JP2002318547A - Method of manufacturing display panel - Google Patents

Method of manufacturing display panel

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JP2002318547A
JP2002318547A JP2001125385A JP2001125385A JP2002318547A JP 2002318547 A JP2002318547 A JP 2002318547A JP 2001125385 A JP2001125385 A JP 2001125385A JP 2001125385 A JP2001125385 A JP 2001125385A JP 2002318547 A JP2002318547 A JP 2002318547A
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JP
Japan
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substrates
display panel
sealant
outer periphery
along
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JP2001125385A
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Japanese (ja)
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Yukiyasu Sugano
幸保 菅野
Yasushi Takagi
泰 高木
Hiroaki Matsuoka
博昭 松岡
Hiroshi Tomita
博 富田
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Sony Corp
ST Liquid Crystal Display Corp
Original Assignee
Sony Corp
ST Liquid Crystal Display Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the weight and thickness of a display panel without lowering productivity. SOLUTION: The display panel is formed by first performing a panel forming process step in order to manufacture the display panel, flatly shifting a pair of substrates 1 and 2 having a prescribed thickness by a prescribed amount from each other, superposing these substrates and joining a pair of the substrates 1 and 2 across a prescribed spacing in the state of providing the outer peripheries of both substrates 1 and 2 with a step ST along the outer peripheries. In succession, an outer periphery sealing process step is performed and a sealant is supplied to the step ST, by which the display panel of the interior is hermetically closed along the outer peripheries of both substrates 1 and 2. The chemical treatment process step is thereafter performed and the display panel is immersed into a liquid chemical in the state that the panel is protected by a sealant and the surfaces of the substrates 1 and 2 are removed by the specified amount by chemical reaction, thereby, the thickness is reduced. When a pair of the substrates are bonded to each other by shifting the substrates from each other, the since step ST is formed along the outer periphery this part can be stably and easily coated with a sealant by a dispenser 50, The sealant with which the step ST is coated along the same infiltrates the spacing between both substrates 1 and 2 by capillarity and the perfect outer peripheries seal can be formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は表示パネルの製造方
法に関する。より詳しくは、液晶ディスプレイなどで代
表されるガラス基板を用いたフラット型の表示パネルの
薄型化及び軽量化技術に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a display panel. More specifically, the present invention relates to a technique for reducing the thickness and weight of a flat display panel using a glass substrate represented by a liquid crystal display or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、モバイル用途などで液晶ディスプ
レイなどの表示パネルに対する需要の増加とともに、表
示パネルに対する薄型化及び軽量化への要求が高まって
いる。表示パネルにおいて、厚さと重さの点で大きなウ
エイトを占めているのがガラス基板である。従って、表
示パネルの薄型化及び軽量化には、ガラス基板の薄型化
が必要である。大型の液晶ディスプレイに着目した場
合、ガラス基板の厚さは、近年1.1mmから0.7m
mに薄型化されている。この場合には、単にガラス基板
の厚みを薄くして組立工程に投入するだけで済み、生産
ラインの大きな変更は要求されなかった。基板サイズに
ついても、0.7mm厚では、対角寸法が1mの表示パ
ネルまでは対応可能と考えられている。
2. Description of the Related Art Recently, demands for display panels such as liquid crystal displays for mobile applications have been increasing, and demands for thinner and lighter display panels have been increasing. In a display panel, a glass substrate occupies a large weight in terms of thickness and weight. Therefore, in order to reduce the thickness and weight of the display panel, it is necessary to reduce the thickness of the glass substrate. When focusing on a large liquid crystal display, the thickness of the glass substrate has recently been 1.1 to 0.7 m.
m. In this case, it is sufficient to simply reduce the thickness of the glass substrate and put it into the assembling process, and no major change in the production line was required. Regarding the substrate size, it is considered that a 0.7 mm thick substrate can support a display panel having a diagonal dimension of 1 m.

【0003】しかしながら、モバイル用途として、更な
る基板の薄型化に対する要求が強まっている。次段階の
基板厚みの目標としては、0.5mmが想定されてい
る。0.5mmまでガラス基板を薄くすると、撓みが大
きくなり、例えば600mm×700mmのサイズのガ
ラス基板を考えた場合、現状の生産技術及び搬送技術で
は対応が不可能である。この為、基板のサイズを400
mm×500mmまで縮小して生産ラインを再構築する
ことが考えられる。しかしながら、基板サイズを縮小す
ると、一枚当たりから取り出される最終製品としての液
晶パネルの取り個数が少なくなる為、生産性が大きく落
ちることになる。又、一旦基板を厚いまま表示パネルに
組立て、その後にガラス基板の表面を機械的に研磨する
ことで、表示パネルの薄型化を図る試みもある。しかし
ながら、この機械的な研磨方式では、大型の基板を組立
てた後、複数個のパネルに切り出した後で、個々のパネ
ル毎に機械研磨を掛ける為、やはり生産性が低下する。
However, there is an increasing demand for thinner substrates for mobile applications. The target of the substrate thickness in the next stage is assumed to be 0.5 mm. When the glass substrate is thinned to 0.5 mm, the deflection increases. For example, when a glass substrate having a size of 600 mm × 700 mm is considered, it is impossible to cope with the current production technology and transport technology. Therefore, the size of the substrate is 400
It is conceivable to reconstruct the production line by reducing the size to mm × 500 mm. However, when the size of the substrate is reduced, the number of liquid crystal panels to be taken out as a final product per one sheet is reduced, so that productivity is greatly reduced. There is also an attempt to reduce the thickness of the display panel by assembling the display panel once while keeping the substrate thick, and then mechanically polishing the surface of the glass substrate. However, in this mechanical polishing method, after assembling a large-sized substrate, cutting the substrate into a plurality of panels, and then performing mechanical polishing for each panel, the productivity also decreases.

【0004】機械的な研磨方式に代えて、化学処理によ
り表示パネルの薄型化を図る試みもある。具体的には、
厚いままの基板を用いて表示パネルを組み立て、その後
互いに貼り合わされた一対の基板を薬液に浸漬させ、化
学反応により基板表面を一定量除去する。例えば、ガラ
スをエッチングできるフッ酸(HF)からなる薬剤に、
ガラス基板を浸漬させることにより、比較的簡単に薄く
することが可能である。この方法だとバッチ式で処理で
きるので、一度に多数の基板を薄型化することが可能と
なり、生産性を低下させることなく表示パネルの薄型化
及び軽量化が可能である。
There has been an attempt to reduce the thickness of a display panel by a chemical treatment instead of a mechanical polishing method. In particular,
A display panel is assembled using the substrate that remains thick, and then a pair of substrates bonded to each other is immersed in a chemical solution, and a certain amount of the substrate surface is removed by a chemical reaction. For example, a chemical consisting of hydrofluoric acid (HF) that can etch glass,
By immersing the glass substrate, the thickness can be relatively easily reduced. According to this method, processing can be performed in a batch manner, so that a large number of substrates can be reduced in thickness at a time, and the display panel can be reduced in thickness and weight without reducing productivity.

【0005】ここで、本発明の背景を明らかにする為、
上述した化学処理方式を図面に基づき簡潔に説明する。
図7は、2枚の基板を貼り合わせて積層体0を組み立て
た状態を表わしている。ガラス基板の大きさは600m
m×720mmであり、例えばコーニング社製の173
7を使用することができる。二枚のガラス基板はシール
剤3により互いに接着されている。シール剤3で囲まれ
た部分は個々のパネルの表示領域70となる。化学処理
でガラス基板の肉厚を一定量除去した後、積層体0は表
示領域70毎に切断され、この例の場合は最終的に四個
の表示パネルが得られる。このシール剤3の塗布はディ
スペンサにより行なう為、自動制御用のプログラムを編
集し、閉じたパタンに沿ってシール剤3を塗布すること
は容易である。シール剤3はエポキシ樹脂など熱硬化性
の樹脂を用いている。
Here, in order to clarify the background of the present invention,
The above-described chemical treatment method will be briefly described with reference to the drawings.
FIG. 7 shows a state where the laminate 0 is assembled by bonding two substrates. The size of the glass substrate is 600m
m × 720 mm, for example, 173 manufactured by Corning Incorporated.
7 can be used. The two glass substrates are adhered to each other by a sealant 3. The portion surrounded by the sealant 3 becomes the display area 70 of each panel. After a certain amount of thickness of the glass substrate is removed by the chemical treatment, the laminate 0 is cut for each display area 70, and finally four display panels are obtained in this example. Since the application of the sealant 3 is performed by a dispenser, it is easy to edit a program for automatic control and apply the sealant 3 along a closed pattern. The sealing agent 3 uses a thermosetting resin such as an epoxy resin.

【0006】図8は、化学処理後の積層体を示す模式的
な断面図である。図示する様に、積層体0は一対の基板
1,2をシール剤3で貼り合わせた構造となっている。
ガラスからなる基板1,2を貼り合わせた後、積層体0
をHFの入った反応槽に浸漬させ、ガラス表面のエッチ
ングを行う。これにより、点線で示す様に、両基板1,
2の表面から肉厚が一定量だけ除去される。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing the laminate after the chemical treatment. As shown in the figure, the laminate 0 has a structure in which a pair of substrates 1 and 2 are bonded together with a sealant 3.
After bonding substrates 1 and 2 made of glass,
Is immersed in a reaction tank containing HF to etch the glass surface. As a result, as shown by the dotted lines, both substrates 1,
A certain amount of thickness is removed from the surface of No. 2.

【0007】エッチング処理後、大型基板を貼り合わせ
たパネルを、スクライブ及びブレークし、図9の様に表
示パネル10毎に切り出す。この時、表示パネル10の
表示領域70を囲んでいたシール剤3の一部を注入口の
ところで切り離す様にしている。ブレーク後、注入口か
ら液晶を注入する。
After the etching process, the panel on which the large-sized substrates are bonded is scribed and broken, and cut out into display panels 10 as shown in FIG. At this time, a part of the sealant 3 surrounding the display area 70 of the display panel 10 is cut off at the injection port. After the break, liquid crystal is injected from the injection port.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この様に、HFにガラ
ス基板を浸漬させることにより、比較的簡単に表示パネ
ルを薄くすることが可能である。しかしながら、この様
に一対のガラス基板を互いに貼り合わせて積層体とした
後、化学エッチングにより薄くする場合、HFなどのエ
ッチング薬液が積層体の間隙に毛細管現象で入り込まな
い様、積層体の外周をシール剤などで囲って内部の表示
パネルを保護する必要がある。その為、エッチング処理
に先立って積層体の外周をシールする工程が必要とな
る。この場合、表示パネルのシールと同時に、基板の外
周に沿ってシール剤をディスペンサで供給する方法が考
えられる。あるいは、一対の基板を貼り合わせて積層体
とした後、その周囲を接着剤などでシールする方法が考
えられる。
As described above, the display panel can be relatively easily thinned by immersing the glass substrate in HF. However, when a pair of glass substrates are bonded to each other to form a laminate and then thinned by chemical etching, the outer periphery of the laminate is prevented from entering into the gaps of the laminate by capillary action, such as HF. It is necessary to protect the internal display panel by enclosing it with a sealant or the like. Therefore, a step of sealing the outer periphery of the stacked body is required prior to the etching process. In this case, a method is conceivable in which a sealant is supplied by a dispenser along the outer periphery of the substrate simultaneously with the sealing of the display panel. Alternatively, a method in which a pair of substrates are laminated to form a laminate, and the periphery thereof is sealed with an adhesive or the like may be considered.

【0009】表示パネルのシールと同時に基板の外周部
にもシール剤をディスペンサで形成する場合、外周に対
するシール剤のディスペンスの時間が、タクトタイムや
製造設備に影響を与える。生産性を落とさずに外周シー
ルを形成しようとする場合、ディスペンサの台数を増や
す必要があるが、シール形成用のディスペンサは高価な
為設備費に負担がかかる。
When the sealant is formed on the outer periphery of the substrate by a dispenser simultaneously with the sealing of the display panel, the time of dispensing the sealant to the outer periphery affects the tact time and the manufacturing equipment. In order to form the outer peripheral seal without reducing the productivity, it is necessary to increase the number of dispensers, but the dispenser for forming the seal is expensive, so that the equipment cost is burdened.

【0010】又、一対の基板を貼り合わせた後外周保護
の為のシールを形成しようとする場合、各基板の端面に
対してシール剤を塗布することになるので、シール剤の
塗工方法が問題となる。手作業で対応するとなると、工
程の負担が大きくなる。又、ディスペンサでシール剤を
供給する場合、基板の表面に塗工する場合と異なり、基
板の端面に供給する為、技術的な困難が伴う。通常、一
対の基板は端面がほぼ完全に一致した状態で重なってい
る。平面的に見て完全に重なった一対の基板の間隙を塞
ぐとなると、ディスペンサで安定して確実にシール剤を
供給することは極めて困難である。
When a seal for protecting the outer periphery is to be formed after bonding a pair of substrates, a sealant is applied to an end face of each substrate. It becomes a problem. The manual process increases the burden on the process. In addition, when the sealant is supplied by the dispenser, unlike the case where the sealant is applied to the surface of the substrate, it is supplied to the end surface of the substrate, so that technical difficulty is involved. Normally, the pair of substrates are overlapped with their end faces almost completely coincident. When a gap between a pair of substrates that are completely overlapped in a plan view is closed, it is extremely difficult to stably and reliably supply a sealant with a dispenser.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題に鑑み、本発明は生産性を低下させることなく、表示
パネルの軽量化及び薄型化を実現する製造方法を提供す
ることを目的とする。係る目的を達成する為に以下の手
段を講じた。即ち、本発明によると、表示パネルの製造
方法は、所定の肉厚を有する一対の基板を所定量だけ互
いに平面的にずらして重ね合わせ両基板の外周に沿って
段差を設けた状態で、所定の間隙を介し該一対の基板を
接合して表示パネルを作成するパネル作成工程と、該段
差にシール剤を供給して、内部の表示パネルを両基板の
外周に沿って密閉する外周シール工程と、該シール剤に
よって保護された状態で該表示パネルを薬液に浸漬し、
化学反応により該基板の表面を一定量除去して肉厚を薄
くする化学処理工程とを行う。好ましくは、前記パネル
作成工程は、該段差の幅が0.5mmから10mmの範
囲に入る様に、一対の基板を所定量だけ互いに平面的に
ずらして重ね合わせる。又、前記外周シール工程は、該
段差に紫外線硬化型のシール剤を塗布した後、紫外線を
照射し該シール剤を硬化して内部の表示パネルを両基板
の外周に沿って密閉する。又、前記外周シール工程は、
粘度が100cPから10000cPの範囲に調製され
たシール剤を該段差に塗布した後、硬化して内部の表示
パネルを両基板の外周に沿って密閉する。更に、該化学
処理工程の後、各基板の外周に沿って残された不要な突
起を研磨により除去する研磨工程を含む。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems in the prior art, an object of the present invention is to provide a manufacturing method for realizing a lighter and thinner display panel without reducing productivity. I do. The following measures were taken to achieve this purpose. That is, according to the present invention, a method of manufacturing a display panel includes a step of forming a pair of substrates having a predetermined thickness and displacing them by a predetermined amount in a plane, and providing a step along the outer periphery of both substrates. A panel forming step of bonding the pair of substrates through a gap to form a display panel, and a peripheral sealing step of supplying a sealing agent to the step and sealing the internal display panel along the outer peripheries of both substrates. Immersing the display panel in a chemical solution while being protected by the sealant,
A chemical treatment step of removing a predetermined amount of the surface of the substrate by a chemical reaction to reduce the thickness. Preferably, in the panel forming step, the pair of substrates are overlapped with each other by a predetermined amount in a plane so that the width of the step falls within a range of 0.5 mm to 10 mm. In the outer peripheral sealing step, an ultraviolet curing sealant is applied to the step, and then the sealant is cured by irradiating ultraviolet rays to seal the internal display panel along the outer periphery of both substrates. Further, the outer peripheral sealing step includes:
After applying a sealant having a viscosity in the range of 100 cP to 10000 cP on the step, the sealant is cured to seal the internal display panel along the outer periphery of both substrates. Further, after the chemical treatment step, a polishing step of removing unnecessary projections left along the outer periphery of each substrate by polishing is included.

【0012】本発明によれば、表示パネルを組み立てる
為一対の基板を互いに接合する時、両基板を互いに所定
量ずらして重ね合わせ、外周に沿って段差を設けてい
る。この段差にシール剤を供給することで、簡単に外周
シールが可能になる。一対の基板を互いにずらすことな
く平面的に見て完全に重ねた場合、外周は全て端面で構
成される為、ここにディスペンサなどでシール剤を供給
することは困難である。これに対し、一対の基板を互い
にずらして貼り合わせた場合、外周に沿って段差が生じ
るので、この部分にディスペンサで安定且つ容易にシー
ル剤を塗工できる。段差に沿って塗工されたシール剤
は、毛細管現象により両基板の間隙に浸入し、完璧な外
周シールを形成できる。
According to the present invention, when a pair of substrates are joined to each other to assemble a display panel, the two substrates are overlapped with a predetermined amount of displacement from each other and a step is provided along the outer periphery. By supplying the sealant to this step, the outer periphery can be easily sealed. When a pair of substrates are completely overlapped in a plan view without being shifted from each other, it is difficult to supply a sealant with a dispenser or the like, since the entire outer periphery is constituted by end faces. On the other hand, when a pair of substrates are bonded to each other while being displaced from each other, a step is formed along the outer periphery, so that a sealant can be stably and easily applied to this portion with a dispenser. The sealant applied along the step penetrates into the gap between the two substrates by capillary action, and can form a perfect outer peripheral seal.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態を詳細に説明する。図1は、本発明に係る表示パ
ネルの製造方法の主要部を示す模式図である。(A)に
示す様に、まずパネル作成工程を行ない、所定の肉厚を
有する一対のガラスなどからなる基板1,2を所定量だ
け互いに平面的にずらして重ね合わせ両基板1,2の外
周に沿って段差STを設けた状態で、所定の間隙を介し
一対の基板1,2を接合して表示パネルの基となる積層
体0を作成する。使用したガラス基板1,2のサイズ
は、何れも600×720mmである。基板1,2は何
れもコーニング社製のガラス板材1737を使用してい
る。図示する様に、基板1,2を若干ずらして重ね合わ
せてある。左右方向のずらし幅ΔXは例えば5mmであ
り、上下方向のずらし幅ΔYも例えば5mmである。即
ち、段差STの幅寸法は5mmである。尚、このパネル
作成工程は、通常段差STの幅が0.5mm〜10mm
の範囲に入る様に、一対の基板1,2を所定量だけ互い
に平面的にずらして重ね合わせる。段差STの幅が0.
5mm未満だと、後工程でシール剤を円滑に供給するこ
とができない。逆に、段差STの幅が10mmを超える
と、最終的に表示パネルとして利用できる部分が少なく
なるので、好ましくない。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing a main part of a method for manufacturing a display panel according to the present invention. As shown in (A), first, a panel forming process is performed, and a pair of substrates 1 and 2 made of glass or the like having a predetermined thickness are overlapped with each other by a predetermined amount and shifted from each other in a plane. In this state, a pair of substrates 1 and 2 are joined to each other through a predetermined gap in a state in which a step ST is provided along the line to form a laminate 0 serving as a base of a display panel. The size of each of the glass substrates 1 and 2 used was 600 × 720 mm. Each of the substrates 1 and 2 uses a glass plate material 1737 manufactured by Corning. As shown, the substrates 1 and 2 are overlapped with a slight shift. The shift width ΔX in the left-right direction is, for example, 5 mm, and the shift width ΔY in the vertical direction is, for example, 5 mm. That is, the width of the step ST is 5 mm. In addition, in this panel forming process, the width of the step ST is usually 0.5 mm to 10 mm.
The pair of substrates 1 and 2 are overlapped with each other in a plane by a predetermined amount. The width of the step ST is 0.
If it is less than 5 mm, the sealant cannot be smoothly supplied in a subsequent step. Conversely, if the width of the step ST exceeds 10 mm, a portion that can be finally used as a display panel decreases, which is not preferable.

【0014】尚、本例では5mmだけ重ね合わせてガラ
ス基板1,2を互いに貼り合わせた時、両基板に形成さ
れたパタンが互いに整合する様、予めガラス基板1,2
の各々にずらし量を見込んでパタンを形成している。具
体的には、一方のガラス基板1には、画素の駆動素子と
して薄膜トランジスタなどのパタンが形成され、他方の
ガラス基板2にはカラーフィルタのパタンなどが形成さ
れている。ガラス基板1に薄膜トランジスタなどを集積
形成し、ガラス基板2にカラーフィルタなどを作り込ん
だ後、少なくとも片方の基板にパネルの形状に沿ってシ
ール剤をディスペンスし、両基板を重ね合わせて接合す
る。
In this embodiment, when the glass substrates 1 and 2 are laminated together by 5 mm and bonded to each other, the glass substrates 1 and 2 are preliminarily adjusted so that the patterns formed on both substrates are aligned with each other.
The pattern is formed in consideration of the shift amount in each of the patterns. Specifically, a pattern such as a thin film transistor is formed on one glass substrate 1 as a pixel driving element, and a pattern of a color filter is formed on the other glass substrate 2. After a thin film transistor or the like is integratedly formed on the glass substrate 1 and a color filter or the like is formed on the glass substrate 2, a sealant is dispensed on at least one of the substrates along the shape of the panel, and the two substrates are overlapped and joined.

【0015】(B)は、外周シール工程を表わしてお
り、段差STに沿って例えばディスペンサ50によりシ
ール剤を供給して、内部の表示パネルを両基板1,2の
外周に沿って密閉する。ディスペンスするシール剤は、
表示パネルのシール剤と同じものを用いることができ
る。例えば、本実施形態では協立化学製の熱硬化型シー
ル剤を用いた。ディスペンサ50についても、通常表示
パネルのシール剤を塗工するディスペンサをそのまま用
いることができる。尚、段差STの幅寸法は5mmであ
るが、上側のガラス基板2からディスペンサ50を例え
ば0.5mm離した位置にシール剤をディスペンスして
いる。ガラス基板2の短辺側から1200mm/min
の速度でディスペンスし、その後長辺側も同じ速度でシ
ールしている。片面側二辺をディスペンスした後、積層
体0を裏返しにして、反対側のガラス基板1の二辺も同
様にシールする。積層体0の四辺をシールした後、オー
ブンに投入し、150℃2時間の条件で硬化させる。
(B) shows an outer peripheral sealing step, in which a sealant is supplied along the step ST by, for example, a dispenser 50 to seal the internal display panel along the outer periphery of both substrates 1 and 2. The dispensing sealant
The same material as the sealant for the display panel can be used. For example, in this embodiment, a thermosetting sealant manufactured by Kyoritsu Chemical was used. As the dispenser 50, a dispenser that applies a sealant for a normal display panel can be used as it is. Although the width of the step ST is 5 mm, the sealant is dispensed at a position where the dispenser 50 is separated from the upper glass substrate 2 by, for example, 0.5 mm. 1200 mm / min from short side of glass substrate 2
Dispensing at the same speed, and then the long side is sealed at the same speed. After dispensing the two sides on one side, the laminate 0 is turned upside down and the two sides of the glass substrate 1 on the opposite side are similarly sealed. After sealing the four sides of the laminate 0, the laminate is put into an oven and cured at 150 ° C. for 2 hours.

【0016】積層体0の外周をシールし、硬化させた後
の状態を図2に示す。図示する様に、ディスペンスした
シール剤5は、時間の経過とともに毛細管現象で両基板
1,2の間隙にある程度浸透していく。この毛細管現象
による浸透の為、積層体0の外周を完全に密封可能な外
周シール4を形成できる。これにより、耐薬品性が向上
する。
FIG. 2 shows a state after the outer periphery of the laminate 0 is sealed and cured. As shown in the drawing, the dispensed sealant 5 permeates into the gap between the substrates 1 and 2 to some extent due to a capillary phenomenon with the passage of time. Because of the permeation by the capillary action, the outer peripheral seal 4 that can completely seal the outer periphery of the laminate 0 can be formed. Thereby, chemical resistance is improved.

【0017】この後図3に示す様に、化学処理工程を行
なう。即ち、シール剤によって保護された状態で表示パ
ネルの基となる積層体0を薬液17に浸漬し、化学反応
により基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする。図
3は、上述した化学処理工程に使うエッチング装置の概
略を表わしている。図示する様に、本装置は容器20を
基本とし、その中には薬液17が満たされている。この
薬液17には、処理対象となる積層体0を搭載したカセ
ット6を投入可能である。カセット6は、矢印で示す様
に容器20内で上下に揺動可能である。容器20にはH
F供給ライン7を介してフッ酸を含む薬液17を投入可
能である。又、容器20には純水供給ライン8を介して
純水も導入できる。容器20の底部には廃液ライン13
が接続されており、使用済みとなった薬液17を排出す
ることができる。図示する様に、本発明の製造方法で
は、大型の基板を貼り合わせて積層体0を作成した後、
この積層体0をカセット6に入れ、薬液17で満たされ
た容器20に浸漬させて、基板表面を一定量除去する。
薬液17としてはフッ酸(HF)を用い、濃度は20重
量%に設定している。又、容器20のサイズは、縦70
0mm×横700mm×高さ900mmとなっている。
Thereafter, as shown in FIG. 3, a chemical treatment step is performed. In other words, the laminate 0 serving as the base of the display panel is immersed in the chemical solution 17 while being protected by the sealant, and a certain amount of the surface of the substrate is removed by a chemical reaction to reduce the thickness. FIG. 3 schematically shows an etching apparatus used in the above-described chemical treatment process. As shown in the figure, the present apparatus is basically based on a container 20, which is filled with a drug solution 17. The cassette 6 on which the laminate 0 to be treated is loaded can be put into the chemical solution 17. The cassette 6 can swing up and down in the container 20 as shown by the arrow. H in the container 20
A chemical solution 17 containing hydrofluoric acid can be introduced via the F supply line 7. Also, pure water can be introduced into the container 20 via the pure water supply line 8. A waste liquid line 13 is provided at the bottom of the container 20.
Is connected, and the used chemical solution 17 can be discharged. As shown in the drawing, in the manufacturing method of the present invention, after a large substrate is bonded to form a laminate 0,
The laminate 0 is placed in the cassette 6 and immersed in the container 20 filled with the chemical solution 17 to remove a certain amount of the substrate surface.
Hydrofluoric acid (HF) is used as the chemical solution 17, and the concentration is set to 20% by weight. The size of the container 20 is 70
It is 0 mm x 700 mm wide x 900 mm high.

【0018】一時間経った後、槽内のHFを排出し、同
じ槽に純水を満たし、基板表面のリンス処理を行なっ
た。リンス時間は5分とした。乾燥処理を行なった後
で、基板面内厚さを測定した。処理前は、面内25点に
ついて、平均値が1.410mmで分散が0.016m
mであった。処理後は、平均値が1.008mmで分散
が0.036mmであり、表示パネルとして問題のない
面内均一性が得られた。
After one hour, the HF in the tank was discharged, the same tank was filled with pure water, and the substrate surface was rinsed. The rinsing time was 5 minutes. After performing the drying treatment, the in-plane thickness of the substrate was measured. Before the treatment, the average value is 1.410 mm and the variance is 0.016 m for 25 points in the plane.
m. After the treatment, the average value was 1.008 mm and the variance was 0.036 mm, so that in-plane uniformity without any problem as a display panel was obtained.

【0019】又、互いに貼り合わされた一対の基板の間
隙に対する薬液のしみ込みなどはなく、プロセス上の問
題は起こっていない。エッチング終了後は、積層体をス
クライブ及びブレークし、各表示パネル毎に切り出す。
この時、使用済みとなった外周シールは、通常のスクラ
イブ及びブレーク条件で、そのまま切り落とすことがで
きる。ブレーク後、カラーの表示パネルに液晶を注入し
偏光板を貼着すると、液晶表示パネルが得られる。これ
に画像を表示させたところ、曇り、むら、画素欠陥など
のない、良好な表示が得られた。
Further, there is no infiltration of a chemical solution into a gap between a pair of substrates bonded to each other, and no process problem occurs. After completion of the etching, the laminate is scribed and broken, and cut out for each display panel.
At this time, the used outer peripheral seal can be cut off as it is under normal scribe and break conditions. After the break, a liquid crystal display panel is obtained by injecting liquid crystal into a color display panel and attaching a polarizing plate. When an image was displayed thereon, good display without fogging, unevenness, pixel defects, etc. was obtained.

【0020】上述した実施形態では、外周シール剤とし
て熱硬化型のものを用いた。これに代えて、外周シール
剤として紫外線硬化型のシール剤を用いることができ
る。ここでは、スリーボンド社製の紫外線硬化型シール
剤を用いた実施形態を説明する。図1で説明した先の実
施形態と同様に、5mmずらして貼り合わせた一対の基
板の外周段差部に、紫外線硬化型のシール剤をディスペ
ンサにて塗布した。ディスペンス速度も先の実施形態と
同じ条件である。この後、表示パネルとなる部分を遮光
して、ウシオ電機製の紫外線照射装置で、外周部に紫外
線を照射し、シール剤を硬化させた。その後、先の実施
形態と同様に、HF濃度20%の薬液で60分間エッチ
ングした。エッチング後、一対の基板を接合した積層体
を観察したところ、特に薬液などのしみ込みがなく、エ
ッチングプロセスの影響は見られなかった。エッチング
処理後、積層体をスクライブ及びブレークし、各表示パ
ネル毎に切り出した。この時、外周シールは通常のスク
ライブ及びブレーク条件でそのまま切り落としている。
ブレーク後、表示パネルに液晶を注入し、偏光板を付け
て画像を表示させたところ、曇り、むら、画像欠陥など
のない良好な表示が得られた。
In the above-described embodiment, a thermosetting sealant is used as the outer peripheral sealant. Instead, an ultraviolet-curable sealant can be used as the outer peripheral sealant. Here, an embodiment using an ultraviolet-curable sealant manufactured by ThreeBond will be described. As in the previous embodiment described with reference to FIG. 1, an ultraviolet curable sealant was applied by a dispenser to the outer peripheral step portions of a pair of substrates that were bonded by being shifted by 5 mm. The dispensing speed is also the same condition as the previous embodiment. Thereafter, a portion to be a display panel was shielded from light, and an outer peripheral portion was irradiated with ultraviolet light by an ultraviolet irradiation device manufactured by Ushio Inc. to cure the sealant. Thereafter, as in the previous embodiment, etching was performed for 60 minutes with a chemical solution having an HF concentration of 20%. After the etching, the laminate in which the pair of substrates were joined was observed. As a result, there was no particular penetration of a chemical solution or the like, and no influence of the etching process was observed. After the etching treatment, the laminate was scribed and broken, and cut out for each display panel. At this time, the outer peripheral seal is cut off as it is under normal scribe and break conditions.
After the break, liquid crystal was injected into the display panel and a polarizing plate was attached to display an image. As a result, good display without fogging, unevenness, image defects, etc. was obtained.

【0021】外周シールを形成する場合、毛細管現象を
利用して積層体の間隙にシール剤を導入する為、シール
剤の粘度管理が重要である。ここでは、粘度が2000
cPのシール剤を用いて外周シールを行なった実施形態
を説明する。図1に示した先の実施形態と同様の基板及
び装置を用い、外周保護の為のシール剤を紫外線硬化型
のシール剤とした。このシール剤は協立化学製の紫外線
硬化剤である。この紫外線硬化型シール剤の粘度は20
00cPに調整されている。前の実施形態と同様の条件
で外周シールを行なった後エッチングを行なった。エッ
チング後、基板を観察したところ特に間隙に対する薬液
などのしみ込みはなく、エッチングプロセスの影響は見
られなかった。又、外周シールを観察したところ、互い
に接合した基板の間隙にシール剤が平均で10mm入り
込んでおり、エッチング液への耐性がより安定している
ことが確認できた。一般に、外周シール工程は、粘度が
100cPから10000cPの範囲に調整されたシー
ル剤を段差に塗布することが好ましい。100cP以下
では粘度が低過ぎて、ディスペンサで塗布する際制御が
困難である。逆に、粘度が10000cPを超えると、
ディスペンスしにくいばかりでなく、積層体の間隙に対
する浸透が少なくなってしまう。
In the case of forming the outer peripheral seal, the viscosity of the sealant is important to control because the sealant is introduced into the gap of the laminate by utilizing the capillary phenomenon. Here, the viscosity is 2000
An embodiment in which outer peripheral sealing is performed using a cP sealing agent will be described. Using the same substrate and apparatus as in the previous embodiment shown in FIG. 1, the sealant for protecting the outer periphery was an ultraviolet-curable sealant. This sealant is an ultraviolet curing agent manufactured by Kyoritsu Chemical. The viscosity of this UV-curable sealant is 20
It has been adjusted to 00 cP. After the outer peripheral seal was performed under the same conditions as in the previous embodiment, etching was performed. When the substrate was observed after the etching, there was no permeation of the chemical solution or the like into the gap, and no influence of the etching process was observed. Further, when the outer peripheral seal was observed, it was confirmed that the sealant had entered 10 mm in the gap between the substrates joined to each other on average, and that the resistance to the etching solution was more stable. Generally, in the outer peripheral sealing step, it is preferable to apply a sealant having a viscosity adjusted in a range of 100 cP to 10000 cP on the step. If the viscosity is less than 100 cP, the viscosity is too low, and it is difficult to control the application when using a dispenser. Conversely, if the viscosity exceeds 10,000 cP,
Not only is it difficult to dispense, but also the penetration into the gaps of the laminate is reduced.

【0022】尚、化学処理工程の後、各基板の外周に沿
って残された不要な突起を研磨により除去することが好
ましい。この突起が残っていると、スクライブ/ブレー
ク装置でエッチング済みの積層体を吸着固定する時、エ
ラーが発生する。また、この突起が残っていると、スク
ライブの刃が突起に当たり、ガラス基板にクラックが入
ってしまう。この様に不要な突起を除去する為の研磨工
程を含んだ実施形態をここで説明する。図1に示した先
の実施形態と同様の基板及び装置を用い、外周シールを
熱硬化した後、エッチングを行なった。エッチング条件
も、HF濃度20重量%、浸漬時間60分と先の実施形
態同様である。この後、基板外周部を研磨装置で面取り
研磨した。これは、エッチング処理の結果基板の外周端
部に残った突起を除去することが目的である。面取り研
磨後、基板をスクライブしたところ、基板周囲の欠けの
発生がなくなり、安定して表示パネルを切り出せること
が確認された。
After the chemical treatment step, it is preferable to remove unnecessary protrusions left along the outer periphery of each substrate by polishing. If the protrusion remains, an error occurs when the etched laminate is suction-fixed by the scribe / break device. If the projection remains, the scribe blade hits the projection, and the glass substrate is cracked. An embodiment including a polishing step for removing such unnecessary projections will be described here. Using the same substrate and apparatus as in the previous embodiment shown in FIG. 1, the outer peripheral seal was thermally cured and then etched. The etching conditions are the same as in the previous embodiment, that is, the HF concentration is 20% by weight and the immersion time is 60 minutes. Thereafter, the outer peripheral portion of the substrate was chamfered and polished by a polishing apparatus. The purpose of this is to remove protrusions remaining on the outer peripheral edge of the substrate as a result of the etching process. After chamfering and polishing, the substrate was scribed. As a result, it was confirmed that chipping around the substrate did not occur and the display panel could be cut out stably.

【0023】図4は、上述した研磨工程の具体例を表わ
す模式図である。(A)に示す様に、エッチング処理後
の積層体0は、その外周に沿って不要な突起が残されて
いる。この突起は、外周シール剤5のバリや、基板1,
2に生じたエッチング残りのバリなどが含まれる。又、
バリと基板1との間には残留HFなどが付着している。
図示の例では、エッチングにより、各基板1,2は周辺
の突起を除いて0.7mmから0.5mmまで肉厚が薄
くなっている。この後(B)に示す様に、一対の基板
1,2を互いに貼り合わせた積層体0の外周端部を、研
磨装置30に投入し、面取り研磨を行なう。これによ
り、バリ等ガラス基板1,2端部の突起を取り除くこと
ができる。又、反応粉についても洗浄により除去するこ
とが可能である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a specific example of the above-mentioned polishing step. As shown in (A), the laminate 0 after the etching process has unnecessary protrusions left along its outer periphery. The protrusions are caused by burrs of the outer peripheral sealant 5 and
2 includes burrs remaining after etching. or,
Residual HF and the like adhere between the burrs and the substrate 1.
In the example shown in the drawing, the thickness of each of the substrates 1 and 2 is reduced from 0.7 mm to 0.5 mm except for peripheral protrusions by etching. Thereafter, as shown in (B), the outer peripheral end of the laminate 0 in which the pair of substrates 1 and 2 are bonded to each other is put into the polishing apparatus 30 and chamfering polishing is performed. This makes it possible to remove protrusions at the ends of the glass substrates 1 and 2 such as burrs. Also, the reaction powder can be removed by washing.

【0024】図5は、本発明に従って製造された表示パ
ネルの一例を示す模式的な斜視図である。本例は、一対
の基板を貼り合わせて作成した液晶表示装置である。図
示するように、本表示装置は一対の絶縁基板1,2と両
者の間に保持された電気光学物質103とを備えたパネ
ル構造を有する。電気光学物質103としては、液晶材
料を用いる。下側の絶縁基板1には画素アレイ部104
と駆動回路部とが集積形成されている。駆動回路部は垂
直駆動回路105と水平駆動回路106とに分かれてい
る。又、絶縁基板1の周辺部上端には外部接続用の端子
部107が形成されている。端子部107は配線108
を介して垂直駆動回路105及び水平駆動回路106に
接続している。画素アレイ部104には行状のゲート配
線109と列状の信号配線110が形成されている。両
配線の交差部には画素電極111とこれを駆動する薄膜
トランジスタTFTが形成されている。薄膜トランジス
タTFTのゲート電極は対応するゲート配線109に接
続され、ドレイン領域は対応する画素電極111に接続
され、ソース領域は対応する信号配線110に接続して
いる。ゲート配線109は垂直駆動回路105に接続す
る一方、信号配線110は水平駆動回路106に接続し
ている。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing an example of a display panel manufactured according to the present invention. This example is a liquid crystal display device formed by bonding a pair of substrates. As shown, the display device has a panel structure including a pair of insulating substrates 1 and 2 and an electro-optical material 103 held between the two substrates. As the electro-optic substance 103, a liquid crystal material is used. The pixel array section 104 is provided on the lower insulating substrate 1.
And a drive circuit unit are integrated. The drive circuit section is divided into a vertical drive circuit 105 and a horizontal drive circuit 106. A terminal 107 for external connection is formed at the upper end of the peripheral portion of the insulating substrate 1. The terminal 107 is a wiring 108
Are connected to the vertical drive circuit 105 and the horizontal drive circuit 106 via the. A row-shaped gate wiring 109 and a column-shaped signal wiring 110 are formed in the pixel array unit 104. A pixel electrode 111 and a thin film transistor TFT for driving the pixel electrode 111 are formed at the intersection of the two wires. The gate electrode of the thin film transistor TFT is connected to the corresponding gate line 109, the drain region is connected to the corresponding pixel electrode 111, and the source region is connected to the corresponding signal line 110. The gate wiring 109 is connected to the vertical drive circuit 105, while the signal wiring 110 is connected to the horizontal drive circuit 106.

【0025】図6は、本発明に従って製造された表示パ
ネルの他の例を示す模式的な部分断面図である。本例で
は、ガラス基板を用いてエレクトロルミネッセンス表示
装置を作成している。このパネルをエッチングする際に
は、予め画素部を他の基板で保護した状態で、HFに浸
漬し、ガラス基板のエッチングを行なうことが好まし
い。本実施例は、画素として有機エレクトロルミネッセ
ンス素子OLEDを用いている。図示する様に、OLE
Dは陽極A,有機層210及び陰極Kを順に重ねたもの
である。陽極Aは画素毎に分離しており、例えばクロム
からなり基本的に光反射性である。陰極Kは画素間で共
通接続されており、例えば極薄の金属層211と透明導
電層212の積層構造であり、基本的に光透過性であ
る。係る構成を有するOLEDの陽極A/陰極K間に順
方向の電圧(10V程度)を印加すると、電子や正孔な
どキャリアの注入が起こり、発光が観測される。OLE
Dの動作は、陽極Aから注入された正孔と陰極Kから注
入された電子により形成された励起子による発光と考え
られる。
FIG. 6 is a schematic partial sectional view showing another example of the display panel manufactured according to the present invention. In this example, an electroluminescent display device is manufactured using a glass substrate. When etching this panel, it is preferable to immerse it in HF and etch the glass substrate in a state where the pixel portion is protected by another substrate in advance. In this embodiment, an organic electroluminescent element OLED is used as a pixel. As shown, OLE
D is obtained by sequentially stacking the anode A, the organic layer 210 and the cathode K. The anode A is separated for each pixel, and is made of, for example, chromium and is basically light-reflective. The cathode K is commonly connected between the pixels, and has a laminated structure of, for example, an extremely thin metal layer 211 and a transparent conductive layer 212, and is basically light transmissive. When a forward voltage (about 10 V) is applied between the anode A and the cathode K of the OLED having such a configuration, carriers such as electrons and holes are injected, and light emission is observed. OLE
The operation of D is considered to be light emission by excitons formed by holes injected from the anode A and electrons injected from the cathode K.

【0026】一方、OLEDを駆動する薄膜トランジス
タTFTは、ガラス基板2の上に形成されたゲート電極
201と、その上面に重ねられたゲート絶縁膜223
と、このゲート絶縁膜223を介してゲート電極201
の上方に重ねられた半導体薄膜205とからなる。薄膜
トランジスタTFTはOLEDに供給される電流の通路
となるソース領域S、チャネル領域Ch及びドレイン領
域Dを備えている。チャネル領域Chは丁度ゲート電極
201の直上に位置する。このボトムゲート構造を有す
る薄膜トランジスタTFTは層間絶縁膜207により被
覆されており、その上には配線電極209及びドレイン
電極220が形成されている。これらの上には別の層間
絶縁膜291を介して前述したOLEDが成膜されてい
る。このOLEDの陽極Aはドレイン電極220を介し
て薄膜トランジスタTFTに電気接続されている。
On the other hand, a thin film transistor TFT for driving an OLED is composed of a gate electrode 201 formed on a glass substrate 2 and a gate insulating film 223 superposed on the upper surface thereof.
And the gate electrode 201 via the gate insulating film 223.
And a semiconductor thin film 205 overlaid on the top. The thin film transistor TFT includes a source region S, a channel region Ch, and a drain region D that serve as a path for a current supplied to the OLED. The channel region Ch is located just above the gate electrode 201. The thin film transistor TFT having the bottom gate structure is covered with an interlayer insulating film 207, on which a wiring electrode 209 and a drain electrode 220 are formed. On these, the OLED described above is formed via another interlayer insulating film 291. The anode A of the OLED is electrically connected to the thin film transistor TFT via the drain electrode 220.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、表
示パネルを構成する一対のガラス基板を貼り合わせた
後、エッチングにより基板表面を一定量除去して表示パ
ネルの厚みを薄くする際、一対の基板を貼り合わせる時
に、平面的に所定量だけ互いにずらして重ね合わせるこ
とにより外周に沿って段差を設けている。この段差に沿
ってシール剤を供給することにより、内部のパネルをエ
ッチング処理から保護する為の外周シールを比較的簡単
に形成することができる。特に、シール剤として紫外線
硬化型を採用することにより、シール剤のディスペンス
及びその硬化処理を連続してインライン処理とすること
が可能となり、高い生産性が得られる。
As described above, according to the present invention, when a pair of glass substrates constituting a display panel are attached to each other, a predetermined amount of the substrate surface is removed by etching to reduce the thickness of the display panel. When a pair of substrates are bonded to each other, a step is provided along the outer periphery by overlapping the substrates by shifting them by a predetermined amount in a plane. By supplying the sealant along the step, the outer peripheral seal for protecting the inner panel from the etching process can be formed relatively easily. In particular, by employing an ultraviolet curing type as the sealant, it is possible to continuously perform dispensing of the sealant and the curing treatment thereof in an in-line treatment, and high productivity can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る表示パネルの製造方法を示す模式
図である。
FIG. 1 is a schematic view illustrating a method for manufacturing a display panel according to the present invention.

【図2】本発明に係る表示パネルの製造方法を示す模式
的な部分平面図である。
FIG. 2 is a schematic partial plan view showing a method for manufacturing a display panel according to the present invention.

【図3】本発明に係る表示パネルの製造方法を示す模式
的な断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a display panel according to the present invention.

【図4】本発明に係る表示パネルの製造方法を示す模式
図である。
FIG. 4 is a schematic view illustrating a method for manufacturing a display panel according to the present invention.

【図5】本発明に従って製造された液晶表示パネルを示
す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a liquid crystal display panel manufactured according to the present invention.

【図6】本発明に従って製造されたエレクトロルミネッ
センス表示パネルを示す部分断面図である。
FIG. 6 is a partial sectional view showing an electroluminescent display panel manufactured according to the present invention.

【図7】従来の表示パネルの製造方法を示す模式的な平
面図である。
FIG. 7 is a schematic plan view showing a conventional display panel manufacturing method.

【図8】従来の表示パネルの製造方法を示す模式的な断
面図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view illustrating a conventional display panel manufacturing method.

【図9】従来の表示パネルの製造方法を示す模式的な平
面図である。
FIG. 9 is a schematic plan view showing a conventional method for manufacturing a display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

0・・・積層体、1・・・ガラス基板、2・・・ガラス
基板、4・・・外周シール、5・・・シール剤、17・
・・薬液、30・・・研磨装置、50・・・ディスペン
サ、ST・・・段差
0: laminated body, 1: glass substrate, 2: glass substrate, 4: outer peripheral seal, 5: sealing agent, 17.
..Chemical solution, 30 polishing apparatus, 50 dispenser, ST step

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/04 H05B 33/04 33/10 33/10 33/14 33/14 A (72)発明者 高木 泰 愛知県知多郡東浦町緒川上舟木50番地 エ スティ・エルシーディ株式会社内 (72)発明者 松岡 博昭 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 富田 博 愛知県知多郡東浦町緒川上舟木50番地 エ スティ・エルシーディ株式会社内 Fターム(参考) 2H089 KA01 LA42 MA03Y NA42 NA44 NA45 NA52 NA53 NA55 PA15 QA02 QA11 TA01 2H090 JB02 JC01 JC14 JD13 LA03 3K007 AB18 BA06 BB01 BB07 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02 5G435 AA17 AA18 BB05 BB12 CC09 HH14 HH20 KK05 KK10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05B 33/04 H05B 33/04 33/10 33/10 33/14 33/14 A (72) Inventor Takagi Yasu 50, Ogawa-Kamifunaki, Higashiura-cho, Chita-gun, Aichi Prefecture Est. Elcidi Co., Ltd. (72) Inventor Hiroaki Matsuoka 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Tomita Hiroshi 50, Ogawakamifunaki, Higashiura-cho, Chita-gun, Aichi F-term (reference) 2H089 KA01 LA42 MA03Y NA42 NA44 NA45 NA52 NA53 NA55 PA15 QA02 QA11 TA01 2H090 JB02 JC01 JC14 JD13 LA03 3K007 AB18 BA06 BB01 BB01 BB01 BB01 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02 5G435 AA17 AA18 BB05 BB12 CC09 HH14 HH20 KK05 KK10

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の肉厚を有する一対の基板を所定量
だけ互いに平面的にずらして重ね合わせ両基板の外周に
沿って段差を設けた状態で、所定の間隙を介し該一対の
基板を接合して表示パネルを作成するパネル作成工程
と、 該段差にシール剤を供給して、内部の表示パネルを両基
板の外周に沿って密閉する外周シール工程と、 該シール剤によって保護された状態で該表示パネルを薬
液に浸漬し、化学反応により該基板の表面を一定量除去
して肉厚を薄くする化学処理工程とを行う表示パネルの
製造方法。
1. A pair of substrates having a predetermined thickness are superimposed on each other by a predetermined amount and shifted from each other in a plane, and a step is provided along the outer periphery of both substrates. A panel forming step of forming a display panel by bonding, an outer peripheral sealing step of supplying a sealant to the step, and sealing the inner display panel along the outer peripheries of both substrates, and a state protected by the sealant And d) immersing the display panel in a chemical solution, and removing a predetermined amount of the surface of the substrate by a chemical reaction to reduce the thickness.
【請求項2】 前記パネル作成工程は、該段差の幅が
0.5mmから10mmの範囲に入る様に、一対の基板
を所定量だけ互いに平面的にずらして重ね合わせる請求
項1記載の表示パネルの製造方法。
2. The display panel according to claim 1, wherein in the panel forming step, the pair of substrates are overlapped with each other in a plane by a predetermined amount so that the width of the step falls within a range of 0.5 mm to 10 mm. Manufacturing method.
【請求項3】 前記外周シール工程は、該段差に紫外線
硬化型のシール剤を塗布した後、紫外線を照射し該シー
ル剤を硬化して内部の表示パネルを両基板の外周に沿っ
て密閉する請求項1記載の表示パネルの製造方法。
3. The outer peripheral sealing step comprises applying an ultraviolet curing sealant to the step, and then irradiating ultraviolet rays to cure the sealant to seal the internal display panel along the outer periphery of both substrates. A method for manufacturing a display panel according to claim 1.
【請求項4】 前記外周シール工程は、粘度が100c
Pから10000cPの範囲に調製されたシール剤を該
段差に塗布した後、硬化して内部の表示パネルを両基板
の外周に沿って密閉する請求項1記載の表示パネルの製
造方法。
4. The peripheral sealing step has a viscosity of 100 c.
2. The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein a sealant prepared in the range of P to 10,000 cP is applied to the step and then cured to seal the internal display panel along the outer periphery of both substrates.
【請求項5】 該化学処理工程の後、各基板の外周に沿
って残された不要な突起を研磨により除去する研磨工程
を含む請求項1記載の表示パネルの製造方法。
5. The method for manufacturing a display panel according to claim 1, further comprising a polishing step of removing unnecessary projections left along the outer periphery of each substrate by polishing after the chemical treatment step.
【請求項6】 所定の肉厚を有する一対の基板を所定量
だけ互いに平面的にずらして重ね合わせ両基板の外周に
沿って段差を設けた状態で、所定の間隙を介し該一対の
基板を接合して空のパネルを作成するパネル作成工程
と、 該段差にシール剤を供給して、内部のパネルを両基板の
外周に沿って密閉する外周シール工程と、 該シール剤によって保護された状態で該パネルを薬液に
浸漬し、化学反応により該基板の表面を一定量除去して
肉厚を薄くする化学処理工程と、 両基板の外周を切り離した後、空のパネルに表示用の液
晶を注入する注入工程とを行う液晶表示パネルの製造方
法。
6. A pair of substrates having a predetermined thickness are superimposed on each other by a predetermined amount and shifted from each other in a plane, and a step is provided along the outer periphery of both substrates. A panel forming step of forming an empty panel by joining, a sealing agent is supplied to the step, and an outer peripheral sealing step of sealing the inner panel along the outer periphery of both substrates; and a state protected by the sealing agent The panel is immersed in a chemical solution, and a chemical treatment step is performed to remove a certain amount of the surface of the substrate by a chemical reaction to reduce the thickness. A method of manufacturing a liquid crystal display panel, comprising:
【請求項7】 前記パネル作成工程は、該段差の幅が
0.5mmから10mmの範囲に入る様に、一対の基板
を所定量だけ互いに平面的にずらして重ね合わせる請求
項6記載の液晶表示パネルの製造方法。
7. The liquid crystal display according to claim 6, wherein in the panel forming step, the pair of substrates are overlapped with each other by a predetermined amount so that the width of the step falls within a range of 0.5 mm to 10 mm. Panel manufacturing method.
【請求項8】 前記外周シール工程は、該段差に紫外線
硬化型のシール剤を塗布した後、紫外線を照射し該シー
ル剤を硬化して内部のパネルを両基板の外周に沿って密
閉する請求項6記載の液晶表示パネルの製造方法。
8. The outer peripheral sealing step comprises applying an ultraviolet-curable sealing agent to the step, irradiating ultraviolet rays to cure the sealing agent, and sealing the inner panel along the outer periphery of both substrates. Item 7. The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to Item 6.
【請求項9】 前記外周シール工程は、粘度が100c
Pから10000cPの範囲に調製されたシール剤を該
段差に塗布した後、硬化して内部のパネルを両基板の外
周に沿って密閉する請求項6記載の液晶表示パネルの製
造方法。
9. The method according to claim 9, wherein the peripheral sealing step has a viscosity of 100 c.
7. The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 6, wherein a sealant prepared in the range of P to 10,000 cP is applied to the step and then cured to seal the inner panel along the outer periphery of both substrates.
【請求項10】 該化学処理工程の後で且つ該注入工程
の前に、各基板の外周に沿って残された不要な突起を研
磨により除去する研磨工程を含む請求項6記載の液晶表
示パネルの製造方法。
10. The liquid crystal display panel according to claim 6, further comprising a polishing step of removing unnecessary projections left along the outer periphery of each substrate by polishing after said chemical treatment step and before said injection step. Manufacturing method.
【請求項11】 所定の肉厚を有し且つエレクトロルミ
ネッセンス素子が形成された一方の基板に対して保護用
の他方の基板を所定量だけ平面的にずらして重ね合わせ
両基板の外周に沿って段差を設けた状態で、間隙を介し
両基板を接合してエレクトロルミネッセンス表示パネル
を作成するパネル作成工程と、 該段差にシール剤を供給して、内部のエレクトロルミネ
ッセンス表示パネルを両基板の外周に沿って密閉する外
周シール工程と、 該シール剤によって保護された状態で該エレクトロルミ
ネッセンス表示パネルを薬液に浸漬し、化学反応により
基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工
程とを行うエレクトロルミネッセンス表示パネルの製造
方法。
11. A substrate having a predetermined thickness and having the electroluminescent element formed thereon is superposed on the other substrate for protection by displacing the other substrate by a predetermined amount and extending along the outer periphery of both substrates. In a state where a step is provided, a panel forming step of forming an electroluminescent display panel by bonding both substrates through a gap, and supplying a sealant to the step to allow an internal electroluminescent display panel to be provided on the outer periphery of both substrates. An outer peripheral sealing step of sealing along the outer peripheral surface, and a chemical treatment step of immersing the electroluminescent display panel in a chemical solution in a state protected by the sealing agent and removing a certain amount of the surface of the substrate by a chemical reaction to reduce the thickness. For producing an electroluminescent display panel.
【請求項12】 前記パネル作成工程は、該段差の幅が
0.5mmから10mmの範囲に入る様に、両基板を所
定量だけ互いに平面的にずらして重ね合わせる請求項1
1記載のエレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方
法。
12. The panel forming step according to claim 1, wherein the two substrates are overlapped with each other by a predetermined amount so that the width of the step falls within a range of 0.5 mm to 10 mm.
2. A method for manufacturing an electroluminescent display panel according to item 1.
【請求項13】 前記外周シール工程は、該段差に紫外
線硬化型のシール剤を塗布した後、紫外線を照射し該シ
ール剤を硬化して内部のエレクトロルミネッセンス表示
パネルを両基板の外周に沿って密閉する請求項11記載
のエレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
13. The outer peripheral sealing step comprises applying an ultraviolet-curable sealing agent to the step, and then irradiating ultraviolet rays to cure the sealing agent so that the inner electroluminescent display panel is formed along the outer periphery of both substrates. The method for manufacturing an electroluminescent display panel according to claim 11, wherein the panel is hermetically sealed.
【請求項14】 前記外周シール工程は、粘度が100
cPから10000cPの範囲に調製されたシール剤を
該段差に塗布した後、硬化して内部のエレクトロルミネ
ッセンス表示パネルを両基板の外周に沿って密閉する請
求項11記載のエレクトロルミネッセンス表示パネルの
製造方法。
14. The method according to claim 14, wherein the peripheral sealing step has a viscosity of 100.
12. The method for manufacturing an electroluminescent display panel according to claim 11, wherein a sealant prepared in a range of cP to 10,000 cP is applied to the step, and then cured to seal the inner electroluminescent display panel along the outer periphery of both substrates. .
【請求項15】 該化学処理工程の後、両基板の外周に
沿って残された不要な突起を研磨により除去する研磨工
程を含む請求項11記載のエレクトロルミネッセンス表
示パネルの製造方法。
15. The method for manufacturing an electroluminescent display panel according to claim 11, further comprising a polishing step of removing unnecessary projections left along the outer peripheries of both substrates after said chemical treatment step by polishing.
【請求項16】 所定の肉厚を有し且つ液晶表示パネル
用に加工された一対の基板と、所定の間隙を介し該一対
の基板を接合して空のパネルを形成する接合部材と、該
パネルの内部に満たされた液晶とからなる液晶表示パネ
ルであって、 前記パネルは、該一対の基板を所定量だけ互いに平面的
にずらして重ね合わせ両基板の外周に沿って段差を設け
たものであり、 該段差にシール剤を供給して、内部のパネルを両基板の
外周に沿って密閉し、該シール剤によって保護された状
態で該パネルを薬液に浸漬し、化学反応により該基板の
表面を一定量除去して肉厚を薄くしたことを特徴とする
液晶表示パネル。
16. A pair of substrates having a predetermined thickness and processed for a liquid crystal display panel, a bonding member for bonding the pair of substrates through a predetermined gap to form an empty panel, What is claimed is: 1. A liquid crystal display panel comprising a liquid crystal filled in a panel, wherein said panel overlaps said pair of substrates by a predetermined amount and is superimposed on each other to form a step along the outer periphery of both substrates. A sealing agent is supplied to the step, the inner panel is sealed along the outer periphery of both substrates, and the panel is immersed in a chemical solution in a state protected by the sealing agent, and the substrate is chemically reacted. A liquid crystal display panel having a reduced thickness by removing a certain amount of surface.
【請求項17】 前記パネルは、該段差の幅が0.5m
mから10mmの範囲に入る様に、一対の基板を所定量
だけ互いに平面的にずらして重ね合わせたものであるこ
とを特徴とする請求項16記載の液晶表示パネル。
17. The panel according to claim 1, wherein the width of the step is 0.5 m.
17. The liquid crystal display panel according to claim 16, wherein a pair of substrates are overlapped with each other by a predetermined amount so as to be within a range of m to 10 mm.
【請求項18】 前記パネルは、該段差に紫外線硬化型
のシール剤を塗布した後紫外線を照射して該シール剤を
硬化し、両基板の外周に沿って密閉したものであること
を特徴とする請求項16記載の液晶表示パネル。
18. The panel is characterized in that an ultraviolet-curable sealant is applied to the step, and then the sealant is cured by irradiating ultraviolet rays, and is sealed along the outer periphery of both substrates. The liquid crystal display panel according to claim 16, wherein
【請求項19】 前記パネルは、粘度が100cPから
10000cPの範囲に調製されたシール剤を該段差に
塗布した後、硬化して両基板の外周に沿って密閉したも
のであることを特徴とする請求項16記載の液晶表示パ
ネル。
19. The panel is characterized in that a sealant having a viscosity in the range of 100 cP to 10000 cP is applied to the step, then cured and hermetically sealed along the outer periphery of both substrates. The liquid crystal display panel according to claim 16.
【請求項20】 前記パネルは、化学反応により該基板
の表面を一定量除去して肉厚を薄くした後、基板の外周
に沿って残された不要な突起を研磨により除去したもの
であることを特徴とする請求項16記載の液晶表示パネ
ル。
20. The panel according to claim 1, wherein a predetermined amount of the surface of the substrate is removed by a chemical reaction to reduce the thickness, and then unnecessary projections remaining along the outer periphery of the substrate are removed by polishing. 17. The liquid crystal display panel according to claim 16, wherein:
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