JP2002313708A - Edge exposure system - Google Patents

Edge exposure system

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JP2002313708A
JP2002313708A JP2001118486A JP2001118486A JP2002313708A JP 2002313708 A JP2002313708 A JP 2002313708A JP 2001118486 A JP2001118486 A JP 2001118486A JP 2001118486 A JP2001118486 A JP 2001118486A JP 2002313708 A JP2002313708 A JP 2002313708A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an edge exposure system that can perform good exposure on the edge of a substrate by exposing the edge to the light having a uniform intensity distribution. SOLUTION: The light from a light source unit 31 is made incident to an optical mixing element 34 through a first light guide 33 made of 500 optical fibers. In the optical element 34, the light rays emitted from the optical fibers are mixed (optically mixed) with each other and the light emitted from the light-emitting surface 34a of the element 34 has a nearly uniform intensity distribution. The emitted light having the intensity distribution is introduced to an irradiation head 32 through a second light guide 35 composed of 500 optical fibers and projected upon the edge of the substrate W.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体基板、液
晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、
光ディスク用基板等(以下、「基板」と称する)の端縁
部に光を照射して基板の露光を行うエッジ露光装置に関
するものである。
The present invention relates to a semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask,
The present invention relates to an edge exposure apparatus that irradiates an edge of an optical disc substrate or the like (hereinafter, referred to as a “substrate”) with light to expose the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の基板に対してレジスト塗布処理
を行うと、その基板全面にレジスト膜が形成されるので
あるが、基板端縁部においては半導体チップや配線等の
パターンが形成されることはないため、レジスト膜は不
要であるばかりでなく、基板搬送時の機械的接触によっ
て発塵等の原因となるため、基板端縁部のレジスト膜に
ついてはむしろ積極的に除去する必要がある。
2. Description of the Related Art When a resist coating process is performed on a substrate of this type, a resist film is formed on the entire surface of the substrate. At the edge of the substrate, patterns such as semiconductor chips and wiring are formed. Therefore, not only is the resist film unnecessary, but also mechanical contact at the time of transporting the substrate causes dust and the like, so the resist film at the edge of the substrate needs to be actively removed. .

【0003】そこで、現像処理前に基板端縁部を露光し
ておくためのエッジ露光装置が数多く提案されている。
従来のエッジ露光装置では、光源からの光(一般的には
紫外線)を複数本の光ファイバーを束ねたライトガイド
によって導き、基板端縁部に照射することによって、当
該端縁部のレジスト膜を感光させるエッジ露光が行われ
てきた。
Therefore, many edge exposure apparatuses have been proposed for exposing the edge of the substrate before the development processing.
In a conventional edge exposure apparatus, light (generally, ultraviolet light) from a light source is guided by a light guide in which a plurality of optical fibers are bundled, and the resist film at the edge is exposed by irradiating the edge of the substrate. Edge exposure has been performed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、光源として
例えば紫外線ランプが用いられるが、その光源から放射
される光の光強度分布は一般的に不均一であり、ライト
ガイドを構成する各光ファイバーの入射端面における光
強度も当然不均一となっている。そして、各光ファイバ
ーにより基板端縁部側に導光され、その出射面から出射
される光の強度も、不均一となっている。その結果、こ
うしてライトガイドを介してエッジ露光された基板端縁
部における光強度分布は不均一となり、、端縁部のレジ
スト膜の一部が十分に感光されず、エッジ露光後に現像
処理を施したとしても端縁部にレジスト膜が部分的に残
存してしまうという問題があった。
By the way, for example, an ultraviolet lamp is used as a light source, but the light intensity distribution of the light emitted from the light source is generally non-uniform, and the incident light of each optical fiber constituting the light guide is incident. The light intensity at the end face is naturally non-uniform. The light is guided toward the substrate edge by the respective optical fibers, and the intensity of the light emitted from the emission surface is also non-uniform. As a result, the light intensity distribution at the edge of the substrate exposed to the edge through the light guide becomes nonuniform, a part of the resist film at the edge is not sufficiently exposed, and development processing is performed after the edge exposure. Even if it does, there is a problem that the resist film partially remains at the edge.

【0005】また、エッジ露光を含む基板処理一般の技
術課題として、タクトタイムを短縮してスループットを
向上させるということが挙げられる。特に近年は基板の
大径化の進展が著しく、例えば半導体基板では、その直
径が300mm以上になりつつあり、基板サイズの大型
化にともなってエッジ露光を行うべき基板端縁部の面積
(以下、「露光面積」とする)も増大する。ここで、従
来装置によりエッジ露光を行った場合、露光面積の増大
によりエッジ露光に要するタクトタイムも当然に長くな
るため、エッジ露光に要するタクトタイムを短縮するた
めの工夫が望まれている。
[0005] Further, as a general technical problem of substrate processing including edge exposure, shortening of tact time and improvement of throughput are mentioned. In particular, in recent years, the diameter of the substrate has been remarkably increased. For example, the diameter of a semiconductor substrate has been increasing to 300 mm or more. “Exposure area”) also increases. Here, when the edge exposure is performed by the conventional apparatus, the tact time required for the edge exposure naturally becomes longer due to the increase in the exposure area. Therefore, a device for reducing the tact time required for the edge exposure is desired.

【0006】ここで、エッジ露光に要するタクトタイム
を短縮するために、例えば光源を複数台設けることが考
えられるが、各光源について見てみると、上記したと同
様に、光源から放射される光の光強度分布が不均一であ
ることに起因する問題が生じる。また、端縁部全体を見
た場合には、次のような問題も生じる。すなわち、常に
各光源から同一強度の光が放射されるわけではなく、一
般的には各光源から放射される光の光強度は相互に異な
っていることが多い。特に、一の光源が経時変化によっ
て出射光の光強度がその他の光源に比べて低下している
場合には、端縁部における光強度分布の不均一さがより
顕著なものとなってしまう。
Here, in order to shorten the takt time required for edge exposure, it is conceivable to provide a plurality of light sources, for example. A problem arises due to the non-uniformity of the light intensity distribution. In addition, when the entire edge is viewed, the following problem occurs. That is, light of the same intensity is not always emitted from each light source, and generally, the light intensity of the light emitted from each light source is often different from each other. In particular, when the light intensity of the emitted light of one light source is lower than that of the other light sources due to the change with time, the unevenness of the light intensity distribution at the edge becomes more remarkable.

【0007】この発明は上記課題に鑑みなされたもので
あり、基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して良好
なエッジ露光処理を実施することができるエッジ露光装
置を提供することを第1の目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide an edge exposure apparatus capable of performing an excellent edge exposure process by exposing an edge portion of a substrate with a uniform light intensity distribution. This is the first purpose.

【0008】また、この発明は、上記第1の目的を達成
した上で、さらにスループットを向上させることができ
るエッジ露光装置を提供することを第2の目的とする。
It is a second object of the present invention to provide an edge exposure apparatus capable of further improving the throughput while achieving the first object.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1にかかるエッジ
露光装置は、上記第1の目的を達成するため、光を放射
する光源と、その一方端面を前記光源と対向させて前記
光源からの光の一部をその他方端面側に導光する光ファ
イバー素線を複数本束ねてなる第1ライトガイドと、前
記各光ファイバー素線の前記他方端面から出射される光
を受け、その内部で光混合させた後、一の出射面から光
を出射させる光混合光学素子とを備えており、前記光混
合光学素子の前記出射面から直接または複数本の光ファ
イバー素線を束ねてなる第2ライトガイドを介して前記
出射光を基板の端縁部に向けて照射して前記基板の露光
を行っている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an edge exposure apparatus, comprising: a light source for emitting light; a light source for emitting light; A first light guide formed by bundling a plurality of optical fiber strands for guiding a part of light to the other end face side, and receiving light emitted from the other end face of each of the optical fiber strands, and mixing light therein; And a light mixing optical element for emitting light from one of the light exit surfaces, and a second light guide formed by bundling a plurality of optical fiber wires directly from the light exit surface of the light mixing optical element. The substrate is exposed by irradiating the emitted light toward an edge of the substrate through the substrate.

【0010】このように構成されたエッジ露光装置で
は、光源からの光は第1ライドガイドによって光混合光
学素子に導光される。このとき、光源からの光の光強度
分布は不均一であるため、第1ライトガイドを構成する
光ファイバー素線で導光される光の強度はこれらの光フ
ァイバー素線間で不均一となっている。しかしながら、
各光ファイバー素線から出射された光は光混合光学素子
の内部において混合され、光混合光学素子から出射され
る出射光の光強度分布はほぼ均一となる。そして、この
出射光によって基板の露光が行われる。
[0010] In the edge exposure apparatus configured as described above, the light from the light source is guided to the light mixing optical element by the first light guide. At this time, since the light intensity distribution of the light from the light source is non-uniform, the intensity of the light guided by the optical fiber wires constituting the first light guide is non-uniform between these optical fiber wires. . However,
The light emitted from each optical fiber is mixed inside the light mixing optical element, and the light intensity distribution of the light emitted from the light mixing optical element becomes substantially uniform. Then, the substrate is exposed by the emitted light.

【0011】また、請求項2にかかるエッジ露光装置
は、上記第2の目的を達成するため、光を放射するn個
(n≧2)の光源と、前記n個の光源と1対1で対応し
て設けられたn本の第1ライトガイドと、光混合光学素
子とを備えており、各第1ライトガイドを、その一方端
面を当該第1ライトガイドに対応する光源と対向させて
当該光源からの光の一部をその他方端面側に導光する光
ファイバー素線を複数本束ねて形成するとともに、前記
光混合光学素子を前記各光ファイバー素線の前記他方端
面から出射される光を受け、その内部で光混合させた
後、一の出射面からの出射光を直接または複数本の光フ
ァイバー素線を束ねてなる第2ライトガイドを介して基
板の端縁部に向けて照射して前記基板の露光を行うよう
に構成している。
According to a second aspect of the present invention, in order to achieve the second object, the edge exposure apparatus has n (n ≧ 2) light sources that emit light and one to one with the n light sources. It is provided with n first light guides provided correspondingly, and a light mixing optical element, each of the first light guides having one end face facing a light source corresponding to the first light guide. A plurality of optical fiber strands for guiding a part of the light from the light source to the other end face are formed by bundling a plurality of optical fiber strands, and the light mixing optical element receives light emitted from the other end face of each of the optical fiber strands. After the light is mixed therein, the light emitted from one emission surface is irradiated directly or through a second light guide formed by bundling a plurality of optical fiber wires toward an edge portion of the substrate. The substrate is configured to be exposed.

【0012】このように構成されたエッジ露光装置で
は、請求項1のエッジ露光装置と同様に、光源からの光
は第1ライトガイドによって光混合光学素子に導光さ
れ、その光混合光学素子の内部で光混合されるため、基
板の端縁部に照射される光、つまり光混合光学素子の出
射面からの光の光強度分布がほぼ均一化され、その出射
光により基板の露光が行われる。また、各光源からの光
が光混合光学素子で光混合されるため、出射光の光強度
を低減させることなく照射面積を広くすることができる
ので、露光効率を向上させることができる。
In the edge exposure apparatus having the above-mentioned structure, the light from the light source is guided to the light mixing optical element by the first light guide, and the light from the light mixing optical element is provided. Since the light is mixed inside, the light intensity distribution of the light applied to the edge portion of the substrate, that is, the light intensity from the exit surface of the light mixing optical element is substantially uniform, and the substrate is exposed by the emitted light. . In addition, since the light from each light source is mixed by the light mixing optical element, the irradiation area can be increased without reducing the light intensity of the emitted light, so that the exposure efficiency can be improved.

【0013】なお、光混合光学素子については、光ファ
イバー素線の芯線と同一材料で形成するのが望ましく、
このように構成することにより光混合光学素子と各光フ
ァイバー素線との間での光損失が低減される。
The light mixing optical element is preferably formed of the same material as the core of the optical fiber.
With this configuration, light loss between the light mixing optical element and each optical fiber is reduced.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1は、本発明にかかるエッジ露
光装置の第1実施形態の全体構成を示す斜視図である。
同図(および後で説明する図4)には、XY平面を水平
面とし、Z軸方向を鉛直方向とするXYZ直交座標系を
付している。
FIG. 1 is a perspective view showing the entire configuration of a first embodiment of an edge exposure apparatus according to the present invention.
This figure (and FIG. 4 described later) is provided with an XYZ orthogonal coordinate system in which the XY plane is a horizontal plane and the Z-axis direction is a vertical direction.

【0015】図1のエッジ露光装置は、基板Wを回転さ
せつつ、その基板Wの端縁部に光を照射してエッジ露光
処理を行う装置であり、主として基板Wを回転させる回
転処理部1と、照射位置を移動させる駆動処理部2と、
基板端縁部への光の照射を行う照射処理部3と、受光器
4とを備えている。
The edge exposure apparatus shown in FIG. 1 is an apparatus for performing edge exposure processing by irradiating the edge of the substrate W with light while rotating the substrate W. The rotation processing section 1 mainly rotates the substrate W. A drive processing unit 2 for moving an irradiation position;
An irradiation processing unit 3 for irradiating the edge of the substrate with light and a light receiver 4 are provided.

【0016】回転処理部1は、スピンモータ11、モー
タ軸12およびスピンチャック13を備えている。スピ
ンチャック13は基板Wを裏面から真空吸着してその基
板Wを略水平姿勢にて保持する。また、このスピンチャ
ック13はモータ軸12を介してスピンモータ11と連
結されている。これにより、スピンモータ11の回転動
作はモータ軸12を介してスピンチャック13に伝達さ
れ、スピンチャック13に保持された基板Wを略水平面
内(XY面内)にて回転させる。なお、スピンチャック
13は基板Wを真空吸着する形態に限定されるものでは
なく、基板Wを機械的に把持する形態であっても良い。
The rotation processing section 1 includes a spin motor 11, a motor shaft 12, and a spin chuck 13. The spin chuck 13 vacuum-adsorbs the substrate W from the back surface and holds the substrate W in a substantially horizontal posture. The spin chuck 13 is connected to the spin motor 11 via a motor shaft 12. As a result, the rotation operation of the spin motor 11 is transmitted to the spin chuck 13 via the motor shaft 12, and rotates the substrate W held by the spin chuck 13 in a substantially horizontal plane (XY plane). Note that the spin chuck 13 is not limited to a form in which the substrate W is vacuum-sucked, but may be a form in which the substrate W is mechanically held.

【0017】駆動処理部2は、X方向駆動部22とY方
向駆動部24とを備える。X方向駆動部22は、エッジ
露光装置に固定配置されるとともに、その上面に配置さ
れたY方向駆動部24を図中矢印AR1に示すようにX
方向に沿って駆動させる駆動機構を備えている。このた
め、X方向駆動部22がY方向駆動部24をX方向に沿
って移動させると、それに連動してY方向駆動部24の
上面に配置された露光アーム28もX方向に沿って移動
する。
The drive processing unit 2 includes an X-direction drive unit 22 and a Y-direction drive unit 24. The X-direction drive unit 22 is fixedly disposed on the edge exposure device, and the Y-direction drive unit 24 disposed on the upper surface thereof is moved to the X direction as shown by an arrow AR1 in the figure.
It has a drive mechanism for driving along the direction. Therefore, when the X-direction drive unit 22 moves the Y-direction drive unit 24 along the X direction, the exposure arm 28 disposed on the upper surface of the Y-direction drive unit 24 also moves along the X direction in conjunction with the movement. .

【0018】Y方向駆動部24は、その上面に配置され
た露光アーム28を図中矢印AR2にて示すようにY方
向に沿って駆動させる駆動機構を備えている。これによ
り、Y方向駆動部24は露光アーム28をY方向に沿っ
て駆動させることができる。従って、駆動処理部2は、
X方向駆動部22およびY方向駆動部24によって露光
アーム28をXY平面内にて自在に任意の位置(但し、
X方向駆動部22およびY方向駆動部24の駆動可能範
囲)に移動させることができる。なお、X方向駆動部2
2およびY方向駆動部24には、ボールネジを用いた機
構やプーリとベルトとを用いた機構等公知の種々の機構
を採用することができる。
The Y-direction drive unit 24 has a drive mechanism for driving the exposure arm 28 disposed on the upper surface thereof in the Y direction as indicated by an arrow AR2 in the figure. Thus, the Y-direction drive unit 24 can drive the exposure arm 28 along the Y direction. Therefore, the drive processing unit 2
The exposure arm 28 can be freely moved to any position within the XY plane by the X-direction drive unit 22 and the Y-direction drive unit 24 (however,
(The driving range of the X-direction driving unit 22 and the Y-direction driving unit 24). Note that the X-direction driving unit 2
Various known mechanisms, such as a mechanism using a ball screw or a mechanism using a pulley and a belt, can be adopted as the 2 and Y direction driving units 24.

【0019】図2は、図1のエッジ露光装置における照
射処理部の概略構成を示す図である。照射処理部3は、
同図に示すように、光を放射する光源ユニット31と、
露光アーム28の先端に設けられた照射ヘッド32とを
備えるとともに、光源ユニット31からの光を第1ライ
トガイド33、光混合光学素子34および第2ライトガ
イド35を介して照射ヘッド32に導光するように構成
している。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of an irradiation processing unit in the edge exposure apparatus of FIG. The irradiation processing unit 3
As shown in the figure, a light source unit 31 that emits light,
An irradiation head 32 provided at the tip of the exposure arm 28, and guides light from the light source unit 31 to the irradiation head 32 via the first light guide 33, the light mixing optical element 34, and the second light guide 35. It is configured to be.

【0020】光源ユニット31は、ランプハウス311
の内部にランプ312、リフレクタ313、シャッター
モータ314、シャッター315を設けている。ランプ
312としては、例えば200Wの紫外線ランプを用い
ることができる。そして、このランプ312から放射さ
れる光の一部はリフレクタ313によって反射されて所
定位置に集光される。この集光位置にはシャッター31
5が配置されており、シャッター315に連結されたシ
ャッターモータ314によって開閉制御される。また、
この集光位置には、第1ライトガイド33の入射端面が
ランプ側を向いた状態で第1ライトガイド33の入射端
部がガイドホルダ(図示省略)によってランプハウス3
11に固定されている。
The light source unit 31 includes a lamp house 311
, A lamp 312, a reflector 313, a shutter motor 314, and a shutter 315 are provided. As the lamp 312, for example, a 200 W ultraviolet lamp can be used. Then, a part of the light emitted from the lamp 312 is reflected by the reflector 313 and collected at a predetermined position. The shutter 31 is located at this focusing position.
5 is arranged, and is opened and closed by a shutter motor 314 connected to a shutter 315. Also,
At this condensing position, the incident end of the first light guide 33 faces the lamp with the incident end face of the first light guide 33 facing the lamp side by a guide holder (not shown).
11 is fixed.

【0021】このため、シャッターモータ314によっ
てシャッター315が開放されると、ランプ312から
の光のうち一部が直接、また残りがリフレクタ313で
反射されて第1ライトガイド33の入射端面に入射す
る。一方、シャッターモータ314によってシャッター
315が閉鎖された状態(図2の状態)においては、ラ
ンプ312からの光はシャッター315によって遮断さ
れ、光のライトガイド33への入射が禁止される。
For this reason, when the shutter 315 is opened by the shutter motor 314, part of the light from the lamp 312 is directly reflected, and the rest is reflected by the reflector 313 and enters the incident end face of the first light guide 33. . On the other hand, when the shutter 315 is closed by the shutter motor 314 (the state in FIG. 2), the light from the lamp 312 is blocked by the shutter 315, and the light is prevented from entering the light guide 33.

【0022】この第1ライトガイド33は、芯線材料と
して例えば石英を用いた光ファイバー素線を複数本束ね
て形成されたものであり、この実施形態においては50
0本の光ファイバー素線(図3の符号331)を束ねた
ものを用いている。各光ファイバー素線331の光源側
端面(入射端面)は本発明の「一方端面」に相当するも
のであり、これらの光源側端面が面一状に配置されて第
1ライトガイド33の入射端面を形成している。このた
め、シャッター315が開放状態のとき、光源ユニット
31からの光は500本の光ファイバー素線331の光
源側端面を介して入射され、他方端面(図3の符号33
1b)に導光される。このように、この実施形態では、
光が実質上500本の光に分割され、各分割光はそれに
対応する光ファイバー素線331により伝送される。
The first light guide 33 is formed by bundling a plurality of optical fiber wires using, for example, quartz as a core wire material.
A bundle of zero optical fiber wires (reference numeral 331 in FIG. 3) is used. The light source side end face (incidence end face) of each optical fiber 331 corresponds to the “one end face” of the present invention, and these light source side end faces are arranged flush with each other so that the incident end face of the first light guide 33 is formed. Has formed. Therefore, when the shutter 315 is in the open state, the light from the light source unit 31 enters through the light source side end face of the 500 optical fiber wires 331 and the other end face (reference numeral 33 in FIG. 3).
1b). Thus, in this embodiment,
The light is substantially split into 500 lights, and each split light is transmitted by the corresponding optical fiber 331.

【0023】また、第1ライトガイド33の出射端部
は、図3(a)に示すように、その出射端面を光混合光学
素子34の入射面34aと対面させた状態でガイドホル
ダ361によって連結ボックス36(図1)に固定され
ている。このように構成することによって、各光ファイ
バー素線331により伝送されてきた500本の分割光
は入射面34aを介して光混合光学素子34に入射す
る。
The exit end of the first light guide 33 is connected by a guide holder 361 with its exit end facing the incident surface 34a of the light mixing optical element 34, as shown in FIG. It is fixed to a box 36 (FIG. 1). With such a configuration, the 500 divided light beams transmitted by the respective optical fiber strands 331 are incident on the light mixing optical element 34 via the incident surface 34a.

【0024】この光混合光学素子34は例えば石英ロッ
ドで構成されており、第1ライトガイド33と同様にガ
イドホルダ361により連結ボックス36に固定されて
いる。そして、上記のようにして各光ファイバー素線3
31により伝送されてきた500本の分割光が入射面3
4aを介して石英ロッドに入射されると、その内部34
1で光混合された後、入射面34aと反対側に設けられ
た出射面34bから1本の光として出射される。
The light mixing optical element 34 is made of, for example, a quartz rod, and is fixed to the connection box 36 by a guide holder 361 like the first light guide 33. Then, as described above, each optical fiber 3
500 split light transmitted by
When the light enters the quartz rod through 4a, its interior 34
After the light is mixed at 1, the light is emitted as one light from an emission surface 34b provided on the side opposite to the incidence surface 34a.

【0025】また、光混合光学素子34の出射面34b
側には、その入射面34a側と同様に、第2ライトガイ
ド35の一方端部が、その一方端面を石英ロッドの出射
面34bと対面させた状態でガイドホルダ361によっ
て連結ボックス36に固定されている。この第2ライト
ガイド35は、第1ライトガイド33と全く同様に構成
されている。すなわち、第2ライトガイド35は芯線材
料として石英を用いた光ファイバー素線351を500
本束ねて形成されている。このため、光混合光学素子3
4の出射面34bから出射した光は500本の光ファイ
バー素線351の光源側端面351aを介して入射さ
れ、照射ヘッド32に導光される。
The light exit surface 34b of the light mixing optical element 34
On one side, similarly to the incident surface 34a side, one end of the second light guide 35 is fixed to the connection box 36 by the guide holder 361 with the one end face facing the emission surface 34b of the quartz rod. ing. The second light guide 35 is configured exactly the same as the first light guide 33. That is, the second light guide 35 is formed of an optical fiber 351 made of quartz as a core wire material.
It is formed in a bundle. Therefore, the light mixing optical element 3
The light emitted from the emission surface 34b of No. 4 is incident via the light source side end surfaces 351a of the 500 optical fiber strands 351 and guided to the irradiation head 32.

【0026】この照射ヘッド32は露光アーム28の先
端に固設されており(図1参照)、その内部には図2に
示すように投影レンズ321、ファイバー結合部322
およびスリットマスク323が設けられている。ファイ
バー結合部322には、第2ライトガイド35の他方端
部が嵌入結合されており、上記のようにして光ファイバ
ー素線351を介して伝送されてきた光がスリットマス
ク323に向けて出射される。このスリットマスク32
3には例えば矩形形状のスリットが形成されており、ス
リットを通過した光が投影レンズ321からスピンチャ
ック13に保持された基板Wの端縁部に投影される。こ
うして、基板Wの端縁部に光が照射されて基板のエッジ
露光が行われる。
The irradiation head 32 is fixed to the tip of the exposure arm 28 (see FIG. 1). Inside the irradiation head 32, a projection lens 321 and a fiber coupling section 322 are provided as shown in FIG.
And a slit mask 323 are provided. The other end of the second light guide 35 is fitted and coupled to the fiber coupling portion 322, and the light transmitted through the optical fiber 351 as described above is emitted toward the slit mask 323. . This slit mask 32
For example, a rectangular slit is formed in 3, and the light passing through the slit is projected from the projection lens 321 onto the edge of the substrate W held by the spin chuck 13. Thus, the edge of the substrate W is irradiated with the light, and the edge exposure of the substrate W is performed.

【0027】なお、この実施形態では、照射処理部3に
よって形成された照射領域の照度判定のために、受光器
4が設けられている。
In this embodiment, a light receiver 4 is provided for determining the illuminance of the irradiation area formed by the irradiation processing unit 3.

【0028】次に、上記のように構成されたエッジ露光
装置の動作について説明する。このエッジ露光装置では
適当なタイミングでランプ312が点灯される。そし
て、エッジ露光を開始するまでシャッター315は閉鎖
されており、これによってランプ312からの光が照射
ヘッド32側に導光されるのを防止している。一方、エ
ッジ露光を開始する、あるいは受光器4によって照度判
定を行う際には、シャッターモータ314によってシャ
ッター315を開放してランプ312からの光が照射ヘ
ッド32側に導光される。
Next, the operation of the edge exposure apparatus configured as described above will be described. In this edge exposure apparatus, the lamp 312 is turned on at an appropriate timing. Then, the shutter 315 is closed until the edge exposure is started, thereby preventing light from the lamp 312 from being guided to the irradiation head 32 side. On the other hand, when the edge exposure is started or the illuminance is determined by the light receiver 4, the shutter 315 is opened by the shutter motor 314, and the light from the lamp 312 is guided to the irradiation head 32 side.

【0029】エッジ露光を開始するためにシャッター3
15が開放されると、それと同時に、光源ユニット31
からの光が第1ライトガイド33によって光混合光学素
子34に導光され、その光混合光学素子34の内部34
1で光混合された後、第2ライトガイド35を介して照
射ヘッド32に光が導光されて基板Wの露光が開始され
る。ここでは、光源ユニット31からの光が照射ヘッド
32に導光されるまでの光強度分布の変化に着目して本
実施形態の特徴について詳述する。
Shutter 3 for starting edge exposure
When the light source unit 31 is opened,
Is guided to the light mixing optical element 34 by the first light guide 33, and the inside 34 of the light mixing optical element 34
After light mixing in step 1, light is guided to the irradiation head 32 via the second light guide 35, and exposure of the substrate W is started. Here, the features of the present embodiment will be described in detail by focusing on a change in the light intensity distribution until the light from the light source unit 31 is guided to the irradiation head 32.

【0030】光源ユニット31から出射される光は既に
上述したように不均一な光強度分布を有している。その
ため、第1ライトガイド33を構成する光ファイバー素
線331のそれぞれに入射する光の強度も上記光強度分
布を反映したものとなっており、それらの光ファイバー
素線331の出射端部における図3(a)のA−A線に沿
った光強度分布は例えば同図(b)に示すように不均一な
ものとなっている。
The light emitted from the light source unit 31 has an uneven light intensity distribution as described above. Therefore, the intensity of light incident on each of the optical fiber strands 331 constituting the first light guide 33 also reflects the above light intensity distribution, and FIG. The light intensity distribution along the line AA in (a) is non-uniform, for example, as shown in FIG.

【0031】そして、各光ファイバー素線331からの
光が光混合光学素子34に入射すると、その内部341
でミキシング(光混合)されて光混合光学素子34の出
射面34bから出射される光はほぼ均一な光強度分布を
有することとなる。このように均一な光強度分布を有す
る出射光は500本の光ファイバー素線351からなる
第2ライトガイド35の入射端面に入射されるため、そ
れらの光ファイバー素線351の入射端部における図3
(a)のB−B線に沿った光強度分布は例えば同図(c)に示
すように、ほぼ均一となっている。したがって、光強度
分布の均一性を保ちながら、第2ライトガイド35によ
って光が照射ヘッド32に導光される。
When the light from each optical fiber 331 enters the light mixing optical element 34, the inside
The light that is mixed (light-mixed) at this time and emitted from the emission surface 34b of the light-mixing optical element 34 has a substantially uniform light intensity distribution. The outgoing light having such a uniform light intensity distribution is incident on the incident end face of the second light guide 35 composed of the 500 optical fiber strands 351, and therefore, FIG.
The light intensity distribution along the line BB in (a) is substantially uniform, for example, as shown in FIG. Therefore, the light is guided to the irradiation head 32 by the second light guide 35 while maintaining the uniformity of the light intensity distribution.

【0032】以上のように、この第1実施形態によれ
ば、光源ユニット31から放射される光が不均一な光強
度分布を有している場合であっても、その光を複数の光
ファイバー素線を用いて照射ヘッド32に導光するまで
の間に光の光強度分布を均一化し、その光を照射ヘッド
32から基板Wの端縁部に照射することができる。その
結果、基板Wの端縁部を均一な光強度分布で露光して良
好なエッジ露光処理を実施することができる。
As described above, according to the first embodiment, even when the light emitted from the light source unit 31 has a non-uniform light intensity distribution, the light is transmitted to a plurality of optical fiber elements. The light intensity distribution of the light can be made uniform before the light is guided to the irradiation head 32 using the line, and the light can be irradiated from the irradiation head 32 to the edge of the substrate W. As a result, the edge portion of the substrate W can be exposed with a uniform light intensity distribution and a favorable edge exposure process can be performed.

【0033】図4は、この発明にかかるエッジ露光装置
の第2実施形態の全体構成を示す斜視図である。また、
図5は、図4のエッジ露光装置における照射処理部の概
略構成を示す図である。この第2実施形態が第1実施形
態と大きく相違する点は、光源ユニットを2つ設けてい
る点である。以下、同一構成については同一符号を付し
て説明を省略しつつ、相違点を中心に第2実施形態にか
かるエッジ露光装置について詳述する。
FIG. 4 is a perspective view showing the overall configuration of a second embodiment of the edge exposure apparatus according to the present invention. Also,
FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of an irradiation processing unit in the edge exposure apparatus of FIG. The second embodiment is significantly different from the first embodiment in that two light source units are provided. Hereinafter, the same components will be denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted, and the edge exposure apparatus according to the second embodiment will be described in detail focusing on differences.

【0034】この第2実施形態では、図4および図5に
示すように、2つの光源ユニット31a,31bが設け
られるとともに、これらの光源ユニット31a,31b
に1対1で対応して第1ライトガイド33a,33bが
設けられている。各光源ユニット31a,31bは、第
1実施形態の光源ユニット31と全く同一の構成を有し
ている。つまり、ランプハウス311の内部に設けられ
たランプ312が点灯すると、このランプ312から放
射される光の一部は直接集光位置側に放射されるととも
に、残りがリフレクタ313で反射されて集光位置に集
光される。また、光源ユニット31a(31b)では、
その集光位置に第1ライトガイド33a(33b)の入
射端面がランプ側を向いた状態で第1ライトガイド33
a(33b)の入射端部がガイドホルダ(図示省略)に
よってランプハウス311に固定されている。
In the second embodiment, as shown in FIGS. 4 and 5, two light source units 31a and 31b are provided, and these light source units 31a and 31b are provided.
The first light guides 33a and 33b are provided in one-to-one correspondence. Each of the light source units 31a and 31b has exactly the same configuration as the light source unit 31 of the first embodiment. That is, when the lamp 312 provided inside the lamp house 311 is turned on, a part of the light radiated from the lamp 312 is directly radiated to the condensing position side, and the rest is reflected by the reflector 313 and condensed. It is focused on the position. In the light source unit 31a (31b),
At the light condensing position, the first light guide 33a (33b) faces the lamp with the incident end face facing the lamp.
The incident end of a (33b) is fixed to the lamp house 311 by a guide holder (not shown).

【0035】このため、各光源ユニット31a,31b
に設けられたシャッター315,315をともに開放す
ると、光源ユニット31aからの光が第1ライトガイド
33aによって光混合光学素子34に入射されると同時
に、光源ユニット31bからの光が第1ライトガイド3
3bによって光混合光学素子34に導光される。また、
各光源ユニット31a,31bに設けられたシャッター
315,315の一方のみを開放すると、その開放され
た光源ユニットからの光のみが第1ライトガイドを介し
て光混合光学素子34に入射される。さらに、各光源ユ
ニット31a,31bに設けられたシャッター315,
315をともに閉鎖すると、各光源ユニット31a,3
1bでは、ランプ312からの光はシャッター315に
よって遮断され、光の第1ライトガイドへの入射が禁止
される。
For this reason, each of the light source units 31a, 31b
When the shutters 315 and 315 provided in the light source unit 31a are both opened, the light from the light source unit 31a is incident on the light mixing optical element 34 by the first light guide 33a, and the light from the light source unit 31b is simultaneously transmitted to the first light guide 3
The light is guided to the light mixing optical element 34 by 3b. Also,
When only one of the shutters 315 and 315 provided in each of the light source units 31a and 31b is opened, only the light from the opened light source unit enters the light mixing optical element 34 via the first light guide. Further, shutters 315 provided on each of the light source units 31a and 31b are provided.
When both 315 are closed, each light source unit 31a, 3
In 1b, the light from the lamp 312 is blocked by the shutter 315, and the light is prevented from entering the first light guide.

【0036】図6は、第2実施形態における光混合光学
素子とライトガイドとの連結状態を示す模式図である。
第1ライトガイド33a,33bの各々は第1実施形態
と同様に500本の光ファイバー素線331を束ねて形
成されており、第1ライトガイド33a,33bの出射
端部は相互に合流された状態でそれぞれガイドホルダ3
62,363によって連結ボックス36(図4)に固定
されている。さらに、こうして合流されたライトガイド
束については、各ライトガイド33a,33bの出射端
面を光混合光学素子34の入射面34aと対面させた状
態でガイドホルダ361によって連結ボックス36に固
定されている。このように構成することによって、第1
ライトガイド33a側において光ファイバー素線331
により伝送されてきた500本の分割光が入射面34a
を介して光混合光学素子34に入射するとともに、第1
ライトガイド33b側においても光ファイバー素線33
1により伝送されてきた500本の分割光が入射面34
aを介して光混合光学素子34に入射する。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a connection state between a light mixing optical element and a light guide according to the second embodiment.
Each of the first light guides 33a and 33b is formed by bundling 500 optical fiber strands 331 similarly to the first embodiment, and the emission ends of the first light guides 33a and 33b are merged with each other. Guide guide 3 each
It is fixed to the connection box 36 (FIG. 4) by 62 and 363. Further, the bundle of light guides thus merged is fixed to the connection box 36 by the guide holder 361 in a state where the emission end surfaces of the respective light guides 33a and 33b face the incident surface 34a of the light mixing optical element 34. With this configuration, the first
The optical fiber 331 on the light guide 33a side
Of the 500 divided lights transmitted by the
Incident on the light mixing optical element 34 through the
The optical fiber 33 is also provided on the light guide 33b side.
1. The 500 divided lights transmitted by the
The light enters the light mixing optical element 34 via a.

【0037】この光混合光学素子34は、光ファイバー
素線の芯線と同一の材料、つまり石英で形成された石英
ロッドで構成されており、第1ライトガイド33a,3
3bと同様にガイドホルダ361により連結ボックス3
6に固定されている。そして、上記のようにして各光フ
ァイバー素線331により伝送されてきた1000本の
分割光が入射面34aを介して石英ロッドに入射される
と、その内部341で光混合された後、入射面34aと
反対側に設けられた出射面34bから1本の光として出
射される。
The light mixing optical element 34 is made of the same material as that of the core of the optical fiber, that is, a quartz rod made of quartz.
3b, the connection box 3
6 fixed. Then, when the 1000 divided lights transmitted by the respective optical fiber strands 331 are incident on the quartz rod via the incident surface 34a as described above, the light is mixed inside the inside 341 and then the incident surface 34a The light is emitted as one light beam from an emission surface 34b provided on the opposite side to the light.

【0038】また、光混合光学素子34の出射面34b
側には、その入射面34a側と同様に、第2ライトガイ
ド35の一方端部が、その一方端面を石英ロッドの出射
面34bと対面させた状態でガイドホルダ361によっ
て連結ボックス36に固定されている。この第2ライト
ガイド35は、第1ライトガイド33と同様に構成され
ている。すなわち、第2ライトガイド35は芯線材料と
して石英を用いた光ファイバー素線351を1000本
束ねて形成されている。このため、光混合光学素子34
の出射面34bから出射した光は1000本の光ファイ
バー素線351の光源側端面351aを介して入射さ
れ、照射ヘッド32に導光される。
The light exit surface 34b of the light mixing optical element 34
On one side, similarly to the incident surface 34a side, one end of the second light guide 35 is fixed to the connection box 36 by the guide holder 361 with the one end face facing the emission surface 34b of the quartz rod. ing. The second light guide 35 has the same configuration as the first light guide 33. That is, the second light guide 35 is formed by bundling 1,000 optical fiber strands 351 using quartz as a core wire material. For this reason, the light mixing optical element 34
The light emitted from the emission surface 34b is incident via the light source side end surface 351a of the 1000 optical fiber wires 351 and guided to the irradiation head 32.

【0039】次に、上記のように構成されたエッジ露光
装置の動作について説明する。このエッジ露光装置では
適当なタイミングでランプ312がともに点灯される。
そして、エッジ露光を開始するまでシャッター315は
閉鎖されており、これによってランプ312からの光が
照射ヘッド32側に導光されるのを防止している。一
方、エッジ露光を開始する、あるいは受光器4によって
照度判定を行う際には、シャッターモータ314によっ
てシャッター315を開放して各ランプ312からの光
が照射ヘッド32側に導光される。
Next, the operation of the edge exposure apparatus configured as described above will be described. In this edge exposure apparatus, both lamps 312 are turned on at appropriate timing.
Then, the shutter 315 is closed until the edge exposure is started, thereby preventing light from the lamp 312 from being guided to the irradiation head 32 side. On the other hand, when starting edge exposure or performing illuminance determination by the light receiver 4, the shutter 315 is opened by the shutter motor 314, and light from each lamp 312 is guided to the irradiation head 32 side.

【0040】エッジ露光を開始するために2つのシャッ
ター315がともに開放されると、それと同時に、光源
ユニット31aからの光が第1ライトガイド33aによ
って、また光源ユニット31bからの光が第1ライトガ
イド33bによって光混合光学素子34に導光され、そ
の光混合光学素子34の内部341で光混合された後、
第2ライトガイド35を介して照射ヘッド32に光が導
光されて基板Wの露光が開始される。ここでは、光源ユ
ニット31a,31bからの光が照射ヘッド32に導光
されるまでの光強度分布の変化に着目して本実施形態の
特徴について詳述する。
When the two shutters 315 are both opened to start the edge exposure, at the same time, the light from the light source unit 31a is emitted by the first light guide 33a and the light from the light source unit 31b is emitted from the first light guide. After being guided to the light mixing optical element 34 by 33b and being light mixed inside 341 of the light mixing optical element 34,
The light is guided to the irradiation head 32 via the second light guide 35, and the exposure of the substrate W is started. Here, the features of the present embodiment will be described in detail by focusing on a change in the light intensity distribution until the light from the light source units 31a and 31b is guided to the irradiation head 32.

【0041】光源ユニット31a,31bから出射され
る光は既に上述したように不均一な光強度分布を有して
いる。そのため、第1実施形態において説明したと同様
に、光ファイバー素線331の出射端部における図6
(a)のA−A線に沿った光強度分布は例えば同図(b)に示
すように不均一なものとなっているが、各光ファイバー
素線331からの光を光混合光学素子34に入射するこ
とによって、その内部341でミキシング(光混合)さ
れて光混合光学素子34の出射面34bから出射される
光はほぼ均一な光強度分布を有することとなる。
The light emitted from the light source units 31a and 31b has a non-uniform light intensity distribution as described above. Therefore, as described in the first embodiment, the optical fiber 331 shown in FIG.
The light intensity distribution along the line AA in (a) is non-uniform, for example, as shown in FIG. 2B, but the light from each optical fiber 331 is transmitted to the light mixing optical element 34. When the light enters, the light is mixed (light-mixed) in the inside 341 and emitted from the emission surface 34b of the light-mixing optical element 34, and has a substantially uniform light intensity distribution.

【0042】そして、このように均一な光強度分布を有
する出射光は1000本の光ファイバー素線351から
なる第2ライトガイド35の入射端面に入射されるた
め、それらの光ファイバー素線351の入射端部におけ
る図6(a)のB−B線に沿った光強度分布は例えば同図
(c)に示すように、ほぼ均等となっている。したがっ
て、光強度分布の均一性を保ちながら、第2ライトガイ
ド35によって光が照射ヘッド32に導光される。
The outgoing light having such a uniform light intensity distribution is incident on the incident end face of the second light guide 35 composed of 1000 optical fiber strands 351, and therefore, the incident end of the optical fiber strands 351. The light intensity distribution along the line BB in FIG.
(c) As shown in FIG. Therefore, the light is guided to the irradiation head 32 by the second light guide 35 while maintaining the uniformity of the light intensity distribution.

【0043】以上のように、この実施形態によれば、第
1実施形態と同様に、光源ユニット31a,31bから
放射される光が不均一な光強度分布を有している場合で
あっても、その光を複数の光ファイバー素線を用いて照
射ヘッド32に導光するまでの間に光の光強度分布を均
一化し、その光を照射ヘッド32から基板Wの端縁部に
照射することができる。その結果、基板Wの端縁部を均
一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実施
することができる。
As described above, according to this embodiment, similarly to the first embodiment, even when the light emitted from the light source units 31a and 31b has an uneven light intensity distribution. The light intensity distribution of the light is made uniform before the light is guided to the irradiation head 32 using a plurality of optical fiber wires, and the light is irradiated from the irradiation head 32 to the edge of the substrate W. it can. As a result, the edge portion of the substrate W can be exposed with a uniform light intensity distribution and a favorable edge exposure process can be performed.

【0044】また、この第2実施形態では、2つの光源
ユニット31a,31bを設け、各光源ユニット31
a,31bからの光をまとめて基板Wの端縁部に照射す
るように構成しているため、次のような作用効果が得ら
れる。すなわち、照射ヘッド32から出射される単位時
間あたりの光線量が1つの光源ユニットのみを用いた場
合(第1実施形態)の2倍となる。このことは、第1実
施形態の光源ユニット31と同じ照度を維持しつつも照
射領域の面積を2倍にできることを意味している。した
がって、照度が同じであっても、照射領域を2倍に拡大
することによって基板Wの回転速度を従来の2倍にする
ことができるため、エッジ露光に要するタクトタイムは
約半分になり、スループットを大幅(約2倍)に向上さ
せることができる。
In the second embodiment, two light source units 31a and 31b are provided.
Since the light from a and 31b is collectively irradiated to the edge of the substrate W, the following operation and effect can be obtained. In other words, the amount of light per unit time emitted from the irradiation head 32 is twice as large as that when only one light source unit is used (the first embodiment). This means that the area of the irradiation area can be doubled while maintaining the same illuminance as the light source unit 31 of the first embodiment. Therefore, even if the illuminance is the same, the rotation speed of the substrate W can be doubled by expanding the irradiation area twice, so that the tact time required for edge exposure is reduced to about half, and the throughput is reduced. Can be significantly (about twice) improved.

【0045】また、上記においては、光源ユニット31
a,31bから単位時間あたりに出射される光線量が同
一であるという前提に立って説明しているが、経時変化
やランプ故障などによって一方の光源ユニットからの光
線量が他方に比べて少なくなってしまうことがある。こ
のような場合に、光源ユニット31a,31bの間で光
強度が大きく相違するが、第2実施形態によれば、両光
源ユニット31a,31bからの光が光混合光学素子3
4によって光混合されるため、一方の光学ユニットの光
線量低下に伴い照射ヘッド32に導光される光の光線量
自体は減少するものの、その光の光強度分布は均一とな
っており、基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して
良好なエッジ露光処理を実施することができる。
In the above description, the light source unit 31
Although the description is made on the assumption that the amount of light emitted per unit time from a and 31b is the same, the amount of light from one light source unit becomes smaller than that of the other due to aging or lamp failure. Sometimes. In such a case, the light intensity greatly differs between the light source units 31a and 31b, but according to the second embodiment, the light from both light source units 31a and 31b is
4, the light amount of the light guided to the irradiation head 32 itself decreases as the light amount of one of the optical units decreases, but the light intensity distribution of the light is uniform. By exposing the edge of the substrate with a uniform light intensity distribution, a favorable edge exposure process can be performed.

【0046】さらに、上記のように一方のランプ312
からの光強度が低下した場合、当該ランプ312を交換
する必要があるが、第2実施形態はエッジ露光を継続し
ながらランプ交換を行うことができる。というのも、各
光源ユニット31a.31bからの光は光混合光学素子
34でミキシングされるため、一方の光源ユニットから
の光放射を中断したとしても、他方の光源ユニットから
の光を光混合光学素子34でミキシングし、この光混合
光学素子34から均一な光強度分布で出射することがで
きる。したがって、一方の光源ユニットにおいてランプ
交換を行っている最中であっても、他方の光源ユニット
のランプを点灯させることによって、基板Wの端縁部を
均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実
施することができる。
Further, as described above, one of the lamps 312
In the case where the light intensity from the light source is reduced, the lamp 312 needs to be replaced. In the second embodiment, the lamp can be replaced while continuing the edge exposure. This is because each light source unit 31a. Since the light from the light source 31b is mixed by the light mixing optical element 34, the light from the other light source unit is mixed by the light mixing optical element 34 even if the light emission from one light source unit is interrupted. The light can be emitted from the optical element 34 with a uniform light intensity distribution. Therefore, even during the lamp replacement in one of the light source units, the lamp of the other light source unit is turned on, thereby exposing the edge portion of the substrate W with a uniform light intensity distribution, thereby providing a good light intensity distribution. Edge exposure processing can be performed.

【0047】なお、上記第2実施形態では、2つの第1
ライトガイド33a,33bを連結ボックス36により
合流させるとともに、その合流直後に各第1ライトガイ
ド33a,33bからの出射光を光混合光学素子34に
入射するように構成しているが、例えば図7に示すよう
に、第1ライトガイド33a,33bを合流させる合流
用ボックス37を別途設けるとともに、その合流位置か
ら離れた位置で第1実施形態と同一構成の連結ボックス
36を設けて光ファイバー素線331からの出射光を光
混合光学素子34に入射するように構成してもよい。
In the second embodiment, the two first
The light guides 33a and 33b are joined by the connection box 36, and the light emitted from each of the first light guides 33a and 33b is incident on the light mixing optical element 34 immediately after the joining. As shown in FIG. 7, a merging box 37 for merging the first light guides 33a and 33b is separately provided, and a connecting box 36 having the same configuration as that of the first embodiment is provided at a position distant from the merging position. May be configured to be incident on the light mixing optical element 34.

【0048】また、上記第2実施形態では、2つの光源
ユニット31a,31bを設けた場合について説明した
が、光源ユニットを3個以上設けた場合も上記第2実施
形態と同様に構成することができる。すなわち、光源ユ
ニットをn個(n≧2)設けた場合、これらの光源ユニ
ットと1対1で対応してn本の第1ライトガイドを設
け、これらn本の第1ライトガイドによって導光される
光を光混合光学素子によってミキシングした後、第2ラ
イトガイド35を介して照射ヘッド32に導光するよう
に構成してもよく、この場合にも第2実施形態と同様の
作用効果を得ることができる。
In the second embodiment, the case where two light source units 31a and 31b are provided has been described. However, when three or more light source units are provided, the light source unit may be configured in the same manner as in the second embodiment. it can. That is, when n light source units are provided (n ≧ 2), n first light guides are provided in one-to-one correspondence with these light source units, and light is guided by these n first light guides. After the light is mixed by the light mixing optical element, the light may be guided to the irradiation head 32 via the second light guide 35. In this case, the same operation and effect as those of the second embodiment are obtained. be able to.

【0049】なお、本発明は上記した実施形態に限定さ
れるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて
上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能であ
る。例えば、上記実施形態では、光混合光学素子34を
石英ロッドで構成しているが、光ミキシングを行うこと
ができる光学素子であれば如何なる構成および/または
材料で形成された光学素子を採用してもよい。光混合光
学素子34を例えば液体ファイバーで構成したり、複数
のプリズムを組み合わせて構成してもよい。ただし、上
記実施形態のように、光混合光学素子については光ファ
イバー素線の芯線と同一材料で形成するのが望ましい。
なんとなれば、光混合光学素子と各光ファイバー素線と
の間では光損失が避けられないが、光混合光学素子34
を各光ファイバー素線331,351の芯線材料と同じ
材料、つまり石英で構成しているため、光混合光学素子
34と各光ファイバー素線331,351との間での光
損失を最小限に抑えることができる。このことは光源ユ
ニットからの光の光強度低下を最小限に抑えて極力高い
光量で露光処理を行うことができることを意味してお
り、スループットの向上を図る上で有利である。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes other than those described above can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the light mixing optical element 34 is formed of a quartz rod, but any optical element formed of any configuration and / or material can be used as long as it can perform optical mixing. Is also good. The light mixing optical element 34 may be formed of, for example, a liquid fiber, or may be formed by combining a plurality of prisms. However, as in the above embodiment, the light mixing optical element is desirably formed of the same material as the core of the optical fiber.
Although light loss is inevitable between the light mixing optical element and each optical fiber, the light mixing optical element 34
Is made of the same material as the core material of the optical fiber strands 331 and 351, that is, quartz, so that light loss between the light mixing optical element 34 and the optical fiber strands 331 and 351 can be minimized. Can be. This means that the exposure process can be performed with the highest possible light amount while minimizing the decrease in the light intensity of the light from the light source unit, which is advantageous in improving the throughput.

【0050】また、上記実施形態では、光混合光学素子
34の入射面34aから入射してその内部341で光混
合された光が出射面34bから一本の光として出射され
る構成について説明したが、例えば図9に示すように出
射面34bから複数本に分割して出射された後に下流で
それぞれの光が合流する構成としてもよい。このような
構成とした場合であっても、上記実施形態と同等の効果
を奏することができる。
Further, in the above-described embodiment, the configuration has been described in which the light that enters from the incident surface 34a of the light mixing optical element 34 and is mixed in the inside 341 is emitted as one light from the emission surface 34b. For example, as shown in FIG. 9, the light may be divided into a plurality of light beams from the light exit surface 34b and then emitted, and then merged downstream. Even in the case of such a configuration, the same effect as the above embodiment can be obtained.

【0051】また、上記実施形態では、連結ボックス3
6に光混合光学素子34を設けて光ファイバー素線33
1からの出射光をミキシングするとともに、その光混合
光学素子34の出射面34bからの出射光を第2ライト
ガイド35を介して基板Wの端縁部に向けて導光してい
るが、図8に示すように光混合光学素子34を照射ヘッ
ド32内に配置し、光ファイバー素線331の出射端部
をファイバー結合部322まで延ばすように構成しても
よい。この場合、第2ライトガイド35を設ける必要が
なく、光混合光学素子34の出射面34bからの出射光
を直接基板Wの端縁部に向けて導光することができる。
このように第2ライトガイド35を省略することにより
光損失を低減することができ、光源ユニットからの光の
光強度低下を抑えてスループットの向上を図る上で有利
となる。
In the above embodiment, the connection box 3
6 is provided with a light mixing optical element 34 and an optical fiber 33
1, while the light emitted from the light-emitting surface 34b of the light mixing optical element 34 is guided toward the edge of the substrate W via the second light guide 35. As shown in FIG. 8, the light mixing optical element 34 may be arranged in the irradiation head 32, and the output end of the optical fiber 331 may be extended to the fiber coupling portion 322. In this case, it is not necessary to provide the second light guide 35, and the light emitted from the light exit surface 34b of the light mixing optical element 34 can be guided directly toward the edge of the substrate W.
By omitting the second light guide 35 in this manner, light loss can be reduced, which is advantageous in suppressing a decrease in light intensity of light from the light source unit and improving throughput.

【0052】また、上記実施形態では、基板Wおよび照
射ヘッド32を移動させてエッジ露光処理を実行するエ
ッジ露光装置に本発明を適用した場合について説明した
が、本発明を適用可能なエッジ露光装置はこれに限定さ
れるものではなく、基板Wおよび照射ヘッド32のうち
少なくとも一方を移動させてエッジ露光処理を実行する
エッジ露光装置全般に本発明を適用することができる。
In the above embodiment, the case where the present invention is applied to the edge exposure apparatus that executes the edge exposure processing by moving the substrate W and the irradiation head 32 has been described. The present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to any edge exposure apparatus that moves at least one of the substrate W and the irradiation head 32 to execute edge exposure processing.

【0053】さらに、上記実施形態では500本の光フ
ァイバー素線により第1ライトガイド33,33a,3
3bを形成するとともに、500本または1000本の
光ファイバー素線により第2ライトガイド35を形成し
ているが、各ライトガイドを構成する光ファイバー素線
数はこれらに限定されるものでなく、任意である。
Further, in the above embodiment, the first light guides 33, 33a, 3
3b, and the second light guide 35 is formed by 500 or 1000 optical fiber strands. However, the number of optical fiber strands constituting each light guide is not limited to these, and is arbitrary. is there.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上のように、請求項1に記載の発明に
よれば、光源からの光を第1ライトガイドによって光混
合光学素子に導光し、この光混合光学素子の内部で光混
合した後、基板の端縁部に照射するように構成している
ので、光源からの光の光強度分布が不均一であったとし
ても、光混合光学素子の出射面から出射される光の光強
度分布をほぼ均一化することができる。そして、その出
射光を基板の端縁部に照射しているため、基板の端縁部
を均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を
実施することができる。
As described above, according to the first aspect of the invention, the light from the light source is guided to the light mixing optical element by the first light guide, and the light is mixed inside the light mixing optical element. After that, the light is emitted to the edge of the substrate, so that even if the light intensity distribution of the light from the light source is not uniform, The intensity distribution can be made substantially uniform. Since the emitted light is applied to the edge of the substrate, the edge of the substrate can be exposed with a uniform light intensity distribution to perform a favorable edge exposure process.

【0055】また、請求項2に記載の発明によれば、請
求項1に記載の発明と同様に、各光源からの光を第1ラ
イトガイドによって光混合光学素子に導光し、この光混
合光学素子の内部で光混合した後、出射面からの光を基
板の端縁部に照射するように構成しているので、基板の
端縁部を均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光
処理を実施することができる。しかも、複数の光源から
の光を光混合光学素子に導光して光混合しているため、
出射光の光強度を低減させることなく照射面積を広くし
て露光効率をさらに向上させることができ、その結果、
スループットを向上させることができる。
According to the second aspect of the present invention, similarly to the first aspect, the light from each light source is guided to the light mixing optical element by the first light guide, and the light mixing is performed. After the light is mixed inside the optical element, the light from the emission surface is irradiated to the edge of the substrate, so that the edge of the substrate is exposed with a uniform light intensity distribution and a good edge is obtained. An exposure process can be performed. Moreover, since light from a plurality of light sources is guided to the light mixing optical element to be light mixed,
Exposure efficiency can be further improved by increasing the irradiation area without reducing the light intensity of the emitted light, and as a result,
Throughput can be improved.

【0056】さらに、請求項3に記載の発明によれば、
光混合光学素子を光ファイバー素線の芯線と同一材料で
形成しているので、光混合光学素子と各光ファイバー素
線との間での光損失を低減してスループットの向上を図
る上で有利である。
According to the third aspect of the present invention,
Since the light-mixing optical element is formed of the same material as the core wire of the optical fiber, it is advantageous in reducing the light loss between the light-mixing optical element and each optical fiber and improving the throughput. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかるエッジ露光装置の第1実施形態
の全体構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a first embodiment of an edge exposure apparatus according to the present invention.

【図2】図1のエッジ露光装置における照射処理部の概
略構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of an irradiation processing unit in the edge exposure apparatus of FIG.

【図3】第1実施形態での光混合光学素子と第1および
第2ライトガイドとの連結状態、ならびに各ライトガイ
ドでの光強度分布を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a connection state between a light mixing optical element and first and second light guides and a light intensity distribution in each light guide according to the first embodiment.

【図4】本発明にかかるエッジ露光装置の第2実施形態
の全体構成を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing an overall configuration of a second embodiment of the edge exposure apparatus according to the present invention.

【図5】図4のエッジ露光装置における照射処理部の概
略構成を示す図である。
5 is a diagram showing a schematic configuration of an irradiation processing unit in the edge exposure apparatus of FIG.

【図6】第2実施形態での光混合光学素子と第1および
第2ライトガイドとの連結状態、ならびに各ライトガイ
ドでの光強度分布を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a connection state between a light mixing optical element and first and second light guides and a light intensity distribution in each light guide according to the second embodiment.

【図7】本発明にかかるエッジ露光装置の他の実施形態
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing another embodiment of the edge exposure apparatus according to the present invention.

【図8】本発明にかかるエッジ露光装置の別の実施形態
を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing another embodiment of the edge exposure apparatus according to the present invention.

【図9】本発明にかかるエッジ露光装置のさらに別の実
施形態を示す図である。
FIG. 9 is a view showing still another embodiment of the edge exposure apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

31,31a,31b…光源ユニット 33,33a,33b…第1ライトガイド 34…光混合光学素子 34a…入射面 34b…出射面 35…第2ライトガイド 312…ランプ(光源) 331,351…光ファイバー素線 W…基板 31, 31a, 31b light source unit 33, 33a, 33b first light guide 34 light mixing optical element 34a incident surface 34b emission surface 35 second light guide 312 lamp (light source) 331, 351 optical fiber element Wire W ... substrate

フロントページの続き (72)発明者 亀井 謙治 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁 目天神北町1番地の1 大日本スクリーン 製造株式会社内 Fターム(参考) 5F046 AA28 CB04 The continuation of the front page (72) Inventor Kenji Kamei 4 chome, Horikawa-dori-Terauchi, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 1 Fukuda-term (reference) 5F046 AA28 CB04

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光を放射する光源と、 その一方端面を前記光源と対向させて前記光源からの光
の一部をその他方端面側に導光する光ファイバー素線を
複数本束ねてなる第1ライトガイドと、 前記各光ファイバー素線の前記他方端面から出射される
光を受け、その内部で光混合させた後、一の出射面から
光を出射させる光混合光学素子とを備え、 前記光混合光学素子の前記出射面から直接または複数本
の光ファイバー素線を束ねてなる第2ライトガイドを介
して前記出射光を基板の端縁部に向けて照射して前記基
板の露光を行うことを特徴とするエッジ露光装置。
1. A first light source comprising: a light source that emits light; and a plurality of optical fiber wires each having one end face facing the light source and guiding a part of the light from the light source to the other end face side. A light guide; and a light mixing optical element that receives light emitted from the other end face of each of the optical fiber wires, mixes the light inside the light guide, and emits light from one emission surface. The substrate is exposed by irradiating the emitted light toward the edge of the substrate directly from the emission surface of the optical element or through a second light guide formed by bundling a plurality of optical fiber strands. Edge exposure apparatus.
【請求項2】 光を放射するn個(n≧2)の光源と、 前記n個の光源と1対1で対応して設けられたn本の第
1ライトガイドと、 光混合光学素子とを備え、 各第1ライトガイドは、その一方端面を当該第1ライト
ガイドに対応する光源と対向させて当該光源からの光の
一部をその他方端面側に導光する光ファイバー素線を複
数本束ねて形成されるとともに、 前記光混合光学素子は前記各光ファイバー素線の前記他
方端面から出射される光を受け、その内部で光混合させ
た後、一の出射面からの出射光を直接または複数本の光
ファイバー素線を束ねてなる第2ライトガイドを介して
基板の端縁部に向けて照射して前記基板の露光を行うこ
とを特徴とするエッジ露光装置。
2. A light mixing optical element comprising: n light sources (n ≧ 2) for emitting light; n first light guides provided in one-to-one correspondence with the n light sources; Each of the first light guides includes a plurality of optical fiber wires each having one end face opposed to a light source corresponding to the first light guide and guiding a part of the light from the light source to the other end face side. While being formed in a bundle, the light mixing optical element receives light emitted from the other end face of each of the optical fiber wires, mixes the light therein, and then directly or directly emits light from one emission surface. An edge exposure apparatus, wherein the substrate is exposed by irradiating toward an edge of the substrate via a second light guide formed by bundling a plurality of optical fiber strands.
【請求項3】 前記光混合光学素子は、前記光ファイバ
ー素線の芯線と同一材料で形成されている請求項1また
は2記載のエッジ露光装置。
3. The edge exposure apparatus according to claim 1, wherein the light mixing optical element is formed of the same material as a core wire of the optical fiber.
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