JP2002299517A - Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof

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JP2002299517A
JP2002299517A JP2001105150A JP2001105150A JP2002299517A JP 2002299517 A JP2002299517 A JP 2002299517A JP 2001105150 A JP2001105150 A JP 2001105150A JP 2001105150 A JP2001105150 A JP 2001105150A JP 2002299517 A JP2002299517 A JP 2002299517A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a bur, which occurs at cutting with a dicing blade, from containing a conductive material, related to a substrate for a semiconductor device. SOLUTION: A wiring pattern and a plated lead wire 26 are formed on a semiconductor device substrate 20 wherein a plurality of semiconductor elements are mounted and then resin-sealed for dividing. The plated lead wire 26 extends a plurality of dicing lines, orthogonal each other detouring the intersection region of the dicing lines, to divide the resin-sealed semiconductor device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置用基板に
係り、特に基板上において樹脂封止された複数の半導体
装置を切断して個別の半導体装置を製造するための半導
体装置用基板及び半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate for a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device substrate and a semiconductor device for manufacturing individual semiconductor devices by cutting a plurality of semiconductor devices resin-sealed on the substrate. And a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置の製造工程を簡略化す
るために、複数の半導体チップを一枚の基板上において
樹脂封止してから個別の半導体チップに分離(個片化)
する技術が開発されている。従来、一括して樹脂封止し
た半導体チップを個片化するには、ダイサー(ダイシン
グソー)により切断する方法が一般的であった。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to simplify a manufacturing process of a semiconductor device, a plurality of semiconductor chips are resin-sealed on a single substrate and then separated into individual semiconductor chips (singulation).
Technology has been developed. Conventionally, in order to singulate semiconductor chips which are collectively sealed with a resin, a method of cutting with a dicer (dicing saw) has been common.

【0003】すなわち、複数の半導体チップを一枚の基
板上に整列して搭載し、樹脂封止する。これにより、基
板と封止樹脂は一体化され、封止樹脂内に半導体チップ
が封止されて基板により配線された半導体装置が形成さ
れる。このようにして一括で樹脂封止して形成された複
数の半導体装置は、ダイシングブレード(ダイシングソ
ー)により切断することにより個片化される。
That is, a plurality of semiconductor chips are aligned and mounted on one substrate, and are sealed with a resin. As a result, the substrate and the sealing resin are integrated, the semiconductor chip is sealed in the sealing resin, and a semiconductor device wired by the substrate is formed. A plurality of semiconductor devices formed in this way by resin sealing are cut into individual pieces by cutting with a dicing blade (dicing saw).

【0004】半導体チップを搭載する基板としては、ポ
リイミドフィルム(テープ)等に配線パターンを形成し
たフレキシブルプリント基板(FPC)が用いられるこ
とが多い。配線パターンは、ポリイミドフィルムに銅箔
等をラミネートし、エッチングによりパターン化するこ
とにより形成される。すなわち、配線パターンを有する
FPC上に複数の半導体チップを搭載して一括して樹脂
封止し、その後、形成された半導体装置をダイシングブ
レードにより切断して個片化するものである。なお、ダ
イサーによる切断の他にレーザ切断装置による切断する
こともある。
As a substrate on which a semiconductor chip is mounted, a flexible printed circuit (FPC) having a wiring pattern formed on a polyimide film (tape) or the like is often used. The wiring pattern is formed by laminating a copper foil or the like on a polyimide film and patterning it by etching. That is, a plurality of semiconductor chips are mounted on an FPC having a wiring pattern and are collectively sealed with a resin, and then the formed semiconductor device is cut into individual pieces by using a dicing blade. In addition, cutting by a laser cutting device other than cutting by a dicer may be used.

【0005】図1は複数の半導体チップを整列して搭載
するために使用される基板の簡略平面図である。図1に
示す複数の整列した四角形4は、FPC基板2に搭載さ
れる半導体チップに相当し、縦線6及び横線8は夫々ダ
イシングラインを示す。
FIG. 1 is a simplified plan view of a substrate used for aligning and mounting a plurality of semiconductor chips. A plurality of aligned rectangles 4 shown in FIG. 1 correspond to semiconductor chips mounted on the FPC board 2, and vertical lines 6 and horizontal lines 8 indicate dicing lines, respectively.

【0006】図1に示すようにマトリックス状に半導体
チップが配列されて一括に樹脂封止されている場合、縦
方向のダイシングライン6と横方向のダイシングライン
8とが交差する点がある。ダイシングラインは各半導体
素子搭載領域の間に位置しており、ダイシングブレード
をダイシングラインに沿って移動することにより半導体
装置を分離する。ダイシングラインは、ダイシングブレ
ードにより切削されて除去される領域の中央を示す線で
あり、実際には、封止樹脂及びFPC基板2は、図2に
示すようにダイシングブレードの厚みに相当する幅Wを
有する領域がダイシングブレードによって切削され除去
される。
As shown in FIG. 1, when semiconductor chips are arranged in a matrix and are collectively sealed with resin, there are points where the vertical dicing lines 6 and the horizontal dicing lines 8 intersect. The dicing line is located between the semiconductor element mounting regions, and separates the semiconductor device by moving the dicing blade along the dicing line. The dicing line is a line indicating the center of the region that is cut and removed by the dicing blade. In practice, the sealing resin and the FPC board 2 have a width W corresponding to the thickness of the dicing blade as shown in FIG. Is cut and removed by the dicing blade.

【0007】ここで、縦方向のダイシングライン6と横
方向のダイシングライン8とが交差する領域に注目す
る。この交差領域では、まず一方向のダイシングライン
に沿ってダイシングブレードが進行してFPC基板2及
び封止樹脂が切削され除去された後、これと垂直な方向
のダイシングラインに沿ってダイシングブレードが進
む。したがって、交差領域では、ダイシングブレードが
2回通ることとなる。ダイシングブレードが交差領域を
2回目に通過する際は、封止樹脂8と基板2とはすでに
切断されて除去されているので、交差領域に近づくにつ
れ、ダイシングブレードが進む方向における切断される
部分の厚さが減少する。
Here, attention is paid to a region where the vertical dicing line 6 and the horizontal dicing line 8 intersect. In this intersecting region, first, the dicing blade advances along the dicing line in one direction to cut and remove the FPC board 2 and the sealing resin, and then the dicing blade advances along the dicing line in a direction perpendicular to this. . Therefore, in the intersection area, the dicing blade passes twice. When the dicing blade passes through the intersection area for the second time, since the sealing resin 8 and the substrate 2 have already been cut and removed, as the dicing blade approaches the intersection area, a portion of the cut portion in the direction in which the dicing blade advances is moved. The thickness decreases.

【0008】切断される部分(領域)は最後までダイシ
ングブレードにより切削されることが理想的であるが、
最後の部分は切削に必要な強度が不足し、切削されずに
ダイシングブレードにより押しのけられて薄いバリとな
って残ってしまう。図3は封止樹脂10で封止した半導
体チップをダイシングブレードにより切断した状態を示
す平面図である。図3において、まず横方向(矢印)
に切断し、次に縦方向(矢印)に切断した場合、上述
のようにバリ12−1が発生する。
Ideally, the portion (region) to be cut is cut to the end by a dicing blade.
The last part has insufficient strength required for cutting, and is not cut, but is displaced by a dicing blade and remains as a thin burr. FIG. 3 is a plan view showing a state where the semiconductor chip sealed with the sealing resin 10 is cut by a dicing blade. In FIG. 3, first, the horizontal direction (arrow)
And then cut in the vertical direction (arrow), burrs 12-1 are generated as described above.

【0009】また、FPC基板12の材料であるポリイ
ミドは比較的柔らかい材料であるため、切削性があまり
よくなく、図4に示すようにFPC基板2の表面部分が
切削されずに残ってしまうためにバリ12−2が発生す
る。ここで、図4は図3に示す切断後の半導体装置の拡
大側面図である。上述のバリ12−1,12−2は、ダ
イシングブレードの幅と同等の長さからその1.5倍程
度の長さになり、切断された半導体装置の角部又は端部
に付着したままとなることが多い。
In addition, since polyimide, which is a material of the FPC board 12, is a relatively soft material, its cutting property is not so good, and the surface of the FPC board 2 remains without being cut as shown in FIG. The burr 12-2 is generated at the time. Here, FIG. 4 is an enlarged side view of the semiconductor device after cutting shown in FIG. The burrs 12-1 and 12-2 described above have a length equivalent to the width of the dicing blade and have a length of about 1.5 times that of the dicing blade, and remain attached to the corners or edges of the cut semiconductor device. Often become.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ここで、FPC基板の
配線パターンには金メッキあるいはニッケルメッキ等の
電解メッキを施すことが多い。したがって、FPC基板
上には電解メッキ用の引出し線が形成される。一般的
に、メッキ引出し線はパターン配線により形成される
が、メッキ引出し線をダイシングラインに沿って設けて
おくことにより、ダイシング時(切断時)にメッキ引出
し線を除去することができる。なお、図2及び図5にお
けるの実線は、ダイシングライン上に配置されたメッキ
引出し線を示している。
Here, the wiring pattern of the FPC board is often subjected to electrolytic plating such as gold plating or nickel plating. Therefore, a lead wire for electrolytic plating is formed on the FPC board. Generally, plating lead lines are formed by pattern wiring, but by providing plating lead lines along dicing lines, plating lead lines can be removed during dicing (cutting). Note that the solid lines in FIGS. 2 and 5 indicate plating lead lines arranged on the dicing line.

【0011】ダイシングラインに沿ってメッキ引出し線
が設けられている場合、上述のバリが発生した際にメッ
キ引出し線の一部がバリに含まれることとなる。すなわ
ち、バリはダイシングブレードの幅以上の長さで形成さ
れるので、ダイシングブレードで削り取られるべきメッ
キ引出し線の一部はバリに付着したままとなる。メッキ
引出し線は配線パターンと同じ材料、例えば銅箔であ
り、導電性材料である。したがって、導電性材料を含む
バリが半導体装置に付着し、切断後の工程において問題
を引き起こすおそれがあった。
When a plating lead line is provided along the dicing line, when the above-mentioned burr occurs, a part of the plating lead line is included in the burr. That is, since the burr is formed with a length equal to or greater than the width of the dicing blade, a part of the plating lead wire to be removed by the dicing blade remains attached to the burr. The plated lead wire is the same material as the wiring pattern, for example, a copper foil, and is a conductive material. Therefore, burrs containing a conductive material may adhere to the semiconductor device and cause a problem in a process after cutting.

【0012】上述のようなバリの発生を防止するため
に、FPC基板に予め貫通孔を形成しておく方法が提案
されている。すなわち、図5に示すようにFPC基板の
半導体装置が形成される領域の角部に相当する位置に、
予め貫通孔14を形成しておき、バリの発生を防止する
ものである。図6は貫通孔14を有するFPC基板2を
用いた場合の半導体装置を基板側から見た平面図であ
る。貫通孔14に対応する部分は封止樹脂10がFPC
基板2の表面まで達している。また、図7は図6に示す
半導体装置の拡大側面図である。
In order to prevent the occurrence of burrs as described above, a method has been proposed in which a through-hole is previously formed in an FPC board. That is, as shown in FIG. 5, a position corresponding to the corner of the region where the semiconductor device of the FPC board is formed is
The through holes 14 are formed in advance to prevent burrs. FIG. 6 is a plan view of the semiconductor device when the FPC board 2 having the through holes 14 is used, as viewed from the board side. The portion corresponding to the through hole 14 is made of FPC made of the sealing resin 10.
It reaches the surface of the substrate 2. FIG. 7 is an enlarged side view of the semiconductor device shown in FIG.

【0013】FPC基板2に貫通孔14があると、図7
の矢印で示すように、樹脂封止時に封止樹脂10が貫通
孔14からFPC基板2とFPC基板側の金型との間に
流れ出し、金型に付着することがある。このような場
合、樹脂封止工程において、半導体装置に打痕が生じた
り、異物として付着したりするといった問題がある。ま
た、BGAタイプの半導体装置の場合、半田ボールの接
合不良を引き起こすこともある。したがって、FPC基
板に貫通孔を設けてバリの発生を抑制することは最善の
方法ではなかった。
When the through hole 14 is formed in the FPC board 2, FIG.
As indicated by the arrow, the sealing resin 10 may flow out of the through hole 14 between the FPC board 2 and the mold on the FPC board side during the resin sealing and adhere to the mold. In such a case, there is a problem that a dent is formed on the semiconductor device or adheres as a foreign substance in the resin sealing step. Further, in the case of a BGA type semiconductor device, defective bonding of solder balls may be caused. Therefore, suppressing the generation of burrs by providing a through-hole in the FPC board was not the best method.

【0014】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、ブレード等による切断時に発生するバリに導電性
材料が含まれることを防止し得る半導体装置用基板及び
半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and provides a semiconductor device substrate and a method of manufacturing a semiconductor device which can prevent a conductive material from being included in burrs generated when cutting with a blade or the like. The purpose is to do.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴
とするものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention is characterized by taking the following means.

【0016】請求項1記載の発明は、複数の半導体素子
を搭載して樹脂封止し個片化するために用いられる半導
体装置用基板であって、メッキ処理が施された配線パタ
ーンと、樹脂封止した半導体装置を個片化するための複
数の直交するダイシングラインに沿って延在するメッキ
引出し線とを有し、前記メッキ引出し線は前記ダイシン
グラインの交差領域を迂回するように形成されているこ
とを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate for a semiconductor device used for mounting a plurality of semiconductor elements, sealing the resin with a resin, and separating the semiconductor element into a plurality of pieces. A plating lead line extending along a plurality of orthogonal dicing lines for singulating the sealed semiconductor device, wherein the plating lead line is formed so as to bypass an intersection region of the dicing line. It is characterized by having.

【0017】請求項1記載の発明によれば、メッキ引出
し線がダイシングラインの交差領域内に延在することは
なく、したがって、ダイシングブレード等による切断時
にバリが発生しても、バリにメッキ引出し線が含まれる
ことはない。したがって、バリに導電性材料が含まれて
いることにより生じる問題を回避することができる。
According to the first aspect of the present invention, the plating lead line does not extend into the intersection area of the dicing line. Therefore, even if burrs are generated at the time of cutting with a dicing blade or the like, the plating lead is applied to the burrs. No lines are included. Therefore, it is possible to avoid a problem caused by the burr containing a conductive material.

【0018】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体装置用基板であって、前記交差領域は個片化に用い
られるダイシングブレードの幅を一辺とする正方形の領
域として画成されることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the substrate for a semiconductor device according to the first aspect, the crossing region is defined as a square region having a side of a width of a dicing blade used for singulation. It is characterized by the following.

【0019】請求項2記載の発明によれば、直交するダ
イシングラインの交点に関して、ダイシングブレードの
幅に対応した幅の辺を有する領域が交差領域として画成
される。ダイシングにより発生するバリはダイシングブ
レードにより除去される領域から発生するため、交差領
域内にメッキ引出し線が延在しなければ、バリにメッキ
引出し線が含まれることはない。
According to the second aspect of the invention, a region having a side having a width corresponding to the width of the dicing blade is defined as an intersection region with respect to the intersection of the orthogonal dicing lines. Since burrs generated by dicing are generated from the area removed by the dicing blade, the burrs do not include the plating lead unless the plating lead extends in the intersection area.

【0020】請求項3記載の発明は、請求項2記載の半
導体装置用基板であって、前記メッキ引出し線は、前記
交差領域を包囲するように延在する包囲部分と、前記包
囲部分からダイシングラインに沿って延在する部分とを
有することを特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device substrate according to the second aspect, wherein the plating lead line extends from the surrounding portion so as to surround the intersection region, and is diced from the surrounding portion. And a portion extending along the line.

【0021】請求項3記載の発明によれば、包囲部分に
よってメッキ引出し線がダイシングラインの交差領域を
迂回することができる。包囲部分は円形あるいは四角形
等の任意の形状とすることができる。
According to the third aspect of the present invention, the plating lead line can bypass the intersection area of the dicing line by the surrounding portion. The surrounding portion can have any shape such as a circle or a square.

【0022】請求項4記載の発明は、請求項1乃至3の
ういちいずれか一項記載の半導体装置用基板であって、
前記メッキ引出し線は、前記配線パターンと同じ材料に
より形成されていることを特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device substrate according to any one of the first to third aspects, wherein:
The plating lead line is formed of the same material as the wiring pattern.

【0023】請求項4記載の発明によれば、基板に配線
パターンを形成する工程においてメッキ引出し線を同時
に形成することができるため、製造工程を簡略化するこ
とができる。
According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to simultaneously form the plated lead in the step of forming the wiring pattern on the substrate, so that the manufacturing process can be simplified.

【0024】請求項5記載の発明は、複数の半導体素子
を整列して搭載し、樹脂封止してから個片化する半導体
装置の製造方法であって、直交するダイシングラインに
沿って延在し、且つ該ダイシングラインの交差領域は迂
回するように形成されたメッキ引出し線を含む配線パタ
ーンを基板上に形成し、前記基板に半導体素子を搭載し
て樹脂封止し、樹脂封止した半導体素子を前記直交する
ダイシングラインに沿ってダイシングすることを特徴と
するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements are aligned, mounted, resin-sealed, and singulated, and the semiconductor device extends along orthogonal dicing lines. A wiring pattern including plating lead lines formed so as to detour the intersection area of the dicing lines is formed on a substrate, and a semiconductor element is mounted on the substrate and resin-sealed; The device is diced along the orthogonal dicing line.

【0025】請求項5記載の発明によれば、メッキ引出
し線がダイシングラインの交差領域内に延在することは
なく、したがって、ダイシングブレードによる切削時に
バリが発生しても、バリにメッキ引出し線が含まれるこ
とはない。したがって、バリに導電性材料が含まれてい
ることにより生じる問題を回避することができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the plating lead line does not extend in the intersection area of the dicing line. Therefore, even if burrs are generated during cutting by the dicing blade, the plating lead line is applied to the burr. Is not included. Therefore, it is possible to avoid a problem caused by the burr containing a conductive material.

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0026】図8は本発明の一実施の形態によるFPC
基板の平面図である。図9は図8中のA部拡大図であ
る。図9(a)は交差領域におけるメッキ引出し線のパ
ターンの一例を示し、図9(b)はメッキ引出し線のパ
ターンの他の例を示す。
FIG. 8 shows an FPC according to an embodiment of the present invention.
It is a top view of a board. FIG. 9 is an enlarged view of a portion A in FIG. FIG. 9A shows an example of a pattern of a plating lead line in an intersection area, and FIG. 9B shows another example of a pattern of a plating lead line.

【0027】図8に示すFPC基板20はBGAタイプ
の半導体装置に用いられる基板であり、ポリイミド等の
樹脂テープに銅箔を貼りつけてパターン化したものであ
る。FPC基板20には、半導体チップを搭載する領域
(搭載領域)22がマトリックス状に整列して設けられ
ている。各搭載領域22の間にはダイシングにより除去
される領域(ダイシング領域:図9中24で示す)が設
けられる。図8ではダイシング領域は明確に示されてい
ないが、図9では点線により囲まれた部分として示され
る。なお、各搭載領域22には配線パターンが設けられ
ているが、図面の簡単化のために図示は省略している。
The FPC board 20 shown in FIG. 8 is a board used for a BGA type semiconductor device, and is formed by bonding a copper foil to a resin tape such as polyimide or the like to form a pattern. The FPC board 20 is provided with regions (mounting regions) 22 for mounting semiconductor chips arranged in a matrix. A region to be removed by dicing (dicing region: indicated by 24 in FIG. 9) is provided between the mounting regions 22. Although the dicing area is not clearly shown in FIG. 8, it is shown in FIG. 9 as a portion surrounded by a dotted line. Although a wiring pattern is provided in each mounting area 22, it is not shown for simplification of the drawing.

【0028】上述のダイシング領域24にはメッキ引出
し線26が設けられ、ダイシング領域24内を長手方向
に延在している。ダイシングライン(ダイシング領域)
は縦方向に延在するものと横方向に延在するものがあ
り、図8のA部のように互いに交差する点が存在する。
図9はA部拡大図であり、ダイシング領域が交差した領
域(交差領域:図9中28で示す)付近を拡大して示し
ている。
A plating lead 26 is provided in the dicing area 24 and extends in the dicing area 24 in the longitudinal direction. Dicing line (dicing area)
There are those that extend in the vertical direction and those that extend in the horizontal direction, and there are points that intersect each other as shown in part A of FIG.
FIG. 9 is an enlarged view of a portion A, in which the vicinity of a region where the dicing regions intersect (intersecting region: indicated by 28 in FIG. 9) is enlarged.

【0029】従来の基板では、縦方向に延在するメッキ
引出し線と横方向に延在するメッキ引き線とは、交差領
域28内において交差していた。しかし、本実施の形態
においては、メッキ引出し線26は、交差領域28を迂
回して互いに接続されている。すなわち、ダイシング領
域に延在するメッキ引出し線26は、交差領域28の手
前で2本に分かれ、交差領域28内に延在しないように
交差領域を迂回して直交するダイシング領域内に延在す
るメッキ引出し線26に接続されている。
In the conventional substrate, the plated lead extending in the vertical direction and the plated lead extending in the horizontal direction intersect in the intersection region 28. However, in the present embodiment, the plating lead wires 26 are connected to each other bypassing the intersection area 28. That is, the plating lead line 26 extending to the dicing region is split into two lines before the intersection region 28, and extends into the dicing region orthogonal to the intersection region so as not to extend into the intersection region 28. It is connected to the plating lead wire 26.

【0030】図9(a)に示す例では、メッキ引出し線
26は交差領域28の手前で90度の角度をなす2本の
線に分岐し、この2本の線の各々が直交するメッキ引出
し線に接続されている。したがって、正方形にパターン
化されたメッキ引出し線26が交差領域28を包囲する
ように形成されている。この場合、ダイシング領域を延
在するメッキ引出し線26は正方形パターンの各頂点か
ら延出する。
In the example shown in FIG. 9A, the plating lead line 26 branches into two lines forming an angle of 90 degrees before the intersection area 28, and each of the two lines is perpendicular to the plating lead line. Connected to the wire. Therefore, the plating lead line 26 patterned into a square is formed so as to surround the intersection region 28. In this case, the plating lead line 26 extending in the dicing area extends from each vertex of the square pattern.

【0031】また、図9(b)に示す例では、メッキ引
出しシ線26は交差領域28の手前で左右に180度延
在し、直交するメッキ引出し線26の分岐線に接続され
ている。したがって、正方形の交差領域28より一回り
大きな形状の正方形にパターン化されたメッキ引出し線
26が交差領域28を包囲するように形成されている。
この場合、ダイシング領域を延在するメッキ引出し線2
6は正方形パターンの各辺の中央から延出する。
In the example shown in FIG. 9B, the plating lead wire 26 extends right and left by 180 degrees before the intersection area 28, and is connected to the orthogonal branch line of the plating lead wire 26. Therefore, the plating lead line 26 patterned into a square having a shape slightly larger than the square intersection region 28 is formed so as to surround the intersection region 28.
In this case, the plating lead 2 extending in the dicing area
Reference numeral 6 extends from the center of each side of the square pattern.

【0032】以上のような構成において、メッキ引出し
線26は交差領域28内に存在しないため、交差領域2
8内のFPC基板20にバリが発生しても、バリにメッ
キ引出し線が含まれることが防止される。したがって、
本実施の形態によるFPC基板20を用いた半導体装置
の製造過程においては、導電性材料を含むバリに起因し
た問題が生じるおそれはない。
In the above configuration, since the plating lead line 26 does not exist in the intersection area 28,
Even if burrs are generated on the FPC board 20 in 8, the burrs are prevented from including plating lead wires. Therefore,
In the process of manufacturing the semiconductor device using the FPC board 20 according to the present embodiment, there is no possibility that a problem due to burrs containing a conductive material will occur.

【0033】なお、メッキ引出し線のパターン形状は、
図9において示すような正方形に限ることなく、交差領
域28内に入らなければ円形等の任意の形状とすること
ができる。また、パターンは対称な形状でなくてもよ
く、その一部が欠けたものであってもよい。また、本発
明はFPC基板に限ることなく、ガラスエポキシ基板等
のリジッドな基板に適用することもできる。
The pattern shape of the plating lead wire is as follows.
The shape is not limited to a square as shown in FIG. 9 and may be an arbitrary shape such as a circle as long as it does not enter the intersection area 28. In addition, the pattern does not have to be a symmetrical shape, and may have a part missing. Further, the present invention is not limited to the FPC board, but can be applied to a rigid board such as a glass epoxy board.

【0034】図10はメッキ引出し線のパターンの変形
例を示す図である。図10に示す例では、各半導体チッ
プの搭載領域に形成されている端子を利用して、メッキ
引出し線26の迂回部分を形成したものである。すなわ
ち、ダイシング領域の外側になる搭載領域には、半導体
チップと接続するための端子30が多数設けられてい
る。これら端子のうち、例えば交差領域28に近い部分
に位置する端子30を選定し、一つのメッキ引出し線2
6をこの端子30に接続する。そして、このメッキ引出
し線に接続すべき他のメッキ引出し線26も同様に同じ
端子30に接続する。これにより、メッキ引出し線26
同士は、交差領域を迂回した状態で端子30を介して互
いに接続される。メッキ引出し線26はダイシングによ
り除去されるので、端子30は通常の端子として機能に
影響はない。
FIG. 10 is a view showing a modification of the pattern of the plating lead lines. In the example shown in FIG. 10, a detour portion of the plating lead wire 26 is formed by using a terminal formed in a mounting area of each semiconductor chip. That is, in the mounting area outside the dicing area, a large number of terminals 30 for connecting to the semiconductor chip are provided. Among these terminals, for example, a terminal 30 located in a portion near the intersection area 28 is selected, and one plating lead 2
6 is connected to this terminal 30. Then, another plating lead 26 to be connected to this plating lead is similarly connected to the same terminal 30. Thereby, the plating lead wire 26 is formed.
These are connected to each other via the terminal 30 while bypassing the intersection area. Since the plating lead wire 26 is removed by dicing, the terminal 30 does not affect the function as a normal terminal.

【0035】図10においては、交差領域28に近い端
子30を選定したが、配線パターンにより接続すること
ができる端子であれば、必ずしも交差領域28の近傍に
位置する端子でなくてもよい。また、図10のように全
ての方向に対して端子を介して迂回する必要はなく、パ
ターンによる迂回と端子を介した迂回を組み合わせた形
態でもかまわない。
In FIG. 10, the terminal 30 close to the intersection area 28 is selected. However, the terminal may not necessarily be located near the intersection area 28 as long as it can be connected by a wiring pattern. Further, it is not necessary to make a detour via terminals in all directions as shown in FIG. 10, and a form in which detour by pattern and detour via terminals are combined may be used.

【0036】また、上述の実施の形態ではダイサーによ
る切断を例に説明したが、レーザ切断装置による切断に
も適用することができる。
In the above-described embodiment, cutting by a dicer has been described as an example, but the present invention can be applied to cutting by a laser cutting device.

【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次に述べる
種々の効果を実現することができる。請求項1記載の発
明によれば、メッキ引出し線がダイシングラインの交差
領域内に延在することはなく、したがって、ダイシング
ブレードによる切削時にバリが発生しても、バリにメッ
キ引出し線が含まれることはない。したがって、バリに
導電性材料が含まれていることにより生じる問題を回避
することができる。
According to the present invention as described above, the following various effects can be realized. According to the first aspect of the present invention, the plating lead line does not extend in the intersection area of the dicing line. Therefore, even if burrs occur during cutting by the dicing blade, the burr includes the plating lead line. Never. Therefore, it is possible to avoid a problem caused by the burr containing a conductive material.

【0037】請求項2記載の発明によれば、直交するダ
イシングラインの交点に関して、ダイシングブレードの
幅に対応した幅の辺を有する領域が交差領域として画成
される。ダイシングにより発生するバリはダイシングブ
レードにより除去される領域から発生するため、交差領
域内にメッキ引出し線が延在しなければ、バリにメッキ
引出し線が含まれることはない。
According to the second aspect of the present invention, a region having a side having a width corresponding to the width of the dicing blade is defined as an intersection region with respect to the intersection of the orthogonal dicing lines. Since burrs generated by dicing are generated from the area removed by the dicing blade, the burrs do not include the plating lead unless the plating lead extends in the intersection area.

【0038】請求項3記載の発明によれば、包囲部分に
よってメッキ引出し線がダイシングラインの交差領域を
迂回することができる。包囲部分は円形あるいは四角形
等の任意の形状とすることができる。
According to the third aspect of the present invention, the plating lead line can bypass the intersection area of the dicing line by the surrounding portion. The surrounding portion can have any shape such as a circle or a square.

【0039】請求項4記載の発明によれば、基板に配線
パターンを形成する工程においてメッキ引出し線を同時
に形成することができるため、製造工程を簡略化するこ
とができる。
According to the fourth aspect of the present invention, in the step of forming a wiring pattern on a substrate, plating lead lines can be formed simultaneously, so that the manufacturing process can be simplified.

【0040】請求項5記載の発明によれば、メッキ引出
し線がダイシングラインの交差領域内に延在することは
なく、したがって、ダイシングブレードによる切削時に
バリが発生しても、バリにメッキ引出し線が含まれるこ
とはない。したがって、バリに導電性材料が含まれてい
ることにより生じる問題を回避することができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the plating lead line does not extend into the intersection area of the dicing line. Therefore, even if burrs are generated during cutting by the dicing blade, the plating lead line is applied to the burrs. Is not included. Therefore, it is possible to avoid a problem caused by the burr containing a conductive material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の半導体装置用基板の簡略平面図である。FIG. 1 is a simplified plan view of a conventional semiconductor device substrate.

【図2】図1に示すメッキ引出し線の交差部分を示す拡
大図である。
FIG. 2 is an enlarged view showing an intersection of plating lead lines shown in FIG.

【図3】図1に示す半導体装置のダイシング後の簡略平
面図である。
FIG. 3 is a simplified plan view of the semiconductor device shown in FIG. 1 after dicing.

【図4】ダイシング後の半導体装置の側面図である。FIG. 4 is a side view of the semiconductor device after dicing.

【図5】基板に貫通孔を設けた場合のメッキ引出し線の
交差部分を示す拡大図である。
FIG. 5 is an enlarged view showing an intersection of plating lead lines when a through hole is provided in a substrate.

【図6】基板に貫通孔を設けた場合のダイシング後の簡
略平面図である。
FIG. 6 is a simplified plan view after dicing when a through hole is provided in a substrate.

【図7】基板に貫通孔を設けた場合の半導体装置の側面
図である
FIG. 7 is a side view of the semiconductor device when a through hole is provided in the substrate.

【図8】本発明の一実施の形態によるFPC基板の平面
図である。
FIG. 8 is a plan view of an FPC board according to an embodiment of the present invention.

【図9】図8に示すA部の拡大図である。FIG. 9 is an enlarged view of a portion A shown in FIG.

【図10】メッキ引出し線のパターンの変形例を示す図
である。
FIG. 10 is a view showing a modified example of a pattern of a plating lead line.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 FPC基板 22 搭載領域 24 ダイシング領域 26 メッキ引出し線 28 交差領域 Reference Signs List 20 FPC board 22 Mounting area 24 Dicing area 26 Plating lead 28 Intersection area

フロントページの続き (72)発明者 小林 均 宮城県柴田郡村田町大字村田字西ケ丘1番 地の1 株式会社富士通宮城エレクトロニ クス内Continued on the front page (72) Inventor Hitoshi Kobayashi No. 1 Nishigaoka, Murata-cho, Shibata-gun, Miyagi Prefecture 1 Fujitsu Miyagi Electronics Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の半導体素子を搭載して樹脂封止し
個片化するために用いられる半導体装置用基板であっ
て、 メッキ処理が施された配線パターンと、樹脂封止した半
導体装置を個片化するための複数の直交するダイシング
ラインに沿って延在するメッキ引出し線とを有し、 前記メッキ引出し線は前記ダイシングラインの交差領域
を迂回するように形成されていることを特徴とする半導
体装置用基板。
1. A semiconductor device substrate used for mounting a plurality of semiconductor elements and encapsulating with a resin to separate the semiconductor device into a plurality of pieces. A plating lead line extending along a plurality of orthogonal dicing lines for singulation, wherein the plating lead line is formed so as to bypass an intersection region of the dicing line. Substrate for semiconductor devices.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置用基板であっ
て、 前記交差領域は個片化に用いられるダイシングブレード
の幅を一辺とする正方形の領域として画成されることを
特徴とする半導体装置用基板。
2. The semiconductor device substrate according to claim 1, wherein the intersection region is defined as a square region having a side of a width of a dicing blade used for singulation. Equipment substrate.
【請求項3】 請求項2記載の半導体装置用基板であっ
て、 前記メッキ引出し線は、前記交差領域を包囲するように
延在する包囲部分と、前記包囲部分からダイシングライ
ンに沿って延在する部分とを有することを特徴とする半
導体装置用基板。
3. The substrate for a semiconductor device according to claim 2, wherein the plating lead line extends along the dicing line from the surrounding portion extending to surround the intersection region. A substrate for a semiconductor device, comprising:
【請求項4】 請求項1乃至3のういちいずれか一項記
載の半導体装置用基板であって、 前記メッキ引出し線は、前記配線パターンと同じ材料に
より形成されていることを特徴とする半導体装置用基
板。
4. The semiconductor device substrate according to claim 1, wherein the plating lead is formed of the same material as the wiring pattern. Substrate.
【請求項5】 複数の半導体素子を整列して搭載し、樹
脂封止してから個片化する半導体装置の製造方法であっ
て、 直交するダイシングラインに沿って延在し、且つ該ダイ
シングラインの交差領域は迂回するように形成されたメ
ッキ引出し線を含む配線パターンを基板上に形成し、 前記基板に半導体素子を搭載して樹脂封止し、 樹脂封止した半導体素子を前記直交するダイシングライ
ンに沿ってダイシングすることを特徴とする半導体装置
の製造方法。
5. A method of manufacturing a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements are aligned, mounted, resin-sealed, and then singulated, wherein the semiconductor devices extend along orthogonal dicing lines, and A wiring pattern including a plating lead line formed so as to bypass the intersection region of is formed on a substrate, a semiconductor element is mounted on the substrate and sealed with a resin, and the resin-sealed semiconductor element is orthogonally diced. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: dicing along a line.
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