JP2002301869A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP2002301869A
JP2002301869A JP2001107067A JP2001107067A JP2002301869A JP 2002301869 A JP2002301869 A JP 2002301869A JP 2001107067 A JP2001107067 A JP 2001107067A JP 2001107067 A JP2001107067 A JP 2001107067A JP 2002301869 A JP2002301869 A JP 2002301869A
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JP
Japan
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layer
recording medium
optical recording
recording
medium according
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Pending
Application number
JP2001107067A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Miura
裕司 三浦
Hiroko Tashiro
浩子 田代
Eiko Suzuki
栄子 鈴木
Hajime Yuzurihara
肇 譲原
Masato Harigai
眞人 針谷
Yoshiyuki Kageyama
喜之 影山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium suitable for high linear speed recording not less than 17.2 m/s or five times of the reproduction linear speed 3.44 m/s of DVD-ROM. SOLUTION: Not less than 90% of atomic percentage of the recording layer 3 of the optical recording medium, provided with at least a recording layer 3 on a substrate 1 to record, reproduce and erase an information utilizing the phase change of the recording layer 3, is constituted of a compound shown by a formula; Dyα SbβTeγ . (in the formula; α, β, γ show the atomic percentage and 0.01<=α<=0.10, 0.60<=β<=0.95 and α+β+γ=1).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関す
るものである。
[0001] The present invention relates to an optical recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体レーザービーム照射により情報の
記録・再生及び消去可能な光記録媒体には、熱を利用し
て磁化の反転を行い記録消去する光磁気記録方式と、結
晶と非晶質の可逆的相変化を利用し記録消去可能な相変
化記録方式がある。後者は単一ビームオーバーライトが
可能であり、ドライブ側の光学系よりも単純であること
を特徴とし、コンピューター関連や映像音響に関する記
録媒体として応用されている。その記録材料として実用
化されているものに、Ge-Sb-Te、及び、Ag-In-Sb-Teが
ある。特にAg-In-Sb-Teは高感度でアモルファス部分の
輪郭が明確であり、高密度記録に適した材料である。特
開平11-070738号公報においては、オーバーライト回数
が高く、保存信頼性にも優れたAgInSbTe4元材料の最適
組成比、最適層構成が示されている。また、Crあるいは
Zrを添加することで保存特性をさらに向上させている。
2. Description of the Related Art An optical recording medium capable of recording / reproducing and erasing information by irradiating a semiconductor laser beam has a magneto-optical recording system in which magnetization is reversed by using heat to record and erase information, There is a phase change recording method that can record and erase using a reversible phase change. The latter is capable of single-beam overwriting and is characterized by being simpler than the optical system on the drive side, and has been applied as a computer-related or audio-visual recording medium. Ge-Sb-Te and Ag-In-Sb-Te are practically used as the recording material. In particular, Ag-In-Sb-Te is a material having high sensitivity and a clear outline of an amorphous portion, and suitable for high-density recording. JP-A-11-070738 discloses an optimum composition ratio and an optimum layer configuration of an AgInSbTe quaternary material having a high overwriting frequency and excellent storage reliability. Also, Cr or
By adding Zr, the storage characteristics are further improved.

【0003】相変化記録媒体は、今後、高密度画像記録
への用途が拡大すると予想されるが、そのためには高速
オーバーライトを実現する必要があり、結晶化速度の速
い記録層材料が必要となってくる。AgInSbTe4元材料の
結晶化速度を向上させるためには、InあるいはSbの配合
比を高くすることにより可能である。しかし、Inの配合
比を高くするとオーバーライトによる劣化が進行しやす
くなってしまう。また、Sbの配合比を高くすると保存信
頼性が低下してしまうという弊害を招く。さらにまた、
記録材料の結晶化速度が大きくなるにつれ、必然的に記
録層の非晶質化が困難になり記録マークの形成が困難に
なるという問題がある。
The use of phase change recording media for high density image recording is expected to expand in the future. For that purpose, it is necessary to realize high-speed overwriting, and a recording layer material having a high crystallization speed is required. It is becoming. The crystallization speed of the AgInSbTe quaternary material can be improved by increasing the mixing ratio of In or Sb. However, when the compounding ratio of In is increased, the deterioration due to overwriting tends to proceed. In addition, when the compounding ratio of Sb is increased, a disadvantage that storage reliability is reduced is caused. Furthermore,
As the crystallization speed of the recording material increases, there is a problem in that the recording layer is inevitably made amorphous and the formation of recording marks becomes difficult.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明では、DVD-ROM
の再生線速3.44m/sの5倍速である17.2m/s以上までの
高線速記録に適した光記録媒体を提供することを目的と
する。
According to the present invention, a DVD-ROM
It is an object of the present invention to provide an optical recording medium suitable for high linear velocity recording up to 17.2 m / s or more, which is five times as high as the reproduction linear velocity of 3.44 m / s.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、基板
上に少なくとも記録層を設けるとともに前記記録層の相
変化を利用して情報の記録、再生、消去を行う光記録媒
体において、前記記録層の原子比率90%以上が、下記
式で表される化合物からなることを特徴とする光記録媒
体である。 DyαSbβTeγ (式中、α、β、γは原子比率を表し、0.01≦α≦
0.10、かつ0.60≦β≦0.95であり、α+β
+γ=1である) 請求項2の発明は、記録層が、さらにAgを含むことを特
徴とする請求項1に記載の光記録媒体である。請求項3
の発明は、記録層が、さらにGeを含むことを特徴とする
請求項1に記載の光記録媒体である。請求項4の発明
は、記録層が、さらにAgおよびGeを含むことを特徴とす
る請求項1に記載の光記録媒体である。請求項5の発明
は、記録層が、所定組成の合金ターゲットを用いたスパ
ッタ法により成膜されたものであることを特徴とする請
求項1ないし4のいずれか1項に記載の光記録媒体であ
る。請求項6の発明は、光記録媒体が、基板上に少なく
とも下部誘電体層、記録層、上部誘電体層、および反射
層をこの順で設けたものであり,前記反射層が少なくと
もAgを90%以上含む金属であることを特徴とする請
求項1ないし4のいずれか1項に記載の光記録媒体であ
る。請求項7の発明は、上部誘電体層が少なくとも2層
構造からなり、その内の1層が、反射層との界面から前
記上部誘電体層の内部に向かって1nm以上の幅を有する
とともに硫化物を含まない層であることを特徴とする請
求項6に記載の光記録媒体である。請求項8の発明は、
硫化物を含まない層が、炭素化物、あるいは炭素化物に
対して酸化物または窒化物を混合した材料からなること
を特徴とする請求項7に記載の光記録媒体である。請求
項9の発明は、炭素化物がSiCであることを特徴とす
る請求項8に記載の光記録媒体である。請求項10の発
明は、記録層として、初期結晶化されたものを用いるこ
とを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載
の光記録媒体である。請求項11の発明は、初期結晶化
が、レーザービームによる溶融初期化方法、あるいは、
固相初期化によりなされたものであることを特徴とする
請求項10に記載の光記録媒体である。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium for providing at least a recording layer on a substrate and recording, reproducing and erasing information by utilizing a phase change of the recording layer. An optical recording medium, characterized in that the atomic ratio of the recording layer is 90% or more of a compound represented by the following formula. Dy α Sb β Te γ (where α, β, and γ represent atomic ratios, and 0.01 ≦ α ≦
0.10 and 0.60 ≦ β ≦ 0.95, and α + β
+ Γ = 1) The invention according to claim 2 is the optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ag. Claim 3
The invention of (1) is the optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ge. The invention according to claim 4 is the optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ag and Ge. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the recording layer is formed by a sputtering method using an alloy target having a predetermined composition. It is. According to a sixth aspect of the present invention, in the optical recording medium, at least a lower dielectric layer, a recording layer, an upper dielectric layer, and a reflective layer are provided in this order on a substrate, and the reflective layer contains at least 90% Ag. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical recording medium is a metal containing at least 1%. According to a seventh aspect of the present invention, the upper dielectric layer has at least a two-layer structure, and one of the layers has a width of 1 nm or more from the interface with the reflective layer toward the inside of the upper dielectric layer and has a sulfuric acid concentration of 1 nm or more. 7. The optical recording medium according to claim 6, wherein the optical recording medium is a layer containing no substance. The invention of claim 8 is
8. The optical recording medium according to claim 7, wherein the sulfide-free layer is made of a carbonized material or a material obtained by mixing an oxide or a nitride with a carbonized material. The invention according to claim 9 is the optical recording medium according to claim 8, wherein the carbonized material is SiC. According to a tenth aspect of the present invention, there is provided the optical recording medium according to any one of the first to ninth aspects, wherein an initially crystallized recording layer is used. In the invention according to claim 11, the initial crystallization is performed by a melting initialization method using a laser beam, or
The optical recording medium according to claim 10, wherein the optical recording medium has been formed by solid-phase initialization.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明者らは、記録層を特定組成
範囲のDySbTeにし、必要に応じてAgもしくはGe、あるい
は、AgとGeの両方を添加した4元あるいは5元組成とす
ることで高線速記録に適し、また、オーバーライト特
性、保存特性にも優れる光記録媒体を形成できることを
見出した。AgInSbTeは繰り返し記録特性に優れた相変化
記録材料であるが、AgInSbTeの母材となるSbTeは非晶質
相の安定性が悪く、70℃程度の高温保存信頼性の点で問
題がある。そのため、通常はAg、Inなど結晶化温度を高
くして非晶質相の安定化を図る第3元素を1種類以上添
加して用いられる。Ag、Inには、保存安定性を向上させ
るだけではなく、Agは初期化を容易にする、記録密度を
向上するなどの効果、Inは記録線速の向上,記録密度を
向上するなどの効果もある。しかし、それぞれ添加量が
多すぎると、オーバーライト特性などに悪影響を及ぼ
す。本発明では、Inの一部またはすべてをDyで置き換え
ることで、DyはInより少量でも記録線速向上に対する寄
与が大きいために、オーバーライト特性に悪影響をもた
らさずに記録線速を向上できることを見出した。また、
その際にAgやGeも添加することにより、高記録密度かつ
高線速記録が可能であり、保存信頼性、オーバーライト
特性に優れ、初期化も容易なディスクを形成できること
を見出した。ただし、Dy-Sb-Teに添加されるAgやGeは、
合計で10%より少なくする必要がある。これより多く
なると、記録感度,及び、オーバーライト特性の低下を
招く。また、DyもSb-Teに対しては10%以下とする。
これより多くなると、やはりオーバーライト特性が低下
するためである。Sbは、Dy-Teに対して60%以上、9
5%以下とする。従来、Sb量が80%を越えると、保存
信頼性の低下、オーバーライト特性が悪化すると考えら
れていたが、本発明ではDyを添加したことにより95%
までの範囲で添加が可能となった。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present inventors have proposed that a recording layer be made of DySbTe having a specific composition range and, if necessary, be made of a quaternary or quinary composition to which Ag or Ge or both Ag and Ge are added. It was found that an optical recording medium suitable for high linear velocity recording and excellent in overwrite characteristics and storage characteristics could be formed. AgInSbTe is a phase change recording material having excellent repetitive recording characteristics. However, SbTe, which is a base material of AgInSbTe, has a poor stability of an amorphous phase and has a problem in high-temperature storage reliability of about 70 ° C. Therefore, usually, one or more third elements such as Ag and In for increasing the crystallization temperature and stabilizing the amorphous phase are added and used. Ag and In not only improve storage stability, but Ag facilitates initialization and improve recording density, while In improves recording linear velocity and improve recording density. There is also. However, if the added amount is too large, it adversely affects overwrite characteristics and the like. In the present invention, by replacing a part or all of In with Dy, even if the amount of Dy is smaller than In, the contribution to the improvement of the recording linear velocity is large, so that the recording linear velocity can be improved without adversely affecting the overwrite characteristics. I found it. Also,
At this time, it was found that by adding Ag and Ge, a disk having high recording density and high linear velocity recording, excellent storage reliability, excellent overwrite characteristics, and easy initialization can be formed. However, Ag and Ge added to Dy-Sb-Te
It must be less than 10% in total. If it is larger than this, the recording sensitivity and the overwrite characteristics will be reduced. Dy is also set to 10% or less with respect to Sb-Te.
This is because if it is larger than this, the overwrite characteristics are also deteriorated. Sb is more than 60% of Dy-Te, 9
5% or less. Conventionally, it has been considered that when the Sb content exceeds 80%, the storage reliability is reduced and the overwrite characteristics are deteriorated.
Addition was possible up to the range.

【0007】本発明の光記録媒体は、上記の記録層を有
しているが、光記録媒体、例えばディスクの層構成とし
ては、図1に示すように、基板1上に下部誘電体層2、
記録層3、上部誘電体層4、反射層5、有機保護層6が
設けたものからなる。高速オーバーライトの実現を狙っ
て結晶化速度の大きい記録材料を用いた場合、記録材料
の結晶化速度が大きくなるにつれ、必然的に記録層の非
晶質化が困難になり記録マークの形成が困難になるとい
う問題がある。そのため、層構成による熱設計が非常に
重要となる。すなわち、記録層再凝固時の冷却速度を高
めるべく、各層の熱伝導率と膜厚を最適化することが重
要である。そこで反射層は、できるだけ放熱を促進する
ために、熱伝導率の高い材料が望ましい。例えばAl、A
u、Ag、またはそれらを90%以上含む金属からなる反
射層が挙げられる。本発明では前記反射層をAgまたはAg
を90%以上含む合金としたことにより、より高線速記
録に適した光記録媒体を形成できることを見出した。
Although the optical recording medium of the present invention has the above-mentioned recording layer, the layer structure of the optical recording medium, for example, a disk is, as shown in FIG. ,
It comprises a recording layer 3, an upper dielectric layer 4, a reflective layer 5, and an organic protective layer 6. When a recording material having a high crystallization speed is used for the purpose of realizing high-speed overwriting, as the crystallization speed of the recording material increases, it becomes inevitably difficult to amorphize the recording layer, and recording marks are formed. There is a problem that it becomes difficult. Therefore, thermal design by layer configuration is very important. That is, it is important to optimize the thermal conductivity and the film thickness of each layer in order to increase the cooling rate during the resolidification of the recording layer. Therefore, the reflection layer is desirably made of a material having high thermal conductivity in order to promote heat radiation as much as possible. For example, Al, A
A reflective layer made of u, Ag, or a metal containing 90% or more thereof is exemplified. In the present invention, the reflective layer is made of Ag or Ag.
It was found that an optical recording medium more suitable for high linear velocity recording can be formed by using an alloy containing 90% or more of

【0008】上部誘電体層、下部誘電体層としては、例
えばZnS/SiO2(ZnSとSiO2との混合物)が用いられるが、
反射層をAgまたはAgを90%以上含む合金とした場合に
は、保護層が含有する硫黄との硫化反応を防止する必要
がある。本発明では上部保護層が、少なくとも2層構造
からなり、その内の1層が、反射層との界面から前記上
部誘電体層の内部に向かって1nm以上の幅を有するとと
もに硫化物を含まない層であることで硫化反応を防ぐこ
とができた。すなわち、ZnS/SiO2と前記反射層との間
に炭素化物、あるいは炭素化物に対して酸化物または窒
化物を混合した材料からなるバリア層を設けることで硫
化反応を防ぐことができた。炭素化物を母材とすること
で耐久性、製膜の容易性が得られた。炭化物としてはS
iCなどが好ましい。
As the upper dielectric layer and the lower dielectric layer, for example, ZnS / SiO 2 (a mixture of ZnS and SiO 2 ) is used.
When the reflective layer is made of Ag or an alloy containing 90% or more of Ag, it is necessary to prevent a sulfurization reaction with sulfur contained in the protective layer. In the present invention, the upper protective layer has at least a two-layer structure, one of which has a width of 1 nm or more from the interface with the reflective layer toward the inside of the upper dielectric layer and does not contain sulfide. By being a layer, the sulfidation reaction could be prevented. That is, the sulfurization reaction could be prevented by providing a barrier layer made of carbonized material or a mixture of carbonized material and oxide or nitride between ZnS / SiO 2 and the reflective layer. By using a carbonized material as a base material, durability and ease of film formation were obtained. S as a carbide
iC and the like are preferred.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。直径
12cm、厚さ0.6mm、トラックピッチ0.74μmのグルーブ付
きポリカーボネートディスク基板を高温で脱水処理した
後、スパッタ法により下部誘電体層、記録層、上部誘電
体層、反射層を順次成膜した。下部誘電体層としてはZn
S・SiO2ターゲットを用い、70nm厚さとした。記録
層は、所定の組成比の合金ターゲットをアルゴンガス圧
3×10-3torr、RFパワー300mWでスパッタ
し、膜厚20nmとした。記録層の組成については実施
例に示す。上部誘電体層は下部保護層と同様、ZnS・SiO
2ターゲット用い、厚さ20nmとした。反射層として
は、Al・Ti合金ターゲットを用い、厚さ120nmとし
た。さらに、反射放熱層上にアクリル系紫外線硬化樹脂
からなる有機保護層をスピナーによって5〜10μmに
塗布し、紫外線硬化させた。この面にさらに、直径12c
m、厚さ0.6mmのポリカーボネートディスクを接着シート
により貼り合わせ、大口径LDビーム照射により記録層
を初期結晶化して光記録媒体とした。記録再生には、波
長656nm、NA0.65のピックアップを用いた。記録はパル
ス変調法を用い、記録データはEFM+変調方式により、各
記録層に応じた最適記録線速,最適記録パワーで記録し
た。記録ストラテジもジッターが最小となるように各々
最適化して使用した。再生は全てパワー0.7mW,線速3.5
m/sで行い、data toclock ジッター、及び反射率を測
定した。
The present invention will be described below with reference to examples. diameter
A 12 cm, 0.6 mm thick, grooved polycarbonate disc substrate having a track pitch of 0.74 μm was dehydrated at a high temperature, and then a lower dielectric layer, a recording layer, an upper dielectric layer, and a reflective layer were sequentially formed by a sputtering method. Zn for lower dielectric layer
The thickness was 70 nm using an S.SiO 2 target. The recording layer was sputtered with an alloy target having a predetermined composition ratio at an argon gas pressure of 3 × 10 −3 torr and an RF power of 300 mW to have a film thickness of 20 nm. The composition of the recording layer is shown in Examples. The upper dielectric layer is made of ZnS
The thickness was set to 20 nm using two targets. As the reflective layer, an Al / Ti alloy target was used and the thickness was 120 nm. Further, an organic protective layer made of an acrylic UV curable resin was applied on the reflective heat dissipation layer to a thickness of 5 to 10 μm by a spinner, and cured by UV. In addition to this surface, 12c in diameter
A polycarbonate disk having a thickness of 0.6 mm and a thickness of 0.6 mm was bonded together with an adhesive sheet, and the recording layer was initially crystallized by irradiating a large-diameter LD beam to obtain an optical recording medium. For recording and reproduction, a pickup having a wavelength of 656 nm and NA of 0.65 was used. Recording was performed using a pulse modulation method, and recording data was recorded using an EFM + modulation method at an optimum recording linear velocity and an optimum recording power according to each recording layer. The recording strategy was also optimized and used so as to minimize the jitter. All reproduction is power 0.7mW, linear velocity 3.5
The measurement was performed at m / s, and the data to clock jitter and the reflectance were measured.

【0010】[実施例1]記録層組成をDy6Sb78Te16とし
たディスクの記録特性を評価した。記録密度0.267μm/
bitでは、線速や記録ストラテジを調整してもジッター
σ/Twは10%以下とすることができなかった。そこ
で、記録密度を0.300μm/bitにしたところ、記録線速1
7.5m/sまで、良好な記録が可能であり、初回記録、及
び、繰り返し記録1000回後のジッターσ/Twは共に
10%未満という値が得られた。さらに、このディスク
を70℃85%RH環境下で1000時間の保存試験を行った後も
初回記録部の劣化はみられなかった。ただし、繰り返し
記録1000回行った部分のジッターは12%程度まで
上昇していた。
[Example 1] Recording characteristics of a disk having a recording layer composition of Dy 6 Sb 78 Te 16 were evaluated. Recording density 0.267μm /
In the bit, the jitter σ / Tw could not be reduced to 10% or less even if the linear velocity and the recording strategy were adjusted. Therefore, when the recording density was set to 0.300 μm / bit, the recording linear velocity became 1
Good recording was possible up to 7.5 m / s, and the jitter σ / Tw after the first recording and after 1000 repetitive recordings were both less than 10%. Further, even after performing a storage test for 1000 hours under an environment of 70 ° C. and 85% RH, no deterioration of the initial recording portion was observed. However, the jitter in the portion where the recording was repeated 1000 times was increased to about 12%.

【0011】[実施例2]記録層組成をAg1Dy5Sb78Te16
したディスクの記録特性を評価した。記録密度0.267μm
/bitで記録線速17.5m/sまで、良好な記録が可能であ
り、初回記録、及び、繰り返し記録1000回後のジッ
ターσ/Twは共に10%未満という値が得られた。さら
に、このディスクを70℃85%RH環境下で1000時間の保存
試験を行った後も初回記録部の劣化はみられなかった。
ただし、繰り返し記録1000回行った部分のジッター
は12%程度まで上昇していた。
Example 2 The recording characteristics of a disk having a recording layer composition of Ag 1 Dy 5 Sb 78 Te 16 were evaluated. Recording density 0.267μm
In / bit, good recording was possible up to a recording linear velocity of 17.5 m / s, and the value of jitter σ / Tw after initial recording and after repeated recording 1000 times was less than 10%. Further, even after performing a storage test for 1000 hours under an environment of 70 ° C. and 85% RH, no deterioration of the initial recording portion was observed.
However, the jitter in the portion where the recording was repeated 1000 times was increased to about 12%.

【0012】[比較例1]記録層組成をAg1In5Sb78Te16
したディスクの記録特性を評価した。記録密度0.267μm
/bitで良好な記録が可能な線速は12m/sであった。そ
こで、実施例1と同様に17.5m/sまで記録可能にするた
めに、記録層組成をAg1In15Sb68Te16,Ag1In5Sb81Te13
としたディスクの評価も行った。前者は初回記録のジッ
ターは10%未満であったが、1000回後は12%ま
で上昇してしまった。後者は、初回記録、及び、繰り返
し記録1000回後のジッターは共に10%未満であっ
たが、70℃85%RH環境下で1000時間保存した
ところ、初回記録部でも12%まで上昇していた。
Comparative Example 1 The recording characteristics of a disk having a recording layer composition of Ag 1 In 5 Sb 78 Te 16 were evaluated. Recording density 0.267μm
The linear velocity at which good recording was possible at 1 / bit was 12 m / s. Therefore, in order to enable recording up to 17.5 m / s as in Example 1, the composition of the recording layer was changed to Ag 1 In 15 Sb 68 Te 16 , Ag 1 In 5 Sb 81 Te 13.
Was evaluated. In the former case, the jitter of the first recording was less than 10%, but after 1000 times, it increased to 12%. In the latter case, the jitters after the initial recording and after 1000 repetitive recordings were both less than 10%, but when stored for 1000 hours in an environment of 70 ° C. and 85% RH, the jitter increased to 12% even in the initial recording section. .

【0013】[実施例3]記録層組成をGe3Dy5Sb78Te14
したディスクの記録特性を評価した。実施例2と同様に
記録密度0.267μm/bitで記録線速17.5m/sまで
良好な記録が可能であり、初回記録、及び、繰り返し記
録1000回後のジッターσ/Twは共に10%未満とい
う値が得られた。さらに、このディスクを70℃85%RH環
境下で1000時間の保存試験を行ったところ、初回記録,
及び、繰り返し記録1000回共に劣化はみられなかっ
た。ただし、初期結晶化する際に、実施例2に比較して
大口径LDビームの走査線速を0.5m/s遅くしないと、
反射率は均一とならなかった。
Example 3 The recording characteristics of a disk having a recording layer composition of Ge 3 Dy 5 Sb 78 Te 14 were evaluated. Good recording is possible up to a recording linear velocity of 17.5 m / s at a recording density of 0.267 μm / bit as in Example 2, and the jitter σ / Tw after the initial recording and after 1000 repetitive recordings are both less than 10%. Was obtained. Further, when this disk was subjected to a storage test for 1000 hours in an environment of 70 ° C. and 85% RH, the initial recording,
Also, no deterioration was observed in all of the repeated recordings 1000 times. However, at the time of initial crystallization, unless the scanning linear velocity of the large-diameter LD beam is reduced by 0.5 m / s as compared with Example 2,
The reflectivity was not uniform.

【0014】[実施例4]記録層組成をAg1In1Ge3Dy5Sb77
Te13としたディスクの記録特性を評価した。実施例2と
同様に記録密度0.267μm/bitで記録線速17.5m/
sまで良好な記録が可能であり、初回記録、及び、繰り
返し記録1000回後のジッターσ/Twは共に10%未
満という値が得られた。さらに、このディスクを70℃85
%RH環境下で1000時間の保存試験を行ったところ、初回
記録,及び、繰り返し記録1000回共に劣化はみられ
なかった。また、このディスクを初期結晶化する際に
は、実施例1に比較して大口径LDビームの走査線速を
0.2m/s遅くすることにより、均一な反射率が得られ
た。
Example 4 The recording layer composition was Ag 1 In 1 Ge 3 Dy 5 Sb 77
The recording characteristics of the disk with Te 13 were evaluated. As in Example 2, the recording linear velocity was 17.5 m / bit at a recording density of 0.267 μm / bit.
s, and the jitter σ / Tw after the initial recording and after 1000 repetitive recordings were both less than 10%. In addition, this disc is
When a storage test was performed for 1000 hours in a% RH environment, no deterioration was observed in both the initial recording and the repeated recording 1000 times. When the disk was initially crystallized, the scanning linear velocity of the large-diameter LD beam was lower than that in the first embodiment.
By making the delay 0.2 m / s, a uniform reflectance was obtained.

【0015】[実施例5]実施例4において、上部誘電体
層と反射層の構成を以下のように変更した。すなわち、
上部誘電体層はZnS・SiO2(膜厚16nm)とSiC(膜厚4nm)
の2層とし、反射層側をSiCとした。反射放熱層とし
ては、Agターゲットを用い、厚さ120nmとした。
このディスクの記録特性を評価した。実施例4と同様に
初回記録、及び、繰り返し記録1000回後のジッター
σ/Twは10%未満という値が得られたが、ジッターσ
/Twの値は実施例5の方が小さい値が得られた。また、
初回記録における変調度は実施例4が68%であったの
対して、実施例5では73%であった。いずれも実施例
4よりも良好な特性が得られていることがわかった。さ
らに、このディスクを70℃85%RH環境下で1000時間の保
存試験を行ったところ、初回記録,及び、繰り返し記録
1000回共にAgの硫化による腐食はみられなかっ
た。
Fifth Embodiment In the fourth embodiment, the structures of the upper dielectric layer and the reflection layer are changed as follows. That is,
The upper dielectric layer is ZnS.SiO 2 (16 nm thick) and SiC (4 nm thick)
And the reflective layer side was made of SiC. An Ag target was used as the reflective heat dissipation layer, and the thickness was 120 nm.
The recording characteristics of this disc were evaluated. As in Example 4, the value of jitter σ / Tw of less than 10% was obtained after the initial recording and after 1000 repetitive recordings.
In Example 5, a smaller value of / Tw was obtained. Also,
The modulation degree in the first recording was 68% in Example 4, whereas it was 73% in Example 5. In each case, it was found that better characteristics were obtained than in Example 4. Further, when this disk was subjected to a storage test for 1000 hours in an environment of 70 ° C. and 85% RH, no corrosion due to sulfuration of Ag was observed in both the initial recording and the repeated recording 1,000 times.

【0016】[比較例2]実施例5において、上部誘電体
層はZnS・SiO2(膜厚20nm)の1層とした。このディス
クを70℃85%RH環境下で1000時間の保存試験を行い、デ
ィスクの反射率測定を行ったところ、Agの硫化腐食に
よるドロップアウト(反射率の低下)が顕著であった。
Comparative Example 2 In Example 5, the upper dielectric layer was a single layer of ZnS.SiO 2 (film thickness: 20 nm). This disk was subjected to a storage test for 1000 hours in an environment of 70 ° C. and 85% RH, and the reflectance of the disk was measured. As a result, dropout (reduction in reflectance) due to sulfuration corrosion of Ag was remarkable.

【0017】[比較例3]実施例5において、上部誘電体
層はZnS・SiO2(膜厚16nm)とZnO(膜厚4nm)の2層
とし、反射層側をZnOとした。このディスクを70℃85
%RH環境下で1000時間の保存試験を行い、ディスクの反
射率測定を行ったところ、初回記録ではAgの硫化によ
る腐食はみられなかったが、繰り返し記録1000回で
はAgの硫化腐食によるドロップアウト(反射率の低下)
が顕著であった。
Comparative Example 3 In Example 5, the upper dielectric layer was made of two layers of ZnS.SiO 2 (16 nm thick) and ZnO (4 nm thick), and the reflective layer side was made of ZnO. Keep this disc at 70 ℃ 85
When the storage test was performed for 1000 hours in a% RH environment and the reflectance of the disk was measured, no corrosion due to Ag sulfidation was observed in the initial recording, but dropout due to Ag sulfidation corrosion was observed 1000 times repeatedly. (Decrease in reflectance)
Was remarkable.

【0018】[比較例4]記録層組成は実施例1と同じも
のを用いたが、初期結晶化をランプアニールで行った。
反射率は均一であったが、記録ストラテジやパワーの調
整によっても評価に値するような記録はできなかった。
そこで、記録層のみをガラス基板にスパッタで成膜し、
LDビームとランプアニールによりそれぞれ結晶化させ
た薄膜を粉末X線回折法で結晶構造を調べた。LDビー
ムにより結晶化した膜は単一のNaCl構造に近い結晶相に
よると考えられる回折スペクトルが得られたのに対し、
ランプアニールにより結晶化した膜は、単一の結晶相で
はなく、InSbの析出に伴うと推定される六方晶やSb2Te3
の析出に伴うと推定される三方晶の出現がみられ、この
ために記録ができない状態になっているものと考えられ
る。
Comparative Example 4 The same recording layer composition as in Example 1 was used, but the initial crystallization was performed by lamp annealing.
Although the reflectivity was uniform, it was not possible to perform recording worthy of evaluation even by adjusting the recording strategy or power.
Therefore, only the recording layer is formed on the glass substrate by sputtering,
The crystal structure of the thin film crystallized by the LD beam and the lamp annealing was examined by the powder X-ray diffraction method. The film crystallized by the LD beam had a diffraction spectrum that was thought to be due to a crystalline phase close to a single NaCl structure, whereas
The film crystallized by lamp annealing is not a single crystal phase, but hexagonal or Sb 2 Te 3
It is considered that the appearance of trigonal crystals presumed to be accompanied by the precipitation of γ was observed, so that it was impossible to record.

【0019】[比較例5]記録層を形成する際に所定組成
のSb-Te合金ターゲット上に、Sb,Dy,Ag,Geのチップを載
せてスパッタを行った。しかし、所望組成の記録層を得
るのは困難であり、安定して同一組成の記録相を形成す
ることはできなかった。
[Comparative Example 5] When forming a recording layer, a Sb, Dy, Ag, Ge chip was mounted on an Sb-Te alloy target having a predetermined composition, and sputtering was performed. However, it was difficult to obtain a recording layer having a desired composition, and a recording phase having the same composition could not be stably formed.

【0020】[0020]

【発明の効果】請求項1の発明は、基板上に少なくとも
記録層を設けるとともに前記記録層の相変化を利用して
情報の記録、再生、消去を行う光記録媒体において、前
記記録層の原子比率90%以上が、下記式で表される化
合物からなることを特徴とする光記録媒体であるので、
高線速記録が可能で、オーバーライト特性に優れた光記
録媒体を提供できる。 DyαSbβTeγ (式中、α、β、γは原子比率を表し、0.01≦α≦
0.10、かつ0.60≦β≦0.95であり、α+β
+γ=1である) 請求項2の発明は、記録層が、さらにAgを含むことを特
徴とする請求項1に記載の光記録媒体であるので、記録
密度を向上させることができる。請求項3の発明は、記
録層が、さらにGeを含むことを特徴とする請求項1に記
載の光記録媒体であるので、保存信頼性を向上させるこ
とができる。請求項4の発明は、記録層が、さらにAgお
よびGeを含むことを特徴とする請求項1に記載の光記録
媒体であるので、記録密度、保存信頼性,オーバーライ
ト特性、初期結晶化時間の短縮にバランスのとれた優れ
た光記録媒体を提供できる。請求項5の発明は、記録層
が、所定組成の合金ターゲットを用いたスパッタ法によ
り成膜されたものであることを特徴とする請求項1ない
し4のいずれか1項に記載の光記録媒体であるので、記
録特性、信頼性に優れた光記録媒体を安定して提供でき
る。請求項6の発明は、光記録媒体が、基板上に少なく
とも下部誘電体層、記録層、上部誘電体層、および反射
層をこの順で設けたものであり,前記反射層が少なくと
もAgを90%以上含む金属であることを特徴とする請
求項1ないし4のいずれか1項に記載の光記録媒体であ
るので、高線速記録により適した光記録媒体を提供でき
る。請求項7の発明は、上部誘電体層が少なくとも2層
構造からなり、その内の1層が、反射層との界面から前
記上部誘電体層の内部に向かって1nm以上の幅を有する
とともに硫化物を含まない層であることを特徴とする請
求項6に記載の光記録媒体であるので、Agの硫化反応
を防止できるため、高線速記録により適した光記録媒体
を信頼性の高い状態で提供できる。請求項8の発明は、
硫化物を含まない層が、炭素化物、あるいは炭素化物に
対して酸化物または窒化物を混合した材料からなること
を特徴とする請求項7に記載の光記録媒体であるので、
Agの硫化反応を防止できるため、高線速記録により適
した光記録媒体を信頼性の高い状態で提供できる。請求
項9の発明は、炭素化物がSiCであることを特徴とす
る請求項8に記載の光記録媒体であるので、Agの硫化
反応を防止できるため、高線速記録により適した光記録
媒体を信頼性の高い状態で提供できる。請求項10の発
明は、記録層として、初期結晶化されたものを用いるこ
とを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載
の光記録媒体であるので、高密後記録が可能で、繰り返
し記録性に優れる光記録媒体を非晶質マークを記録可能
な状態で提供できる。請求項11の発明は、初期結晶化
が、レーザービームによる溶融初期化方法、あるいは、
固相初期化によりなされたものであることを特徴とする
請求項10に記載の光記録媒体であるので、高密後記録
が可能で、繰り返し記録性に優れる光記録媒体を良好な
記録が可能な状態で提供できる。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium in which at least a recording layer is provided on a substrate and information is recorded, reproduced and erased by utilizing a phase change of the recording layer. 90% or more of the optical recording medium is characterized by comprising a compound represented by the following formula,
An optical recording medium capable of high linear velocity recording and having excellent overwrite characteristics can be provided. Dy α Sb β Te γ (where α, β, and γ represent atomic ratios, and 0.01 ≦ α ≦
0.10 and 0.60 ≦ β ≦ 0.95, and α + β
In the invention according to claim 2, the recording layer further contains Ag, so that the optical recording medium according to claim 1 can improve the recording density. The invention of claim 3 is the optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ge, so that the storage reliability can be improved. The invention according to claim 4 is the optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ag and Ge, so that the recording density, storage reliability, overwrite characteristics, and initial crystallization time It is possible to provide an excellent optical recording medium which is well-balanced in shortening the optical recording medium. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the recording layer is formed by a sputtering method using an alloy target having a predetermined composition. Therefore, it is possible to stably provide an optical recording medium having excellent recording characteristics and reliability. According to a sixth aspect of the present invention, in the optical recording medium, at least a lower dielectric layer, a recording layer, an upper dielectric layer, and a reflective layer are provided in this order on a substrate, and the reflective layer contains at least 90% Ag. % Of the metal, so that the optical recording medium according to any one of claims 1 to 4 can provide an optical recording medium more suitable for high linear velocity recording. According to a seventh aspect of the present invention, the upper dielectric layer has at least a two-layer structure, and one of the layers has a width of 1 nm or more from the interface with the reflective layer toward the inside of the upper dielectric layer and has a sulfuric acid concentration of 1 nm or more. 7. The optical recording medium according to claim 6, wherein the optical recording medium is a layer that does not contain a substance, and since a sulfurization reaction of Ag can be prevented, an optical recording medium more suitable for high linear velocity recording can be obtained in a highly reliable state. Can be provided by The invention of claim 8 is
The optical recording medium according to claim 7, wherein the sulfide-free layer is made of a carbonized material or a material obtained by mixing an oxide or a nitride with a carbonized material.
Since the sulfurization reaction of Ag can be prevented, an optical recording medium more suitable for high linear velocity recording can be provided in a highly reliable state. According to a ninth aspect of the present invention, since the carbonized material is SiC, the sulfurating reaction of Ag can be prevented, so that the optical recording medium is more suitable for high linear velocity recording. Can be provided with high reliability. According to a tenth aspect of the present invention, since the optical recording medium according to any one of the first to ninth aspects, the recording layer is formed by initial crystallization. In addition, it is possible to provide an optical recording medium having excellent repetitive recording properties in a state where an amorphous mark can be recorded. In the invention according to claim 11, the initial crystallization is performed by a melting initialization method using a laser beam, or
11. The optical recording medium according to claim 10, wherein the optical recording medium is formed by solid-phase initialization. Can be provided in condition.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光記録媒体の一例を説明するための断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an optical recording medium according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 下部誘電体層 3 記録層 4 上部誘電体層 5 反射層 6 有機保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Lower dielectric layer 3 Recording layer 4 Upper dielectric layer 5 Reflective layer 6 Organic protective layer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 534 G11B 7/24 535G 535 535H 538D 538 B41M 5/26 X (72)発明者 譲原 肇 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 針谷 眞人 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 影山 喜之 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA32 EA48 FA01 FA12 FA21 FB05 FB09 FB12 FB16 FB17 FB24 FB30 GA03 5D029 HA05 HA06 JA01 JB18 LA12 LB04 LB07 LB11 LC21 MA13Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) G11B 7/24 534 G11B 7/24 535G 535 535H 538D 538 B41M 5/26 X (72) Inventor Hajime Yojihara Ota-ku, Tokyo 1-3-6 Nakamagome Ricoh Co., Ltd. (72) Inventor Masato Hariya 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Co., Ltd. (72) Yoshiyuki Kageyama 1-chome Nakamagome, Ota-ku, Tokyo No. 3-6 Ricoh F-term (Reference) 2H111 EA03 EA12 EA32 EA48 FA01 FA12 FA21 FB05 FB09 FB12 FB16 FB17 FB24 FB30 GA03 5D029 HA05 HA06 HA01 JA01 JB18 LA12 LB04 LB07 LB11 LC21 MA13

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも記録層を設けるとと
もに前記記録層の相変化を利用して情報の記録、再生、
消去を行う光記録媒体において、前記記録層の原子比率
90%以上が、下記式で表される化合物からなることを
特徴とする光記録媒体。 DyαSbβTeγ (式中、α、β、γは原子比率を表し、0.01≦α≦
0.10、かつ0.60≦β≦0.95であり、α+β
+γ=1である)
At least a recording layer is provided on a substrate, and recording, reproducing, and reproducing information by utilizing a phase change of the recording layer.
An optical recording medium for erasing, wherein an atomic ratio of the recording layer of 90% or more comprises a compound represented by the following formula. Dy α Sb β Te γ (where α, β, and γ represent atomic ratios, and 0.01 ≦ α ≦
0.10 and 0.60 ≦ β ≦ 0.95, and α + β
+ Γ = 1)
【請求項2】 記録層が、さらにAgを含むことを特徴と
する請求項1に記載の光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ag.
【請求項3】 記録層が、さらにGeを含むことを特徴と
する請求項1に記載の光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ge.
【請求項4】 記録層が、さらにAgおよびGeを含むこと
を特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer further contains Ag and Ge.
【請求項5】 記録層が、所定組成の合金ターゲットを
用いたスパッタ法により成膜されたものであることを特
徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光記
録媒体。
5. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is formed by a sputtering method using an alloy target having a predetermined composition.
【請求項6】 光記録媒体が、基板上に少なくとも下部
誘電体層、記録層、上部誘電体層、および反射層をこの
順で設けたものであり,前記反射層が少なくともAgを
90%以上含む金属であることを特徴とする請求項1な
いし4のいずれか1項に記載の光記録媒体。
6. An optical recording medium wherein at least a lower dielectric layer, a recording layer, an upper dielectric layer, and a reflective layer are provided on a substrate in this order, and the reflective layer contains at least 90% of Ag. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical recording medium is a metal.
【請求項7】 上部誘電体層が少なくとも2層構造から
なり、その内の1層が、反射層との界面から前記上部誘
電体層の内部に向かって1nm以上の幅を有するとともに
硫化物を含まない層であることを特徴とする請求項6に
記載の光記録媒体。
7. An upper dielectric layer having at least a two-layer structure, one of which has a width of 1 nm or more from an interface with a reflective layer toward the inside of the upper dielectric layer and has a sulfide structure. The optical recording medium according to claim 6, wherein the optical recording medium is a layer that does not contain any.
【請求項8】 硫化物を含まない層が、炭素化物、ある
いは炭素化物に対して酸化物または窒化物を混合した材
料からなることを特徴とする請求項7に記載の光記録媒
体。
8. The optical recording medium according to claim 7, wherein the sulfide-free layer is made of a carbonized material or a material obtained by mixing an oxide or a nitride with a carbonized material.
【請求項9】 炭素化物がSiCであることを特徴とす
る請求項8に記載の光記録媒体。
9. The optical recording medium according to claim 8, wherein the carbonized material is SiC.
【請求項10】 記録層として、初期結晶化されたもの
を用いることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか
1項に記載の光記録媒体。
10. The optical recording medium according to claim 1, wherein an initial crystallized recording layer is used as the recording layer.
【請求項11】 初期結晶化が、レーザービームによる
溶融初期化方法、あるいは、固相初期化によりなされた
ものであることを特徴とする請求項10に記載の光記録
媒体。
11. The optical recording medium according to claim 10, wherein the initial crystallization is performed by a melting initialization method using a laser beam or a solid phase initialization.
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US7491436B2 (en) 2002-11-18 2009-02-17 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium

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