JP2002293055A - Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate - Google Patents

Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate

Info

Publication number
JP2002293055A
JP2002293055A JP2001102011A JP2001102011A JP2002293055A JP 2002293055 A JP2002293055 A JP 2002293055A JP 2001102011 A JP2001102011 A JP 2001102011A JP 2001102011 A JP2001102011 A JP 2001102011A JP 2002293055 A JP2002293055 A JP 2002293055A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lithographic printing
printing plate
acid
aluminum alloy
treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001102011A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Nishino
温夫 西野
Yoshitaka Masuda
義孝 増田
Hirokazu Sawada
宏和 澤田
Akio Uesugi
彰男 上杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001102011A priority Critical patent/JP2002293055A/en
Publication of JP2002293055A publication Critical patent/JP2002293055A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a substrate for a lithographic printing plate, the substrate for the lithographic printing plate and an original plate for the lithographic printing plate in which there exists no generation of severe contamination with an ink and which can be stably and inexpensively manufactured. SOLUTION: The method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate comprising a surface-roughening processing in which an aluminum alloy sheet is electrolytically surface-roughened by using AC in an acidic solution and an anodizing treatment process characterized by using an AC wave shape with a time of 1.5-6 msec from 0 to the peak in the electrolitically surface-roughening process is provided. In addition, the substrate for the lithographic printing plate characterized by being manufactured by the method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate is provided. In addition, the original plate for the lithographic printing is characterized by successively forming an undercoat layer with a dry weight of 0.001-1 g/m<2> , a positive type photo-sensitive layer or a negative type photo-sensitive layer with a dry weight of 1-3 g/m<2> and a mat layer with a dry weight of 0.001-1 g/m<2> in this order on the surface of the substrate for the lithographic printing plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体の製造方法、平版印刷版用支持体、平版印刷版原版に
関する。
The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate support, a lithographic printing plate support, and a lithographic printing plate precursor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、平版印刷板用支持体は、アルミニ
ウム合金板の片面あるいは両面に、粗面化処理を施して
製造される。そして、該平版印刷版用支持体の表面に感
光層が塗布されて平版印刷版原版が製造される。この平
版印刷版原版に、露光および現像等が施され、画像が形
成され印刷に供し得る状態とされて平版印刷版が製造さ
れる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a lithographic printing plate support is produced by subjecting one or both surfaces of an aluminum alloy plate to a roughening treatment. Then, a photosensitive layer is applied to the surface of the lithographic printing plate support to produce a lithographic printing plate precursor. This lithographic printing plate precursor is subjected to exposure, development, and the like, so that an image is formed and the lithographic printing plate precursor is ready for printing, and a lithographic printing plate is manufactured.

【0003】印刷時の平版印刷版の耐磨耗性を向上させ
るため、平版印刷版用支持体の製造工程において、粗面
化後の表面に陽極酸化処理が施されることが多い。ま
た、製版時の真空密着時間を短くするために、平版印刷
版原版の感光層の表面にマット層という微小な突起物が
設けられることもある。平版印刷板原版は、既述の通
り、画像露光、現像、水洗等の製版処理を施して、平版
印刷版とされる。画像露光の方法には、画像を焼き付け
たリスフィルムを密着させて光を当てることで画像部と
非画像部の違いをつける方法や、レーザを用いる方法や
画像を投影する方法で直接画像部もしくは非画像部を書
き込むことによって画像部と非画像部の違いをつける方
法が用いられる。画像露光後の現像処理の際、未溶解の
感光層は、インク受容体として画像部を形成し、感光層
が溶解除去された部分は、その下のアルミニウム板表面
もしくは陽極酸化皮膜表面が露出し、水受容体として非
画像部を形成する。現像後必要によっては親水化処理、
ガム引き、必要によってはバーニング処理等が行われる
こともある。
[0003] In order to improve the abrasion resistance of a lithographic printing plate during printing, in the process of producing a lithographic printing plate support, the surface after roughening is often subjected to anodizing treatment. Further, in order to shorten the vacuum contact time during plate making, a fine projection called a mat layer may be provided on the surface of the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor. As described above, the lithographic printing plate precursor is subjected to plate making processes such as image exposure, development, and water washing to be a lithographic printing plate. The image exposure method includes a method in which a lithographic film on which an image is printed is brought into close contact with a light source to make a difference between an image part and a non-image part, or a method using a laser or a method of projecting an image to directly form an image part or a non-image part. A method of writing a non-image portion to make a difference between an image portion and a non-image portion is used. During the development process after image exposure, the undissolved photosensitive layer forms an image area as an ink receptor, and the portion where the photosensitive layer has been dissolved and removed exposes the surface of the aluminum plate or anodic oxide film below it. To form a non-image area as a water receptor. After development, if necessary, hydrophilic treatment,
A gumming process and, if necessary, a burning process may be performed.

【0004】この平版印刷版は印刷機の円筒状の版胴に
取り付けられて、インキと湿し水を版胴に供給する事で
親油性の画像部にはインキが付着し、親水性の非画像部
には水が付着し、画像部のインキをブランケット胴に転
写した上で、ブランケット胴から紙に画像を印刷する。
しかし、時として非画像部に点状あるいは円環状にイン
キが付着する場合があり、結果的に紙面に点状あるいは
円環状の汚れを発生させるといった不具合(過酷インキ
汚れ)を生じる問題があった。
The lithographic printing plate is mounted on a cylindrical plate cylinder of a printing press. By supplying ink and fountain solution to the plate cylinder, the ink adheres to the lipophilic image area, and the lipophilic non-hydrophilic printing plate becomes hydrophilic. Water adheres to the image area, transfers the ink in the image area to the blanket cylinder, and then prints the image on paper from the blanket cylinder.
However, in some cases, the ink adheres to the non-image portion in a dot-like or annular shape, and as a result, there is a problem that a dot-like or annular stain is generated on the paper surface (severe ink stain). .

【0005】また、原材料として、合金成分を制御して
いない材料、即ち、各種の不純物を含むスクラップ材、
あるいは、新地金に比較して市場価格が安い、多くの不
純物元素を含む2次地金あるいは再生地金と呼ばれる地
金を使用することが考えられる。しかし、合金成分の制
御がほとんど行われていないので、平版印刷版のよう
に、高品質の表面処理外観、印刷性能が要求される原材
料にはまったく使用することができなかった。特に、不
純物によって、均一な粗面化を行うことが難しく不均一
な表面となり、ブランケット汚れ等の印刷性能不良が発
生しやすいという不具合があった。さらに、金属間化合
物によって酸化皮膜の欠陥が生じ、その部分にインキが
つき易くなり、印刷物の非画像部に点状の汚れ(過酷イ
ンキ汚れ)となって生じる問題があった。
[0005] Further, as a raw material, a material whose alloy component is not controlled, that is, a scrap material containing various impurities,
Alternatively, it is conceivable to use a secondary metal or a reclaimed metal which has a lower market price than a new metal and contains many impurity elements. However, almost no control of the alloy components has been made, so that it could not be used at all for raw materials requiring high quality surface treatment appearance and printing performance, such as lithographic printing plates. In particular, there has been a problem that it is difficult to perform uniform roughening due to impurities, resulting in a non-uniform surface, and a printing performance defect such as blanket contamination is likely to occur. Further, there is a problem in that the oxide film is defective due to the intermetallic compound, ink is easily applied to the defect, and dot-like stain (severe ink stain) occurs in a non-image portion of a printed matter.

【0006】また、使用済アルミニウムのリサイクルを
少ないエネルギー消費量で行う上で、純度の低いアルミ
ニウム板を平版印刷版用支持体として使いこなしていく
ことが将来のエネルギー消費量削減に向けての必須の課
題であった。
Further, in recycling used aluminum with a small amount of energy consumption, it is essential to use a low-purity aluminum plate as a support for a lithographic printing plate in order to reduce energy consumption in the future. It was an issue.

【0007】さらに、平版印刷版用支持体の製造工程に
おける電解粗面化処理では、交流または直流の電流が使
用されるが、特に、交流電流を使用すると、その電流波
形により粗面化形状が大きく変動し、アルミニウム材料
の成分が振れたときに、一定範囲の粗面化形状となりに
くい、といった問題が生じることがあり、その電流波形
を厳密に制御する必要がある。
[0007] Further, in the electrolytic surface roughening treatment in the manufacturing process of the lithographic printing plate support, an alternating current or a direct current is used. When the component fluctuates greatly and the component of the aluminum material fluctuates, there may be a problem that it is difficult to form a roughened shape within a certain range, and it is necessary to strictly control the current waveform.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明の目
的は、原材料として、合金成分を制御していないアルミ
ニウム合金板を使用しても、過酷インキ汚れ等の発生が
なく、安定かつ低コストで製造することができる平版印
刷版用支持体の製造方法、平版印刷版用支持体および平
版印刷版原版を提供することにある。
From the foregoing, it is an object of the present invention to provide a stable and low-cost method that does not cause severe ink stains even when an aluminum alloy plate whose alloy components are not controlled is used as a raw material. The present invention provides a method for producing a lithographic printing plate support, a lithographic printing plate support, and a lithographic printing plate precursor that can be produced by the method described above.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、本発明に想到するに至った。すなわち、本発明
は、 <1> 酸性溶液中で交流電流を使用してアルミニウム
合金板を電解粗面化処理する粗面化処理工程および陽極
酸化処理工程を含む平版印刷版用支持体の製造方法であ
って、 前記電解粗面化処理において、0からピークま
でに達する時間が1.5〜6msecの交流電流波形を
使用することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方
法である。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have arrived at the present invention. That is, the present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate support, comprising: <1> a surface roughening treatment step of subjecting an aluminum alloy sheet to electrolytic surface roughening treatment using an alternating current in an acidic solution; and an anodizing treatment step. A method for producing a lithographic printing plate support, characterized in that in the electrolytic surface roughening treatment, an alternating current waveform having a time from 0 to a peak of 1.5 to 6 msec is used.

【0010】<2> 前記アルミニウム合金板の純度が
95〜99.4質量%であることを特徴とする<1>に
記載の平版印刷版用支持体の製造方法である。
<2> The method for producing a lithographic printing plate support according to <1>, wherein the purity of the aluminum alloy plate is 95 to 99.4% by mass.

【0011】<3> 前記アルミニウム合金板が、下記
金属を下記範囲内で少なくとも5種含有することを特徴
とする<1>または<2>に記載の平版印刷版用支持体
の製造方法である。Fe:0.3〜1.0質量%、S
i:0.15〜1.0質量%、Cu:0.1〜1.0質
量%、Mg:0.1〜1.5質量%、Mn:0.1〜
1.5質量%、Zn:0.1〜0.5質量%、Cr:
0.01〜0.1質量%、Ti:0.03〜0.5質量
%。
<3> The method for producing a lithographic printing plate support according to <1> or <2>, wherein the aluminum alloy plate contains at least five kinds of the following metals in the following ranges: . Fe: 0.3 to 1.0% by mass, S
i: 0.15 to 1.0% by mass, Cu: 0.1 to 1.0% by mass, Mg: 0.1 to 1.5% by mass, Mn: 0.1 to 1.0%
1.5% by mass, Zn: 0.1 to 0.5% by mass, Cr:
0.01 to 0.1% by mass, Ti: 0.03 to 0.5% by mass.

【0012】<4> 前記電解粗面化処理の前および/
または後に下記工程を有することを特徴とする<1>〜
<3>のいずれかに記載の平版印刷版用支持体の製造方
法である。 (1)アルカリ水溶液中でアルミニウム合金板を1〜1
5g/m2溶解するアルカリエッチング処理工程、
(2)アルカリエッチング処理工程を経たアルミニウム
合金板を酸性溶液中でデスマット処理するデスマット処
理工程。
<4> Before the electrolytic surface roughening treatment and / or
Or <1> to after having the following steps
<3> The method for producing a lithographic printing plate support according to any of <3>. (1) In an alkaline aqueous solution, the aluminum alloy
5 g / m 2 dissolving alkali etching treatment step,
(2) A desmutting step of desmutting the aluminum alloy plate having undergone the alkali etching step in an acidic solution.

【0013】<5> 前記デスマット処理工程における
デスマット処理が、酸性溶液濃度250〜500g/リ
ットル、アルミニウムイオン濃度1〜15g/リットル
の酸性溶液を使用し、60〜90℃で1〜180秒間処
理することを特徴とする<1>〜<4>のいずれかに記
載の平版印刷版用支持体の製造方法である。
<5> The desmut treatment in the desmut treatment step uses an acidic solution having an acid solution concentration of 250 to 500 g / l and an aluminum ion concentration of 1 to 15 g / l, and is treated at 60 to 90 ° C. for 1 to 180 seconds. The method for producing a lithographic printing plate support according to any one of <1> to <4>, wherein

【0014】<6> 前記アルカリエッチング処理工程
の前に機械的粗面化処理工程を設けることを特徴とする
<4>または<5>に記載の平版印刷版用支持体の製造
方法である。
<6> The method for producing a lithographic printing plate support according to <4> or <5>, wherein a mechanical surface roughening step is provided before the alkali etching step.

【0015】<7> 前記陽極酸化処理工程の後に、封
孔処理工程および/または親水化処理工程を設けること
を特徴とする<1>〜<6>のいずれかに記載の平版印
刷版用支持体の製造方法である。
<7> The support for a lithographic printing plate as described in any one of <1> to <6>, wherein a sealing step and / or a hydrophilizing step are provided after the anodizing step. It is a method of manufacturing the body.

【0016】<8> 前記電解粗面過処理工程の前に、
アルミニウム合金板の表面に活性化処理を施す活性化処
理工程を設けることを特徴とする<1>〜<7>のいず
れかに記載の平版印刷版用支持体の製造方法である。
<8> Before the electrolytic roughening step,
The method for producing a lithographic printing plate support according to any one of <1> to <7>, further comprising an activation treatment step of performing an activation treatment on the surface of the aluminum alloy plate.

【0017】<9> <1>〜<8>のいずれかに記載
の平版印刷版用支持体の製造方法によって製造されるこ
とを特徴とする平版印刷版用支持体である。
<9> A lithographic printing plate support produced by the method for producing a lithographic printing plate support according to any one of <1> to <8>.

【0018】<10> <9>に記載の平版印刷版用支
持体の表面に乾燥重量0.001〜1g/m2の下塗り
層、乾燥重量1〜3g/m2のポジ型感光層またはネガ
型感光層、乾燥重量0.001〜1g/m2のマット層
が順次形成されていることを特徴とする平版印刷原版で
ある。
[0018] <10> dry weight 0.001 to 1 g / m 2 of the subbing layer on the surface of the lithographic printing plate support according to <9>, dry weight of 1 to 3 g / m 2 positive photosensitive layer or negative A lithographic printing plate precursor comprising: a photosensitive layer; and a mat layer having a dry weight of 0.001 to 1 g / m 2 .

【0019】<11> 平均表面粗さ(Ra)が0.3
〜0.6μm、L*値が50〜95、デルタEab*が
2以下であることを特徴とする<10>に記載の平版印
刷原版である。
<11> Average surface roughness (Ra) is 0.3
The lithographic printing plate precursor as described in <10>, wherein the lithographic printing plate precursor has an L * value of 50 to 95 and a delta Eab * of 2 or less.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】<<平版印刷版用支持体の製造方
法>>本発明の平版印刷版用支持体は、例えば、アルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなるウエブ状のアル
ミニウム合金板を準備し、これに少なくとも、粗面化処
理、陽極酸化処理を施すことにより製造される。具体的
には、前記粗面化処理(粗面化処理工程)は、少なくと
も、(1)アルミニウム合金板に付着している圧延油を
除く脱脂工程、(2)機械的粗面化処理工程およびアル
カリエッチング処理工程、(3)電解粗面化処理工程、
(4)デスマット処理工程、を有することが好ましい。
前記粗面化処理後に、(5)陽極酸化処理(陽極酸化処
理工程)が施されて最終的に平版印刷版用支持体が製造
される。以下、平版印刷版用支持体の製造方法について
詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS << Method of Manufacturing Lithographic Printing Plate Support >> The lithographic printing plate support of the present invention is prepared by preparing, for example, a web-like aluminum alloy plate made of aluminum or an aluminum alloy. At least by performing a surface roughening treatment and an anodic oxidation treatment. Specifically, the roughening treatment (roughening treatment step) includes at least (1) a degreasing step for removing rolling oil adhering to the aluminum alloy sheet, (2) a mechanical roughening treatment step, and Alkali etching treatment step, (3) electrolytic surface roughening treatment step,
(4) It is preferable to have a desmutting step.
After the surface roughening treatment, (5) anodizing treatment (anodizing treatment step) is performed to finally produce a lithographic printing plate support. Hereinafter, a method for producing a lithographic printing plate support will be described in detail.

【0021】<アルミニウム合金板の原材料>本発明に
用いるアルミニウム合金板の原材料としては、アルミニ
ウムハンドブック第4版(1990、軽金属協会)に記
載の、公知の素材のもの、例えばJIS1050材、J
IS1100材、JIS3003材、JIS3103
材、JIS3005材等を用いることができるが、本発
明は特に、アルミニウム(Al)の含有率が95〜9
9.4質量%であって、かつ、鉄(Fe)、ケイ素(S
i)、銅(Cu)、マグネシウム(Mg)、マンガン
(Mn)、亜鉛(Zn)、クロム(Cr)、およびチタ
ン(Ti)、のうち少なくとも5種以上を後述する範囲
内で含む、アルミニウム合金、スクラップアルミ材また
は2次地金を使用したアルミニウム合金板を使用するこ
とが好ましい。
<Raw Materials for Aluminum Alloy Sheet> As the raw materials for the aluminum alloy sheet used in the present invention, known materials described in the Aluminum Handbook, 4th edition (1990, Light Metal Association), for example, JIS1050 material, J
IS1100 material, JIS3003 material, JIS3103
Materials, JIS 3005 materials and the like can be used.
9.4 mass%, and iron (Fe), silicon (S
i) an aluminum alloy containing at least five or more of copper (Cu), magnesium (Mg), manganese (Mn), zinc (Zn), chromium (Cr), and titanium (Ti) in a range described later. It is preferable to use an aluminum alloy plate using a scrap aluminum material or a secondary metal.

【0022】本発明では、Alの含有率が95〜99.
4質量%のアルミニウム合金板を使用するのが好まし
い。上記含有率が99.4質量%を超えると不純物の許
容量が少なくなるため、コスト削減効果が減少してしま
う場合がある。また、上記含有率が95質量%未満であ
ると不純物を多く含むこととなり圧延中に割れ等の不具
合が発生してしまう場合がある。より好ましいAlの含
有率は95〜99質量%であり、特に好ましくは95〜
97質量%である。
In the present invention, the content of Al is 95-99.
It is preferable to use a 4 mass% aluminum alloy plate. If the content exceeds 99.4% by mass, the allowable amount of impurities is reduced, so that the cost reduction effect may be reduced. On the other hand, if the content is less than 95% by mass, impurities are contained in large amounts, and problems such as cracks may occur during rolling. A more preferable Al content is 95 to 99% by mass, and particularly preferably 95 to 99% by mass.
97% by mass.

【0023】Feの含有率は0.3〜1.0質量%であ
るのが好ましい。Feは新地金においても0.1〜0.
2質量%前後含有される元素で、Al中に固溶する量は
少なく、殆どが金属間化合物として残存する。Feの含
有率が1.0質量%を超えると圧延途中に割れが発生し
やすくなり、0.3質量%未満だとコスト削減効果が減
少するため好ましくない。より好ましいFeの含有率は
0.5〜1.0質量%である。
The content of Fe is preferably 0.3 to 1.0% by mass. Fe is 0.1-0.
Among the elements contained at about 2% by mass, the amount of solid solution in Al is small, and most of them remain as intermetallic compounds. If the Fe content exceeds 1.0% by mass, cracks are likely to occur during rolling, and if it is less than 0.3% by mass, the cost reduction effect decreases, which is not preferable. A more preferable Fe content is 0.5 to 1.0% by mass.

【0024】Siの含有率は0.15〜1.0質量%で
あるのが好ましい。SiはJIS2000系、4000
系、6000系材料のスクラップに多く含まれる元素で
ある。また、新地金においても0.03〜0.1質量%
前後含有される元素であり、Al中に固溶した状態、ま
たは、金属間化合物として存在する。上記支持体の製造
過程で加熱されると、固溶していたSiが単体Siとし
て析出することがある。単体SiとFeSi系の金属間
化合物は耐過酷インキ汚れ性に悪影響を与えることが知
られている。Siの含有率が1.0質量%を超えると、
例えば後述する硫酸による処理(デスマット処理工程)
でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.15質量
%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。よ
り好ましいSiの含有率は0.3〜1.0質量%であ
る。
The content of Si is preferably 0.15 to 1.0% by mass. Si is JIS2000, 4000
It is an element contained in a large amount of scrap of 6000 series materials. In addition, 0.03-0.1% by mass of new bullion
It is an element contained before and after, and exists as a solid solution in Al or as an intermetallic compound. When heated in the process of manufacturing the support, Si that has been dissolved may precipitate as elemental Si. It is known that elemental Si and FeSi-based intermetallic compounds adversely affect severe ink stain resistance. When the content of Si exceeds 1.0% by mass,
For example, treatment with sulfuric acid described below (desmut treatment step)
In some cases, this cannot be completely removed, and if it is less than 0.15% by mass, the cost reduction effect is reduced. A more preferred Si content is 0.3 to 1.0% by mass.

【0025】Cuの含有率は0.1〜1.0質量%であ
るのが好ましい。CuはJIS2000系、4000系
材料のスクラップに多く含まれる元素である。比較的A
lに中に固溶しやすい。Cuの含有率が1.0質量%を
超えると、例えば後述する硫酸による処理でこれを除去
し切れなくなる場合があり、0.1質量%未満である
と、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいC
uの含有率は0.3〜1.0質量%である。
The Cu content is preferably 0.1 to 1.0% by mass. Cu is an element contained in a large amount of JIS2000-based and 4000-based scrap. Relatively A
Easy to dissolve in l. If the Cu content exceeds 1.0% by mass, it may not be possible to completely remove the Cu by, for example, a treatment with sulfuric acid described below. If the Cu content is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect decreases. More preferred C
The content of u is 0.3 to 1.0% by mass.

【0026】Mgの含有率は0.1〜1.5質量%であ
るのが好ましい。MgはJIS2000系、3000
系、5000系、7000系材料のスクラップに多く含
まれる元素である。特にcan end材に多く含まれ
るため、スクラップ材に含まれる主要な不純物金属の1
つである。Mgも比較的Al中に固溶しやすく、Siと
金属間化合物を形成する。Mgの含有率が1.5質量%
を超えると、例えば後述する硫酸による処理でこれを除
去し切れなくなる場合があり、0.1質量%未満である
と、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいM
gの含有率は0.5〜1.5質量%で、さらに好ましく
は1.0〜1.5質量%である。
The Mg content is preferably 0.1 to 1.5% by mass. Mg is JIS2000, 3000
-Based, 5000-based, and 7000-based materials. Particularly, since it is contained in a large amount in the can end material, one of the main impurity metals contained in the scrap material is
One. Mg is relatively easily dissolved in Al and forms an intermetallic compound with Si. Mg content of 1.5% by mass
If the amount exceeds 0.1%, it may not be possible to completely remove it by, for example, a treatment with sulfuric acid described below. If the amount is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect is reduced. More preferred M
The content of g is 0.5 to 1.5% by mass, and more preferably 1.0 to 1.5% by mass.

【0027】Mnの含有率は0.1〜1.5質量%であ
るのが好ましい。MnはJIS3000系材料のスクラ
ップに多く含まれる元素である。特にcan body
材に多く含まれるため、スクラップ材に含まれる主要な
不純物金属の1つである。Mnも比較的Al中に固溶し
やすく、AlFeSiと金属間化合物を形成する。Mn
の含有率が1.5質量%を超えると、例えば後述する硫
酸による処理でこれを除去し切れなくなる場合があり、
0.1質量%未満であると、コスト削減効果が減少して
しまう。より好ましいMnの含有率は0.5〜1.5質
量%、さらに好ましくは1.0〜1.5質量%である。
The Mn content is preferably from 0.1 to 1.5% by mass. Mn is an element contained in a large amount of JIS 3000-based material scrap. Especially can body
It is one of the main impurity metals contained in the scrap material because it is contained in a large amount in the material. Mn is also relatively easily dissolved in Al and forms an intermetallic compound with AlFeSi. Mn
If the content exceeds 1.5% by mass, for example, it may not be possible to completely remove this by treatment with sulfuric acid described below,
If the amount is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect is reduced. A more preferable Mn content is 0.5 to 1.5% by mass, and still more preferably 1.0 to 1.5% by mass.

【0028】Znの含有率は0.1〜0.5質量%であ
るのが好ましい。Znは特にJIS7000系のスクラ
ップに多く含まれる元素である。比較的Al中に固溶し
やすい。Znの含有率が0.5質量%を超えると、例え
ば後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる
場合があり、0.1質量%未満であると、コスト削減効
果が減少してしまう。より好ましいZnの含有率は0.
3〜0.5質量%である。
The Zn content is preferably 0.1 to 0.5% by mass. Zn is an element particularly contained in JIS 7000 series scrap. It is relatively easy to form a solid solution in Al. If the Zn content exceeds 0.5% by mass, for example, it may not be possible to completely remove the Zn by treatment with sulfuric acid described below, and if it is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect is reduced. A more preferred Zn content is 0.1.
3 to 0.5% by mass.

【0029】Crの含有率は0.01〜0.1質量%で
あるのが好ましい。CrはJIS5000系、6000
系、7000系のスクラップに少量含まれる不純物金属
である。Crの含有率が0.1質量%を超えると、例え
ば後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる
場合があり、0.01質量%未満であると、コスト削減
効果が減少してしまう。より好ましいCrの含有率は
0.05〜0.1質量%である。
The Cr content is preferably 0.01 to 0.1% by mass. Cr is JIS 5000 series, 6000
Metal is an impurity metal contained in a small amount in scraps of 7000 series and 7000 series. If the content of Cr exceeds 0.1% by mass, for example, it may not be possible to completely remove the content by treatment with sulfuric acid described below, and if it is less than 0.01% by mass, the cost reduction effect is reduced. A more preferable Cr content is 0.05 to 0.1% by mass.

【0030】Tiの含有率は0.03〜0.5質量%で
あるのが好ましい。Tiは通常結晶微細化材として0.
01〜0.04質量%添加される元素である。JIS5
000系、6000系、7000系のスクラップには不
純物金属として比較的多めに含まれる。Tiの含有率が
0.5質量%を超えると、例えば後述する硫酸による処
理でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.03質
量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。
より好ましいTiの含有率は0.05〜0.5質量%で
ある。
The content of Ti is preferably 0.03 to 0.5% by mass. Ti is usually used as a crystal refining material.
It is an element added in an amount of from 0.01 to 0.04% by mass. JIS5
000 series, 6000 series, and 7000 series scraps are relatively large as impurity metals. If the content of Ti exceeds 0.5% by mass, for example, it may not be possible to completely remove the Ti by treatment with sulfuric acid described below, and if it is less than 0.03% by mass, the cost reduction effect is reduced.
A more preferable content of Ti is 0.05 to 0.5% by mass.

【0031】本発明で用いるアルミニウム合金板は、上
述の含有率(純度)でアルミニウムを含有し、かつ上記
8つの不純物元素群から5種以上を含んだ材料を原材料
とする。上記アルミニウム合金板は、上記原材料を用い
て常法で鋳造したものに、適宜圧延処理や熱処理を施
し、厚さを0.1〜0.7mmとし、必要に応じて平面
性矯正処理を施して製造される。なお、上記アルミニウ
ム合金板の製造方法としては、DC鋳造法、DC鋳造法
から均熱処理、および/または、焼鈍処理を省略した方
法、および連続鋳造法を用いることができる。
The aluminum alloy plate used in the present invention is made of a material containing aluminum at the above-mentioned content (purity) and containing at least five of the eight impurity element groups. The aluminum alloy plate is subjected to a rolling process or a heat treatment as appropriate, using a casting method using the above-described raw materials, to a thickness of 0.1 to 0.7 mm, and to a flatness correction process as necessary. Manufactured. As a method for manufacturing the aluminum alloy plate, a DC casting method, a method in which a soaking treatment and / or an annealing treatment is omitted from the DC casting method, and a continuous casting method can be used.

【0032】<電解粗面化処理工程>電解粗面化処理工
程は、酸性溶液中で、アルミニウム合金板を電極として
交流電流を通じ、該アルミニウム合金板表面を電気化学
的に粗面化する工程であり、後述の機械的粗面化処理と
は異なる。
<Electrolytic surface-roughening treatment step> The electrolytic surface-roughening treatment step is a step of electrochemically roughening the surface of the aluminum alloy plate by passing an alternating current in an acidic solution using the aluminum alloy plate as an electrode. This is different from the mechanical roughening process described later.

【0033】本発明に用いる酸性溶液としては、通常の
直流電流または交流電流を用いた電気化学的な粗面化処
理に用いるものを使用でき、その中でも塩酸または硝酸
を主体とする酸性溶液を用いることが好ましい。ここ
で、本発明でいう「主体とする」とは、水溶液中に主体
となる成分が、成分全体に対して、30質量%以上、好
ましくは50質量%以上含まれていることをいう。以
下、他の成分においても同様である。
As the acidic solution used in the present invention, those used for electrochemical surface roughening treatment using ordinary direct current or alternating current can be used, and among them, an acidic solution mainly containing hydrochloric acid or nitric acid is used. Is preferred. Here, “mainly” as used in the present invention means that the main component is contained in the aqueous solution in an amount of 30% by mass or more, preferably 50% by mass or more based on the whole components. Hereinafter, the same applies to other components.

【0034】上記硝酸を主体とする酸性溶液としては、
上述の通り通常の直流電流または交流電流を用いた電気
化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、例えば、
硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム
等の硝酸化合物のうち1つ以上を、0.01g/リット
ルから飽和に達するまで、硝酸濃度5〜15g/リット
ルの硝酸水溶液に添加して使用することができる。上記
硝酸を主体とする酸性溶液中には、鉄、銅、マンガン、
ニッケル、チタン、マグネシウム、ケイ素等のアルミニ
ウム合金中に含まれる金属等が溶解されていてもよい。
上記硝酸を主体とする酸性溶液としては、硝酸と、アル
ミニウム塩と、硝酸塩とを含有し、かつ、アルミニウム
イオンが1〜15g/リットル、好ましくは1〜10g
/リットル、およびアンモニウムイオンが10〜300
ppmとなるように、硝酸濃度5〜15g/リットルの
硝酸水溶液中に硝酸アルミニウムおよび硝酸アンモニウ
ムを添加して得られたものを用いることが好ましい。な
お、上記アルミニウムイオンとアンモニウムイオンは電
気化学的な粗面化処理をおこなっている間に自然発生的
に増加していくものである。また、この際の液温は10
〜95℃が好ましく、40〜80℃がより好ましい。
The acidic solution mainly composed of nitric acid includes:
As described above, it is possible to use those used for electrochemical surface roughening treatment using normal DC current or AC current, for example,
One or more of nitric acid compounds such as aluminum nitrate, sodium nitrate, and ammonium nitrate can be used by adding to nitric acid aqueous solution having a nitric acid concentration of 5 to 15 g / liter from 0.01 g / liter to saturation. Iron, copper, manganese,
Metals and the like contained in aluminum alloys such as nickel, titanium, magnesium, and silicon may be dissolved.
The acidic solution mainly composed of nitric acid contains nitric acid, an aluminum salt and a nitrate, and has an aluminum ion of 1 to 15 g / liter, preferably 1 to 10 g.
/ Liter, and ammonium ion is 10 to 300
It is preferable to use those obtained by adding aluminum nitrate and ammonium nitrate to a nitric acid aqueous solution having a nitric acid concentration of 5 to 15 g / liter so that the concentration becomes ppm. The aluminum ions and ammonium ions increase spontaneously during the electrochemical graining treatment. The liquid temperature at this time is 10
-95 ° C is preferred, and 40-80 ° C is more preferred.

【0035】また、塩酸を主体とする酸性溶液として
は、硝酸の場合と同様に、直流電流または交流電流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
例えば、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アン
モニウム等の塩酸化合物のうち1つ以上を、0.01g
/リットルから飽和に達するまで、塩酸濃度5〜15g
/リットルの塩酸水溶液に添加して使用することができ
る。上記塩酸を主体とする酸性溶液中には、鉄、銅、マ
ンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、ケイ素等の
アルミニウム合金中に含まれる金属等が溶解されていて
もよい。
As the acidic solution mainly composed of hydrochloric acid, as in the case of nitric acid, those used for electrochemical surface roughening treatment using a direct current or an alternating current can be used.
For example, 0.01 g of one or more hydrochloric acid compounds such as aluminum chloride, sodium chloride, and ammonium chloride are added.
Per liter / liter until saturation is reached
Per liter of hydrochloric acid aqueous solution. In the acidic solution mainly composed of hydrochloric acid, metals contained in aluminum alloys such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium and silicon may be dissolved.

【0036】電気化学的粗面化処理に用いる交流電流波
形としては、電流が0からピークに達するまでの時間T
pが1.5〜6msecの交流電流波形を使用する。前
記Tpが1.5msec未満だと均一に形のそろったク
レーター状の凹部をつくることが難しくなり、6mse
cを超えると粗面化処理された表面の形状が不安定とな
ってしまう。好ましいTp値は、2〜5msecであ
り、より好ましいTp値は、2.5msec〜4.5m
secである。
The alternating current waveform used in the electrochemical surface roughening treatment includes a time T from when the current reaches 0 to a peak.
An alternating current waveform with p of 1.5 to 6 msec is used. When the Tp is less than 1.5 msec, it is difficult to form uniformly shaped crater-shaped concave portions,
If it exceeds c, the shape of the roughened surface becomes unstable. A preferred Tp value is 2 to 5 msec, and a more preferred Tp value is 2.5 msec to 4.5 msec.
sec.

【0037】前記Tp値の条件を満たせば、サイン波
(50Hzまたは60Hzの商用交流)、矩形波、台形
波、三角波等を用いることができる。なかでも、サイン
波または台形波が好ましい。サイン波(商用交流)を用
いるときは、サイリスタによる点弧角制御して電流波形
を調整することで工業的に有利に任意の粗面化形状を得
ることができる。商用交流は単相交流でも3相交流でも
よく、正弦波交流を位相角制御したものを使用すること
が好ましい。台形波を用いるときは波形の立ち上がり時
間を調整することで、工業的に有利に任意の好ましい粗
面化形状を得ることができる。
If the condition of the Tp value is satisfied, a sine wave (50 Hz or 60 Hz commercial alternating current), a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like can be used. Above all, a sine wave or a trapezoidal wave is preferable. When a sine wave (commercial alternating current) is used, an arbitrary roughened shape can be obtained industrially advantageously by controlling the firing angle by a thyristor and adjusting the current waveform. The commercial AC may be a single-phase AC or a three-phase AC, and it is preferable to use a sine-wave AC whose phase angle is controlled. When a trapezoidal wave is used, any desired roughened shape can be obtained industrially advantageously by adjusting the rise time of the waveform.

【0038】周波数は40〜150Hzが好ましく、5
0〜120Hzがより好ましく、50〜60Hzがさら
に好ましい。図1および図2に、本発明で好ましく用い
られるサイン波および台形波の一例を示す。サイン波ま
たは台形波を使用することで、波形の立ち上がり時間を
長くできるため、電源を設計する上で電圧を低くするこ
とが可能で、コスト的に特に有利となる。
The frequency is preferably 40 to 150 Hz, and 5
0 to 120 Hz is more preferable, and 50 to 60 Hz is still more preferable. 1 and 2 show examples of a sine wave and a trapezoidal wave preferably used in the present invention. By using a sine wave or trapezoidal wave, the rise time of the waveform can be lengthened, so that the voltage can be reduced in designing the power supply, which is particularly advantageous in terms of cost.

【0039】電気化学的粗面化処理に用いる交流のアル
ミニウム合金板が陽極である電気量QAと陰極である電
気量QCとの比、QC/QAが0.9〜1.0である交
流を用いることが好ましく、0.95〜0.99である
ことが好ましい。交流のdutyは0.25〜0.5、
電源装置の制作上、0.33〜0.5であることが好ま
しい。本発明でいうdutyとは交流の周期Tにおい
て、アルミニウム合金板が陽極反応する時間をtaとし
たときのta/Tをいう。特に、カソード反応時のアル
ミニウム合金板表面には、水酸化アルミニウムを主体と
するスマット成分の生成に加え、酸化皮膜の溶解や破壊
が発生し、次のアルミニウム合金板のアノード反応時の
ピッティング反応の開始点となるために、dutyの選
択は均一な粗面化に与える効果が大きい。しかし、電源
を製造する上でdutyを0.33〜0.5とすること
が特に好ましい。
The alternating current aluminum alloy plate used for the electrochemical surface roughening treatment is an alternating current in which the ratio of the quantity of electricity QA as an anode to the quantity of electricity QC as a cathode, and QC / QA is 0.9 to 1.0. It is preferably used, and more preferably 0.95 to 0.99. The duty of AC is 0.25-0.5,
From the viewpoint of the production of the power supply device, it is preferably 0.33 to 0.5. The term "duty" as used in the present invention refers to ta / T when the time during which an aluminum alloy plate undergoes an anodic reaction is ta in an AC cycle T. In particular, in addition to the formation of a smut component consisting mainly of aluminum hydroxide on the surface of the aluminum alloy plate during the cathode reaction, dissolution and destruction of the oxide film occur, and the pitting reaction during the next anode reaction of the aluminum alloy plate , The selection of duty has a large effect on uniform roughening. However, it is particularly preferable to set the duty to 0.33 to 0.5 in manufacturing the power supply.

【0040】電流密度は台形波または矩形波のピーク値
で電流のアノードサイクル側Ia、カソードサイクル側
Icともに10〜200A/dm2が好ましい。Ic/
Iaは0.9〜1.5の範囲にあることが好ましい。電
気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム合金
板のアノード反応にあずかる電気量の総和は50〜80
0C/dm2が好ましい。
The current density is a peak value of a trapezoidal or rectangular wave, and is preferably 10 to 200 A / dm 2 on both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current. Ic /
Ia is preferably in the range of 0.9 to 1.5. The sum of the quantities of electricity involved in the anodic reaction of the aluminum alloy plate at the time when the electrochemical graining is completed is 50 to 80.
0 C / dm 2 is preferred.

【0041】本発明で交流を用いた電気化学的な粗面化
に用いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等公
知の表面処理に用いる電解槽が使用可能である。アルミ
ニウム合金板への給電方式はコンダクタロールを用いた
直接給電方式またはコンダクタロールを用いない液給電
方式(間接給電方式)を用いることができる。
As the electrolytic cell used for electrochemical surface roughening using alternating current in the present invention, an electrolytic cell used for a known surface treatment such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used. As a power supply method to the aluminum alloy plate, a direct power supply method using a conductor roll or a liquid power supply method without using a conductor roll (indirect power supply method) can be used.

【0042】電解槽内を通過する電解液はアルミニウム
ウェブ(アルミニウム合金板)の進行とパラレルでもカ
ウンターでもよい。1つの電解槽には1個以上の交流電
源が接続することができる。また、電解槽は2個以上を
用いることもできる。
The electrolytic solution passing through the electrolytic cell may be parallel or counter to the progress of the aluminum web (aluminum alloy plate). One or more AC power supplies can be connected to one electrolytic cell. Further, two or more electrolytic cells can be used.

【0043】間接給電方式を用いるときは、特公平6−
37716号公報、特公平5−42520号公報に記載
の補助陽極を用いた方法で、アルミニウム合金板に加わ
る陽極時の電気量と陰極時の電気量の比を調整すること
が好ましい。補助陽極に流れる電流はサイリスタ、ダイ
オード、GTO等の整流素子を用いて制御することが特
に好ましい。特公平6−37716号公報に記載の方式
を用いれば、電気化学的な粗面化反応がおこなわれる主
極のカーボン電極に対向するアルミニウム合金板表面に
おける交流電流の陽極時の電気量と陰極時の電気量(電
流値)を容易に制御できる。また、電源装置制作上も変
圧器の偏磁の影響も小さくコスト的に非常に有利であ
る。
When the indirect power supply system is used,
It is preferable to adjust the ratio of the amount of electricity at the time of anode to the amount of electricity at the time of cathode applied to the aluminum alloy plate by a method using an auxiliary anode described in Japanese Patent No. 37716 and Japanese Patent Publication No. 5-42520. It is particularly preferable to control the current flowing through the auxiliary anode by using a rectifier such as a thyristor, a diode, or a GTO. When the method described in Japanese Patent Publication No. Hei 6-37716 is used, the amount of AC current at the anode and the amount of AC current at the surface of the aluminum alloy plate facing the carbon electrode of the main electrode where the electrochemical surface roughening reaction is performed are performed. Of electricity (current value) can be easily controlled. Further, the influence of the magnetic bias of the transformer is small in the production of the power supply device, which is very advantageous in terms of cost.

【0044】サイン波を用いた電気化学的な粗面化を行
うときの電流値の制御には、変圧器、可変式誘導電圧調
整器、等を併用して用い、電解に用いる電流値を可変式
誘導電圧調整器にフィードバックして行う。そのとき、
電流値を制御する方法では特開昭55−25381号公
報に記載のように、サイリスタで位相制御する方式を併
用することもできる。
For controlling the current value when performing electrochemical surface roughening using a sine wave, a transformer, a variable induction voltage regulator, and the like are used in combination to change the current value used for electrolysis. This is done by feeding back to the induction voltage regulator. then,
In the method of controlling the current value, a method of controlling the phase with a thyristor can be used together as described in JP-A-55-25381.

【0045】電気化学的粗面化処理ではアルミニウム合
金板と電極の距離と液流速が一定でないと電流の偏りが
発生しやすく、その結果アルミニウム合金板表面に処理
ムラが発生し、平版印刷板用支持体として適さないもの
が製造されてしまう。その問題点を解決するために、内
部に液たまり室を設け、アルミニウムウエブの巾方向に
1〜5mmの液吹き出し用のスリットを設けた給液ノズ
ルを用いることができる。また、複数の液たまり室を設
け、それぞれの液たまり室つながる配管にはバルブと流
量計を設けてそれぞれのスリットから吹き出す液量を調
整することを行うのが特に好ましい。
In the electrochemical surface roughening treatment, if the distance between the aluminum alloy plate and the electrode and the liquid flow velocity are not constant, the current tends to be biased. What is not suitable as a support is produced. In order to solve the problem, a liquid supply nozzle provided with a liquid pool chamber therein and having a slit for discharging liquid of 1 to 5 mm in the width direction of the aluminum web can be used. In addition, it is particularly preferable to provide a plurality of liquid pool chambers, and provide a valve and a flow meter in a pipe connected to each liquid pool chamber to adjust the amount of liquid blown out from each slit.

【0046】アルミニウム合金板と電極との距離は5〜
100mmが好ましく、8〜15mmがより好ましい。
この距離を一定に保つために特公昭61−30036号
公報に記載の、走行するアルミニウム合金板を摺動しう
る面に静圧を利用してウェブを摺動面に圧接させつつ走
行させる方式が使用される。または特開平8−3008
43号公報に記載のように直径の大きなローラーを用い
て電極とアルミニウム合金板の距離を一定に保つ方法も
用いることができる。
The distance between the aluminum alloy plate and the electrode is 5 to
100 mm is preferable, and 8 to 15 mm is more preferable.
In order to keep this distance constant, there is a method described in Japanese Patent Publication No. 61-30036, in which a running aluminum alloy plate is run while pressing the web against a sliding surface by using static pressure on a surface on which the plate can slide. used. Or JP-A-8-3008
As described in JP-A-43-43, a method of using a roller having a large diameter to keep the distance between the electrode and the aluminum alloy plate constant can also be used.

【0047】直接給電方式を用いるときは、特開昭58
−177441号公報に記載のようなコンダクタロール
を用い、特開昭56−123400号公報に記載の装置
で電気化学的に粗面化処理することが好ましい。コンダ
クタロールはアルミニウム合金板の上面または下面に設
けることが可能であるが、アルミニウム合金板の上面に
設け、ニップ装置にてアルミニウム合金板に押しつける
ようにするのが特に好ましい。アルミニウム合金板がコ
ンダクタロールに接する長さは、アルミ進行方向に対し
て1mm〜300mmが好ましい。アルミニウム合金板
を挟んでコンダクタロールに対向するパスロールはゴム
製のロールであることが好ましい。押しつけ圧、ゴムロ
ールの硬度はアークスポットの発生しない条件で任意に
設定する。コンダクタロールをアルミニウム合金板の上
面に設置することで、コンダクタロールの交換作業・点
検作業が簡単になる。コンダクタロールの端部には給電
ブラシを回転体に摺動させながら通電する方式を用いる
のが好ましい。
When the direct power supply system is used, Japanese Patent Laid-Open No.
It is preferable to conduct a surface roughening treatment electrochemically using a conductor roll as described in JP-A-177441 and an apparatus described in JP-A-56-123400. Although the conductor roll can be provided on the upper surface or the lower surface of the aluminum alloy plate, it is particularly preferable that the conductor roll is provided on the upper surface of the aluminum alloy plate and pressed against the aluminum alloy plate by a nip device. The length of the aluminum alloy plate in contact with the conductor roll is preferably 1 mm to 300 mm with respect to the aluminum traveling direction. The pass roll facing the conductor roll with the aluminum alloy plate interposed therebetween is preferably a rubber roll. The pressing pressure and the hardness of the rubber roll are arbitrarily set under the condition that no arc spot is generated. By installing the conductor roll on the upper surface of the aluminum alloy plate, replacement work and inspection work of the conductor roll are simplified. It is preferable to use a method in which power is supplied to the end of the conductor roll while sliding the power supply brush against the rotating body.

【0048】アルミニウム合金板に押しつけられたコン
ダクターロールにはアークスポットの発生を防止するた
めに常に電気化学的な粗面化に用いる電解液と同じ組
成、同じ温度の電解液により常に冷却する事が好まし
い。電解液の中に異物が入るとアークスポットの原因に
なりやすいので、冷却に用いるスプレーに濾布等を巻い
たり、スプレー管の上流側の配管にメッシュの細かいフ
ィルターを入れる等する事が好ましい。
The conductor roll pressed against the aluminum alloy plate should always be cooled with an electrolytic solution having the same composition and the same temperature as the electrolytic solution used for electrochemical surface roughening in order to prevent the generation of arc spots. preferable. If foreign matter enters the electrolyte, an arc spot is likely to be caused. Therefore, it is preferable to wind a filter cloth or the like around the spray used for cooling, or to put a filter with a fine mesh into the pipe on the upstream side of the spray pipe.

【0049】上記粗面化処理工程で用いる電解装置とし
ては、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の電解装
置を用いることができ、特開平5−195300号公報
に記載のようなラジアル型電解装置が特に好ましい。図
3は、本発明で用いるラジアル型電解装置の概略図であ
る。図3において、ラジアル型電解装置は、アルミニウ
ム合金板Wが主電解槽10中に配置されたラジアルドラ
ムローラ12に巻装され、搬送過程で交流電源11に接
続された主極13a、13bによって電解処理される。
酸性溶液15は、溶液供給口14からスリット16を通
じてラジアルドラムローラ12と主極13a、13bと
の間にある溶液通路17に供給される。ついで、主電解
槽10で処理されたアルミニウム合金板Wは、補助陽極
槽20で電解処理される。この補助陽極槽20には補助
陽極21がアルミニウム合金板Wと対向配置されてお
り、酸性溶液15は、補助陽極21とアルミニウム合金
板Wとの間を流れるように供給される。補助陽極21は
フェライト、酸化イリジウム、白金、または白金をチタ
ン、ニオブ、ジルコニウム等のバルブ金属にクラッド若
しくはメッキしたもの等公知の酸素発生用電極から選定
することができる。主極13a、13bは、カーボン、
白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、およびステンレ
スや燃料電池用陰極に用いる電極から選定することがで
きるが、カーボンが特に好ましい。該カーボンとして
は、一般に市販されている化学装置用不浸透性黒鉛や、
樹脂含芯黒鉛等を用いることができる。
As the electrolysis apparatus used in the above-mentioned surface roughening treatment step, a known electrolysis apparatus such as a vertical type, a flat type and a radial type can be used. Electrolysis devices are particularly preferred. FIG. 3 is a schematic diagram of a radial electrolytic device used in the present invention. In FIG. 3, an aluminum alloy plate W is wound around a radial drum roller 12 arranged in a main electrolytic cell 10 and electrolyzed by main electrodes 13a and 13b connected to an AC power supply 11 in a conveying process. It is processed.
The acidic solution 15 is supplied from a solution supply port 14 through a slit 16 to a solution passage 17 between the radial drum roller 12 and the main poles 13a and 13b. Next, the aluminum alloy plate W treated in the main electrolytic cell 10 is subjected to electrolytic treatment in the auxiliary anode cell 20. An auxiliary anode 21 is disposed in the auxiliary anode tank 20 so as to face the aluminum alloy plate W, and the acidic solution 15 is supplied so as to flow between the auxiliary anode 21 and the aluminum alloy plate W. The auxiliary anode 21 can be selected from a known oxygen generation electrode such as ferrite, iridium oxide, platinum, or platinum clad or plated with a valve metal such as titanium, niobium, or zirconium. The main poles 13a and 13b are made of carbon,
It can be selected from platinum, titanium, niobium, zirconium, stainless steel and an electrode used for a cathode for a fuel cell, and carbon is particularly preferred. As the carbon, generally commercially available impervious graphite for chemical equipment,
Resin-core graphite or the like can be used.

【0050】上記主電解槽10および補助陽極槽20内
を通過する酸性溶液の供給方向はアルミニウム合金板W
の進行とパラレルでもカウンターでもよい。アルミニウ
ム合金板に対する酸性溶液の相対流速は、10〜100
0cm/secが好ましい。一つの電解装置には1個以
上の交流電源を接続することができる。また、2個以上
の電解装置を使用してもよく、各装置における電解条件
は同一でもよいし異なっていてもよい。また、電解処理
が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないため
にニップローラによって液切りとスプレーによる水洗と
を行うことが好ましい。
The supply direction of the acidic solution passing through the main electrolytic cell 10 and the auxiliary anode cell 20 is the direction of the aluminum alloy plate W
May be parallel or counter to the progress of the game. The relative flow rate of the acidic solution to the aluminum alloy plate is 10 to 100
0 cm / sec is preferable. One or more AC power supplies can be connected to one electrolytic device. Further, two or more electrolysis devices may be used, and electrolysis conditions in each device may be the same or different. Further, after the electrolytic treatment is completed, it is preferable to perform liquid drainage by a nip roller and water washing by spraying so as not to carry out the treatment liquid to the next step.

【0051】さらに、上記電解粗面化処理においては、
電解装置中のアルミニウム合金板がアノード反応する酸
性溶液の通電量に比例して、硝酸と水とを、例えば
(i)酸性溶液の導電率と(ii)超音波の伝搬速度と
(iii)温度とから求めた硝酸およびアルミニウムイ
オン濃度をもとに、硝酸と水との添加量を調節しながら
添加し、硝酸と水との添加容積と同量の酸性溶液を逐次
電解装置からオーバーフローさせて排出することで、上
記酸性溶液の濃度を一定に保つのが好ましい。
Further, in the electrolytic surface roughening treatment,
Nitric acid and water, for example, (i) the conductivity of the acidic solution, (ii) the propagation speed of the ultrasonic wave, and (iii) the temperature Based on the nitric acid and aluminum ion concentrations determined from above, add the nitric acid and water while adjusting the amount of addition, and sequentially discharge the acidic solution of the same volume as the added volume of nitric acid and water from the electrolytic device. By doing so, it is preferable to keep the concentration of the acidic solution constant.

【0052】電解粗面化処理の前処理として、特開20
00−239852号公報に記載のジメチルアミノボラ
ン水溶液への浸漬による表面の活性化処理を行うことが
好ましい。アルミニウム合金板を電気化学的に粗面化す
るにあたり、表面に銅成分が偏析しているとその部分だ
け電気化学的な粗面化が行われにくくなり、外観故障と
なりやすい。そこでジメチルアミノボランの水溶液に浸
漬してアルミ表面の活性化を行うと外観故障のない平版
印刷板用持体として好適な均一な表面を得ることができ
る。
As a pretreatment for the electrolytic surface roughening treatment, Japanese Patent Laid-Open No.
It is preferable to perform a surface activation treatment by immersion in an aqueous solution of dimethylaminoborane described in 00-239852. In electrochemically roughening the aluminum alloy plate, if a copper component is segregated on the surface, it is difficult to electrochemically roughen only that portion, and the appearance is likely to be damaged. Therefore, when the aluminum surface is activated by immersion in an aqueous solution of dimethylaminoborane, a uniform surface suitable for a lithographic printing plate holder having no appearance failure can be obtained.

【0053】ジメチルアミノボランは、アルミニウム合
金板表面の銅を活性化させるための還元剤として作用す
るものであり、その添加量は、1.0〜10g/リット
ルとすることが好ましい。上記の各活性剤液中には、他
の成分としてアルミニウム塩、界面活性剤等が含まれて
いてもよい。上記活性化処理の好ましい温度は20〜6
0℃である。処理時間は、浸漬またはスプレー処理にお
いて1〜30秒である。
Dimethylaminoborane acts as a reducing agent for activating copper on the surface of the aluminum alloy plate, and its amount is preferably 1.0 to 10 g / liter. Each of the above-mentioned activator liquids may contain an aluminum salt, a surfactant and the like as other components. The preferable temperature of the activation treatment is 20 to 6
0 ° C. The processing time is 1 to 30 seconds in the dipping or spraying process.

【0054】<機械的粗面化処理工程、アルカリエッチ
ング処理工程、デスマット処理工程>機械的粗面化処理
工程、アルカリエッチング処理工程、デスマット処理工
程の各処理工程は、電解粗面化処理を施す前(第1の処
理工程)および/または上記粗面化処理工程の後、後述
する陽極酸化処理工程の前の段階(第2の処理工程)に
おいて設けられることが好ましい。また、適宜、酸性エ
ッチング処理工程を設けてもよい。ただし、これら各処
理工程は例示であり、本発明は、以下の各工程の内容に
限定されるものではない。また上記処理工程を始めとす
る以下の各処理は任意で施される。
<Mechanical surface roughening step, alkali etching step, desmutting step> Each of the mechanical surface roughening step, alkali etching step, and desmutting step is performed by electrolytic surface roughening. It is preferably provided in a stage (second processing step) before (the first processing step) and / or after the surface roughening processing step and before the anodic oxidation processing step described later. Further, an acid etching process step may be appropriately provided. However, each of these processing steps is an example, and the present invention is not limited to the contents of the following steps. The following processes including the above-described process are optionally performed.

【0055】(機械的粗面化処理工程)機械的粗面化処
理工程における機械的粗面化処理とは、ブラシ等を使用
してアルミニウム合金板表面を機械的に粗面化する処理
であり、上記第1の処理工程おいて施されるのが好まし
い。機械的粗面化処理としては、毛径が0.07〜0.
57mmの回転するナイロンブラシロールと、アルミニ
ウム合金板表面に供給される研磨剤のスラリー液とで処
理することが好ましい。機械的粗面化処理工程に用いら
れる研磨剤としては公知の物を用いることができるが、
特開平6−135175号公報、特公昭50−4004
7号公報に記載されている珪砂、石英、水酸化アルミニ
ウムまたはこれらの混合物を用いるのが好ましい。
(Mechanical surface roughening process) The mechanical surface roughening process in the mechanical surface roughening process is a process of mechanically roughening the surface of the aluminum alloy plate using a brush or the like. , Is preferably performed in the first processing step. As the mechanical surface roughening treatment, the bristle diameter is 0.07 to 0.3.
It is preferable to perform treatment with a 57 mm rotating nylon brush roll and an abrasive slurry liquid supplied to the surface of the aluminum alloy plate. Known abrasives can be used as the abrasive used in the mechanical roughening process,
JP-A-6-135175, JP-B-50-4004
It is preferable to use silica sand, quartz, aluminum hydroxide, or a mixture thereof described in JP-A-7.

【0056】上記スラリー液としては、比重が1.05
〜1.3の範囲内にあるものが好ましい。上記スラリー
液をアルミニウム合金板表面に供給する方法としては、
該スラリー液を吹き付ける方法、ワイヤーブラシを用い
る方法、および凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をア
ルミニウム合金板に転写する方法等が挙げられる。ま
た、特開昭55−074898号公報、特開昭61ー1
62351号公報、および特開昭63−104889号
公報等に記載されている方法を用いてもよい。さらに、
特表平9−509108号公報に記載されているよう
に、アルミナおよび石英からなる粒子の混合物を95:
5〜5:95の範囲の質量比で含んでなる水性スラリー
中で、アルミニウム合金板表面をブラシ研磨する方法を
用いることもできる。このときの上記混合物の体積平均
粒径は、1〜40μm、特に1〜20μmの範囲内であ
ることが好ましい。
The slurry has a specific gravity of 1.05.
Those in the range of ~ 1.3 are preferred. As a method for supplying the slurry liquid to the surface of the aluminum alloy plate,
A method of spraying the slurry liquid, a method of using a wire brush, and a method of transferring the surface shape of a roll provided with irregularities to an aluminum alloy plate are exemplified. Also, JP-A-55-074898 and JP-A-61-1
The method described in, for example, JP-A-62351 and JP-A-63-104889 may be used. further,
As described in JP-A-9-509108, a mixture of particles composed of alumina and quartz is mixed with 95:
A method of brush-polishing the surface of an aluminum alloy plate in an aqueous slurry containing a mass ratio of 5 to 5:95 can also be used. At this time, the volume average particle diameter of the mixture is preferably in the range of 1 to 40 μm, particularly 1 to 20 μm.

【0057】上記ナイロンブラシは吸水率が低いものが
好ましく、例えば、東レ(株)社製のナイロンブリッス
ル200T(6,10−ナイロン、軟化点:180℃、
融点:212〜214℃、比重:1.08〜1.09、
水分率:20℃・相対湿度65%において1.4〜1.
8、20℃・相対湿度100%において2.2〜2.
8、乾引っ張り強度:4.5〜6g/d、乾引っ張り伸
度:20〜35%、沸騰水収縮率:1〜4%、乾引っ張
り抵抗度:39〜45g/d、ヤング率(乾):380
〜440kg/mm2)が好ましい。
The nylon brush preferably has a low water absorption. For example, nylon bristle 200T (6,10-nylon, softening point: 180 ° C., manufactured by Toray Industries, Inc.)
Melting point: 212-214 ° C, specific gravity: 1.08-1.09,
Moisture percentage: 1.4 to 1. 1 at 20 ° C and 65% relative humidity.
8, 2.2 ° C at 20 ° C and 100% relative humidity.
8. Dry tensile strength: 4.5-6 g / d, dry tensile elongation: 20-35%, boiling water shrinkage: 1-4%, dry tensile resistance: 39-45 g / d, Young's modulus (dry) : 380
440 kg / mm 2 ).

【0058】(アルカリエッチング処理)アルカリエッ
チング処理工程におけるアルカリエッチング処理とは、
アルカリ水溶液中でアルミニウム合金板表面を化学的に
エッチングする処理をいい、上記第1の処理工程および
第2の処理工程それぞれにおいて施すのが好ましい。該
アルカリ水溶液の濃度は、1〜30質量%が好ましく、
該アルカリ水溶液は、アルミニウムはもちろんアルミニ
ウム合金板中に含有される合金成分を0.5〜10質量
%を含有していてよい。上記アルカリ水溶液としては、
特に水酸化ナトリウム(苛性ソーダ)を主体とする水溶
液が好ましい。
(Alkali Etching Treatment) The alkaline etching treatment in the alkaline etching treatment step is as follows.
A treatment for chemically etching the surface of an aluminum alloy plate in an alkaline aqueous solution, and is preferably performed in each of the first treatment step and the second treatment step. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 1 to 30% by mass,
The alkaline aqueous solution may contain not only aluminum but also 0.5 to 10% by mass of an alloy component contained in the aluminum alloy plate. As the alkaline aqueous solution,
Particularly, an aqueous solution mainly containing sodium hydroxide (caustic soda) is preferable.

【0059】上記電気化学的粗面化処理の前または機械
的粗面化処理の後に行うアルカリエッチング処理は、ア
ルカリ水溶液の液温を常温〜95℃とし、1〜120秒
間処理することが好ましい。アルミニウム合金板の溶解
量(エッチング量)は1〜15g/m2とすることが好
ましく、3〜10g/m2とすることがより好ましい。
最初にアルカリ水溶液中で化学的なエッチング液をミキ
シングするときには、液体水酸化ナトリウム(苛性ソー
ダ)とアルミン酸ナトリウム(アルミン酸ソーダ)とを
用いて処理液を調製することが好ましい。また、上記ア
ルカリエッチング処理が終了した後には、処理液を次工
程に持ち出さないためにニップローラーによる液切りと
スプレーによる水洗を行うことが好ましい。
The alkali etching treatment performed before the electrochemical graining treatment or after the mechanical graining treatment is preferably carried out for 1 to 120 seconds at a liquid temperature of an alkaline aqueous solution of from room temperature to 95 ° C. Dissolution of the aluminum alloy plate (etching amount) is preferably set to 1 to 15 g / m 2, and more preferably set to 3 to 10 g / m 2.
When mixing a chemical etching liquid in an alkaline aqueous solution for the first time, it is preferable to prepare a treatment liquid using liquid sodium hydroxide (caustic soda) and sodium aluminate (sodium aluminate). After the completion of the alkali etching treatment, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water by spraying so as not to carry out the treatment liquid to the next step.

【0060】(酸性エッチング処理工程)酸性エッチン
グ処理工程における酸性エッチング処理とは、酸性溶液
中でアルミニウム合金板を化学的にエッチングする処理
をいい、上記第2の処理工程において施すのが好まし
く、上記アルカリエッチング処理の後に施すのも好まし
い。アルミニウム合金板に上記アルカリエッチング処理
を施した後に、上記酸性エッチング処理を施すと、該ア
ルミニウム合金板表面のシリカを含む金属間化合物、ま
たは単体Siを除去することができ、その後の陽極酸化
処理工程において生成する陽極酸化被膜の欠陥をなくす
ことができる。
(Acid Etching Step) The acidic etching step in the acid etching step refers to a step of chemically etching an aluminum alloy plate in an acidic solution, and is preferably performed in the second processing step. It is also preferable to apply after the alkali etching treatment. When the above-described acidic etching treatment is performed after the above-described alkali etching treatment is performed on the aluminum alloy plate, an intermetallic compound containing silica or simple Si can be removed from the surface of the aluminum alloy plate, and a subsequent anodic oxidation step The defect of the anodic oxide film generated in the above can be eliminated.

【0061】上記酸性エッチング処理に用いることので
きる酸は、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、または
これらの2以上の酸を含む混酸を用いることができ、特
に硫酸水溶液が好ましい。上記酸性溶液の濃度は、30
0〜500g/リットルが好ましく、該酸性溶液は、ア
ルミニウムはもちろん、アルミニウム合金板中に含有さ
れる合金成分を含有していてよい。
As the acid which can be used in the above-mentioned acidic etching treatment, phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids can be used, and an aqueous sulfuric acid solution is particularly preferable. The concentration of the acidic solution is 30
The acid solution is preferably 0 to 500 g / liter, and the acidic solution may contain not only aluminum but also alloy components contained in the aluminum alloy plate.

【0062】上記酸性エッチング処理は、液温を60〜
90℃、好ましくは70〜80℃とし、1〜10秒間処
理することが好ましい。このときのアルミニウム合金板
の溶解量は0.001〜0.2g/m2が好ましい。ま
た、酸濃度、例えば硫酸濃度と、アルミニウム濃度と、
は常温で晶出しない範囲から選択することが好ましい。
好ましいアルミニウムイオン濃度は0.1〜15g/リ
ットルであり、特に好ましくは5〜15g/リットルで
ある。上記酸性エッチング処理が終了した後には、処理
液を次工程に持ち出さないためにニップローラーによる
液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。
In the above-mentioned acidic etching treatment, the solution temperature is set to 60 to
The treatment is preferably performed at 90 ° C., preferably 70 to 80 ° C., for 1 to 10 seconds. At this time, the dissolution amount of the aluminum alloy plate is preferably 0.001 to 0.2 g / m 2 . Also, acid concentration, for example, sulfuric acid concentration, aluminum concentration,
Is preferably selected from a range that does not crystallize at room temperature.
The preferred aluminum ion concentration is 0.1 to 15 g / liter, particularly preferably 5 to 15 g / liter. After the completion of the acidic etching treatment, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water to prevent the treatment liquid from being taken to the next step.

【0063】(デスマット処理工程)化学的なエッチン
グ処理をアルカリの水溶液を用いておこなった場合は、
一般にアルミニウム合金板の表面にスマットが生成する
ので、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、またはこれ
らの2以上の酸からなる混酸を含む酸性溶液中で上記ス
マットを溶解するいわゆるデスマット処理(デスマット
処理工程)を施すのが好ましい。デスマット処理は、上
記第1の処理工程および第2の処理工程において適宜施
すのが好ましく、上記アルカリエッチング処理等の後に
施すのがより好ましい。酸性溶液の濃度(硫酸を使用す
る場合は硫酸濃度)は、250〜500g/リットルが
好ましい。さらに酸性溶液中にはアルミニウムを1〜1
5g/リットルを含有することが好ましい。また、アル
ミニウム合金板中に含有される合金成分(アルミニウム
を除く)が0.001〜15g/リットル溶解していて
もよい。
(Desmut treatment process) When the chemical etching treatment is performed using an alkaline aqueous solution,
Generally, a smut is formed on the surface of an aluminum alloy plate, so-called desmut treatment (desmut treatment) in which the smut is dissolved in an acidic solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid comprising two or more of these acids. Treatment step). The desmut treatment is preferably performed as appropriate in the first and second treatment steps, and is more preferably performed after the alkali etching treatment or the like. The concentration of the acidic solution (sulfuric acid concentration when sulfuric acid is used) is preferably from 250 to 500 g / liter. Further, aluminum is added to the acidic solution in an amount of 1-1.
Preferably, it contains 5 g / l. Further, 0.001 to 15 g / liter of an alloy component (excluding aluminum) contained in the aluminum alloy plate may be dissolved.

【0064】上記デスマット処理において酸性溶液の液
温は、60℃〜90℃が好ましく、60〜70℃がより
好ましい。また、処理時間は1〜180秒が好ましく、
1〜120秒がより好ましく、2〜60秒がさらに好ま
しい。上記デスマット処理が終了した後には、処理液を
次工程に持ち出さないためにニップローラーによる液切
りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。また、
デスマット処理液(酸性溶液)としては、上記粗面化処
理工程で用いた酸性溶液の廃液を用いることが、廃液量
削減の上で好ましい。
In the desmutting treatment, the temperature of the acidic solution is preferably from 60 to 90 ° C., more preferably from 60 to 70 ° C. Further, the processing time is preferably 1 to 180 seconds,
1 to 120 seconds are more preferable, and 2 to 60 seconds are still more preferable. After the end of the desmutting treatment, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water by spraying so as not to carry the treatment liquid to the next step. Also,
As the desmut treatment liquid (acid solution), it is preferable to use the waste liquid of the acidic solution used in the surface roughening treatment step from the viewpoint of reducing the amount of the waste liquid.

【0065】上述の本発明における粗面化処理工程の前
段階に施す第1の処理工程としては、アルミニウム合金
板に上記機械的粗面化処理および/または上記アルミニ
ウム合金板の溶解量が1〜15g/m2(より好ましく
は、3〜10g/m2)となるようにアルカリエッチン
グ処理を施した後、上記酸性溶液中でのデスマット処理
を施すのが好ましい。また、上記粗面化処理工程の後、
後述する陽極酸化処理工程の前段階に施す第2の処理工
程としては、例えば、アルミニウム合金板に60〜90
℃の硫酸水溶液中で1〜10秒間酸性エッチング処理を
施すか、あるいは、アルカリ水溶液中でアルミニウム合
金板を0.01〜5g/m2溶解するアルカリエッチン
グ処理を施し、その後、上記酸性溶液中でのデスマット
処理または60〜90℃の硫酸水溶液中で1〜10秒間
酸性エッチング処理を施すのが好ましい。なお、アルミ
ニウム合金板にアルカリエッチング処理を施した場合、
アルミニウム合金板表面のシリカを含む金属間化合物、
または単体Siを除去するために、液温60〜90℃お
よび1〜10秒間の条件で上記酸性エッチング処理を施
すのが好ましい。酸性エッチング処理を施すと上述の通
り、その後の陽極酸化処理工程において生成する陽極酸
化被膜の欠陥をなくすことができ、その結果、印刷時に
チリ状汚れと称される非画像部に点状のインクが付着す
るトラブルを改善することができる。
As a first treatment step performed before the above-mentioned roughening treatment step in the present invention, the mechanical graining treatment on the aluminum alloy sheet and / or the dissolution amount of the aluminum alloy sheet is 1 to 10%. 15 g / m 2 (more preferably, 3 to 10 g / m 2) was subjected to alkali etching treatment so that is preferably subjected to a desmutting treatment in the acidic solution. Also, after the above-mentioned roughening treatment step,
As a second processing step performed before the anodic oxidation processing step described later, for example, 60-90
1 to 10 seconds in an aqueous sulfuric acid solution at 10 ° C. or an alkali etching process in which an aluminum alloy plate is dissolved in an aqueous alkaline solution by 0.01 to 5 g / m 2 , and then in the above acidic solution. Or an acidic etching treatment in an aqueous sulfuric acid solution at 60 to 90 ° C. for 1 to 10 seconds. When the aluminum alloy plate is subjected to alkali etching,
Intermetallic compounds containing silica on the surface of the aluminum alloy plate,
Alternatively, in order to remove the elemental Si, it is preferable to perform the acidic etching treatment under the conditions of a liquid temperature of 60 to 90 ° C. and 1 to 10 seconds. As described above, the acidic etching treatment can eliminate defects in the anodized film generated in the subsequent anodizing treatment step, and as a result, a dot-like ink is formed on a non-image portion called a dust stain during printing. Can be improved.

【0066】アルミニウム合金板を酸またはアルカリ水
溶液中での処理、または研磨剤を用いて機械的に粗面化
した後には、薬液や研磨剤をアルミニウム合金板表面か
ら除去する目的で洗浄工程を設けることが好ましい。該
洗浄工程における洗浄処理としては、水による洗浄処
理、ドライアイスを使った洗浄処理等がある。
After the aluminum alloy plate is treated in an aqueous acid or alkali solution or mechanically roughened using an abrasive, a cleaning step is provided for the purpose of removing the chemical solution or the abrasive from the surface of the aluminum alloy plate. Is preferred. The washing process in the washing step includes a washing process using water, a washing process using dry ice, and the like.

【0067】洗浄は薬液の種類、組成の異なる処理槽の
中間に設けるのが普通であるが、処理槽から洗浄工程に
入る時間、または、洗浄から次の処理槽に入るまでの時
間は10秒以下が好ましく、0.1〜10秒がより好ま
しい。10秒を超えると表面の化学的な変性が進み、処
理ムラが発生しやすくなることがある。
Washing is generally provided between treatment tanks having different types and compositions of chemicals, but the time required to enter the cleaning step from one treatment tank or the time required from cleaning to the next treatment tank is 10 seconds. The following is preferable, and 0.1 to 10 seconds is more preferable. If the time exceeds 10 seconds, chemical modification of the surface proceeds, and processing unevenness may easily occur.

【0068】また、洗浄工程を挟んだ処理槽と処理槽の
間隔は、アルミニウムウェブの通過時間で15秒以下、
特に5秒以下が好ましい。15秒を超えると表面の化学
的な変性が進んで次工程で均一な粗面化処理が行われに
くくなる。
The interval between the processing tanks with the cleaning step interposed between them is 15 seconds or less as the passage time of the aluminum web.
Particularly, it is preferably 5 seconds or less. If the time exceeds 15 seconds, chemical modification of the surface proceeds, making it difficult to perform a uniform roughening treatment in the next step.

【0069】アルミニウム合金板を洗浄するにあたって
は、以下の方法を用いることが好ましく、排水量を減少
させるという目的で、ドライアイスパウダーを用いた洗
浄方式が特に好ましい。
In cleaning the aluminum alloy plate, the following method is preferably used, and a cleaning method using dry ice powder is particularly preferable for the purpose of reducing the amount of drainage.

【0070】(1)水による洗浄処理:平版印刷板用ア
ルミニウム合金板の洗浄方法としては、ニップローラー
にて液切りした表面を、スプレーチップから噴射した水
を用いて洗浄する方法を用いるのが一般的である。水は
アルミニウム合金板の走行方向の下流に向かって45〜
90度の角度で噴射することが好ましい。水の噴射圧力
は、噴射ノズル直前の圧力で、通常0.5〜5kg/c
2、液温は10〜80℃が好ましい。走行するアルミ
ニウム合金板の移動速度は20〜200m/minであ
ることが好ましい。アルミニウム合金板に吹き付けられ
る水の量は、1つの洗浄工程で0.1〜10リットル/
2とすることが好ましい。1つの洗浄槽には、アルミ
ニウム合金板の表面に最低2本以上、裏面に最低2本以
上のスプレー管から洗浄水が噴射される。1つのスプレ
ー管にはピッチ50〜200mmの間隔でスプレーチッ
プが5〜30本設置される。スプレーチップの噴霧角度
は10〜150°、アルミニウム合金板とスプレーチッ
プ噴射面の間隔は10〜250mmとすることが好まし
い。スプレーチップの噴霧の断面形状(スプレーパター
ン)は環状、円形、楕円形、正方形、長方形等がある
が、円形・惰円形または正方形・長方形が好ましい。流
量分布(アルミニウム合金板の表面における噴霧の水量
分配状態)は環状分布、均等分布、山型分布等がある
が、スプレーチップをスプレー管に複数並べて使用する
ときは、幅全域での均一な流量分布を容易にする山型分
布が好ましい。流量分布は噴霧圧力とスプレーチップと
アルミニウム合金板の距離により変化する。噴霧の粒子
径はスプレーチップの構造、噴霧圧力、噴霧量によって
変わるが、10〜10000μmが好ましく、100〜
1000μmがより好ましい。スプレーノズルの材質は
高速で流れる液体に対して耐摩耗性を有することが好ま
しい。その材質は、真鍮、ステンレス、セラミック等が
好ましく、セラミックが特に好ましい。
(1) Washing treatment with water: As a method for washing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate, a method of washing the surface drained by a nip roller using water sprayed from a spray tip is used. General. Water flows 45-45 downstream in the direction of travel of the aluminum alloy plate.
It is preferable to inject at an angle of 90 degrees. The injection pressure of water is the pressure immediately before the injection nozzle and is usually 0.5 to 5 kg / c.
m 2 and the liquid temperature are preferably from 10 to 80 ° C. The traveling speed of the traveling aluminum alloy plate is preferably 20 to 200 m / min. The amount of water sprayed on the aluminum alloy plate is 0.1 to 10 liter / in one washing step.
m 2 is preferable. In one washing tank, washing water is sprayed from at least two spray tubes on the front surface and at least two spray tubes on the back surface of the aluminum alloy plate. One spray tube is provided with 5 to 30 spray tips at a pitch of 50 to 200 mm. The spray angle of the spray tip is preferably 10 to 150 °, and the distance between the aluminum alloy plate and the spray tip spraying surface is preferably 10 to 250 mm. The cross-sectional shape (spray pattern) of the spray of the spray tip includes an annular shape, a circular shape, an elliptical shape, a square shape, a rectangular shape and the like. The flow rate distribution (spray water distribution on the surface of the aluminum alloy plate) has an annular distribution, a uniform distribution, and a mountain-shaped distribution. A mountain distribution that facilitates distribution is preferred. The flow distribution changes depending on the spray pressure and the distance between the spray tip and the aluminum alloy plate. The particle size of the spray varies depending on the structure of the spray tip, the spray pressure, and the spray amount, but is preferably from 10 to 10,000 μm,
1000 μm is more preferred. The material of the spray nozzle preferably has abrasion resistance to a liquid flowing at a high speed. The material is preferably brass, stainless steel, ceramic or the like, and ceramic is particularly preferable.

【0071】スプレーチップを設置したスプレーノズル
はアルミニウム合金板の進行方向に対して45〜90°
に配置することができるが、スプレーパターンの中心の
うち長さが長い方の中心線がアルミニウム合金板の進行
方向と直角になるようにすることが好ましい。水洗処理
工程を通過する洗浄時間は、工業的に10秒以下が好ま
しく、0.5〜5秒がより好ましい。
The spray nozzle provided with the spray tip is 45 to 90 ° with respect to the traveling direction of the aluminum alloy plate.
However, it is preferable that the longer center line of the centers of the spray patterns be perpendicular to the direction of travel of the aluminum alloy plate. The washing time passing through the water washing step is industrially preferably 10 seconds or less, more preferably 0.5 to 5 seconds.

【0072】(2)ドライアイスパウダーを使った洗浄
処理:ドライアイスパウダーをアルミニウム合金板の両
面に噴射して洗浄する方法とは、特開平10−6690
5号公報に記載されているような公知のショットブラス
ト装置を用いることができる。噴射ノズルは特開平10
−28901号公報、特開平10−28902号公報に
記載されているような公知の噴射ノズルをアルミニウム
合金板の両面に複数個並べることができる。噴射ノズル
は横一直線に配置してもよいが、アルミニウム合金板表
面の噴射パターンがアルミニウム合金板の巾方向で重な
るように斜めに設置することが好ましい。噴射ノズルと
アルミニウム合金板との間隔は1〜100mmが好まし
く、特に10〜50mmが好ましい。
(2) Cleaning process using dry ice powder: A method of spraying dry ice powder on both surfaces of an aluminum alloy plate for cleaning is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-6690.
A well-known shot blasting device as described in JP-A No. 5 can be used. Injection nozzle
A plurality of known injection nozzles as described in JP-A-28901 and JP-A-10-28902 can be arranged on both sides of an aluminum alloy plate. The spray nozzles may be arranged horizontally in a straight line, but are preferably installed obliquely so that the spray patterns on the surface of the aluminum alloy plate overlap in the width direction of the aluminum alloy plate. The distance between the injection nozzle and the aluminum alloy plate is preferably from 1 to 100 mm, particularly preferably from 10 to 50 mm.

【0073】また、パウダー状のドライアイスを製造す
る方法は実開平7−38104号公報に記載されている
ような製造装置を用いることができる。噴射用の気体は
2ガス、または空気を用いることができる。パウダー
状ドライアイスの体積平均粒径は1〜1000μmが好
ましく、10〜100μmがより好ましい。噴射ノズル
一個あたりのCO2供給量(固体重量で)は0.1〜1
kg/minが好ましく、その供給圧力は1〜20MP
aが好ましい。アルミニウム合金板での洗浄圧力は1〜
20MPaが好ましい。
As a method for producing powdery dry ice, a production apparatus as described in Japanese Utility Model Application Laid-Open No. 7-38104 can be used. As the gas for injection, N 2 gas or air can be used. The volume average particle diameter of the powdery dry ice is preferably from 1 to 1000 μm, more preferably from 10 to 100 μm. CO 2 supply per injection nozzle (solid weight) is 0.1 ~ 1
kg / min is preferable and the supply pressure is 1 to 20MPa.
a is preferred. Cleaning pressure on aluminum alloy plate is 1 ~
20 MPa is preferred.

【0074】<陽極酸化処理工程>本発明の支持体の製
造方法においては、上記粗面化処理工程または上記第2
の処理工程の後、アルミニウム合金板表面の耐磨耗性を
高めるために陽極酸化処理を施すのが好ましい(陽極酸
化処理工程)。本発明でいう陽極酸化処理とは、アルミ
ニウム合金板を陽極として電解液中に浸漬し、電流を通
じてアルミニウム合金板の表面に陽極酸化被膜を形成す
る処理をいう。また、陽極酸処理工程を経たアルミニウ
ム合金板には、親水化処理工程による親水化処理や封孔
処理工程による封孔処理を適宜施してもよい。
<Anodic Oxidation Step> In the method for producing a support of the present invention, the surface roughening step or the second
After the treatment step, anodizing treatment is preferably performed to increase the wear resistance of the surface of the aluminum alloy plate (anodizing treatment step). The anodic oxidation treatment in the present invention refers to a process in which an aluminum alloy plate is immersed in an electrolytic solution as an anode, and an anodic oxide film is formed on the surface of the aluminum alloy plate by passing an electric current. The aluminum alloy plate that has undergone the anodic acid treatment step may be appropriately subjected to a hydrophilic treatment in the hydrophilic treatment step or a sealing treatment in the sealing treatment step.

【0075】アルミニウム合金板の陽極酸化処理に用い
られる電解液としては多孔質酸化被膜を生成するものな
らば、いかなるものでも使用することができる。一般に
は硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸、またはそれらの
混合液が用いられる。これらの電解液の濃度は電解液の
種類によって適宣決められる。上記陽極酸化処理の条件
は用いる電解液によって変わるので一概に特定し得ない
が、一般的には電解液の濃度が1〜80質量%、電解液
の液温が5〜70℃、電流密度が1〜60A/dm2
電圧が1〜100V、電解時間が10秒〜300秒の範
囲にあれば適当である。
As the electrolytic solution used for the anodic oxidation treatment of the aluminum alloy plate, any electrolytic solution capable of forming a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixture thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Since the conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolytic solution to be used, they cannot be specified unconditionally. 1 to 60 A / dm 2 ,
It is appropriate that the voltage is in the range of 1 to 100 V and the electrolysis time is in the range of 10 to 300 seconds.

【0076】電解液に硫酸水溶液を用いる硫酸法は、通
常直流電流を用いて行われるが、交流電流を用いてもよ
い。また、陽極酸化被膜の形成量としては、1〜10g
/m 2、特に1.1〜5g/m2の範囲が好ましい。上記
形成量が1g/m2未満であると耐刷性が不十分となっ
て、平版印刷版の非画像部にキズが付きやすくなり、キ
ズの部分にインキが付着する、いわゆるキズ汚れが生じ
やすくなる。また、陽極酸化被膜の形成量が10g/m
2を超えると、アルミニウムエッジ部分に陽極酸化被膜
が集中しやすくなる。アルミニウム合金板のエッジ部分
と中心部分との陽極酸化被膜量の差は、1g/m2以下
であることが好ましい。
The sulfuric acid method using an aqueous solution of sulfuric acid as the electrolytic solution is a common method.
This is performed using normal DC current, but AC current may be used.
No. The amount of the anodic oxide film formed is 1 to 10 g.
/ M TwoEspecially 1.1 to 5 g / mTwoIs preferable. the above
The amount formed is 1 g / mTwoIf less than this, the printing durability becomes insufficient
The lithographic printing plate is easily scratched on the non-image area,
So-called scratch stains, where ink adheres to scratched parts
It will be easier. In addition, the formation amount of the anodic oxide film is 10 g / m
TwoOver, the anodic oxide coating on the aluminum edge
Is easier to concentrate. Edge part of aluminum alloy plate
The difference in the amount of anodic oxide coating between the center and the central part is 1 g / mTwoLess than
It is preferred that

【0077】上記陽極酸化処理としては、電解液として
硫酸水溶液を用いるのが好ましく、特開昭54−128
453号公報および特開昭48−45303号各公報に
詳しく記載されている。上記硫酸水溶液は、硫酸濃度を
10〜300g/リットル、アルミニウムイオン濃度を
1〜25g/リットルの範囲内とするのが好ましく、5
0〜200g/リットルの硫酸水溶液中に硫酸アルミニ
ウムを添加してアルミニウムイオン濃度を2〜10g/
リットルとするのがより好ましい。液温は30〜60℃
が好ましい。また、直流電流を用いる直流法を用いる場
合、電流密度は1〜60A/dm2が好ましく、5〜4
0A/dm2がより好ましい。
In the above anodic oxidation treatment, it is preferable to use a sulfuric acid aqueous solution as an electrolytic solution.
No. 453 and JP-A-48-45303. The sulfuric acid aqueous solution preferably has a sulfuric acid concentration within a range of 10 to 300 g / l and an aluminum ion concentration within a range of 1 to 25 g / l.
Aluminum sulfate is added to an aqueous solution of sulfuric acid of 0 to 200 g / liter to adjust the aluminum ion concentration to 2 to 10 g / liter.
More preferably, it is liter. Liquid temperature is 30-60 ° C
Is preferred. When a direct current method using a direct current is used, the current density is preferably 1 to 60 A / dm 2 ,
0 A / dm 2 is more preferred.

【0078】連続的にアルミニウム合金板(アルミニウ
ムシート)に陽極酸化処理を施す場合には、アルミニウ
ム合金板の焼けと呼ばれる電流集中を防ぐため、最初は
5〜10A/dm2の低電流密度で陽極酸化処理を施
し、後半に行くに従って徐々に電流密度を上げて30〜
50A/dm2になるまで、または、それ以上となるよ
うに電流密度を設定することが好ましい。この際、電流
密度は5〜15ステップで徐々に上げることが好まし
い。また、各ステップごとには独立した電源装置を設
け、この電源装置の電流値で上記電流密度をコントロー
ルするのが好ましい。給電方法としてはコンダクタロー
ラを用いない液給電方式が好ましい。なお、一般に、陽
極には酸化イリジウムや鉛が用いることができ、陰極に
はアルミが用いられる。上記陽極酸化処理に用いられる
装置の一例としては、特願平11−178624号明細
書等に記載のものが挙げられる。
When anodizing treatment is continuously performed on an aluminum alloy plate (aluminum sheet), the anode is initially treated at a low current density of 5 to 10 A / dm 2 in order to prevent current concentration called burning of the aluminum alloy plate. Oxidation treatment, gradually increase the current density in the second half
It is preferable to set the current density until the current density reaches 50 A / dm 2 or more. At this time, it is preferable that the current density is gradually increased in 5 to 15 steps. It is preferable that an independent power supply is provided for each step, and the current density is controlled by the current value of the power supply. As a power supply method, a liquid power supply method using no conductor roller is preferable. In general, iridium oxide or lead can be used for the anode, and aluminum is used for the cathode. An example of an apparatus used for the anodizing treatment is described in Japanese Patent Application No. 11-178624.

【0079】上記硫酸水溶液中にはアルミニウム合金板
に含まれる微量成分元素が溶解していてもよい。また、
陽極酸化処理中の硫酸水溶液にはアルミが溶出するた
め、その工程の管理のためには硫酸濃度とアルミニウム
イオン濃度を管理する必要がある。アルミニウムイオン
濃度を低く設定すると陽極酸化を行う硫酸水溶液の更新
を頻繁におこなわなければならず、廃液量が増えて経済
的でないばかりでなく環境面でも問題がある。これに対
し、アルミニウムイオン濃度を高く設定すると電解電圧
が高くなり電カコストがかさみ経済的でない。好ましい
陽極酸化の硫酸濃度、アルミニウムイオン濃度、および
液温の組合せとしては、(i)硫酸濃度が100〜20
0g/リットル、より好ましくは、130〜180g/
リットル、アルミニウムイオン濃度が2〜10g/リッ
トル、より好ましくは3〜7g/リットル、液温が30
〜40℃、より好ましくは33〜38℃、(ii)硫酸
濃度が50〜125g/リットル、より好ましくは80
〜120g/リットル、アルミニウムイオン濃度が2〜
10g/リットル、より好ましくは3〜7g/リット
ル、液温が40〜70℃、より好ましくは50〜60℃
である。
A trace component element contained in the aluminum alloy plate may be dissolved in the sulfuric acid aqueous solution. Also,
Since aluminum is eluted in the sulfuric acid aqueous solution during the anodizing treatment, it is necessary to control the sulfuric acid concentration and the aluminum ion concentration in order to control the process. If the aluminum ion concentration is set low, the aqueous sulfuric acid solution for anodic oxidation must be renewed frequently, and the amount of waste liquid increases, which is not economical and has environmental problems. On the other hand, when the aluminum ion concentration is set to be high, the electrolysis voltage is increased, the electric power cost is increased, and it is not economical. Preferred combinations of the sulfuric acid concentration, aluminum ion concentration, and liquid temperature for the anodic oxidation include (i) a sulfuric acid concentration of 100 to 20.
0 g / liter, more preferably 130-180 g /
Liter, aluminum ion concentration of 2 to 10 g / liter, more preferably 3 to 7 g / liter, and liquid temperature of 30
-40 ° C, more preferably 33-38 ° C, (ii) sulfuric acid concentration of 50-125 g / liter, more preferably 80
~ 120 g / l, aluminum ion concentration is 2 ~
10 g / liter, more preferably 3 to 7 g / liter, liquid temperature of 40 to 70 ° C, more preferably 50 to 60 ° C
It is.

【0080】陽極酸化処理でのアルミニウム合金板電へ
の給電方式は、コンダクタロールを用いて直接アルミニ
ウム合金板に給電する直接給電方式と、電解液を通じて
アルミニウム合金板に給電する液給電方式がある。直接
給電方式はライン速度30m/min以下の比較的低速
・低電流密度の陽極酸化装置で、間接給電方式はライン
速度30m/minを超える高速・高電流密度の陽極酸
化装置で用いられることが多い。
There are two types of power supply to the aluminum alloy plate in the anodic oxidation treatment: a direct power supply system in which power is directly supplied to the aluminum alloy plate using a conductor roll, and a liquid power supply system in which power is supplied to the aluminum alloy plate through an electrolytic solution. The direct power supply method is often used in an anodizing apparatus having a relatively low speed and low current density of 30 m / min or less in line speed, and the indirect power supply method is often used in an anodizing apparatus having a high speed and high current density exceeding 30 m / min in line speed. .

【0081】間接給電方式は、連続表面処理技術(総合
技術センター、昭和61年9月30日発行)の289頁
にあるように、山越型またはストレート型の槽レイアウ
トを用いることができる。高速・高電流密度になるとコ
ンダクタロールとアルミニウムウェブ間のスパーク発生
の問題が発生するため、直接給電ロール方式は不利であ
る。コンダクターロールのスパークやアルミニウム合金
板の発熱防止のため、コンダクターロールやアルミニウ
ム合金板が空気中を通過する部分には、陽極酸化処理に
用いる電解液と同じ組成と、同じ温度の電解液がスプレ
ーによって吹き付けられることが好ましい。コンダクタ
ーロールは、アルミニウム合金板の上面でも下面でもよ
い。
As for the indirect power supply method, a Yamagoshi type or straight type tank layout can be used as shown on page 289 of the continuous surface treatment technology (General Technology Center, published on September 30, 1986). At high speeds and high current densities, there is a problem of spark generation between the conductor roll and the aluminum web, so the direct feed roll method is disadvantageous. To prevent sparking of the conductor roll and heat generation of the aluminum alloy plate, a spray of the same composition and the same temperature as the electrolyte used for the anodic oxidation treatment is applied to the part where the conductor roll and the aluminum alloy plate pass through the air by spraying. Preferably, it is sprayed. The conductor roll may be on the upper surface or the lower surface of the aluminum alloy plate.

【0082】陽極酸化処理槽は2槽以上に分離して、そ
れぞれの電解槽の直接給電方式を用いる場合は、コンダ
クタロールはアルミニウム製を用いるのが一般的であ
る。ロールの寿命を長くするために、特公昭61−50
138に記載のような、工業用純アルミニウムを用いて
鋳造したのち、高温均質化処理を施してAl−Fe系晶
出物をAl3Feの単一層として耐食性を向上させたも
のを用いることが特に好ましい。
When the anodizing tank is separated into two or more tanks and the direct power supply system for each electrolytic tank is used, the conductor roll is generally made of aluminum. In order to extend the life of the roll,
138 as described in, after casting with industrial pure aluminum, the use of which the Al-Fe-based crystallized products subjected to high temperature homogenization treatment improved the corrosion resistance as a single layer of Al 3 Fe Particularly preferred.

【0083】陽極酸化処理工程においては大電流を流す
ため、ブスバーに流れる電流により発生する磁界によ
り、アルミニウム合金板にローレンツ力が働く。その結
果ウェブが蛇行する問題が生じるため、特開昭57−5
1290号公報に記載のような方法を用いることが特に
好ましい。
In the anodic oxidation step, a large current flows, and a Lorentz force acts on the aluminum alloy plate by a magnetic field generated by the current flowing through the bus bar. As a result, a problem of meandering of the web occurs.
It is particularly preferable to use a method as described in 1290.

【0084】また、アルミニウム合金板には大電流が流
れるため、アルミニウム合金板自身を流れる電流による
磁界により、アルミニウム合金板の幅方向において中央
に向かってローレンツ力が働く。その結果アルミニウム
合金板に折れが発生しやすくなるため、陽極酸化処理槽
内に直径100〜200mmのパスローラーを100〜
3000mmピッチで複数設け、1〜15°の角度でラ
ップさせてローレンツ力による折れを防止する方法をと
ることが特に好ましい。
Since a large current flows through the aluminum alloy plate, a Lorentz force acts toward the center in the width direction of the aluminum alloy plate due to a magnetic field caused by the current flowing through the aluminum alloy plate itself. As a result, the aluminum alloy plate is liable to be broken. Therefore, a pass roller having a diameter of 100 to 200 mm is placed in the anodizing tank.
It is particularly preferable to adopt a method in which a plurality of fins are provided at a pitch of 3000 mm and wrapped at an angle of 1 to 15 ° to prevent breakage due to Lorentz force.

【0085】また、陽極酸化被膜はアルミニウム合金板
の幅方向で形成量が異なり、エッジに近づくほど生成量
が多くなり厚さが厚くなる。その結果巻き取り装置にて
アルミニウム合金板をうまく巻きとれな問題が生じる。
これを解決するには、特公昭62−30275号公報ま
たは特公昭55−21840号公報に記載の方法で液流
を撹拌することにより解決できる。その方法においても
不十分な場合は、アルミニウム合金板の巻き取り装置を
0.1〜10Hzの周期で5〜50mmの振幅でアルミ
ニウム合金板の幅方向にオシレートさせて巻き取る方法
を併用して用いることが特に好ましい。
Further, the formation amount of the anodic oxide film differs in the width direction of the aluminum alloy plate. As a result, there arises a problem that the aluminum alloy plate cannot be successfully wound by the winding device.
This can be solved by stirring the liquid stream by the method described in JP-B-62-30275 or JP-B-55-21840. If that method is not sufficient, a method of winding the aluminum alloy sheet by oscillating in the width direction of the aluminum alloy sheet with an amplitude of 5 to 50 mm at a cycle of 0.1 to 10 Hz is used in combination. Is particularly preferred.

【0086】また、平版印刷板用アルミニウム支持体に
は片面のみを粗面化処理し下塗り層を形成し、感光層・
マット層を塗布した製品(平版印刷版原版)と、両面を
粗面化処理した後に両面に逐次下塗り層・感光層・マッ
ト層を塗布した製品(平版印刷版原版)がある。
On the aluminum support for a lithographic printing plate, only one surface is subjected to a roughening treatment to form an undercoat layer.
There is a product coated with a mat layer (lithographic printing plate precursor), and a product coated with a primer layer, a photosensitive layer and a mat layer on both sides successively after roughening the both surfaces (lithographic printing plate precursor).

【0087】このとき陽極酸化処理槽を有効に使うには
陽極酸化処理を片面のみに行うケースと両面を同時に行
うケースが生ずる。この場合、陽極酸化処理槽において
アルミニウム合金板に対抗する電極はコの字型を用いて
その間をアルミニウムウェブが通過するようにするのが
好ましい。このとき片面のみを製品とするウェブが流れ
たときはその非製品側には陽極酸化被膜はキズ防止のた
めに0.1〜1g/m 2形成されていればよく、それ以
上の陽極酸化被膜は不要である。エネルギーの有効利用
のためにこの問題を解決する方法として特公昭63−5
8233号公報に記載の、一面のみを電解する際に該帯
状金属板と他面側電極との間に電気絶縁材料を配置し、
該帯状金属板の両面を電解処理する際には該電気絶縁材
料を前期の配置場所から移動させて該帯状金属表面の両
側に電流が流れるようにすることがとくに好ましい。
At this time, in order to use the anodizing tank effectively
Case where anodizing treatment is performed on only one side and both sides are performed simultaneously
Case occurs. In this case, in the anodizing tank
Use a U-shape for the electrode facing the aluminum alloy plate
So that the aluminum web passes through
preferable. At this time, the web with only one side as a product flows
The anodic oxide coating on the non-product side to prevent scratches.
0.1-1 g / m TwoIt only needs to be formed,
No upper anodic oxide coating is required. Effective use of energy
As a method to solve this problem,
No. 8233, when performing electrolysis on only one surface,
Place an electrical insulating material between the metal plate and the other side electrode,
When electrolytically treating both surfaces of the strip-shaped metal plate, the electric insulating material is used.
The material is moved from the previous location to
It is particularly preferred that the current flow to the side.

【0088】また、片面のみを製品とする直流電流を用
いた陽極酸化処理槽においては、対向する陰極をアルミ
ニウムウェブ(アルミニウム合金板)の上面に配置し、
アルミニウムウェブの下側にはアルミニウムウェブと5
〜20mmの間隔で塩ビ製の絶縁板を配置することが特
に好ましい。
Further, in an anodizing treatment tank using a direct current in which only one side is a product, the opposing cathode is arranged on the upper surface of an aluminum web (aluminum alloy plate).
Aluminum web and 5 below the aluminum web
It is particularly preferable to arrange PVC insulating plates at intervals of up to 20 mm.

【0089】陽極酸化処理したアルミニウム合金板は特
公昭56−12518号公報に記載のように陽極酸化被
膜を生成した後に該酸化被膜をエッチングし、その後、
水蒸気または熱水、または、有機溶媒、アミン化合物、
有機酸、燐酸の酸素酸塩、硼酸のうち選ばれた少なくと
も1種類の化合物を含む熱水溶液で処理することにより
更に優れた平版印刷板用アルミニウム支持体とすること
ができる。もちろん前記陽極酸化処理後のエッチング処
理は必須ではない。
As described in JP-B-56-12518, an anodized aluminum alloy plate is formed by forming an anodized film and then etching the oxide film.
Steam or hot water, or an organic solvent, an amine compound,
A more excellent aluminum support for a lithographic printing plate can be obtained by treating with a hot aqueous solution containing at least one compound selected from organic acids, oxyacid salts of phosphoric acid, and boric acid. Of course, the etching treatment after the anodic oxidation treatment is not essential.

【0090】電解粗面化処理、機械的祖面化処理、デス
マット処理、化学的なエッチング処理(アルカリエッチ
ング処理)、陽極酸化処理、親水化処理等に用いる薬液
は可能な限りリサイクルすることが好ましい。アルミニ
ウムイオンが溶けた苛性ソーダ水溶液では晶析法による
アルミニウムと苛性ソーダの分離を行うことができる。
アルミニウムイオンが溶けた硫酸水溶液または硝酸水溶
液または塩酸水溶液では電気透析法やイオン交換樹脂に
よる硫酸または硝酸の回収を行うことができる。
It is preferable that chemicals used for electrolytic surface roughening treatment, mechanical roughening treatment, desmutting treatment, chemical etching treatment (alkali etching treatment), anodic oxidation treatment, hydrophilic treatment, etc. are recycled as much as possible. . In an aqueous caustic soda solution in which aluminum ions are dissolved, aluminum and caustic soda can be separated by crystallization.
With an aqueous sulfuric acid solution, nitric acid solution or aqueous hydrochloric acid solution in which aluminum ions are dissolved, electrodialysis or recovery of sulfuric acid or nitric acid using an ion exchange resin can be performed.

【0091】アルミニウムイオンが溶けた塩酸水溶液で
は特開2000−282272号公報に記載されている
ような蒸発による回収を行うこともできる。
The hydrochloric acid aqueous solution in which aluminum ions are dissolved can be recovered by evaporation as described in JP-A-2000-282272.

【0092】本発明で粗面化されたアルミニウム合金板
の表面の特性値は、接触式表面粗さ計にて測定した次の
ファクターを下記範囲にすることが好ましい。ファクタ
ーとしては、平均表面粗さ(Ra);断面曲線から基準
長さだけ抜き取った部分において、平均線に平行、かつ
断面曲線を横切らない直線から縦倍率方向に最高5番目
までの山の高さの平均値と最深から5番目までの谷の深
さの平均値との和の値をμm単位で表わした10点平均
粗さ(Rz);断面曲線から基準長さだけ抜き取った部
分の最大の山と最深の谷を平行線に平行な2直線で挟
み、その間隔をμm単位で測った最大高さ(Rma
x);断面曲線の測定長さ間における最大の山と平均線
までの距離を表わす平均深さ(Rp);粗さ計でろ波う
ねり曲線をとり、測定長の長さだけ切り取った部分の平
均線を横切って、山から谷へ向かう点から次の山から谷
へ向かう横断点までの間隔の平均値であるろ波うねり平
均山間隔(Sm);等(以上、JIS0601−198
2)がある。好ましいこれらの範囲は、Raが0.3〜
0.6μm、Rzが2〜5μm、Rmaxが2〜5μ
m、Rpが0.5〜1.5μm、Smが20〜70μm
である。またRaの3倍のカッティング深さCvにおけ
るアッボット曲線による非空隙率(%)が15〜35で
あることが好ましい。さらに、特開昭62−15035
3号公報に開示されているRaの3倍の切断深さにおけ
るベアリング当たり面積(tpmi)は、10〜50%
の粗面が好ましい。また、マクベス濃度計で測定された
白色度は陽極酸化処理後に、0.15〜0.45の範囲
であること好ましい。
It is preferable that the surface characteristic value of the aluminum alloy sheet roughened in the present invention be within the following range, as measured by a contact type surface roughness meter. As a factor, the average surface roughness (Ra): the height of the peak from the straight line parallel to the average line and not crossing the cross-sectional curve to the maximum of the fifth in the longitudinal magnification direction in the portion extracted by the reference length from the cross-sectional curve 10-point average roughness (Rz), which is the sum of the average value of and the average value of the depths of the valleys from the deepest to the fifth, expressed in μm units; The maximum height (Rma) in which the peak and the deepest valley are sandwiched by two straight lines parallel to the parallel line, and the interval is measured in μm units
x): average depth (Rp) representing the distance between the maximum peak and the average line between the measured lengths of the cross-sectional curve; average of the portion obtained by taking a filtered undulation curve with a roughness meter and cutting out by the length of the measured length Across the line, the average value of the interval between the point going from the peak to the valley and the crossing point going from the next peak to the valley is the average value of the undulation average peak interval (Sm);
There is 2). A preferable range of these is that Ra is 0.3 to
0.6 μm, Rz 2-5 μm, Rmax 2-5 μm
m, Rp is 0.5 to 1.5 μm, Sm is 20 to 70 μm
It is. The non-porosity (%) according to the Abbot curve at a cutting depth Cv three times Ra is preferably 15 to 35. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-15035
No. 3, the area per bearing (tpmi) at a cutting depth three times Ra is 10 to 50%.
Is preferred. Further, the whiteness measured by a Macbeth densitometer is preferably in the range of 0.15 to 0.45 after the anodizing treatment.

【0093】表面にメッキ処理またはライニング処理さ
れた公知の鉄鋼、メッキ、電解コンデンサ、平版印刷版
等の連続生産ラインに用いる金属ロール、樹脂ロール、
ゴムロール、不織布ロールから選定して用いることがで
きる。
[0093] Well-known steel or the like whose surface is plated or lined, metal rolls, resin rolls used in continuous production lines of plating, electrolytic capacitors, lithographic printing plates, etc.
It can be used by selecting from a rubber roll and a nonwoven fabric roll.

【0094】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法を
実施する装置に使用するロール(パスロール等)の材
質、表面の物性値は薬液やそのときのアルミニウム表面
の状態に応じて耐食性、耐摩耗性、耐熱性、耐薬品性等
を考慮して選定する。金属ロールではハードクロムメッ
キロールが一般的に用いられる。ゴムロールでは天然ゴ
ム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジ
エンゴム、ブチルゴム、クロロプレンゴム、クロロスル
フォン化ポリエチレン、ニトリルゴム、アクリルゴム、
エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、
フッ素ゴム等はもちろんそれらに微量の添加物を添加し
たものを用いることができる。ゴムロールの硬度は60
〜90が好ましい。
The material of the rolls (pass rolls and the like) used in the apparatus for carrying out the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention and the physical properties of the surfaces are determined by the corrosion resistance and the resistance to the chemicals and the state of the aluminum surface at that time. Select in consideration of wear resistance, heat resistance, chemical resistance, etc. Hard chrome plating rolls are generally used as metal rolls. Rubber rolls include natural rubber, isoprene rubber, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, chlorosulfonated polyethylene, nitrile rubber, acrylic rubber,
Epichlorohydrin rubber, urethane rubber, polysulfide rubber,
As a matter of course, fluororubbers and the like to which a small amount of additives are added can be used. Rubber roll hardness is 60
~ 90 is preferred.

【0095】また、平版印刷板用支持体の粗面化処理工
程、後述する感光層の塗布工程、乾燥工程等の製造工程
においてはシリコンを含む材料を装置として用いたり、
潤滑油として用いたり、着衣・計量器具等を含む作業用
用品に用いないことが特に好ましい。これらの成分がア
ルミニウム合金板表面に付着していると、塗布工程で直
径0.1〜5mmのスポット状の塗布されない部分が発
生して得率を極端に減少させる。また、化粧品や整髪料
や印刷物もシリコンを用いてないことが特に好ましい。
In the roughening process of the lithographic printing plate support, the coating process of the photosensitive layer described later, and the manufacturing process such as the drying process, a material containing silicon is used as an apparatus.
It is particularly preferable not to use it as a lubricating oil or to use it in work articles including clothes and measuring instruments. If these components adhere to the surface of the aluminum alloy plate, spots having a diameter of 0.1 to 5 mm that are not applied are generated in the application step, and the yield is extremely reduced. It is particularly preferable that cosmetics, hairdressings and printed materials do not use silicon.

【0096】(親水化処理工程)アルミニウム合金板
は、陽極酸化処理工程によって陽極酸化処理を施した後
に、必要に応じて親水化処理工程において該アルミニウ
ム合金板表面に親水化処理を施すのが好ましい。親水化
処理としては、米国特許第2714066号明細書、同
第3181461号明細書、同第3280734号明細
書および同第3902734号明細書に開示されている
アルカリ金属シリケート(例えば珪酸ナトリウム水溶
液)法を用いるのが好ましい。この方法においては、支
持体が珪酸ナトリウム水溶液に浸漬されるか、または該
水溶液中で電解処理される。他の好ましい方法としては
特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化
ジルコン酸カリウムおよび米国特許第3276868号
明細書、同第4153461号明細書および同第468
9272号明細書に開示されているポリビニルホスホン
酸で処理する方法等が用いられる。これらの中でも、珪
酸ナトリウムおよびポリビニルホスホン酸水溶液を用い
て親水化処理を施すのが好ましい。
(Hydrophilic treatment step) The aluminum alloy plate is preferably subjected to anodizing treatment in the anodizing treatment step, and then, if necessary, to the surface of the aluminum alloy plate in the hydrophilizing treatment step. . As the hydrophilic treatment, the alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734 is used. It is preferably used. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or subjected to electrolytic treatment in the aqueous solution. Other preferable methods include potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 468.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid disclosed in No. 9272 is used. Among these, it is preferable to perform the hydrophilization treatment using an aqueous solution of sodium silicate and polyvinyl phosphonic acid.

【0097】(封孔処理工程)本発明において、上記陽
極酸化処理工程によって陽極酸化処理を施した後に、陽
極酸化被膜に生成するマイクロポアと称される穴を塞ぐ
ために封孔処理を施すのが好ましい。かかる封孔処理
は、熱水および無機塩または有機塩を含む熱水溶液への
浸漬並びに水蒸気浴等によって行われる。また、封孔処
理工程の後に上述の親水化処理を施すのが好ましい。上
記無機塩としては、ケイ酸塩、ホウ酸塩、リン酸塩、硝
酸塩等が挙げられ、上記有機塩としては、カルボン酸塩
等が挙げられる。
(Sealing Treatment Step) In the present invention, after the anodic oxidation treatment is performed in the anodic oxidation treatment step, the sealing treatment is performed to close a hole called a micropore formed in the anodic oxide film. preferable. Such a sealing treatment is performed by immersion in hot water and a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath or the like. Further, it is preferable to perform the above-mentioned hydrophilic treatment after the sealing treatment step. Examples of the inorganic salts include silicates, borates, phosphates, and nitrates, and examples of the organic salts include carboxylate.

【0098】<本発明の製造方法に供し得る製造装置>
以下、本発明の平板印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法に供し得る製造装置について説明する。本発明の支
持体の製造過程としては、(1)圧延され、コイル状に
巻き取られアルミニウム合金板を、多軸ターレットから
なる送り出し装置から送り出し、(2)上記各処理(機
械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸性エッチ
ング処理、デスマット処理、電気化学的な粗面化処理、
陽極酸化処理、封孔処理、および親水化処理)の後、ア
ルミニウム合金板を乾燥処理し、(3)アルミニウム合
金板を上記多軸ターレットからなる巻き取り装置にてコ
イル状に巻き取ること、または、アルミニウム合金板の
平面性を矯正し、その後に所定の長さにカットして集積
することが好ましい。また、必要に応じ、上記過程にお
いて(下塗層・感光層・マット層)を形成して乾燥処理
する工程を設け、平版印刷版用原版としてから上記巻取
り装置にてコイル状に巻き取ってもよい。
<Production Apparatus That Can Be Used in the Production Method of the Present Invention>
Hereinafter, a manufacturing apparatus that can be used in the method for manufacturing an aluminum support for a lithographic printing plate of the present invention will be described. As the production process of the support of the present invention, (1) the rolled and coiled aluminum alloy plate is sent out from a feeder composed of a multi-axial turret, and (2) the above-mentioned processes (mechanical roughening) Treatment, alkali etching treatment, acid etching treatment, desmut treatment, electrochemical surface roughening treatment,
After the anodizing treatment, the sealing treatment, and the hydrophilic treatment), the aluminum alloy plate is dried, and (3) the aluminum alloy plate is wound into a coil by a winding device including the multiaxial turret, or Preferably, the flatness of the aluminum alloy plate is corrected, and thereafter, the aluminum alloy plate is cut into a predetermined length and integrated. Also, if necessary, a step of forming (undercoat layer, photosensitive layer, mat layer) in the above process and performing a drying treatment is provided, and the lithographic printing plate precursor is wound into a coil by the winding device. Is also good.

【0099】また、本発明の製造方法は、アルミニウム
合金板の表面の欠陥を検査する装置を用いて、該欠陥を
連続的に検査し、発見した欠陥部のエッジ部分に目印の
ラベルを貼る工程を、1工程以上有することすることが
好ましい。さらに、本発明の製造方法は、アルミニウム
合金板の送り出し工程、および巻き取り工程において、
アルミコイルの交換の際に、該アルミニウム合金板の走
行を停止しても、上記各工程におけるアルミニウム合金
板の走行速度を一定に保つようなリザーバー装置を設け
ることが好ましく、上記アルミコイルの送り出し工程の
後には、アルミニウム合金板を超音波またはアーク溶接
にて接合する工程を設けることが好ましい。
Further, in the manufacturing method of the present invention, the defect is continuously inspected by using an apparatus for inspecting a defect on the surface of the aluminum alloy plate, and a label of a mark is attached to an edge portion of the found defect. Is preferably provided in one or more steps. Furthermore, in the production method of the present invention, in the feeding step of the aluminum alloy plate, and the winding step,
When replacing the aluminum coil, it is preferable to provide a reservoir device that keeps the traveling speed of the aluminum alloy plate constant in each of the above steps even if the traveling of the aluminum alloy plate is stopped. After the step (b), it is preferable to provide a step of joining the aluminum alloy plate by ultrasonic or arc welding.

【0100】本発明の製造方法で用いる製造装置には、
アルミニウム合金板の走行位置を検出し、走行位置を矯
正する装置を1個以上有することが好ましい。また、上
記製造装置には、アルミニウム合金板の張力カットおよ
び走行速度制御を目的とした駆動装置と、張力制御を目
的としたダンサロール装置とを1個以上有することが好
ましい。また、トラッキング装置にて各工程の状態が所
望の条件か否かを記録し、アルミニウムコイルが巻き取
られる前に、アルミニウムウェブのエッジ部にラベルを
貼り、そのラベルよりも後が所望の条件か否かをのちに
判別できるようにすることも好ましい。
The manufacturing apparatus used in the manufacturing method of the present invention includes:
It is preferable to have one or more devices for detecting the traveling position of the aluminum alloy plate and correcting the traveling position. Further, it is preferable that the manufacturing apparatus has one or more driving devices for controlling the tension of the aluminum alloy plate and controlling the traveling speed, and one or more dancer roll devices for controlling the tension. Also, the tracking device records whether or not the state of each process is a desired condition, and before the aluminum coil is wound, a label is attached to the edge of the aluminum web, and the condition after the label is the desired condition. It is also preferable that the determination can be made later.

【0101】上記アルミニウム合金板は、合紙とともに
帯電させて互いに吸着させ、その後所定の長さにカッ
ト、および/または、スリットすることが好ましい。ま
た、アルミニウム合金板のエッジ部分に貼られたラベル
の情報をもとに、所定の長さに裁断した後または、裁断
する前に、そのラベルを目印として良品部分と欠陥部分
とを分別し、良品部分のみを集積することが好ましい。
It is preferable that the aluminum alloy plates are charged together with the interleaving paper and adsorbed to each other, and then cut and / or slit to a predetermined length. Also, based on the information on the label affixed to the edge portion of the aluminum alloy plate, after cutting to a predetermined length or before cutting, to separate the non-defective part and the defective part using the label as a mark, It is preferable to accumulate only non-defective parts.

【0102】上記送り出し工程等を含む各工程では、ア
ルミニウム合金板のサイズ(厚さ、巾)、アルミニウム
材質、またはアルミニウムウェブの走行速度によって、
それぞれの条件で最適な張力を設定することが重要であ
る。そこで、張力カットと走行速度制御を目的とした駆
動装置と、張力制御を目的としたダンサ−ロールとを利
用し、張力感知装置からの信号をフィードバック制御す
る張力制御装置を複数設けることが好ましい。駆動装置
は、直流モーターと主駆動ローラを組み合わせた制御方
法を用いるのが一般的である。主駆動ローラは一般的な
ゴムを材質とするが、アルミニウムウェブがwetな状
態にある工程では不織布を積層して作製されたローラを
用いることができる。また、各パスローラはゴムまたは
金属が一般的に用いられるが、アルミニウムウェブとス
リップを起こしやすい箇所ではこのスリップを防止する
ために、各パスローラにモーターや減速機を接続し、主
駆動装置からの信号によって一定速度で回転制御する等
補助的な駆動装置を設けることもできる。
In each step including the above-mentioned feeding step and the like, the size (thickness and width) of the aluminum alloy plate, the aluminum material, or the traveling speed of the aluminum web depends on
It is important to set the optimal tension under each condition. Therefore, it is preferable to provide a plurality of tension control devices that feedback-control a signal from a tension sensing device by using a driving device for the purpose of tension reduction and traveling speed control and a dancer roll for the purpose of tension control. The driving device generally uses a control method combining a DC motor and a main driving roller. The main drive roller is made of a general rubber material, but in the step where the aluminum web is in a wet state, a roller made by laminating a nonwoven fabric can be used. In general, rubber or metal is used for each pass roller, but in places where slippage easily occurs with the aluminum web, in order to prevent this slip, a motor or reduction gear is connected to each pass roller, and the signal from the main drive unit is used. It is also possible to provide an auxiliary driving device such as controlling the rotation at a constant speed.

【0103】平版印刷版用支持体は、特開平10−11
4046号公報に記載されているように、算術平均表面
粗さ(Ra)としての圧延方向の平均表面粗さ(R1
と圧延方向と垂直な方向の平均表面粗さ(R2)との差
(R1−R2)が、上記圧延方向の平均表面粗さ(R1
の30%以内で、さらに圧延方向の平均曲率が1.5×
10-3mm-1以内であり、かつ幅方向の曲率分布が1.
5×10-3mm-1以内、圧延方向と垂直な方向の曲率が
1.0×10-3mm-1以内であることが好ましい。ま
た、上記粗面化処理等を施して製造された平版印刷版用
支持体は、ロール直径20mm〜80mm、ゴム硬度5
0〜95度の矯正ロールを用いて矯正することが好まし
い。、これにより、平版感光印刷機の自動搬送工程にお
いても、平版印刷版原版の露光ズレが起きないフラット
ネスのアルミニウムコイル状素板を供給することが出来
る。特開平9−194093号公報には、ウェブのカー
ル測定方法および装置、カール修正方法および装置、並
びにウエブ切断装置が記載されている。
The support for a lithographic printing plate is described in JP-A-10-11 / 1999.
As described in Japanese Patent No. 4046, average surface roughness (R 1 ) in the rolling direction as arithmetic average surface roughness (Ra)
(R 1 −R 2 ) between the average surface roughness (R 2 ) in the direction perpendicular to the rolling direction is the average surface roughness (R 1 ) in the rolling direction.
, And the average curvature in the rolling direction is 1.5 ×
It is within 10 −3 mm −1 and the curvature distribution in the width direction is 1.
It is preferable that the curvature in the direction perpendicular to the rolling direction is 5 × 10 −3 mm −1 or less and 1.0 × 10 −3 mm −1 or less. The lithographic printing plate support manufactured by performing the above-mentioned surface roughening treatment has a roll diameter of 20 mm to 80 mm and a rubber hardness of 5 mm.
It is preferable to perform correction using a correction roll of 0 to 95 degrees. Thereby, even in the automatic transporting step of the lithographic printing press, it is possible to supply an aluminum coil-shaped plate having a flatness which does not cause exposure deviation of the lithographic printing plate precursor. JP-A-9-194093 describes a web curl measuring method and apparatus, a curl correcting method and apparatus, and a web cutting apparatus.

【0104】また、連続的に平版印刷版用支持体を製造
するにあたり、各工程が適切な条件で稼働しているかを
電気的に監視し、トラッキング装置にて各工程の状態が
所望の条件か否かを記録し、アルミニウムコイルが巻き
取られる前に、アルミニウムウェブのエッジ部にラベル
を貼り、そのラベルよりも後が所望の条件か否かを、後
から判別できるようにすることで、裁断時、集積時にそ
の部分の良否を判定することができる。
In the continuous production of a lithographic printing plate support, it is electrically monitored whether each process is operating under appropriate conditions, and a tracking device is used to check whether the state of each process is the desired condition. Before and after the aluminum coil is wound, a label is attached to the edge of the aluminum web, and it is possible to determine whether the condition after the label is the desired condition. At the time, the quality of the part can be determined at the time of integration.

【0105】上述の粗面化処理工程で用いるアルミニウ
ム合金板の処理装置には、液の温度、比重、電導度、超
音波の伝搬速度のうち、ひとつ以上を測定し、液の組成
を求め、フィードバック制御、および/または、フィー
ドフォワード制御して液濃度を一定にコントロールする
ことが好ましい。上記処理装置中の酸性溶液にはアルミ
ニウムイオンを初めとするアルミニウム合金板中に含ま
れる成分がアルミニウム合金板の表面処理の進行に伴っ
て溶解する。そこで、アルミニウムイオン濃度と酸また
はアルカリの濃度を一定にするために、水と酸、また
は、水とアルカリを間欠的に添加して液組成を一定に保
つのが好ましい。ここで添加する酸またはアルカリの濃
度は10〜98質量%が好ましい。
In the apparatus for treating an aluminum alloy plate used in the above-described surface roughening treatment step, at least one of the temperature, specific gravity, electric conductivity, and ultrasonic wave propagation velocity of the liquid is measured to determine the composition of the liquid. It is preferable that the liquid concentration is controlled to be constant by feedback control and / or feedforward control. In the acidic solution in the processing apparatus, components contained in the aluminum alloy plate including aluminum ions are dissolved as the surface treatment of the aluminum alloy plate proceeds. Therefore, in order to keep the aluminum ion concentration and the acid or alkali concentration constant, it is preferable to keep the liquid composition constant by intermittently adding water and acid or water and alkali. The concentration of the acid or alkali added here is preferably from 10 to 98% by mass.

【0106】上記酸またはアルカリの濃度を制御するに
は、例えば以下の方法が好ましい。まず、予め使用が予
定されている濃度範囲の成分液毎の導電率、比重または
超音波の伝搬速度を各温度毎に測定してデータテーブル
を作成する。そして、被測定液の導電率、比重または超
音波の伝搬速度と温度データを予め作成した非測定液の
データテーブルを参照して濃度を測定する。上記超音波
の伝搬時間を高精度・高安定に測定する方法は特開平6
−235721号公報に開示されている。また、上記超
音波の伝搬速度を利用した濃度測定システムについては
特開昭58−77656号公報に開示されている。ま
た、複数の物理量データを液成分毎に相関を示すデータ
テーブルを作成しておき、そのデータテーブルを参照し
て多成分液の濃度を測定する方法は特開平4−1955
9号公報に開示されている。
In order to control the concentration of the acid or alkali, for example, the following method is preferable. First, the conductivity, specific gravity, or ultrasonic wave propagation speed of each component liquid in the concentration range that is to be used in advance is measured for each temperature to create a data table. Then, the concentration is measured by referring to the data table of the non-measurement liquid in which the conductivity, the specific gravity or the propagation speed of the ultrasonic wave and the temperature data of the liquid to be measured are prepared in advance. A method for measuring the propagation time of ultrasonic waves with high accuracy and high stability is disclosed in
-235721. A concentration measuring system utilizing the propagation speed of the ultrasonic wave is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-77665. Further, a method of preparing a data table showing a correlation between a plurality of physical quantity data for each liquid component and measuring the concentration of the multi-component liquid with reference to the data table is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 1955/1992.
No. 9 discloses this.

【0107】上記超音波の伝搬速度を用いた濃度測定方
法を被測定液の導電率と温度の値と組み合わせて、平版
印刷版用支持体の粗面化工程に応用すると、プロセスの
管理がリアルタイムで正確におこなえるため、一定品質
の製品が製造できるようになり、得率の向上につなが
る。また、温度と超音波の伝搬速度と導電率との組み合
わせだけでなく、温度と比重、温度と導電率、温度と導
電率と比重と等、それぞれの物理量で濃度および温度毎
にデータテーブルを作成しておき、そのデータテーブル
を参照して多成分液の濃度測定する方法を平版印刷版用
支持体の粗面化処理工程に応用すると、前記と同様な効
果が得られる。また、比重と温度とを測定し、予め作成
しておいたデータテーブルを参照して被測定物のスラリ
ー濃度を求めることによって、スラリー濃度の測定も迅
速かつ正確におこなえるようになる。
When the above-described concentration measurement method using the ultrasonic wave propagation velocity is applied to the surface roughening step of the lithographic printing plate support by combining the conductivity and temperature values of the liquid to be measured, the process management is performed in real time. In this case, it is possible to manufacture products of a certain quality, which leads to an improvement in the yield. In addition to the combination of temperature and ultrasonic wave propagation speed and conductivity, data tables are created for each concentration and temperature with physical quantities such as temperature and specific gravity, temperature and conductivity, temperature and conductivity and specific gravity, etc. If the method of measuring the concentration of the multi-component liquid with reference to the data table is applied to the step of roughening the surface of the lithographic printing plate support, the same effect as described above can be obtained. Further, the specific gravity and the temperature are measured, and the slurry concentration of the object to be measured is determined with reference to a data table created in advance, so that the slurry concentration can be measured quickly and accurately.

【0108】上記超音波の伝搬速度測定は液中の気泡の
影響を受けやすいため、垂直に配置され、かつ下方から
上方に向かう流速のある配管中で行われることがより好
ましい。上記超音波の伝搬速度測定は、配管内の圧力が
1〜10kg/cm2の圧力範囲内で行うことが好まし
く、超音波の周波数は、0.5〜3MHzが好ましい。
また、上記比重、導電率、超音波の伝搬速度の測定は温
度の影響を受けやすいため、保温状態にあり、かつ温度
変動が±0.3℃以内に制御された配管内で測定するこ
とが好ましい。さらに、導電率および比重、または導電
率と超音波の伝搬速度とは同一温度で測定することが好
ましいので、同一の配管内または同一の配管フロー内で
測定することが特に好ましい。測定の際の圧力変動は温
度の変動につながるので可能な限り低い方が好ましい。
また測定する配管内の流速分布もできるだけ少ない方が
好ましい。さらに、上記測定はスラリー、ゴミ、および
気泡の影響を受けやすいので、フィルターや脱気装置等
を通した液を測定することが好ましい。
Since the above ultrasonic wave propagation velocity measurement is easily affected by bubbles in the liquid, it is more preferable to measure the ultrasonic velocity in a pipe that is vertically arranged and has a flow velocity that goes upward from below. The above ultrasonic wave propagation velocity measurement is preferably performed within a pressure range of 1 to 10 kg / cm 2 in the pipe, and the frequency of the ultrasonic wave is preferably 0.5 to 3 MHz.
In addition, since the measurement of the specific gravity, the conductivity, and the propagation speed of the ultrasonic wave are easily affected by the temperature, the measurement can be performed in a pipe in a heat-retaining state and in which the temperature fluctuation is controlled within ± 0.3 ° C. preferable. Furthermore, since the conductivity and specific gravity, or the conductivity and the ultrasonic wave propagation velocity are preferably measured at the same temperature, it is particularly preferable to measure the same in the same pipe or in the same pipe flow. Since the pressure fluctuation at the time of measurement leads to a temperature fluctuation, it is preferable to be as low as possible.
It is preferable that the flow velocity distribution in the pipe to be measured is as small as possible. Further, since the above measurement is easily affected by slurry, dust, and bubbles, it is preferable to measure the liquid that has passed through a filter, a deaerator, or the like.

【0109】<<平版印刷版用支持体>> <下塗層>本発明の製造方法によって製造された平版印
刷版用支持体は、その表面に感光層を塗設して平版印刷
版原版とする前に、必要に応じて(有機)下塗層を設け
てもよい。
<< Lithographic Printing Plate Support >><UndercoatLayer> The lithographic printing plate support produced by the production method of the present invention is provided with a photosensitive layer on the surface thereof to form a lithographic printing plate precursor. Before the coating, an (organic) undercoat layer may be provided as necessary.

【0110】有機下塗層に用いられる有機化合物として
は、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸等のア
ミノ基を有するホスホン酸類や、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸
およびエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸や、置
換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸およびグリセロリン酸等の有機リン酸
や、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセ
ロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸や、グリシンやβ
−アラニン等のアミノ酸類や、トリエタノールアミンの
塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩等か
ら選ばれるが、これらを二種以上混合して用いてもよ
い。
Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic and 2-aminoethylphosphonic acid, and phenyl which may have a substituent. Phosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, organic phosphonic acids such as methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, and phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid,
Organic phosphoric acids such as alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, and organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, glycine and β
-Selected from amino acids such as alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxyl group such as triethanolamine hydrochloride, and two or more of these may be used in combination.

【0111】上記有機下塗層は、例えば以下の方法で設
けることが出来る。 (a)水、またはメタノール、エタノール、メチルエチ
ルケトン等の有機溶剤、あるいはそれらの混合溶剤に上
記の有機化合物を溶解させた溶液を、本発明の支持体上
に塗布、乾燥して設ける方法や、(b)水、またはメタ
ノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶
剤、あるいはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶
解させた溶液に、本発明の支持体を浸漬して上記有機化
合物を吸着させ、その後、水等によって洗浄、乾燥して
有機下塗層を設ける方法を用いて上記有機下塗層を設け
ることができる。
The organic undercoat layer can be provided, for example, by the following method. (A) a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is coated on the support of the present invention and dried, b) Water, or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a solution obtained by dissolving the above organic compound in a mixed solvent thereof, by immersing the support of the present invention to adsorb the organic compound, The organic undercoat layer can be provided by a method of washing and drying with water or the like to provide an organic undercoat layer.

【0112】上記(a)の方法では、0.005〜10
質量%の上記有機化合物溶液を種々の方法で塗布でき
る。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布等いずれの方法を用いてもよい。ま
た、上記(b)の方法では、上記有機溶媒溶液の濃度は
0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、
塩酸、リン酸等の酸性物質によってpHを調整し、pH
1〜12の範囲内で使用することもできる。また、感光
性平版印刷版の調子再現性を改良するために黄色染料を
添加することもできる。また、上記有機下塗層の乾燥後
の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ま
しくは5〜100mg/m2である。上記被覆量が2m
g/m2未満だと十分な耐刷性能が得られない場合があ
る。また、200mg/m2を越えても同様である場合
がある。
In the above method (a), 0.005 to 10
% By weight of the organic compound solution can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the method (b), the concentration of the organic solvent solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass.
The immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5 ° C.
0 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
Basic substances such as triethylamine and potassium hydroxide,
Adjust the pH with acidic substances such as hydrochloric acid, phosphoric acid, etc.
It can be used in the range of 1 to 12. Further, a yellow dye may be added to improve the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. The coating amount of the organic undercoat layer after drying is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . The coating amount is 2m
If it is less than g / m 2 , sufficient printing durability may not be obtained. Further, the same may occur even when the amount exceeds 200 mg / m 2 .

【0113】<バックコート層>本発明の製造方法によ
って得られた支持体を用いた平版印刷版原版の裏面(感
光層が設けられていない側)には、該平版印刷版原版を
重ねた場合に感光層が傷付かないように、有機高分子化
合物からなる被覆層(以下、「バックコート層」という
場合がある。)を必要に応じて設けていてもよい。上記
バックコート層の主成分としては、ガラス転移点が20
℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂および塩化ビニリデン共
重合樹脂の群から選ばれる少なくとも一種の樹脂を用い
るのが好ましい。
<Backcoat layer> When the lithographic printing plate precursor is stacked on the back surface (the side on which the photosensitive layer is not provided) of the lithographic printing plate precursor using the support obtained by the production method of the present invention. A coating layer made of an organic polymer compound (hereinafter, sometimes referred to as a “backcoat layer”) may be provided as necessary so that the photosensitive layer is not damaged. The main component of the back coat layer has a glass transition point of 20
It is preferable to use at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin and a vinylidene chloride copolymerized resin at a temperature of not lower than ° C.

【0114】上記飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカ
ルボン酸ユニットとジオールユニットからなる。本発明
に用いられるポリエステルのジカルボン酸ユニットとし
てはフタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブ
ロムフタル酸、テトラクロルフタル酸等の芳香族ジカル
ボン酸;アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、蓚酸、
スベリン酸、セバチン酸、マロン酸、1,4−シクロヘ
キサンジカルボン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸等が挙
げられる。
The saturated copolymerized polyester resin comprises a dicarboxylic acid unit and a diol unit. As the dicarboxylic acid unit of the polyester used in the present invention, phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid, aromatic dicarboxylic acids such as tetrachlorophthalic acid; adipic acid, azelaic acid, succinic acid, oxalic acid;
Examples include saturated aliphatic dicarboxylic acids such as suberic acid, sebacic acid, malonic acid, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.

【0115】上記バックコート層には、さらに着色のた
めの染料や顔料、本発明の支持体との密着性を向上させ
るためにシランカップリング剤、ジアゾニウム塩からな
るジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸およびカチ
オン性ポリマー等、さらには滑り剤として通常用いられ
るワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチル
シロキサンからなるシリコーン化合物、変性ジメチルシ
ロキサン、ポリエチレン粉末等を適宜加えてもよい。上
記バックコート層の厚さは基本的には合紙がなくても、
後述する感光層を傷付けにくい厚みがあればよく、0.
01〜8μmの範囲が好ましい。該厚さが0.01μm
未満では平版印刷版を重ねて取り扱った場合の感光層の
擦れ傷を防ぐことが困難である。また、上記厚さが8μ
mを超えると印刷中、平版印刷版原版周辺で用いられる
薬品によってバックコート層が膨潤して厚みが変動し、
印圧が変化して印刷特性を劣化させることがある。
The back coat layer further includes a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent, a diazo resin composed of a diazonium salt, an organic phosphonic acid, an organic phosphonic acid for improving the adhesion to the support of the present invention. Phosphoric acid, a cationic polymer, and the like, as well as a wax generally used as a slipping agent, a higher fatty acid, a higher fatty acid amide, a silicone compound composed of dimethylsiloxane, a modified dimethylsiloxane, a polyethylene powder, and the like may be appropriately added. The thickness of the back coat layer is basically even without interleaving paper,
It is sufficient that the photosensitive layer has a thickness that does not easily damage the photosensitive layer described below.
The range of 01 to 8 μm is preferred. The thickness is 0.01 μm
If it is less than 10, it is difficult to prevent the photosensitive layer from being scratched when handling the lithographic printing plates in an overlapping manner. In addition, the thickness is 8 μm.
m, during printing, the back coat layer swells due to the chemicals used around the lithographic printing plate precursor and the thickness fluctuates,
The printing pressure may change to deteriorate the printing characteristics.

【0116】上記バックコート層を本発明の支持体の裏
面に被覆する方法としては種々の方法が適用できる。例
えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し
溶液にして塗布し、または、乳化分散液して塗布し、乾
燥する方法や、予めフィルム状に成形したものを接着剤
や熱で本発明の支持体に貼り合わせる方法や、溶融押し
出し機で溶融被膜を形成し、本発明の支持体に貼り合わ
せる方法等が挙げられるが、上記の塗布量を確保する上
で最も好ましいのは、上記バックコート成分を適当な溶
媒に溶解し溶液にして塗布、乾燥する方法である。ここ
で使用される溶媒としては、特開昭62−251739
号公報に記載されているような有機溶剤を単独あるいは
混合して用いることができる。また、平版印刷版原版の
製造に当たっては裏面のバックコート層と表面の感光性
組成物層のどちらが先に支持体上に塗布されてもよく、
また両者が同時に塗布されてもよい。
Various methods can be applied as a method for coating the back coat layer on the back surface of the support of the present invention. For example, the above-mentioned components for the back coat layer are dissolved in an appropriate solvent and applied as a solution, or an emulsified dispersion is applied and dried. The method of bonding to the support of the present invention, a method of forming a molten coating with a melt extruder and bonding the support to the support of the present invention, and the like. This is a method in which the back coat component is dissolved in an appropriate solvent, made into a solution, applied, and dried. The solvent used herein is described in JP-A-62-152739.
Organic solvents such as those described in JP-A No. 195/1992 can be used alone or as a mixture. Further, in the production of the lithographic printing plate precursor, either the back coat layer on the back surface or the photosensitive composition layer on the front surface may be coated on the support first,
Alternatively, both may be applied simultaneously.

【0117】<<平版印刷版原版>>本発明の支持体に
は、以下に例示する感光層を設けて本発明の平版印刷版
原版とすることができる。この平版印刷版原版に、露光
および現像等を施し、画像が形成され印刷に供し得る状
態とされたものが平版印刷版となる。
<< Lithographic Printing Plate Precursor >> A lithographic printing plate precursor according to the invention can be prepared by providing a photosensitive layer described below on the support of the invention. The lithographic printing plate precursor is subjected to exposure, development, and the like, and an image is formed on the lithographic printing plate precursor so as to be ready for printing.

【0118】<〔I〕o−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステルおよびフェノール・クレゾール混合のノボ
ラック樹脂を含有する感光層を設ける場合>本発明の支
持体には、o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルおよびフェノール・クレゾール混合のノボラック樹脂
を含有する感光層を設けることができる。上記o−キノ
ンジアジド化合物はo−ナフトキノンジアジド化合物で
あり、例えば、米国特許第2,766,118号明細
書、同第2,767,092号明細書、同第2,77
2,972号明細書、同第2,859,112号明細
書、同第3,102,809号明細書、同第3,10
6,465号明細書、同第3,635,709号明細
書、同第3,647,443号明細書をはじめ、多数の
刊行物に記されており、これらは、好適に使用すること
ができる。また、これらの中でも、特に芳香族ヒドロキ
シ化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルまたはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステ
ル、および芳香族アミノ化合物のo−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸アミドまたはo−ナフトキノンジアジド
カルボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3,63
5、709号明細書に記されているピロガロールとアセ
トンとの縮合物にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸
をエステル反応させたものや、米国特許第4,028,
111号明細書に記されている末端にヒドロキシ基を有
するポリエステルにo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸、またはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエス
テル反応させたものや、英国特許第1,494,043
号明細書に記されているようなp−ヒドロキシスチレン
のホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマー
との共重合体にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸、
またはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル
反応させたものや、米国特許第3,759,711号明
細書に記されているようなp−アミノスチレンと他の共
重合し得るモノマーとの共重合体にo−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸、またはo−ナフトキノンジアジドカ
ルボン酸をアミド反応させたもの、は非常に優れてい
る。
<[I] When a photosensitive layer containing a novolak resin of a mixture of o-naphthoquinonediazidosulfonic acid ester and phenol / cresol is provided> The support of the present invention comprises o-naphthoquinonediazidosulfonic acid ester and phenol / cresol. A photosensitive layer containing a mixed novolak resin can be provided. The o-quinonediazide compound is an o-naphthoquinonediazide compound. For example, U.S. Pat. Nos. 2,766,118, 2,767,092, and 2,772.
No. 2,972, No. 2,859,112, No. 3,102,809, No. 3,10
No. 6,465, 3,635,709, 3,647,443, and many other publications, and these are preferably used. it can. Further, among these, o-naphthoquinonediazidosulfonic acid ester or o-naphthoquinonediazidocarboxylic acid ester of an aromatic hydroxy compound, and o-naphthoquinonediazidosulfonic acid amide or o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid amide of an aromatic amino compound are particularly preferred. Preferred, especially US Pat.
No. 5,0709, U.S. Pat. No. 4,028,5,709, which is obtained by subjecting a condensate of pyrogallol and acetone to an ester reaction with o-naphthoquinonediazidosulfonic acid.
No. 111, which is obtained by subjecting a polyester having a terminal hydroxy group to an ester reaction with o-naphthoquinonediazidesulfonic acid or o-naphthoquinonediazidocarboxylic acid, and British Patent 1,494,043.
O-naphthoquinonediazide sulfonic acid, a homopolymer of p-hydroxystyrene or a copolymer thereof with another copolymerizable monomer as described in
Or, an ester reaction of o-naphthoquinonediazidocarboxylic acid or a copolymer of p-aminostyrene and another copolymerizable monomer as described in U.S. Pat. No. 3,759,711. Those obtained by subjecting o-naphthoquinonediazidesulfonic acid or o-naphthoquinonediazidocarboxylic acid to an amide reaction are very excellent.

【0119】上記o−キノンジアジド化合物は、単独で
使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し
て用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂に
は、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂等が含まれる。さらに米国特許第4,028,1
11号明細書に記されているように、上記フェノール樹
脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
のような炭素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノ
ールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物を
併用すると、より好ましい。また、露光によって可視像
を形成するため、例えば、o−ナフトキノンジアジド−
4−スルホニルクロライド、p−ジアゾジフェニルアミ
ンの無機アニオン塩、トリハロメチルオキサジアゾール
化合物、またはベンゾフラン環を有するトリハロメチル
オキサジアゾール化合物等の化合物等が添加される。
The above-mentioned o-quinonediazide compound can be used alone, but is preferably used in combination with an alkali-soluble resin. Suitable alkali-soluble resins include novolak-type phenol resins, and specifically include phenol formaldehyde resin, o-cresol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, and the like. No. 4,028,1.
As described in the specification of Patent No. 11, when a condensate of phenol or cresol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, such as t-butylphenol formaldehyde resin, and a condensate of formaldehyde are used together with the phenol resin. More preferred. Further, in order to form a visible image by exposure, for example, o-naphthoquinonediazide-
A compound such as an inorganic anion salt of 4-sulfonyl chloride, p-diazodiphenylamine, a trihalomethyloxadiazole compound, or a trihalomethyloxadiazole compound having a benzofuran ring is added.

【0120】一方、上記感光層には画像の着色剤を用い
てもよい。該画像の着色剤としては、ビクトリアブル−
BOH、クリスタルバイオレット、オイルブルー、等の
トリフェニルメタン染料が用いられる。また、特開昭6
2−293247号公報に記載されている染料は特に好
ましい。さらに、感脂化剤として特公昭57−2325
3号公報に記載されているような炭素数3〜15のアル
キル基で置換されたフェノール、例えばt−ブチルフェ
ノール、n−オクチルフェノール、t−ブチルフェノー
ルとホルムアルデヒドとを縮合させたノボラック樹脂、
または、このようなノボラック樹脂のo−ナフトキノン
ジアジド−4−若しくは−5−スルホン酸エステル(例
えば、特開昭61−242446号公報に記載されてい
る)を含有させることができる。
On the other hand, an image coloring agent may be used in the photosensitive layer. Victoria Blue-
A triphenylmethane dye such as BOH, crystal violet or oil blue is used. In addition, Japanese Unexamined Patent Publication
The dyes described in JP-A-2-293247 are particularly preferred. Further, as a sensitizer, Japanese Patent Publication No. 57-2325
No. 3 phenol substituted with an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, such as t-butylphenol, n-octylphenol, a novolak resin obtained by condensing t-butylphenol with formaldehyde as described in JP-A-3
Alternatively, an o-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonic acid ester of such a novolak resin (for example, described in JP-A-61-242446) can be contained.

【0121】また、現像性を良化させるためにさらに特
開昭62−251740号公報に記載されているような
非イオン界面活性剤を含有させることができる。以上の
組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして本発明
の支持体上に塗布することができる。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水、N−メ
チルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコール、
アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル等が挙げられ、これらの溶媒を単独あるいは
混合して使用するのが好ましい。
Further, in order to improve the developability, a nonionic surfactant as described in JP-A-62-251740 can be further contained. The composition described above can be dissolved in a solvent that dissolves the above components and applied on the support of the present invention. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether,
2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate,
Methyl lactate, ethyl lactate, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide, dimethylformamide, water, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl alcohol,
Acetone, diacetone alcohol, methanol, ethanol, isopropanol, diethylene glycol dimethyl ether and the like can be mentioned, and it is preferable to use these solvents alone or as a mixture.

【0122】<〔II〕ジアゾ樹脂と水不溶性かつ親油
性高分子化合物を含有する感光層を設ける場合>本発明
の支持体には、ジアゾ樹脂と水不溶性かつ親油性高分子
化合物を含有する感光層を設けることもできる。上記ジ
アゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドと、またはアセトアルデヒドの縮合
物と、ヘキサフルオロリン酸塩と、テトラフルオロホウ
酸塩との有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無
機塩、また、米国特許第3,300,309号明細書に
記載されているような、上記縮合物とスルホン酸類例え
ばP−トルエンスルホン酸またはその塩、ホスフィン酸
類例えばベンゼンホスフィン酸またはその塩、ヒドロキ
シル基含有化合物例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン−5−スルホン酸またはその塩等との反応生成物であ
る有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。
本発明において、好適に用いることができる他のジアゾ
樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸
基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基のうち少なく
とも一つの有機基を有する芳香族化合物と、ジアゾニウ
ム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合物とを構
造単位として含む共縮合体である。そして上記の芳香族
環としては、好ましくはフェニル基、ナフチル基をあげ
ることができる。上述のカルボキシル基、スルホン酸
基、スルフィン酸基、リンの酸素酸基、およびヒドロキ
シル基のうち少なくとも一つを有する芳香族化合物とし
ては種々のものが挙げられるが、好ましいのは、4−メ
トキシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメト
キシ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ
安息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロ
キシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタ
レンスルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸
である。
<[II] When a photosensitive layer containing a diazo resin and a water-insoluble and lipophilic polymer compound is provided> The support of the present invention comprises a photosensitive layer containing a diazo resin and a water-insoluble and lipophilic polymer compound. Layers can also be provided. Examples of the diazo resin include, for example, a diazo resin inorganic salt which is an organic solvent-soluble reaction product of p-diazodiphenylamine and formaldehyde, or a condensate of acetaldehyde, hexafluorophosphate, and tetrafluoroborate. Also, as described in U.S. Pat. No. 3,300,309, the above condensate and a sulfonic acid such as P-toluenesulfonic acid or a salt thereof, a phosphinic acid such as benzenephosphinic acid or a salt thereof, a hydroxyl group Contained compounds, for example, organic solvent-soluble diazo resin organic acid salts, which are reaction products with 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid or a salt thereof, and the like.
In the present invention, other diazo resins that can be suitably used include a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group, an aromatic compound having at least one organic group among oxygen groups and hydroxyl groups of phosphorus, and diazonium. It is a co-condensate containing a compound, preferably an aromatic diazonium compound, as a structural unit. The aromatic ring preferably includes a phenyl group and a naphthyl group. As the above-mentioned aromatic compound having at least one of a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group, an oxygen acid group of phosphorus, and a hydroxyl group, various compounds can be mentioned, but preferred is 4-methoxybenzoic acid. Acid, 3-chlorobenzoic acid, 2,4-dimethoxybenzoic acid, p-phenoxybenzoic acid, 4-anilinobenzoic acid, phenoxyacetic acid, phenylacetic acid, p-hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, benzenesulfone Acids, p-toluenesulfinic acid, 1-naphthalenesulfonic acid, phenylphosphoric acid, and phenylphosphonic acid.

【0123】上述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす
芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−4
8001号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩
を用いることができるが、特に、ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン
類から誘導されるが、このような4−アミン−ジフェニ
ルアミン類としては、4−アミノジフェニルアミン、4
−アミノ−3−メトキシジフェニルアミン、4−アミノ
−2−メトキシジフェニルアミン、4’−アミノ−2−
メトキシジフェニルアミン、4’−アミノ−4−メトキ
シジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチルジフェニ
ルアミン、4−アミノ−3−エトキシジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシエトキシジフェニ
ルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−スルホ
ン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−カルボン
酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2’−カルボン酸
等が挙げられ、特に好ましくは、3−メトキシ−4−ア
ミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノジフェニルア
ミンである。
The aromatic diazonium compound constituting the constitutional unit of the above-mentioned co-condensation diazo resin includes, for example, JP-B-49-4
Although diazonium salts such as those described in JP-A-8001 can be used, diphenylamine-4 is particularly preferred.
-Diazonium salts are preferred. Diphenylamine-4
-Diazonium salts are derived from 4-amino-diphenylamines, such 4-amine-diphenylamines being 4-aminodiphenylamine,
-Amino-3-methoxydiphenylamine, 4-amino-2-methoxydiphenylamine, 4'-amino-2-
Methoxydiphenylamine, 4′-amino-4-methoxydiphenylamine, 4-amino-3-methyldiphenylamine, 4-amino-3-ethoxydiphenylamine, 4-amino-3-β-hydroxyethoxydiphenylamine, 4-amino-diphenylamine-2 -Sulfonic acid, 4-amino-diphenylamine-2-carboxylic acid, 4-amino-diphenylamine-2′-carboxylic acid and the like, and particularly preferably, 3-methoxy-4-amino-4-diphenylamine, 4-amino Diphenylamine.

【0124】また、酸基を有する芳香族化合物との共縮
合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂としては、特開平4−1
8559号公報、特開平3−163551号公報、およ
び特開平3−253857号公報に記載された酸基を有
するアルデヒドまたはそのアセタール化合物で縮合した
ジアゾ樹脂も好ましく用いることができる。ジアゾ樹脂
の対アニオンとしては、ジアゾ樹脂と安定に塩を形成
し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含
む。
The diazo resin other than the cocondensation diazo resin with an aromatic compound having an acid group is disclosed in
The diazo resin condensed with an aldehyde having an acid group or an acetal compound thereof described in JP-A-8559, JP-A-3-163551 and JP-A-3-253857 can also be preferably used. The counter anion of the diazo resin includes an anion which forms a salt with the diazo resin stably and makes the resin soluble in an organic solvent.

【0125】これらは、デカン酸および安息香酸等の有
機カルボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸およびス
ルホン酸を含み、典型的な例としては、メタンスルホン
酸、トルフルオロメタンスルホン酸等のフルオロアルカ
ンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチルスルホ
コハク酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、カンファ
ースルホン酸、トリルオキシ−3−プロパンスルホン
酸、ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニ
ルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチルフェノ
キシ−3−プロパンスルホン酸、ジアミルフェノキシ−
3−プロパンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−3−プ
ロパンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−ブタンス
ルホン酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチ
レンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、2,
5−ジクロロベンゼンスルホン酸、スルホサルチル酸、
2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチルベ
ンゼンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−ク
ロロ−5−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼン
スルホン酸、
These include organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid, and organic phosphoric acids and sulfonic acids such as phenylphosphoric acid. Alkanesulfonic acid, laurylsulfonic acid, dioctylsulfosuccinic acid, dicyclohexylsulfosuccinic acid, camphorsulfonic acid, tolyloxy-3-propanesulfonic acid, nonylphenoxy-3-propanesulfonic acid, nonylphenoxy-4-butanesulfonic acid, dibutylphenoxy-3 -Propanesulfonic acid, diamylphenoxy-
3-propanesulfonic acid, dinonylphenoxy-3-propanesulfonic acid, dibutylphenoxy-4-butanesulfonic acid, dinonylphenoxy-4-butanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-chlorobenzene Sulfonic acid, 2,
5-dichlorobenzenesulfonic acid, sulfosalcylic acid,
2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, p-acetylbenzenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-chloro-5 -Nitrobenzenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid,

【0126】オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベン
ゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキ
シベンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホ
ン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸、イソプロピルナフヘタレンスルホン
酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレン
スルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシ
ナフタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスル
ホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナ
フタレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフト
ール−5−スルホン酸、ナフタリン−1−スルホン酸、
ナフタリン−2−スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフ
タレン−3,6−ジスルホン酸、ジメチル−5−スルホ
イソフタレート等の脂肪族並びに芳香族スルホン酸、
2,2’,4,4’−テトラヒドキシベンゾフェノン、
1,2,3−トリヒドロシキシベンゾフェノン、2,
2’4−トリヒドロキシベンゾフェノン等の水酸基含有
芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロ
ホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、HClO4,HIO4
の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに限られるもの
ではない。これらの中で、特に好ましいものは、ブチル
ナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン
酸、ヘキサフルオロリン酸、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン−5−スルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸である。
Octylbenzenesulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, butoxybenzenesulfonic acid, dodecyloxybenzenesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-
5-sulfonic acid, isopropyl naphthalene sulfonic acid, butyl naphthalene sulfonic acid, hexyl naphthalene sulfonic acid, octyl naphthalene sulfonic acid, butoxy naphthalene sulfonic acid, dodecyl oxy naphthalene sulfonic acid, dibutyl naphthalene sulfonic acid, dioctyl naphthalene sulfonic acid, triisopropyl naphthalene Sulfonic acid, tributylnaphthalenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, naphthalene-1-sulfonic acid,
Aliphatic and aromatic sulfonic acids such as naphthalene-2-sulfonic acid, 1,8-dinitro-naphthalene-3,6-disulfonic acid and dimethyl-5-sulfoisophthalate;
2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone,
1,2,3-trihydrooxybenzophenone, 2,
Hydroxy group-containing aromatic compounds such as 2′4-trihydroxybenzophenone; halogenated Lewis acids such as hexafluorophosphoric acid and tetrafluoroboric acid; and perhalogen acids such as HClO 4 and HIO 4. It is not something that can be done. Among these, particularly preferred are butylnaphthalenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, hexafluorophosphoric acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, and dodecylbenzenesulfonic acid.

【0127】本発明に使用するジアゾ樹脂としては、各
単量体のモル比および縮合条件を種々変えることによっ
て、その分子量は任意の値として得ることができるが、
本発明の目的とする使途に有効に供するためには分子量
が約400〜100,000のもの、好ましくは、約8
00〜8,000のものが適当である。水不溶性かつ親
油性高分子化合物としては、下記(1)〜(17)に示
すモノマーをその構造単位とする通常1〜20万の分子
量をもつ共重合体が挙げられる。
The molecular weight of the diazo resin used in the present invention can be obtained as an arbitrary value by variously changing the molar ratio of each monomer and the condensation conditions.
In order to effectively serve the intended use of the present invention, those having a molecular weight of about 400 to 100,000, preferably about 8
Those having a size of from 00 to 8,000 are suitable. Examples of the water-insoluble and lipophilic high-molecular compound include copolymers having a molecular weight of usually from 100,000 to 200,000, having monomers represented by the following (1) to (17) as structural units.

【0128】(1)芳香族水酸基を有するアクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例
えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドま
たはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o−,m
−,p−ヒドロキシフェニル−アクリレートまたはメタ
クリレートである。
(1) Acrylamides, methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, such as N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4-hydroxyphenyl) ) Methacrylamide, o-, m-, p-hydroxystyrene, o-, m
-, P-hydroxyphenyl-acrylate or methacrylate.

【0129】(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エ
ステル類、およびメタクリル酸エステル類、例えば2−
ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレ
ートである。
(2) Acrylic esters and methacrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, for example, 2-
They are hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and 4-hydroxybutyl methacrylate.

【0130】(3)アクリル酸、メタクリル酸、無水マ
レイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸である。
(3) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

【0131】(4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アク
リル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、
N−ジメチルアミノエチルアクリレート等の(置換)ア
ルキルアクリレートである。
(4) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl Acrylate,
(Substituted) alkyl acrylates such as N-dimethylaminoethyl acrylate.

【0132】(5)メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等
の(置換)アルキルメタクリレートである。
(5) (Substituted) alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate.

【0133】(6)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキ
シルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルア
ミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド類である。
(6) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N Acrylamide or methacrylamides such as -nitrophenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylacrylamide.

【0134】(7)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類である。
(7) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether.

【0135】(8)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類である。
(8) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.

【0136】(9)スチレン、α−メチルスチレン、ク
ロロメチルスチレン等のスチレン類である。
(9) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene and chloromethylstyrene.

【0137】(10)メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類である。
(10) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone.

【0138】(11)エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類であ
る。
(11) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.

【0139】(12)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等である。
(12) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.

【0140】(13)マレイミド、N−アクリロイルア
クリルアミド、N−アセケチルメタクルアミド、N−プ
ロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾ
イル)メタクリルアミド等の不飽和イミドである。
(13) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-aceketyl methacrylamide, N-propionyl methacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.

【0141】(14)N(o−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノ)スルホ
ニルフェニルメタクリルアミド、N−(1−(3−アミ
ノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2
−アミノスルホニルエチル)メタクリルアミド等のメタ
クリル酸アミド類、および上記と同様の置換基を有する
アクリルアミド類、また、o−アミノスルホニルフェニ
ルフメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、1−(3−アミノスルホニルナフチル)メタク
リレート等のメタクリル酸エステル類、および上記と同
様の置換基を有するアクリル酸エステル類等の不飽和ス
ルホンアミドである。
(14) N (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-amino) sulfonylphenylmethacrylamide, N- (1- (3-amino Sulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (2
-Aminosulfonylethyl) methacrylamides such as methacrylamide, and acrylamides having the same substituents as described above, and o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, Unsaturated sulfonamides such as methacrylic esters such as 1- (3-aminosulfonylnaphthyl) methacrylate and acrylic esters having the same substituents as described above.

【0142】(15)N−(2−(メタクリロイルオキ
シ)−エチル)−2,3−ジメチルマレイミド、ビニル
シンナメート、等の、側鎖に、架橋性基を有する不飽和
モノマーである。さらに、上記モノマーと共重合し得る
モノマーを共重合させてもよい。
(15) Unsaturated monomers having a crosslinkable group in the side chain, such as N- (2- (methacryloyloxy) -ethyl) -2,3-dimethylmaleimide and vinyl cinnamate. Further, a monomer copolymerizable with the above monomer may be copolymerized.

【0143】(16)米国特許第3,751,257号
明細書に記載されているフェノール樹脂および例えばポ
リビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂
等のポリビニルアセタール樹脂である。
(16) Phenol resins described in US Pat. No. 3,751,257 and polyvinyl acetal resins such as polyvinyl formal resin and polyvinyl butyral resin.

【0144】(17)ポリウレタンをアルカリ可溶化し
た特公昭54−19773号公報、特開昭57−904
747号公報、同60−182437号公報、同62−
58242号公報、同62−123452号公報、同6
2−123453号公報、同63−113450号公
報、特開平2−146042号公報に記載された高分子
化合物である。
(17) JP-B-54-19773 in which polyurethane is solubilized with alkali, JP-A-57-904
No. 747, No. 60-182437, No. 62-
No. 58242, No. 62-123452, No. 6
It is a polymer compound described in JP-A-2-123453, JP-A-63-111450, and JP-A-2-14642.

【0145】また上記共重合体には必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。
If necessary, a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, an epoxy resin, a novolak resin, a natural resin, or the like may be added to the above copolymer.

【0146】本発明における感光層に用いる感光性組成
物には、露光による可視画像と現像後の可視画像を得る
ことを目的としてさらに色素を用いることができる。該
色素としては、例えば、ビクトリアピュアブル−BOH
〔保土ヶ谷化学社製〕、オイルブルー#603〔オリエ
ント化学工業社製〕,パテントピュアブルー〔住友三国
化学社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグ
リーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メ
チルグリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、
マラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパ
ープル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチル
アミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチ
ルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフ
ェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、
キサンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系ま
たはアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異
なる有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられ
る。
The photosensitive composition used in the photosensitive layer according to the invention may further contain a dye for the purpose of obtaining a visible image by exposure and a visible image after development. Examples of the dye include Victoria Pure-BOH
[Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Co., Ltd.], Patent Pure Blue [Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.], Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Violet, Methyl Green, Erythrosin B, Basic Fuchsin ,
Malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminaphthoquinone, triphenylmethane series represented by cyano-p-diethylaminophenylacetanilide, diphenylmethane series, oxazine series,
Xanthen, iminonaphthoquinone, azomethine or anthraquinone dyes are mentioned as examples of color changing agents that change from colored to colorless or different colored tones.

【0147】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素および、例えばトリフェニルアミン、
ジフェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−
トリフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジ
フェニルメタン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,
p’,p”−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタ
ン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチル
イミン、p,p’,p”−トリアミノ−o−メチルトリ
フェニルメタン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニル−4−アニリノナフチルメタン、p,p’,p”
−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級ま
たは第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好
ましくは、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系
色素が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニル
メタン系色素であり、特にビクトリアピュアブルーBO
Hである。
On the other hand, examples of the color-changing agent that changes from colorless to colored include leuco dyes and, for example, triphenylamine,
Diphenylamine, o-chloroaniline, 1,2,3-
Triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylamine, 1,2-dianilinoethylene, p,
p ', p "-tris-dimethylaminotriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylmethylimine, p, p', p" -triamino-o-methyltriphenylmethane, p, p'-bis -Dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethane, p, p ', p "
Primary or secondary arylamine dyes represented by -triaminotriphenylmethane. Particularly preferably, triphenylmethane-based and diphenylmethane-based dyes are effectively used, more preferably triphenylmethane-based dyes, and particularly, Victoria Pure Blue BO
H.

【0148】本発明における感光層に用いる感光性組成
物には、さらに種々の添加物を加えることができる。例
えば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例
えばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系
界面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤(特にフッ素系
界面活性剤が好ましい)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付
与するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチ
レングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタン酸ジブチル、フタン酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよび
ポリマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例
えば特開昭55−527号公報に記載のスチレン−無水
マレイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル
化物、p−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹
脂等のノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50
%脂肪酸エステル等)、安定剤{例えば、リン酸、亜リ
ン酸、有機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリ
チル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン
−5−スルホン酸、酒石酸等)}、現像促進剤(例えば
高級アルコール、酸無水物等)等が好ましく用いられ
る。
Various additives can be further added to the photosensitive composition used for the photosensitive layer in the present invention. For example, alkyl ethers (eg, ethyl cellulose, methyl cellulose) for improving coatability, fluorinated surfactants, nonionic surfactants (especially fluorinated surfactants are preferable), flexibility of the coating film, and resistance to Plasticizers for imparting abrasion properties (for example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate,
Oligomers and polymers of trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid, of which tricresyl phosphate is particularly preferred), and a sensitizing agent for improving the liposensitivity of the image area (for example, No. 55-527, a half-esterified product of a styrene-maleic anhydride copolymer with an alcohol, a novolak resin such as a pt-butylphenol-formaldehyde resin, and 50% of p-hydroxystyrene.
% Fatty acid ester), stabilizers {for example, phosphoric acid, phosphorous acid, organic acids (citric acid, oxalic acid, dipicolinic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, sulfosalicylic acid, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone- 5-sulfonic acid, tartaric acid, etc.), development accelerators (eg, higher alcohols, acid anhydrides, etc.) and the like are preferably used.

【0149】上述の感光性組成物を含む感光層を本発明
の支持体上に設けるには、感光性ジアゾ樹脂、親油性高
分子化合物、および必要に応じて種々の添加剤の所定量
を適当な溶媒(例えば、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、1−メトキシ−2−プロパノール、メチルセロソル
ブアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メタノ
ール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
乳酸メチル、乳酸エチル、エチレンジクロライド、ジメ
チルスルホキシド、水またはこれらの混合物等)中に溶
解させ感光性組成物の塗布液を調製し、これを支持体上
に塗布、乾燥すればよい。用いられる溶媒は単独でもよ
いが、メチルセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、乳酸メチル等の高沸点溶媒と、メタノール、メチ
ルエチルケトン等の低沸点溶媒との混合物とするとさら
に好ましい。本発明の平版印刷版用支持体に感光性組成
物を塗布する際の該感光性組成物の固形分濃度は1〜5
0質量%の範囲内とすることが好ましい。
In order to provide a photosensitive layer containing the above-mentioned photosensitive composition on the support of the present invention, a predetermined amount of a photosensitive diazo resin, a lipophilic polymer compound and, if necessary, various additives are appropriately added. Solvents (e.g., methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethoxyethane, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, methyl cellosolve acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, dimethylformamide, dimethylacetamide,
Cyclohexanone, dioxane, tetrahydrofuran,
The composition may be dissolved in methyl lactate, ethyl lactate, ethylene dichloride, dimethyl sulfoxide, water or a mixture thereof to prepare a coating solution of the photosensitive composition, which may be coated on a support and dried. The solvent used may be a single solvent, but is more preferably a mixture of a high boiling solvent such as methyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol, methyl lactate and the like, and a low boiling solvent such as methanol and methyl ethyl ketone. When the photosensitive composition is coated on the lithographic printing plate support of the present invention, the solid concentration of the photosensitive composition is from 1 to 5
It is preferable to be within the range of 0% by mass.

【0150】<ネガ型赤外線レーザー記録材料>本発明
の平板印刷版原版を赤外線レーザーに露光可能なネガ型
の平版印刷版原版とする場合には、有用な赤外線レーザ
ー用ネガ型感光材料によって感光層を設けるのがよい。
該赤外線レーザー用ネガ型感光材料としては、(A)光
または熱によって分解して酸を発生する化合物、(B)
酸によって架橋する架橋剤、(C)アルカリ可溶性樹
脂、(D)赤外線吸収剤、(E)一般式(R1―X)n
Ar―(OH)mで表される化合物{R1:炭素数6〜3
2のアルキル基またはアルケニル基、X:単結合、O,
S,COO,またはCONH、Ar:芳香族炭化水素
基,脂肪式炭化水素基,または複素環基、n=1〜3、
m=1〜3}からなる組成物が有用である。
<Negative Infrared Laser Recording Material> When the lithographic printing plate precursor of the present invention is to be a negative lithographic printing plate precursor that can be exposed to an infrared laser, the photosensitive layer can be formed by a useful negative photosensitive material for an infrared laser. Should be provided.
As the negative photosensitive material for infrared laser, (A) a compound which decomposes by light or heat to generate an acid, (B)
A crosslinking agent that is crosslinked by an acid, (C) an alkali-soluble resin, (D) an infrared absorber, (E) a general formula (R 1 —X) n
Compound represented by Ar- (OH) m {R 1 : C 6-3
2, an alkyl group or an alkenyl group, X: a single bond, O,
S, COO, or CONH, Ar: an aromatic hydrocarbon group, an aliphatic hydrocarbon group, or a heterocyclic group, n = 1 to 3,
Compositions consisting of m = 1-3% are useful.

【0151】上記ネガ型の平版印刷版原版は、現像後に
指紋が付きやすく、画像部の強度が弱いという欠点があ
るが、かかる欠点は上記構成成分によって感光層を形成
することで解消される。以下に、このネガ型の平版印刷
版原版の構成成分について詳述する。
The negative type lithographic printing plate precursor has the disadvantage that fingerprints are easily formed after development and the strength of the image area is weak. However, such a disadvantage can be solved by forming a photosensitive layer with the above constituents. Hereinafter, the components of the negative type lithographic printing plate precursor will be described in detail.

【0152】上記(A)光または熱によって分解して酸
を発生する化合物としては、特願平3−140109号
明細書に記載されているイミノスルフォネート等に代表
される、光分解してスルホン酸を発生する化合物が挙げ
られ、200〜500nmの波長の照射、または100
℃以上の加熱によって酸を発生する化合物が挙げられ
る。好適な酸発生剤としては、光カチオン重合開始剤、
光ラジカル重合の開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤
等を用いることができる。これらの酸発生剤は、画像記
録材料全固形分に対して0.01〜50質量%添加され
るのが好ましい。
Examples of the compound (A) which decomposes by light or heat to generate an acid include photo-decomposable compounds represented by iminosulfonate described in Japanese Patent Application No. 3-140109. Compounds that generate sulfonic acid include irradiation with a wavelength of 200 to 500 nm, or 100
Compounds that generate an acid when heated at a temperature of not less than ° C are exemplified. Suitable acid generators include a cationic photopolymerization initiator,
An initiator for photoradical polymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, and the like can be used. These acid generators are preferably added in an amount of 0.01 to 50% by mass based on the total solid content of the image recording material.

【0153】上記(B)酸によって架橋する架橋剤とし
ては、(i)アルコキシメチル基若しくはヒドロキシル
基で置換された芳香族化合物、(ii)N−ヒドロキシ
メチル基、N−アルコキシメチル基、若しくはN−アシ
ルオキシメチル基を有する化合物、(iii)エポキシ
化合物が好ましい。
Examples of the crosslinking agent (B) for crosslinking with an acid include (i) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxyl group, (ii) an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group, A compound having an acyloxymethyl group, and (iii) an epoxy compound.

【0154】上記(C)アルカリ可溶性樹脂としては、
ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有する
ポリマーが挙げられる。
As the alkali-soluble resin (C),
Novolak resins and polymers having a hydroxyaryl group in the side chain are exemplified.

【0155】上記(D)赤外線吸収剤からなる組成物と
しては、760〜1200nmの赤外線を有効に吸収す
るアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料
等の市販染料またはカラーインデックスに記載されてい
る黒色顔料、赤色顔料、金属粉顔料、フタロシアニン系
顔料が挙げられる。また、画像の見やすさを向上させる
ためにオイルイエロー、オイルブルー#603等の画像
着色剤を添加することが好ましい。また、塗膜の柔軟性
改善のため、ポリエチレングリコールやフタル酸エステ
ルのような可塑剤を添加することができる。
Examples of the composition comprising the infrared absorbent (D) include commercially available dyes such as azo dyes, anthraquinone dyes and phthalocyanine dyes which effectively absorb infrared rays of 760 to 1200 nm, or black pigments described in Color Index. Red pigments, metal powder pigments, and phthalocyanine pigments are exemplified. Further, it is preferable to add an image colorant such as oil yellow or oil blue # 603 in order to improve the visibility of the image. Further, in order to improve the flexibility of the coating film, a plasticizer such as polyethylene glycol or phthalic ester can be added.

【0156】〔ポジ型赤外線レーザー記録材料〕本発明
の平板印刷版原版を赤外線レーザーに露光可能なポジ型
平版印刷版原版とする場合には、有用な赤外線レーザー
用ポジ型感光材料によって感光層を設けるのがよい。該
赤外線レーザー用ポジ型感光材料としては、(A)アル
カリ可溶性高分子と(B)該アルカリ可溶性高分子と相
溶してアルカリ溶解性を低下させる化合物、(C)赤外
レーザーを吸収する化合物からなる赤外線レーザー用ポ
ジ型感光材料が有用である。上記赤外線レーザー用ポジ
型感光材料を使用することで、非画像部のアルカリ現像
液に対する溶解性不足を解消でき、また、傷つき難くく
かつ、画像部の耐アルカリ現像適性に優れ、現像安定性
のよい平版印刷版とすることができる。
[Positive Infrared Laser Recording Material] When the lithographic printing plate precursor according to the invention is to be used as a positive lithographic printing plate precursor capable of being exposed to an infrared laser, the photosensitive layer is formed of a useful positive photosensitive material for an infrared laser. It is good to provide. Examples of the positive photosensitive material for an infrared laser include (A) an alkali-soluble polymer, (B) a compound that is compatible with the alkali-soluble polymer and reduces alkali solubility, and (C) a compound that absorbs an infrared laser. The positive photosensitive material for an infrared laser is useful. By using the above-mentioned positive type photosensitive material for infrared laser, it is possible to eliminate the lack of solubility in the alkali developing solution in the non-image area, and it is hard to be damaged, and has excellent alkali developing resistance in the image area, and the development stability. A good lithographic printing plate can be obtained.

【0157】上記(A)アルカリ可溶性高分子として
は、(i)フェノール樹脂、クレゾール樹脂、ノボラッ
ク樹脂やピロガロール樹脂なので代表されるフェノール
性水酸基を有する高分子化合物、(ii)スルホンアミ
ド基を有する重合モノマーを単独または他の重合性モノ
マーと共重合させて得られた化合物、(iii)N―
(p―トルエンスルホニル)メタクリルアミドやN―
(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等に代表さ
れる活性イミド基を分子内に有する化合物等が好まし
い。上記(B)成分としては、スルホン化合物、アンモ
ニウム塩、スルホニウム塩、アミド化合物等の上記
(A)成分と相互作用する化合物が挙げられる。例えば
上記(A)成分がノボラック樹脂の場合には、(B)成
分としてシアニン色素が好適である。
Examples of the (A) alkali-soluble polymer include (i) a phenolic resin, a cresol resin, a novolak resin, and a pyrogallol resin, which are represented by a polymer compound having a phenolic hydroxyl group, and (ii) a polymer having a sulfonamide group. A compound obtained by copolymerizing a monomer alone or with another polymerizable monomer, (iii) N-
(P-toluenesulfonyl) methacrylamide or N-
Compounds having an active imide group typified by (p-toluenesulfonyl) acrylamide in the molecule are preferred. Examples of the component (B) include compounds that interact with the component (A), such as a sulfone compound, an ammonium salt, a sulfonium salt, and an amide compound. For example, when the component (A) is a novolak resin, a cyanine dye is suitable as the component (B).

【0158】上記(C)成分としては、750〜120
0nmの赤外域に吸収域があり、光/熱変換能を有する
材料が好ましい。このような機能を有するものとして
は、スクワリリウム色素、ピリリウム塩色素、カーボン
ブラック、不溶性アゾ染料、アントラキノン系染料等が
挙げられる。これら顔料は0.01μm〜10μmの範
囲の大きさが好ましく、染料を添加し、メタノール、メ
チルエチルケトン等を有機溶媒としてそれらを溶解し、
アルミニウム合金板上に乾燥後の質量が1〜3g/m2
となるように塗布、乾燥して設けられる。
The component (C) includes 750 to 120
A material that has an absorption region in the infrared region of 0 nm and has a light / heat conversion capability is preferable. Examples of those having such a function include squarylium dyes, pyrylium salt dyes, carbon black, insoluble azo dyes, and anthraquinone dyes. These pigments preferably have a size in the range of 0.01 μm to 10 μm, add a dye, dissolve them in methanol, methyl ethyl ketone or the like as an organic solvent,
The mass after drying on an aluminum alloy plate is 1 to 3 g / m 2
Is applied and dried so that

【0159】〔光重合系ホトポリマー型レーザー記録材
料〕赤外線レーザーに露光可能なネガ型平版印刷版原版
を製造する場合には、さらに有用なレーザー露光可能な
感光層用材料として、光重合系ホトポリマー感光材料が
挙げられる。上記光重合系ホトポリマー感光材料を使用
する場合、上記感光層を塗布する前に、本発明の支持体
と感光層との密着力を向上させることを目的に、該支持
体上に特開平3−56177号公報、特開平8−320
551号公報に記載の応性官能基を有するシリコーン化
合物を含む接着層を設けることが好ましい。即ち、メタ
ノール、エタノール等の溶媒中にエチレンテトラメトキ
シシランやエチレンテトラエトキシシラン等のシラン化
合物を1〜20質量%の割合で溶解し、塩酸、硝酸、燐
酸、スルホン酸等の酸触媒のもとで加水分解させる。そ
して、−Si−O−Si−結合を形成させてゾル化さ
せ、これを本発明の支持体上に接着層として設けること
ができる。その際、上記シラン化合物をメタノール等の
適当な溶媒に溶解することで、粘度を0.2mPa・s
(0.2センチポイズ)〜2000mPa・s(20ポ
イズ)の範囲内に調整し、乾燥後の塗布質量を1〜10
0mg/m2とするのがよい。上記接着層表面に光重合
系ホトポリマー感光材料である付加重合性不飽和結合を
有する重合可能な化合物(末端エチレン性光重合性基を
有する化合物)を有する感光層を設けることができる。
該感光層には、光重合開始剤、有機高分子結合剤、着色
剤、可塑剤、熱重合禁止剤等を含まれてもよい。
[Photopolymerizable Photopolymer Laser Recording Material] In the case of producing a negative type lithographic printing plate precursor that can be exposed to an infrared laser, a photopolymerizable photopolymer photosensitive material is used as a further useful material for a photosensitive layer capable of laser exposure. Materials. When the photopolymerizable photopolymer photosensitive material is used, prior to the application of the photosensitive layer, the support is coated on the support with the aim of improving the adhesion between the support and the photosensitive layer. No. 56177, JP-A-8-320
It is preferable to provide an adhesive layer containing a silicone compound having a reactive functional group described in JP-A-551-551. That is, a silane compound such as ethylene tetramethoxy silane or ethylene tetraethoxy silane is dissolved in a solvent such as methanol or ethanol at a ratio of 1 to 20% by mass, and is dissolved under an acid catalyst such as hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, and sulfonic acid. For hydrolysis. Then, a -Si-O-Si- bond is formed to form a sol, which can be provided as an adhesive layer on the support of the present invention. At this time, the viscosity is 0.2 mPa · s by dissolving the silane compound in a suitable solvent such as methanol.
(0.2 centipoise) to 2000 mPa · s (20 poise), and adjust the applied mass after drying to 1 to 10 mPa · s (20 poise).
It is preferably 0 mg / m 2 . A photosensitive layer having a polymerizable compound having an addition-polymerizable unsaturated bond (compound having a terminal ethylenic photopolymerizable group), which is a photopolymerizable photopolymer photosensitive material, can be provided on the surface of the adhesive layer.
The photosensitive layer may contain a photopolymerization initiator, an organic polymer binder, a coloring agent, a plasticizer, a thermal polymerization inhibitor, and the like.

【0160】上記末端エチレン性不飽和結合を有する化
合物としては、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコー
ル化合物とのエステル(アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、イタコン酸エステル、マレイン酸エステ
ル等)、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物と
のアミド(メチレンビスアクリルアミド、キシリレンビ
スアクリルアミド等)等が挙げられる。上記光重合開始
剤にはチタノセン化合物、トリアジン系、ベンゾフェノ
ン系、ベンゾイミダゾール系の増感剤を使用できる。ま
た、シアニン色素、メロシアニン色素、キサンテン色
素、クマリン色素等の増感剤を使用してもよい。このよ
うな組成の感光性組成物を本発明の支持体表面に乾燥後
の塗設量が1〜3g/m2の感光層を設けることで、赤
外線レーザー露光可能なネガ型の平版印刷版原版を作製
できる。
Examples of the compound having a terminal ethylenically unsaturated bond include esters of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound (eg, acrylates, methacrylates, itaconates, and maleates), and the like. An amide of a saturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound (such as methylenebisacrylamide and xylylenebisacrylamide) is exemplified. As the photopolymerization initiator, a titanocene compound, a triazine-based, a benzophenone-based, or a benzimidazole-based sensitizer can be used. Further, a sensitizer such as a cyanine dye, a merocyanine dye, a xanthene dye, and a coumarin dye may be used. A negative type lithographic printing plate precursor capable of being exposed to infrared laser is provided by providing a photosensitive layer having a coating amount of 1 to 3 g / m 2 after drying the photosensitive composition having such a composition on the surface of the support of the present invention. Can be produced.

【0161】〔光架橋系ホトポリマー型レーザー記録材
料〕また、上記感光層用材料には光架橋系ホトポリマー
を用いてもよい。上記光架橋系ホトポリマーとしては、
例えば、特開昭52−96696号公報に開示されてい
るポリエステル化合物、英国特許第1,112,277
号明細書等に記載のポリビニルシンナメート系樹脂が好
ましく、マレイミド基を側鎖に有する特開昭62−78
544号公報に記載のものがさらに好ましい。
[Photocrosslinking Photopolymer Type Laser Recording Material] A photocrosslinking photopolymer may be used as the material for the photosensitive layer. As the photocrosslinkable photopolymer,
For example, polyester compounds disclosed in JP-A-52-96696, British Patent No. 1,112,277
JP-A-62-278 having a maleimide group in a side chain is preferred.
No. 544 is more preferable.

【0162】〔スルホネート型赤外線レーザー記録材
料〕さらに,上記感光層用材料として、スルホネート型
赤外線レーザー記録材料を用いてもよい。上記スルホネ
ート型赤外線レーザー記録材料としては、例えば、特登
録270480号公報、特登録2704872号公報等
に開示されているスルホネート化合物を用いることがで
きる。また、赤外線レーザー照射によって発生した熱に
よってスルホン酸を発生し、水に可溶化する感光材料
や、スチレンスルホン酸エステルをゾルゲルで固め、そ
の後赤外線レーザーを照射することで表面極性が変化す
る感光材料や、特願平9−89816号明細書、特願平
10−22406号明細書、特願平10−027655
号明細書に記載されているレーザー露光によって疎水性
表面が親水性に変化する感光材料等を用いることができ
る。また、以上の熱によってスルホン酸基を発生し得る
高分子化合物からなる感光層の特性をさらに改善するた
めには、つぎに挙げる方法を併用するのが好ましい。か
かる方法としては、(1)特願平10−7062号明細
書に記載された酸もしくは塩基発生剤との併用による方
法、(2)特願平9−340358号明細書に記載され
た特定の中間層を設ける方法、(3)特願平9−248
994号明細書に記載された特定の架橋剤を併用する方
法、(4)特願平10−43921号明細書に記載され
た特定の層構造を形成する方法、(5)特願平10−1
15354号明細書に記載された固体粒子表面修飾の様
態で使用する方法等を挙げることができる。
[Sulfonate-type infrared laser recording material] Further, as the material for the photosensitive layer, a sulfonate-type infrared laser recording material may be used. As the above-mentioned sulfonate type infrared laser recording material, for example, sulfonate compounds disclosed in JP-A-270480, JP-A-2704872, and the like can be used. In addition, photosensitive materials that generate sulfonic acid by the heat generated by infrared laser irradiation and are solubilized in water, and photosensitive materials whose surface polarity changes by irradiating infrared laser with solidifying styrene sulfonic acid ester with sol-gel, Japanese Patent Application No. 9-89816, Japanese Patent Application No. 10-22406, Japanese Patent Application No. 10-027655.
It is possible to use a photosensitive material whose hydrophobic surface changes to hydrophilic by laser exposure described in the specification. In order to further improve the characteristics of the photosensitive layer made of a polymer compound capable of generating a sulfonic acid group by the above heat, it is preferable to use the following methods in combination. Examples of such a method include (1) a method using in combination with an acid or base generator described in Japanese Patent Application No. 10-7062, and (2) a specific method described in Japanese Patent Application No. 9-340358. Method of providing an intermediate layer, (3) Japanese Patent Application No. 9-248
No. 994, JP-A-10-43921, and (5) Japanese Patent Application No. 10-43921. 1
Examples thereof include a method used in the mode of modifying the surface of solid particles described in the specification of JP-A No. 15354.

【0163】レーザー露光によって発生する熱を利用し
て感光層の親/疎水性を変化させる組成物の他の例とし
ては例えば、US第2764085号明細書に記載のW
erner錯体からなる熱によって疎水性に変化する組
成物や、特公昭46−27219号公報に記載の特定の
糖類や、メラミンホルムアルデヒド樹脂等の露光によっ
て親水性に変化する組成物や、特開昭51−63704
号公報に記載のヒートモード露光によって疎水性に変化
する組成物や、US第4081572号明細書に記載の
フタリルヒドラジドポリマーのように熱によって脱水/
疎水化するポリマーからなる組成物や、特公平3−58
100号公報に記載のテトラゾリウム塩構造を有し熱に
よって親水化する組成物や、特開昭60−132760
号公報に記載のスルホン酸変性ポリマーからなる露光に
よって疎水化する組成物や、特開昭64−3543号公
報に記載のイミド前駆体ポリマーからなる露光によって
疎水化する組成物や、特開昭51−74706号公報に
記載のフッ化炭素ポリマーからなる露光によって親水化
する組成物を挙げることができる。
Other examples of the composition for changing the hydrophilicity / hydrophobicity of the photosensitive layer by utilizing the heat generated by laser exposure include, for example, the W described in US Pat. No. 2,764,085.
a composition comprising an erner complex which changes to hydrophobic by heat, a specific saccharide described in JP-B-46-27219, a composition which changes to hydrophilic upon exposure to a melamine formaldehyde resin or the like; -63704
No. 4,081,572, which is dehydrated by heat, such as a phthalyl hydrazide polymer described in US Pat. No. 4,081,572.
A composition comprising a polymer to be hydrophobized;
JP-A-60-132760 which discloses a composition having a tetrazolium salt structure described in JP-A-100
JP-A-64-3543, a composition comprising an imide precursor polymer described in JP-A-64-3543, and a composition which becomes hydrophobic by exposure. JP-A-74706 discloses a composition comprising a fluorocarbon polymer, which is made hydrophilic by exposure to light.

【0164】さらに、特開平3−197190号公報に
記載の疎水性結晶性ポリマーからなる露光によって親水
性に変化する組成物や、特開平7−186562号公報
に記載の熱によって不溶化された側基が親水性に変化す
るポリマーと光熱変換剤からなる組成物や、特開平7−
1849号公報に記載のマイクロカプセルを含有する三
次元架橋された親水性バインダーからなり露光によって
疎水化する組成物や、特開平8−3463号公報に記載
の原子価異性化またはプロトン移動異性化する組成物
や、特開平8−141819号公報に記載の熱によって
層内の相構造変化(相溶化)を生じ、親水性/疎水性を
変化させる組成物や、特公昭60−228号公報に記載
の熱によって表面の形態、表面の親水性/疎水性が変化
する組成物をあげることができる。
Further, a composition comprising a hydrophobic crystalline polymer which is made hydrophilic by exposure described in JP-A-3-197190 and a side group insolubilized by heat described in JP-A-7-186562 are disclosed. Comprising a polymer which changes into hydrophilic and a photothermal conversion agent;
A composition comprising a three-dimensionally cross-linked hydrophilic binder containing microcapsules described in JP-A-1849 and hydrophobized by exposure, or valence isomerization or proton transfer isomerization described in JP-A-8-3463. JP-A-60-228 describes a composition, a composition that changes the phase structure (compatibilization) in a layer by heat described in JP-A-8-141819 and changes hydrophilicity / hydrophobicity, and JP-B-60-228. A composition in which the surface morphology and the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface are changed by the heat of the above.

【0165】好ましい上記感光層用材料の他の例とし
て、高パワーおよび高密度のレーザ光によって発生した
熱を利用する、いわゆるヒートモード露光によって、感
光層/支持体間の接着性を変化させる組成物をあげるこ
とができる。具体的には、特公昭44−22957号公
報に記載の熱融着性または熱反応性物質からなる組成物
を用いることができる。
Another preferred example of the photosensitive layer material is a composition which changes the adhesiveness between the photosensitive layer and the support by so-called heat mode exposure utilizing heat generated by high power and high density laser light. You can give things. Specifically, a composition comprising a heat-fusible or heat-reactive substance described in JP-B-44-22957 can be used.

【0166】〔電子写真感光性樹脂系レーザー記録材
料〕また、本発明の平版印刷版原版の感光層として、例
えば、米国特許第3,001,872号明細書に開示さ
ているZnO感光層を設けてもよく、特開昭56−16
1550号公報、特開昭60−186847号公報、特
開昭61−238063号公報等の各公報に記載されて
いる電子写真感光性樹脂を用いた感光層を設けてもよ
い。本発明の支持体上に設けられる感光層の塗布量とし
ては、塗布後の乾燥質量で、約0.1〜約7g/m2
好ましくは0.5〜4g/m2が好ましい。
[Electrophotographic photosensitive resin-based laser recording material] As a photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, for example, a ZnO photosensitive layer disclosed in US Pat. No. 3,001,872 is provided. And JP-A-56-16
A photosensitive layer using an electrophotographic photosensitive resin described in JP-A No. 1550, JP-A-60-186847, JP-A-61-238063 or the like may be provided. The coating amount of the photosensitive layer provided on the support of the present invention may be about 0.1 to about 7 g / m 2 in terms of dry mass after coating,
Preferably, it is 0.5 to 4 g / m 2 .

【0167】電子写真法は、特公昭37−17162号
公報にその基本特許が開示されており、それ以外に特開
昭56−107246号公報、特公昭59−36259
号公報等の各公報に開示されている方法を用いることが
できる。上記電子写真感光性樹脂は、主として、光導電
性化合物とバインダーとからなるが、感度向上、所望の
感光波長を得る目的のため、公知の顔料、染料、化学増
感剤、その他必要の添加剤を使用することができる。
The basic patent of the electrophotographic method is disclosed in Japanese Patent Publication No. 37-17162, and in addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-107246 and Japanese Patent Publication No. 59-36259.
The method disclosed in each gazette such as the gazette can be used. The electrophotographic photosensitive resin is mainly composed of a photoconductive compound and a binder. For the purpose of improving sensitivity and obtaining a desired photosensitive wavelength, known pigments, dyes, chemical sensitizers, and other necessary additives are used. Can be used.

【0168】本発明における平版印刷版原版には、本発
明の支持体と感光層との密着性を高めるためや、現像後
に感光層の残存しないようにするため、またはハレーシ
ョンを防止する等の目的で、必要に応じて中間層を設け
てもよい。上記密着性を向上させるためには、一般に中
間層には、ジアゾ樹脂や、例えばアルミに吸着するリン
酸化合物、アミノ化合物、カルボン酸化合物等を用いる
のが好ましい。また、現像後に感光層が残存しないよう
にするには、溶解性の高い物質を用いて中間層を設ける
のが好ましく、溶解性の良好なポリマーや、水溶性ポリ
マーを用いるのが好ましい。さらにハレーションを防止
するためには、上記中間層に染料やUV吸収剤を含める
のが好ましい。上記中間層の厚さは任意であり、露光し
た時に、上層の感光層と均一な結合形成反応をする厚み
でなければならない。通常、乾燥固体で約1〜100m
g/m 2の塗布割合が好ましく、5〜40mg/m2がさ
らに好ましい。
The planographic printing plate precursor according to the invention includes
To increase the adhesion between the light-sensitive support and the photosensitive layer, or after development
To prevent the photosensitive layer from remaining on the
Provide an intermediate layer as necessary to prevent
You may. In order to improve the adhesion, generally
In the interlayer, a diazo resin or a phosphor adsorbing to aluminum, for example, is used.
Use acid compounds, amino compounds, carboxylic acid compounds, etc.
Is preferred. Also, make sure that the photosensitive layer does not remain after development.
To provide an intermediate layer using a highly soluble substance
Preferably, a polymer having good solubility or a water-soluble polymer
It is preferred to use a mer. Further prevention of halation
To do so, include a dye or UV absorber in the intermediate layer
Is preferred. The thickness of the intermediate layer is arbitrary,
Thickness that causes a uniform bond formation reaction with the upper photosensitive layer when
Must. Usually about 1-100m with dry solid
g / m TwoIs preferable, and 5 to 40 mg / mTwoGasa
More preferred.

【0169】また、塗布された感光層上には相互に独立
して設けられた突起物によって構成されるマット層を設
けてもよい。該マット層を設ける目的は、密着露光にお
けるネガ画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着
性を改良することで、真空引き時間を短縮し、さらに密
着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止すること
である。上記マット層の塗布方法としては、特開昭55
−12974号公報に記載されているパウダリングされ
た固体粉末を熱融着する方法や、特開昭58−1826
36号公報に記載されているポリマー含有水をスプレー
し乾燥させる方法等があり適宜選択できるが、マット層
自体が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液
に溶解するか、あるいはこれによって除去可能なものが
好ましい。
A mat layer composed of protrusions provided independently of each other may be provided on the applied photosensitive layer. The purpose of providing the mat layer is to improve the vacuum adhesion between the negative image film and the photosensitive lithographic printing plate in the contact exposure, thereby shortening the evacuation time and further crushing the fine halftone dots at the time of exposure due to poor adhesion. Is to prevent. As a method for coating the mat layer, see
Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-1826 discloses a method for heat-sealing powdered solid powder described in JP-A-12974.
A method of spraying and drying polymer-containing water described in Japanese Patent Publication No. 36 can be selected as appropriate, but the matte layer itself is dissolved in an aqueous alkali developer containing substantially no organic solvent or removed by this. Possible ones are preferred.

【0170】以上のようにして設けられた電子写真感光
性樹脂系レーザ記録材料を除いた感光層は、ポジ型感光
層またはネガ型感光層のいずれの場合でも、乾燥重量1
〜3g/m2とすることが好ましく、1.5〜2.5g
/m2とすることがより好ましい。また、前記感光層上
には、乾燥重量0.001〜1g/m2(より好ましく
は0.005〜0.2g/m2)の公知のマット層が順
次形成されていることが好ましい。さらに、平版印刷版
原版の平均表面粗さ(Ra:JIS B0601−19
94)は、0.3〜0.6μmであることが好ましく
0.35〜0.55であることがより好ましい。L*値
は50〜95であることが好ましく60〜90であるこ
とがより好ましい。デルタEab*は2以下であること
が好ましく、0〜1であることがより好ましい。ここで
L*値およびデルタEab*は、JIS Z8729−
1980に定義されているL*値およびデルタEab*
をいう。また、平版印刷版原版の平均表面粗さ(R
a)、L*値およびデルタEab*は、感光層等が形成
されていない、平版印刷版用支持体の状態での値をい
う。
The photosensitive layer provided as described above, excluding the electrophotographic photosensitive resin-based laser recording material, has a dry weight of 1 regardless of whether it is a positive photosensitive layer or a negative photosensitive layer.
33 g / m 2 , preferably 1.5-2.5 g
/ M 2 is more preferable. It is preferable that a known mat layer having a dry weight of 0.001 to 1 g / m 2 (more preferably 0.005 to 0.2 g / m 2 ) is sequentially formed on the photosensitive layer. Further, the average surface roughness of the lithographic printing plate precursor (Ra: JIS B0601-19)
94) is preferably from 0.3 to 0.6 μm, more preferably from 0.35 to 0.55. The L * value is preferably from 50 to 95, and more preferably from 60 to 90. Delta Eab * is preferably 2 or less, more preferably 0 to 1. Here, the L * value and the delta Eab * are based on JIS Z8729-
L * value and delta Eab * defined in 1980
Say. In addition, the average surface roughness of the lithographic printing plate precursor (R
a), L * value and delta Eab * refer to values in a state of a lithographic printing plate support on which a photosensitive layer or the like is not formed.

【0171】<<平版印刷版>>上述の本発明の支持体
上に感光層が設けられた平版印刷版原版は、赤外線レー
ザー等によって露光され、アルカリ現像液等で現像処理
されて平版印刷版となる。露光に用いる光源は、700
〜1200nmの赤外線レーザーをもちいることができ
る。近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化および
標準化のため、印刷用版材の自動現像機が広く用いられ
ており、本発明法もその自動現像機を用いることが好ま
しい。露光された本発明の平版印刷版原版の現像には、
特開昭54−62004号公報に記載されているケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸アルカリを主成
分とする現像液や、遊離アルデヒド基やケトン基を持た
ず還元性を示さないサッカロース、トレハロース等の非
還元糖を主成分とする特開平8−305039号公報に
記載の現像液が使用できる。さらに、これに水酸化カリ
ウム等のアルカリ剤や、特開平6−282079号公報
に開示されている糖アルコールのポリエチレングリコー
ル付加物等現像安定化剤や、ハイドロキノン等の還元剤
や、エチレンジアミン等の硬水軟化剤や、ノニオン性、
アニオン性、または両性界面活性剤、あるいは特公平3
−54339号公報に開示されているポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の界面活性剤
等を添加することができる。ケイ酸アルカリの場合は、
SiO2/M2Oのモル比(Mはアルカリ金属を表す)
が、0.3〜3.0の範囲内にあることが好ましい。こ
の現像処理によって、表面にSiを付着させることが出
来る。また、表面に存在するSi元素量をESCAで測
定することも可能である。さらに、C、Al、O、S、
Si、Ca量を測定し、その元素比率(atom.%)
として算出する。上記Si量は、1〜25atom.
%、特に5〜20atom.%であることが好ましい。
この範囲にSi量があれば、赤外線レーザー光照射時の
ハレーション防止に有効である。
<< Lithographic Printing Plate >> The lithographic printing plate precursor described above, in which the photosensitive layer is provided on the support of the present invention, is exposed by an infrared laser or the like, developed with an alkali developing solution or the like, and processed. Becomes The light source used for exposure is 700
An infrared laser of ~ 1200 nm can be used. In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations, and it is preferable to use the automatic developing machine also in the method of the present invention. In developing the exposed lithographic printing plate precursor of the present invention,
JP-A-54-62004 describes a developer mainly containing an alkali silicate such as sodium silicate and potassium silicate, and saccharose having no free aldehyde group or ketone group and showing no reducibility. The developer described in JP-A-8-305039 containing a non-reducing sugar such as trehalose as a main component can be used. Furthermore, an alkali agent such as potassium hydroxide, a development stabilizer such as a polyethylene glycol adduct of a sugar alcohol disclosed in JP-A-6-282079, a reducing agent such as hydroquinone, and a hard water such as ethylenediamine. Softener, nonionic,
Anionic or amphoteric surfactant, or Japanese Patent Publication 3
For example, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type surfactant disclosed in JP-A-54339 can be added. In the case of alkali silicate,
The molar ratio of SiO 2 / M 2 O (M represents an alkali metal)
Is preferably in the range of 0.3 to 3.0. By this development processing, Si can be attached to the surface. Further, it is also possible to measure the amount of Si element present on the surface by ESCA. Further, C, Al, O, S,
The amounts of Si and Ca were measured, and their element ratios (atom.%)
Is calculated as The Si amount is 1 to 25 atom.
%, Especially 5 to 20 atom. %.
If the Si content is in this range, it is effective in preventing halation at the time of irradiating infrared laser light.

【0172】一方、上記非還元糖を主成分とする現像液
の場合は、予めアルミニウム支持体の表面をシリケート
処理等で親水化処理しておく必要がある。この場合で
も、現像後に表面に付着しているSi量は1〜25at
om.%が好ましい。上記において、現像は自動現像機
を用いて行うことが好ましく、現像液よりも高いアルカ
リ強度の補充液を現像液に加えることによって長時間安
定に現像処理することができる。この補充液には、現像
カスの分散および印刷画像部の親インキ性を高めるため
にアニオン系等の界面活性剤を添加できる。さらに、必
要に応じて消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
On the other hand, in the case of the developer containing the above-mentioned non-reducing sugar as a main component, it is necessary to previously hydrophilize the surface of the aluminum support by silicate treatment or the like. Even in this case, the amount of Si adhering to the surface after development is 1 to 25 at.
om. % Is preferred. In the above, the development is preferably carried out using an automatic developing machine. By adding a replenisher having a higher alkali strength than the developer to the developer, the development can be stably performed for a long time. A surfactant such as an anionic surfactant can be added to the replenisher in order to disperse the developing residue and increase the ink affinity of the printed image area. Further, if necessary, an antifoaming agent and a water softener can be added.

【0173】現像処理された平版印刷版原版の表面は、
界面活性剤を有するリンス液やアラビヤガムや澱粉誘導
体を含む不感脂化液で後処理するのが好ましい。アラビ
ヤガムや澱粉誘導体を固形分濃度で5〜15質量%含有
する水溶液を使用する場合には、ウェット塗布量が1〜
10ml/m2となるように現像後の表面を保護する。
また、乾燥後の塗布量としては、1〜5g/m2が好ま
しい。さらに、一層の高耐刷力が要求される場合には、
特公昭61−2518号公報に記載されているバーニン
グ処理を施すのが好ましい。また、塗布方法としては、
特公昭55−28062号公報に開示されている整面液
をスポンジや脱脂綿で塗布するか、自動コーターで塗布
する等が挙げられる。整面液を用いる場合は、一般に
0.3〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。
The surface of the developed lithographic printing plate precursor is as follows:
It is preferable to carry out a post-treatment with a rinsing solution having a surfactant or a desensitizing solution containing arabic gum or a starch derivative. When using an aqueous solution containing 5 to 15% by mass of arabic gum or a starch derivative at a solid content concentration, the wet application amount is 1 to
The surface after development is protected to 10 ml / m 2 .
Further, the coating amount after drying is preferably from 1 to 5 g / m 2 . Furthermore, when higher printing durability is required,
It is preferable to perform a burning treatment described in JP-B-61-2518. Also, as the application method,
For example, the surface conditioning liquid disclosed in Japanese Patent Publication No. 55-28062 may be applied with a sponge or absorbent cotton, or may be applied with an automatic coater. When a surface conditioning liquid is used, generally, 0.3 to 0.8 g / m 2 (dry mass) is appropriate.

【0174】以上のように、本発明の平版印刷版原版
は、画像露光された後、常法によって現像を含む処理を
施され、樹脂画像が形成されて平版印刷版となる。例え
ば、上記〔I〕の感光層を有する感光性平版印刷版原版
の場合は、画像露光後、米国特許第4,259,434
号明細書に記載されているようなアルカリ水溶液で現像
することにより露光部分が除去されて、平版印刷版が得
られ、上記〔II〕の感光層を有する平版印刷版原版の
場合には、画像露光後、米国特許第4,186,006
号明細書に記載されているような現像液で、未露光部の
感光層が現像によって除去されて平版印刷版が得られ
る。また、特開昭59−84241号公報、特開昭57
−192952号公報、および特開昭62−24263
号公報の各公報に記載されているようなポジ型平版印刷
版原版を現像する際に用いられる水性アルカリ現像液組
成物を使用することもできる。
As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention is subjected to processing including development by an ordinary method after image exposure, and a resin image is formed to form a lithographic printing plate. For example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate precursor having the photosensitive layer of the above [I], after image exposure, U.S. Pat. No. 4,259,434.
The exposed portion is removed by developing with an alkaline aqueous solution as described in the specification, a lithographic printing plate is obtained, and in the case of the lithographic printing plate precursor having the photosensitive layer of the above [II], After exposure, US Pat. No. 4,186,006
The photosensitive layer in the unexposed areas is removed by development with a developing solution as described in the specification, and a lithographic printing plate is obtained. Also, JP-A-59-84241 and JP-A-57-84241
192,952 and JP-A-62-24263.
An aqueous alkaline developer composition used for developing a positive-working lithographic printing plate precursor as described in each of the publications can also be used.

【0175】[0175]

【実施例】本発明を以下に示す実施例により具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものでない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0176】(実施例1)表1に示す組成のアルミニウ
ム合金板を使用して、以下に説明する、アルカリエッ
チング処理、デスマット処理、電解粗面化処理、
アルカリエッチング処理、デスマット処理、陽極酸
化処理、を順次施して平版印刷版用支持体を製造した。
Example 1 Using an aluminum alloy plate having the composition shown in Table 1, alkali etching, desmutting, electrolytic surface roughening,
An alkali etching treatment, a desmutting treatment, and an anodic oxidation treatment were sequentially performed to produce a lithographic printing plate support.

【0177】[0177]

【表1】 [Table 1]

【0178】アルカリエッチング処理:70℃のアル
カリ水溶液(NaOH:27質量%、アルミニウムイオ
ン:6.5質量%)をスプレー管より吹き付けてアルミ
ニウム合金板のアルカリエッチング処理を行った(アル
カリエッチング処理工程)。後の工程で電気化学的に粗
面化処理する面のアルミニウム合金板の溶解量は6g/
2であった。また、その裏面のアルミニウム合金板の
溶解量は1g/m2であった。アルカリ水溶液の濃度
は、予めNaOH濃度とアルミニウムイオン濃度と温度
と比重と液の導電率の関係より作成したテーブルを参照
にし、温度と比重と導電率によりアルカリ水溶液の濃度
を求め、フィードバック制御により水とNaOH48質
量%液とを添加してアルカリ水溶液濃度を一定に保っ
た。その後、水の噴射圧力を2kg/cm2、アルミニ
ウム合金板の移動速度を30m/min、吹き付けた水
の量を5リットル/m2とし、水による洗浄処理(水洗
処理)を行った。
Alkali etching treatment: An alkaline aqueous solution (NaOH: 27% by mass, aluminum ion: 6.5% by mass) at 70 ° C. was sprayed from a spray tube to perform an alkali etching treatment on the aluminum alloy plate (alkali etching treatment step). . The dissolution amount of the aluminum alloy plate on the surface to be electrochemically roughened in a later step is 6 g /
m 2 . The dissolution amount of the aluminum alloy plate on the back surface was 1 g / m 2 . For the concentration of the alkaline aqueous solution, refer to a table created in advance from the relationship between the NaOH concentration, the aluminum ion concentration, the temperature, the specific gravity, and the conductivity of the liquid. And a 48% by mass NaOH solution were added to keep the concentration of the alkaline aqueous solution constant. Thereafter, a water washing treatment (water washing treatment) was performed with a water injection pressure of 2 kg / cm 2 , a moving speed of the aluminum alloy plate of 30 m / min, and an amount of sprayed water of 5 L / m 2 .

【0179】デスマット処理:次に、塩酸水溶液を酸
性溶液としてアルミニウム合金板にデスマット処理を施
した(デスマット処理工程)。デスマット処理に用いる
塩酸水溶液は、次工程の電解粗面化処理に用いた塩酸の
廃液を用いた。その液温(処理温度)は45℃、濃度は
塩酸7.5g/リットル(その中に含まれるアルミニウ
ム濃度5g/リットル)とした。酸性溶液はスプレーに
て吹き付けて2秒間デスマット処理を行った。その後、
上記と同様の水洗処理を行った。
Desmutting treatment: Next, the aluminum alloy plate was subjected to desmutting treatment using an aqueous hydrochloric acid solution as an acidic solution (desmutting treatment step). As the hydrochloric acid aqueous solution used for the desmut treatment, a waste liquid of the hydrochloric acid used for the electrolytic surface roughening treatment in the next step was used. The liquid temperature (treatment temperature) was 45 ° C., and the concentration was 7.5 g / liter of hydrochloric acid (the concentration of aluminum contained therein was 5 g / liter). The acidic solution was sprayed with a spray to perform a desmutting treatment for 2 seconds. afterwards,
The same water washing treatment as above was performed.

【0180】電解粗面化処理:60Hzの商用交流を
誘導電圧調整器および変圧器にて電流・電圧調整したサ
イン波を発生する交流電流(アルミニウム合金板が陽極
である電気量QAと陰極である電気量QCとの比:QC
/QA=1、交流のduty:1)を用いて連続的に電
解粗面化処理を行った(電解粗面化処理工程)。0から
ピークまでに達する時間は、4.15msecとした。
図3に示す電解槽を用い、主極はカーボン電極を用い
た。図3の主電解槽10を通過するまでのQC/QA
は、0.95であった。液温45℃、塩酸濃度7.5g
/リットルの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアル
ミニウムイオン濃度を5g/リットルに調整した電解液
を用いた。
Electrolytic surface-roughening treatment: AC current for generating a sine wave obtained by adjusting the current and voltage of a commercial alternating current of 60 Hz by an induction voltage regulator and a transformer (electrical quantity QA in which an aluminum alloy plate is an anode and cathode). Ratio to electric quantity QC: QC
The electrolytic surface roughening treatment was continuously performed using / QA = 1, AC duty: 1) (electrolytic surface roughening treatment step). The time from 0 to the peak was 4.15 msec.
The electrolytic cell shown in FIG. 3 was used, and the main electrode was a carbon electrode. QC / QA until passing through main electrolytic cell 10 in FIG.
Was 0.95. Liquid temperature 45 ° C, hydrochloric acid concentration 7.5 g
An aluminum chloride was added to a 1 / liter aqueous solution to adjust the aluminum ion concentration to 5 g / liter, and an electrolytic solution was used.

【0181】電流密度は交流のピーク時でアルミニウム
合金板のアノード反応時、カソード反応時それぞれ50
A/dm2であった。アルミニウム合金板に加わる電気
量は、アルミニウム合金板の陽極時の電気量の総和で4
00C/dm2であった。その後、上記と同様の水洗処
理を行った。
The current density was 50 at the time of the peak of AC and at the time of the anode reaction and the cathode reaction of the aluminum alloy plate.
A / dm 2 . The amount of electricity applied to the aluminum alloy plate is the sum of the amount of electricity at the time of anode of the aluminum alloy plate, which is 4
It was 00 C / dm 2 . Thereafter, the same water washing treatment as described above was performed.

【0182】なお、塩酸水溶液の濃度制御は、35質量
%の塩酸原液と水とを、通電量に比例して添加し、塩酸
と水との添加容積と同量の酸性電解液を逐次循環タンク
からオーバーフローさせて循環タンク系外に排出すると
ともに、予め塩酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度
と液の導電率と液の超音波伝搬速度の関係より作成した
テーブルを参照し、温度と導電率と超音波伝搬速度によ
り塩酸水溶液の濃度を求め、塩酸原液と水の添加量を逐
次調整する制御を行って濃度を一定に保った。循環タン
クからはオーバーフローにより液を系外に排出した。
The concentration of the hydrochloric acid aqueous solution was controlled by adding a 35% by mass hydrochloric acid stock solution and water in proportion to the amount of electricity supplied, and successively circulating an acidic electrolytic solution having the same volume as the added volume of hydrochloric acid and water. From the circulation tank system, and refer to the table created from the relationship between the hydrochloric acid concentration, the aluminum ion concentration, the temperature, the conductivity of the liquid, and the ultrasonic wave propagation speed of the liquid, and determine the temperature, conductivity, and The concentration of the aqueous hydrochloric acid solution was determined from the sound wave propagation speed, and the concentration was kept constant by performing control to sequentially adjust the addition amounts of the hydrochloric acid stock solution and water. The liquid was discharged out of the system from the circulation tank by overflow.

【0183】アルカリエッチング処理:45℃のアル
カリ水溶液(NaOH:5質量%、アルミニウムイオ
ン:0.5質量%)をスプレー管より吹き付けてアルミ
ニウム合金板のアルカリエッチング処理を行った(アル
カリエッチング処理工程)。前の工程で電解粗面化処理
した面のアルミニウム合金板の溶解量は0.1g/m2
であった。その裏面のアルミニウム合金板の溶解量は
0.1g/m2であった。アルカリ水溶液の濃度は、予
めNaOH濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重
と液の導電率の関係より作成したテーブルを参照にし、
温度と比重と導電率によりアルカリ水溶液の濃度を求
め、フィードバック制御により水とNaOH48質量%
液とを添加してアルカリ水溶液の濃度を一定に保った。
その後、上記と同様の水洗処理を行った。
Alkali etching treatment: An alkaline aqueous solution (NaOH: 5% by mass, aluminum ion: 0.5% by mass) at 45 ° C. was sprayed from a spray tube to perform an alkali etching treatment on the aluminum alloy plate (alkali etching treatment step). . The dissolution amount of the aluminum alloy plate on the surface subjected to the electrolytic surface roughening treatment in the previous step is 0.1 g / m 2.
Met. The dissolution amount of the aluminum alloy plate on the back surface was 0.1 g / m 2 . For the concentration of the alkaline aqueous solution, refer to a table created in advance from the relationship between the NaOH concentration, the aluminum ion concentration, the temperature, the specific gravity, and the conductivity of the liquid,
The concentration of the aqueous alkali solution is determined from the temperature, specific gravity, and conductivity, and water and NaOH are 48 mass% by feedback control.
And the concentration of the aqueous alkaline solution was kept constant.
Thereafter, the same water washing treatment as described above was performed.

【0184】デスマット処理:次に、硫酸を酸性溶液
としてアルミニウム合金板にデスマット処理を施した
(デスマット処理工程)。硫酸濃度は300g/リット
ル(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)、液温
は70℃とし、スプレーにて吹き付けて2秒間デスマッ
ト処理を行った。液の濃度は予め硫酸濃度とアルミニウ
ムイオン濃度と温度と比重と液の導電率の関係より作成
したテーブルを参照し、温度と比重と導電率により液濃
度を求め、フィードバック制御により水と50質量%の
硫酸とを添加して液濃度を一定に保った。その後、上記
と同様の水洗処理を行った。
Desmutting treatment: Next, the aluminum alloy plate was subjected to desmutting treatment using sulfuric acid as an acidic solution (desmutting treatment step). The sulfuric acid concentration was 300 g / liter (containing 5 g / liter of aluminum ions), the liquid temperature was 70 ° C., and desmutting was performed by spraying with a spray for 2 seconds. For the concentration of the liquid, refer to a table created in advance from the relationship between the sulfuric acid concentration, the aluminum ion concentration, the temperature, the specific gravity, and the conductivity of the liquid. And the sulfuric acid was added to keep the solution concentration constant. Thereafter, the same water washing treatment as described above was performed.

【0185】陽極酸化処理:次に、アルミニウム合金
板に対し、50℃の硫酸水溶液(硫酸濃度:100g/
リットル、アルミニウムイオン:5g/リットル)電解
液とし、直流電圧を用い、陽極酸化皮膜量が2.4g/
2になるように陽極酸化処理を行った(陽極酸化処理
工程)。電圧は20V、電流密度は10A/dm2、電
解時間(処理時間)は30秒とした。陽極酸化処理液の
濃度は予め硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と
比重と液の導電率の関係より作成したテーブルを参照に
し、温度と比重と導電率により液濃度を求め、フィード
バック制御により水と50質量%の硫酸とを添加して液
濃度を一定に保った。その後、上記と同様の水洗処理を
行った。
Anodizing treatment: Next, a 50 ° C. sulfuric acid aqueous solution (sulfuric acid concentration: 100 g /
Liter, aluminum ion: 5 g / liter) As an electrolyte, using a DC voltage, the amount of anodized film was 2.4 g / liter.
Anodizing treatment was performed so as to obtain m 2 (anodizing treatment step). The voltage was 20 V, the current density was 10 A / dm 2 , and the electrolysis time (treatment time) was 30 seconds. For the concentration of the anodizing solution, refer to a table created in advance from the relationship between the sulfuric acid concentration, the aluminum ion concentration, the temperature, the specific gravity, and the conductivity of the solution. The solution concentration was kept constant by adding 50% by weight of sulfuric acid. Thereafter, the same water washing treatment as described above was performed.

【0186】上記各処理を施して、平版印刷版用支持体
を製造した。走査型電子顕微鏡を用いて倍率750倍で
観察したところ、平版印刷板として好適な均一な凹凸を
有する表面形状を有していることが確認された。
Each of the above treatments was performed to produce a lithographic printing plate support. Observation at a magnification of 750 using a scanning electron microscope confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape with uniform irregularities suitable for a lithographic printing plate.

【0187】(実施例2)実施例1の電解粗面化処理に
用いる交流電流を台形波交流電流を発生する電源にした
以外は実施例1と同様にしてアルミニウム合金板に各処
理を施して平版印刷版用支持体を製造した。前記電解粗
面化処理における交流電流の周波数は60Hz、電流の
ゼロからピークに達するまでの時間Tpは2msecと
した。電流密度は交流のピーク時でアルミニウム合金板
のアノード反応時、カソード反応時それぞれ50A/d
2であった。アルミニウム合金板に加えた電気量は、
アルミニウム合金板の陽極時の電気量の総和で400C
/dm2であった。
(Example 2) The aluminum alloy plate was subjected to various treatments in the same manner as in Example 1 except that the AC current used in the electrolytic surface roughening treatment of Example 1 was changed to a power supply for generating a trapezoidal wave AC current. A lithographic printing plate support was produced. The frequency of the alternating current in the electrolytic surface-roughening treatment was 60 Hz, and the time Tp from the zero to the peak of the current was 2 msec. The current density was 50 A / d at the time of the peak of AC and at the time of the anodic reaction and the cathodic reaction of the aluminum alloy plate.
m 2 . The amount of electricity added to the aluminum alloy plate is
400C in total of the quantity of electricity at the time of anode of aluminum alloy plate
/ Dm 2 .

【0188】走査型電子顕微鏡を用いて倍率750倍で
観察したところ、平版印刷板として好適な均一な凹凸を
有する表面形状を有していることが確認された。
Observation with a scanning electron microscope at a magnification of 750 times confirmed that the lithographic printing plate had a surface with uniform unevenness suitable for a lithographic printing plate.

【0189】(実施例3)実施例1のアルカリエッチ
ング処理の前に、機械的粗面化処理を行い、塩酸水溶液
中での電解粗面化処理のアルミニウム合金板の陽極時の
電気量の総和を50C/dm2とした以外は実施例1と
同様にして平版印刷版用支持体を製造した。
(Example 3) Before the alkali etching treatment in Example 1, mechanical surface roughening treatment was performed, and the total amount of electricity at the time of anode of an aluminum alloy plate subjected to electrolytic surface roughening treatment in an aqueous hydrochloric acid solution. A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 1 except that the value was changed to 50 C / dm 2 .

【0190】機械的粗面化処理には、比重1.12の珪
砂と水の懸濁液を研磨スラリー液として、スプレー管に
てアルミニウム合金板の表面に供給しながら、回転する
ローラー状ナイロンブラシにより機械的粗面化を施し
た。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロンを使用
し、毛長50mmの3号ブラシを用いた。ナイロンブラ
シはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密に
なるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラ
シ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は3
00mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる
駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム合金
板に押さえつける前の負荷に対して管理し、粗面化後の
アルミニウム合金板の平均表面粗さ(Ra)が0.3〜
0.4μm(中心値:0.35μm)になるように押さ
えつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム合金板の移
動方向と同じであった。その後、水洗した。研磨剤の濃
度は、予め研磨材濃度と温度と比重の関係より作成した
テーブルを参照にし、温度と比重により研磨剤濃度を求
め、フィードバック制御により水と研磨剤を添加して研
磨材濃度を一定に保った。研磨剤は粉砕して粒度が小さ
くなり、粗面化されたアルミニウム合金板の表面形状が
変化するので、サイクロンにより粒度の小さな研磨材は
系外に逐次排出した。研磨剤の粒径は1〜15μmの範
囲にあり、堀場製レーザー粒度分布計(LA910)で
求めたその体積平均粒径は8μmであった。
For the mechanical surface roughening treatment, a roller-shaped nylon brush rotating while supplying a suspension of silica sand and water having a specific gravity of 1.12 as a polishing slurry to the surface of the aluminum alloy plate with a spray tube. Mechanically roughened. The nylon brush was made of nylon 6/10, and a No. 3 brush with a hair length of 50 mm was used. Nylon brushes were made by drilling holes in a stainless steel cylinder with a diameter of 300 mm and densely implanting the hairs. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200mm) below the brush is 3
00 mm. The brush roller controls the load of the drive motor for rotating the brush against the load before pressing the brush roller against the aluminum alloy plate, and the average surface roughness (Ra) of the roughened aluminum alloy plate is 0.3. ~
It was pressed down to 0.4 μm (center value: 0.35 μm). The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum alloy plate. Then, it was washed with water. For the concentration of the abrasive, refer to the table created from the relationship between the abrasive concentration, temperature and specific gravity in advance, find the abrasive concentration by temperature and specific gravity, and add water and abrasive by feedback control to keep the abrasive concentration constant Kept. Since the abrasive was pulverized to reduce the particle size and the surface shape of the roughened aluminum alloy plate changed, the abrasive having a small particle size was sequentially discharged out of the system by the cyclone. The particle size of the abrasive was in the range of 1 to 15 μm, and its volume average particle size determined by a Horiba laser particle size distribution analyzer (LA910) was 8 μm.

【0191】走査型電子顕微鏡を用いて倍率750倍で
観察したところ、平版印刷板として好適な均一な凹凸を
有する表面形状を有していることが確認された。
Observation at a magnification of 750 using a scanning electron microscope confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape having uniform unevenness suitable for a lithographic printing plate.

【0192】(実施例4)実施例1で使用したアルミニ
ウム合金板の材料にJIS1050H18材を用いた以
外は実施例1と同様にして平版印刷版用支持体を製造し
た。走査型電子顕微鏡を用いて倍率750倍で観察した
ところ、平版印刷板として好適な均一な凹凸を有する表
面形状を有していることが確認された。
Example 4 A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 1 except that JIS1050H18 was used as the material for the aluminum alloy plate used in Example 1. Observation at a magnification of 750 using a scanning electron microscope confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape with uniform irregularities suitable for a lithographic printing plate.

【0193】(実施例5)実施例3の電解粗面化処理の
電流密度を5A/dm2、アルミニウム合金板が陽極時
の電気量を100C/dm2とし、電解粗面化処理の後
のアルカリエッチング処理におけるアルミニウム溶解量
(電解粗面化処理が施された面の溶解量)を0.3g/
2とした以外は実施例3と同様にして平版印刷版用支
持体を製造した。走査型電子顕微鏡を用いて倍率750
倍で観察したところ、平版印刷板として好適な均一な凹
凸を有する表面形状を有していることが確認された。
(Example 5) The current density in the electrolytic surface roughening treatment of Example 3 was set to 5 A / dm 2 , and the electric quantity at the time of the anode of the aluminum alloy plate was set to 100 C / dm 2 . The dissolution amount of aluminum in the alkali etching treatment (dissolution amount of the surface subjected to the electrolytic surface roughening treatment) was set to 0.3 g /
except that the m 2 was making a lithographic printing plate support in the same manner as in Example 3. 750 magnification using a scanning electron microscope
Observation at × 2 confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape having uniform unevenness suitable for a lithographic printing plate.

【0194】(実施例6)実施例1の電解粗面化処理の
前に、40℃のジメチルアミノボラン2.0g/リット
ル含有する水溶液をスプレーを使用してで5秒間処理
し、アルミニウム合金板表面を活性化する活性化処理を
施し(活性化処理工程)、その後、上記と同様の水洗処
理を施した以外は実施例1と同様にして平版印刷版用支
持体を製造した。走査型電子顕微鏡を用いて倍率750
倍で観察したところ、平版印刷板として好適な均一な凹
凸を有する表面形状を有していることが確認された。
Example 6 Before the electrolytic surface roughening treatment of Example 1, an aluminum alloy plate was treated with an aqueous solution containing 2.0 g / liter of dimethylaminoborane at 40 ° C. for 5 seconds by using a spray. A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 1 except that an activation treatment for activating the surface was performed (activation treatment step), and then the same water washing treatment was performed. 750 magnification using a scanning electron microscope
Observation at × 2 confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape having uniform unevenness suitable for a lithographic printing plate.

【0195】(実施例7)実施例3の電解粗面化処理の
前に、40℃のジメチルアミノボラン2.0g/リット
ル含有する水溶液をスプレーを使用してで5秒間処理
し、アルミニウム合金板表面を活性化する活性化処理を
施し(活性化処理工程)、その後、上記と同様の水洗処
理した以外は実施例3と同様にして平版印刷版用支持体
を製造した。走査型電子顕微鏡を用いて倍率750倍で
観察したところ、平版印刷板として好適な均一な凹凸を
有する表面形状を有していることが確認された。
(Example 7) Before the electrolytic surface roughening treatment of Example 3, an aluminum alloy plate was treated with an aqueous solution containing 2.0 g / liter of dimethylaminoborane at 40 ° C for 5 seconds by using a spray. A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 3 except that an activation treatment for activating the surface was performed (activation treatment step), and then the same water washing treatment was performed as described above. Observation at a magnification of 750 using a scanning electron microscope confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape with uniform irregularities suitable for a lithographic printing plate.

【0196】(実施例8)実施例1〜7で製造されたそ
れぞれの平版印刷版用支持体に、特開昭60−1494
91号公報の実施例1に記載の下塗り層(乾燥重量0.
01g/m2)、ポジ型感光層(乾燥重量1.0g/
2)を塗布・乾燥して平版印刷版原版を製造し、その
後、特開昭60−149491号公報の実施例1と同様
に露光、現像処理して平版印刷版を製造した。製造した
それぞれの平版印刷版を使用して印刷評価を行ったとこ
ろ、ブランケット汚れおよび過酷インキ汚れ等が良好な
印刷版であった。なお、前記印刷評価として、ブランケ
ット汚れは、印刷後のブランケット胴へのインキの付着
度合によって判定し、過酷インキ汚れは印刷物非画像部
への点状のインキが付着する度合で判断した。いずれ
も、付着度合が少ないものを良好な平版印刷版用支持体
と判断した(以下、同様)。
(Example 8) Each of the lithographic printing plate supports produced in Examples 1 to 7 was covered with JP-A-60-1494.
No. 91, the undercoat layer described in Example 1 (dry weight: 0,1).
01 g / m 2 ), positive photosensitive layer (dry weight: 1.0 g / m 2 )
m 2 ) was applied and dried to produce a lithographic printing plate precursor, which was then exposed and developed in the same manner as in Example 1 of JP-A-60-149491 to produce a lithographic printing plate. When the printing evaluation was performed using each of the manufactured planographic printing plates, the printing plate was found to have good blanket stains and severe ink stains. In the printing evaluation, blanket stain was determined by the degree of adhesion of ink to a blanket cylinder after printing, and severe ink stain was determined by the degree of dot-like ink adhered to a non-image portion of a printed material. In all cases, those having a low degree of adhesion were judged to be good lithographic printing plate supports (the same applies hereinafter).

【0197】(実施例9)実施例1〜7で製造されたそ
れぞれの平版印刷版用支持体に3号珪酸ソーダ2.5質
量%を含有する水溶液を、70℃にて10秒間浸漬して
親水化処理を施した(親水化処理工程)。その後、特開
昭59−101651号公報の実施例1に記載の下塗り
層(乾燥重量0.05g/m2)、ネガ型感光層(乾燥
重量2.0g/m2)を塗布・乾燥し、平版印刷版原版
を製造し、特開昭59−101651号公報の実施例1
に同様に露光、現像処理して平版印刷版を製造した。製
造したそれぞれの平版印刷版を使用して印刷評価を行っ
たところ、ブランケット汚れ、過酷インキ汚れ等が良好
な印刷版であった。
Example 9 An aqueous solution containing 2.5 mass% of No. 3 sodium silicate was immersed in each of the lithographic printing plate supports produced in Examples 1 to 7 at 70 ° C. for 10 seconds. A hydrophilization treatment was performed (hydrophilization treatment step). Thereafter, the undercoat layer described in Example 1 of JP-A-59-101651 (dry weight 0.05 g / m 2), the negative photosensitive layer (dry weight 2.0 g / m 2) was coated and dried, A lithographic printing plate precursor was manufactured, and Example 1 of JP-A-59-101651 was manufactured.
In the same manner, a lithographic printing plate was produced by performing exposure and development treatments. When the printing evaluation was performed using each of the manufactured lithographic printing plates, the printing plate was found to have good blanket stain, severe ink stain, and the like.

【0198】(実施例10)実施例1〜7で製造された
それぞれの平版印刷版用支持体に、3号珪酸ソーダ1質
量%を含有する水溶液を、30℃にて10秒間浸漬して
親水化処理を行った(親水化処理工程)。その後、特開
2000−62333号公報の実施例1に記載の下塗り
層(乾燥重量0.01g/m2)と赤外レーザー露光可
能なポジ型感光層(乾燥重量1.8g/m2)を塗布・
乾燥し、平版印刷版原版を製造し、特開2000−62
333号公報の実施例1と同様に露光、現像処理して平
版印刷版を製造した。製造したそれぞれの平版印刷版を
使用して印刷評価を行ったところ、ブランケット汚れ、
過酷インキ汚れ等が、良好な印刷版であった。
Example 10 An aqueous solution containing 1% by mass of No. 3 sodium silicate was immersed in each of the lithographic printing plate supports produced in Examples 1 to 7 at 30 ° C. for 10 seconds to obtain a hydrophilic surface. (Hydrophilization treatment step). Thereafter, an undercoat layer (dry weight: 0.01 g / m 2 ) and a positive photosensitive layer capable of infrared laser exposure (dry weight: 1.8 g / m 2 ) described in Example 1 of JP-A-2000-62333 were used. Coating ・
After drying, a lithographic printing plate precursor was manufactured.
Exposure and development were performed in the same manner as in Example 1 of JP-A No. 333 to produce a lithographic printing plate. When printing evaluation was performed using each of the manufactured lithographic printing plates, blanket stains,
Severe ink stains and the like were good printing plates.

【0199】(実施例11)実施例1〜7で製造された
それぞれの平版印刷版用支持体に、特開2000−62
333号公報の実施例2に記載の下塗り層(乾燥重量
0.11g/m2)と赤外レーザー露光可能なネガ型感
光層(乾燥重量1.5g/m2)を塗布・乾燥し、平版
印刷版原版を製造し、その後、特開2000−6233
3号公報の実施例2と同様に露光、現像処理して平版印
刷版を製造した。製造したそれぞれの平版印刷版を使用
して印刷評価を行ったところ、過酷インキ汚れ等が良好
な印刷版であった。
(Example 11) Each of the lithographic printing plate supports produced in Examples 1 to 7
The undercoat layer (dry weight: 0.11 g / m 2 ) described in Example 2 of JP-A-333 and a negative photosensitive layer (dry weight: 1.5 g / m 2 ) capable of being exposed to an infrared laser are coated and dried, and then lithographic printing. A printing plate precursor was manufactured, and thereafter,
Exposure and development were carried out in the same manner as in Example 2 of JP-A No. 3 to produce a lithographic printing plate. When the printing evaluation was performed using each of the manufactured lithographic printing plates, the printing plate was found to be excellent in severe ink stains and the like.

【0200】(実施例12)実施例1〜7で製造された
それぞれの平版印刷版用支持体に、特開2000−62
333号公報の実施例3に記載の下塗り層(乾燥重量
0.02g/m2)とレーザー露光可能なフォトポリマ
ー型感光層(乾燥重量1.5g/m2)、保護層(乾燥
重量2g/m2)を塗布・乾燥し、平版印刷版原版を製
造し、その後、特開2000−62333号公報の実施
例3と同様に露光、現像処理して平版印刷版を製造し
た。製造したそれぞれの平版印刷版を使用して印刷評価
を行ったところ、ブランケット汚れ、過酷インキ汚れ等
良好な印刷版であった。
(Example 12) Each of the lithographic printing plate supports produced in Examples 1 to 7 was covered with JP-A-2000-62.
No. 333, an undercoat layer (dry weight: 0.02 g / m 2 ), a photopolymer type photosensitive layer capable of laser exposure (dry weight: 1.5 g / m 2 ), and a protective layer (dry weight: 2 g / m 2 ) m 2 ) was applied and dried to produce a lithographic printing plate precursor, which was then exposed and developed in the same manner as in Example 3 of JP-A-2000-62333 to produce a lithographic printing plate. When the printing evaluation was performed using each of the manufactured lithographic printing plates, a favorable printing plate such as a blanket stain and severe ink stain was found.

【0201】(実施例13)実施例1〜3で製造された
それぞれの平版印刷版用支持体について、感光層を塗布
により形成させる前の物性値を測定したところ、平均表
面粗さRaがそれぞれ、0.5、0.55、0.35μ
m、L*値がそれぞれ、80、85、75、デルタEa
b*がそれぞれ、0.5、0.8、0.3であり、印刷
版として好適な表面形状を有する支持体であり、かつ検
版性に優れた均一な外観を有していた。
Example 13 The lithographic printing plate supports manufactured in Examples 1 to 3 were measured for physical properties before forming a photosensitive layer by coating. , 0.5, 0.55, 0.35μ
m, L * values are 80, 85, 75, Delta Ea, respectively
b * was 0.5, 0.8, and 0.3, respectively, and it was a support having a surface shape suitable for a printing plate, and had a uniform appearance excellent in plate inspection properties.

【0202】なお、平均表面粗さ(Ra)は、東京精密
(株)製のサーフコム575A(触針径2μmR)でJ
IS B 0601−1982によって測定し、L*値
およびデルタEab*は、それぞれ、JIS Z 87
29−1980、JIS Z8730−1980にのっ
とり、スガ試験機(株)製のSM−3−SCHを用いて
測定した。
The average surface roughness (Ra) was measured using a Surfcom 575A (probe diameter 2 μmR) manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
L * value and delta Eab * were measured according to IS B 0601-1982, respectively, according to JIS Z 87
The measurement was performed using SM-3-SCH manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. according to 29-1980 and JIS Z8730-1980.

【0203】(実施例14)実施例1の水による洗浄処
理をドライアイスパウダーを使った洗浄処理とした以外
は実施例1と同様にして、平版印刷版用支持体を製造し
た。ドライアイスパウダーを使った洗浄処理の条件とし
ては、体積平均粒径が100μmのパウダー状ドライア
イスを使用し、噴射ノズル一個あたりのCO2供給量
(固体重量で)は0.24kg/minとし、その供給
圧力は6MPaとした。走査型電子顕微鏡を用いて倍率
750倍で観察したところ、平版印刷板として好適な均
一な凹凸を有する表面形状を有していることが確認され
た。また、水洗処理を行うよりも、廃液量が大幅に減少
し、廃液処理に必要なコストを減少させることができ
た。
(Example 14) A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 1 except that the washing treatment with water in Example 1 was carried out using dry ice powder. The conditions for the cleaning treatment using dry ice powder were as follows: powder-type dry ice having a volume average particle diameter of 100 μm was used, and the supply amount of CO 2 per injection nozzle (solid weight) was 0.24 kg / min. The supply pressure was 6 MPa. Observation at a magnification of 750 using a scanning electron microscope confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape with uniform irregularities suitable for a lithographic printing plate. Further, the amount of waste liquid was significantly reduced as compared with the case of performing the water washing treatment, and the cost required for waste liquid treatment could be reduced.

【0204】(実施例15)実施例2の水による洗浄処
理をドライアイスパウダーを使った洗浄処理とした以外
は実施例2と同様にして、平版印刷版用支持体を製造し
た。ドライアイスパウダーを使った洗浄処理の条件とし
ては、体積平均粒径が50μmのパウダー状ドライアイ
スを使用し、噴射ノズル一個あたりのCO2供給量(固
体重量で)は0.12kg/minとし、その供給圧力
は3MPaとした。走査型電子顕微鏡を用いて倍率75
0倍で観察したところ、平版印刷板として好適な均一な
凹凸を有する表面形状を有していることが確認された。
また、水洗処理を行うよりも、廃液量が大幅に減少し、
廃液処理に必要なコストを減少させることができた。
Example 15 A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 2 except that the washing treatment with water in Example 2 was carried out using dry ice powder. The conditions for the cleaning treatment using dry ice powder were as follows: powder-like dry ice having a volume average particle diameter of 50 μm was used, and the supply amount of CO 2 per injection nozzle (by solid weight) was 0.12 kg / min. The supply pressure was 3 MPa. Magnification of 75 using a scanning electron microscope
When observed at 0 magnification, it was confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape having uniform unevenness suitable for a lithographic printing plate.
In addition, the amount of waste liquid is significantly reduced compared to performing a water washing process,
The cost required for waste liquid treatment could be reduced.

【0205】(実施例16)実施例3の水による洗浄処
理をドライアイスパウダーを使った洗浄処理とした以外
は実施例3と同様にして、平版印刷版用支持体を製造し
た。ドライアイスパウダーを使った洗浄処理の条件とし
ては、体積平均粒径が80μmのパウダー状ドライアイ
スを使用し、噴射ノズル一個あたりのCO2供給量(固
体重量で)は0.18kg/minとし、その供給圧力
は7MPaとした。走査型電子顕微鏡を用いて倍率75
0倍で観察したところ、平版印刷板として好適な均一な
凹凸を有する表面形状を有していることが確認された。
また、水洗処理を行うよりも、廃液量が大幅に減少し、
廃液処理に必要なコストを減少させることができた。
Example 16 A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 3, except that the washing treatment with water in Example 3 was carried out using dry ice powder. The conditions for the cleaning treatment using dry ice powder were as follows: powder-like dry ice having a volume average particle diameter of 80 μm was used, and the supply amount of CO 2 per injection nozzle (by solid weight) was 0.18 kg / min. The supply pressure was 7 MPa. Magnification of 75 using a scanning electron microscope
When observed at 0 magnification, it was confirmed that the lithographic printing plate had a surface shape having uniform unevenness suitable for a lithographic printing plate.
In addition, the amount of waste liquid is significantly reduced compared to performing a water washing process,
The cost required for waste liquid treatment could be reduced.

【0206】(比較例1)実施例1における電解粗面化
処理において、アルミニウム合金板が陽極である電気量
QAと陰極である電気量QCとの比:QC/QAを0.
85、交流のdutyを0.25、0からピークまでに
達する時間が0.05msecの台形波交流を使用した
以外は、実施例1と同様にして平版印刷版用支持体を製
造した。走査型電子顕微鏡を用いて倍率750倍で観察
したところ、平版印刷版用支持体として不適切な大きい
深い凹部が不均一に生成していた。
(Comparative Example 1) In the electrolytic surface roughening treatment in Example 1, the ratio of the quantity of electricity QA of the aluminum alloy plate as the anode to the quantity of electricity QC as the cathode: QC / QA was set to 0.1.
85. A lithographic printing plate support was produced in the same manner as in Example 1, except that a trapezoidal wave alternating current having a duty of 0.25, the alternating current duty of 0, and a peak from 0 to 0.05 msec was used. Observation with a scanning electron microscope at a magnification of 750 times revealed that large deep recesses unsuitable as a lithographic printing plate support were unevenly formed.

【0207】[0207]

【発明の効果】本発明によれば、原材料として、合金成
分を制御していないアルミニウム合金板を使用しても、
過酷インキ汚れ等の発生がなく、安定かつ低コストで製
造することができる平版印刷版用支持体の製造方法、平
版印刷版用支持体および平版印刷版原版を提供すること
ができる。
According to the present invention, even when an aluminum alloy plate whose alloy components are not controlled is used as a raw material,
A method for producing a lithographic printing plate support, a lithographic printing plate support, and a lithographic printing plate precursor that can be produced stably and at low cost without causing severe ink stains can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に用いることができる交流電流波形
(サイン波)の一例を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of an alternating current waveform (sine wave) that can be used in the present invention.

【図2】 本発明に用いることができる交流電流波形
(台形波)の一例を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an example of an alternating current waveform (trapezoidal wave) that can be used in the present invention.

【図3】 電解粗面化処理に使用できる装置の一例を示
す概略図である。
FIG. 3 is a schematic view showing an example of an apparatus that can be used for electrolytic surface roughening treatment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・主電解槽 11・・・交流電源 12・・・ラジアルドラムローラ 13a,13b・・・主極 14・・・溶液供給口 15・・・酸性水溶液 20・・・補助陽極槽 21・・・補助陽極 W・・・アルミニウム合金板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Main electrolytic cell 11 ... AC power supply 12 ... Radial drum roller 13a, 13b ... Main electrode 14 ... Solution supply port 15 ... Aqueous aqueous solution 20 ... Auxiliary anode tank 21. ..Auxiliary anode W ... Aluminum alloy plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C25D 11/16 301 C25D 11/16 301 C25F 3/04 C25F 3/04 D G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 7/09 501 (72)発明者 澤田 宏和 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 上杉 彰男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AD01 AD03 DA02 DA18 DA20 DA36 2H096 AA06 BA01 BA09 CA03 CA05 CA20 2H114 BA01 BA10 DA04 DA64 EA09 GA05 GA06 GA08 GA09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C25D 11/16 301 C25D 11/16 301 C25F 3/04 C25F 3/04 D G03F 7/00 503 G03F 7 / 00 503 7/09 501 7/09 501 (72) Inventor Hirokazu Sawada 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Inside Fujisha Shin Film Co., Ltd. (72) Akio Uesugi 4000 Kawajiri, Yoshida-machi, Yoshida-machi, Haibara-gun, Shizuoka Fuji Photo film F-term (reference) 2H025 AA12 AB03 AD01 AD03 DA02 DA18 DA20 DA36 2H096 AA06 BA01 BA09 CA03 CA05 CA20 2H114 BA01 BA10 DA04 DA64 EA09 GA05 GA06 GA08 GA09

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸性溶液中で交流電流を使用してアルミ
ニウム合金板を電解粗面化処理する粗面化処理工程およ
び陽極酸化処理工程を含む平版印刷版用支持体の製造方
法であって、 前記電解粗面化処理において、0からピークまでに達す
る時間が1.5〜6msecの交流電流波形を使用する
ことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。
1. A method for producing a lithographic printing plate support, comprising: a surface roughening step of electrolytically roughening an aluminum alloy plate using an alternating current in an acidic solution; and an anodizing step. A method for producing a lithographic printing plate support, wherein an alternating current waveform having a time from 0 to a peak of 1.5 to 6 msec is used in the electrolytic surface roughening treatment.
【請求項2】 前記アルミニウム合金板の純度が95〜
99.4質量%であることを特徴とする請求項1に記載
の平版印刷版用支持体の製造方法。
2. The purity of said aluminum alloy plate is 95-95.
The method for producing a lithographic printing plate support according to claim 1, wherein the amount is 99.4% by mass.
【請求項3】 前記アルミニウム合金板が、下記金属を
下記範囲内で少なくとも5種含有することを特徴とする
請求項1または2に記載の平版印刷版用支持体の製造方
法。Fe:0.3〜1.0質量%、Si:0.15〜
1.0質量%、Cu:0.1〜1.0質量%、Mg:
0.1〜1.5質量%、Mn:0.1〜1.5質量%、
Zn:0.1〜0.5質量%、Cr:0.01〜0.1
質量%、Ti:0.03〜0.5質量%。
3. The method for producing a lithographic printing plate support according to claim 1, wherein the aluminum alloy plate contains at least five kinds of the following metals in the following range. Fe: 0.3 to 1.0% by mass, Si: 0.15 to
1.0% by mass, Cu: 0.1 to 1.0% by mass, Mg:
0.1-1.5% by mass, Mn: 0.1-1.5% by mass,
Zn: 0.1 to 0.5% by mass, Cr: 0.01 to 0.1
% By mass, Ti: 0.03 to 0.5% by mass.
【請求項4】 前記電解粗面化処理の前および/または
後に下記工程を有することを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載の平版印刷版用支持体の製造方法。 (1)アルカリ水溶液中でアルミニウム合金板を1〜1
5g/m2溶解するアルカリエッチング処理工程、
(2)アルカリエッチング処理工程を経たアルミニウム
合金板を酸性溶液中でデスマット処理するデスマット処
理工程。
4. The method for producing a lithographic printing plate support according to claim 1, comprising the following steps before and / or after the electrolytic surface-roughening treatment. (1) In an alkaline aqueous solution, the aluminum alloy
5 g / m 2 dissolving alkali etching treatment step,
(2) A desmutting step of desmutting the aluminum alloy plate having undergone the alkali etching step in an acidic solution.
【請求項5】 前記デスマット処理工程におけるデスマ
ット処理が、酸性溶液濃度250〜500g/リット
ル、アルミニウムイオン濃度1〜15g/リットルの酸
性溶液を使用し、60〜90℃で1〜180秒間処理す
ることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の平
版印刷版用支持体の製造方法。
5. The desmutting treatment in the desmutting treatment step is performed by using an acidic solution having an acid solution concentration of 250 to 500 g / l and an aluminum ion concentration of 1 to 15 g / l at 60 to 90 ° C. for 1 to 180 seconds. The method for producing a lithographic printing plate support according to any one of claims 1 to 4, characterized in that:
【請求項6】 前記アルカリエッチング処理工程の前に
機械的粗面化処理工程を設けることを特徴とする請求項
4または5に記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
6. The method for producing a lithographic printing plate support according to claim 4, wherein a mechanical surface roughening treatment step is provided before the alkali etching treatment step.
【請求項7】 前記陽極酸化処理工程の後に、封孔処理
工程および/または親水化処理工程を設けることを特徴
とする請求項1〜6のいずれかに記載の平版印刷版用支
持体の製造方法。
7. The lithographic printing plate support according to claim 1, wherein a sealing treatment step and / or a hydrophilic treatment step are provided after the anodizing treatment step. Method.
【請求項8】 前記電解粗面過処理工程の前に、アルミ
ニウム合金板の表面に活性化処理を施す活性化処理工程
を設けることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記
載の平版印刷版用支持体の製造方法。
8. The lithographic plate according to claim 1, further comprising an activation step of activating the surface of the aluminum alloy plate before the electrolytic roughening step. A method for producing a printing plate support.
【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の平版印
刷版用支持体の製造方法によって製造されることを特徴
とする平版印刷版用支持体。
9. A lithographic printing plate support produced by the method for producing a lithographic printing plate support according to claim 1. Description:
【請求項10】 請求項9に記載の平版印刷版用支持体
の表面に乾燥重量0.001〜1g/m2の下塗り層、
乾燥重量1〜3g/m2のポジ型感光層またはネガ型感
光層、乾燥重量0.001〜1g/m2のマット層が順
次形成されていることを特徴とする平版印刷版原版。
10. An undercoat layer having a dry weight of 0.001 to 1 g / m 2 on the surface of the lithographic printing plate support according to claim 9,
Dry weight 1 to 3 g / positive photosensitive layer or a negative photosensitive layer of m 2, the lithographic printing plate precursor mat layer having a dry weight of 0.001 to 1 g / m 2, characterized in that the are sequentially formed.
【請求項11】 平均表面粗さ(Ra)が0.3〜0.
6μm、L*値が50〜95、デルタEab*が2以下
であることを特徴とする請求項10に記載の平版印刷版
原版。
11. An average surface roughness (Ra) of 0.3 to 0.1.
The lithographic printing plate precursor according to claim 10, wherein the L * value is 50 to 95, and the delta Eab * is 2 or less.
JP2001102011A 2001-03-30 2001-03-30 Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate Pending JP2002293055A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001102011A JP2002293055A (en) 2001-03-30 2001-03-30 Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001102011A JP2002293055A (en) 2001-03-30 2001-03-30 Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002293055A true JP2002293055A (en) 2002-10-09

Family

ID=18955257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001102011A Pending JP2002293055A (en) 2001-03-30 2001-03-30 Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002293055A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011159685A (en) * 2010-01-29 2011-08-18 Fujifilm Corp Method of manufacturing solar cell
KR101417549B1 (en) 2009-12-22 2014-07-08 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Aluminum alloy for anodization and aluminum alloy component
WO2018044047A1 (en) * 2016-09-02 2018-03-08 엘에스전선 주식회사 Aluminum alloy having high processability
WO2020059728A1 (en) * 2018-09-19 2020-03-26 日本軽金属株式会社 Aluminum member and manufacturing method for same

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101417549B1 (en) 2009-12-22 2014-07-08 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Aluminum alloy for anodization and aluminum alloy component
US8962163B2 (en) 2009-12-22 2015-02-24 Showa Denko K.K. Aluminum alloy for anodization and aluminum alloy component
JP2011159685A (en) * 2010-01-29 2011-08-18 Fujifilm Corp Method of manufacturing solar cell
WO2018044047A1 (en) * 2016-09-02 2018-03-08 엘에스전선 주식회사 Aluminum alloy having high processability
WO2020059728A1 (en) * 2018-09-19 2020-03-26 日本軽金属株式会社 Aluminum member and manufacturing method for same
CN112739855A (en) * 2018-09-19 2021-04-30 日本轻金属株式会社 Aluminum member and method for producing same
JPWO2020059728A1 (en) * 2018-09-19 2021-09-24 日本軽金属株式会社 Aluminum member and its manufacturing method
JP7306405B2 (en) 2018-09-19 2023-07-11 日本軽金属株式会社 Aluminum member and its manufacturing method
CN112739855B (en) * 2018-09-19 2023-10-03 日本轻金属株式会社 Aluminum member and method for producing same
JP7563515B2 (en) 2018-09-19 2024-10-08 日本軽金属株式会社 Aluminum member and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6780305B2 (en) Method for producing support for planographic printing plate, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor
US7850837B2 (en) Aluminum support for lithographic printing plate, method of preparing the same and presensitized plate using the same
US6764587B2 (en) Process for producing aluminum support for planographic printing plate, aluminum support for planographic printing plate, and planographic printing master plate
EP0960743B1 (en) Aluminum support for lithographic printing plate and production method thereof
JP4410714B2 (en) Method for producing support for lithographic printing plate
JP2001011694A (en) Electrolytic treating method
JP2005254638A (en) Method of manufacturing support for lithographic printing plate
JP2006272745A (en) Substrate and original plate for planographic printing plate
JP2002363799A (en) Aluminum plate, method for producing supporting body for planographic printing plate, supporting body for planographic printing plate and planographic printing original plate
JP2002293055A (en) Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate
JP4179742B2 (en) Method for producing aluminum support for lithographic printing plate
JP2002103840A (en) Manufacturing method for aluminum substrate for lithographic printing plate, aluminum substrate for lithographic printing plate and original film of lithographic printing plate
JP2003191659A (en) Aluminum support for lithographic printing plate, production method therefor, and lithographic printing original plate
JP2003103954A (en) Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate
JP2002103833A (en) Manufacturing method of substrate for lithographic plate
JP2002103834A (en) Manufacturing method for aluminum substrate for lithographic printing plate, aluminum substrate for lithographic printing plate, and original film of lithographic printing plate
JP4648057B2 (en) Method for producing support for lithographic printing plate
JP2006240116A (en) Support for lithographic printing plate and its manufacturing method
JP2003103955A (en) Manufacturing method for support for lithographic printing plate
JP2003039846A (en) Method for producing aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate
JP4616128B2 (en) Support for lithographic printing plate
JP2004074538A (en) Manufacturing method of support for lithographic printing plate
JP2005047070A (en) Manufacturing method for substrate for planographic printing plate
JP2005047084A (en) Manufacturing method for substrate for planographic printing plate
JP2003019878A (en) Method for manufacturing support for lithographic printing plate, support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate