JP2002310092A - 真空ポンプ - Google Patents
真空ポンプInfo
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- JP2002310092A JP2002310092A JP2002030826A JP2002030826A JP2002310092A JP 2002310092 A JP2002310092 A JP 2002310092A JP 2002030826 A JP2002030826 A JP 2002030826A JP 2002030826 A JP2002030826 A JP 2002030826A JP 2002310092 A JP2002310092 A JP 2002310092A
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- JP
- Japan
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- pump
- gas
- vacuum pump
- stage
- downstream
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D17/00—Radial-flow pumps, e.g. centrifugal pumps; Helico-centrifugal pumps
- F04D17/08—Centrifugal pumps
- F04D17/16—Centrifugal pumps for displacing without appreciable compression
- F04D17/168—Pumps specially adapted to produce a vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
- F04D19/044—Holweck-type pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
- F04D19/046—Combinations of two or more different types of pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D23/00—Other rotary non-positive-displacement pumps
- F04D23/008—Regenerative pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/26—Rotors specially for elastic fluids
- F04D29/263—Rotors specially for elastic fluids mounting fan or blower rotors on shafts
Abstract
(57)【要約】
【課題】 大気圧から約１０-4ｍｂａｒの高真空に至る
までの全圧力範囲を包含する真空ポンプであって、ポン
プが１つの部分からなり、コンパクトな構造を有し、低
コストであり、且つ占有床面積の小さい前記真空ポンプ
を提供する。 【解決手段】 本発明は２系統ガス摩擦ポンプ（６）お
よび（７）と、その下流側の１台のポンプ（８）とから
なる真空ポンプを記載する。２系統ガス摩擦ポンプのガ
ス流れはポンプの内部で結合要素（２６）により集めら
れ、その下流側のポンプ（８）により大気圧まで圧縮さ
れる。ガス摩擦ポンプが２系統のホルベック・ポンプと
して形成され、およびその下流側のポンプがサイド・チ
ャネル・ポンプとして形成されていることが有利であ
る。ポンプのコンパクト構造は、さらに、サイド・チャ
ネル・ポンプのステータ要素（１５）が分割されていな
いディスクからなることにより補足される。
までの全圧力範囲を包含する真空ポンプであって、ポン
プが１つの部分からなり、コンパクトな構造を有し、低
コストであり、且つ占有床面積の小さい前記真空ポンプ
を提供する。 【解決手段】 本発明は２系統ガス摩擦ポンプ（６）お
よび（７）と、その下流側の１台のポンプ（８）とから
なる真空ポンプを記載する。２系統ガス摩擦ポンプのガ
ス流れはポンプの内部で結合要素（２６）により集めら
れ、その下流側のポンプ（８）により大気圧まで圧縮さ
れる。ガス摩擦ポンプが２系統のホルベック・ポンプと
して形成され、およびその下流側のポンプがサイド・チ
ャネル・ポンプとして形成されていることが有利であ
る。ポンプのコンパクト構造は、さらに、サイド・チャ
ネル・ポンプのステータ要素（１５）が分割されていな
いディスクからなることにより補足される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は請求項１の上位概念
に記載のガスの供給および高真空の発生のための真空ポ
ンプに関するものである。
に記載のガスの供給および高真空の発生のための真空ポ
ンプに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】高真空の発生のために、種々のタイプの
真空ポンプの組み合わせが必要である。その理由は、大
気圧ないし約１０-4ｍｂａｒ以下の広い圧力範囲が多数
の流動範囲を含み、これらの流動範囲において、ガスの
状態および流動の物理的特性がそれぞれ異なる法則の適
用を受けるからである。
真空ポンプの組み合わせが必要である。その理由は、大
気圧ないし約１０-4ｍｂａｒ以下の広い圧力範囲が多数
の流動範囲を含み、これらの流動範囲において、ガスの
状態および流動の物理的特性がそれぞれ異なる法則の適
用を受けるからである。
【０００３】従来、高真空の発生のために、１つのポン
プ装置に、構造タイプおよび作動方式が異なる少なくと
も２台の真空ポンプが結合された。例えば、高真空ポン
プとしてのターボ分子ポンプおよび大気圧に対して吐出
する回転翼形ポンプからなるポンプ装置が設置されてき
た。圧力比および排気速度（体積流量）のような真空技
術的な要求量を達成するために必要な少なくとも２台の
真空ポンプからなるポンプ装置は、それが高価であり且
つ大きな床面積を占めるという欠点を有している。各ポ
ンプは、電力供給、電力モニタリングおよび電力制御を
備えた固有の駆動装置並びに固有の軸受装置を必要とす
る。弁を備えたポンプと制御装置との間の結合導線は費
用を増大させる。
プ装置に、構造タイプおよび作動方式が異なる少なくと
も２台の真空ポンプが結合された。例えば、高真空ポン
プとしてのターボ分子ポンプおよび大気圧に対して吐出
する回転翼形ポンプからなるポンプ装置が設置されてき
た。圧力比および排気速度（体積流量）のような真空技
術的な要求量を達成するために必要な少なくとも２台の
真空ポンプからなるポンプ装置は、それが高価であり且
つ大きな床面積を占めるという欠点を有している。各ポ
ンプは、電力供給、電力モニタリングおよび電力制御を
備えた固有の駆動装置並びに固有の軸受装置を必要とす
る。弁を備えたポンプと制御装置との間の結合導線は費
用を増大させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】大気圧から約１０-4ｍ
ｂａｒ以下までの全圧力範囲を包含する真空ポンプを提
供することが本発明の課題である。複数のポンプからな
るポンプ装置に付随する上記の欠点が回避されるよう
に、ポンプは１つの部分からなり且つコンパクトな構造
を有していなければならない。さらに、実際使用におけ
る要求に対応するために、ポンプは十分に高い圧力比お
よび排気速度を有していなければならない。確実且つ安
全な運転方式が基本前提条件の１つである。高真空側に
おける無潤滑運転を提供することが他の目的である。
ｂａｒ以下までの全圧力範囲を包含する真空ポンプを提
供することが本発明の課題である。複数のポンプからな
るポンプ装置に付随する上記の欠点が回避されるよう
に、ポンプは１つの部分からなり且つコンパクトな構造
を有していなければならない。さらに、実際使用におけ
る要求に対応するために、ポンプは十分に高い圧力比お
よび排気速度を有していなければならない。確実且つ安
全な運転方式が基本前提条件の１つである。高真空側に
おける無潤滑運転を提供することが他の目的である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題は請求項１の特
徴項に記載の特徴により解決される。請求項２−９は本
発明の他の実施態様を示す。
徴項に記載の特徴により解決される。請求項２−９は本
発明の他の実施態様を示す。
【０００６】本発明の配置により、コンパクトな構造で
大気圧から高真空範囲までの全圧力範囲を包含する真空
ポンプが提供される。高真空側におけるガス摩擦ポンプ
の並列配置により、高い排気速度を可能にする２系統吸
込領域が形成される。ガス摩擦ポンプ内で吸込ガスが十
分に圧縮されるので、下流側ポンプは１系統だけで十分
である。このガス摩擦ポンプの両方のガス流れがこのガ
ス摩擦ポンプ内で集められ且つ下流側ポンプ段の吸込室
に供給されるという特徴を有するこの組み合わせは、コ
ンパクトな構造を可能にし、且つ構造寸法および構造上
の費用を著しく低減させる。この配置により、ロータの
両端に軸受を設けることが可能になるので安定な支持が
得られ、このとき直径の小さい軸受が使用可能であり、
これが高い回転速度においても問題のない運転を可能に
する。さらに、軸受がガス摩擦ポンプにより高真空側か
ら分離され、これにより、高真空側を無潤滑として形成
可能であるという利点が得られる。
大気圧から高真空範囲までの全圧力範囲を包含する真空
ポンプが提供される。高真空側におけるガス摩擦ポンプ
の並列配置により、高い排気速度を可能にする２系統吸
込領域が形成される。ガス摩擦ポンプ内で吸込ガスが十
分に圧縮されるので、下流側ポンプは１系統だけで十分
である。このガス摩擦ポンプの両方のガス流れがこのガ
ス摩擦ポンプ内で集められ且つ下流側ポンプ段の吸込室
に供給されるという特徴を有するこの組み合わせは、コ
ンパクトな構造を可能にし、且つ構造寸法および構造上
の費用を著しく低減させる。この配置により、ロータの
両端に軸受を設けることが可能になるので安定な支持が
得られ、このとき直径の小さい軸受が使用可能であり、
これが高い回転速度においても問題のない運転を可能に
する。さらに、軸受がガス摩擦ポンプにより高真空側か
ら分離され、これにより、高真空側を無潤滑として形成
可能であるという利点が得られる。
【０００７】この構造的配置および運転方式が、ガス摩
擦ポンプをホルベック・ポンプとして形成することを可
能にする。これは特に、狭い空間で最大圧力比を形成す
るのに特に適している。２系統配置により、要求排気速
度が達成される。
擦ポンプをホルベック・ポンプとして形成することを可
能にする。これは特に、狭い空間で最大圧力比を形成す
るのに特に適している。２系統配置により、要求排気速
度が達成される。
【０００８】下流側ポンプに対してサイド・チャネル・
ポンプが使用されることが有利である。これは、並列ガ
ス摩擦ポンプから吐出されたガスを大気圧まで圧縮する
のに特に適している。ガス量が多いときには、大気圧に
面している最終段をバイパスして、結合導通路を介して
中間段を直接ガス吐出フランジに接続することができ
る。このとき、多量のガス量が幾何形状的に寸法の小さ
い最終段を通過してポンピングされる必要はない。最終
段を通過させた場合には、この結果、ポンピング時間は
長くなるであろう。ガス量が少ないときには、結合導通
路が過圧弁により閉じられ、および圧縮が最終ポンプ段
を介して行われる。この手段はここに示したサイド・チ
ャネル・ポンプの例に限定されず、より高い圧力に対し
て吐出する他のすべての多段ポンプに使用可能である。
ポンプが使用されることが有利である。これは、並列ガ
ス摩擦ポンプから吐出されたガスを大気圧まで圧縮する
のに特に適している。ガス量が多いときには、大気圧に
面している最終段をバイパスして、結合導通路を介して
中間段を直接ガス吐出フランジに接続することができ
る。このとき、多量のガス量が幾何形状的に寸法の小さ
い最終段を通過してポンピングされる必要はない。最終
段を通過させた場合には、この結果、ポンピング時間は
長くなるであろう。ガス量が少ないときには、結合導通
路が過圧弁により閉じられ、および圧縮が最終ポンプ段
を介して行われる。この手段はここに示したサイド・チ
ャネル・ポンプの例に限定されず、より高い圧力に対し
て吐出する他のすべての多段ポンプに使用可能である。
【０００９】請求項７に記載のように、サイド・チャネ
ル・ポンプのステータ要素が分割されていないディスク
からなることがサイド・チャネル・ポンプに対する大き
な利点である。ロータ・ディスクの間に分割されたディ
スクが装着される通常の構造においては、形成される隙
間を通して逆流が形成され、この逆流が損失を示し且つ
圧力比を著しく低下させることになる。サイド・チャネ
ル・ポンプにおいて発生するこの欠点は本発明による一
体のステータ・ディスクにより回避される。しかしなが
ら、分割されていないステータ要素の使用は、請求項８
に記載のように、ロータ要素が止めリングによりロータ
に固定されるときにおいてのみ可能であり、このときに
おいてのみ、ロータ要素およびステータ要素を相互に順
番に装着し且つ最適な軸方向隙間を保持することが可能
である。
ル・ポンプのステータ要素が分割されていないディスク
からなることがサイド・チャネル・ポンプに対する大き
な利点である。ロータ・ディスクの間に分割されたディ
スクが装着される通常の構造においては、形成される隙
間を通して逆流が形成され、この逆流が損失を示し且つ
圧力比を著しく低下させることになる。サイド・チャネ
ル・ポンプにおいて発生するこの欠点は本発明による一
体のステータ・ディスクにより回避される。しかしなが
ら、分割されていないステータ要素の使用は、請求項８
に記載のように、ロータ要素が止めリングによりロータ
に固定されるときにおいてのみ可能であり、このときに
おいてのみ、ロータ要素およびステータ要素を相互に順
番に装着し且つ最適な軸方向隙間を保持することが可能
である。
【００１０】本発明を図１により詳細に説明する。
【００１１】
【発明の実施の形態】吸込フランジ２およびガス吐出フ
ランジ３を備えたポンプ・ハウジング１内に、ホルベッ
ク・タイプのガス摩擦ポンプ６および７の両方の並列段
およびサイド・チャネル・ポンプ８が設けられている。
両方のポンプのロータ要素１０、１１ａ、１１ｂおよび
１３が共通軸４上に存在する。軸４は両方の軸受９ａお
よび９ｂ内で芯出しされている。この場合、軸受９ａは
大気圧の範囲内におよび軸受９ｂは背圧の範囲内に存在
する。この背圧の範囲内に駆動装置５もまた存在する。
２系統ホルベック・ポンプのロータ要素は支持リング１
０からなり、支持リング１０上に両方の並列ポンプ段に
対する円筒形構造部分１１ａおよび１１ｂが装着されて
いる。渦巻溝として形成されて円筒形ロータ要素１１ａ
および１１ｂを包囲するステータ要素１２ａおよび１２
ｂと共に、前記円筒形ロータ要素１１ａおよび１１ｂは
それぞれ２つの２段ホルベック・ポンプを形成する。
ランジ３を備えたポンプ・ハウジング１内に、ホルベッ
ク・タイプのガス摩擦ポンプ６および７の両方の並列段
およびサイド・チャネル・ポンプ８が設けられている。
両方のポンプのロータ要素１０、１１ａ、１１ｂおよび
１３が共通軸４上に存在する。軸４は両方の軸受９ａお
よび９ｂ内で芯出しされている。この場合、軸受９ａは
大気圧の範囲内におよび軸受９ｂは背圧の範囲内に存在
する。この背圧の範囲内に駆動装置５もまた存在する。
２系統ホルベック・ポンプのロータ要素は支持リング１
０からなり、支持リング１０上に両方の並列ポンプ段に
対する円筒形構造部分１１ａおよび１１ｂが装着されて
いる。渦巻溝として形成されて円筒形ロータ要素１１ａ
および１１ｂを包囲するステータ要素１２ａおよび１２
ｂと共に、前記円筒形ロータ要素１１ａおよび１１ｂは
それぞれ２つの２段ホルベック・ポンプを形成する。
【００１２】サイド・チャネル・ポンプは一体のロータ
・ディスク１３からなり、ロータ・ディスク１３は止め
リング１４によりロータ４に固定されている。ロータ・
ディスク１３の間に供給通路１６を有するステータ構造
部分１５が存在する。
・ディスク１３からなり、ロータ・ディスク１３は止め
リング１４によりロータ４に固定されている。ロータ・
ディスク１３の間に供給通路１６を有するステータ構造
部分１５が存在する。
【００１３】ガスの供給は図面に記入された矢印に沿っ
て行われる。最初に、ガスは吸込領域２２から並列ポン
ピング作動を行う並列ホルベック段６および７を介して
吐出領域２３および２４に供給され、ホルベック段６お
よび７は直列に設けられたそれぞれ２つのポンプ段１１
ａ／１２ａおよび１１ｂ／１２ｂからなっている。これ
らの両方の領域間の結合要素２６により、ガス流れはガ
ス摩擦ポンプの吐出室２５内に集められる。結合要素２
８を介してガス流れは吐出室２５からサイド・チャネル
・ポンプの吸込室２７に到達する。ここで、ガスは、流
路２０を介して相互に結合されている複数のポンプ段内
で大気圧まで圧縮され、吐出室２９を介してガス吐出フ
ランジ３に供給される。サイド・チャネル・ポンプの中
間段から、過圧弁３１を介して直接ガス吐出フランジ３
へ結合導通路３０が通じている。
て行われる。最初に、ガスは吸込領域２２から並列ポン
ピング作動を行う並列ホルベック段６および７を介して
吐出領域２３および２４に供給され、ホルベック段６お
よび７は直列に設けられたそれぞれ２つのポンプ段１１
ａ／１２ａおよび１１ｂ／１２ｂからなっている。これ
らの両方の領域間の結合要素２６により、ガス流れはガ
ス摩擦ポンプの吐出室２５内に集められる。結合要素２
８を介してガス流れは吐出室２５からサイド・チャネル
・ポンプの吸込室２７に到達する。ここで、ガスは、流
路２０を介して相互に結合されている複数のポンプ段内
で大気圧まで圧縮され、吐出室２９を介してガス吐出フ
ランジ３に供給される。サイド・チャネル・ポンプの中
間段から、過圧弁３１を介して直接ガス吐出フランジ３
へ結合導通路３０が通じている。
【図１】ガス摩擦ポンプがホルベック・ポンプとして形
成され、およびその下流側のポンプがサイド・チャネル
・ポンプとして形成されて、それらが１つの部分からな
る本発明による真空ポンプの縦断面図である。
成され、およびその下流側のポンプがサイド・チャネル
・ポンプとして形成されて、それらが１つの部分からな
る本発明による真空ポンプの縦断面図である。
１ ポンプ・ハウジング ２ 吸込フランジ ３ 吐出フランジ ４ ロータ軸 ５ 駆動装置 ６、７ ガス摩擦ポンプ ８ ポンプ ９ａ、９ｂ 軸受 １０、１１ａ、１１ｂ、１３ ロータ要素 １２ａ、１２ｂ ステータ要素 １４ 止めリング １５ ステータ構造部分 １６ 供給通路 ２０ 流路 ２２ 吸込領域 ２３、２４ 吐出領域 ２５、２９ 吐出室 ２６ 結合要素 ２７ 吸込室 ２８ 導通路（結合要素） ３０ 結合導通路 ３１ 過圧弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ０４Ｄ 29/54 Ｆ０４Ｄ 29/54 Ｆ Ｆターム(参考） 3H031 DA01 DA05 DA07 DA09 EA00 FA01 FA03 FA36 3H034 AA01 AA02 AA12 BB01 BB04 BB08 BB09 BB11 CC01 CC03 CC07 DD01 DD02 DD05 DD12 DD13 DD20 DD22 DD26 DD27 DD28 DD30 EE05 EE12 EE18
Claims (9)
- 【請求項１】 ２台の単段または多段ガス摩擦ポンプ
（６）および（７）と、その下流側の１台の多段ポンプ
（８）とからなる真空ポンプにおいて、 両方のガス摩擦ポンプが流れ方向に並列配置され、これ
により、吸い込まれたガス流れが吸込領域（２２）にお
いて２つの分流に分割され、これらの各分流が付属のガ
ス摩擦ポンプにより吸込領域（２２）からそれぞれの吐
出領域（２３）ないし（２４）に供給され、およびそれ
に続いて両方のガス流れが結合要素（２６）を介して１
つの吐出室（２５）に集められることと、および前記吐
出室が、それの下流側に設けられたポンプ（８）の吸込
室（２７）と、導通路（２８）を介して結合され、これ
により、前記下流側ポンプがガスをさらに圧縮すること
と、を特徴とする真空ポンプ。 - 【請求項２】 前記下流側ポンプ（８）がガスを他の吐
出室（２９）内に供給することを特徴とする請求項１の
真空ポンプ。 - 【請求項３】 前記下流側ポンプ（８）の中間段からガ
ス吐出フランジ（３）へ結合導通路（３０）が通じ、お
よび結合導通路内に過圧弁（３１）が設けられているこ
とを特徴とする請求項１の真空ポンプ。 - 【請求項４】 両方のガス摩擦ポンプ（６）および
（７）がホルベック（Ｈｏｌｗｅｃｋ）タイプに形成さ
れていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか
の真空ポンプ。 - 【請求項５】 前記結合要素（２６）がガス摩擦ポンプ
（６）および（７）の内部に設けられた軸方向内孔から
なることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかの真
空ポンプ。 - 【請求項６】 前記下流側ポンプ（８）がサイド・チャ
ネル（側路）ポンプであることを特徴とする請求項１な
いし５のいずれかの真空ポンプ。 - 【請求項７】 サイド・チャネル・ポンプのステータ要
素（１５）が分割されていないディスクからなることを
特徴とする請求項６の真空ポンプ。 - 【請求項８】 サイド・チャネル・ポンプのロータ要素
（１３）が止めリング（１４）によりロータ軸（４）に
固定されていることを特徴とする請求項６または７の真
空ポンプ。 - 【請求項９】 ガスを供給し且つ大気圧まで圧縮するた
めに複数段からなるサイド・チャネル・ポンプのタイプ
の真空ポンプにおいて、 大気圧に面している最終段をバイパスして、ある段から
ガス吐出フランジ（３）へ結合導通路（３０）が通じ、
および結合導通路内に過圧弁（３１）が設けられている
ことを特徴とするサイド・チャネル・タイプの真空ポン
プ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10114585.3 | 2001-03-24 | ||
| DE10114585A DE10114585A1 (de) | 2001-03-24 | 2001-03-24 | Vakuumpumpe |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002310092A true JP2002310092A (ja) | 2002-10-23 |
Family
ID=7678927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002030826A Pending JP2002310092A (ja) | 2001-03-24 | 2002-02-07 | 真空ポンプ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6676384B2 (ja) |
| EP (1) | EP1243796B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002310092A (ja) |
| DE (2) | DE10114585A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10150015A1 (de) * | 2001-10-11 | 2003-04-17 | Leybold Vakuum Gmbh | Mehrkammeranlage zur Behandlung von Gegenständen unter Vakuum, Verfahren zur Evakuierung dieser Anlage und Evakuierungssystem dafür |
| GB0229353D0 (en) * | 2002-12-17 | 2003-01-22 | Boc Group Plc | Vacuum pumping system and method of operating a vacuum pumping arrangement |
| GB0229352D0 (en) * | 2002-12-17 | 2003-01-22 | Boc Group Plc | Vacuum pumping arrangement and method of operating same |
| GB0322889D0 (en) * | 2003-09-30 | 2003-10-29 | Boc Group Plc | Vacuum pump |
| US7140847B2 (en) * | 2004-08-11 | 2006-11-28 | The Boc Group, Inc. | Integrated high vacuum pumping system |
| WO2009142905A1 (en) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | Sundew Technologies, Llc | Deposition method and apparatus |
| GB2474507B (en) | 2009-10-19 | 2016-01-27 | Edwards Ltd | Vacuum pump |
| DE102009056218A1 (de) * | 2009-11-28 | 2011-06-01 | Robert Bosch Gmbh | Schraubenspindelpumpe mit integriertem Druckbegrenzungsventil |
| US20150377239A1 (en) * | 2013-02-15 | 2015-12-31 | Edwards Limited | Vacuum pump |
| DE102013114290A1 (de) * | 2013-12-18 | 2015-06-18 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Vakuumpumpe |
| GB2592030B (en) * | 2020-02-12 | 2022-03-09 | Edwards Ltd | Multiple stage vacuum pump |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3536418A (en) * | 1969-02-13 | 1970-10-27 | Onezime P Breaux | Cryogenic turbo-molecular vacuum pump |
| JPS5267810A (en) * | 1975-12-03 | 1977-06-04 | Aisin Seiki Co Ltd | High vacuum pump |
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