着剤
の膜が形成された2枚の基板の一方を、これらが互いに
対向するように保持する保持部と、上記容器外に配置さ
れた大気圧作用部とを備え、上記容器内の2枚の基板が
互いに接近及び離反する方向にそれぞれ移動可能であ
る、第1及び第2の保持機構と、上記第1及び第2の保
持機構をそれぞれ容器に対して固定する第1及び第2の
固定機構とを備え、上記容器内を真空排気機構により真
空排気後に上記第1及び第2の固定機構による固定を解
除し、上記大気圧作用部に作用する大気圧により、第1
及び第2の保持機構の保持を互いに接近させ、第1及び
第2の保持機構の保持部に保持された2枚の基板を接着
剤により接合する、基板接合装置と、 この基板接合装置により貼り合わせた2枚の基板に紫外
光を照射し、接着剤を硬化させる紫外線発生装置とを備
える光ディスク用の基板の貼り合わせ装置。
15. A laminating apparatus for laminating two substrates for an optical disk at least one of which has a recording layer with an ultraviolet-curable adhesive, a holding mechanism for holding the substrate on the upper surface thereof, and a holding mechanism for holding the substrate. A mechanism for rotating the mechanism, a rotation drive mechanism for rotating the substrate in a horizontal plane, and an adhesive supply mechanism for supplying an adhesive to one surface of the substrate held by the holding mechanism, wherein the rotation drive mechanism controls the holding mechanism. While rotating at the first rotation speed,
After the adhesive is applied to one surface of the substrate by the adhesive supply mechanism, the holding mechanism is rotated at a second rotation speed, which is higher than the first rotation speed, by the rotation drive mechanism to bond the substrate to the one surface of the substrate. An adhesive film forming device for forming a film of the agent, a sealable container, a vacuum suction mechanism for evacuating the inside of the container, and an uncured adhesive film are formed on one of the containers. A holding portion for holding one of the two substrates facing each other, and an atmospheric pressure acting portion disposed outside the container, wherein the two substrates in the container approach each other and A first and a second holding mechanism, each of which is movable in a separating direction, and a first and a second fixing mechanism for respectively fixing the first and the second holding mechanism to the container; After the chamber is evacuated by the evacuation mechanism, The fixing by the first and second fixing mechanisms is released, and the first pressure is released by the atmospheric pressure acting on the atmospheric pressure action section.
And a substrate bonding apparatus for causing the holding of the second holding mechanism to approach each other and bonding the two substrates held by the holding portions of the first and second holding mechanisms with an adhesive. An apparatus for bonding substrates for optical disks, comprising: an ultraviolet light generator for irradiating the combined two substrates with ultraviolet light to cure the adhesive.
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